JP2003014933A - 位相差フィルムとその製造方法及び複合偏光板 - Google Patents
位相差フィルムとその製造方法及び複合偏光板Info
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Abstract
の剥離現象がなく、しかも滑り性が良好で透明性に優れ
た位相差フィルムとその製造方法を提供する。 【解決手段】 樹脂と添加剤と有機溶媒とを含むドープ
Aと、添加剤を含まないか添加剤の含有量がドープAよ
り少ない樹脂と添加剤と有機溶媒とを含むドープBを調
製し、ドープAがコア層、ドープBが表面層となるよう
に支持体上に共流延して、剥離可能となるまで有機溶媒
を蒸発させた後、ウェブを支持体から剥離し、更に延伸
時の樹脂フィルム中の残留溶媒量が3質量%〜50質量
%の範囲で少なくとも1軸方向に1.1〜3.0倍延伸
することを特徴とする位相差フィルムの製造方法。
Description
造方法に関する。特に添加剤のブリードアウトが少な
く、層間での剥離現象の発生のない位相差フィルムの製
造方法に関する。また、滑り性が良好で透明性に優れた
位相差フィルムの製造方法に関する。
ている、ツイステッドネマチック液晶表示装置やスーパ
ーツイステッドネマチック液晶表示装置などでは、液晶
セルで生じる位相差により表示画面が着色するという欠
点があり、この欠点を解消するため、位相差フィルムが
用いられている。この位相差フィルムは、偏光板と張り
合わされて楕円偏光板や円偏光板として用いられること
が多い。
に大型化されてきており、それに用いられる位相差フィ
ルムは、面内方向のレタデーションや厚み方向のレタデ
ーション、さらには遅相軸方向等を広い範囲で均一にコ
ントロールされたものであることが求められている。
目されてきている。つまり長波長ほど大きい位相差を示
すものが要望されてきている。例えば位相差フィルムを
四分の一波長板として用いる場合を例にとると、可視光
の波長400〜700nmの範囲で、いずれの波長にお
いても四分の一波長の位相差を示すことが好ましい。
酢化度のセルロースアセテートを用いることにより正の
波長分散特性を有する位相差フィルムが得られるとして
いる。
ボネイトなどの樹脂と比較して脆弱性や耐湿熱性に劣る
傾向がある。また、紫外線域の透過率が高いとの特徴が
ある。従ってセルロースアセテートを位相差フィルムの
材料として用いるには、種々の添加剤を含有させること
が必要である。例えばセルロースアセテートの脆弱性を
改良するためには可塑剤を添加することが有効である。
また紫外線域の波長を透過する性質による液晶等の劣化
を防止するためには紫外線吸収剤を添加することが有効
である。
光学材料として用いられるセルロースエステルフィルム
中にも可塑剤や紫外線吸収剤として配合されている。こ
れらの添加剤は、ブリードアウトして後加工時の塗布性
劣化(ハジキ状の欠陥発生)や接着力の不良が生じるな
どの問題を引き起こしていた。その他にも製造時のロー
ル汚れや揮発した可塑剤等が析出してフィルム面上に付
着して光学的欠点を生じさせるなどの問題もあった。
−54936号では、フィルムを3層構成として添加剤
の含有量をコア層より表面層を少なくすることによりブ
リードアウトを抑制する方法が提案されており、写真用
支持体や偏光板保護フィルムなどに有用であるとしてい
る。
性である。位相差フィルムは偏光フィルムなどと貼合さ
れて使用されることが多く、滑り性が劣ると貼合加工の
際にしわが入ったり傷が入ったり等の問題が発生するの
である。滑り性を向上する方法としては、無機や有機の
微粒子をフィルム中に含有させることで達成可能である
が、この場合、十分な滑り性を付与しようとするとフィ
ルムの透明性が劣化してしまう問題があった。
−81101号ではフィルムを3層構成とし表面側の層
にマット剤を含有させ、コア層には実質的にマット剤を
含有させないようにすることで滑り性と透明性を両立さ
せる方法が提案されている。
2001−54936号の様な3層構成のフィルムを位
相差フィルムに用いるために延伸すると、層間で剥離が
発生するという問題があることが分かった。この様な剥
離現象は、例えば偏光板と貼り合わせた複合偏光板を高
湿下から低湿下にさらした場合に観察されるもので、剥
離が生じた部分に空気が入り不透明な光学欠点となるの
で容易に観察することができる。この様な剥離現象は層
間の接着性が不十分なことに起因するものと予想され
る。
001−81101号の様な3層構成のフィルムを位相
差フィルムに用いるために延伸すると、フィルムの透明
性が著しく低下するという問題があることが分かった。
これは表層にマット剤が高濃度に配合されたため、延伸
操作によりマット剤とセルロースアセテート樹脂との界
面でボイドが発生したためと予想される。この様な透明
性の劣るフィルムは位相差フィルムとして実用に適さな
いのである。
剤のブリードアウトが少なく、かつ層間の剥離現象のな
い位相差フィルムの製造方法を提供することである。ま
た、本発明のもう一つの目的は滑り性が良好で透明性に
優れた位相差フィルムの製造方法を提供することであ
る。
下の構成によって達成された。
プAと、添加剤を含まないか添加剤の含有量がドープA
より少ない樹脂と添加剤と有機溶媒とを含むドープBを
調製し、ドープAがコア層、ドープBが表面層となるよ
うに支持体上に共流延して、剥離可能となるまで有機溶
媒を蒸発させた後、ウェブを支持体から剥離し、更に延
伸時の樹脂フィルム中の残留溶媒量が3質量%〜50質
量%の範囲で少なくとも1軸方向に1.1〜3.0倍延
伸することを特徴とする位相差フィルムの製造方法。
プAと、添加剤を含まないか添加剤の含有量がドープA
より少ない樹脂と添加剤と有機溶媒とを含むドープBを
調製し、ドープAがコア層、ドープBが表面層となるよ
うに支持体上に共流延して、剥離可能となるまで有機溶
媒を蒸発させた後、ウェブを支持体から剥離し、更に延
伸温度が140℃〜200℃の範囲で少なくとも1軸方
向に1.1〜3.0倍延伸することを特徴とする位相差
フィルムの製造方法。
樹脂と微粒子と有機溶媒とを含むドープBを調製し、ド
ープAがコア層、ドープBが表面層となるように支持体
上に共流延して、剥離可能となるまで有機溶媒を蒸発さ
せた後、ウェブを支持体から剥離し、更に延伸時の樹脂
フィルム中の残留溶媒量が3質量%〜50質量%の範囲
で少なくとも1軸方向に1.1〜3.0倍延伸すること
を特徴とする位相差フィルムの製造方法。
樹脂と微粒子と有機溶媒とを含むドープBを調製し、ド
ープAがコア層、ドープBが表面層となるように支持体
上に共流延して、剥離可能となるまで有機溶媒を蒸発さ
せた後、ウェブを支持体から剥離し、更に延伸温度が1
40℃〜200℃の範囲で少なくとも1軸方向に1.1
〜3.0倍延伸することを特徴とする位相差フィルムの
製造方法。
Aと、添加剤を含まないか添加剤の含有量がドープAよ
り少ない樹脂と添加剤と有機溶媒とを含むドープBと、
樹脂と微粒子と有機溶媒とを含むドープCを調製し、ド
ープAがコア層、ドープBが表面層、ドープCがドープ
Bとは反対側の表面層となるように支持体上に共流延し
て、剥離可能となるまで有機溶媒を蒸発させた後、ウェ
ブを支持体から剥離し、更に延伸時の樹脂フィルム中の
残留溶媒量が3質量%〜50質量%の範囲で少なくとも
1軸方向に1.1〜3.0倍延伸することを特徴とする
位相差フィルムの製造方法。
Aと、添加剤を含まないか添加剤の含有量がドープAよ
り少ない樹脂と添加剤と有機溶媒とを含むドープBと、
樹脂と微粒子と有機溶媒とを含むドープCを調製し、ド
ープAがコア層、ドープBが表面層、ドープCがドープ
Bとは反対側の表面層となるように支持体上に共流延し
て、剥離可能となるまで有機溶媒を蒸発させた後、ウェ
ブを支持体から剥離し、更に延伸温度が140℃〜20
0℃の範囲で少なくとも1軸方向に1.1〜3.0倍延
伸することを特徴とする位相差フィルムの製造方法。
1〜30質量%、ドープB中の添加剤量が樹脂に対して
0〜5質量%であることを特徴とする前記1〜4のいず
れか1項に記載の位相差フィルムの製造方法。
る前記7に記載の位相差フィルムの製造方法。
徴とする前記7に記載の位相差フィルムの製造方法。
徴とする前記7に記載の位相差フィルムの製造方法。
%〜35質量%、炭素数1〜4個のアルコールが全有機
溶媒に対して4質量%〜20質量%、ドープB中の樹脂
の濃度が10質量%〜25質量%、炭素数1〜4のアル
コールが全有機溶媒に対して6質量%から30質量%で
あることを特徴とする前記1〜10のいずれか1項に記
載の位相差フィルムの製造方法。
がメチレンクロライドまたは酢酸メチルを全有機溶媒に
対して50質量%以上含有していることを特徴とする前
記11に記載の位相差フィルムの製造方法。
ープAと、添加剤を含まないか添加剤の含有量がドープ
Aより少ない樹脂と添加剤と有機溶媒とを含むドープB
を調製し、ドープAがコア層、ドープBが表面層となる
ように支持体上に共流延して、剥離可能となるまで有機
溶媒を蒸発させ、支持体から剥離したウェブを破砕処理
した破砕品を、再びドープAの樹脂材料として使用する
ことを特徴とする前記1または前記2に記載の位相差フ
ィルムの製造方法。
〜50質量%であることを特徴とする前記13に記載の
位相差フィルムの製造方法。
ースエステルであることを特徴とする前記1〜14のい
ずれか1項に記載の位相差フィルムの製造方法。
を満たすセルロースエステルであることを特徴とする前
記15に記載の位相差フィルムの製造方法。
置換度が1.4〜2.0であることを特徴とする前記1
6に記載の位相差フィルムの製造方法。
が60000〜300000であることを特徴とする前
記15〜17のいずれか1項に記載の位相差フィルムの
製造方法。
た、フィルム面内のレタデーション(Ro)が100n
m〜1000nm、正の波長分散特性を有し、かつ少な
くともコア層と表面層とを有する多層構成からなる位相
差フィルムであって、表層の添加剤の含有量がコア層の
添加剤の含有量より少ないことを特徴とする位相差フィ
ルム。
面内の屈折率の最大方向を偏光フィルムの吸収軸と45
度±5度の範囲となるように積層されていることを特徴
とする複合偏光板。
た、フィルム面内のレタデーション(Ro)が20nm
〜100nm、厚さ方向のレタデーション(Rt)が1
00nm〜400nm、正の波長分散特性を有し、かつ
少なくともコア層と表面層とを有する多層構成からなる
位相差フィルムであって、表層の添加剤の含有量がコア
層の添加剤の含有量より少ないことを特徴とする位相差
フィルム。
面内の屈折率の最大方向を偏光フィルムの吸収軸と平行
または直交するように積層されていることを特徴とする
複合偏光板。
た、フィルム面内のレタデーション(Ro)が100n
m〜1000nm、正の波長分散特性を有し、かつ少な
くともコア層と表面層とを有する多層構成からなる位相
差フィルムであって、実質的に表層にのみ微粒子が含有
することを特徴とする位相差フィルム。
面内の屈折率の最大方向を偏光フィルムの吸収軸と45
度±5度の範囲となるように積層されていることを特徴
とする複合偏光板。
た、フィルム面内のレタデーション(Ro)が20nm
〜100nm、厚さ方向のレタデーション(Rt)が1
00nm〜400nm、正の波長分散特性を有し、かつ
少なくともコア層と表面層とを有する多層構成からなる
位相差フィルムであって、実質的に表層にのみ微粒子が
含有することを特徴とする位相差フィルム。
面内の屈折率の最大方向を偏光フィルムの吸収軸と平行
または直交するように積層されていることを特徴とする
複合偏光板。
て、樹脂の有機溶媒溶液のことを単にドープという。
があり透明なフィルムが得られる樹脂であり、均一な延
伸が行えれば特に制限はないが、例えば、ポリカーボネ
イト、ポリアリレート、ポリスルホン、ポリエチレンテ
レフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリエーテ
ルスルホン、ポリフェニレンスルファイド、ポリフェニ
レンオキサイド、ポリアリルスルホン、ポリビニルアル
コール、ポリアミド、ポリイミド、ポリオレフィン、ポ
リ塩化ビニル、セルロース系重合体、ポリアクリロニト
リル、ポリスチレン、などが挙げられる。中でも適度な
レタデーション特性を得やすい点から、ポリカーボネイ
ト、ノルボルネン系樹脂、セルロースエステル系樹脂が
好ましい。特に正の波長分散特性を有する点から、セル
ロースエステル系樹脂が好ましい。
明する。 (セルロースエステル)本発明のセルロースエステルと
しては、セルローストリアセテート、セルロースジアセ
テート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロ
ースアセテートブチレート、またはセルロースアセテー
トプロピオネートブチレートなどであり、セルロースト
リアセテート、セルロースジアセテート、セルロースア
セテートプロピオネートが好ましい。
