JP2003013156A - Copper alloy foil for laminate - Google Patents

Copper alloy foil for laminate

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JP2003013156A
JP2003013156A JP2001204018A JP2001204018A JP2003013156A JP 2003013156 A JP2003013156 A JP 2003013156A JP 2001204018 A JP2001204018 A JP 2001204018A JP 2001204018 A JP2001204018 A JP 2001204018A JP 2003013156 A JP2003013156 A JP 2003013156A
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JP
Japan
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copper
foil
surface roughness
copper alloy
copper foil
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Pending
Application number
JP2001204018A
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Japanese (ja)
Inventor
Toubun Nagai
燈文 永井
Toshiaki Nonaka
俊照 野中
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Nippon Mining Holdings Inc
Eneos Corp
Original Assignee
Nippon Mining and Metals Co Ltd
Nippon Mining Co Ltd
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Publication date
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Priority to US10/189,043 priority patent/US6939620B2/en
Priority to CNB021402981A priority patent/CN1225951C/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a copper alloy foil with small surface roughness, and a high electroconductivity and strength, which has adequate adhesiveness to an adhesive containing an epoxy resin without being roughened, and can be laminated to be a copper-clad laminate, in a three-layer flexible substrate. SOLUTION: The copper alloy foil for laminate is characterized by employing a copper alloy containing specific elements, and making the thickness of a rust preventive film to be 3 nm or less from the surface, to give the surface adequate adhesiveness to the adhesive containing the epoxy resin, surface roughness of 2 μm or less by ten-points average surface roughness (Rz), and 180-degree peel strength of 8.0 N/cm or more when bonded to a substrate film with the adhesive containing the epoxy resin, without being roughened.

Description

【発明の詳細な説明】 【0001】 【産業上の利用分野】本発明はプリント配線板用の積層
板に用いる銅合金箔に関するものである。 【0002】 【従来の技術】電子機器の電子回路にはプリント配線板
が多く用いられる。 プリント配線板は基材となる樹脂
の種類によって、硬質積層板(リジット基板)と、可撓
性積層板(フレキシブル基板)とに大別される。フレキ
シブル基板は可撓性を持つことを特徴とし、可動部の配
線に用いられる他に、電子機器内で折り曲げた状態で収
納することも可能であるために、省スペース配線材料と
しても用いられている。また、基板自体が薄いことか
ら、半導体パッケージのインターポーザー用途あるいは
液晶ディスプレイのICテープキャリアとしても用いら
れている。 フレキシブル基板の基材はポリイミド樹脂
フィルムやポリエステル樹脂フィルムが用いられている
が、現状では耐熱性の点からポリイミドが多く用いられ
ている。 フレキシブル基板の導電材には導電性の点か
ら一般に銅が用いられている。 プリント配線板は銅張
積層板の銅箔をエッチングして種々の配線パターンを形
成し、電子部品をハンダで接続して実装していく。 【0003】フレキシブル基板はその構造から二層フレ
キシブル基板と三層フレキシブル基板がある。 二層フ
レキシブル基板はポリイミドなどの樹脂と導電材となる
銅が直接に接合された構造となっている。 一方、三層
フレキシブル基板は、ポリイミドなどの樹脂フィルムと
導電材となる銅箔とを、エポキシ樹脂やアクリル樹脂な
どを含有する接着剤で貼り合わせた構造となっている
が、接着性が良いことや安価であることから、広く用い
られている。 このような構造の違いから、フレキシブ
ル基板で銅と接合する樹脂は、二層フレキシブル基板が
ポリイミドであるのに対して、三層フレキシブル基板で
は接着剤に含まれる樹脂である。 【0004】三層フレキシブル基板に使用される接着剤
は耐熱性、耐久性、可撓性などの特性を必要とすること
から、各種の樹脂を混合して強度やガラス転移温度を調
整しているが、一般にエポキシ樹脂を主成分とするもの
が用いられている。 この用途の接着剤はエポキシ樹脂
(例えばビスフェノールA型グリシジルエーテルやグリ
シジルエステル型エポキシ樹脂)などにアミンなど硬化
剤、可撓性を付与するニトリルゴムやエラストマーを含
む溶剤状あるいはシート状のものが用いられる。 銅張
積層板の製造方法は、一般的にポリイミドフィルム上に
溶剤状の接着剤を塗布して乾燥したところへ銅箔を重ね
るか、ポリイミドフィルムと銅箔の間に接着剤をシート
状にしたもの間に挟み、ロールプレス機あるいは平面加
熱プレス機で仮接着後、更に100〜200℃で数十分
から数時間ほど加熱硬化して接着する。 【0005】プリント配線板は電子部品をハンダで接続
して実装されるとき等に、銅箔と樹脂との熱膨張係数の
違いにより熱応力が加わるので、銅箔と樹脂の接着性が
悪いと剥離する問題が生じる。 このため銅張積層板に
使われる銅箔は樹脂との接着性を改善するために、銅箔
に表面に銅の粒子を電気めっきで形成する粗化処理が施
している。 これは、銅箔の表面に凹凸を形成して、樹
脂に銅箔を食い込ませて機械的な接着強度を得る、いわ
ゆるアンカー効果で接着性を改善するものである。一方
で、近年の電子機器の小型化、軽量化、高機能化に伴っ
てプリント配線板に対して高密度実装の要求が高まり、
電子回路の配線幅と配線間隔を小さくしたファインピッ
