JP2003015175A - 固体光源装置 - Google Patents
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- G02F1/35—Non-linear optics
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- G02F2203/00—Function characteristic
- G02F2203/13—Function characteristic involving THZ radiation
Abstract
では、低効率で出力パワーが小さかった。 【解決手段】 第1の波長のレーザ光を出力する第1の
励起レーザ光源3と、前記第1の波長のレーザ光との差
周波数がテラヘルツ帯である、第2の波長のレーザ光を
出力する第2の励起レーザ光源4と、前記第1の波長の
レーザ光の第1の光軸と前記第2の波長のレーザ光の第
2の光軸がオーバーラップしている箇所に配置され、前
記第1及び第2の波長のレーザ光の照射に基づいて前記
第1及び第2の光軸と同軸な方向にテラヘルツ光を発生
する半導体擬似位相整合素子2とを備えた。 【効果】 狭線幅特性を維持しつつ高出力かつ高効率な
テラヘルツ波発生を容易かつ確実に実現できる。
Description
関し、さらに詳しくは、テラヘルツ帯分光用光源、イメ
ージング光源、通信さらには計測用光源に用いる固体光
源装置に関するものである。
GaAs光伝導素子、磁場印加型半導体素子、LiNb
O3を用いた光パラメトリック発振器、あるいは有機非
線形光学結晶を用いた差周波発生素子などがあったが、
いずれも低効率で出力パワーが小さかった。
位相整合素子は、接合界面での散乱が大きいために実用
化には遠く及ばず、ましてやこの技術を用いたテラヘル
ツ光源は皆無であった。
ながら説明する。図5は、例えば「レーザ研究、第26
巻、第7号、p.515〜521、1998年7月」に
示された従来の固体光源装置の構成を示す図である。こ
の図5は、テラヘルツ波発生に用いられている光伝導素
子の一例の構成図である。
1は半導体基板、102は光伝導薄膜、103は平行伝
送線路、104はダイポールアンテナ、105はギャッ
プ、106は直流電源、110は光パルス、111はテ
ラヘルツ電磁波である。
高速応答する半導体の基板101と、低温成長GaAs
などの光伝導薄膜102上に、伝送線路103a及び1
03bからなる平行伝送線路103が形成され、その中
央部分に微少ダイポールアンテナ104からなる単一の
光スイッチが設けられている。
数μm程度の微少なギャップ105があり、ギャップ1
05には直流電源106によって適当な電圧が印加され
る。
ャップよりも高いエネルギーのレーザ光が光パルス11
0として入射すると、半導体中に自由キャリアが生成さ
れてパルス状の電流が流れ、このパルス状の電流の時間
微分に比例したテラヘルツ電磁波111が発生される。
ルス状の電流が例えばピコ秒以下程度で発生し、さらに
は、光パルス110がピコ秒以下程度の短パルスレーザ
光を照射することで発生する。
年次大会、23aII4、p.194〜197」に示さ
れるように、光伝導素子上で、2つの連続波レーザを光
混合することにより、テラヘルツ波を連続発生させるこ
とができる。周波数の異なる2つの単色光を混合する
と、合成振幅は差周波数で変調される。その混合波(光
ビート)を光伝導素子に照射すると、光電流が変調さ
れ、アンテナから差周波数に対応した電磁波が放射され
る。このため、差周波数がテラヘルツ程度となるように
2つの連続波レーザの周波数を取ることで、テラヘルツ
波が発生する。
p.527〜530、1998年7月」に示されるよう
に、磁場中に置かれたInAs、GaAsなどの半導体
