JP2003015310A5 - - Google Patents

Claims (4)

1. パターン形成用のフォトマスクを保持すると共に該フォトマスクの上面に気密室を有するマスクホルダと、
   露光対象の基板を保持すると共に前記マスクホルダに対して相対的に移動することによって該基板と前記フォトマスクとの間に所定のプロキシミティギャップを形成する露光チャックと、
   前記露光チャックの移動によって前記プロキシミティギャップを形成する際に前記フォトマスクと前記基板との間のギャップを検出することに基づき該フォトマスクの変形を検出する検出手段と、
   前記検出手段の出力に基づき前記フォトマスクの変形を補正するよう前記気密室内の圧力を調整する制御手段と
   を具えたプロキシミティ露光装置。
2. 前記露光チャックの移動によって前記プロキシミティギャップを形成する前の前記気密室内の圧力を検出することに基づき前記フォトマスクの変形を検出する検出手段と、前記検出手段の出力に基づき前記フォトマスクの変形を補正するよう前記気密室内の圧力を調整する制御手段とをさらに具えることを特徴とする請求項１に記載のプロキシミティ露光装置。
3. パターン形成用のフォトマスクを保持すると共に該フォトマスクの上面に気密室を有するマスクホルダと、露光対象の基板を保持すると共に前記マスクホルダに対して相対的に移動することによって該基板と前記フォトマスクとの間に所定のプロキシミティギャップを形成する露光チャックとを具えるプロキシミティ露光装置において、前記フォトマスクの変形を補正するフォトマスク変形補正方法であって、
   前記露光チャックの移動によって前記プロキシミティギャップを形成する前の前記気密室内の圧力を検出することに基づき前記フォトマスクの変形を検出する工程と、
   前記工程によって検出される前記フォトマスクの変形を補正するよう前記気密室内の圧力を調整する工程と、
   前記露光チャックの移動によって前記プロキシミティギャップを形成する際に前記フォトマスクと前記基板との間のギャップを検出することに基づき該フォトマスクの変形を検出する工程と、
   前記工程によって検出される前記フォトマスクの変形を補正するよう前記気密室内の圧力を調整する工程と
   を具えたフォトマスク変形補正方法。
4. 請求項１又は２に記載のプロキシミティ露光装置又は請求項３に記載のフォトマスク変形補正方法を使用してフラットパネルディスプレイを製造する方法。