JP2003014584A - 光ファイバ特性測定装置及び方法 - Google Patents
光ファイバ特性測定装置及び方法Info
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Abstract
被測定光ファイバの特性を測定することができる光ファ
イバ特性測定装置及び方法を提供する。 【解決手段】 レーザ光を射出する光源10と、レーザ
光の一部を強度変調して被測定光ファイバ17の一端か
らプローブ光L1として入射させる光変調器14と、光
源10から射出されたレーザ光の一部の残りをパルス化
して被測定光ファイバ17の他端からポンプ光L2とし
て入射させるパルス変調器18と、被測定光ファイバ1
7の他端から射出される光のうち、被測定光ファイバ1
7に設定された測定点近傍からの光のみを通過させるタ
イミング調整器20と、タイミング調整器20を通過し
た光を検出して、被測定光ファイバ17の特性を測定す
る光検出器22とを備える。
Description
定装置及び方法に係り、特に被測定対象としての光ファ
イバ内において生ずる誘導ブリルアン散乱現象を利用し
て光ファイバの長さ方向における特性を測定する光ファ
イバ特性測定装置及び方法に関する。
光ファイバが用いられる機会が多くなっている。光ファ
イバを情報伝送媒体として用いる場合には、通信品質を
確保する目的で光ファイバの長さ方向における特性(例
えば、障害が発生している箇所、又は障害が発生する虞
のある箇所)を定期的に測定することが必要である。こ
のために、光ファイバの一端から光パルスを入射して、
この光パルスが光ファイバ中を進行している間に生ずる
後方散乱光を測定して、光ファイバの歪み等の特性を測
定するOTDR(Optical Time Domain Reflectomete
r)等の測定技術が案出されている。
み箇所を特定することが可能な技術であるため、光ファ
イバが設置されている環境における温度、歪み等の物理
量の分布を測定する光ファイバセンサ等に応用できる。
この光ファイバセンサでは、ダム、堤防、その他の大規
模構造物に光ファイバを張り巡らして光ファイバの歪み
等の特性を測定することによって構造物の変形等を検出
し、構造物の保守管理行うことができる。近年、空間分
解能が高く、より正確に歪み等が生ずる箇所を特定する
ことができる光ファイバセンサが要求されている。
バの一端からプローブ光を入射させつつ他端からポンプ
光を入射させて、被測定光ファイバ中で生ずる誘導ブリ
ルアン散乱現象を利用した測定装置が案出されている。
図5は、従来の誘導ブリルアン散乱現象を利用した測定
装置の構成を示すブロック図である。図5において、1
00は光源であり、半導体レーザ101及び信号発生回
路102を備える。ここで、信号発生回路102は、半
導体レーザ101から射出されるレーザ光を周波数変調
又は位相変調する変調信号を発生するものである。半導
体レーザ101から射出されるレーザ光を周波数変調又
は位相変調するのは、後述するように、被測定光ファイ
バ107に入射したプローブ光L11とポンプ光L12
とが相関ピークを示すようにするため、及びその相関ピ
ークの位置を決めるためである。103は、光源100
から射出されたレーザ光を2分岐する光分岐器である。
光は、光変調器104に入力する。光変調器104は光
分岐器103で分岐されたレーザ光を変調して(光周波
数シフトさせて)、レーザ光の中心波長に対する側波帯
を発生させるものであり、マイクロ波発生器105と光
強度変調器106とを備える。ここで、レーザ光を変調
して側波帯を発生させるのは、被測定光ファイバ107
内で誘導ブリルアン散乱を生じさせるためである。マイ
クロ波発生器105は光分岐器103で分岐された光に
与える周波数シフト分の周波数のマイクロ波を出力し、
光強度変調器106は入力光の中心周波数に対してマイ
クロ波発生器105から出力されるマイクロ波周波数に
等しい周波数差を有する側帯波を発生させるものであ