基の置換度とプロピオニル基及び/またはブチリル基の
置換度の合計が2.4以上3.0以下である。アセチル
基の置換度とプロピオニル基及び/またはブチリル基の
置換度の合計が2.5以上2.85以下であることが好
ましい。アセチル基の置換度が1.4以上2.0以下で
あることが好ましい。炭素数2から4のアシル基の置換
度の合計がこの範囲より低いと、位相差フィルムとして
の耐湿熱性に劣る。また置換度の合計が大きすぎると波
長分散特性が負の特性を示す場合があり、更に必要なレ
タデーションが得られにくくなる場合がある。炭素数2
から4のアシル基の中でアセチル基の置換度の割合を大
きくするとフィルムの弾性率や破断強度を高くすること
ができる。一方プロピオニル基やブチリル基の置換度の
割合を大きくするとフィルムの水分率を小さくすること
ができ耐湿熱性が向上できる。アセチル基の置換度が
1.4以上2.0以下とすることで強度と耐湿熱性を兼
ね備えた位相差フィルムを得ることができる。
原料のセルロースとしては、特に限定はないが、綿花リ
ンター、木材パルプ、ケナフなどを挙げることが出来
る。またそれらから得られたセルロースエステルはそれ
ぞれ任意の割合で混合使用することが出来る。
ス原料をアシル化剤が酸無水物(無水酢酸、無水プロピ
オン酸、無水酪酸)である場合には、酢酸のような有機
酸やメチレンクロライド等の有機溶媒を用い、硫酸のよ
うなプロトン性触媒を用いて合成する。アシル化剤が酸
クロライド(CH3COCl、C2H5COCl、C3H 7
COCl)の場合には、触媒としてアミンのような塩基
性化合物を用いて反応が行われる。具体的には特開平1
0−45804号公報に記載の方法で合成することが出
来る。セルロースエステルはアシル基がセルロース分子
の水酸基に反応する。セルロース分子はグルコースユニ
ットが多数連結したものからなっており、グルコースユ
ニットに3個の水酸基がある。この3個の水酸基にアシ
ル基が誘導された数を置換度という。例えば、セルロー
ストリアセテートはグルコースユニットの3個の水酸基
全てがアセチル基が結合している。
D817−96に準じて測定することが出来る。
量は、60000〜300000の範囲が、得られるフ
ィルムの機械的強度が強く好ましい。更に70000〜
200000が好ましい。
溶剤とともに揮発しやすく、またフィルム表面に析出し
易い添加剤であり、例えば、可塑剤、UV吸収剤、酸化
防止剤、染料、Rt調整剤などが挙げられる。
カルボン酸エステルが好ましく用いられる。リン酸エス
テルとしては、例えばトリフェニルホスフェイト、トリ
クレジルホスフェート、フェニルジフェニルホスフェー
ト等を挙げることが出来る。カルボン酸エステルとして
は、フタル酸エステル及びクエン酸エステル等、フタル
酸エステルとしては、例えばジメチルフタレート、ジエ
チルフタレート、ジオクチルフタレート及びジエチルヘ
キシルフタレート等、またクエン酸エステルとしてはク
エン酸アセチルトリエチル及びクエン酸アセチルトリブ
チルを挙げることが出来る。またその他、オレイン酸ブ
チル、リシノール酸メチルアセチル、セバチン酸ジブチ
ル、トリアセチン等も挙げられる。アルキルフタリルア
ルキルグリコレートもこの目的で好ましく用いられる。
アルキルフタリルアルキルグリコレートのアルキルは炭
素原子数1〜8のアルキル基である。アルキルフタリル
アルキルグリコレートとしてはメチルフタリルメチルグ
リコレート、エチルフタリルエチルグリコレート、プロ
ピルフタリルプロピルグリコレート、ブチルフタリルブ
チルグリコレート、オクチルフタリルオクチルグリコレ
ート、メチルフタリルエチルグリコレート、エチルフタ
リルメチルグリコレート、エチルフタリルプロピルグリ
コレート、プロピルフタリルエチルグリコレート、メチ
ルフタリルプロピルグリコレート、メチルフタリルブチ
ルグリコレート、エチルフタリルブチルグリコレート、
ブチルフタリルメチルグリコレート、ブチルフタリルエ
チルグリコレート、プロピルフタリルブチルグリコレー
ト、ブチルフタリルプロピルグリコレート、メチルフタ
リルオクチルグリコレート、エチルフタリルオクチルグ
リコレート、オクチルフタリルメチルグリコレート、オ
クチルフタリルエチルグリコレート等を挙げることが出
来、メチルフタリルメチルグリコレート、エチルフタリ
ルエチルグリコレート、プロピルフタリルプロピルグリ
コレート、ブチルフタリルブチルグリコレート、オクチ
ルフタリルオクチルグリコレートが好ましく、特にエチ
ルフタリルエチルグリコレートが好ましく用いられる。
またこれらアルキルフタリルアルキルグリコレートを2
種以上混合して使用してもよい。
化防止の観点から、波長370nm以下の紫外線の吸収
能に優れており、かつ、液晶表示性の観点から、波長4
00nm以上の可視光の吸収が少ないものが好ましい。
例えばオキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾ
ール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフ
ェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケ
ル錯塩系化合物などが挙げられる。特に好ましい紫外線
吸収剤は、ベンゾトリアゾール系化合物やベンゾフェノ
ン系化合物である。中でも、ベンゾトリアゾール系化合
物は、セルロースエステルに対する不要な着色が少ない
ことから好ましい。
ル系の化合物が好ましく用いられ、2,6−ジ−t−ブ
チル−p−クレゾール、ペンタエリスリチル−テトラキ
ス〔3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフ
ェニル)プロピオネート〕、トリエチレングリコール−
ビス〔3−(3−t−ブチル−5−メチル−4−ヒドロ
キシフェニル)プロピオネート〕、1,6−ヘキサンジ
オール−ビス〔3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒ
ドロキシフェニル)プロピオネート〕、2,4−ビス−
(n−オクチルチオ)−6−(4−ヒドロキシ−3,5
−ジ−t−ブチルアニリノ)−1,3,5−トリアジ
ン、2,2−チオ−ジエチレンビス〔3−(3,5−ジ
−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネー
ト〕、オクタデシル−3−(3,5−ジ−t−ブチル−
4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、N,N′−
ヘキサメチレンビス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒ
ドロキシ−ヒドロシンナマミド)、1,3,5−トリメ
チル−2,4,6−トリス(3,5−ジ−t−ブチル−
4−ヒドロキシベンジル)ベンゼン、トリス−(3,5
−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−イソシ
アヌレイト等が挙げられる。特に2,6−ジ−t−ブチ
ル−p−クレゾール、ペンタエリスリチル−テトラキス
〔3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェ
ニル)プロピオネート〕、トリエチレングリコール−ビ
ス〔3−(3−t−ブチル−5−メチル−4−ヒドロキ
シフェニル)プロピオネート〕が好ましい。また例え
ば、N,N′−ビス〔3−(3,5−ジ−t−ブチル−
4−ヒドロキシフェニル)プロピオニル〕ヒドラジン等
のヒドラジン系の金属不活性剤やトリス(2,4−ジ−
t−ブチルフェニル)フォスファイト等のリン系加工安
定剤を併用してもよい。
ーションを調整するための化合物である。厚み方向レタ
デーションはフィルム面内の屈折率の最大方向と最小方
向の平均値から厚み方向の屈折率を引いた値にフィルム
の膜厚を掛けた値として定義される。Rt調整剤として
は、芳香族環を少なくとも二つ有し、二つの芳香族環の
立体配座を立体障害しない分子構造を有する化合物を使
用できる。少なくとも二つの芳香族環を有する化合物
は、炭素原子7個分以上のπ結合性の平面を有する。二
つの芳香族環の立体配座を立体障害しなければ、二つの
芳香族環は、同一平面を形成する。複数の芳香族環によ
り同一平面を形成することでレタデーションを上昇する
効果が得られるのである。ここでいう芳香族環とは、芳
香族炭化水素環に加えて、芳香族性ヘテロ環を含む。芳
香族炭化水素環は、6員環(すなわち、ベンゼン環)で
あることが特に好ましい。
環である。芳香族性ヘテロ環は、5員環、6員環または
7員環であることが好ましく、5員環または6員環であ
ることがさらに好ましい。芳香族性ヘテロ環は一般に、
最多の二重結合を有する。ヘテロ原子としては、窒素原
子、酸素原子および硫黄原子が好ましく、窒素原子が特
に好ましい。芳香族性ヘテロ環の例には、フラン環、チ
オフェン環、ピロール環、オキサゾール環、イソオキサ
ゾール環、チアゾール環、イソチアゾール環、イミダゾ
ール環、ピラゾール環、フラザン環、トリアゾール環、
ピラン環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、
ピラジン環および1,3,5−トリアジン環が含まれ
る。芳香族環としては、ベンゼン環、フラン環、チオフ
ェン環、ピロール環、オキサゾール環、チアゾール環、
イミダゾール環、トリアゾール環、ピリジン環、ピリミ
ジン環、ピラジン環および1,3,5−トリアジン環が
好ましい。
であることが好ましく、2乃至12であることがより好
ましく、2乃至8であることがさらに好ましく、2乃至
6であることが最も好ましい。3以上の芳香族環を有す
る場合、少なくとも二つの芳香族環の立体配座を立体障
害しなければよい。二つの芳香族環の結合関係は、
(a)縮合環を形成する場合、(b)単結合で直結する
場合および(c)連結基を介して結合する場合に分類で
きる(芳香族環のため、スピロ結合は形成できない)。
(b)または(c)の場合は、二つの芳香族環の立体配
座を立体障害しないことが必要である。
合環)の例には、インデン環、ナフタレン環、アズレン
環、フルオレン環、フェナントレン環、アントラセン
環、アセナフチレン環、ビフェニレン環、ナフタセン
環、ピレン環、インドール環、イソインドール環、ベン
ゾフラン環、ベンゾチオフェン環、インドリジン環、ベ
ンゾオキサゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンゾイミ
ダゾール環、ベンゾトリアゾール環、プリン環、インダ
ゾール環、クロメン環、キノリン環、イソキノリン環、
キノリジン環、キナゾリン環、シンノリン環、キノキサ
リン環、フタラジン環、プテリジン環、カルバゾール
環、アクリジン環、フェナントリジン環、キサンテン
環、フェナジン環、フェノチアジン環、フェノキサチイ
ン環、フェノキサジン環およびチアントレン環が含まれ
る。ナフタレン環、アズレン環、インドール環、ベンゾ
オキサゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンゾイミダゾ
ール環、ベンゾトリアゾール環およびキノリン環が好ま
しい。
原子間の結合であることが好ましい。二以上の単結合で
二つの芳香族環を結合して、二つの芳香族環の間に脂肪
族環または非芳香族性複素環を形成してもよい。
原子と結合することが好ましい。連結基は、アルキレン
基、アルケニレン基、アルキニレン基、−CO−、−O
−、−NH−、−S−またはそれらの組み合わせである
ことが好ましい。組み合わせからなる連結基の例を以下
に示す。なお、以下の連結基の例の左右の関係は、逆に
なってもよい。 c1:−CO−O− c2:−CO−NH− c3:−アルキレン−O− c4:−NH−CO−NH− c5:−NH−CO−O− c6:−O−CO−O− c7:−O−アルキレン−O− c8:−CO−アルケニレン− c9:−CO−アルケニレン−NH− c10:−CO−アルケニレン−O− c11:−アルキレン−CO−O−アルキレン−O−C
O−アルキレン− c12:−O−アルキレン−CO−O−アルキレン−O
−CO−アルキレン−O− c13:−O−CO−アルキレン−CO−O− c14:−NH−CO−アルケニレン− c15:−O−CO−アルケニレン− 芳香族環および連結基は、置換基を有していてもよい。
ただし、置換基は、二つの芳香族環の立体配座を立体障
害しないことが必要である。立体障害では、置換基の種
類および位置が問題になる。置換基の種類としては、立
体的に嵩高い置換基(例えば、3級アルキル基)が立体
障害を起こしやすい。置換基の位置としては、芳香族環
の結合に隣接する位置(ベンゼン環の場合はオルト位)
が置換された場合に、立体障害が生じやすい。置換基の
例には、ハロゲン原子(F、Cl、Br、I)、ヒドロ
キシル、カルボキシル、シアノ、アミノ、ニトロ、スル