チ化が進んでいる。 導電材に表面粗さの大きい銅箔や
粗化処理で凹凸を形成した銅箔を用いると、エッチング
で回路を形成する際に、樹脂に銅が残るエッチング残が
生じたり、エッチング直線性が低下して回路幅が不均一
になりやすい。 このため、電子回路をファインピッチ
化するためには、銅箔の表面粗さの小さいことが好まし
い。 また、パソコンや移動体通信等の電子機器では電
気信号が高周波化しているが、電気信号の周波数が1G
Hz以上になると、電流が導体の表面にだけ流れる表皮
効果の影響が顕著になり、表面の凹凸で伝送経路が変化
する影響が無視できなくなる。 このため、高周波特性
から銅箔の表面粗さを小さくする試みがなされている。 【0006】プリント配線板の導電材となる銅箔はその
製造方法の違いにより電解銅箔と圧延銅箔に分類され
る。 電解銅箔は一般に硫酸酸性硫酸銅めっき浴からチ
タンやステンレスのドラム上に銅を電解析出して製造さ
れる。 電解析出時に銅箔に凹凸が形成されて表面粗さ
が大きくなる。 最近はめっき浴に添加剤を加えたり、
電解析出条件を調節して表面粗さを小さくした銅箔、い
わゆるロープロファイル箔が製造されるようになってき
た。 圧延銅箔は圧延ロールにより塑性加工して製造さ
れるので、圧延ロールの表面形態が箔の表面に転写した
平滑な表面が得られる。 なお、箔とは一般に100μ
m以下の厚さの薄板をいう。 【0007】前述したように現在、銅張積層板に使われ
る銅箔は樹脂との接着性を改善するために、銅箔に粗化
処理が施しているが、上記の理由から粗化処理を施さな
い表面粗さの小さい銅箔を樹脂フィルムと貼り合わせる
ことが望ましく、粗化処理を施さずに接着強度を確保す
ることが必要である。 また、三層フレキシブル基板で
は金属である銅箔と有機物である接着剤の接着強度を改
善するためにシランカップリング剤等を銅箔に塗布する
試みがなされているが、充分な接着性は得られていな
い。 【0008】導電材として用いられる銅箔の素材には、
純銅や少量の添加元素を含む銅合金が用いられる。 電
子回路のファインピッチ化に伴って導体である銅箔が薄
くなり、また回路幅が狭くなっていることから、銅箔の
特性に対して、直流抵抗損失が小さく導電率が高いこと
が求められている。 銅は導電性に優れた材料であり、
導電性が重視される上記の分野では純度99.9%以上
の純銅が用いられるのが一般的である。 しかし、銅は
純度を上げると強度が低下するので、銅箔が薄くなると
ハンドリング性が悪くなるため、銅箔の強度が大きいこ
とが好ましい。 【0009】このような状況の中で、導電材である銅箔
に粗化処理を施さずに、ポリイミドフィルムとをエポキ
シ樹脂を含む接着剤を用いて貼り合わせることを試み
た。ところが、ポリイミドフィルムと純銅の圧延銅箔と
が剥離しやすく、エポキシ樹脂と銅の界面が剥離しやす
いことが判明した。 このため導電材である銅箔に粗化
処理を施さずに用いることは、接着剤の主成分であるエ
ポキシ樹脂銅箔の剥離が生じやすく、その結果から断線
などの欠陥となる問題があり、実用化に至っていない。 【0010】 【発明が解決しようとする課題】基材のポリイミド樹脂
フィルムと導電材の銅箔とをエポキシ樹脂を含有する接
着剤で貼り合わせた三層プリント配線板を製造するとき
の接着性を改善して、粗化処理のような特別な処理を施
さずに、銅箔の表面粗さ(Rz)が2μm以下で、18
0゜ピール強度で8.0N/cm以上の接着強度が得ら
れる積層板用の銅合金箔を提供することである。 【0011】 【課題を改善するための手段】本発明者らは、ポリイミ
ド樹脂フィルムと導電材の銅箔とをエポキシ樹脂を含有
する接着剤で貼り合わせたときの接着性について検討し
た結果、接着性は導電性の優れる純銅をベースにして少
量の添加元素を加えた銅合金で改善されること、銅合金
箔の防錆被膜が厚くなると低下することが判明した。
具体的には、エポキシ樹脂を含有する接着剤との接着性
に対する各種の添加元素の影響、防錆被膜の厚さと接着
性の関係について研究を重ねた結果、本発明は、(1)
添加元素の成分を重量割合にてCrが0.01〜2.
0質量%、Zrが0.01〜1.0質量%、の各成分の
内一種以上を含み、残部を銅及び不可避不純物からな
り、防錆皮膜の厚さが表面から3nm以下とすることに
より、表面粗さを十点平均表面粗さ(Rz)で2μm以
下、引張強さを600N/mm以上、導電率を60%
IACS以上の特性を有し、粗化処理が不要で,エポキ
シ樹脂を含む接着剤で基板樹脂と接合したときにエポキ
シ樹脂を含む接着剤と銅合金箔との180゜ピール強度
が8.0N/cm以上であることを特徴とする、積層板
用銅合金箔。を提供するものである。 【0012】また、本発明は、Ag、Al、Be、C
o、Fe、Mg、Ni、P、Pb、Si、Sn、Tiお
よびZnがいずれも主として 固溶強化により銅合金の
強度を高める効果を有しているので、必要に応じて1種
以上の元素を添加することができる。 その含有量が総
量で0.005質量%未満であると上記の作用に所望の
効果が得られず、2.5質量%を越える場合には導電
性、ハンダ付け性、加工性を著しく劣化させるので、A
g、Al、Be、Co、Fe、Mg、Ni、P、Pb、
Si、Sn、TiおよびZnの含有量の範囲は総量で
0.005〜2.5重量%において可能である。 【0013】 【発明実施の形態】本発明において表面状態および合金
組成等を上記に限定した理由を述べる。 (1)防錆被膜:純銅および銅合金の変色防止は、ベン
ゾトリアゾールやイミダゾールなどの窒素を含有する有
機物を用いて、表面に銅とのキレートを形成して防錆被
膜とすることが広く行われている。 一方でこれらの防
錆被膜は撥水性を有し、エポキシ樹脂の結合を阻害して
接着性を悪くする作用がある。 このため、防錆被膜の
厚みを表面から3nm以下と制限することで、エポキシ
樹脂を含む接着剤を用いて銅合金箔とポリイミドフィル
ムとを強固に接着することができるようになる。 防錆
皮膜の厚さを低減するためには、例えば防錆剤の濃度を
低減する方法があり、防錆剤にベンゾトリアゾールを用
いた場合には、その濃度を3000ppm以下とするこ
とが好ましい。 防錆皮膜の表面からの厚さはオージェ
電子分光分析により測定することにより定量化できる。
すなわち、オージェ電子分光分析により、深さ方向に
分析を行い、防錆剤を構成する元素である窒素の検出強
度がバックグラウンドと同一になるまでの表面からの深
さをSiO換算で測定することにより求められる。 【0014】(2)Cr、Zr:Cr、Zrは樹脂を製
造する際に、重合を促進する触媒としての作用が働くこ
とが知られている。 このため、これらを銅に添加して
合金箔とすることにより、金属と接着剤の主成分である
エポキシ樹脂との結合を促進して、界面の結合が強化さ
れたと考えられる。 これらの添加量が少なすぎると触
媒として十分な作用をしないため、金属と樹脂の結合が
十分に行われず、接着性の改善効果が小さい。 プリン
ト配線板として実用上で支障のない180゜ピール強度
である8.0N/cm以上を付与することが必要であ
る。 この特性を得るためには、Cr、Zrの内少なく
とも1種類以上の添加量が重量比で0.01質量%以上
であることが判明した。 一方で、その添加量が多くな
ると、鋳造時の偏析による粗大な晶出物が発生するよう
になる。 粗大な晶出物が含まれる金属材料は熱間圧延
中に割れが生じて熱間加工性が悪くなる。 また、電子
回路のファインピッチ化に伴って導体である銅箔が薄く
なり、また回路幅が狭くなっていることから、銅箔の特
性に対して、直流抵抗損失が小さく導電率が高いことが
求められている。 また添加量が多くなると導電性が低
下することがある。 これらの問題が生じないCrおよ
びZr添加量の上限は、重量比でそれぞれCrが2.0
質量%、より好ましくは、0.4質量%である。またZ
rが1.0質量%より好ましくは、0.25質量%であ
る。 これは、塑性加工がし易いためである。 従って
プリント配線板の積層板用銅合金箔として、合金成分の
適正な添加量の範囲は、重量比でCrが0.01〜2.
