JP2003015551A - エレクトロルミネッセンス表示装置 - Google Patents

エレクトロルミネッセンス表示装置

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JP2003015551A
JP2003015551A JP2001196980A JP2001196980A JP2003015551A JP 2003015551 A JP2003015551 A JP 2003015551A JP 2001196980 A JP2001196980 A JP 2001196980A JP 2001196980 A JP2001196980 A JP 2001196980A JP 2003015551 A JP2003015551 A JP 2003015551A
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thin film
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Tsutomu Yamada
努 山田
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Sanyo Electric Co Ltd
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Sanyo Electric Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 発光面積を大きくし明るい表示を得ることが
可能なEL表示装置を提供することを目的とする。 【解決手段】 絶縁性基板10上に、ゲート信号を供給
する複数のゲート信号線51と、ドレイン信号を供給す
る複数のドレイン信号線52が配置されており、それら
の両信号線51,52の交差部近傍には、それらの両信
号線51,52に接続されたスイッチング用TFT30
と、ゲート43がTFT30のソース11sに、ドレイ
ン41dが駆動電源線70に、ソース41sがEL素子
90に接続されたEL素子駆動用TFT40を備えたE
L表示装置であって、駆動電源線70が陽極80と重畳
することなくその周囲を囲むように延在している。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、薄膜トランジスタ
(Thin Film Transistor:以下、「TFT」と称す
る。)を備えたエレクトロルミネッセンス(Elecrolumi
nescence、以下、「EL」と称する。)表示装置に関す
る。
【0002】
【従来の技術】近年、EL表示装置は携帯可能な表示装
置、例えば携帯用テレビ、携帯電話等が市場ニーズとし
て要求されており、それに応じて小型化、軽量化、省消
費電力化の要求に対応すべく研究開発も盛んである。
【0003】図7にEL表示装置の表示画素近傍の平面
図を示し、図8に図7中のA−A線に沿った断面図を示
し、図9に図7中のB−B線に沿った断面図を示し、図
10に図7中のC−C線に沿った断面図を示す。
【0004】図7に示すように、ゲート信号を供給する
複数のゲート信号線51と、ドレイン信号を供給する複
数のドレイン信号線52とが互いに交差して配置されて
いる。
【0005】また、ドレイン信号線52と並行に有機E
L素子90を駆動するための電流を供給する駆動電源線
70が配置されており、またゲート信号線51と並行に
ドレイン信号線52から供給されたドレイン信号を1フ
ィールド期間保持する保持容量SCの一方の電極である
保持容量信号線55が配置されている。
【0006】また、それらの両信号線51,52の交差
部近傍には、スイッチング用TFT30、2つのEL素
子駆動用TFT40a,40b及びEL素子90が配置
されている。このEL素子駆動用TFT40が2つ設け
られているのは、例え一方のTFT40のオン電流が低
くEL素子に流れる電流値がi/2であったとしても、
2つのTFTによって3i/2(=i+i/2)となり
TFTの特性がすぐに影響することがなく、EL素子9
0の発光輝度低下することがない。
【0007】スイッチング用TFT30においては、ゲ
ート13はゲート信号線51に、ドレイン11dはドレ
イン信号線52に、ソース11sは保持容量SCの一方
の電極56及びEL素子駆動用TFT40のゲート43
に接続されており、EL素子駆動用TFT40において
は、ゲート43はスイッチング用TFT30のソース1
1s及び保持容量SCの一方の電極56に、ドレイン4
1dは有機EL素子90を駆動するための電流を供給す
る駆動電源線70に、ソース41sはゲート電極43と
同時に形成された配線42のコンタクト部42sを介し