る。尚、マイクロ波発生器105から出力されるマイク
ロ波の周波数は可変である。光変調器104から出力さ
れたプローブ光L11は、被測定光ファイバ107の一
端から被測定光ファイバ107内に入射する。ここで
は、プローブ光として用いられるのは、低周波側の側帯
波であるとする。
レーザ光は光遅延器108に入射する。光遅延器108
は入射するレーザ光を時間的に遅延させて、被測定光フ
ァイバ107の他端から入射させるポンプ光L12を遅
延させるためのものである。つまり、この光遅延器10
8によって、ポンプ光L12とプローブ光L11との間
には所定の遅延時間が設定される。光遅延器108から
出力されたレーザ光は、光分岐器109を介してポンプ
光L12として被測定光ファイバ107の他端から被測
定光ファイバ107内に入射する。
ァイバ107を伝播して被測定光ファイバ107の他端
から射出されるプローブ光L11を含む光周波数帯域の
光を分岐するものである。ここで、プローブ光L11の
光周波数帯域の光の強度は、被測定光ファイバ107中
で生ずる誘導ブリルアン散乱現象による影響を受けたも
のとなる。光波長フィルタ110は、光分岐器109で
分岐された光から低周波側の側波帯のみを通過させる通
過特性を有するものである。光検出器111は、光波長
フィルタ110で分離された低周波側の側波帯の光のパ
ワーを検出するものである。
変調又は位相変調されたレーザが射出されると、光分岐
器103で分岐される。光分岐器103で分岐された一
方のレーザ光は光変調器104へ入射し、変調(強度変
調)されて光周波数が可変可能なプローブ光L11とし
て被測定光ファイバ107に入射する。一方、光分岐器
103で分岐された他方のレーザ光は、光遅延器108
で所定の時間遅延を受けた後、光分岐器109を介し
て、ポンプ光L12として被測定光ファイバ107に入
射する。
2は、それぞれ同一の光源100にて周波数変調又は位
相変調された光であるため、被測定光ファイバ107に
入射したプローブ光L11とポンプ光L12とは被測定
光ファイバ107に沿って周期的な相関ピークを示す。
この相関ピークを示した位置では、プローブ光L11と
ポンプ光L12との光周波数差は一定しているため、誘
導ブリルアン散乱現象によって光強度が増幅される。
ではプローブ光L11とポンプ光L12との光周波数は
たえず変動しているため、プローブ光L11はブリルア
ン増幅の効果を受けず光強度はほぼ変化しない。従っ
て、プローブ光L11がブリルアン増幅により得る利得
の大部分は、この相関ピークを示した位置で生じるもの
となる。
得たプローブ光L11は被測定光ファイバ107の他端
から射出された後、光分岐器109へ入射する。光分岐
器109から射出されたプローブ光L11は光波長フィ
ルタ110へ入射し、プローブ光L11から低周波側の
側波帯の光が分離される。この側波帯の光は光検出器1
11に入射して、その強度が検出される。
内における相関ピークを模式的に示す図である。図6に
おいて、fmは半導体レーザ101に印加する周波数変
調周波数を表し、dmは隣接する相関ピークの間隔であ
る。尚、ここでは、半導体レーザ101から射出される
レーザ光を周波数変調する場合を例に挙げて説明する
が、半導体レーザ101から射出されるレーザ光を信号
発生回路102で位相変調する場合には、fmを位相変
調の変調周波数と読み替えれば良い。図6に示したよう
に、被測定光ファイバ107に入射したプローブ光L1
1とポンプ光L12とが相関ピークを示す位置では誘導
ブリルアン散乱が強く生じる。図中の符号120〜12
2に示した波形のピークは相関ピークを示しており、1
20は0次の相関ピーク、121は1次の相関ピーク、
122は2次の相関ピークである。尚、0次の相関ピー
クの位置はプローブ光L11とポンプ光L12との光路
差が零となる位置である。
00の周波数変調周波数をfm、被測定光ファイバ10
7内の光速度をvとすると以下の(1)式で表される。 dm=v/(2・fm) ……(1) この(1)式から、相関ピークの間隔dmは半導体レー