0質量%、より好ましくは、0.01〜0.4質量%で
ある。また、Zrは、0.01〜1.0質量%、より好
ましくは、0.01〜0.25質量%である。 【0015】(3)表面粗さ:銅箔の表面粗さが大きく
なると、電気信号の周波数が1GHz以上で電流が導体
の表面にだけ流れる表皮効果により、インピーダンスが
増大して高周波信号の伝送に影響する。 したがって、
高周波回路用途の導電材の用途では表面粗さが小さくる
ことが必要であり、表面粗さと高周波特性の関連を検討
した結果、プリント配線板の積層板用銅合金箔として、
表面粗さが十点平均表面粗さ(Rz)で2μm以下とす
ればよいことがわかった。 表面粗さを小さくする方法
は、圧延銅箔、電解銅箔の製造条件を適正化すること、
銅箔の表面を化学研磨あるいは電解研磨するといった手
法がある。 一般に圧延銅箔は容易に表面粗さを小さく
することが可能であり、圧延機のワークロールの表面粗
さを小さくして、銅箔に転写されるワークロールのプロ
ファイルを小さくすることができる。 【0016】(4)引張強さと導電性:一般に強度と導
電性は相反する関係にあり,高強度の材料ほど導電性が
低下する傾向がある。引張強さが600N/mmより
小さい場合、ハンドリング等の取り扱いでしわを発生し
やすく、また導電率が60%IACS以下では、積層板
用の導電材料として好ましくない。高強度でハンドリン
グ性に優れた積層板用の銅合金箔に適する条件として引
張強さが600N/mm 以上、導電率が60%IAC
S以上と定めた。 (5)180゜ピール強度:180゜ピール強度が小さ
い場合、積層板から剥離が生じる恐れがあるので、8.
0N/cm以上の接着強度が必要である。 【0017】本発明の銅合金箔は製造方法に限定される
ものではなく、例えば合金めっき法による電解銅箔ある
いは合金を溶解鋳造して圧延する圧延銅箔のような方法
で製造できる。以下に例として圧延による方法を述べ
る。 溶融した純銅に所定量の合金元素を添加して、鋳
型内に鋳造してインゴットとする。 本発明ではCr、
Zrといった活性な元素を添加するので、酸化物等の生
成を抑制するため真空中あるいは不活性ガス雰囲気中で
行うことが望ましい。 また原料は酸素含有量の少ない
電気銅あるいは無酸素銅を用いることが望ましい。 イ
ンゴットは、熱間圧延である程度の厚さまで薄くした
後、皮削りを行い、その後冷間圧延と焼鈍を繰返し行
い、最後に冷間圧延を行って箔に仕上げる。 圧延上が
りの材料は圧延油が付着しているので、アセトンや石油
系溶剤等で脱脂処理をする。 【0018】焼鈍で酸化層が生じると後工程で支障が生
じるので、焼鈍は真空中あるいは不活性ガス雰囲気中で
行うか、焼鈍後に酸化層を除去することが必要である。
例えば、酸洗で酸化層を除去するには硫酸+過酸化水
素、硝酸+過酸化水素、または硫酸+過酸化水素+弗化
物を用いることが好ましい。 【0019】 【実施例】以下に本発明の実施例を説明する。銅合金の
作製は、高周波真空誘導溶解炉を用いてAr雰囲気中に
て高純度黒鉛製るつぼ内で主原料の無酸素銅を溶解した
ところへ、副原料として銅クロム母合金、銅ジルコニウ
ム母合金、アルミニウム、銀、銅ベリリウム母合金、コ
バルト、鉄、マグネシウム、マンガン、ニッケル、銅リ
ン母合金、鉛、銅シリコン母合金、スズ、チタン、亜鉛
から選ばれた添加元素を添加した後、鋳鉄製の鋳型内に
鋳造した。この方法で厚さ30mm、幅50mm、長さ
150mm、重さ約2kgの銅合金のインゴットを得
た。このインゴットを900℃に加熱して、熱間圧延に
より厚さ8mmまで圧延して酸化スケールを除去した
後、冷間圧延と種々の熱処理とを行って厚さ35μmの
圧延上がりの銅合金箔を得た。 【0020】上記の方法で得られた厚さ35μmの銅合
金箔は圧延油が付着しているのでアセトン中に浸漬して
油分を除去した。 これを硫酸10重量%および過酸化
水素1重量%を含む水溶液に浸漬して表面の酸化層およ
び防錆皮膜を除去した。 防錆皮膜の厚みの影響を調査
する目的で、ベンゾトリアゾールの濃度を調整した水溶
液に浸漬して、直ちに乾燥した。 これ以外に粗化処理
やシランカップリング処理等の接着性を改善する特別な
表面処理を実施していない。 このようにして作製した
銅合金箔をエポキシ樹脂を含む接着剤でポリイミドフィ
ルムと接着して銅張積層板を作製した。 銅張積層板の
作製は、エポキシ樹脂と硬化剤を混合した溶剤型の接着
剤を厚さ25μmのポリイミドフィルム上に、ギャップ
量100μmのアプリケータで塗布し、これを乾燥機内
で温度130℃、4分間乾燥した後、前述の銅合金箔を
重ねて、平面加熱プレス機を用いて温度170℃、圧力
30kgf/cmの条件で30分間保持して銅張積層
板を得た。 ここで乾燥後の接着剤の厚みは20μmで
あった。 【0021】このようにして得られた銅合金箔の「熱間
圧延性」、「表面粗さ」、「防錆皮膜の厚み」、「導電
率」、「高周波特性」、「引張強さ」および「接着強
度」を以下の方法で評価した。 (1)熱間圧延性:熱間圧延性は、熱間圧延を施した材
料を浸透探傷し、目視で外観を観察して、材料の割れの
有無で評価した。 (2)表面粗さ:表面粗さは触針式表面粗さ計を用いて
圧延方向に対して直角方向に測定した。測定条件はJI
S B 0601に記載された方法に準拠して、十点平
