JP2003005382A - 現像液、画像形成方法、着色画像形成方法、カラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ付アレイ基板の製造方法、樹脂層付アレイ基板の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 安定した現像活性を有し現像促進性に優れ、
特に感光性樹脂を適切な時間で現像し、解像度および現
像残渣の除去性に優れると共に、ＴＦＴ等の半導体素子
の半導体特性に及ぼす悪影響がない現像液を提供する。 【解決手段】 （Ａ）リン酸系アルカリ剤、（Ｂ）ケイ
酸系アルカリ剤、（Ｃ）炭酸系アルカリ剤、（Ｄ）硼酸
系アルカリ剤、（Ｅ）アミン系アルカリ剤、および
（Ｆ）アンモニウム系アルカリ剤より選択される少なく
とも一種のアルカリ剤と、アルキルナフタレン系界面活
性剤とを含むことを特徴とする現像液である。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、カラーフィルタ、
ビルドアップ基板、プリント基板の作製に用いられるフ
ォトレジスト等の現像に使用される現像液、露光・現像
して画像形成する画像形成方法、着色画像形成方法およ
びカラーフィルタの製造方法、並びに携帯情報端末、パ
ーソナルコンピュータ、テレビジョン装置等の平面ディ
スプレイ、液晶表示素子に用いられる各種アレイ基板の
製造方法に関し、詳しくは、フォトレジスト等の現像に
好適な新規な現像液、該現像液を用いた画像形成方法、
着色画像形成方法およびカラーフィルタの製造方法、並
びにアレイ基板上に直接（着色）樹脂層を形成するアレ
イ基板の製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、顔料が分散された感光性材料の現
像は難しく、特に、現像時間の短縮、画像の高解像度
化、現像残渣による現像不良の点で問題があり、これら
全てを同時に満足することは困難であった。

【０００３】このような状況のもと、近年、液晶表示素
子の分野においては、高精細化したときの開口率の向上
等の要求から、ガラス基板表面に付与されていたカラー
フィルタである着色層や透明層の一部または全部（以
下、「樹脂層」ということがある。）を、ＴＦＴ等の半
導体素子を備えたアレイ基板上に直接形成する方法が検
討されている。

【０００４】ところが、半導体分野で使用される現像液
の場合、アルカリ金属イオンが含まれていると、それが
現像時に薄膜トランジスタ（ＴＦＴ；以下、単に「ＴＦ
Ｔ」ということがある。）などの半導体素子に吸収され
動作特性へ悪影響を与えることがよく知られている。ア
レイ基板には、ＴＦＴ等の駆動用の半導体素子が形成さ
れているため、現像処理過程においては、現像液中のア
ルカリ金属による基板の汚染を排除する必要がある。そ
のため、従来からカラーフィルタの形成に一般的に用い
られている炭酸ナトリウム系の現像液は使用することが
できず、ナトリウム、カリウムなどのアルカリ金属イオ
ンを含まない有機アルカリ現像液の開発が望まれてい
た。

【０００５】上記金属イオンを含まない有機アルカリ現
像液としては、有機アルカリ現像液、例えば、電子材料
用途で一般的に使用されているテトラメチルアンモニウ
ムヒドロキシド（ＴＭＡＨ）、コリンなどの有機アルカ
リ剤を用いた現像液があるが、該現像液を使用すると、
現像速度が速すぎて微細にパターニング露光された感光
樹脂の、ごく微細なパターン領域の現像が困難となり解
像度を確保できず、不良率が大きいといった問題があ
る。この場合に、現像速度を調節する目的でアルカリ濃
度を希薄にすると、現像液の安定性が悪化することにな
り、製造時に現像性能が低下して安定な製造が困難とな
る。

【０００６】また、上記有機アルカリ剤を用いた現像液
によって感光性樹脂を現像する場合、感光性樹脂の溶解
性が不充分なため現像時間が非常に長くなり、解像度が
低下し、残渣が残ることがある。このような場合、感光
性樹脂への水系現像液の浸透性を促進したり、樹脂膜を
構成する組成物の可溶化を促進する目的で、界面活性剤
を併用する技術が広く知られている。

【０００７】上記界面活性剤としては、一般に知られる
スルホン酸系の界面活性剤はアルカリ金属イオンを含ん
でいるために好ましくないことから、ノニオン系の界面
活性剤が用いられる。一般には、ポリエチレンオキサイ
ド（ＰＥＯ）系、ポリプロピレンオキサイド（ＰＰＯ）
系、グリシドール系などの非イオン系（ノニオン系）の
界面活性剤も広く使用されているが、感光性樹脂を充分
に溶解できない場合があり、本用途の現像液に使用する
ことができなかった。即ち、これらを用いても解像度や
現像残渣の点で要求を満たすには至らなかった。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】以上の通り、現像促進
性に優れ、特に感光性樹脂層（膜）の現像を良好に行
え、しかもアレイ基板に備えられたＴＦＴ等の半導体素
子への悪影響がない現像液は未だ提供されていないのが
現状である。したがって、本発明は、上記従来における
諸問題を解決し、以下の目的を達成することを課題とす
る。即ち、

【０００９】本発明は、安定した現像活性を有し現像促
進性に優れ、特に感光性樹脂を適切な時間で現像し、解
像度および現像残渣の除去性に優れると共に、ＴＦＴ等
の半導体素子の半導体特性に及ぼす悪影響がない現像液
を提供することを目的とする。本発明は、現像残渣を生
じず、高精細な画像を高解像度に安定形成し得る画像形
成方法および着色画像形成方法、並びに現像残渣による
解像度の低下がなく、高精細なカラーフィルタを安定に
形成し得るカラーフィルタの製造方法を提供することを
目的とする。更に、本発明は、ＴＦＴ等の半導体素子の
半導体特性に悪影響を及ぼすことなく、アレイ基板上に
直接、高精細な樹脂層またはカラーフィルタを現像残渣
なく高解像度に形成し得るカラーフィルタ付アレイ基板
の製造方法または樹脂層付アレイ基板の製造方法を提供
することを目的とする。

【００１０】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
の手段は以下の通りである。即ち、 ＜１＞ （Ａ）リン酸系アルカリ剤、（Ｂ）ケイ酸系ア
ルカリ剤、（Ｃ）炭酸系アルカリ剤、（Ｄ）硼酸系アル
カリ剤、（Ｅ）アミン系アルカリ剤、および（Ｆ）アン
モニウム系アルカリ剤より選択される少なくとも一種の
アルカリ剤と、アルキルナフタレン系界面活性剤とを含
むことを特徴とする現像液である。

【００１１】＜２＞ 前記選択されるアルカリ剤の少な
くとも一種が有機アルカリ化合物であることを特徴とす
る前記＜１＞の現像液である。

【００１２】＜３＞ ｐＨ値が、前記選択されるアルカ
リ剤のｐＫａ値に対し、ｐＫａ−１．５〜ｐＫａ＋１．
５の範囲内にあることを特徴とする前記＜１＞または＜
２＞の現像液である。

【００１３】＜４＞ 前記界面活性剤が、下記一般式
（Ｉ）で表されることを特徴とする前記＜１＞〜＜３＞
いずれかの現像液である。

【００１４】

【化２】 〔一般式（Ｉ）中、Ｍは非メタルカチオンを表し、Ｒは
アルキル基を表す。ｎは０〜５の整数を表す。〕

【００１５】＜５＞ 前記選択されるアルカリ剤の含有
濃度が０．０１〜２０質量％であり、かつ、前記界面活
性剤の含有濃度が０．０１〜２０質量％であることを特
徴とする前記＜１＞〜＜４＞いずれかの現像液である。

【００１６】＜６＞ アルカリ現像可能でかつ感光性の
画像形成材料からなる感光性樹脂層を基板上に形成し、
露光現像して画像を形成する画像形成工程を含む画像形
成方法において、前記露光現像に用いる現像液が、前記
＜１＞〜＜５＞いずれかの現像液であることを特徴とす
る画像形成方法である。

【００１７】＜７＞ アルカリ現像可能でかつ感光性の
着色画像形成材料からなる感光性樹脂層を基板上に形成
し、露光現像して着色画像を形成する着色画像形成工程
を含む着色画像形成方法において、前記露光現像に用い
る現像液が、前記＜１＞〜＜５＞いずれかの現像液であ
ることを特徴とする着色画像形成方法である。

【００１８】＜８＞ 前記着色画像形成材料が、酸価２
０〜３００の樹脂、顔料、重合性不飽和結合を分子内に
１個以上含有するモノマー、および、光重合開始剤を含
むことを特徴とする前記＜７＞の着色画像形成方法であ
る。

【００１９】＜９＞ 同一基板上に、前記＜７＞または
＜８＞の着色画像形成方法によって複数の着色領域を形
成する工程を含むことを特徴とするカラーフィルタの製
造方法である。 ＜１０＞ 同一のアレイ基板上に、前記＜７＞または＜
８＞の着色画像形成方法によって複数の着色領域を形成
する工程を含むことを特徴とするカラーフィルタ付アレ
イ基板の製造方法である。 ＜１１＞ アレイ基板上に、前記＜６＞の画像形成方法
によって樹脂層を形成する工程を含むことを特徴とする
樹脂層付アレイ基板の製造方法である。