て有機EL素子90の陽極80に接続されている。
【0008】図8、図9及び図10に基づいて、従来の
EL表示装置の構造について説明する。
【0009】絶縁性基板10上に、CVD法等を用いて
成膜した非単結晶シリコン膜に、エキシマレーザ等を照
射して多結晶化した多結晶シリコン膜からなる半導体層
11を島状に形成してスイッチング素子であるTFTの
能動層とすると同時に、保持容量信号線55と重畳する
領域にまで延在させて残して保持容量SCの一方の電極
56とする。更に同時にEL素子駆動用TFT40の能
動層41も島状に形成する。これら各TFT30,40
の能動層11,41及び絶縁性基板10上に、ゲート絶
縁膜12をSiO2膜をCVD法にて形成する。
【0010】そのゲート絶縁膜12上に、Cr、Ti等
の高融点金属からなりゲート信号線51の一部を成すゲ
ート電極13,43を形成する。このゲート電極43
は、スイッチング用TFT30の能動層11から延在し
た保持容量SCの一方の電極56と、ゲート絶縁膜12
に設けたコンタクトホールを介して接続されている。
【0011】また、ゲート電極13,43をマスクとし
て、スイッチング用TFT30の能動層にはP(リン)
等の不純物イオンを注入し、EL素子駆動用TFT40
の能動層にはB(ボロン)等の不純物を注入して、スイ
ッチング用TFT30をnチャネル型TFTに、EL素
子駆動用TFT40をpチャネル型TFTにする。
【0012】イオン注入の後、ゲート電極13,43を
覆うように、層間絶縁膜16を形成する。この層間絶縁
膜16は、SiO2膜、SiN膜及びSiO2膜の3層か
らなっている。
【0013】その上に、各TFT30,40において、
層間絶縁膜16のドレイン33d,43dに対応した位
置、及びソース33s,43sに対応した位置に設けた
コンタクトホールを形成し、Al等の金属を充填したド
レイン信号線52を兼ねたドレイン電極17、駆動電源
線70、及び能動層41と陽極80を接続するための配
線42を形成する。
【0014】更にソース電極22、ドレイン電極21、
ドレイン信号線52及び層間絶縁膜20上の全面に有機
樹脂から成り表面を平坦にする平坦化絶縁膜23が形成
されている。
【0015】そして、EL素子駆動用TFT40におい
ては、平坦化絶縁膜23のソース電極22に対応した位
置にコンタクトホールを形成し、このコンタクトホール
を介してソース43sとコンタクトしたITO(Indium
Tin Oxide)から成る透明電極、即ち有機EL素子90
の陽極80を平坦化絶縁膜20上に設けている。
【0016】そして、有機EL素子90は、ITO等の
透明電極から成る陽極80、NPB(N,N’-Di(naphtha
lene-1-yl)-N,N’-diphenyl-benzidine)などから成る
ホール輸送層82、発光層83、及びBebq2などか
ら成る電子輸送層84、弗化リチウム(LiF)からな
る電子注入層85、アルミニウム(Al)などから成る
陰極86がこの順番で積層形成された構造である。この
有機EL素子90によって表示画素を成している。な
お、陽極80の周辺には感光性樹脂、SiO2膜等から
なる絶縁膜81を形成する。
【0017】なお、発光層の材料は各色で異なる。即
ち、(1)赤色はホスト材料のAlq 3(Tris(8-hydrox
yquinolinato)aluminum)に赤色のドーパント材料であ
るDCJTB((2-(1,1-Dimethylethyl)-6-(2-(2,3,6,7
-tet rahydro-1,1,7,7-tetramethyl-1H,5H-benzo[ij]qu
inolizin-9-yl)ethenyl)-4H-pyran-4-ylidene)propaned
initrileをドープして形成されており、(2)緑色はホ
スト材料のAlq3に緑色ドーパント材料であるCou
marin6(3-(2-Benzothiazolyl)-7-(diethylamin
o)coumarin)をドープして形成されており、(3)青色
は(1,1-Bisphenyl-4-Olato)bis(2-meth yl-8-quinolinp
late-N1,08)Aluminum(BAlq)に青色ドーパント材
料であるPeryleneをドープして形成される。
【0018】有機EL素子90は、陽極80上方の層に
設けた陰極86との間に有機材料から発光層が形成され
ており、供給された電流に応じてその発光層が発光す
る。
【0019】スイッチング用TFT30を介して供給さ
れたドレイン信号が素子駆動用TFT40のゲートに供
給され、それに応じた電流が駆動電源線70から素子駆
動用TFT40を介して有機EL素子90に供給され
る。その供給された電流が陽極80に供給され、その電