均表面粗さ(Rz)で評価した。 (3)防錆皮膜の厚み:前述したように、オージェ電子
分光分析の深さ方向分析をおこない、防錆剤を構成する
元素である窒素の検出強度がバックグラウンドと同一に
なるまでの表面からの深さをそれぞれSiO換算で測
定した。 (4)導電率:導電率は、ダブルブリッジを用いた直流
四端子法で20℃における電気抵抗を求めた。測定試料
は厚さ35μmの箔に加工した銅箔を幅12.7mmに
切断した。 これを測定間長さ50mmの電気抵抗を測
定して導電率を求めた。 (5)高周波特性:高周波特性は高周波電流を通電した
ときのインピーダンスで評価した。インピーダンスは厚
さ35μmの箔に加工した銅箔を幅1mmに加工し、1
0MHz、20mAの高周波電流を通電したときの電圧
降下を長さ100mmについて測定して求めた。 (6)引張強さ:引張強さは引張試験で室温における引
張強さを測定した。測定試料は厚さ35μmに加工した
銅箔をプレシジョンカッターで幅12.7mm、長さ1
50mmの短冊状に切断した。 これを評点間距離50
mmで、引張速度50mm/分で測定した。 (7)接着強度:接着強度は180゜ピール強度をJI
S C 5016に記載された方法に準拠して実施し
た。 測定は引き剥がし導体幅を5.0mmとし、ポリ
イミドフィルム側を引張試験機側に固定して、導体であ
る銅合金箔を180゜方向に曲げて、引張速度50mm
/分で引き剥がした。 【0022】表1に銅合金箔の組成および表2に銅合金
箔の特性評価結果を示す。 酸素含有量はいずれも10
ppm以下であった。 なお、表中に「−」で示した部
分は測定を実施していないことを示す。 これらはZn
あるいはPbを含む銅合金箔は酸素分析中に合金成分の
揮発が多く、酸素含有量を正確に測定できなかったため
であるが、いずれも酸素含有量が10ppm以下である
と推定する。 熱間加工性は熱間圧延後に割れが発生し
なかったものを○で、割れが発生したものを×で示す。
割れが発生したものは以後の試験を実施していない。
実施例のNo.1〜No.14は本発明の銅合金箔の
実施例である。 表1に示すように、本発明の銅合金箔
は導電率が60%IACS以上であり、引張強さが60
0N/mm以上であり、ポリイミドを接着したときの
180゜ピール強度が8.0N/cm以上であった。
優れた導電性ととハンドリング性を有し、かつ高い接着
強度を有していることがわかる。 また、いずれも熱間
圧延時に割れが発生しなかった。 【0023】 【表1】 【0024】 【表2】【0025】一方、表1に示す比較例のNo.15は本
発明の合金成分を加えていない圧延銅箔である。 無酸
素銅をAr雰囲気中にて溶解鋳造したインゴットを箔に
加工して、実施例と同じ接着剤を用いてポリイミドフィ
ルムと同条件で接着した。素材が純銅であるので導電性
が大きいが、180゜ピール強度が7.5N/cmと小
さく、充分な接着強度が得られていないので、プリント
配線板としたときに剥離が生じる恐れがある。 【0026】比較例のNo.16およびNo.17は、
それぞれCr、Zrから1種類だけを添加して実施例と
同様の方法で箔に加工した。Cr、Zrの濃度が重量比
で0.01%未満であったために強度を改善する効果が
十分でなく、引張強さが600N/mm未満と小さ
く、180゜ピール強度が8.0N/cm未満と小さ
い。 【0027】比較例のNo.18はCrを添加したが、
その濃度が重量比で2.0質量%を超えて添加したため
に、鋳造時にCrの粗大な晶出物が生じてしまい、熱間
圧延時に割れが発生し、熱間加工性が悪い。比較例のN
o.19はZrだけを添加したが、その濃度が重量比で
1.0質量%を超えているために、同様に熱間圧延時に
割れが発生した。このため、No.18およびNo.1
9は以後の試験を実施できなかった。 【0028】比較例のNo.20はFeを添加したが、
その濃度が重量比で2.0質量%を超えて添加したため
に、導電率が小さく、プリント配線板の導電材としては
適さない。 【0029】比較例のNo.21は、実施例のNo.7
の合金箔を用いて、実施例のNo.6の合金箔を用い
て、その表面をエメリー紙で軽く削り取って表面を粗す
処理を行った。その結果、表面粗さが大きくなると高周
波で通電した場合に表皮効果によってインピーダンスが
増加するため、高周波回路の導電材用途としては適さな
い。 【0030】比較例のNo.22は、実施例のNo.7
の合金箔を用いて、防錆剤としてベンゾトリアゾールの
濃度を0.5%(5000ppm)に調整した水溶液中
に浸漬する処理を行った。防錆剤の高濃度であったため
に防錆皮膜の厚さが5nmと厚くなり、180゜ピール
強度が2.5N/cmと小さい。 【0031】 【発明の効果】本発明の銅合金箔はエポキシ樹脂を含む
接着剤を用いてポリイミド樹脂フィルムと接着したるプ
リント配線板積層板用に用いると、表面粗さが小さくと
も樹脂と優れた接着性を有し、かつ高い導電性と強度を
有する。これによって、微細配線を必要とする電子回路
の導電材としての用途に好適である。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [0001] BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a laminate for printed wiring boards.