【００２０】

【発明の実施の形態】本発明の現像液においては、金属
イオンを実質的に含まないアルカリ剤とアルキルナフタ
レン系界面活性剤とを含んでなることを特徴とし、本発
明の画像形成方法、着色画像形成方法、カラーフィルタ
の製造方法、カラーフィルタ付アレイ基板の製造方法、
および樹脂層付アレイ基板の製造方法においては、上記
本発明の現像液を用いる。以下、本発明の現像液につい
て詳細に説明し、該説明を通じて本発明の各方法につい
ても詳述する。

【００２１】＜現像液＞本発明の現像液は、広くアルカ
リ現像可能な材料を現像し得るものであり、特に画像
（樹脂層、カラーフィルタ等）の形成に寄与する感光性
樹脂層（膜）を溶解現像しうるものであり、（Ａ）リン
酸系アルカリ剤、（Ｂ）ケイ酸系アルカリ剤、（Ｃ）炭
酸系アルカリ剤、（Ｄ）硼酸系アルカリ剤、（Ｅ）アミ
ン系アルカリ剤、および（Ｆ）アンモニウム系アルカリ
剤より選択される少なくとも一種のアルカリ剤と、アル
キルナフタレン系界面活性剤とを含んでなる。また、必
要に応じて、酸類、有機溶剤等の他の成分を含有してい
てもよい。

【００２２】（アルカリ剤）本発明の現像液おいて、上
記アルカリ剤としては、アルカリ性を保持し得る現像主
薬であって、かつ実質的にナトリウムやカリウム等の金
属イオンを含まないものが望ましく、以下に示す（Ａ）
〜（Ｆ）より選択されるアルカリ剤を含有する。本発明
においては、下記（Ａ）〜（Ｆ）のアルカリ剤群のいず
れかに含まれるアルカリ剤（即ち、無機若しくは有機の
アルカリ化合物）のうちの少なくとも一種を含有してい
ればよく、二種以上を含有していてもよい。

【００２３】−（Ａ）リン酸系アルカリ剤− 上記リン酸系アルカリ剤としては、リン酸塩、ポリリン
酸塩、メタリン酸塩、ピロリン酸塩等が好適に挙げられ
る。これら塩のカウンターイオンとしては、テトラメチ
ルアンモニウム、テトラエチルアンモニウム、コリン、
その他有機カチオン、アミン類のイオンが挙げられる。
例えば、リン酸テトラメチルアンモニウムヒドロキシ
ド、リン酸二テトラメチルアンモニウム、リン酸三テト
ラメチルアンモニウム、リン酸二コリン塩、ピロリン酸
アンモニウム、リン酸二テトラエチルアンモニウム、メ
タリン酸テトラメチルアンモニウム、ポリリン酸アンモ
ニウム塩等が挙げられる。

【００２４】−（Ｂ）ケイ酸系アルカリ剤− 上記ケイ酸系アルカリ剤としては、ケイ酸塩等が好適に
挙げられ、その塩のカウンターイオンとしては、テトラ
メチルアンモニウム、テトラエチルアンモニウム、コリ
ン、その他有機カチオン、アミン類のイオンが挙げられ
る。

【００２５】−（Ｃ）炭酸系アルカリ剤− 上記炭酸系アルカリ剤としては、炭酸塩等が好適に挙げ
られ、その塩のカウンターイオンとしては、テトラメチ
ルアンモニウム、テトラエチルアンモニウム、コリン、
その他有機カチオン、アミン類のイオンが挙げられる。
例えば、炭酸テトラメチルアンモニウム、炭酸テトラエ
チルアンモニウム、炭酸二テトラメチルアンモニウム、
炭酸アンモニウム等が挙げられる。

【００２６】−（Ｄ）硼酸系アルカリ剤− 上記硼酸系アルカリ剤としては、硼酸塩、メタ硼酸塩、
四硼酸塩等が好適に挙げられ、その塩のカウンターイオ
ンとしては、テトラメチルアンモニウム、テトラエチル
アンモニウム、コリン、その他有機カチオン、アミン類
のイオンが挙げられる。例えば、メタ硼酸アンモニウ
ム、四硼酸テトラメチルアンモニウム、五硼酸テトラメ
チルアンモニウム、八硼酸アンモニウム等が挙げられ
る。

【００２７】−（Ｅ）アミン系アルカリ剤− 上記アミン系アルカリ剤としては、例えば、トリエタノ
ールアミン、イノシン、カテコール、ジエタノールアミ
ン、アセチルアセトン、トリス（ヒドロキシメチル）メ
チルアミン、エチルアミン、ジエチルアミン、トリエチ
ルアミン、シクロヘキシルアミン、ジメチルアミン、メ
チルアミン、２−アミノエタノール、モノエタノールア
ミン、アンモニアフェニルヒドラジン等が好適に挙げら
れる。

【００２８】−（Ｆ）アンモニウム系アルカリ剤− 上記アンモニウム系アルカリ剤としては、テトラメチル
アンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウム
ヒドロキシド、コリン、等が挙げられる。

【００２９】上記のほか、化学便覧（基礎編改訂第４
版、ｐ.３１７〜３２１、丸善（株）製）の表１０・１
９「有機化合物の解離定数」に記載の、ｐＫａ７〜１４
の化合物も挙げられる。

【００３０】上記アルカリ剤は一種単独で若しくは２種
以上で用いられ、含有されるアルカリ剤の少なくとも一
種は、有機アルカリ化合物とすることが好ましい。上記
の中でも、トリエタノールアミン、ジエタノールアミ
ン、モノエタノールアミン、ブチルアミン、フェニルヒ
ドラジン、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイ
ドが好ましく、モノエタノールアミン、ジエタノールア
ミン、トリエタノールアミンが特に好ましい。

【００３１】尚、上記（Ａ）〜（Ｆ）より選択されるア
ルカリ剤のほか、本発明の効果を損なわない範囲で、公
知のアルカリ剤を併用することもできる。上記（Ａ）〜
（Ｆ）より選択されるアルカリ剤の総含有量としては、
現像液１００質量部に対して、０．０１〜２０質量部が
好ましく、０．１〜１０質量部がより好ましく、０．３
〜５質量部が特に好ましい。上記総含有量が、０．０１
質量部未満であると、画像の解像度が低下することがあ
り、２０質量部を超えると、例えば感光性の画像形成材
料からなる感光性樹脂層に対して使用した際に、該感光
性樹脂層全体が基板から剥離して、画像様に選択除去が
できなくなることがある。

【００３２】本発明の現像液においては、実質的に金属
イオンを含まないことが望ましく、上記（Ａ）〜（Ｆ）
より選択されるアルカリ剤を用いることにより金属イオ
ン濃度を低減することができる。アレイ基板上にＴＦＴ
等の半導体素子を形成する半導体プロセスでは、上記ア
ルカリ金属の濃度が低い程、ＴＦＴ等の品質が高くなる
ことが知られており、一般には５０ｐｐｂ程度に管理さ
れている。ＴＦＴ形成後のアレイ基板の処理において
は、該ＴＦＴ上に無機保護膜等が形成されることによ
り、アルカリ金属の影響はやや抑えられる。

【００３３】具体的には、現像液中の金属イオン濃度と
しては、０．０１ｐｐｂ〜３００ｐｐｍが好ましく、
０．０２ｐｐｂ〜５０ｐｐｍがより好ましく、０．１〜
１００ｐｐｂが最も好ましい。上記金属イオン濃度が、
３００ｐｐｍを超えると、ＴＦＴ等の半導体素子を備え
るアレイ基板に適用する場合に、アレイ基板の動作不良
を誘発する可能性があり、０．０１ｐｐｂ未満で少なす
ぎる場合にも、精製工程が増え現像液のコストが高くな
ることがある。

【００３４】上記金属イオン濃度とは、リチウム、ナト
リウム、カリウム等のアルカリ金属のイオンの合計のイ
オン濃度をいう。このイオン濃度は、原子吸光法（ＩＣ
Ｐ発光法（プラズマ発光分光光度分析））によって測定
することができる。

【００３５】（界面活性剤）上記界面活性剤としては、
アルキルナフタレン系界面活性剤を含有する。アルキル
ナフタレン系界面活性剤としては、公知のものの中から
適宜選択することができるが、中でも、下記一般式
（Ｉ）で表される化合物が好ましい。

【００３６】

【化３】

【００３７】上記一般式（Ｉ）中Ｍは、非メタルカチオ
ンを表す。上記カチオンとしては、例えば、ＮＨ₄ ⁺、モ
ノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノ
ールアミン、テトラメチルアンモニウム、等の非メタル
カチオンが挙げられる（アミン類はプロトンが付加しア
ンモニウム型となった塩）。