ホ、カルバモイル、スルファモイル、ウレイド、アルキ
ル基、アルケニル基、アルキニル基、脂肪族アシル基、
脂肪族アシルオキシ基、アルコキシ基、アルコキシカル
ボニル基、アルコキシカルボニルアミノ基、アルキルチ
オ基、アルキルスルホニル基、脂肪族アミド基、脂肪族
スルホンアミド基、脂肪族置換アミノ基、脂肪族置換カ
ルバモイル基、脂肪族置換スルファモイル基、脂肪族置
換ウレイド基および非芳香族性複素環基が含まれる。
ることが好ましい。環状アルキル基よりも鎖状アルキル
基の方が好ましく、直鎖状アルキル基が特に好ましい。
アルキル基は、さらに置換基(例、ヒドロキシ、カルボ
キシ、アルコキシ基、アルキル置換アミノ基)を有して
いてもよい。アルキル基の(置換アルキル基を含む)例
には、メチル、エチル、n−ブチル、n−ヘキシル、2
−ヒドロキシエチル、4−カルボキシブチル、2−メト
キシエチルおよび2−ジエチルアミノエチルが含まれ
る。アルケニル基の炭素原子数は、2乃至8であること
が好ましい。環状アルケニル基よりも鎖状アルケニル基
の方が好ましく、直鎖状アルケニル基が特に好ましい。
アルケニル基は、さらに置換基を有していてもよい。ア
ルケニル基の例には、ビニル、アリルおよび1−ヘキセ
ニルが含まれる。アルキニル基の炭素原子数は、2乃至
8であることが好ましい。環状アルキケニル基よりも鎖
状アルキニル基の方が好ましく、直鎖状アルキニル基が
特に好ましい。アルキニル基は、さらに置換基を有して
いてもよい。アルキニル基の例には、エチニル、1−ブ
チニルおよび1−ヘキシニルが含まれる。
0であることが好ましい。脂肪族アシル基の例には、ア
セチル、プロパノイルおよびブタノイルが含まれる。脂
肪族アシルオキシ基の炭素原子数は、1乃至10である
ことが好ましい。脂肪族アシルオキシ基の例には、アセ
トキシが含まれる。アルコキシ基の炭素原子数は、1乃
至8であることが好ましい。アルコキシ基は、さらに置
換基(例、アルコキシ基)を有していてもよい。アルコ
キシ基の(置換アルコキシ基を含む)例には、メトキ
シ、エトキシ、ブトキシおよびメトキシエトキシが含ま
れる。アルコキシカルボニル基の炭素原子数は、2乃至
10であることが好ましい。
シカルボニルおよびエトキシカルボニルが含まれる。ア
ルコキシカルボニルアミノ基の炭素原子数は、2乃至1
0であることが好ましい。アルコキシカルボニルアミノ
基の例には、メトキシカルボニルアミノおよびエトキシ
カルボニルアミノが含まれる。
2であることが好ましい。アルキルチオ基の例には、メ
チルチオ、エチルチオおよびオクチルチオが含まれる。
アルキルスルホニル基の炭素原子数は、1乃至8である
ことが好ましい。アルキルスルホニル基の例には、メタ
ンスルホニルおよびエタンスルホニルが含まれる。脂肪
族アミド基の炭素原子数は、1乃至10であることが好
ましい。脂肪族アミド基の例には、アセトアミドが含ま
れる。脂肪族スルホンアミド基の炭素原子数は、1乃至
8であることが好ましい。脂肪族スルホンアミド基の例
には、メタンスルホンアミド、ブタンスルホンアミドお
よびn−オクタンスルホンアミドが含まれる。脂肪族置
換アミノ基の炭素原子数は、1乃至10であることが好
ましい。脂肪族置換アミノ基の例には、ジメチルアミ
ノ、ジエチルアミノおよび2−カルボキシエチルアミノ
が含まれる。脂肪族置換カルバモイル基の炭素原子数
は、2乃至10であることが好ましい。脂肪族置換カル
バモイル基の例には、メチルカルバモイルおよびジエチ
ルカルバモイルが含まれる。脂肪族置換スルファモイル
基の炭素原子数は、1乃至8であることが好ましい。脂
肪族置換スルファモイル基の例には、メチルスルファモ
イルおよびジエチルスルファモイルが含まれる。脂肪族
置換ウレイド基の炭素原子数は、2乃至10であること
が好ましい。脂肪族置換ウレイド基の例には、メチルウ
レイドが含まれる。非芳香族性複素環基の例には、ピペ
リジノおよびモルホリノが含まれる。
であることが好ましい。Rt調整剤の沸点は、260℃
以上であることが好ましい。沸点は、市販の測定装置
(例えば、TG/DTA100、セイコー電子工業
(株)製)を用いて測定できる。
ら200℃における蒸気圧が1333Pa以下であるこ
とが好ましい。
塩素系有機溶媒としては、塩化メチレンが挙げられる。
非塩素系有機溶媒としては、酢酸メチル、酢酸エチル、
酢酸アミル、アセトン、テトラヒドロフラン、1,3−
ジオキソラン、1,4−ジオキサン、シクロヘキサノ
ン、ギ酸エチル、2,2,2−トリフルオロエタノー
ル、2,2,3,3−ヘキサフルオロ−1−プロパノー
ル、1,3−ジフルオロ−2−プロパノール、1,1,
1,3,3,3−ヘキサフルオロ−2−メチル−2−プ
ロパノール、1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ
−2−プロパノール、2,2,3,3,3−ペンタフル
オロ−1−プロパノール、ニトロエタン等を挙げること
ができる。中でも酢酸メチル、アセトンを好ましく使用
し得る。
対して50質量%以上用いると、セルロースエステルの
有機溶媒への溶解性が向上できるので好ましい。
機溶媒を溶解釜中で攪拌しながら溶解し、ドープを形成
する。溶解方法としては特に制限はなく、常圧で行う方
法、主溶媒の沸点以下で行う方法、主溶媒の沸点以上で
加圧して行う方法、冷却溶解法で行う方法、高圧で行う
方法等種々の溶解方法が採用できる。
も2種類のドープを調製する。ドープB中の添加剤の配
合量をドープA中の添加剤の配合量より少なくなるよう
に調製する。ドープA中の添加剤の配合量はセルロース
エステルに対して1〜30質量%が好ましく、6〜20
質量%が更に好ましい。ドープB中の添加剤の配合量は
セルロースエステルに対して0〜5質量%が好ましく、
添加剤を含まないことが最も好ましい。
面層Bを構成する。フィルム構成はB/A/Bのように
両表面を構成するドープ処方が同じでもよいし、例えば
B/A/Cのように両表面のドープ処方が異なっていて
もよい。この場合ドープC中の添加剤の配合量もドープ
A中の添加剤の配合量よりも少なくすることが好まし
い。
る方法は、溶解釜中に添加してもよいし、溶解釜〜共流
延ダイまでの間で添加剤や添加剤を溶解または分散した
溶液を、送液中のドープに添加してもよい。後者の場合
は混合性を高めるため、スタチックミキサー等の混合手
段を設けることが好ましい。
ル濃度が15〜35質量%、炭素原子数1〜4個のアル
コールがドープA中の有機溶媒に対して4〜20質量
%、好ましくは6〜12質量%、ドープB中のセルロー
スエステル濃度が10〜25質量%、炭素原子数1〜4
個のアルコールがドープB中の有機溶媒に対して6〜3
0質量%、好ましくは12〜24質量%であることが好
ましい。炭素原子数1〜4のアルコールとしては、メタ
ノール、エタノール、n−プロパノール、iso−プロ
パノール、n−ブタノール、sec−ブタノール、te
rt−ブタノールを挙げることが出来る。これらのうち
ドープの安定性が良好で、沸点が比較的低いので乾燥負
荷が少なく、且つ毒性がないこと等からエタノールが好
ましい。
純物が含まれている場合があるので、上記の様にしてセ
ルロースエステルを有機溶媒に溶解した後、ドープを濾
材で濾過することが好ましい。例えばフィルタープレス
型の濾過装置を用いて、粗いフィルターから精細なフィ
ルターへドープを通過させることで実施できる。濾過の
操作はドープを循環させて繰り返し行ってもよい。用い
る濾紙としては、例えば安積濾紙製のNo.14245
1、No.244、No.260の各グレードの濾紙を
積層したものが好ましい。濾過流量はゆっくり程ゲル等
の通過を防げるので好ましい。通常毎分5L/m2以下
とするのが好ましい。濾過圧力は小さい程、ゲル等の通
過を防げるので好ましい。通常2MPa以下が好まし
い。また、メタルファイバータイプのリーフディスク型
フィルターも好ましく用いることができる。例えば日本
精線製NF−06D2やNF12Nなどが挙げられる。
フィルタープレスとリーフディスク型のフィルターは併
用してもよい。
され静置され常法により脱泡される。例えばドープを3
0℃〜溶媒の沸点の温度で数時間静置することで脱泡で
きる。
を付与するために表面層に微粒子を添加することが好ま
しい。コア層には微粒子を添加する必要はないが添加さ
れていてもよい。ただコア層への微粒子の添加量が多い
とフィルムの透明性が劣化するので、添加量としては表
面層の添加量の1/10以下とすることが好ましい。よ
り好ましくはコア層には実質的に微粒子を含まないこと
である。実質的に含まないとは微粒子添加量が固形分あ
たり0〜0.01質量%を意味する。本発明において、
両表面層の少なくとも片側に配合されていれば滑り性の
効果が得られる。
化合物または有機化合物どちらでもよく、例えば、無機
化合物としては、珪素を含む化合物、二酸化珪素、酸化
アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、タ
ルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、
水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マ
グネシウム及びリン酸カルシウム等が好ましく、更に好
ましくは、ケイ素を含む無機化合物や酸化ジルコニウム
であるが、セルロースエステル積層フィルムの濁度を低
減できるので、二酸化珪素が特に好ましく用いられる。
は、例えば、アエロジルR972、R974、R81
2、200、300、R202、OX50、TT600
(以上日本アエロジル(株)製)等の商品名を有する市
販品が使用できる。
しては、例えば、アエロジルR976及びR811(以
上日本アエロジル(株)製)等の商品名で市販されてい
るものが使用できる。
樹脂、弗素樹脂及びアクリル樹脂等のポリマーが好まし
く、中でも、シリコーン樹脂が好ましく用いられる。
三次元の網状構造を有するものが好ましく、例えば、ト
スパール103、同105、同108、同120、同1
45、同3120及び同240(以上東芝シリコーン
(株)製)等の商品名を有する市販品が使用できる。
を低く抑えるという観点から、20nm以下が好まし
く、更に好ましくは、16〜5nmであり、特に好まし
くは、12〜5nmである。
電子顕微鏡(倍率50万〜200万倍)で粒子の観察を
行い、粒子100個を観察し、その平均値をもって、1
次平均粒子径とした。
ットル以上が好ましく、更に好ましくは、90〜200
g/リットルであり、特に好ましくは、100〜200
g/リットルである。見掛比重が大きい程、高濃度の分
散液を作ることが可能になり、ヘイズ、凝集物が良化す
るため好ましい。
重が70g/リットル以上の二酸化珪素微粒子は、例え
ば、気化させた四塩化珪素と水素を混合させたものを1
000〜1200℃にて空気中で燃焼させることで得る
ことができる。また例えばアエロジル200V、アエロ
ジルR972V(以上日本アエロジル(株)製)の商品
名で市販されており、それらを使用することができる。
酸化珪素微粒子を一定量メスシリンダーに採り、この時
の重さを測定し、下記式で算出した。 見掛比重(g/リットル)=二酸化珪素質量(g)÷二
酸化珪素の容積(リットル) 本発明に係る微粒子の分散液を調製する方法としては、
例えば以下に示すような3種類が挙げられる。
た後、分散機で分散を行う。これを微粒子分散液とす
る。微粒子分散液をドープ液に加えて攪拌する。
た後、分散機で分散を行う。これを微粒子分散液とす
る。この微粒子分散液とは別に、溶剤に少量のセルロー
ストリアセテートを加え、攪拌溶解する。これに前記微
粒子分散液を加えて攪拌する。これを微粒子添加液とす
る。微粒子添加液をインラインミキサーでドープ液と十
分混合する。
リアセテートを加え、攪拌溶解する。これに微粒子を加
えて分散機で分散を行う。これを微粒子添加液とする。
微粒子添加液をインラインミキサーでドープ液と十分混
合する。
優れ、調製方法Cは二酸化珪素微粒子が再凝集しにくい
点に優れている。調製方法Bは二酸化珪素微粒子の分散
性と、二酸化珪素微粒子が再凝集しにくい等、両方に優
れている好ましい調製方法である。
と混合して分散するときの二酸化珪素の濃度は5〜30
質量%が好ましく、10〜25質量%がさらに好まし
く、15〜20質量%が最も好ましい。分散濃度は高い
方が、添加量に対する液濁度は低くなる傾向があり、ヘ
イズ、凝集物が良化するため好ましい。
は、好ましくはメチルアルコール、エチルアルコール、
プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ブチル
アルコール等が挙げられる。低級アルコール以外の溶媒
としては特に限定されないが、セルロースエステルの製
膜時に用いられる溶剤を用いることが好ましい。
粒子の添加量はセルロースエステル100質量部に対し
て、二酸化珪素微粒子は0.01〜0.3質量部が好ま
しく、0.05〜0.2質量部がさらに好ましく、0.