ザ101に与える周波数変調周波数fmにより決定され
ることが分かる。
きの相関ピークの位置が変化する様子を示す図である。
図7に示すように、周波数変調周波数fmを変化させる
と、相関ピークの間隔dmが変化し、相関ピーク位置を
変化させることができる。ただし、周波数変調周波数f
mのみを変化させても0次の相関ピーク120の位置は
変化しない。また、図7中のδは、相関ピークの空間分
解能である。
位置はプローブ光L11とポンプ光L12との光路差が
零となる位置である。図8は、0次の相関ピーク120
の位置を可変させる様子を示す図である。光遅延器10
8による遅延時間を可変させると、図8に示すように、
0次の相関ピーク120の位置が変化する。ここで、0
次の相関ピーク120の位置は周波数変調周波数fmに
は依存しない。従って、光遅延器108による遅延時間
を可変させることにより、0次の相関ピーク120のみ
ならず、1次の相関ピーク121、2次の相関ピーク1
22等も、相関ピークの間隔dmを変化させずに移動さ
せることができる。
離よりも相関ピーク120〜122の空間分解能が大き
くなると意味をなさない。ここで、被測定光ファイバ1
07のブリルアンゲイン線幅をΔνB、光源100の周
波数変調周波数をfm、光源100の周波数変調時の周
波数変動分をΔf、被測定光ファイバ107内の光速度
をvとすると空間分解能(δz)は以下の(2)式によ
り与えられる。 δz=(v×ΔνB)/(2π×fm×Δf) ……(2) 従って、この(2)式から、例えば光源100の周波数
変調周波数fmを調整しつつ空間分解能δzは移動距離に
対して十分に小さくなるよう調整する必要がある。尚、
以上説明した技術の詳細については、例えば特開200
0−180265号公報を参照されたい。
た従来の誘導ブリルアン散乱現象を利用した測定装置に
おいては、プローブ光L11及びポンプ光L12がとも
に連続光であり、相関ピークが周期的に現れる。そのた
め、被測定光ファイバ107の特性を測定するために
は、被測定ファイバ107内に相関ピークが1つのみ存
在するように光遅延器108の遅延量及び周波数変調周
波数fmを調整しなければならない。
を示した位置の特性を測定しているため、例えば被測定
光ファイバ107の全てについて測定するには、被測定
光ファイバ107中にただ一つの相関ピークが存在する
ようにしつつ相関ピークを被測定光ファイバ107の一
端から他端まで移動させる必要がある。しかしながら、
従来の測定装置では、相関ピークが周期的に存在するた
め、高空間分解能を保ったまま測定することができる距
離は数メートルであり、被測定光ファイバ長が制限され
るという問題がある。
あり、高空間分解能を保ったまま長い距離に亘って被測
定光ファイバの特性を測定することができる光ファイバ
特性測定装置及び方法を提供することを目的とする。
に、本発明の光ファイバ特性測定装置は、レーザ光を射
出する光源(10)と、前記光源(10)から射出され
たレーザ光の一部を被測定光ファイバ(17)の一端か
らプローブ光(L1)として入射させる入射手段(1
4)と、前記光源(10)から射出されたレーザ光の一
部の残りをパルス化して前記被測定光ファイバ(17)
の他端からポンプ光(L2)として入射させるパルス変
調器(18)と、前記被測定光ファイバ(17)の他端
から射出される光のうち、前記被測定光ファイバ(1
7)に設定された測定点近傍からの光のみを通過させる
タイミング調整器(20)と、前記タイミング調整器
(20)を通過した光を検出して、前記被測定光ファイ
バ(17)の特性を測定する光検出器(22)とを備え
ることを特徴としている。この発明によれば、被測定光
ファイバの一端から連続光としてのプローブ光を入射す
るとともに他端からパルス化されたポンプ光を入射させ
て、ポンプ光が被測定光ファイバ中を伝搬するに伴っ
て、被測定光ファイバ中の異なる位置で時系列的に相関
ピークを通過させ、測定点近傍からの光のみをタイミン