【００３８】上記一般式（Ｉ）において、現像残渣の除
去性の点で、「−ＳＯ₃Ｍ」はナフタレン環の２位、３
位、６位、７位のいずれかの位置に結合していることが
好ましい。

【００３９】上記一般式（Ｉ）中、Ｒはアルキル基を表
す。該アルキル基は、直鎖状であってもよく分岐鎖であ
ってもよく、置換若しくは無置換のいずれであってもよ
い。上記アルキル基としては、炭素数１〜１２のアルキ
ル基が好ましく例えば、メチル基、エチル基、ブチル
基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ペンチ
ル基、ヘキシル基等が挙げられる。中でも、炭素数２〜
５のアルキル基がより好ましく、炭素数３〜４のアルキ
ル基が特に好ましい。

【００４０】置換基で置換されている場合の置換基とし
ては、例えば、−ＯＨ、−ＮＨ₂、−ＣＯＯＨ、およ
び、これらの塩等が挙げられる。また、一般式（Ｉ）中
のｎは０〜５の整数を表す。但し、ｎ＝０では充分に効
果を発揮しにくいため本発明の効果を充分に発揮する観
点から、上記ｎは１〜４が好ましく、２〜３がさらに好
ましい。また上記式（Ｉ）中、ナフタレン環の２位の位
置に「−ＳＯ₃Ｍ」結合している場合、Ｒで表されるア
ルキル基は少なくとも５位、６位、７位、８位のいずれ
かに結合していることが好ましく、６位ないし７位に結
合していることがさらに好ましく、「−ＳＯ₃Ｍ」のち
ょうど反対側である６位に結合していることが特に好ま
しい。また、上記一般式（Ｉ）表わされる化合物は、通
常、異なる部位にアルキル基が結合したものや、結合す
るアルキル基の数であるｎの値の異なるものの混合物と
して用いることが多いが、例えば、ｎ＝０〜３までの一
般式（Ｉ）で表わされる化合物の混合物であって、各々
アルキル基としてブチル基を有するものを用いる場合、
その質量比（ｎの値；０／１／２／３）は、１６／３２
／３５／１７が好ましい。

【００４１】以下、上記一般式（Ｉ）で表される化合物
の具体例を示すが、本発明においては、これらに制限さ
れるものではない。

【００４２】

【化４】

【００４３】上記アルキルナフタレン系界面活性剤の総
含有量としては、現像液１００質量部に対して、０．０
１〜２０質量部が好ましく、０．１〜１０質量部がより
好ましく、０．２〜３質量部が特に好ましい。上記アル
キルナフタレン系界面活性剤の総含有量が、０．０１質
量部未満であると、現像促進性が低下することがあり、
２０質量部を超えると、例えば感光性の（着色）画像形
成材料からなる感光性樹脂層に対して使用した際に、該
感光性樹脂層全体が基板から剥離しやすくなり、画像様
に選択的除去ができなくなることがある。

【００４４】更に、本発明の現像液には、プルロニック
型界面活性剤、直鎖アルキルフェニルエーテル型界面活
性剤、直鎖アルキル−親水基型界面活性剤など、上記以
外の界面活性剤を溶解してもよい。この時の使用量とし
ては、上記アルキルナフタレン系界面活性剤の含有量の
０．５倍以下が好ましく、該含有量の０．０１〜０．１
倍が特に好ましい。

【００４５】上記アルキルナフタレン系界面活性剤は、
現像液の現像促進性を良化でき、特に感光性の画像形成
材料からなる感光性樹脂層の溶解性（現像性）を促進す
ることができる。

【００４６】さらに、現像液には、公知の界面活性剤を
添加することもできる。公知の界面活性剤の濃度として
は、０．０１〜１０質量％が好ましい。

【００４７】（他の成分）本発明の現像液においては、
そのｐＨ調整、ｐＨ変動の抑制等の目的で酸類を混合す
ることが好ましい。該酸類の添加により緩衝液を形成
し、その緩衝作用により現像液の経時安定性を向上させ
ることができる。上記酸類としては、塩酸、硫酸、硝酸
等の鉱酸（無機酸）；メタンスルホン酸、ベンゼンスル
ホン酸等のスルホン酸類；クエン酸、コハク酸、蓚酸、
酢酸、アスコルビン酸、アミノ酸類等の有機酸；炭酸水
溶液、炭酸ガス等の酸性ガスなどが挙げられる。金属、
半導体等との接触、汚染、相互作用などによる弊害が懸
念されない場合には、リン酸も使用できる。中でも、Ｔ
ＦＴ等の半導体素子への影響の点で、酢酸、炭酸ガス、
スルホン酸類が好ましい。

【００４８】炭酸ガス等を用いる場合、現像液中に吹き
込む等の公知の方法を適宜選択して行える。また、現像
液中に加える上記酸類、酸性ガスの量としては、設定し
ようとする現像液の初期ｐＨ値に調整するのに要する量
であればよい。ｐＨ値は、例えば、ｐＨ計（東亜電波工
業（株）製）により測定できる。

【００４９】本発明の現像液のｐＨ値としては、現像液
自体の経時安定性の向上の点で、上記（Ａ）〜（Ｆ）よ
り選択されるアルカリ剤のｐＫａ値との関係で、ｐＫａ
−１．５≦ｐＨ≦ｐＫａ＋１．５を満たす値が好まし
い。上記ｐＨは、上記酸類等を用いて調整することがで
きる。ここで、ｐＫａとは、「−ｌｏｇ₁₀（共役酸の電
離定数）」と定義される値である（理化学辞典（第３
版）、ｐ.１０７９の「ｐＫ」の説明、(株)岩波書
店）。

【００５０】現像液には水系溶媒が用いられ、水のほ
か、更に水と混和性を有する有機溶剤を少量添加するこ
ともできる。水と混和性を有する有機溶剤としては、メ
タノール、エタノール、２−プロパノール、１−プロパ
ノール、ブタノール、ジアセトンアルコール、エチレン
グリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモ
ノエチルエーテル、エチレングリコールモノｎ−ブチル
エーテル、ベンジルアルコール、アセトン、メチルエチ
ルケトン、シクロヘキサノン、ε−カプロラクトン、γ
−ブチロラクトン、ジメチルホルムアミド、ジメチルア
セトアミド、ヘキサメチルホスホルアミド、乳酸エチ
ル、乳酸メチル、ε−カプロラクタム、Ｎ−メチルピロ
リドン等が挙げられる。上記有機溶剤の濃度としては、
０．１〜３０質量％が好ましい。また、本発明の現像液
は、輸送・保管の際は２〜３０倍に濃縮した状態とし、
使用時に超純水、イオン交換水等で希釈して目的の濃度
とするのが好ましい。

【００５１】また、現像主薬として上記（Ａ）〜（Ｆ）
より選択されるアルカリ剤を含有する本発明の現像液
は、特開平９−２４４２３９号公報等に記載の、いわゆ
るビルドアップ基板用に使用される感光性樹脂の現像処
理にも使用できる。銅配線層を絶縁膜ではさんで積層構
造に形成されたビルドアップ基板においても、アルカリ
金属イオンが混入、残留すると、イオンマイグレーショ
ンによる絶縁不良を引き起こすことが知られている。従
って、アミン化合物等を現像主薬とする、アルカリ金属
イオンの含有量の少ない現像液は、この用途においても
非常に有用である。さらに、特願平８−３３１４８１号
公報に記載の、プリント基板用ドライフィルムレジスト
用に用いられる感光性樹脂の現像処理にも好適である。

【００５２】上記のように、上記（Ａ）〜（Ｆ）より選
択されるアルカリ剤と、アルキルナフタレン系界面活性
剤とを含有することにより、現像促進性を向上でき、特
に感光性の（着色）画像形成材料からなる感光性樹脂層
の現像性を向上できる。また、現像主薬として（Ａ）〜
（Ｆ）より選択されるアルカリ剤を用いるので、現像液
中の金属イオン濃度が低く抑えられ、特にＴＦＴ等の半
導体素子を備えた基板に用いる場合にもその半導体特性
に悪影響を及ぼすこともない。更に、緩衝能も高くｐＨ
変動に起因する現像性の低下も少なく、現像液自体の経
時安定性に優れ、高精細な画像領域を高解像度にかつ安
定に現像処理することができる。

【００５３】＜画像形成方法、着色画像形成方法＞上記
画像形成方法（または着色画像形成方法）は、アルカリ
現像可能でかつ感光性の画像形成材料（または着色画像
形成材料）からなる感光性樹脂層を基板上に形成し（以
下、この操作を「感光性層形成工程」ということがあ
る。）、露光、現像して画像（または着色画像）を形成
する画像形成工程（または着色画像形成工程）を含んで
なり、必要に応じて他の工程を含んでいてもよく、上記
（着色)画像形成工程における現像処理に上記本発明の
現像液を用いる。以下、各工程に沿って順に説明する。