08〜0.12質量部が最も好ましい。添加量は多い方
が、動摩擦係数に優れ、添加量が少ない方がヘイズが低
く、凝集物も少ない点が優れている。
機は大きく分けてメディア分散機とメディアレス分散機
に分けられる。二酸化珪素微粒子の分散にはメディアレ
ス分散機を使用するとフィルムヘイズが低くできるので
好ましい。
ドミル、ダイノミルなどがあげられる。メディアレス分
散機としては超音波型、遠心型、高圧型などがあるが、
本発明においては高圧分散装置が好ましい。高圧分散装
置は、微粒子と溶媒を混合した組成物を、細管中に高速
通過させることで、高剪断や高圧状態など特殊な条件を
作りだす装置である。高圧分散装置で処理する場合、例
えば、管径1〜2000μmの細管中で装置内部の最大
圧力条件が10MPa以上であることが好ましい。更に
好ましくは20MPa以上である。またその際、最高到
達速度が100m/秒以上に達するもの、熱流速が11
6.3W以上に達するものが好ましい。
fluidics Corporation社製超高圧
ホモジナイザ(商品名マイクロフルイダイザ)あるいは
ナノマイザ社製ナノマイザがあり、他にもマントンゴー
リン型高圧分散装置、例えばイズミフードマシナリ製ホ
モジナイザ、三和機械(株)社製UHN−01等が挙げ
られる。
ムの製造装置の一例を示したものである。図2は、本発
明で用いられる共流延ダイの断面図の1例を示した図で
ある。
プBがそれぞれコア層と表面層になるように準備されて
いる。また必要により添加液タンク2中には、添加剤を
含むドープA用の添加液及びドープB用の添加液が準備
されている。また、微粒子を含む添加液は微粒子用タン
ク15に準備されている。なお、微粒子は、添加剤を含
む添加液の中に混合しておいてもよい。両表面層の1つ
の層のみに微粒子を添加する場合は、微粒子を添加しな
い側の微粒子を含む添加液の送液ポンプを停止しておけ
ばよい。
り共流延ダイ5まで送液される。また、ドープA用添加
液及びドープB用添加液は定量ポンプ3によりそれぞれ
ドープAとドープBに合流され、それぞれのスタチック
ミキサー4で均一に混合される。また、微粒子を含む添
加液は、定量ポンプ3によりドープBに合流され、スタ
チックミキサー4で均一に混合される。
22を通り、また、所定量の添加剤あるいは微粒子を含
むドープBはスリット23を通り共流延ダイ5の中で層
状に積層され連続的に移動する流延ベルト7上にシート
状に流延される。流延された3層構成のドープ膜は、ベ
ルトが1周する間に剥離可能になるまで有機溶媒が蒸発
され剥離ロール8により流延ベルト7から剥離される。
金属ベルトあるいは回転する金属ドラム(以降、単に支
持体ということもある)などが使用できる。流延用支持
体の表面は鏡面が好ましい。流延膜が接地する際の両端
部(製品にならない部分)は、ドープ膜を支持体から剥
離し易くするために粗面化加工することが好ましい。共
流延ダイ5は、共流延が可能な構造であれば制限はな
く、例えばコートハンガーダイやTダイ等が好ましく用
いることができる。マルチマニホールドタイプダイでも
よいしフィードブロックタイプダイでもよい。
た以降のドープ膜の呼び方をウェブとする)を流延用支
持体上で加熱し支持体からウェブが剥離可能になるまで
溶媒を蒸発させるには、ウェブ側から風を吹かせる方法
及び/または支持体の裏面から液体により伝熱させる方
法、輻射熱により表裏から伝熱する方法等があるが、裏
面液体伝熱の方法が乾燥効率がよく好ましい。またそれ
らを組み合わせる方法も好ましい。
する時点でのウェブの残留溶媒量があまり大き過ぎると
剥離し難かったり、逆に支持体上で充分に乾燥させてか
ら剥離すると、途中でウェブの一部が剥がれたりする。
るだけ多いうちに剥離するため製膜速度を上げることが
出来る)として、残留溶媒が多くとも剥離出来るゲル流
延法(ゲルキャスティング)がある。それは、ドープ中
にセルロースエステルに対する貧溶媒を加えて、ドープ
流延後、ゲル化する方法、支持体の温度を低めてゲル化
する方法等がある。また、ドープ中に金属塩を加える方
法もある。支持体上でゲル化させ膜を強くすることによ
って、剥離を早め製膜速度を上げることが出来るのであ
る。残留溶媒量がより多い時点で剥離する場合、ウェブ
が柔らか過ぎると剥離時平面性を損なったり、剥離張力
によるツレや縦スジが発生し易く、経済速度と品質との
兼ね合いで剥離残留溶媒量を決められる。
際のウェブ温度を10〜40℃、好ましくは11〜30
℃とし、且つ該剥離位置におけるウェブの残留溶媒量を
10〜120質量%とした時点でウェブを剥離すること
が好ましい。ウェブの剥離時の残留溶媒量をこの範囲に
するには、流延後の流延用支持体の表面温度を制御し、
ウェブからの有機溶媒の蒸発を効率的に行えるように上
記温度範囲にする方法が好ましく用いることができる。
支持体温度を制御するには、伝熱効率のよい伝熱方法を
使用するのがよい。例えば、液体による裏面伝熱方法が
好ましい。ベルト(支持体)マシンにおいて、移送する
ベルトが下側に来た所の温度制御には、緩やかな風でベ
ルト温度を調節することが出来る。支持体の温度は、加
熱手段を分割することによって、部分的に支持体温度を
変えることが出来、流延用支持体の流延位置、乾燥部、
剥離位置等異なる温度とすることが出来る。
したウェブは必要により所望の残留溶媒量となるまで乾
燥機9により乾燥される。乾燥方法は例えばウェブを千
鳥状に配置したロールに交互に通して搬送する乾燥装置
またはクリップでウェブの両端をクリップして搬送する
テンター装置を用いて実施できる。これらを併用しても
よい。
るのが一般的であるが、風の代わりにマイクロウエーブ
を当てて加熱する手段もある。あまり急激な乾燥は出来
上がりのフィルムの平面性を損ね易い。高温による乾燥
は残留溶媒が8質量%以下くらいから行うのがよい。全
体を通して、通常乾燥温度は40〜250℃で、70〜
180℃が好ましい。使用する溶媒によって、乾燥温
度、乾燥風量及び乾燥時間が異なり、使用溶媒の種類、
組合せに応じて乾燥条件を適宜選べばよい。
では、溶媒の蒸発によってウェブは巾方向に収縮しよう
とする。高温度で急激に乾燥するほど収縮が大きくな
る。この収縮を可能な限り抑制しながら乾燥すること
が、出来上がったフィルムの平面性を良好にする上で好
ましい。この観点から、例えば、特開昭62−4662
5号公報に示されているような乾燥全工程あるいは一部
の工程を巾方向にクリップでウェブの巾両端を巾保持し
つつ乾燥させる方法(テンター方式)が好ましい。この
後、必要によりウェブの巾両端部をスリッター17で裁
ち落とし、延伸工程へ導入する。
られたセルロースエステルフィルムを延伸機10で少な
くとも1軸方向に1.1倍〜3.0倍延伸する、好まし
くは1.1〜2.0倍である。延伸倍率が小さすぎると
位相差フィルムとしてレタデーションが不十分な場合が
あり、延伸倍率が大きすぎるとフィルムの白濁が生じる
場合がある。
残留溶媒量を3質量%〜50質量%の範囲とすることで
層間剥離現象の発生しない透明性に優れる位相差フィル
ムを得ることができる。延伸方向は縦方向(流延方向)
でも横方向(流延方向と直角の方向、巾方向ともいう)
でもよい。
能であるが、乾燥と延伸を兼ねることが、工程を短くす
ることができるので好ましい。しかし、温度が高すぎる
と、可塑剤が揮散するので、室温(15℃)〜140℃
以下の範囲が好ましい。なお、この場合のように延伸と
乾燥を兼ねる場合、延伸終了時点での残留溶媒量は5〜
45質量%の範囲にあることが好ましい。更に10〜3
0質量%の範囲が好ましい。
ーと呼ばれる横延伸機を好ましく用いることができる。
つまりウェブの両端をクリップやピンで固定し、クリッ
プやピンの間隔を横方向に広げて横方向に延伸する方法
である。縦方向に延伸または収縮させるには、同時2軸
延伸機を用いて搬送方向(縦方向)にクリップやピンの
搬送方向の間隔を広げたりまたは縮めることで行うこと
ができる。リニアドライブ方式でクリップ部分を駆動す
ると滑らかに延伸を行うことができ、破断等の危険性が
減少できるので好ましい。
数のロールに周速差をつけ、その間でロール周速差を利
用して縦方向に延伸する方法も用いることができる。
できるし、縦延伸、横延伸、縦延伸または縦延伸、縦延
伸などのように、延伸工程を2段階以上に分けて行って
もよい。
ステルフィルムを少なくとも1軸方向に1.1倍〜3.