に、レーザ光としてピコ秒以下程度の光パルスを照射す
ることで、テラヘルツ波を発生させることができる。
p.522〜526、1998年7月」に示されるよう
に、2次の非線形光学効果を有する結晶としてLiNb
O3を用い、結晶に光波を入射し、位相整合条件化で光
パラメトリック共振器を構成することで、テラヘルツ光
を発生させることができる。
Vol.25,No.23,pp.1714−171
6,2000」に示されるように、2次の非線形光学効
果を有する結晶として非線形性の高い有機結晶を用い、
結晶に差周波数がテラヘルツとなる2つのレーザを入射
し、位相整合条件化で差周波発生を行うことでテラヘル
ツ光を発生させることができる。
会 講演予稿集、No.3,4a−L−8,p957,
2000」に示されるように、2次の非線形光学効果を
有する材料としてバルク型の半導体材料を用い、非線形
材料に差周波数がテラヘルツとなる2つのレーザを入射
し、位相整合条件化で差周波発生を行うことでテラヘル
ツ光を発生させることができる。
た従来技術は、以下のような問題点があった。
のテラヘルツ光の発生では、低効率で出力パワーが小さ
かった。また、線幅が広いため単一縦モードの光源も存
在しなかった。
導素子でのテラヘルツ光の発生では、低効率で出力パワ
ーが小さかった。
に置かれ半導体素子によるテラヘルツ光の発生では、低
効率で出力パワーが小さかった。また、線幅が広いため
単一縦モードの光源も存在しなかった。
を用いた光パラメトリック発振器によるテラヘルツ光の
発生では、LiNbO3におけるテラヘルツ光の吸収が
大きく、発生したテラヘルツ光の取り出し効率が低く、
出力パワーが小さかった。また、テラヘルツ光の出力角
度が励起光の光軸と一致していないため、光パラメトリ
ック発振器において、励起光と波長変換により得られた
テラヘルツ光の相互作用長を長く取ることが困難であ
り、波長変換が低効率で出力パワーが小さかった。
いた差周波によるテラヘルツ光の発生では、低効率で出
力パワーが小さかった。
体材料を用いた差周波によるテラヘルツ光の発生では、
位相整合条件を長距離取ることが困難であるため、低効
率で出力パワーが小さかった。
似位相整合素子は、接合界面での散乱が大きいために実
用化には遠く及ばず、ましてやこの技術を用いたテラヘ
ルツ光源は皆無であるという問題点もあった。
めになされたもので、テラヘルツ波を発生するのに、半
導体の拡散接合による擬似位相整合差周波発生素子を用
いる。GaP、GaAsなどの半導体は、非線形光学定
数が大きいので高効率波長変換に適しており、テラヘル
ツ領域で透明である。また、熱伝導率が大きく、高出力
動作にも適している。さらに、差周波光源として1μm
帯の波長可変レーザを用いると、擬似位相整合差周波発
生によりテラヘルツ波を発生するための拡散接合周期
は、数mmと非常に長く、接合界面の数を最小限に抑え
ることができるので、低損失の素子を作製することが可
能である。また、素子温度を調整し、差周波光源の一方
の波長をnmオーダーとわずかに変化させるだけで、テ
ラヘルツ発生波長を数百μmにもわたってチューニング
することが可能となるテラヘルツ波光源を提供すること
を目的とする。
る固体光源装置は、第1の波長のレーザ光を出力する第
1の励起レーザ光源と、前記第1の波長のレーザ光との
差周波数がテラヘルツ帯である、第2の波長のレーザ光
を出力する第2の励起レーザ光源と、前記第1の波長の
レーザ光の第1の光軸と前記第2の波長のレーザ光の第
2の光軸がオーバーラップしている箇所に配置され、前
記第1及び第2の波長のレーザ光の照射に基づいて前記
第1及び第2の光軸と同軸な方向にテラヘルツ光を発生
する非線形波長変換素子とを備えたものである。
は、前記第1の励起レーザ光源を、波長固定レーザと
し、前記第2の励起レーザ光源を、波長可変レーザとし