The present invention relates to a copper alloy foil used for a plate. [0002] 2. Description of the Related Art Printed wiring boards are used in electronic circuits of electronic equipment.
Is often used. Printed wiring board is the base resin
Depending on the type of hard laminated board (rigid board), flexible
And flexible laminates (flexible substrates). Flexi
The flexible substrate is characterized by having flexibility,
In addition to being used for wires,
Space saving wiring material.
It is also used. Also, is the substrate itself thin?
For semiconductor package interposer applications or
Also used as an IC tape carrier for liquid crystal displays
Have been. Flexible substrate is polyimide resin
Film or polyester resin film is used
However, at present, polyimide is often used because of its heat resistance.
ing. Is the conductive material of the flexible substrate a conductive point?
In general, copper is used. Printed wiring board is copper-clad
Various wiring patterns are formed by etching the copper foil of the laminate
Then, electronic components are connected by solder and mounted. [0003] A flexible substrate has a two-layer flexible structure due to its structure.
There are a kibble substrate and a three-layer flexible substrate. Double layer
Flexible substrate becomes conductive material with resin such as polyimide
It has a structure in which copper is directly bonded. Meanwhile, three layers
Flexible substrate is made of resin film such as polyimide.
Use copper foil as conductive material with epoxy resin or acrylic resin.
It is a structure bonded with an adhesive containing throat
However, it is widely used due to its good adhesiveness and low cost.
Has been. Because of this difference in structure,
The resin that is bonded to copper on
In contrast to polyimide, a three-layer flexible substrate
Is a resin contained in the adhesive. Adhesive used for three-layer flexible substrate
Needs properties such as heat resistance, durability, and flexibility
To adjust the strength and glass transition temperature by mixing various resins.
But generally based on epoxy resin
Is used. The adhesive for this application is epoxy resin
(For example, bisphenol A type glycidyl ether and
Curing amine etc. to (sidyl ester type epoxy resin)
Agents, nitrile rubbers and elastomers that provide flexibility.
Solvent-like or sheet-like materials are used. Copper clad
The method of manufacturing a laminated board is generally on a polyimide film.
Lay the copper foil where the solvent adhesive is applied and dried
Or sheet adhesive between polyimide film and copper foil
Between the rolls, roll press or flat
After temporary bonding with a hot press machine, it is several hundred minutes at 100-200 ° C
And heat-cured for several hours to adhere. [0005] Printed wiring boards connect electronic components with solder
When mounting, the thermal expansion coefficient of copper foil and resin
Thermal stress is applied due to the difference, so the adhesiveness between the copper foil and the resin
If it is bad, a problem of peeling occurs. For this reason, copper-clad laminates
The copper foil used is copper foil to improve the adhesion to the resin.
Roughening treatment to form copper particles on the surface by electroplating.
are doing. This is because irregularities are formed on the surface of the copper foil,
The copper foil is cut into the fat to obtain mechanical bonding strength.
The loose anchor effect improves the adhesion. on the other hand
With the recent trend toward smaller, lighter, and more sophisticated electronic devices,
Demand for high-density mounting on printed wiring boards
Fine pits with reduced wiring width and spacing between electronic circuits
Is becoming more common. Copper foil with large surface roughness
Using copper foil with irregularities formed by roughening treatment, etching
When the circuit is formed by using
Or uneven circuit width due to reduced etching linearity
Easy to be. Therefore, fine pitch electronic circuits
The surface roughness of the copper foil is
No. In electronic devices such as personal computers and mobile communications,
Although the air signal has a high frequency, the frequency of the electric signal is 1G
When the frequency is higher than Hz, the skin flows only on the surface of the conductor
The effect of the effect becomes remarkable, the transmission path changes due to surface irregularities
The effects of the change cannot be ignored. For this reason, high frequency characteristics
Attempts have been made to reduce the surface roughness of copper foils. [0006] The copper foil used as the conductive material of the printed wiring board is
It is classified into electrolytic copper foil and rolled copper foil according to the difference in manufacturing method.
You. Electrodeposited copper foil is generally removed from a sulfuric acid acidic copper sulfate plating bath.
Manufactured by electrolytic deposition of copper on a tin or stainless steel drum.
It is. Irregularities are formed on copper foil during electrolytic deposition and surface roughness
Becomes larger. Recently, additives have been added to the plating bath,
Copper foil with reduced surface roughness by adjusting electrolytic deposition conditions
Low-profile foils are being manufactured
Was. Rolled copper foil is produced by plastic working with rolling rolls.
The surface morphology of the rolling roll was transferred to the foil surface
A smooth surface is obtained. In addition, foil is generally 100μ
m means a thin plate having a thickness of not more than m. As described above, currently used for copper-clad laminates
Copper foil is roughened to improve the adhesion to the resin.
Treatment, but roughing treatment should not be performed for the above reasons.
A copper foil with a small surface roughness to a resin film
It is desirable to secure the adhesive strength without roughening
It is necessary to Also, with a three-layer flexible board
Has improved the bonding strength between copper foil, a metal, and adhesive, an organic substance.
Apply silane coupling agent etc. to copper foil to improve
Attempted, but not enough adhesion
No. [0008] Copper foil materials used as conductive materials include:
Pure copper or a copper alloy containing a small amount of additional elements is used. Electric
Copper foil, which is a conductor, has become thinner due to the finer pitch of the slave circuits.
And the circuit width is narrow, the copper foil
Low DC resistance loss and high conductivity
Is required. Copper is a material with excellent conductivity,
99.9% or more purity in the above fields where conductivity is important
Is generally used. But copper
When the purity is increased, the strength is reduced.