0倍延伸してもよい。
して延伸する方法である。この場合、延伸時のセルロー
スエステルフィルム中の残留溶媒量は10質量%以下が
好ましく、特に3質量%以下が好ましく、更に2質量%
以下が最も好ましい。
間の剥離現象の発生しない透明性に優れる位相差フィル
ムを得ることができる。延伸方向は縦方向(流延方向)
でも横方向(流延方向と直角の方向、巾方向ともいう)
でもよい。延伸する方法としては、前述した方法が好ま
しく用いられる。
エステルフィルムを延伸して得られた位相差フィルム1
3は、スリッター17により所定巾にスリットされて、
巻き取り機12を用いてロール状に巻き取られる。巻き
取り時のフィルム中の残留溶媒量は2質量%以下が好ま
しく、更に0.4質量%以下が好ましい。フィルム中の
残留溶媒量を少なくすることにより寸法安定性の良好な
フィルムを得ることができる。延伸後のフィルム中の残
留溶媒量が所望の範囲より多すぎる場合は、巻き取り工
程の前に乾燥機11を設けて再乾燥を行うことが好まし
い。巻き取りに際しては、エンボスリング18及びバッ
クロール19により、両端部にエンボス加工(ナーリン
グとも呼ばれることがある)を行うことが好ましい。エ
ンボスの高さ(エンボスの内部分とエンボス部の厚みの
差)は5μm〜30μmが好ましい。低すぎるとフィル
ム面同士が密着してフィルムの変形が生じる場合があ
る。高すぎるとエンボス近傍のフィルム変形が生じる場
合がある。これらのフィルム変形は塗布などの後加工の
際に欠陥となってしまうのである。エンボス加工の方法
は例えばポリエステルフィルムなどの熱可塑性樹脂フィ
ルムに対して行っている公知の方法を好ましく用いるこ
とができる。特にフィルムの裏面を変形させることなく
片側の表面にのみエンボス加工が施されることが好まし
い。このようなエンボス加工の方法としては、フィルム
を構成する樹脂の融点近傍(非晶性樹脂の場合は軟化温
度近傍)に加熱されたエンボスリングを金属やゴム、セ
ラミック等の表面を有するバックロール19上でフィル
ム面に押し当てる加工方法が好ましい。
のを用いればよく、定トルク法、定テンション法、テー
パーテンション法、内部応力一定のプログラムテンショ
ンコントロール法等があり、それらを使いわければよ
い。
110℃で3時間乾燥させた時の質量である。
伸前の両端部の裁ち落とし部分、横延伸後にクリップ把
持部分の裁ち落とし部分、製品巾への裁ち落とし部分、
位相差フィルムの欠陥発生部分などは製品として使用で
きない。これらは粉砕され再度セルロースエステルの材
料として用いることができる。
製されたセルロースエステルフィルムの破砕品を再びド
ープAのセルロースエステル材料として使用することに
より層間の剥離現象を抑制できるので好ましい。破砕品
の含有量はコア層を構成する全セルロースエステルに対
して5〜50質量%であることが好ましい。
ば、ホーライ(株)製のBOシリーズオープンフラット
カッター、ホーライ(株)製シートペレタイザー、イタ
リアEXACT社製グラニュレーターなどにより破砕処
理し、目開き1mm〜10mmの篩を用いてチップ状や
ペレット状等の破砕品を得ることができる。
用目的によって異なるが、仕上がりフィルムとして、通
常20〜200μmの範囲が好ましく、更に30〜15
0μmの範囲が好ましく、特に40〜120μmの範囲
が好ましい。薄すぎるとフィルムの腰が弱くハンドリン
グ性に劣る場合がある。厚すぎると表示装置が厚くなり
例えば、携帯性が損なわれる場合がある。膜厚の調節に
は、所望の厚さになるように、ドープ濃度、ポンプの送
液量、ダイの口金のスリット間隙、ダイの押し出し圧
力、流延用支持体の速度等をコントロールするのがよ
い。また、膜厚を均一にする手段として、膜厚検出手段
を用いて、プログラムされたフィードバック情報を上記
各装置にフィードバックさせて調節するのが好ましい。
ブリードアウト抑制の点から表面層が1〜20μm、好
ましくは2〜10μmが好ましい。
乾燥までの工程において、乾燥装置内の雰囲気を、空気
とするのもよいが、窒素ガス、炭酸ガスやアルゴンガス
等の不活性ガス雰囲気で行ってもよい。乾燥雰囲気中の
蒸発溶媒の爆発限界の危険性は常に考慮されなければな
らないことは勿論のことである。
は、フィルムの遅相軸方向(フィルム面内での屈折率の
最大方向)が、巻き取り方向またはその直角方向(フィ
ルムの巾方向)に対して±10度の範囲にあることが好
ましく、更に±5度の範囲にあることが好ましく、特に
±1度の範囲にあることが良好な視野角特性を得るため
に好ましい。
ばらつきは面内レタデーションRo、厚み方向レタデー
ションRtともに±10nmの範囲が好ましく±5nm
の範囲が更に好ましい。もちろんばらつきがないことが
理想である。位相差フィルムのレタデーションのコント
ロールは、延伸条件を適宜選択することで得ることがで
きる。
700nmの範囲で、長波長ほど大きい位相差を示す。
この様な特性は、位相差フィルムを波長板としてもちい
た時に好ましい特性である。すなわち可視光の全ての波
長に対してできる限り同じ位相差をもつことが好ましい
からで、特に四分の一波長板として用いる場合、波長4
50nm、590nm、650nmでの位相差をそれぞ
れR450、R590、R650としたとき、 0.5<R450/R590<1.0 1.0<R650/R590<1.5 の範囲にあることが、直線偏光を円偏光にする機能に優
れるので好ましい。
として用いる場合は、R590は、137.5nm±1
0nmが好ましく、更に137.5nm±5nmである
ことが好ましい。この範囲とすることで、良好な四分の
一波長板の機能が得られる。
の少なくとも片面に張り合わせることにより複合偏光板
とすることができる。位相差フィルムが波長板の場合偏
光フィルムの吸収軸と位相差フィルムのフィルム面内で
の屈折率の最大方向(遅相軸)を45度±5度になるよ
うに積層することで良好な楕円偏光板が得られる。波長
板が四分一波長板の場合、円偏光板となる。
み合わせる液晶セルのタイプによりその好ましい範囲が
ある。例えばTNタイプの液晶セルと組み合わせる場
合、面内のレタデーションRoは20nm〜100nm
が好ましく、更に30nm〜75nmが好ましい。厚み
方向のレタデーションRtは100nm〜400nmが
好ましく、更に110nm〜200nmが好ましい。フ
ィルムのレタデーション値をこの範囲とすることで視野
角特性に優れた位相差フィルムが得られる。
内の屈折率の最大方向と偏光フィルムの吸収軸のなす角
度は平行または直交するように積層することが好まし
い。両者のなす角度のばらつきの範囲は少ない方が好ま
しいのは言うまでもないが、±5度以内であれば実用上
問題のない範囲である。
絶対値で、60×10-8cm2/N以下が好ましく、更
に20×10-8cm2/N以下が好ましい。光弾性係数
はエリプソメーターで求めた値である。また、フィルム
のガラス転移温度は、120℃以上が好ましく、更に1
40℃以上が好ましい。ガラス転移温度は、示差走査型
熱量計(DSC)を用いて昇温速度10℃/分で測定し
たときにフィルムのガラス転移に由来するベースライン
が変化しはじめる温度と再びベースラインに戻る温度と
の平均値として求めたものである。位相差フィルムは携
帯端末やカーナビゲーションなどの表示装置を構成する
部品として屋外で使用される機会が多く、耐熱性が要求
される。位相差フィルムの特性が上記の範囲にあること
により視野角の劣化がなく、表示が着色しない良好な表
示装置が得られるのである。
や他の位相差フィルムを少なくとも片面に積層してもよ
い。これにより高度に位相差をコントロールでき、視野
角が高度に向上できる。
ることが出来、例えば、ポリビニルアルコールフィルム
の如きの親水性ポリマーフィルムを、沃素のような二色
性染料で処理して延伸したものである。偏光フィルム
は、それ単体では、十分耐久性がないので、一般には、
その両面に保護フィルムとしてセルローストリアセテー
トフィルムを接着してある。
付の偏光フィルムと貼り合わせてもよいし、本発明の位
相差フィルムを保護フィルムを兼ねて直接偏光フィルム
と張り合わせてもよい。特に本発明の位相差フィルムは
その表面を鹸化処理することにより、従来から使用され
ているような水溶性ポリマーの水溶液からなる接着剤を
用いて偏光フィルムと貼り合わせることができる。この
水溶性ポリマー接着剤は完全鹸化型のポリビニルアルコ
ール水溶液が好ましく用いられる。
々の表示装置に使用出来る。表示装置としては、液晶表
示装置、有機電解発光素子、プラズマディスプレー等が
あり、例えば、一枚偏光板反射型液晶表示装置の場合、
その構成は、表側から、偏光板保護フィルム/偏光子/
本発明の位相差フィルム/ガラス基盤/ITO透明電極
/配向膜/TN型液晶/配向膜/金属電極兼反射膜/ガ
ラス基板である。従来の場合、偏光板保護フィルム/偏
光子/偏光板保護フィルム/位相差板/ガラス基盤/I
TO透明電極/配向膜/TN型液晶/配向膜/金属電極
兼反射膜/ガラス基板の構成となる。従来の構成では、
位相差板の波長に対する位相差特性が不十分であるため
着色が見られるが、本発明の位相差フィルムを用いるこ
とで着色のない良好な液晶表示装置が得られる。また、
コレステリック液晶からなる反射型偏光素子の場合は、
バックライト/コレステリック液晶層/本発明の位相差
フィルム/偏光子/偏光板保護フィルムの構成で用いる
ことができる。
波長板として用いた偏光板の場合、自然偏光を円偏光に
変換できる円偏光板となる。これは、プラズマディスプ
レーや有機ELディスプレー等の前面板に設置すること
で反射防止フィルムや防眩フィルムとして働き、着色や
視認性の劣化を防止できる。また、タッチパネルの反射
防止にも使用できる。
れ、例えばジャパニーズ・ジャーナル・オブ・アプライ
ドフィジックス第25巻773項(1986年)等で紹
介されているものである。その構成は、例えば、透明基
盤/陽極/有機発光層/陰極、または透明基盤/陽極/
正孔注入輸送層/電子注入輸送発光層/陰極、または透
明基盤/陽極/正孔注入輸送層/電子注入輸送層/陰
極、または透明基盤/陽極/正孔注入輸送層/有機発光
層/電子注入輸送層/陰極などの順で構成されている。
この構成では、外部からの光が透明基盤側から入り、陰
極表面で反射した光が写ってしまい視認性が悪い。とこ
ろが、透明基盤の表面に円偏光板を設けることで、陰極
表面での反射光を遮断できるので視認性に優れたディス
プレイとなるのである。
るが、本発明の態様はこれに限定されるものではない。
法で行った。 〈セルロースエステルの数平均分子量〉ゲルパーミエー
ションクロマトグラフィー(GPC)により下記条件で
測定する。 溶媒:メチレンクロライド カラム:Shodex K806、K805、K803