【００５４】〔（着色)画像形成工程〕上記（着色)画像
形成工程は、上記感光性層形成工程と、該感光性層形成
工程後に露光する露光工程と、既述の本発明の現像液で
現像する現像工程とを少なくとも有して構成され、特に
本発明の着色画像形成方法においては、基板上に着色画
像が形成される。

【００５５】〈感光性層形成工程〉上記感光性層形成工
程においては、基板上にアルカリ現像可能でかつ感光性
の（着色）画像形成材料からなる感光性樹脂層を形成す
る。必要に応じて、酸素遮断膜等の他の層を形成するこ
ともできる。

【００５６】（感光性樹脂層）上記感光性樹脂層は、ア
ルカリ現像可能でかつ感光性の（着色）画像形成材料を
用いて形成される。上記画像形成材料は、少なくとも感
光性樹脂を含んで構成され、上記着色画像形成材料は、
少なくとも感光性樹脂と染料や顔料等の着色剤とを含ん
で構成される。また、必要に応じて、重合性化合物、重
合開始剤、界面活性剤、接着助剤、紫外線吸収剤等の他
の成分を含有していてもよい。

【００５７】上記感光性樹脂としては、着色画像形成材
料を用いた場合にも感光性を損なわず、着色剤の分散
性、成膜性、アルカリ現像性を有するものであれば制限
なく使用でき、例えば、特願平２−８２２６２号に記載
の感光性樹脂が全て使用できる。該感光性樹脂には、ア
ルカリ水溶液により現像可能なものと、有機溶剤により
現像可能なものが知られているが、公害防止、労働安全
性の確保の観点から、アルカリ水溶液により現像可能な
ものが好ましい。

【００５８】上記感光性樹脂の具体例としては、以下の
樹脂が挙げられる。例えば、カルボキシメチルヒドロキ
シエチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース等の
セルロース系樹脂、ポリビニルアルコール、ポリビニル
ピロリドン等が挙げられ、中でも、（メタ）アクリル酸
（アクリル酸またはメタクリル酸を意味する。以下同
様）、イタコン酸、マレイン酸、無水マレイン酸、マレ
イン酸モノアルキルエステル等のカルボキシル基含有重
合性モノマーと、メチルメタクリレート、エチルメタク
リレート、プロピルメタクリレート、ブチルメタクリレ
ート、メチルアクリレート、エチルアクリレート、プロ
ピルアクリレート、ブチルアクリレート等の（メタ）ア
クリル酸エステル、スチレン、スチレン誘導体、その他
の重合性モノマーと、の共重合体等が好ましい。

【００５９】上記マレイン酸モノアルキルエステルとし
ては、炭素数１〜１２のアルキル部位を有するものが好
ましく、例えば、マレイン酸モノメチル、マレイン酸モ
ノエチル、マレイン酸モノ(n-)プロピル、マレイン酸モ
ノイソプロピル、マレイン酸モノ(n-)ブチル、マレイン
酸モノ(n-)ヘキシル、マレイン酸モノ(n-)オクチル、マ
レイン酸モノ２−エチルヘキシル、マレイン酸モノ(n-)
ノニル、マレイン酸モノ(n-)ドデシル等が挙げられる。
上記スチレン誘導体としては、例えば、α−メチルスチ
レン、ｍ−またはｐ−メトキシスチレン、ｐ−ヒドロキ
シスチレン、２−メトキシ−４−ヒドロキシスチレン、
２−ヒドロキシ−４−メチルスチレン等が挙げられる。

【００６０】また、上記感光性樹脂としては、光感度の
向上等の目的で、重合性不飽和結合を有するものを用い
てもよい。好ましい例としては、高酸価のカルボキシル
基含有樹脂に、グリシジルメタクリレート、グリシジル
アクリレート、アリルグリシジルエーテル、α−エチル
グリシジルアクリレート、クロトニルグリシジルエーテ
ル、イタコン酸モノアルキルグリシジルエーテル等のオ
キシラン環とエチレン性不飽和結合とをそれぞれ１個有
する化合物や、アリルアルコール、２−ブテン−４−オ
ール、フルフリルアルコール、オレイルアルコール、シ
ンナミルアルコール、２−ヒドロキシエチルアクリレー
ト、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、Ｎ−メチロ
ールアクリルアミド等の水酸基とエチレン性不飽和結合
とをそれぞれ１個有する化合物（不飽和アルコール）を
反応させた樹脂；水酸基を有するカルボキシル基含有樹
脂に遊離イソシアネート基含有不飽和化合物を反応させ
た樹脂、エポキシ樹脂と不飽和カルボン酸との付加反応
物に多塩基酸無水物を反応させた樹脂、共役ジエン重合
体や共役ジエン共重合体と不飽和ジカルボン酸無水物と
の付加反応物に水酸基含有重合性モノマーを反応させた
樹脂などが挙げられる。

【００６１】上記感光性樹脂の不飽和当量としては、６
００〜３０００が好ましく、８００〜２０００がより好
ましい。該不飽和当量が、６００未満であると、画像形
成材料の作製に際し、顔料分散時に感光性樹脂が一部硬
化することがあり、３０００を超えると、十分な光感度
が得られないことがある。尚、ここでの不飽和当量と
は、不飽和結合一つ当りの樹脂の分子量を指す。

【００６２】上記（着色）画像形成材料としては、例え
ば、ネガ型ジアゾ樹脂とバインダーとからなる感光性樹
脂、光重合性組成物、アジド化合物とバインダーとから
なる感光性樹脂組成物、桂皮酸型感光性樹脂組成物等が
挙げられ、中でも、光重合開始剤、光重合性モノマーお
よびバインダーを基本構成要素として含んでなる光重合
性組成物が特に好ましい。尚、着色画像形成材料には、
これらに更に着色剤が含まれる。

【００６３】また、感光性樹脂層は、光を照射した部分
が溶解性を帯び、現像処理により除去されるタイプの感
光性樹脂層（以下、「ポジ型感光性樹脂層」ということ
がある。）を用いることもできる。該ポジ型感光性樹脂
層に用いられる感光性樹脂としては、ノボラック系の樹
脂が挙げられ、公知のものの中から適宜選択できる。例
えば、特開平７−４３８９９号公報に記載のアルカリ可
溶性ノボラック樹脂が好適に使用できる。また、ポジ型
感光性樹脂層としては、例えば、特開平６−１４８８８
８号公報に記載のポジ型感光性樹脂層、即ち、該公報記
載のアルカリ可溶性樹脂と、感光剤として１，２−ナフ
トキノンジアジドスルホン酸エステルと、熱硬化剤との
混合物を含んでなる感光性樹脂層を好適に用いることが
できる。また、特開平５−２６２８５０号公報に記載の
組成物もポジ型感光性樹脂層の成分として使用可能であ
る。

【００６４】上記着色画像形成材料は、染料や顔料等の
着色剤を含み、後述のように、例えばカラーフィルタ等
の着色された画像を形成することができる。尚、顔料に
は無機顔料と有機顔料とがあり、いずれも使用すること
ができる。中でも、有機顔料が好ましく、例えば、アゾ
系、フタロシアニン系、インジゴ系、アントラキノン
系、ペリレン系、キナクリドン系、メチン・アゾメチン
系、イソインドリノン系等が挙げられる。カラーフィル
ターの製造には、赤、緑、青および黒色等の着色に適し
た各顔料系が用いられる。具体的には、以下の通りであ
る。

【００６５】上記染料や顔料等の着色剤としては、例え
ば、ビクトリア・ピュアーブルーＢＯ（Ｃ．Ｉ．４２５
９５）、オーラミン（Ｃ．Ｉ．４１０００）、ファット
・ブラックＨＢ（Ｃ．Ｉ．２６１５０）、モノライト・
イエローＧＴ（Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１２）、パ
ーマネント・イエローＧＲ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエ
ロー１７）、パーマネント・イエローＨＲ（Ｃ．Ｉ．ピ
グメント・イエロー８３）、パーマネント・カーミンＦ
ＢＢ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１４６）、ホスター
バームレッドＥＳＢ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・バイオレッ
ト１９）、パーマネント・ルビーＦＢＨ（Ｃ．Ｉ．ピグ
メント・レッド１１）ファステル・ピンクＢスプラ
（Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド８１）モナストラル・フ
ァースト・ブルー（Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１
５）、モノライト・ファースト・ブラックＢ（Ｃ．Ｉ．
ピグメント・ブラック１）、カーボンブラック、

【００６６】さらに、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド９
７、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１２２、Ｃ．Ｉ．ピグ
メント・レッド１４９、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１
６８、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１７７、Ｃ．Ｉ．ピ
グメント・レッド１８０、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド
１９２、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド２１５、ピグメン
ト・レッド２５４、Ｃ．Ｉ．ピグメント・グリーン７、
Ｃ．Ｉ．ピグメント・グリーン３６、Ｃ．Ｉ．ピグメン
ト・ブルー１５：１、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１
５：４、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５：６、Ｃ．
Ｉ．ピグメント・ブルー２２、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブ
ルー６０、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー６４等が挙げら
れる。