Since the handleability is poor, the copper foil
Is preferred. Under these circumstances, copper foil as a conductive material
Epoxy film without roughening
Attempt to bond using adhesive containing resin
Was. However, rolled copper foil of polyimide film and pure copper
Easily peels off, and the interface between the epoxy resin and copper easily peels off
Turned out to be. As a result, the copper foil, which is a conductive material, is roughened.
If used without any treatment, the main component of the adhesive, d
Peeling of the oxy-resin copper foil is likely to occur, resulting in disconnection
However, it has not been put to practical use. [0010] SUMMARY OF THE INVENTION Polyimide resin for base material
The film and the copper foil of the conductive material are
When manufacturing three-layer printed wiring boards bonded with adhesive
To improve the adhesion of the
Without the copper foil having a surface roughness (Rz) of 2 μm or less,
Adhesive strength of 8.0 N / cm or more at 0 ° peel strength
To provide a copper alloy foil for a laminated board to be manufactured. [0011] DISCLOSURE OF THE INVENTION The present inventors have proposed a polyimidizer.
Resin resin film and copper foil of conductive material contain epoxy resin
Consider the adhesiveness when bonding with adhesive
As a result, the adhesion is low based on pure copper, which has excellent conductivity.
Improvement by adding copper alloys
It was found that when the rust-preventive coating on the foil became thicker, it decreased.
Specifically, adhesion with adhesives containing epoxy resin
Of various additional elements on the corrosion, thickness and adhesion of anti-corrosion coating
As a result of repeated studies on the relationship of gender, the present invention provides (1)
  The Cr content of the additive element is 0.01 to 2.
0% by mass, and 0.01 to 1.0% by mass of Zr.
At least one of which is copper and the rest is copper and unavoidable impurities.
The thickness of the anti-corrosion film should be 3 nm or less from the surface.
The surface roughness was set to 10 μm average surface roughness (Rz) of 2 μm or less.
Lower, tensile strength 600 N / mm2As described above, the conductivity is 60%
It has characteristics higher than IACS, and does not require roughening treatment.
Epoxy when bonded to substrate resin with adhesive containing resin
180 ° peel strength between adhesive containing copper resin and copper alloy foil
Having a value of 8.0 N / cm or more.
For copper alloy foil. Is provided. Further, the present invention relates to Ag, Al, Be, C
o, Fe, Mg, Ni, P, Pb, Si, Sn, Ti
And Zn are both mainly solid solution strengthened copper alloys.
It has the effect of increasing the strength, so if necessary, one type
The above elements can be added. Its content is
If the amount is less than 0.005% by mass, the above effect is desired.
No effect is obtained, and when it exceeds 2.5% by mass, it becomes conductive.
A, since it greatly deteriorates the workability, solderability and workability.
g, Al, Be, Co, Fe, Mg, Ni, P, Pb,
The range of the contents of Si, Sn, Ti and Zn is the total amount.
It is possible at 0.005-2.5% by weight. [0013] BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION In the present invention, surface condition and alloy
The reasons for limiting the composition and the like to the above will be described. (1) Anti-corrosion coating: To prevent discoloration of pure copper and copper alloys, use Ben
Yes containing nitrogen such as zotriazole and imidazole
Using a machine, a chelate with copper is formed on the surface to prevent rust
It is widely used as a film. On the other hand,
The rust coating has water repellency and inhibits the binding of epoxy resin.
Has the effect of deteriorating adhesion. For this reason, the rust prevention coating
By limiting the thickness to 3 nm or less from the surface, epoxy
Copper alloy foil and polyimide fill using resin-containing adhesive
Can be firmly bonded to the system. Rust prevention
In order to reduce the thickness of the coating, for example,
Use benzotriazole as a rust inhibitor
If so, the concentration should be 3000 ppm or less.
Is preferred. The thickness from the surface of the rust prevention film is Auger
It can be quantified by measuring by electron spectroscopy.
  In other words, by Auger electron spectroscopy,
Analyzes and detects nitrogen, an element that constitutes the rust inhibitor,
Depth from surface until degree is equal to background
The SiO2It is determined by measuring in conversion. (2) Cr, Zr: Cr and Zr are made of resin
During the production, it acts as a catalyst to promote polymerization.
It is known. Therefore, adding these to the copper
By using alloy foil, it is the main component of metal and adhesive
Promotes bonding with epoxy resin, strengthening interface bonding
It is considered that If the amount of these additives is too small,
Since it does not act sufficiently as a medium, the bond between metal and resin
Not sufficiently performed, and the effect of improving the adhesiveness is small. Pudding
180 ° peel strength for practical use as a wiring board
8.0 N / cm or more is required.
You. In order to obtain this characteristic, it is necessary to reduce the amount of Cr and Zr.
In both cases, the addition amount of one or more kinds is 0.01% by mass or more by weight ratio.
Turned out to be. On the other hand, the amount
As a result, coarse precipitates are generated due to segregation during casting.
become. Hot rolling of metallic materials containing coarse crystals
Cracks occur in the inside and hot workability deteriorates. Also electronic
As the pitch of circuits becomes finer, copper foil, which is a conductor, becomes thinner
And the narrow circuit width, the characteristics of copper foil
Low DC resistance loss and high conductivity
It has been demanded. In addition, the conductivity increases as the amount added increases.
It may go down. Cr and Cr which do not cause these problems
And the upper limit of the amount of Zr added is as follows.
% By mass, more preferably 0.4% by mass. Also Z
r is more than 1.0% by mass, more preferably 0.25% by mass.
You. This is because plastic working is easy. Therefore
As a copper alloy foil for laminates of printed wiring boards,
An appropriate range of the addition amount is that Cr is 0.01 to 2.
0 mass%, more preferably 0.01 to 0.4 mass%
is there. Zr is 0.01 to 1.0% by mass, more preferably.
More preferably, it is 0.01 to 0.25% by mass. (3) Surface roughness: The surface roughness of the copper foil is large
When the frequency of the electric signal is 1 GHz or more,
Impedance due to the skin effect flowing only on the surface of
It increases and affects transmission of high frequency signals. Therefore,
Surface roughness is small in conductive material applications for high frequency circuits
It is necessary to consider the relationship between surface roughness and high frequency characteristics
As a result, as a copper alloy foil for laminated boards of printed wiring boards,
The surface roughness is 2 μm or less in ten-point average surface roughness (Rz).