G(昭和電工(株)製)3本接続使用 カラム温度:25℃ 試料濃度:0.1質量% 検出器:RI Model 504(GLサイエンス社
製) ポンプ:L6000(日立製作所(株)製) 流量:1.0ml/分 標準試料:ポリスチレンSTK standard
(東ソー(株)製)(Mw=1,000,000〜50
0迄の13サンプルによる校正曲線を使用)。
タデーションRo、厚み方向のレタデーションRt〉フ
ィルムの巾方向に50mm間隔で測定用サンプルを切り
出し、以下のように測定を行い平均値で表した。それぞ
れの特性値のむらは、最大最小の差で表した。
(王子計測機器(株)製)を用いて23℃55%RHの
雰囲気下で590nmの波長において3次元屈折率測定
を行い、遅相軸の横方向とのなす角度および遅相軸方向
の屈折率Nx、進相軸方向の屈折率Ny、厚み方向の屈
折率Nzを求める。面内方向のレタデーション(Ro)
および厚み方向のレタデーション(Rt)を下記式から
算出した。なお、式中dはフィルムの厚み(nm)であ
る。
0/R590〉自動複屈折率計KOBRA−21ADH
(王子計測機器(株)製)を用いて23℃55%RHの
雰囲気下で波長分散測定を行い求めた。
で、積層フィルムの表面に片刃で1mm間隔で縦横に1
1本ずつ傷を升目状につけ、市販のセロファンテープを
貼り付けた後、垂直方向に一気に引き剥がして剥離試験
を行い、下記基準でランク付けした。ランク△もしくは
○であれば実用上問題ないレベルである。 ランク 試験結果 ○ 剥離なし △ 升目の10%未満の剥離あり × 升目の10%以上の剥離あり。
4によりフィルムヘイズを測定して透明性の評価とし
た。光学フィルムの実用性から1.5%以下であること
が好ましい。
られた位相差フィルムの表面に市販のハードコート剤
(商品名「ダイヤビーム」)をディップコート法で塗布
し、塗設面のハジキ状の欠陥の有無を観察した。ハジキ
状欠陥が発生している場合を×、発生のない場合を○と
した。
目を切り、粘着テープで剥離試験を行った。剥離があっ
た場合を×、剥離がない場合を○とした。
子量150000のセルロースアセテート100質量
部、トリフェニルフォスフェイト8質量部、エチルフタ
リルエチルグリコレート2質量部、2−(2′−ヒドロ
キシ−3,5′−ジ−t−ブチルフェニル)−5−クロ
ロベンゾトリアゾール2質量部、2−ヒドロキシ−4−
ベンジロキシベンゾフェノン2質量部、塩化メチレン3
00質量部、エタノール26質量部を加圧密閉容器に投
入し、80℃に加温して容器内圧力を2気圧とし、撹拌
しながらセルロースエステルを完全に溶解させドープを
得た。溶液を安積濾紙(株)製の安積濾紙No.244
を使用して濾過した後、ドープを35℃まで下げて一晩
静置して、ドープ中の脱泡を行った。
5、数平均分子量150000のセルロースアセテート
100質量部、塩化メチレン400質量部、エタノール
80質量部を加圧密閉容器に投入し、80℃に加温して
容器内圧力を2気圧とし、撹拌しながらセルロースエス
テルを完全に溶解させドープを得た。溶液を安積濾紙
(株)製の安積濾紙No.244を使用して濾過した
後、ドープを35℃まで下げて一晩静置して、ドープ中
の脱泡を行った。
す共流延ダイ5からステンレスベルト上に流延し3層構
成のドープ膜(以後の実施例2〜9及び比較例1〜4も
同様)とした。ステンレスベルトの裏面から温水を接触
させて35℃に温度制御されたステンレスベルト上で1
分間乾燥した後、更にステンレスベルトの裏面に、15
℃の冷水を接触させて10秒間保持した後、ステンレス
ベルトから生乾きのフィルムを剥離した。なお、ステン
レスベルトの表面からは60℃の温風を搬送方向と平行
に流した。剥離時のフィルム中の残留溶媒量は100質
量%であった。
回しながら搬送するとともに60℃で乾燥し、テンター
直前でのフィルム中の残留溶媒量を30質量%とした。
次いでテンタークリップで両端を把持させながら100
℃で横方向(巾方向)に1.5倍延伸した。次いで巾を
保持したまま120℃で10分間搬送しながら乾燥させ
た。この時フィルム巾が3%収縮するようにテンターク
リップ巾を調節した。更にロール搬送させながら110
℃で20分間乾燥し、両表面層5μm、コア層60μ
m、トータル膜厚70μmのセルロースエステルフィル
ム(位相差フィルム)を得た。最終的なフィルム残留溶
媒量は0.2質量%であった。
テンレスベルト上に流延した。ステンレスベルトの裏面
から温水を接触させて35℃に温度制御されたステンレ
スベルト上で1分間乾燥した後、更にステンレスベルト
の裏面に、15℃の冷水を接触させて10秒間保持した
後、ステンレスベルトから生乾きのフィルムを剥離し
た。なお、ステンレスベルトの表面からは60℃の温風
を搬送方向と平行に流した。剥離時のフィルム中の残留
溶媒量は100質量%であった。
回しながら搬送するとともに60℃で乾燥し、次いで1
00℃で10分乾燥し、次に120℃で20分間搬送し
ながら乾燥させた。この時のフィルム中の残留溶媒量は
1.0質量%であった。更にロール延伸機により縦方向
(流延方向)に160℃で1.6倍延伸した。この時巾
方向に延伸前の巾に対して10%収縮した。
ル膜厚70μmのセルロースエステルフィルム(位相差
フィルム)を得た。最終的なフィルム残留溶媒量は0.
05質量%であった。
量部、エタノール90質量部をディゾルバで30分間攪
拌混合した。次いでマントンゴーリンで分散し、酸化ケ
イ素分散液を得た。得られた酸化ケイ素分散液10質量
部、アセチル基の置換度2.65、数平均分子量150
000のセルロースアセテート6質量部、塩化メチレン
140質量部を攪拌しながら混合し、ドープB用添加液
を調製した。
イからステンレスベルト上に流延した。この時上記ドー
プB用添加液をドープBに対する流量比で0.02とな
るように合流させた。
せて35℃に温度制御されたステンレスベルト上で1分
間乾燥した後、更にステンレスベルトの裏面に、15℃
の冷水を接触させて10秒間保持した後、ステンレスベ
ルトから生乾きのフィルムを剥離した。なお、ステンレ
スベルトの表面からは60℃の温風を搬送方向と平行に
流した。剥離時のフィルム中の残留溶媒量は100質量
%であった。
回しながら搬送するとともに60℃で乾燥し、テンター
直前でのフィルム中の残留溶媒量を30質量%とした。
次いでテンタークリップで両端を把持させながら100
℃で横方向(巾方向)に1.5倍延伸した。次いで巾を
保持したまま120℃で10分間搬送しながら乾燥させ
た。この時フィルム巾が3%収縮するようにテンターク
リップ巾を調節した。更にロール搬送させながら110
℃で20分間乾燥し、両表面層5μm、コア層60μ
m、トータル膜厚70μmのセルロースエステルフィル
ム(位相差フィルム)を得た。最終的なフィルム残留溶
媒量は0.2質量%であった。
量部、エタノール90質量部をディゾルバで30分間攪
拌混合した。次いでマントンゴーリンで分散し、酸化ケ
イ素分散液を得た。得られた酸化ケイ素分散液10質量
部、アセチル基の置換度2.65、数平均分子量150
000のセルロースアセテート6質量部、塩化メチレン
140質量部を攪拌しながら混合し、ドープB用添加液
を調製した。
イからステンレスベルト上に流延した。この時上記ドー
プB用添加液をドープBに対する流量比で0.02とな
るように合流させた。
せて35℃に温度制御されたステンレスベルト上で1分
間乾燥した後、更にステンレスベルトの裏面に、15℃
の冷水を接触させて10秒間保持した後、ステンレスベ
ルトから生乾きのフィルムを剥離した。なお、ステンレ
スベルトの表面からは60℃の温風を搬送方向と平行に
流した。剥離時のフィルム中の残留溶媒量は100質量
%であった。
回しながら搬送するとともに60℃で乾燥し、次いで1
00℃で10分乾燥し、次に120℃で20分間搬送し
ながら乾燥させた。この時のフィルム中の残留溶媒量は
1.0質量%であった。更にロール延伸機により縦方向
(流延方向)に160℃で1.6倍延伸した。この時巾
方向に延伸前の巾に対して10%収縮した。
ル膜厚70μmのセルロースエステルフィルム(位相差
フィルム)を得た。最終的なフィルム残留溶媒量は0.
05質量%であった。
テンレスベルト上に流延した。ステンレスベルトの裏面
から温水を接触させて35℃に温度制御されたステンレ
スベルト上で1分間乾燥した後、更にステンレスベルト
の裏面に、15℃の冷水を接触させて10秒間保持した
後、ステンレスベルトから生乾きのフィルムを剥離し
た。なお、ステンレスベルトの表面からは80℃の温風
を搬送方向と平行に流した。剥離時のフィルム中の残留
溶媒量は40質量%であった。
回しながら搬送するとともに80℃で乾燥し、テンター
直前でのフィルム中の残留溶媒量を2.5質量%とし
た。次いでテンタークリップで両端を把持させながら1
30℃で横方向(巾方向)に1.5倍延伸した。次いで
巾を保持したまま120℃で10分間搬送しながら乾燥
させた。この時フィルム巾が3%収縮するようにテンタ
ークリップ巾を調節した。更にロール搬送させながら1
10℃で20分間乾燥し、両表面層5μm、コア層60
μm、トータル膜厚70μmのセルロースエステルフィ
ルム(位相差フィルム)を得た。最終的なフィルム残留
溶媒量は0.1質量%であった。
テンレスベルト上に流延した。ステンレスベルトの裏面
から温水を接触させて35℃に温度制御されたステンレ
スベルト上で1分間乾燥した後、更にステンレスベルト
の裏面に、15℃の冷水を接触させて10秒間保持した
後、ステンレスベルトから生乾きのフィルムを剥離し
た。なお、ステンレスベルトの表面からは40℃の温風
を搬送方向と平行に流した。剥離時のフィルム中の残留
溶媒量は120質量%であった。
回しながら搬送するとともに40℃で乾燥し、テンター
直前でのフィルム中の残留溶媒量を60質量%とした。
次いでテンタークリップで両端を把持させながら60℃
で横方向(巾方向)に1.5倍延伸した。次いで巾を保
持したまま120℃で10分間搬送しながら乾燥させ
た。この時フィルム巾が3%収縮するようにテンターク
リップ巾を調節した。更にロール搬送させながら110
℃で20分間乾燥し、両表面層5μm、コア層60μ
m、トータル膜厚70μmのセルロースエステルフィル
ム(位相差フィルム)を得た。最終的なフィルム残留溶
媒量は0.7質量%であった。
量部、エタノール90質量部をディゾルバで30分間攪
拌混合した。次いでマントンゴーリンで分散し、酸化ケ
イ素分散液を得た。得られた酸化ケイ素分散液10質量
部、アセチル基の置換度2.65、数平均分子量150
000のセルロースアセテート6質量部、塩化メチレン
140質量部を攪拌しながら混合し、ドープB用添加液
を調製した。