【００６７】上記顔料は、感光性樹脂層中に均一に分散
されている必要があり、また、その粒径としては、５μ
ｍ以下が好ましく、１μｍ以下が特に好ましい。

【００６８】上記の中でも、本発明に係る着色画像形成
材料としては、上記感光性樹脂として酸価２０〜３００
の樹脂と、顔料と、重合性不飽和結合を分子内に１個以
上含有するモノマー（以下、「重合性モノマー」とい
う。）と、光重合開始剤とを含んでなる態様が好まし
い。尚、ここでの顔料は既述の通りであり、その含有量
としては、着色画像形成材料の固形分（質量）の５〜５
０質量％が好ましく、１０〜４０質量％がより好まし
い。

【００６９】着色画像形成材料に含有する感光性樹脂と
しては、特に酸価２０〜３００の樹脂が好ましく、上述
の感光性樹脂のうち酸価が２０〜３００のものを適宜選
択することができる。酸価が上記範囲にある樹脂を用い
ることにより、特に顔料が分散された着色画像形成材料
の現像性を確保することができる。

【００７０】上記酸価（２０〜３００）の中でも、４０
〜２００が好ましく、６０〜１５０が特に好ましい。上
記酸価が２０未満であると、着色画像形成材料からなる
感光性樹脂層の現像性が低下することがあり、３００を
超えると、現像後の画像形状（パターン形状）が不鮮鋭
となることがある。

【００７１】上記酸価（２０〜３００）を有する感光性
樹脂としては、顔料の分散安定性、光感度の点で、ベン
ジルメタクリレート／メタクリル酸（より好ましくは、
共重合比が９２／８〜３０／７０のもの、特に好ましく
は共重合比７３／２７のもの）、メチルメタクリレート
／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸（より好まし
くは、共重合比が４０〜１２／８０〜１０／８〜７０の
もの、特に好ましくは共重合比２２／５０／２８のも
の）を含ませるものが好ましい。また、前記酸価（２０
〜３００）を有する感光性樹脂としては、アルカリ安定
性の点で、下記一般式（II）または一般式（III）で表
される繰り返し単位を、一般式（II）／一般式（III）
が１／１〜５／１（モル比）となる比率で有する樹脂が
好ましい。

【００７２】

【化５】

【００７３】上記一般式（II）中の、Ｒ²は水素原子ま
たはメチル基を表し、Ｒ³は水素原子、水酸基、炭素数
１〜１２のアルキル基またはアルコキシ基を表す。上記
一般式（III）中の、Ｒ⁴は炭素数１〜１２のアルキル基
を表し、Ｒ⁵は水素原子、炭素数１〜１２のアルキル
基、光反応性不飽和結合を有する基を表す。

【００７４】上記一般式（II）または一般式（III）で
表される繰り返し単位を有する樹脂の製造方法として
は、例えば、一般式（II）で表される繰り返し単位を有
する樹脂の前駆体に、不飽和アルコール（アリルアルコ
ール、２−ブテン−４−オール、フルフリルアルコー
ル、オレイルアルコール、シンナミルアルコール、２−
ヒドロキシアクリレート、２−ヒドロキシメタクリレー
ト、Ｎ−メチロールアクリルアミド等）をエステル化反
応させて製造する方法、一般式（II）で表される繰り返
し単位を有する樹脂の前駆体に、オキシラン環とエチレ
ン性不飽和結合とをそれぞれ１個有する化合物（グリシ
ジルメタクリレート、グリシジルアクリレート、アリル
グリシジルエーテル、α−エチルグリシジルアクリレー
ト、クロトニルグリシジルエーテル、イタコン酸モノア
ルキルモノグリシジルエステル等）を付加反応させて製
造する方法などが挙げられる。

【００７５】上記一般式（II）または一般式（III）で
表される繰り返し単位を有する樹脂の前駆体としては、
スチレンまたはその誘導体と、マレイン酸モノアルキル
エステル（マレイン酸のハーフエステル）とを共重合す
ることにより得ることができる。上記スチレン誘導体と
しては、例えば、α−メチルスチレン、ｍまたはｐ−メ
トキシスチレン、ｐ−ヒドロキシスチレン、２−メトキ
シ−４−ヒドロキシスチレン、２−ヒドロキシ−４−メ
チルスチレン等が挙げられる。マレイン酸モノアルキル
エステルとしては、例えば、マレイン酸モノメチル、マ
レイン酸モノエチル、マレイン酸モノ−ｎ−プロピル、
マレイン酸モノ−イソプロピル、マレイン酸モノ−ｎ−
ブチル、マレイン酸モノ−ｎ−ヘキシル、マレイン酸モ
ノ−ｎ−オクチル、マレイン酸モノ−２−エチルヘキシ
ル、マレイン酸モノ−ｎ−ノニル、マレイン酸モノ−ｎ
−ドデシル等が挙げられる。

【００７６】また、上記着色画像形成材料に含有する感
光性樹脂には、上記一般式（II）または一般式（III）
で表される繰り返し単位を有する樹脂と共に、他の樹脂
を併用してもよい。他の樹脂としては、既述の樹脂やア
クリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、メラミン樹
脂等が挙げられ、その使用量としては、感光性樹脂の総
量１００質量部に対して、５０質量部以下が好ましい。
また、酸価２０〜３００の樹脂の含有量としては、着色
画像形成材料の固形分（質量）の１０〜８５質量％が好
ましく、２０〜６０質量％がより好ましい。

【００７７】上記重合性不飽和結合を分子内に１個以上
含有するモノマー（重合性モノマー）としては、特開平
１０−２３９８５９号公報（段落番号［００２７］〜
［００２９］）に記載の、光重合性不飽和結合を分子内
に１個以上（および２個以上）有するモノマーが好適に
挙げられる。該重合性モノマーの含有量としては、着色
画像形成材料の固形分（質量）の２〜５０質量％が好ま
しく、５〜４０質量％がより好ましい。

【００７８】上記光重合開始剤としては、特開平１０−
２３９８５９号公報（段落番号［００３０）に記載の光
開始剤が好適に挙げられる。該光重合開始剤の含有量と
しては、着色画像形成材料の固形分（質量）の０．０１
〜２０質量％が好ましく、２〜１５質量％がより好まし
くい。

【００７９】−他の成分− また、上記重合性化合物、重合開始剤、界面活性剤、接
着助剤として、例えば、特開平１１−１３３６００号公
報に記載の、重合性化合物Ｂ、重合開始剤Ｃ、界面活性
剤、接着助剤等をそれぞれ挙げることができる。

【００８０】上記紫外線吸収剤としては、例えば、サリ
シレート系、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール
系、シアノアクリレート系、ニッケルキレート系、ヒン
ダードアミン系等の紫外線吸収剤が好適に挙げられ、具
体例として、フェニルサリシレート、４−ｔ−ブチルフ
ェニルサリシレート、２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル
−３’，５’−ジ−ｔ−４’−ヒドロキシベンゾエー
ト、４−ｔ−ブチルフェニルサリシレート、２，４−ジ
−ヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メ
トキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オク
トキシベンゾフェノン、２−（２’−ヒドロキシ−５’
−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、

【００８１】２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチ
ル−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリア
ゾール、エチル−２−シアノ−３，３−ジ−フェニルア
クリレート、２，２’−ヒドロキシ−４−メトキシベン
ゾフェノン、ニッケルジブチルジチオカーバメート、ビ
ス（２，２，６，６−テトラメトル−４−ピリジン）−
セバケート、４−ｔ−ブチルフェニルサリシレート、サ
ルチル酸フェニル、４−ヒドロキシ−２，２，６，６−
テトラメチルピペリジン縮合物、コハク酸−ビス（２，
２，６，６−テトラメチル−４−ピペリデニル）−エス
テル、２−［２−ヒドロキシ−３，５−ビス（α，α−
ジメチルベンジル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾ
ール、７−｛［４−クロロ−６−（ジエチルアミノ）−
５−トリアジン−２−イル］アミノ｝−３−フェニルク
マリン等が挙げられる。

【００８２】（酸素遮断膜）上記感光性樹脂層上には、
さらに酸素遮断膜を形成し、該膜を介して露光すること
が好ましい。該酸素遮断膜としては、低い酸素透過性を
示し、水またはアルカリ水溶液に分散若しくは溶解する
ものが好ましく、公知のものの中から適宜選択すること
ができる。公知の酸素遮断膜の中でも、ポリビニルアル
コールとポリビニルピロリドンとを組合わせてなるもの
が特に好ましい。詳細については、特開平５−７２７２
４号公報に記載されている。