流に応じて発光層の発光材料が発光して有機EL素子9
0が発光して表示を得ることができる。
【0020】
【発明が解決しようとする課題】ところで、駆動電源線
70は、図7に示すように、隣接するドレイン信号線5
2,52の間であって、1つの陽極80の中央部をその
陽極80を2分割するようにドレイン信号線52と並行
に配置されている。
【0021】そのため、発光層84からの発光光が基板
10側から出射する際に、その光を遮光してしまうこと
になり、発光光の明るさが暗く観察されてしまい、これ
を表示装置として用いた場合にはその表示が暗くなって
しまうという欠点があった。
【0022】また、駆動電源線70が配置される領域に
加えて、隣接する実質的に発光される領域(図7におい
て、「LA」で示した領域)以外の領域(図7におい
て、「NLA」で示した領域)もあるため、実質的に発
光する領域が小さくなり、表示が暗くなってしまうとい
う欠点があった。
【0023】そこで本発明は、上記の従来の欠点に鑑み
て為されたものであり、発光面積を大きくし明るい表示
を得ることが可能なEL表示装置を提供することを目的
とする。
【0024】
【課題を解決するための手段】本発明のEL表示装置
は、絶縁性基板上に、陽極及び陰極間に発光層を備えた
EL素子と、互いに交差したゲート信号線及びドレイン
信号線に接続されたスイッチング用TFTと、該スイッ
チング用TFTを介して前記ドレイン信号線のドレイン
信号に応じて前記EL素子に駆動電源線からの電流を供
給するEL素子駆動用TFTと、を備えたEL表示装置
において、前記駆動電源線は、各表示画素に設けられた
前記EL素子駆動用TFTに接続されているとともに、
前記陽極の1辺で分岐し前記陽極の周辺に沿って配置さ
れ更に前記陽極の1辺に対向する辺で再び合流する形状
に配置されているものである。
【0025】また、上述のEL表示装置は、前記EL素
子駆動用TFTは複数のTFTからなっており、該複数
のEL素子駆動用TFTは、前記駆動電源線が分岐し陽
極の一辺に沿った個所に配置されているEL表示装置で
ある。
【0026】更に、上述のEL表示装置は、前記陽極の
周辺に配置された駆動電源線は、実質的に発光する領域
と重畳しないように配置されているEL表示装置であ
る。
【0027】上述のような構成を採ることにより、実質
的に発光する領域以外の実際の発光に寄与しない領域に
駆動電源線を配置することがなくなり、従来のように陽
極の中央部に配置されることにより、発光層からの発光
光が基板側から出射する際にその光を遮ってしまうこと
になり、それによって表示の輝度が低下して暗い表示し
か得られないという欠点が解消できて、明るい表示が得
られるEL表示装置を提供することができる。
【0028】
【発明の実施の形態】本発明のEL表示装置について以
下に説明する。
【0029】図1に本発明のEL表示装置を有機EL表
示装置に応用した場合の表示画素近傍の平面図を示し、
図2に図1中のA−A線に沿った断面図を示し、図3に
図中のB−B線に沿った断面図を示し、図4に図1中の
C−C線に沿った断面図を示す。
【0030】図1に示すように、ゲート信号を供給する
複数のゲート信号線51が行方向(水平方向)に配置さ
れており、ドレイン信号を供給する複数のドレイン信号
線52が列方向(垂直方向)に配置されている。また、
ドレイン信号線52と一部並行な部分と陽極80を囲む
部分とを有し、有機EL素子90に電流を供給する駆動
電源線70が配置されている。
【0031】これらの各信号線に囲まれる表示画素領域
に、スイッチング用TFT30、有機EL素子90に電
流を供給する素子駆動用TFT40及び有機EL素子9
0が形成されている。即ち、ゲート信号線51とドレイ
ン信号線52との交点近傍に配置されたスイッチング素
子30においては、ゲート13がゲート信号線51に、
ドレイン11dがドレイン信号線52に、ソース11s
がEL素子駆動用TFT40のゲート43に接続されて
おり、また、駆動電源線70のうちドレイン信号線52
と並行な部分の駆動電源線によって左右に分割配置され
たEL素子駆動用TFT40においては、ゲート43が
スイッチング用TFT30のソース11sに、ドレイン
41dが駆動電源線70に、ソース41sが有機EL素
子90の陽極80に接続されている。
【0032】また、各表示画素領域をゲート信号線51
と並行に保持容量信号線55が配置されており、この保
持容量信号線55と、スイッチング用TFT30の能動
層であるp−Si膜を延在させてなる電極56との間で
保持容量SCを成し、各表示画素において形成されてい
る。この保持容量は、スイッチング用TFT30がオン
したときに供給されるドレイン信号を1フィールド期間
保持し、順次素子駆動用TFT40に供給するためのも