イからステンレスベルト上に流延した。この時上記ドー
プB用添加液をドープBに対する流量比で0.02とな
るように合流させた。
せて35℃に温度制御されたステンレスベルト上で1分
間乾燥した後、更にステンレスベルトの裏面に、15℃
の冷水を接触させて10秒間保持した後、ステンレスベ
ルトから生乾きのフィルムを剥離した。なお、ステンレ
スベルトの表面からは80℃の温風を搬送方向と平行に
流した。剥離時のフィルム中の残留溶媒量は40質量%
であった。
回しながら搬送するとともに80℃で乾燥し、テンター
直前でのフィルム中の残留溶媒量を2.0質量%とし
た。次いでテンタークリップで両端を把持させながら1
35℃で横方向(巾方向)に1.5倍延伸した。次いで
巾を保持したまま120℃で10分間搬送しながら乾燥
させた。この時フィルム巾が3%収縮するようにテンタ
ークリップ巾を調節した。更にロール搬送させながら1
10℃で20分間乾燥し、両表面層5μm、コア層60
μm、トータル膜厚70μmのセルロースエステルフィ
ルム(位相差フィルム)を得た。最終的なフィルム残留
溶媒量は0.1質量%であった。
量部、エタノール90質量部をディゾルバで30分間攪
拌混合した。次いでマントンゴーリンで分散し、酸化ケ
イ素分散液を得た。得られた酸化ケイ素分散液10質量
部、アセチル基の置換度2.65、数平均分子量150
000のセルロースアセテート6質量部、塩化メチレン
140質量部を攪拌しながら混合し、ドープB用添加液
を調製した。
イからステンレスベルト上に流延した。この時上記ドー
プB用添加液をドープBに対する流量比で0.02とな
るように合流させた。
せて35℃に温度制御されたステンレスベルト上で1分
間乾燥した後、更にステンレスベルトの裏面に、15℃
の冷水を接触させて10秒間保持した後、ステンレスベ
ルトから生乾きのフィルムを剥離した。なお、ステンレ
スベルトの表面からは40℃の温風を搬送方向と平行に
流した。剥離時のフィルム中の残留溶媒量は120質量
%であった。
回しながら搬送するとともに40℃で乾燥し、テンター
直前でのフィルム中の残留溶媒量を60質量%とした。
次いでテンタークリップで両端を把持させながら60℃
で横方向(巾方向)に1.5倍延伸した。次いで巾を保
持したまま120℃で10分間搬送しながら乾燥させ
た。この時フィルム巾が3%収縮するようにテンターク
リップ巾を調節した。更にロール搬送させながら110
℃で20分間乾燥し、両表面層5μm、コア層60μ
m、トータル膜厚70μmのセルロースエステルフィル
ム(位相差フィルム)を得た。最終的なフィルム残留溶
媒量は0.7質量%であった。
ニル基の置換度0.7、数平均分子量75000のセル
ロースアセテートプロピオネート100質量部、トリフ
ェニルフォスフェイト8質量部、エチルフタリルエチル
グリコレート2質量部、2−(2′−ヒドロキシ−3,
5′−ジ−t−ブチルフェニル)−5−クロロベンゾト
リアゾール2質量部、2−ヒドロキシ−4−ベンジロキ
シベンゾフェノン2質量部、酢酸メチル260質量部、
エタノール65量部を加圧密閉容器に投入し、80℃に
加温して容器内圧力を2気圧とし、撹拌しながらセルロ
ースエステルを完全に溶解させドープを得た。溶液を安
積濾紙(株)製の安積濾紙No.244を使用して濾過
した後、ドープを55℃まで下げて一晩静置して、ドー
プ中の脱泡を行った。
5、プロピオニル基の置換度0.7、数平均分子量75
000のセルロースアセテートプロピオネート100質
量部、酢酸メチル234質量部、エタノール156質量
部を加圧密閉容器に投入し、80℃に加温して容器内圧
力を2気圧とし、撹拌しながらセルロースエステルを完
全に溶解させドープを得た。溶液を安積濾紙(株)製の
安積濾紙No.244を使用して濾過した後、ドープを
55℃まで下げて一晩静置して、ドープ中の脱泡を行っ
た。
(株)製)10質量部、エタノール90質量部をディゾ
ルバで30分間攪拌混合した。次いでマントンゴーリン
で分散し、酸化ケイ素分散液を得た。得られた酸化ケイ
素分散液10質量部、上記のセルロースアセテートプロ
ピオネート6質量部、酢酸メチル140質量部を攪拌し
ながら混合し、ドープB用添加液を調製した。
からステンレスベルト上に流延した。この時上記ドープ
B用添加液をドープBに対する流量比で0.02となる
ように合流させた。
せて55℃に温度制御されたステンレスベルト上で1分
間乾燥した後、更にステンレスベルトの裏面に、15℃
の冷水を接触させて10秒間保持した後、ステンレスベ
ルトから生乾きのフィルムを剥離した。なお、ステンレ
スベルトの表面からは70℃の温風を搬送方向と平行に
流した。剥離時のフィルム中の残留溶媒量は70質量%
であった。
回しながら搬送するとともに80℃で乾燥し、テンター
直前でのフィルム中の残留溶媒量を30質量%とした。
次いでテンタークリップで両端を把持させながら100
℃で横方向(巾方向)に1.5倍延伸した。次いで巾を
保持したまま120℃で10分間搬送しながら乾燥させ
た。この時フィルム巾が3%収縮するようにテンターク
リップ巾を調節した。更にロール搬送させながら110
℃で20分間乾燥し、両表面層5μm、コア層60μ
m、トータル膜厚70μmのセルロースエステルフィル
ム(位相差フィルム)を得た。最終的なフィルム残留溶
媒量は0.2質量%であった。
差フィルム)をホーライ(株)製のシートペレタイザー
により4mm角のチップ状に破砕した。
セチル基の置換度2.65、数平均分子量150000
のセルロースアセテート70質量部、トリフェニルフォ
スフェイト8質量部、エチルフタリルエチルグリコレー
ト2質量部、2−(2’−ヒドロキシ−3,5’−ジ−
t−ブチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール
2質量部、2−ヒドロキシ−4−ベンジロキシベンゾフ
ェノン2質量部、塩化メチレン300質量部、エタノー
ル26量部を加圧密閉容器に投入し、80℃に加温して
容器内圧力を2気圧とし、撹拌しながらセルロースエス
テルを完全に溶解させドープを得た。溶液を安積濾紙
(株)製の安積濾紙No.244を使用して濾過した
後、ドープを35℃まで下げて一晩静置して、ドープ中
の脱泡を行った。
製した。アエロジル200V(日本アエロジル(株)
製)10質量部、エタノール90質量部をディゾルバで
30分間攪拌混合した。次いでマントンゴーリンで分散
し、酸化ケイ素分散液を得た。得られた酸化ケイ素分散
液10質量部、アセチル基の置換度2.65、数平均分
子量150000のセルロースアセテート6質量部、塩
化メチレン140質量部を攪拌しながら混合した。
例1のドープBを共流延ダイからステンレスベルト上に
流延した。この時上記ドープB用添加液をドープBに対
する流量比で0.02となるように合流させた。
せて35℃に温度制御されたステンレスベルト上で1分
間乾燥した後、更にステンレスベルトの裏面に、15℃
の冷水を接触させて10秒間保持した後、ステンレスベ
ルトから生乾きのフィルムを剥離した。なお、ステンレ
スベルトの表面からは60℃の温風を搬送方向と平行に
流した。剥離時のフィルム中の残留溶媒量は100質量
%であった。
回しながら搬送するとともに60℃で乾燥し、テンター
直前でのフィルム中の残留溶媒量を30質量%とした。
次いでテンタークリップで両端を把持させながら100
℃で横方向(巾方向)に1.5倍延伸した。次いで巾を
保持したまま120℃で10分間搬送しながら乾燥させ
た。この時フィルム巾が3%収縮するようにテンターク
リップ巾を調節した。更にロール搬送させながら110
℃で20分間乾燥し、両表面層5μm、コア層60μ
m、トータル膜厚70μmのセルロースエステルフィル
ム(位相差フィルム)を得た。最終的なフィルム残留溶
媒量は0.2質量%であった。
量部、エタノール90質量部をディゾルバで30分間攪
拌混合した。次いでマントンゴーリンで分散し、酸化ケ
イ素分散液を得た。得られた酸化ケイ素分散液10質量
部、アセチル基の置換度2.65、数平均分子量150
000のセルロースアセテート6質量部、塩化メチレン
140質量部を攪拌しながら混合し、ドープB用添加液
を調製した。
イからステンレスベルト上に流延した。この時上記ドー
プB用添加液を片側の表面層のみにドープBに対する流
量比で0.02となるように合流させた。
せて35℃に温度制御されたステンレスベルト上で1分
間乾燥した後、更にステンレスベルトの裏面に、15℃
の冷水を接触させて10秒間保持した後、ステンレスベ
ルトから生乾きのフィルムを剥離した。なお、ステンレ
スベルトの表面からは60℃の温風を搬送方向と平行に
流した。剥離時のフィルム中の残留溶媒量は100質量
%であった。
回しながら搬送するとともに60℃で乾燥し、テンター
直前でのフィルム中の残留溶媒量を30質量%とした。
次いでテンタークリップで両端を把持させながら100
℃で横方向(巾方向)に1.5倍延伸した。次いで巾を
保持したまま120℃で10分間搬送しながら乾燥させ
た。この時フィルム巾が3%収縮するようにテンターク
リップ巾を調節した。更にロール搬送させながら110
℃で20分間乾燥し、両表面層5μm、コア層60μ
m、トータル膜厚70μmのセルロースエステルフィル
ム(位相差フィルム)を得た。最終的なフィルム残留溶
媒量は0.2質量%であった。
量部、エタノール90質量部をディゾルバで30分間攪
拌混合した。次いでマントンゴーリンで分散し、酸化ケ
イ素分散液を得た。得られた酸化ケイ素分散液10質量
部、アセチル基の置換度2.65、数平均分子量150
000のセルロースアセテート6質量部、塩化メチレン
140質量部を攪拌しながら混合し、ドープB用添加液
を調製した。
イからステンレスベルト上に流延した。この時上記ドー
プB用添加液を片側の表面層のみにドープBに対する流
量比で0.02となるように合流させた。
せて35℃に温度制御されたステンレスベルト上で1分
間乾燥した後、更にステンレスベルトの裏面に、15℃
の冷水を接触させて10秒間保持した後、ステンレスベ
ルトから生乾きのフィルムを剥離した。なお、ステンレ
スベルトの表面からは60℃の温風を搬送方向と平行に
流した。剥離時のフィルム中の残留溶媒量は100質量
%であった。
回しながら搬送するとともに60℃で乾燥し、次いで1
00℃で10分乾燥し、次に120℃で20分間搬送し
ながら乾燥させた。この時のフィルム中の残留溶媒量は
1.0質量%であった。更にロール延伸機により縦方向
(流延方向)に160℃で1.6倍延伸した。この時巾
方向に延伸前の巾に対して10%収縮した。
ル膜厚70μmのセルロースエステルフィルム(位相差
フィルム)を得た。最終的なフィルム残留溶媒量は0.