グ調整器で得ている。従って、タイミング調整器のタイ
ミングを設定するだけで、被測定光ファイバの任意の位
置の特性を測定することができるため、長い距離に亘っ
て被測定光ファイバの特性を測定することができる。ま
た、本発明の光ファイバ特性測定装置は、前記タイミン
グ調整器(20)が、前記パルス変調器(18)のパル
ス化のタイミング、前記パルス変調器(18)からのポ
ンプ光(L2)が前記測定点に至るまでの時間、及び前
記測定点近傍からの光が前記タイミング調整器(20)
に至るまでの時間に応じて、その動作タイミングが設定
されることを特徴としている。更に、本発明の光ファイ
バ特性測定装置は、前記入射手段(14)が、前記光源
(10)から射出されたレーザ光の一部を変調する光変
調器(14)を含み、前記タイミング調整器(20)と
前記光検出器(22)との間に、前記タイミング調整器
(20)を通過したプローブ光の内、前記光変調器(1
4)で変調された成分を分離して透過させる光波長フィ
ルタ(21)を備えることを特徴としている。また、本
発明の光ファイバ特性測定装置は、前記入射手段(1
4)が、前記光源(10)から射出されたレーザ光の一
部を光周波数シフトさせる光周波数シフター(14)を
含み、前記タイミング調整器(20)と前記光検出器
(22)との間に、前記タイミング調整器(20)を通
過したプローブ光の内、前記光周波数シフター(14)
で光周波数シフトされた成分を分離して透過させる光波
長フィルタ(21)を備えることを特徴としている。ま
た更に、本発明の光ファイバ特性測定装置は、前記光源
(10)が、前記レーザ光を射出するレーザ光源(1
1)と、前記レーザ光源から射出されるレーザ光を変調
する変調信号を発生する信号発生回路(12)とを備え
ることを特徴としている。この発明によれば、光源から
射出されるレーザ光を変調することができるため、被測
定光ファイバ中で幅の狭い相関ピークを発生させ、その
位置を可変することができる。よって、測定点近傍の特
性を高空間分解能で測定することができる。上記課題を
解決するために、本発明の光ファイバ特性測定方法は、
光源(10)から射出されたレーザ光の一部を被測定光
ファイバ(17)に入射させるステップと、前記光源
(10)から射出されたレーザ光の一部の残りをパルス
化して前記被測定光ファイバ(17)の他端からポンプ
光(L2)として入射させるステップと、前記被測定光
ファイバの他端から射出される光のうち、前記被測定光
ファイバ(17)に設定された測定点近傍からの光のみ
を通過させるステップと、前記測定点近傍からの光を検
出して、前記被測定光ファイバ(17)の特性を測定す
るステップとを有することを特徴としている。
実施形態による光ファイバ特性測定装置及び方法につい
て詳細に説明する。図1は、本発明の一実施形態による
光ファイバ特性測定装置の構成を示すブロック図であ
る。図1において、10は光源であり、半導体レーザ1
1及び信号発生回路12を備える。ここで、半導体レー
ザ11は、例えば、小型であり、且つ、スペクトル幅の
狭いレーザ光を射出するMQW・DFB・LD(Multi-
Quantum Well・Distributed Feed-Back・Laser Diode)
が用いられる。信号発生回路12は半導体レーザ11か
ら射出されるレーザ光を周波数変調又は位相変調する正
弦波信号(変調信号)を半導体レーザ11に出力する。
尚、本実施形態においては、信号発生回路12が半導体
レーザ11から射出されるレーザ光を周波数変調する場
合を例に挙げて説明する。13は、光源10から射出さ
れたレーザ光を2分岐する光分岐器である。
は、光変調器14に入力する。光変調器14は光分岐器
13で分岐されたレーザ光を変調して(光周波数シフト
させて)、レーザ光の中心波長に対する側波帯を発生さ
せるものであり、マイクロ波発生器15と光強度変調器
16とを備える。マイクロ波発生器15は光分岐器13
で分岐された光に与える周波数シフト分の周波数のマイ