【００８３】本工程において、上記感光性樹脂層が基板
上に形成されるが、基板上に感光性樹脂層を形成する方
法としては、（１）上記各成分を溶剤に溶解した塗布液
を準備し、公知の塗布方法により基板上に塗布、乾燥し
て感光性樹脂層を設ける方法、（２）予め公知の塗布方
法で仮支持体上に感光性樹脂層を塗布形成した転写材料
を用い、転写により基板上に感光性樹脂層を設ける方
法、等が挙げられる。上記方法（２）の場合には、感光
性樹脂層は、仮支持体上から一旦剥離して独立のシート
（感光性シート）として用いることもできる。

【００８４】基板としては、特に制限はなく目的に応じ
て適宜選択できる。また、感光性樹脂層を仮支持体上に
設ける場合の該仮支持体としても、特に制限はなく目的
に応じて適宜選択できるが、柔軟性のシート状のものが
好ましい。

【００８５】上記公知の塗布方法としては、例えば、ス
ピナ、ホワイラ、ローラーコータ、カーテンコータ、ナ
イフコータ、ワイヤーバーコータ、エクストルーダ等を
用いた方法が挙げられる。塗布後、乾燥することにより
感光性樹脂層若しくは感光性シートを得ることができ
る。

【００８６】上記方法（２）における転写材料の具体的
態様としては、基本的には公知の感光性転写材料と同様
に構成することができ、その最も単純な構成態様は、柔
軟なプラスチックフィルム等からなる仮支持体上に感光
性樹脂を含む薄層（感光性樹脂層、感光性樹脂層）が形
成された態様のものであり、これに更に、支持体／感光
性樹脂層間に、これら界面での剥離性を容易にしたり、
クッション性を付与しうる、下塗り層、中間層、剥離層
等を任意に設けることができる。

【００８７】具体的には、特開平４−２０８９４０号公
報に記載の、仮支持体への接着力が小さい分離層と感光
性樹脂層とを有する転写材料、特開平５−１７３３２０
号公報に記載の、仮支持体上に熱可塑性樹脂層、中間層
および感光性樹脂層を有し、仮支持体と熱可塑性樹脂層
との間の接着力が最も小さい感光性転写材料、特開平５
−７２７２４号公報に記載の、熱可塑性樹脂層、分離層
および感光性樹脂層を有し、熱可塑性樹脂層と分離層と
の間の接着力が最も小さい転写材料、特開平５−８０５
０３号公報に記載の、仮支持体の上に熱可塑性樹脂層、
中間層および感光性樹脂層を有し、仮支持体と熱可塑性
樹脂層との間の接着力が最も小さい感光性転写材料、等
が挙げられる。中でも、上記特開平５−７２７２４号公
報に記載の感光性転写材料等の、一体型の転写材料が好
ましく、その具体的な一例として、仮支持体上に、アル
カリ可溶な熱可塑性樹脂層、酸素遮断層（中間層）、感
光性樹脂層、および保護フィルムをこの順に積層して構
成された態様の感光性転写材料等が好ましい。熱可塑性
樹脂層の詳細については、上述の各公報の記載を参照で
きる。

【００８８】上記方法（２）により、基板上に感光性樹
脂層を設ける場合、先ず、必要に応じて、転写材料の保
護フィルムを取り除き、感光性樹脂層を加圧、加温下で
基板上に貼り合わせた後、基板から仮支持体を剥離する
ことにより行える。貼り合わせには、公知のラミネータ
ー、真空ラミネーターが使用でき、生産性をより高める
には、オートカットラミネーターも使用できる。

【００８９】〈露光工程〉上記露光工程においては、上
記感光性層形成工程で形成された感光性樹脂層が少なく
とも露光されるようにパターン露光する。パターン露光
とは、画像パターンが形成されたシャドウマスクを介し
て感光性樹脂層にパターン化された光を照射することを
いう。場合によっては、シャドウマスクを介さずに光照
射してもよい。光照射に用いる光源としては、超高圧水
銀灯、キセノン灯等の公知の光源が挙げられる。上記フ
ォトマスクは、公知のものの中から適宜選択できる。

【００９０】〈現像工程〉上記現像工程においては、所
望のパターンに露光した後、不要な感光性樹脂層（画素
を形成しない不要領域の感光性樹脂層）等を現像処理に
より除去し、基板上に画像（着色画像）を形成する。現
像処理に用いる現像液としては、既述の本発明の現像液
を用いる。

【００９１】現像液は、浴液としても、あるいは噴霧液
としても用いることができ、その現像方法としては、パ
ドル現像、シャワー現像、シャワー＆スピン現像、ディ
プ現像等が挙げられる。中でも、効果が大きい点で、複
数の基板に対して同じ現像液を使用するシャワー現像、
シャワー＆スピン現像、ディップ現像等が好ましい。感
光性樹脂層の未硬化部分（不要領域）を除去する場合、
現像液中で回転ブラシや湿潤スポンジで擦るなどの方法
を組合わせることができる。現像液の温度としては、通
常、２０〜４０℃が好ましい。現像処理の後、蒸留水、
イオン交換水、超純水等による水洗工程を入れることも
好ましい。

【００９２】本発明の現像液においては、現像液が現像
機内での循環・攪拌等により外気と長時間接触する状況
下であっても、現像処理時のｐＨ変化による現像性の低
下を抑制でき、高精細な画像を安定に形成することがで
きる。また、既述の本発明の現像液を用いることによ
り、感光性樹脂の現像性を促進できる。更に、ｐＨ変動
に起因する現像性の低下が少なく、現像液自体の経時安
定性に優れ、高精細な画像を安定に形成することができ
る。

【００９３】＜カラーフィルタの製造方法＞本発明のカ
ラーフィルタの製造方法は、上記本発明の着色画像形成
方法と同様の着色画像形成工程（感光性層形成工程と露
光工程と現像工程とを含む）有して、同一基板上に複数
の着色領域を形成する工程を含んでなり、その現像工程
では既述の本発明の現像液を用いる。上記感光性層形成
工程では、着色剤を含む着色画像形成材料を用いて感光
性樹脂層が形成され、現像工程において、同一基板上
に、カラーフィルタとして機能する複数の着色領域が形
成される。カラーフィルタの膜厚としては、１〜７μｍ
が好ましく、１〜５μｍがより好ましい。

【００９４】次に、カラーフィルタの製造方法の一例を
示す。カラーフィルタは、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色
（Ｂ）の各画素および必要に応じて黒色（Ｋ）のブラッ
クマトリックスごとに、３つの工程（感光性層形成工
程、露光工程、現像工程）を順に繰り返し行うことによ
り作製でき、例えば、下記（１）〜（３）の工程をＲＧ
Ｂの各画素毎に繰り返すことによるものであってもよ
い。

【００９５】（１）感光性層形成工程： 既述の着色画
像形成材料を溶剤に加えて調製した塗布液（感光性層用
塗布液）を基板上に塗布、乾燥して、或いは、予め仮支
持体上に既述の着色画像形成材料からなる感光性樹脂層
が設けられた転写材料を用い、これを転写して基板上に
感光性樹脂層を形成する。ここで、基板と感光性層との
間に熱可塑性樹脂層、中間層を形成しておいてもよい。 （２）露光工程： 基板上の感光性樹脂層を、例えばフ
ォトマスクを介して、パターン状に露光する。 （３）現像工程： 露光後、必要に応じて熱可塑性樹脂
層および中間層を現像除去すると共に、感光性樹脂層を
既述の本発明の現像液を用いて現像処理し、感光性樹脂
層の露光領域にしたがって形成された複数の着色領域を
形成する。この時、基板上の着色領域を加熱処理して焼
成し硬化させる工程（熱処理工程）を設けてもよい。

【００９６】上記工程（１）においては、顔料として所
望の色相のものを選択し、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青
色（Ｂ）および黒色（Ｋ）の各色の塗布液を調製、使用
して、基板上に順にＲＧＢの画素と、必要に応じて該画
素間にブラックマトリックスとを形成する。２色目以降
は、１色目の画素を覆うようにして層形成すればよく、
硬化されなかった領域のみ現像処理により溶解除去され
る。ブラックマトリックスは、ＲＧＢの画素形成の前後
のいずれに形成してもよい。

【００９７】上記（１）〜（３）の工程は、感光性転写
材料を用いて画像形成する画像形成方法においては一般
的な方法であり、例えば、特開平５−１７３３２０号公
報に記載がある。代表的な画像形成方法としては、感光
性転写材料の感光性樹脂組成物層を液晶表示素子に設置
する透明基板の表面に重ね、支持体を剥がし取った後、
その被転写材料上の感光性樹脂組成物層にフォトマスク
を介してパターン状の露光を行う工程、露光後に感光性
樹脂組成物層を加熱する工程、現像処理して未露光部分
を溶解除去する工程などを組合わせた方法を利用するこ
とができる。

【００９８】カラーフィルタを作製する場合の基板とし
ては、目的に応じて適宜選択できるが、公知のガラス
板、表面に酸化珪素被膜を形成したソーダガラス板等が
好適である。