I knew it was fine. How to reduce surface roughness
Is to optimize the production conditions for rolled copper foil and electrolytic copper foil,
Hands such as chemical polishing or electrolytic polishing of the copper foil surface
There is a law. Generally, rolled copper foil easily reduces surface roughness
It is possible to make the surface roughness of the work roll of the rolling mill
Work roll to be transferred to copper foil.
The file can be made smaller. (4) Tensile strength and conductivity: Generally, strength and conductivity
Electrical conductivity is in opposition, and the higher the strength of a material, the more conductive it is.
Tends to decrease. Tensile strength is 600N / mm2Than
If small, wrinkles may occur during handling
When the conductivity is less than 60% IACS, the laminate
Is not preferable as a conductive material. High strength and handling
Conditions suitable for copper alloy foil for laminates with excellent
Tensile strength is 600N / mm 2As described above, the conductivity is 60% IAC
S and above. (5) 180 ° peel strength: 180 ° peel strength is small
If not, peeling may occur from the laminate.
An adhesive strength of 0 N / cm or more is required. The copper alloy foil of the present invention is limited to a manufacturing method.
There is not, for example, electrolytic copper foil by alloy plating method
Or rolled copper foil by melting and casting an alloy
It can be manufactured by The method by rolling is described below as an example.
You. A predetermined amount of alloying element is added to molten pure copper,
Cast into a mold to form an ingot. In the present invention, Cr,
Since an active element such as Zr is added, the generation of oxides
In a vacuum or in an inert gas atmosphere to suppress formation
It is desirable to do. The raw material has low oxygen content
It is desirable to use electrolytic copper or oxygen-free copper. I
Ngot was thinned to a certain thickness by hot rolling
After that, skinning is performed, and then cold rolling and annealing are repeated
Finally, cold rolling is performed to finish the foil. Rolling
Since the rolling material has rolling oil on it, acetone or petroleum
Degreasing with a system solvent. [0018] If an oxide layer is formed by annealing, trouble will occur in a subsequent process.
Annealing in a vacuum or inert gas atmosphere
It is necessary to perform or remove the oxide layer after annealing.
  For example, to remove the oxide layer by pickling, sulfuric acid + peroxide
Sulfuric acid, nitric acid + hydrogen peroxide, or sulfuric acid + hydrogen peroxide + fluoride
It is preferable to use a substance. [0019] Embodiments of the present invention will be described below. Copper alloy
Fabrication was performed in an Ar atmosphere using a high-frequency vacuum induction melting furnace.
Oxygen-free copper as the main material in a high-purity graphite crucible
However, copper chromium mother alloy and copper zirconium
Mother alloy, aluminum, silver, copper beryllium mother alloy,
Baltic, iron, magnesium, manganese, nickel, copper
Mother alloy, lead, copper silicon mother alloy, tin, titanium, zinc
After adding the additional element selected from the above, it is placed in a cast iron mold.
Cast. In this way, thickness 30mm, width 50mm, length
Obtain a copper alloy ingot of 150mm, weight about 2kg
Was. This ingot is heated to 900 ° C for hot rolling.
Rolled to a thickness of 8 mm to remove oxide scale
After that, cold rolling and various heat treatments were performed to obtain a 35 μm thick
A rolled copper alloy foil was obtained. The copper alloy having a thickness of 35 μm obtained by the above method
Gold foil has rolling oil, so immerse it in acetone
The oil was removed. This is sulfuric acid 10% by weight and peroxide
Immersion in an aqueous solution containing 1% by weight of hydrogen,
And the rust preventive film was removed. Investigate the effect of anti-rust coating thickness
To adjust the concentration of benzotriazole
Immersed in the solution and immediately dried. Other roughening treatment
And silane coupling treatment to improve the adhesion
No surface treatment has been performed. Made in this way
Polyimide film with copper alloy foil with adhesive containing epoxy resin
A copper-clad laminate was produced by bonding with a lum. Copper clad laminate
Fabrication is a solvent-type adhesive mixed with epoxy resin and hardener
The agent is placed on a 25 μm thick polyimide film with a gap
Apply with a 100μm applicator and put it in the dryer
After drying at 130 ° C for 4 minutes at
Overlap, using a flat heating press, temperature 170 ℃, pressure
30kgf / cm2Copper-clad laminate for 30 minutes
I got a board. Here, the thickness of the adhesive after drying is 20 μm.
there were. The copper alloy foil thus obtained was subjected to a “hot
Rollability, Surface roughness, Rust-proof coating thickness, Conductive
Rate, high frequency characteristics, tensile strength, and adhesive strength
"Degree" was evaluated by the following method. (1) Hot rollability: Hot rollability refers to hot-rolled material.
The material is penetrated and visually inspected for cracks in the material.
The presence or absence was evaluated. (2) Surface roughness: Surface roughness is measured using a stylus type surface roughness meter.
It was measured in a direction perpendicular to the rolling direction. Measurement conditions are JI
According to the method described in SB0601, a ten-point flat
It was evaluated by the average surface roughness (Rz). (3) Thickness of rust preventive film: As described above, Auger electron
Performs depth analysis of spectroscopic analysis to compose rust preventive
Detection intensity of elemental nitrogen is the same as background
The depth from the surface until2Measured by conversion
Specified. (4) Conductivity: The conductivity is a direct current using a double bridge.
The electric resistance at 20 ° C. was determined by a four-terminal method. Measurement sample
Is a copper foil processed into a 35μm thick foil with a width of 12.7mm.
Cut. Measure the electrical resistance with a length of 50 mm between measurements.
The conductivity was determined. (5) High-frequency characteristics: High-frequency characteristics include high-frequency current
The impedance was evaluated at the time. Impedance is thick
A copper foil processed into a 35 μm foil is processed into a 1 mm
Voltage when a high-frequency current of 0 MHz and 20 mA is applied
The descent was measured and measured for a length of 100 mm. (6) Tensile strength: The tensile strength was measured at room temperature in a tensile test.
Tensile strength was measured. The measurement sample was processed to a thickness of 35 μm.
Copper foil is 12.7 mm wide and 1 long with a precision cutter
It was cut into 50 mm strips. This is the distance between scores 50
mm and at a pulling speed of 50 mm / min. (7) Adhesive strength: Adhesive strength is 180 ° peel strength by JI
Performed according to the method described in SC 5016.