たものである。
は、前記第1の励起レーザ光源を、Nd:YAGレーザ
とし、前記第2の励起レーザ光源を、Yb:YAGレー
ザとしたものである。
は、前記第1の励起レーザ光源を、前記第1の波長が
1.064μmの単色光とし、前記第2の励起レーザ光
源を、前記第2の波長が1μm帯の単色光としたもので
ある。
は、前記第1及び第2の励起レーザ光源を、Yb:YA
Gレーザとしたものである。
は、前記第1の励起レーザ光源を、Nd:YLFレーザ
とし、前記第2の励起レーザ光源を、Yb:YAGレー
ザとしたものである。
は、前記非線形波長変換素子を、前記第1及び第2の光
軸と同軸な方向の長さが各々Λ/2の複数個の第1の半
導体材料と、長さが各々Λ/2の複数個の第2の半導体
材料を拡散接合で一体とし、前記第1及び第2の半導体
材料が前記第1及び第2の光軸と垂直な方向が[00
1]軸であり、それぞれの[001]軸の向きが平行
で、かつ、[001]軸の向きが交互に逆になるように
配置された半導体擬似位相整合素子としたものである。
は、請求項7において、前記半導体擬似位相整合素子の
前記第1及び第2の半導体材料を、テラヘルツ領域で透
明な材料としたものである。
は、請求項8において、前記半導体擬似位相整合素子の
前記第1及び第2の半導体材料を、GaPとしたもので
ある。
は、請求項8において、前記半導体擬似位相整合素子の
前記第1及び第2の半導体材料を、GaAsとしたもの
である。
は、前記非線形波長変換素子を、前記第1及び第2の光
軸と同軸な方向の長さが各々Λ/2の複数個の第1の半
導体材料と、長さが各々Λ/2の複数個の第2の半導体
材料を拡散接合で一体とし、前記第1及び第2の半導体
材料の方位が、前記第1及び第2の光軸に垂直な方向に
同一で、かつ、向きが交互に逆になるように配置された
半導体疑似位相整合素子としたものである。
は、請求項11において、前記半導体擬似位相整合素子
の前記第1及び第2の半導体材料を、テラヘルツ領域で
透明な材料としたものである。
は、請求項12において、前記半導体擬似位相整合素子
の前記第1及び第2の半導体材料を、GaPとしたもの
である。
は、請求項12において、前記半導体擬似位相整合素子
の前記第1及び第2の半導体材料を、GaAsとしたも
のである。
形態1に係る固体光源装置について図面を参照しながら
説明する。図1は、この発明の実施の形態1に係る固体
光源装置の構成を示す図である。この図1は、擬似位相
整合非線形波長変換を用いたテラヘルツ波光源である固
体光源装置の構成例である。
長変換を用いたテラヘルツ波光源である固体光源装置、
2は非線形波長変換素子である半導体擬似位相整合素
子、3は第1の励起レーザ光源、3aは波長λ1のレー
ザ光、4は第2の励起レーザ光源、4aは波長λ2のレ
ーザ光、5は波長λ3のテラヘルツ光である。
装置の動作について図面を参照しながら説明する。
ーザ光3aを出力し、第2の励起レーザ光源4は、波長
λ2のレーザ光4aを出力する。第1のレーザ光源3
は、Nd:YAGレーザであってもよく、第2のレーザ
光源4は、Yb:YAGレーザであってもよい。
ーザ光3aの波長λ1が1.064μmの単色光で出力
する波長固定レーザである。Yb:YAGレーザは、1
μm帯に広帯域な利得を有するため波長可変レーザとし
て構成することが可能であり、第2の励起レーザ光源4
は、レーザ光4aの波長λ2が1μm帯の単色光で出力
する波長可変レーザである。なお、第1のレーザ光源3
は、Nd原子の4F3/2から4I11/2の遷移の
内、R2からY3の遷移を利用しているため発振波長が
1.064μmの波長固定レーザとなるが、他の遷移を
利用して他の発振波長で出力する波長固定レーザとして
用いてもよい。
a、および、第2の励起レーザ光源4からのレーザ光4
aは、共に半導体擬似位相整合素子2に照射される。レ