【００９９】以上のようにして、現像残渣による解像度
の低下がなく、高精細なカラーフィルタを安定に形成す
ることができる。

【０１００】＜樹脂層またはカラーフィルタ付アレイ基
板の製造方法＞本発明の樹脂層付アレイ基板の製造方法
は、上記本発明の画像形成方法と同様の画像形成工程
（感光性層形成工程と露光工程と現像工程とを含む）を
有して、アレイ基板上に樹脂層を形成する工程を含んで
なり、所望の樹脂層が形成される。また、本発明のカラ
ーフィルタ付アレイ基板の製造方法は、上記本発明の着
色画像形成方法と同様の着色画像形成工程（感光性層形
成工程と露光工程と現像工程とを含む）有して、同一の
アレイ基板上に複数の着色領域を形成する工程を含んで
なり、同一のアレイ基板上にカラーフィルタとして機能
する複数の着色領域が形成される。いずれの製造方法に
おいても、現像工程では既述の本発明の現像液を用い
る。

【０１０１】本発明の樹脂層付アレイ基板の製造方法に
おける感光性層形成工程では、アルカリ現像可能な感光
性樹脂を少なくとも含む感光性樹脂層をアレイ基板上に
形成し、所望の樹脂層として、例えば、(層間)絶縁膜、
スペーサ等として機能し得る所望の樹脂構造物を形成す
ることができる。本発明のカラーフィルタ付アレイ基板
の製造方法における感光性層形成工程では、アルカリ現
像可能な感光性樹脂と着色剤とを少なくとも含む感光性
層をアレイ基板上に形成し、所望の着色パターンよりな
るカラーフィルタを形成することができる。上記感光性
樹脂、着色剤および感光性層についての詳細について
は、上記本発明の画像形成方法において既述した通りで
ある。

【０１０２】基板としては、後述のアレイ基板を用い、
該アレイ基板上に直接、樹脂層よりなるものまたはカラ
ーフィルタとなるパターン状の着色画像を形成する。ア
レイ基板上にカラーフィルタを形成することにより、従
来のように、別途異なる工程で作製された駆動側基板と
カラーフィルタ側基板とを組合せることなく一体的に作
製できるため、位置合わせ不良による位置ずれがなく、
高精細なカラーフィルタ付のアレイ基板を形成できる。
しかも、低コスト化の実現にも寄与する。

【０１０３】上記アレイ基板とは、アクティブマトリッ
クス基板や、光透過性の基体上に、薄膜トランジスタ
（ＴＦＴ）、単結晶シリコントランジスタ（ＭＯＳＦＥ
Ｔ）、ダイオード等の半導体素子が画素電極（画像表示
可能な画素部の液晶材料を制御する電極）と共に複数個
配列された基板をいう。上記基体としては、カラーフィ
ルタとして機能させる観点から、例えば、ガラス、プラ
スチック等の光透過性の材料が好適に挙げられる。

【０１０４】本発明のカラーフィルタ付アレイ基板の製
造方法においては、着色された画素間にブラックマトリ
ックスを形成してもよい。該ブラックマトリックスは、
遮光性と光反射防止性の両方の機能が必要とされ、黒色
の着色剤を用いて上記感光性層と同様にして形成するこ
とができる。中でも、上記方法（２）に相当する感光性
転写材料を用いる態様が好ましい。

【０１０５】以上のように、感光性樹脂層の現像性が良
好で、アレイ基板上のＴＦＴ等の半導体素子の半導体特
性に悪影響を及ぼすこともないので、アレイ基板上に直
接、高精細な樹脂層またはカラーフィルタを現像残渣な
く高解像度に形成することができる。

【０１０６】

【実施例】以下、実施例により本発明を説明するが、本
発明はこれらの実施例に限定されるものではない。尚、
実施例中の「部」および「％」は、全て「質量部」およ
び「質量％」を表す。

【０１０７】＜感光性転写材料の作製＞厚さ７５μｍの
ポリエチレンテレフタレートフィルム仮支持体を準備
し、該仮支持体の表面に下記処方Ｈ１よりなる熱可塑性
樹脂層用塗布液を塗り付け、温度５０〜１２０℃の乾燥
ゾーンを順次通過させて乾燥させた後、該層上に更に下
記処方Ｂ１よりなる酸素遮断膜用塗布液を塗り付け、温
度５０〜１２０℃の乾燥ゾーンを順次通過させて乾燥さ
せた。このように、熱可塑性樹脂層、酸素遮断膜が順次
積層された仮支持体を５枚作製した。

【０１０８】 〔熱可塑性樹脂層用塗布液の処方Ｈ１〕 ・塩化ビニル／酢酸ビニル共重合体 ３００部 （質量比：塩ビ／酢ビ＝７５／２５、 重合度：約４００、ＭＰＲ−ＴＳＬ，日信化学（株）製） ・塩化ビニル／酢酸ビニル／マレイン酸共重合体 ８０部 （質量比：塩ビ／酢ビ／マレイン酸＝８６／１３／１、 重合度：約４００、ＭＰＲ−ＴＭ，日信化学（株）製） ・フタル酸ジブチル ８０部 上記成分を適当量のメチルエチルケトンを加えながら混
合した。

【０１０９】 〔酸素遮断膜用塗布液の処方Ｂ１〕 ・ポリビニルアルコール（ＰＶＡ） ２００部 （ＰＶＡ−２０５、鹸化率＝８０％，クラレ（株）製） 上記ＰＶＡに適当量の水を加えて調製した。

【０１１０】次いで、下記組成よりなる化合物を混合し
て、感光性樹脂層用塗布液Ｋ、Ｒ、Ｇ、ＢおよびＳを調
製し、上記より得た５枚の仮支持体の各酸素遮断膜上
に、それぞれ感光性樹脂層用塗布液Ｋ、Ｒ、Ｇ、Ｂ、ま
たはＳをギーサーで塗り付けて乾燥し、仮支持体の表面
に、乾燥層厚１４．６μｍの熱可塑性樹脂層、乾燥膜厚
１．６μｍの酸素遮断膜、乾燥層厚２μｍの感光性樹脂
層（黒色(Ｋ)、赤色(Ｒ)、緑色(Ｇ)若しくは青色(Ｂ)）
または乾燥膜厚２．８μｍの感光性樹脂層（Ｓ）を順次
積層した。これに更に、保護フイルム（厚さ１２μｍの
ポリプロピレンフィルム）をニップローラーで圧着して
上記感光性樹脂層上に保護フィルムを形成した。以上の
ようにして、仮支持体上に、熱可塑性樹脂層と酸素遮断
膜と感光性樹脂層（Ｋ、Ｒ、Ｇ、ＢまたはＳ）と保護フ
ィルムとが積層された、５種の感光性転写材料を得た。
以下、各感光性転写材料を、それぞれ感光性転写材料
Ｋ、Ｒ、Ｇ、ＢまたはＳと称する。

【０１１１】 〔感光性樹脂層用塗布液Ｋの組成〕 ・ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体 ６０部 （共重合モル比＝７３／２７、分子量３００００） ・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ４０部 ・ミヒラーズケトン ３部 ・２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジ ３部 フェニルアミダジール二量体 ・カーボンブラック ６部 上記成分を適当量のメチルエチルケトンを加えながら混
合した。

【０１１２】 〔感光性樹脂層用塗布液Ｒの組成〕 ・ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体 ３２部 （共重合モル比＝７３／２７、分子量３００００） ・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ３１部 ・光重合開始剤 ２．５部 （２−トリクロロメチル−５−（ｐ−スチリルスチリル）−１，３，４−オ キサジアゾール） ・紫外線(ＵＶ)吸収剤 １２部 （７−（２−（４−（３−ヒドロキシメチルピペリジノ）−６−ジエチルア ミノ）トリアジニルアミノ）−３−フェニルクマリン） ・フェノチアジン ０．１部 ・Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド２５４ ９．６部 上記成分を適当量のメチルエチルケトンを加えながら混
合した。

【０１１３】 〔感光性樹脂層用塗布液Ｇの組成〕 ・ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体 ３０部 （共重合モル比＝７３／２７、分子量３００００） ・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ２９部 ・光重合開始剤 １．５部 （２−トリクロロメチル−５−（ｐ−スチリルスチリル）−１，３，４−オ キサジアゾール） ・紫外線(ＵＶ)吸収剤 ９．８部 （７−（２−（４−（３−ヒドロキシメチルピペリジノ）−６−ジエチルア ミノ）トリアジニルアミノ）−３−フェニルクマリン） ・Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１３８ １０．１部 ・Ｃ．Ｉ．ピグメント・グリーン３６ ２０部 上記成分を適当量のメチルエチルケトンを加えながら混
合した。

【０１１４】 〔感光性樹脂層用塗布液Ｂの組成〕 ・ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体 ４２部 （共重合モル比＝７３／２７、分子量３００００） ・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ３２部 ・光重合開始剤 １．６部 （２−トリクロロメチル−５−（ｐ−スチリルスチリル）−１，３，４−オ キサジアゾール） ・フェノチアジン ０．２部 ・Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５：６ ２４部 上記成分を適当量のメチルエチルケトンを加えながら混
合した。