Was. The measurement was performed with the stripped conductor width set to 5.0 mm and the
Fix the imide film side to the tensile tester side and
The copper alloy foil is bent in the 180 ° direction, and the tensile speed is 50 mm.
/ Min. Table 1 shows the composition of the copper alloy foil and Table 2 shows the copper alloy
The results of evaluating the properties of the foil are shown. Oxygen content is 10
ppm or less. Note that the parts indicated by “-” in the table
The minute indicates that the measurement was not performed. These are Zn
Alternatively, the copper alloy foil containing Pb is
Due to high volatility, the oxygen content could not be measured accurately
In any case, the oxygen content is 10 ppm or less.
It is estimated. Hot workability causes cracks to occur after hot rolling
Those that did not exist are indicated by ○, and those that cracked are indicated by X.
  The subsequent test was not carried out for the case where cracks occurred.
  No. of the embodiment. 1 to No. 14 is the copper alloy foil of the present invention.
This is an example. As shown in Table 1, the copper alloy foil of the present invention
Has a conductivity of 60% IACS or more and a tensile strength of 60
0N / mm2Above, when polyimide is bonded
The 180 ° peel strength was 8.0 N / cm or more.
Has excellent conductivity and handling properties, and high adhesion
It turns out that it has strength. In addition, all are hot
No cracks occurred during rolling. [0023] [Table 1] [0024] [Table 2]On the other hand, in Comparative Example No. 1 shown in Table 1, 15 is a book
It is a rolled copper foil to which the alloy component of the invention has not been added. Acid free
Ingot made by melting and casting elemental copper in Ar atmosphere
After processing, use the same adhesive
Adhered under the same conditions as LUM. Conductive because the material is pure copper
Is large, but the 180 ° peel strength is as small as 7.5 N / cm.
First, since sufficient adhesive strength is not obtained, print
Peeling may occur when used as a wiring board. No. of Comparative Example 16 and No. 17 is
Example with only one type added from Cr and Zr respectively
It processed into foil by the same method. Cr and Zr concentrations are weight ratio
Less than 0.01%, the effect of improving strength
Not enough, tensile strength is 600N / mm2Less than and less than
180 ° peel strength less than 8.0 N / cm
No. No. of Comparative Example 18 added Cr,
Because the concentration exceeded 2.0 mass% by weight ratio
In addition, coarse crystals of Cr are formed during casting,
Cracks occur during rolling, resulting in poor hot workability. N of Comparative Example
o. 19 added only Zr, but its concentration was
Since it exceeds 1.0% by mass, the same applies during hot rolling.
Cracks occurred. For this reason, No. 18 and no. 1
No. 9 could not carry out subsequent tests. No. of Comparative Example 20 added Fe,
Because the concentration exceeded 2.0 mass% by weight ratio
In addition, the conductivity is low, and as a conductive material for printed wiring boards,
Not suitable. No. of Comparative Example No. 21 is No. of the embodiment. 7
Using the alloy foil of Example 1, 6 using alloy foil
Gently scraping the surface with emery paper to roughen the surface
Processing was performed. As a result, when the surface roughness increases,
Impedance due to skin effect when energized by waves
It is not suitable for use as conductive material in high-frequency circuits.
No. No. of Comparative Example 22 is No. 22 of the embodiment. 7
Using benzotriazole as a rust inhibitor using an alloy foil of
In an aqueous solution whose concentration has been adjusted to 0.5% (5000 ppm)
Immersion treatment. High concentration of rust inhibitor
The thickness of the anti-corrosion film is as thick as 5 nm, and 180 ° peel
The strength is as small as 2.5 N / cm. [0031] The copper alloy foil of the present invention contains an epoxy resin.
The glue that is bonded to the polyimide resin film using an adhesive
When used for lint wiring board laminates, surface roughness is small.
Also has excellent adhesion to resin and high conductivity and strength
Have. As a result, electronic circuits that require fine wiring
It is suitable for use as a conductive material.

フロントページの続き Fターム(参考) 4E351 AA04 BB01 BB30 DD04 GG02 4F100 AK01A AK41 AK51G AS00D BA03 BA04 BA07 CA01B CB00 DE04B DJ01B EJ91D GB90 HB31B HB31C JA03A JJ02 JK11 JL02 5E343 AA18 BB24 BB67 CC01 GG02 GG11 Continuation of front page    F term (reference) 4E351 AA04 BB01 BB30 DD04 GG02                 4F100 AK01A AK41 AK51G AS00D                       BA03 BA04 BA07 CA01B                       CB00 DE04B DJ01B EJ91D                       GB90 HB31B HB31C JA03A                       JJ02 JK11 JL02                 5E343 AA18 BB24 BB67 CC01 GG02                       GG11

Claims (1)

【特許請求の範囲】 【請求項1】 添加元素の成分を重量割合にてCrが
0.01〜2.0質量%、Zrが0.01〜1.0質量
%、の各成分の内一種以上を含み、残部を銅及び不可避
不純物からなり、防錆皮膜の厚さが表面から3nm以下
とすることにより、表面粗さを十点平均表面粗さ(R
z)で2μm以下、引張強さを600N/mm以上、
導電率を60%IACS以上の特性を有し、粗化処理が
不要で,エポキシ樹脂を含む接着剤で基板樹脂と接合し
たときにエポキシ樹脂を含む接着剤と銅合金箔との18
0゜ピール強度が8.0N/cm以上であることを特徴
とする、積層板用銅合金箔。
Claims: 1. A component of the additive element in which the content of Cr is 0.01 to 2.0% by mass and the content of Zr is 0.01 to 1.0% by mass. Including the above, the balance is made of copper and unavoidable impurities, and the thickness of the rust preventive film is 3 nm or less from the surface, so that the surface roughness is reduced to a ten-point average surface roughness (R
z) 2 μm or less, tensile strength 600 N / mm 2 or more,
It has a conductivity of 60% IACS or more, does not require roughening treatment, and is made of an adhesive containing an epoxy resin and a copper alloy foil when bonded to a substrate resin with an adhesive containing an epoxy resin.
A copper alloy foil for a laminate, wherein the 0 ° peel strength is 8.0 N / cm or more.
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