ーザ光3aとレーザ光4aの光軸は同軸に配置すること
が望ましいが、第1の励起レーザ光源3および第2の励
起レーザ光源4の大きさの関係から僅かに角度をもって
いてもよい。ただし、この場合、レーザ光3aとレーザ
光4aの光軸は、半導体擬似位相整合素子2上では、ほ
ぼ一致している。また、適切な光学部品を用いてレーザ
光3aとレーザ光4aの光軸を前もって一致させておい
てもよい。
軸と同軸な方向の長さがΛ/2の複数個の半導体材料2
an(n=1,2,・・・,n)、2bn(n=1,
2,・・・,n)を拡散接合で一体としている。前記第
1及び第2の半導体材料の方位は、前記第1及び第2の
光軸に垂直な方向に同一で、かつ、向きが交互に逆にな
るように配置される。ここで、前記第1及び第2の半導
体材料の方位が、前記第1及び第2の光軸に垂直な方向
が[001]軸であり、それぞれの[001]軸の向き
が平行で、さらに、[001]軸の向きが交互に逆にな
るように配置されている場合、半導体材料における非線
形光学定数は最も大きくとることができる。このため、
ここでは前記第1及び第2の光軸に垂直な方向が[00
1]軸である場合について示す。
a、および、第2の励起レーザ光源4からのレーザ光4
aは、共に直線偏光である。レーザ光3aの波長がレー
ザ光4aの波長よりも短い場合、レーザ光3aの偏光方
向は半導体材料の[001]軸の向きと平行であり、レ
ーザ光4aの偏光方向は[001]軸の向きと垂直であ
る。また、レーザ光3aの波長がレーザ光4aの波長よ
りも長い場合、レーザ光3aの偏光方向は[001]軸
の向きと垂直であり、レーザ光4aの偏光方向は[00
1]軸の向きと平行である。
子を用いた差周波発生を行う場合、以下の関係式が成り
立つ。
の伝搬長に対する波長変換光強度を示す模式図である。
をΔk、コヒーレンス長をlc、反転周期をΛとしたと
き、以下の関係が成り立つ。
に対する屈折率である。
子を用いた場合、波長変換光強度は伝搬長がlcの時、
飽和し最大となり、その後低下する。伝搬長が2lcの
時、波長変換光強度は0となるが、伝搬長が3lcまで
再び増加する。このように波長変換光強度は、増減を繰
り返しながら非線形波長変換素子を伝搬するため、大き
な出力光を得ることは困難である。
ヒーレンス長lc毎に反転させた疑似位相整合素子2の
場合、伝搬長lc毎に増減を繰り返すことなしに、波長
変換光強度を増加させることができる。
ス長lc毎に分極方向を反転させた疑似位相整合波長変
換素子を作成する場合、LiNbO3に強電界をかける
ことで作成することもできる。一方、GaP、GaAs
などの半導体材料の場合、強電界を用いた疑似位相整合
波長変換素子の作成が困難であるため、コヒーレンス長
lc毎に切り分けた複数の半導体材料を用いて、拡散接
合により一体化することで作成することができる。しか
し、拡散接合による境界面は、完全に一体化することが
困難であるため、特に境界面の数が多い場合、接合によ
る損失が大きくなり、高出力な波長変換光を得ることは
困難である。
す特性図である。
減少する。また、25μm帯に赤外異常分散が存在す
る。このような異常分散特性のため、長波長の方が短波
長より大きく屈折し、さらに、テラヘルツ近傍では屈折
率は漸近し、ほぼ一定となる。
合、差周波がテラヘルツ程度となる1μm帯の2波長の
励起光において、波数差はテラヘルツ光の波数にほぼ一
致する。
mのときの、コヒーレンス長lcの計算結果を示す図で
ある。
り、縦軸にコヒーレンス長lcを示している。励起光源
として1μm帯の2波長のレーザを用い、GaPなどの
半導体材料を波長変換素子として用い、テラヘルツ波帯
の差周波発生を行った場合、Δkが小さくなり、この結
果、コヒーレンス長lcはmmオーダーと長く取ること
が可能である。従って、半導体擬似位相整合素子の接合