クロ波を出力し、光強度変調器16は入力光の中心周波
数に対してマイクロ波発生器15から出力されるマイク
ロ波周波数に等しい周波数差を有する側帯波を発生させ
るものである。尚、マイクロ波発生器15から出力され
るマイクロ波の周波数は可変である。光変調器14から
出力されたプローブ光L1は、被測定光ファイバ17の
一端から被測定光ファイバ17内に入射する。ここで
は、プローブ光として用いられるのは、低周波側の側帯
波であるとする。
ーザ光はパルス変調器18に入射する。パルス変調器1
8は入射するレーザ光(連続光)をパルス化するもので
ある。ここで、パルス変調器18は、例えばEOスイッ
チである。パルス変調器18から出力されたパルス化さ
れたレーザ光は、光分岐器19を介してポンプ光L2と
して被測定光ファイバ17の他端から被測定光ファイバ
17内に入射する。
イバ17を伝播して被測定光ファイバ17の他端から射
出されたプローブ光L1を含む光周波数帯域の光を分岐
するものである。ここで、プローブ光L1の光周波数帯
域の光の強度は、被測定光ファイバ17中で生ずる誘導
ブリルアン散乱現象による影響を受けたものとなる。光
分岐器19で分岐された光は、タイミング調整器20に
入射する。このタイミング調整器20は、被測定光ファ
イバ17中に設定した測定点(特性を測定しようとする
点)付近で発生した誘導ブリルアン散乱光のみを通過さ
せるものである。
バ17の一端から連続光のプローブ光L1を入射させ、
他端からパルス状のポンプ光L2を入射させている。こ
のため、図2に示すように、被測定光ファイバ17中で
は、ポンプ光L2が被測定光ファイバ17中を伝搬する
に伴って、被測定光ファイバ17中の異なる位置で時系
列的に相関ピークP0〜PN(Nは正の整数)を通過す
る。図2は、ポンプ光パルスの進行に伴って、被測定光
ファイバ17中で時系列的に相関ピークを通過する様子
を示す図である。
17中に設定した測定点付近を通過する時刻と、測定点
付近からの光がタイミング調整器20に至るまでの時間
を考慮すれば、測定点付近からの光のみを測定すること
ができることとなる。このように、タイミング調整器2
0は、パルス変調器18がレーザ光をパルス化するタイ
ミング、パルス調整器18から射出されたポンプ光L2
が光分岐器19を介して被測定光ファイバ17の他端に
入射されるまでの時間、及び被測定光ファイバ17の他
端から測定点付近に至るまでの時間、並びに、測定点付
近からの光が被測定光ファイバ17の他端に至るまでの
時間及び被測定光ファイバ17の他端から光分岐器19
を介してタイミング調整器20に至るまでの時間を考慮
してその動作タイミングが調整される。
波長フィルタ21に入射する。光波長フィルタ21は、
タイミング調整器20を通過した光から低周波側の側波
帯のみを通過させる通過特性を有するものである。光検
出器22は、光波長フィルタ21で分離された低周波側
の側波帯の光のパワーを検出するものである。
調されたレーザが射出されると、光分岐器13で分岐さ
れる。光分岐器13で分岐された一方のレーザ光は光変
調器14へ入射し、変調(強度変調)されて光周波数が
可変可能なプローブ光L1として被測定光ファイバ17
に入射する。一方、光分岐器13で分岐された他方のレ
ーザ光は、パルス変調器18でパルス化された後、光分
岐器19を介してポンプ光L2として被測定光ファイバ
17に入射する。
とパルス化されたポンプ光L2とが被測定光ファイバ1
7中に入射されると、図2に示したように、ポンプ光L
2は被測定光ファイバ17中を伝搬するに伴って、被測
定光ファイバ17中の異なる位置で周波数変調により発
生された相関ピークP0〜PN(Nは正の整数)を時系
列的に通過する。図2に示した例では、光パルスが相関
ピークP2付近を通過している様子を示している(破線
で示した相関ピークP0,P1は過去に通過した相関ピ
ークであり、相関ピークP3,PNはポンプ光L2の進
行に伴ってこれから通過する相関ピークである。)。