05質量%であった。
量部、エタノール90質量部をディゾルバで30分間攪
拌混合した。次いでマントンゴーリンで分散し、酸化ケ
イ素分散液を得た。得られた酸化ケイ素分散液10質量
部、ポリカーボネイト6質量部、塩化メチレン140質
量部を攪拌しながら混合し、ドープB用添加液を調製し
た。
−ヒドロキシ−3,5’−ジ−t−ブチルフェニル)−
5−クロロベンゾトリアゾール0.2質量部、2−ヒド
ロキシ−4−ベンジロキシベンゾフェノン0.2質量
部、塩化メチレン80質量部からなるドープA及びポリ
カーボネイト20質量部、塩化メチレン80質量部から
なるドープBを共流延ダイからステンレスベルト上に流
延した。この時上記ドープB用添加液をドープBに対す
る流量比で0.02となるように合流させた。
せて35℃に温度制御されたステンレスベルト上で1分
間乾燥した後、更にステンレスベルトの裏面に、15℃
の冷水を接触させて10秒間保持した後、ステンレスベ
ルトから生乾きのフィルムを剥離した。なお、ステンレ
スベルトの表面からは60℃の温風を搬送方向と平行に
流した。剥離時のフィルム中の残留溶媒量は100質量
%であった。
回しながら搬送するとともに60℃で乾燥し、次いで1
00℃で10分乾燥し、次に120℃で20分間搬送し
ながら乾燥させた。この時のフィルム中の残留溶媒量は
1.0質量%であった。更にロール延伸機により縦方向
(流延方向)に160℃で1.6倍延伸した。この時巾
方向に延伸前の巾に対して10%収縮した。
ル膜厚70μmの位相差フィルムを得た。最終的なフィ
ルム残留溶媒量は0.05質量%であった。
ロースエステルを用いた本発明の製造方法によれば正の
波長分散特性を有しており、添加剤のブリードアウトが
ないので塗布のハジキ状欠陥がなく剥離試験でも塗布膜
の剥離の発生は認められないという特性を持ちながら、
更に、位相差フィルムにおける層間剥離が改良されてお
り、フィルムのヘイズが小さく透明性の良好な位相差フ
ィルムが得られることが分かる。また、ポリカーボネイ
トにおいても本発明の効果が得られることが分かる。
1質量部、ホウ酸4質量部を含む水溶液100質量部に
浸漬し、50℃で4倍に延伸して偏光フィルムを作っ
た。この偏光フィルムの片面に鹸化処理した80μmの
セルローストリアセテートフィルム(コニカタック)を
完全鹸化型ポリビニルアルコール5%水溶液を接着剤と
して用いて貼り合わせ保護フィルム付の偏光フィルムを
作製した。
保護フィルムのない面に、実施例1で得られた位相差フ
ィルム(60℃、2mol/lの濃度の水酸化ナトリウ
ム水溶液中に2分間浸漬し水洗した後、100℃で10
分間乾燥し、アルカリ鹸化処理したもの)を完全鹸化型
ポリビニルアルコール5%水溶液を接着剤として用いて
貼り合わせ複合偏光板を作製した。なお、位相差フィル
ムの遅相軸と偏光フィルムの偏光軸とのなす角度は、平
行になるように貼り合わせた。
1質量部、ホウ酸4質量部を含む水溶液100質量部に
浸漬し、50℃で4倍に延伸して偏光フィルムを作っ
た。この偏光フィルムの片面に鹸化処理した80μmの
セルローストリアセテートフィルム(コニカタック)を
完全鹸化型ポリビニルアルコール5%水溶液を接着剤と
して用いて貼り合わせ保護フィルム付の偏光フィルムを
作製した。
保護フィルムのない面に、実施例4で得られた位相差フ
ィルム(60℃、2mol/lの濃度の水酸化ナトリウ
ム水溶液中に2分間浸漬し水洗した後、100℃で10
分間乾燥し、アルカリ鹸化処理したもの)を完全鹸化型
ポリビニルアルコール5%水溶液を接着剤として用いて
貼り合わせ複合偏光板を作製した。なお、位相差フィル
ムの遅相軸と偏光フィルムの吸収軸とのなす角度は、4
5度になるように貼り合わせた。
位相差フィルムの面が内側になるようにして上記複合偏
光板/市販の直線偏光板/バックライトの構成とし、市
販の直線偏光板を回転させ、クロスニコルの状態で観察
した。位相差フィルムにレタデーションや遅相軸のむら
がなければ均一な暗視野が得られることになる。
フィルムは、いずれも均一な暗視野が得られ、位相差フ
ィルムとして十分な光学的均一性があることが分かっ
た。
が少なく、かつ層間の剥離現象がなく、しかも滑り性が
良好で透明性に優れた位相差フィルムとその製造方法を
提供することができた。
ある。
Claims (26)
- 【請求項1】 樹脂と添加剤と有機溶媒とを含むドープ
Aと、添加剤を含まないか添加剤の含有量がドープAよ
り少ない樹脂と添加剤と有機溶媒とを含むドープBを調
製し、ドープAがコア層、ドープBが表面層となるよう
に支持体上に共流延して、剥離可能となるまで有機溶媒
を蒸発させた後、ウェブを支持体から剥離し、更に延伸
時の樹脂フィルム中の残留溶媒量が3質量%〜50質量
%の範囲で少なくとも1軸方向に1.1〜3.0倍延伸
することを特徴とする位相差フィルムの製造方法。 - 【請求項2】 樹脂と添加剤と有機溶媒とを含むドープ
Aと、添加剤を含まないか添加剤の含有量がドープAよ
り少ない樹脂と添加剤と有機溶媒とを含むドープBを調
製し、ドープAがコア層、ドープBが表面層となるよう
に支持体上に共流延して、剥離可能となるまで有機溶媒
を蒸発させた後、ウェブを支持体から剥離し、更に延伸
温度が140℃〜200℃の範囲で少なくとも1軸方向
に1.1〜3.0倍延伸することを特徴とする位相差フ
ィルムの製造方法。 - 【請求項3】 樹脂と有機溶媒とを含むドープAと、樹
脂と微粒子と有機溶媒とを含むドープBを調製し、ドー
プAがコア層、ドープBが表面層となるように支持体上
に共流延して、剥離可能となるまで有機溶媒を蒸発させ
た後、ウェブを支持体から剥離し、更に延伸時の樹脂フ
ィルム中の残留溶媒量が3質量%〜50質量%の範囲で
少なくとも1軸方向に1.1〜3.0倍延伸することを
特徴とする位相差フィルムの製造方法。 - 【請求項4】 樹脂と有機溶媒とを含むドープAと、樹
脂と微粒子と有機溶媒とを含むドープBを調製し、ドー
プAがコア層、ドープBが表面層となるように支持体上
に共流延して、剥離可能となるまで有機溶媒を蒸発させ
た後、ウェブを支持体から剥離し、更に延伸温度が14
0℃〜200℃の範囲で少なくとも1軸方向に1.1〜
3.0倍延伸することを特徴とする位相差フィルムの製
造方法。 - 【請求項5】 樹脂と有機溶媒と添加剤を含むドープA
と、添加剤を含まないか添加剤の含有量がドープAより
少ない樹脂と添加剤と有機溶媒とを含むドープBと、樹
脂と微粒子と有機溶媒とを含むドープCを調製し、ドー
プAがコア層、ドープBが表面層、ドープCがドープB
とは反対側の表面層となるように支持体上に共流延し
て、剥離可能となるまで有機溶媒を蒸発させた後、ウェ
ブを支持体から剥離し、更に延伸時の樹脂フィルム中の
残留溶媒量が3質量%〜50質量%の範囲で少なくとも
1軸方向に1.1〜3.0倍延伸することを特徴とする
位相差フィルムの製造方法。 - 【請求項6】 樹脂と有機溶媒と添加剤を含むドープA
と、添加剤を含まないか添加剤の含有量がドープAより
少ない樹脂と添加剤と有機溶媒とを含むドープBと、樹
脂と微粒子と有機溶媒とを含むドープCを調製し、ドー
プAがコア層、ドープBが表面層、ドープCがドープB
とは反対側の表面層となるように支持体上に共流延し
て、剥離可能となるまで有機溶媒を蒸発させた後、ウェ
ブを支持体から剥離し、更に延伸温度が140℃〜20
0℃の範囲で少なくとも1軸方向に1.1〜3.0倍延
伸することを特徴とする位相差フィルムの製造方法。 - 【請求項7】 ドープA中の添加剤量が樹脂に対して1
〜30質量%、ドープB中の添加剤量が樹脂に対して0
〜5質量%であることを特徴とする請求項1〜4のいず
れか1項に記載の位相差フィルムの製造方法。 - 【請求項8】 添加剤が可塑剤であることを特徴とする
請求項7に記載の位相差フィルムの製造方法。 - 【請求項9】 添加剤が紫外線吸収剤であることを特徴
とする請求項7に記載の位相差フィルムの製造方法。 - 【請求項10】 添加剤がRt調整剤であることを特徴
とする請求項7に記載の位相差フィルムの製造方法。 - 【請求項11】 ドープA中の樹脂の濃度が15質量%
〜35質量%、炭素数1〜4個のアルコールが全有機溶
媒に対して4質量%〜20質量%、ドープB中の樹脂の
濃度が10質量%〜25質量%、炭素数1〜4のアルコ
ールが全有機溶媒に対して6質量%から30質量%であ
ることを特徴とする請求項1〜10のいずれか1項に記
載の位相差フィルムの製造方法。 - 【請求項12】 ドープA中とドープB中の有機溶媒が
メチレンクロライドまたは酢酸メチルを全有機溶媒に対
して50質量%以上含有していることを特徴とする請求
項11に記載の位相差フィルムの製造方法。 - 【請求項13】 樹脂と添加剤と有機溶媒とを含むドー
プAと、添加剤を含まないか添加剤の含有量がドープA
より少ない樹脂と添加剤と有機溶媒とを含むドープBを
調製し、ドープAがコア層、ドープBが表面層となるよ
うに支持体上に共流延して、剥離可能となるまで有機溶
媒を蒸発させ、支持体から剥離したウェブを破砕処理し
た破砕品を、再びドープAの樹脂材料として使用するこ
とを特徴とする請求項1または請求項2に記載の位相差
フィルムの製造方法。 - 【請求項14】 破砕品の含有量が全樹脂に対して5〜
50質量%であることを特徴とする請求項13に記載の
位相差フィルムの製造方法。 - 【請求項15】 樹脂が下記式(I)を満たすセルロー
スエステルであることを特徴とする請求項1〜14のい
ずれか1項に記載の位相差フィルムの製造方法。 (I) 2.4≦X+Y≦3.00 但し、Xはアセチル基の置換度、Yはプロピオニル基及
び/またはブチリル基の置換度である。 - 【請求項16】 セルロースエステルが下記式(II)を
満たすセルロースエステルであることを特徴とする請求
項15に記載の位相差フィルムの製造方法。 (II) 2.5≦X+Y≦2.85 但し、Xはアセチル基の置換度、Yはプロピオニル基及
び/またはブチリル基の置換度である。 - 【請求項17】 セルロースエステルのアセチル基の置
換度が1.4〜2.0であることを特徴とする請求項1
6に記載の位相差フィルムの製造方法。 - 【請求項18】 セルロースエステルの数平均分子量が
60000〜300000であることを特徴とする請求
項15〜17のいずれか1項に記載の位相差フィルムの
製造方法。 - 【請求項19】 請求項1または請求項2により得られ
た、フィルム面内のレタデーション(Ro)が100n
m〜1000nm、正の波長分散特性を有し、かつ少な
くともコア層と表面層とを有する多層構成からなる位相
差フィルムであって、表層の添加剤の含有量がコア層の
添加剤の含有量より少ないことを特徴とする位相差フィ
ルム。 - 【請求項20】 請求項19に記載の位相差フィルムの
面内の屈折率の最大方向を偏光フィルムの吸収軸と45
度±5度の範囲となるように積層されていることを特徴
とする複合偏光板。 - 【請求項21】 請求項1または請求項2により得られ
た、フィルム面内のレタデーション(Ro)が20nm
〜100nm、厚さ方向のレタデーション(Rt)が1
00nm〜400nm、正の波長分散特性を有し、かつ
少なくともコア層と表面層とを有する多層構成からなる
位相差フィルムであって、表層の添加剤の含有量がコア
層の添加剤の含有量より少ないことを特徴とする位相差
フィルム。 - 【請求項22】 請求項21に記載の位相差フィルムの
面内の屈折率の最大方向を偏光フィルムの吸収軸と平行
または直交するように積層されていることを特徴とする
複合偏光板。 - 【請求項23】 請求項3または請求項4により得られ
た、フィルム面内のレタデーション(Ro)が100n
m〜1000nm、正の波長分散特性を有し、かつ少な
くともコア層と表面層とを有する多層構成からなる位相
差フィルムであって、実質的に表層にのみ微粒子が含有
することを特徴とする位相差フィルム。 - 【請求項24】 請求項23に記載の位相差フィルムの
面内の屈折率の最大方向を偏光フィルムの吸収軸と45
度±5度の範囲となるように積層されていることを特徴
とする複合偏光板。 - 【請求項25】 請求項3または請求項4により得られ
た、フィルム面内のレタデーション(Ro)が20nm
〜100nm、厚さ方向のレタデーション(Rt)が1
00nm〜400nm、正の波長分散特性を有し、かつ
少なくともコア層と表面層とを有する多層構成からなる
位相差フィルムであって、実質的に表層にのみ微粒子が
含有することを特徴とする位相差フィルム。 - 【請求項26】 請求項25に記載の位相差フィルムの
面内の屈折率の最大方向を偏光フィルムの吸収軸と平行
または直交するように積層されていることを特徴とする
複合偏光板。
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