界面の数を最小限に抑えることができるので、低損失の
素子を作製することが可能であり、高効率で高出力のテ
ラヘルツ光を得ることができる。
光学定数が大きいため高効率波長変換に適している。ま
た、コヒーレンス長毎に[001]軸の向きが交互にな
るように接合した疑似位相整合波長変換素子であるた
め、Δk=0とする必要がなく、この結果、2波長の励
起光と差周波光の光軸は一致させることが可能である。
このため、2波長の励起光と差周波光の相互作用長を長
く取ることが可能であるため、特に高効率波長変換に適
している。
波長の励起光を用いた差周波発生では、特に高効率波長
変換が可能であるため、2波長の励起光は連続波からピ
コ秒以下の短パルスまで様々なパルス長を用いてもテラ
ヘルツ光の発生は高効率で高出力で得ることができる。
このため、2波長の励起光のパルス長を選択すること
で、差周波のテラヘルツ光として連続波からピコ秒以下
の短パルスを得ることができる。このように、テラヘル
ツ光の発生は、特にピコ秒以下の短パルスである必要が
ないため、フーリエ限界で決定されるテラヘルツ光の波
長広がりを狭くすることが可能であり、狭線幅特性を維
持しつつ単一縦モードのテラヘルツ光を得ることができ
る。
ラヘルツ領域で透明であるため、差周波発生により得ら
れたテラヘルツ光は吸収により減衰することがなく、高
効率に出力光として取り出すことが可能である。さら
に、GaP、GaAsなどの半導体は熱伝導率が大きい
ため、高出力動作にも適している。
方の波長をnmオーダーとわずかに変化させるだけで、
テラヘルツ発生波長を数百μmにもわたってチューニン
グすることが可能となるテラヘルツ波光源を提供するこ
とができる。
してGaPを用いたが、GaAsなどの他の半導体も同
様な異常分散特性を有するため使用することができる。
て、波長固定レーザにNd:YAGレーザを、波長可変
レーザにYb:YAGレーザを用いたが、Yb:YAG
レーザを2台用いても実現可能であり、さらに他のNd
添加レーザ、Yb添加レーザを用いる場合にも適用可能
である。
して、波長固定レーザにNd:YAGレーザを、波長可
変レーザにYb:YAGレーザを用いたが、波長固定レ
ーザにNd:YLFレーザを、波長可変レーザにYb:
YAGレーザを用いても実現可能であり、さらに他のN
d添加レーザ、Yb添加レーザを用いる場合にも適用可
能である。
ルツ波発生に、1μm帯の波長可変レーザと大きな非線
形光学定数・熱伝導率を有する半導体の異常分散特性を
併用することで擬似位相整合差周波発生のための接合間
隔を数mmと長周期にする手法を提案したため、狭線幅
特性を維持しつつ高出力かつ高効率なテラヘルツ波発生
を容易かつ確実に実現できる。
は、以上説明したとおり、第1の波長のレーザ光を出力
する第1の励起レーザ光源と、前記第1の波長のレーザ
光との差周波数がテラヘルツ帯である、第2の波長のレ
ーザ光を出力する第2の励起レーザ光源と、前記第1の
波長のレーザ光の第1の光軸と前記第2の波長のレーザ
光の第2の光軸がオーバーラップしている箇所に配置さ
れ、前記第1及び第2の波長のレーザ光の照射に基づい
て前記第1及び第2の光軸と同軸な方向にテラヘルツ光
を発生する非線形波長変換素子とを備えたので、狭線幅
特性を維持しつつ高出力かつ高効率なテラヘルツ波発生
を容易かつ確実に実現できるという効果を奏する。
は、以上説明したとおり、前記第1の励起レーザ光源
を、波長固定レーザとし、前記第2の励起レーザ光源
を、波長可変レーザとしたので、狭線幅特性を維持しつ
つ高出力かつ高効率なテラヘルツ波発生を容易かつ確実
に実現できるという効果を奏する。
は、以上説明したとおり、前記第1の励起レーザ光源
を、Nd:YAGレーザとし、前記第2の励起レーザ光
源を、Yb:YAGレーザとしたので、狭線幅特性を維