のである。
【0033】図1に基づいて、本発明のEL表示装置に
ついて説明する。
【0034】同図に示すように、駆動電源線70は、従
来のように陽極80の中央部に配置され陽極80を2分
することなく、陽極80の周辺に配置されている。即
ち、実質的な発光領域でない領域に駆動電源線70を配
置している。なお、EL素子の構造は従来に説明した構
造を有している。
【0035】ここで、実質的な発光領域、即ち実質的に
発光する領域について説明する。
【0036】EL素子は、EL素子が発光する領域は、
陽極、発光層及び陰極が重畳した領域でしか発光しな
い。例え発光層が陰極及び陽極よりも大きくても、即ち
面積が大きくても、陰極または陽極の大きさよりも大き
い領域においては発光はしない。また、陰極及び陽極よ
りも発光層の面積が小さい場合には、その発光層よりも
大きい陰極及び陽極の部分は発光しない。更に、図1及
び図2に示すように、陽極80の周辺にまで延在させた
絶縁膜81によって覆われた部分は、発光に寄与しない
領域である。従って、実質的に発光する領域は、実際に
発光光が発光させる領域を意味する。即ち、図1におい
て、陽極80の内側にまで及んでいる絶縁膜81(点線
で四角に囲まれる領域以外)の開口部(点線で四角に囲
まれる領域)が実質的に発光する領域であり(図中、
「LA」で表示)、陽極80の内側にまで及んでいる絶
縁膜81(点線で四角に囲まれる領域以外)と、隣接す
る陽極80を覆う絶縁膜81との間の領域が、非発光領
域(図中、「NLA」で表示)である。
【0037】ここで、駆動電源線70の配置について説
明する。
【0038】図1〜図4に示すように、駆動電源線70
は互いに隣接するドレイン信号線52の間に、そのドレ
イン信号線52と並行に列方向(縦方向)に配列されて
いる。このとき、陽極が配置された領域においては、陽
極80の周辺に駆動電源線70が配置されている。
【0039】隣接する表示画素に接続された駆動電源線
は当該表示電極のゲート信号線51、保持容量SC及び
EL素子駆動用TFT40の半導体層41の上層に配置
されている。隣接する前段の表示画素から延在してきて
おり、その電源線70は当該表示画素において陽極80
の手前で陽極と重畳することなく、図中において左右に
分岐(70a,70b)している。そして、駆動用電源
線70は、EL素子駆動用TFT40のソース41sと
陽極80とを接続する配線42が、駆動電源線70の一
部70a,70bと交差する個所においては、駆動電源
線80と同層に形成されたAlからなることから、駆動
駆動電源線70aと70cとの接続にあたっては、これ
らより下層のゲート電極13,43等と同時に形成した
Crからなる配線71によって接続している(図3中の
配線71)。そして電源線70は陽極80の左側(70
d)及び右側(70c)の実質的に発光する領域以外の
領域を図中下方に向かって配置されている。更に電源線
70c、70dは陽極80の角部に沿って折れ曲がり、
図中において左右方向に向かって配置され(70e,7
0f)、ほぼ中央近傍で合流している。その合流した駆
動電源線70は次段の表示画素に延在されている。この
ように配置された駆動電源線が繰り返し各表示画素に配
置されている。
【0040】図4に示すように、駆動電源線70が実質
的に発光される領域「LA」に重畳して形成されること
がなくなる。そのため、発光領域の面積が小さくなるこ
とが防止できるため、発光層から発光光を効率よく外部
に取り出すことが可能となる。
【0041】本実施例においては、駆動電源線70が異
なる層の配線によって接続された場合を示したが、本願
はそれに限定させるものではなく、駆動電源線70が同
一層に同一材料で形成された場合でも同様の効果を奏す
ることができる。
【0042】図5に本発明の他の実施の形態を示し、図
6に図5中のB−B線に沿った断面図を示す。なお、図
5中のA−A線に沿った断面図は図2と同様であり、図
5中のC−C線に沿った断面図は図4と同様である。ま
た、有機EL素子の構造は従来の構造と同じである。
【0043】図5及び図6に示すように、上述の実施の
形態と異なる点は、駆動電源線70は同一の層に形成さ
れ、陽極80を囲むように連続して環状に配置されてい
る点である。従って図6に示すように、配線71は本実
施の形態においては形成しない。
【0044】このような構成とすることにより、電源線
70と異なる層の配線71とを接続するためのコンタク
トホール及びその配線71を形成する工程の増大を抑制
することができるとともに、EL素子駆動用TFT40
の近傍において複雑な構造となることを解消できる。
【0045】以上のように、各実施の形態に示すよう
に、隣接する各ドレイン信号線52間であって、2つの
EL素子駆動用TFT40を分割するように配置された