おいてはブリルアン増幅によってプローブ光L1は利得
を得る。これらのプローブ光L1は被測定光ファイバ1
7の他端から射出された後、光分岐器19へ入射する。
光分岐器19から射出されたプローブ光L1はタイミン
グ調整器20に入射するが、タイミング調整器20で規
定されたタイミングで入射したプローブ光L1のみがタ
イミング調整器20を透過する。タイミング調整器20
を通過したプローブ光L1は、光波長フィルタ21に入
射して低周波側の側波帯の光が分離される。この側波帯
の光は光検出器22に入射してその強度が検出されるこ
とにより、被測定光ファイバ17の特性が測定される。
置において、被測定光ファイバ17の測定点を可変させ
る方法について説明する。図3は、被測定光ファイバ1
7の測定点を可変させる方法を説明するための図であ
る。尚、図3では図中に示した符号D1を付した位置近
傍の被測定光ファイバ17の特性を測定する場合につい
て考える。この例では、被測定光ファイバ17中におけ
る3次の相関ピークP3を用いて特性を測定している。
また、図3中に示したT1はタイミング調整器20が被
測定光ファイバ17中のどの位置からの光を透過させる
かを規定するタイミングを便宜的に示したものである。
図3の例では、タイミング調整器20が測定点D1近傍
からの光を透過させるように、そのタイミングが設定さ
れている。
光ファイバ中における相関ピークの位置を移動させるた
めには、光遅延器108の時間遅延量を可変させるか、
あるいは相関ピークの間隔を可変させるために前述した
(1)式から光源100の周波数変調周波数fmを可変
させていた。本実施形態では、測定点近傍の特性を測定
するために、図3に示すように光源10の周波数変調周
波数fmを可変させている。
に示すようにf0からf1又はf2に変化させることによ
り、相関ピークP3の位置が測定点D1の左右に移動す
るため、測定点D1近傍の特性を測定することができ
る。一方、測定点D1から離れた位置(例えば測定点D
2)の特性を測定するためには、相関ピークP1を用い
て測定を行う。この場合には、タイミング調整器20
が、測定点D2近傍からの光を透過するように、そのタ
イミングが規定される。
る。いま、仮に、被測定光ファイバ17の長さが200
mであり、光源10の周波数変調の基準となる周波数f
0は20MHzであり、被測定光ファイバ17の特性を
測定するために30次〜70次の相関ピークを使用する
とする。いま、40次の相関ピークが生ずる位置に着目
する。図4は、40次の相関ピークの位置の付近の様子
を示す図である。図4に示したように、ポンプ光L2の
パルス幅は50nsに設定され、タイミング調整器20
の透過時間は25nsに設定されているものとする。
f0=20MHzにおいて、相関ピークのピーク間隔d0
は、前述した(1)式より、d0=5[m]となる。こ
こでは、40次の相関ピークP40の位置を、左右に1
[m]の範囲で移動させる。このときの光源10の周波
数変調周波数をf1及びf2とすると、 f1=20.1005 [MHz] f2=19.9005 [MHz] である。また、10cmのステップで相関ピークを移動
させる場合には、光源10の周波数変調周波数fmを、
0.0100[MHz]でステップさせればよい。
う場合には、光源10の周波数変調周波数をf0=20
MHzに設定し、周波数変調周波数をf1とf2との間で
可変させつつ測定を行う。尚、このときはパルス変調器
18のパルス化のタイミング及びタイミング調整器20
のタイミングは固定されている。以上の測定によって2
m分の分布が測定できたことになる。次に、測定を終え
た位置に隣接する部分を測定するために、周波数変調周
波数fmの変調周波数を設定し、又、必要であればタイ
ミング調整器20のタイミングを設定して上記の測定を
繰り返す。以上、本発明の一実施形態について説明した
が、本発明は上記実施形態に制限されず本発明の範囲内
で自由に変更することができる。
被測定光ファイバの一端から連続光としてのプローブ光