持しつつ高出力かつ高効率なテラヘルツ波発生を容易か
つ確実に実現できるという効果を奏する。
は、以上説明したとおり、前記第1の励起レーザ光源
を、前記第1の波長が1.064μmの単色光とし、前
記第2の励起レーザ光源を、前記第2の波長が1μm帯
の単色光としたので、狭線幅特性を維持しつつ高出力か
つ高効率なテラヘルツ波発生を容易かつ確実に実現でき
るという効果を奏する。
は、以上説明したとおり、前記第1及び第2の励起レー
ザ光源を、Yb:YAGレーザとしたので、狭線幅特性
を維持しつつ高出力かつ高効率なテラヘルツ波発生を容
易かつ確実に実現できるという効果を奏する。
は、以上説明したとおり、前記第1の励起レーザ光源
を、Nd:YLFレーザとし、前記第2の励起レーザ光
源を、Yb:YAGレーザとしたので、狭線幅特性を維
持しつつ高出力かつ高効率なテラヘルツ波発生を容易か
つ確実に実現できるという効果を奏する。
は、以上説明したとおり、前記非線形波長変換素子を、
前記第1及び第2の光軸と同軸な方向の長さが各々Λ/
2の複数個の第1の半導体材料と、長さが各々Λ/2の
複数個の第2の半導体材料を拡散接合で一体とし、前記
第1及び第2の半導体材料が前記第1及び第2の光軸と
垂直な方向が[001]軸であり、それぞれの[00
1]軸の向きが平行で、かつ、[001]軸の向きが交
互に逆になるように配置された半導体擬似位相整合素子
としたので、狭線幅特性を維持しつつ高出力かつ高効率
なテラヘルツ波発生を容易かつ確実に実現できるという
効果を奏する。
は、以上説明したとおり、請求項7において、前記半導
体擬似位相整合素子の前記第1及び第2の半導体材料
を、テラヘルツ領域で透明な材料としたので、狭線幅特
性を維持しつつ高出力かつ高効率なテラヘルツ波発生を
容易かつ確実に実現できるという効果を奏する。
は、以上説明したとおり、請求項8において、前記半導
体擬似位相整合素子の前記第1及び第2の半導体材料
を、GaPとしたので、狭線幅特性を維持しつつ高出力
かつ高効率なテラヘルツ波発生を容易かつ確実に実現で
きるという効果を奏する。
は、以上説明したとおり、請求項8において、前記半導
体擬似位相整合素子の前記第1及び第2の半導体材料
を、GaAsとしたので、狭線幅特性を維持しつつ高出
力かつ高効率なテラヘルツ波発生を容易かつ確実に実現
できるという効果を奏する。
は、以上説明したとおり、前記非線形波長変換素子を、
前記第1及び第2の光軸と同軸な方向の長さが各々Λ/
2の複数個の第1の半導体材料と、長さが各々Λ/2の
複数個の第2の半導体材料を拡散接合で一体とし、前記
第1及び第2の半導体材料の方位が、前記第1及び第2
の光軸に垂直な方向に同一で、かつ、向きが交互に逆に
なるように配置された半導体疑似位相整合素子としたの
で、狭線幅特性を維持しつつ高出力かつ高効率なテラヘ
ルツ波発生を容易かつ確実に実現できるという効果を奏
する。
は、以上説明したとおり、請求項11において、前記半
導体擬似位相整合素子の前記第1及び第2の半導体材料
を、テラヘルツ領域で透明な材料としたので、狭線幅特
性を維持しつつ高出力かつ高効率なテラヘルツ波発生を
容易かつ確実に実現できるという効果を奏する。
は、以上説明したとおり、請求項12において、前記半
導体擬似位相整合素子の前記第1及び第2の半導体材料
を、GaPとしたので、狭線幅特性を維持しつつ高出力
かつ高効率なテラヘルツ波発生を容易かつ確実に実現で
きるという効果を奏する。
は、以上説明したとおり、請求項12において、前記半
導体擬似位相整合素子の前記第1及び第2の半導体材料
を、GaAsとしたので、狭線幅特性を維持しつつ高出
力かつ高効率なテラヘルツ波発生を容易かつ確実に実現
できるという効果を奏する。
の構成を示す図である。
す模式図である。
る。