駆動電源線70が陽極80近傍においてはその陽極80
の周囲の実質的に発光する領域以外に配置することがで
きるので、限られた面積の表示画素領域内を有効に配置
することができる。2つのEL素子駆動用TFT40ま
での距離を異ならせることなく駆動電源線を配置するこ
とができるので、2つのTFT40の特性がばらつくこ
とがない。更に、従来のように陽極80のほぼ中央部に
縦方向に配置されることなく、陽極の周辺に配置される
ことから、非常に明るい表示を得ることができる。
【0046】
【発明の効果】本発明によれば、発光面積を大きくし明
るい表示を得ることが可能なEL表示装置を得ることが
できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のEL表示装置の表示画素近傍の平面図
である。
【図2】本発明のEL表示装置の表示画素近傍の断面図
である。
【図3】本発明のEL表示装置の表示画素近傍の断面図
である。
【図4】本発明のEL表示装置の表示画素近傍の断面図
である。
【図5】本発明のEL表示装置の表示画素近傍の平面図
である。
【図6】本発明のEL表示装置の表示画素近傍の断面図
である。
【図7】従来のEL表示装置の表示画素近傍の平面図で
ある。
【図8】従来のEL表示装置の表示画素近傍の断面図で
ある。
【図9】従来のEL表示装置の表示画素近傍の断面図で
ある。
【図10】従来のEL表示装置の表示画素近傍の断面図
である。
【符号の説明】
10 絶縁性基板 13,43 ゲート 11s、41s ソース 11d、41d ドレイン 11 スイッチング用TFTの半導体
膜 41 EL素子駆動用TFTの半導体
膜 30 スイッチング用TFT 40 EL素子駆動用TFT 51 ゲート信号線 52 ドレイン信号線 70 駆動電源線 70a,70b 駆動電源線 70c,70d 駆動電源線 70e,70f 駆動電源線 80 陽極 86 陰極 LA 発光領域 NLA 非発光領域
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 3K007 AB02 BA06 BB07 CB01 CC04 DA01 DB03 EB00 GA04 5C094 AA10 AA48 BA03 BA12 BA27 CA19 CA24 CA25 DA09 DA13 DB01 DB04 EA04 EA05 EA10 FA01 FB01 FB12 FB14 FB15 FB20

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 絶縁性基板上に、陽極及び陰極間に発光
    層を備えたエレクトロルミネッセンス素子と、互いに交
    差したゲート信号線及びドレイン信号線に接続されたス
    イッチング用薄膜トランジスタと、該スイッチング用薄
    膜トランジスタを介して前記ドレイン信号線のドレイン
    信号に応じて前記エレクトロルミネッセンス素子に駆動
    電源線からの電流を供給するエレクトロルミネッセンス
    素子駆動用薄膜トランジスタと、を備えたエレクトロル
    ミネッセンス表示装置であって、 前記駆動電源線は、各表示画素に設けられた前記エレク
    トロルミネッセンス素子駆動用薄膜トランジスタに接続
    されているとともに、前記陽極の1辺で分岐し前記陽極
    の周辺に沿って配置され更に前記陽極の1辺に対向する
    辺で再び合流する形状に配置されていることを特徴とす
    るエレクトロルミネッセンス表示装置。
  2. 【請求項2】 前記エレクトロルミネッセンス素子駆動
    用薄膜トランジスタは複数の薄膜トランジスタからなっ
    ており、該複数のエレクトロルミネッセンス素子駆動用
    薄膜トランジスタは、前記駆動電源線が分岐し陽極の一
    辺に沿った個所に配置されていることを特徴とする請求
    項1に記載のエレクトロルミネッセンス表示装置。
  3. 【請求項3】 前記陽極の周辺に配置された駆動電源線
    は、実質的に発光する領域と重畳しないように配置され
    ていることを特徴とする請求項1又は2に記載のエレク
    トロルミネッセンス表示装置。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007200907A (ja) * 2003-11-07 2007-08-09 Seiko Epson Corp 発光装置及び電子機器
KR101521054B1 (ko) 2008-06-18 2015-05-15 소니 주식회사 자발광 표시장치 및 전자기기

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