を入射するとともに他端からパルス化されたポンプ光を
入射させて、ポンプ光が被測定光ファイバ中を伝搬する
に伴って、被測定光ファイバ中の異なる位置で時系列的
に相関ピークを通過させ、測定点近傍からの光のみをタ
イミング調整器で得ている。従って、タイミング調整器
のタイミングを設定するだけで、被測定光ファイバの任
意の位置の特性を測定することができるため、長い距離
に亘って被測定光ファイバの特性を測定することができ
るという効果がある。従来の方法では相関ピークの間隔
が上限となっていた測定範囲を、本発明によって拡大す
ることが可能となる。更に、光源から射出されるレーザ
光を変調することができるため、被測定光ファイバ中で
幅の狭い相関ピークを発生させ、その位置を可変するこ
とができる。よって、測定点近傍の特性を高空間分解能
で測定することができるという効果がある。
定装置の構成を示すブロック図である。
ァイバ17中で時系列的に相関ピークを通過する様子を
示す図である。
方法を説明するための図である。
す図である。
定装置の構成を示すブロック図である。
相関ピークを模式的に示す図である。
ークの位置が変化する様子を示す図である。
様子を示す図である。
Claims (6)
- 【請求項1】 レーザ光を射出する光源と、 前記光源から射出されたレーザ光の一部を被測定光ファ
イバの一端からプローブ光として入射させる入射手段
と、 前記光源から射出されたレーザ光の一部の残りをパルス
化して前記被測定光ファイバの他端からポンプ光として
入射させるパルス変調器と、 前記被測定光ファイバの他端から射出される光のうち、
前記被測定光ファイバに設定された測定点近傍からの光
のみを通過させるタイミング調整器と、 前記タイミング調整器を通過した光を検出して、前記被
測定光ファイバの特性を測定する光検出器とを備えるこ
とを特徴とする光ファイバ特性測定装置。 - 【請求項2】 前記タイミング調整器は、前記パルス変
調器のパルス化のタイミング、前記パルス変調器からの
ポンプ光が前記測定点に至るまでの時間、及び前記測定
点近傍からの光が前記タイミング調整器に至るまでの時
間に応じて、その動作タイミングが設定されることを特
徴とする請求項1記載の光ファイバ特性測定装置。 - 【請求項3】 前記入射手段は、前記光源から射出され
たレーザ光の一部を変調する光変調器を含み、 前記タイミング調整器と前記光検出器との間に、前記タ
イミング調整器を通過したプローブ光の内、前記光変調
器で変調された成分を分離して透過させる光波長フィル
タを備えることを特徴とする請求項1又は請求項2記載
の光ファイバ特性測定装置。 - 【請求項4】 前記入射手段は、前記光源から射出され
たレーザ光の一部を光周波数シフトさせる光周波数シフ
ターを含み、 前記タイミング調整器と前記光検出器との間に、前記タ
イミング調整器を通過したプローブ光の内、前記光周波
数シフターで光周波数シフトされた成分を分離して透過
させる光波長フィルタを備えることを特徴とする請求項
1又は請求項2記載の光ファイバ特性測定装置。 - 【請求項5】 前記光源は、前記レーザ光を射出するレ
ーザ光源と、 前記レーザ光源から射出されるレーザ光を変調する変調
信号を発生する信号発生回路とを備えることを特徴とす
る請求項1から請求項4の何れか一項に記載の光ファイ
バ特性測定装置。 - 【請求項6】 光源から射出されたレーザ光の一部を被
測定光ファイバに入射させるステップと、 前記光源から射出されたレーザ光の一部の残りをパルス
化して前記被測定光ファイバの他端からポンプ光として
入射させるステップと、 前記被測定光ファイバの他端から射出される光のうち、
前記被測定光ファイバに設定された測定点近傍からの光
のみを通過させるステップと、 前記測定点近傍からの光を検出して、前記被測定光ファ
イバの特性を測定するステップとを有することを特徴と
する光ファイバ特性測定方法。
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