第1の励起レーザ光源、3a 波長λ1のレーザ光、4
第2の励起レーザ光源、4a 波長λ2のレーザ光、
5 波長λ3のテラヘルツ光。
Claims (14)
- 【請求項1】 第1の波長のレーザ光を出力する第1の
励起レーザ光源と、 前記第1の波長のレーザ光との差周波数がテラヘルツ帯
である、第2の波長のレーザ光を出力する第2の励起レ
ーザ光源と、 前記第1の波長のレーザ光の第1の光軸と前記第2の波
長のレーザ光の第2の光軸がオーバーラップしている箇
所に配置され、前記第1及び第2の波長のレーザ光の照
射に基づいて前記第1及び第2の光軸と同軸な方向にテ
ラヘルツ光を発生する非線形波長変換素子とを備えたこ
とを特徴とする固体光源装置。 - 【請求項2】 前記第1の励起レーザ光源は、波長固定
レーザであり、 前記第2の励起レーザ光源は、波長可変レーザであるこ
とを特徴とする請求項1記載の固体光源装置。 - 【請求項3】 前記第1の励起レーザ光源は、Nd:Y
AGレーザであり、 前記第2の励起レーザ光源は、Yb:YAGレーザであ
ることを特徴とする請求項2記載の固体光源装置。 - 【請求項4】 前記第1の励起レーザ光源は、前記第1
の波長が1.064μmの単色光であり、 前記第2の励起レーザ光源は、前記第2の波長が1μm
帯の単色光であることを特徴とする請求項3記載の固体
光源装置。 - 【請求項5】 前記第1及び第2の励起レーザ光源は、
Yb:YAGレーザであることを特徴とする請求項1記
載の固体光源装置。 - 【請求項6】 前記第1の励起レーザ光源は、Nd:Y
LFレーザであり、 前記第2の励起レーザ光源は、Yb:YAGレーザであ
ることを特徴とする請求項1記載の固体光源装置。 - 【請求項7】 前記非線形波長変換素子は、前記第1及
び第2の光軸と同軸な方向の長さが各々Λ/2の複数個
の第1の半導体材料と、長さが各々Λ/2の複数個の第
2の半導体材料を拡散接合で一体とし、前記第1及び第
2の半導体材料が前記第1及び第2の光軸と垂直な方向
が[001]軸であり、それぞれの[001]軸の向き
が平行で、かつ、[001]軸の向きが交互に逆になる
ように配置された半導体擬似位相整合素子であることを
特徴とする請求項1記載の固体光源装置。 - 【請求項8】 前記半導体擬似位相整合素子の前記第1
及び第2の半導体材料は、テラヘルツ領域で透明な材料
であることを特徴とする請求項7記載の固体光源装置。 - 【請求項9】 前記半導体擬似位相整合素子の前記第1
及び第2の半導体材料は、GaPであることを特徴とす
る請求項8記載の固体光源装置。 - 【請求項10】 前記半導体擬似位相整合素子の前記第
1及び第2の半導体材料は、GaAsであることを特徴
とする請求項8記載の固体光源装置。 - 【請求項11】 前記非線形波長変換素子は、前記第1
及び第2の光軸と同軸な方向の長さが各々Λ/2の複数
個の第1の半導体材料と、長さが各々Λ/2の複数個の
第2の半導体材料を拡散接合で一体とし、前記第1及び
第2の半導体材料の方位が、前記第1及び第2の光軸に
垂直な方向に同一で、かつ、向きが交互に逆になるよう
に配置された半導体疑似位相整合素子であることを特徴
とする請求項1記載の固体光源装置。 - 【請求項12】 前記半導体擬似位相整合素子の前記第
1及び第2の半導体材料は、テラヘルツ領域で透明な材
料であることを特徴とする請求項11記載の固体光源装
置。 - 【請求項13】 前記半導体擬似位相整合素子の前記第
1及び第2の半導体材料は、GaPであることを特徴と
する請求項12記載の固体光源装置。 - 【請求項14】 前記半導体擬似位相整合素子の前記第
1及び第2の半導体材料は、GaAsであることを特徴
とする請求項12記載の固体光源装置。
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