【０１１５】 〔感光性樹脂層用塗布液Ｓの組成〕 ・ポリマー ２４部 （スチレン／マレイン酸共重合体のベンジルアミン変性物、 共重合(モル比)＝６８／３２） ・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート ２０部 ・光重合開始剤（ＩＲＧ１８４；CAS947-19-3） １部 ・紫外線(ＵＶ)吸収剤 １２部 （７−（２−（４−（３−ヒドロキシメチルピペリジノ）−６−ジエチルア ミノ）トリアジニルアミノ）−３−フェニルクマリン） 上記成分を適当量のメチルエチルケトンを加えながら混
合した。

【０１１６】＜アクティブマトリックス基板の作製＞ア
レイ基板上にゲート信号線並びに付加容量電極を形成
し、この上にゲート絶縁膜を形成した。その後、該ゲー
ト絶縁膜上に半導体層およびチャネル保護層をこの順に
積層形成し、更に薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）のソース
およびドレインとなるｎ＋Ｓｉ層を形成した。次いで、
金属層およびＩＴＯ膜をスパッタリング法により形成
し、これらをパターニングすることによりドレイン信号
線およびソース信号線を形成した。このようにして、基
板上にＴＦＴを備えたアクティブマトリックス基板の作
製した。

【０１１７】（実施例１） ＜着色領域（カラーフィルタ）の形成＞上記より得たア
クティブマトリックス基板のＴＦＴの設けられている側
の表面に、上記感光性転写材料Ｒ（波長３６５ｎｍにお
けるＯＤが１．５）より保護フイルムを剥離後、その感
光性樹脂層が接するように貼り合わせ、温度１３０℃、
線圧１００Ｎ／ｃｍ、搬送速度１．０ｍ／分でラミネー
トした。次に、熱可塑性樹脂層との界面で仮支持体を剥
離除去した後、超高圧水銀灯を備えるプロキシミティ型
露光機を、その露光マスク下面と感光性転写材料Ｒの感
光性樹脂層表面との距離（以下、本明細書中「プロキシ
量」という。）が６０μｍとなる位置に配置し、照射エ
ネルギー３０ｍＪ／ｃｍ²でパターン露光した後、下記
組成の現像液Ｐ１にてシャワー現像し（シャワー現像
機；３８℃、３５秒間）、熱可塑性樹脂層と酸素遮断膜
を除去した。 〔現像液Ｐ１〕 ・超純水 ９７部 ・トリエタノールアミン ３部 （ナトリウムイオン濃度：１２ｐｐｂ）

【０１１８】引き続き、下記組成の本発明の現像液Ｃ１
−Ａにてシャワー現像し（シャワー現像機；３３℃）、
未硬化部分の感光性樹脂層を現像除去し、赤色のパター
ン画像を形成した。 〔現像液Ｃ１−Ａ〕下記組成を純水に混合して均一に
し、ｐＨ＝１０、ナトリウムイオン濃度２０ｐｐｂ以下
の溶液（１Ｌ(リットル、以下同様））とした。尚、下記界
面活性剤Ａは下記化学式で表される化合物の混合物であ
る。 ・ジエタノールアミン ２１ｇ／Ｌ （アミン系アルカリ剤）ｐＫａ＝９ ・酢酸 ０．５ｇ／Ｌ ・下記界面活性剤Ａ １１ｇ／Ｌ （既述のアルキルナフタレン系界面活性剤）

【０１１９】

【化６】

【０１２０】引き続き、下記組成の現像液Ｃ２にてブラ
シで擦りながらシャワー現像し（シャワー現像機；３３
℃、２０秒間）、不要部の残渣を低減した。 〔現像液Ｃ２〕 下記組成を純水に混合して均一にし、ｐＨ＝１０、ナトリウムイオン濃度２０ ｐｐｂ以下の溶液とした。 ・ジエタノールアミン ４．５ｇ／Ｌ ・ポリオキシアルキレンラウリルエーテル(界面活性剤) １ｇ／Ｌ

【０１２１】その後、基板の赤色の画像が形成された側
から、超高圧水銀灯により照射エネルギー５００ｍＪ／
ｃｍ²でポスト露光を行った後、温風循環型クリーンオ
ーブンで２２０℃、１３０分間熱処理し、赤色画素を形
成した。

【０１２２】更に、上記感光性転写材料Ｇ、Ｂ、Ｋを順
次用い、上記同様の操作を繰り返して緑色、青色、黒色
の画素を形成し、本発明のカラーフィルタ付アクティブ
マトリクス基板Ｃ１−Ａ（現像液名に準ずる）を作製し
た。

【０１２３】（実施例２〜７）実施例１において、現像
液Ｃ１−Ａの調製に用いたアルキルナフタレン系界面活
性剤に代えて、表１に示すように対応する下記界面活性
剤Ｂ〜Ｇをそれぞれ用いたこと以外、実施例１の現像液
Ｃ１−Ａと同様にして、本発明の現像液Ｃ１−Ｂ〜Ｃ１
−Ｇを調製した。そして、実施例１で用いた現像液Ｃ１
−Ａに代えて、それぞれ現像液Ｃ１−Ｂ〜Ｃ１−Ｇを用
いたこと以外、実施例１と同様にして、本発明のカラー
フィルタ付アクティブマトリクス基板Ｃ１−Ｂ〜Ｃ１−
Ｇを作製した。但し、実施例７における界面活性剤Ｆお
よびＧの添加量は、それぞれ１１ｇ／Ｌおよび３ｇ／Ｌ
である。尚、界面活性剤Ｂ〜Ｆは下記化学式で表される
化合物の混合物である。

【０１２４】

【化７】

【０１２５】（比較例１）実施例１において、現像液Ｃ
１−Ａに代えて、下記現像液Ｃ３を用いたこと以外、実
施例１と同様にして、比較例のカラーフィルタ付アクテ
ィブマトリクス基板Ｃ３を作製した。 〔現像液Ｃ３〕下記組成を純水に混合して均一にし、ｐ
Ｈ＝１０、ナトリウムイオン濃度２０ｐｐｂ以下の溶液
（１Ｌ）とした。 ・ジエタノールアミン ２１ｇ／Ｌ ・酢酸 ２．４ｇ／Ｌ

【０１２６】（比較例２）実施例１において、現像液Ｃ
１−Ａに代えて、下記現像液Ｃ４を用いたこと以外、実
施例１と同様にして、比較例のカラーフィルタ付アクテ
ィブマトリクス基板Ｃ４を作製した。 〔現像液Ｃ−４〕下記組成を純水に混合して均一にし、
ナトリウムイオン濃度２０ｐｐｂ以下の溶液（１Ｌ）と
した。 ・ジエタノールアミン ２１ｇ／Ｌ ・酢酸 ２．４ｇ／Ｌ ・ポリオキシエチレン(n＝10)セチルエーテル（界面活性剤） １０ｇ／Ｌ

【０１２７】（評価１）カラーフィルタ付アクティブマ
トリクス基板Ｃ１−Ａ〜Ｃ１−ＧおよびＣ３〜Ｃ４の作
製工程において、現像液Ｃ１−Ａ〜Ｃ１−ＧおよびＣ３
〜Ｃ４を用いて現像した際の、現像に要した時間（現像
時間）、形成された画素（感光性樹脂層）の解像度、並
びに現像残渣量について、以下のようにして測定、評価
を行った。測定した結果を下記表１に示す。 （ｉ）現像時間の測定 現像時間は、感光性樹脂層の現像開始からパターン画像
が現れるまでに要した最短時間（秒）を測定した。 （ii）解像度の評価 現像して得られたパターン画像の解像度は、基板周辺に
形成されたテストパターン（ライン／スペース）から認
識できる最小幅を求め、解像度の指標とした。 （iii）現像残渣の評価 現像後の基板上に残った感光性樹脂層の残渣の程度を下
記基準にしたがって評価した。 〔基準〕 ○ ： 未露光部には現像残渣は認められなかった。 ○△： 未露光部に僅かな現像残渣が認められた。 △ ： 未露光部に少し現像残渣が認められた。 × ： 未露光部に現像残渣が多く残った。

【０１２８】

【表１】

【０１２９】上記表１の結果から、金属イオンを実質的
に含まないアルカリ剤とアルキルナフタレン系界面活性
剤とを含有する現像液を用いた実施例１〜７では、感光
性樹脂層の現像促進性に優れ、アクティブマトリスク基
板上に、直接高精細なパターン画像を高解像度に形成す
ることができ、現像残渣もほとんど認められなかった。
しかも、基板上のＴＦＴ等の特性に悪影響を及ぼすこと
もなかった。一方、界面活性剤を含有しなかった比較例
１では、現像性が低く長時間を要し、ナフタレン環を有
しない界面活性剤を用いた比較例２では、現像残渣の点
で劣っていた。

【０１３０】（実施例８）上記より得た感光性転写材料
Ｒ、Ｇ、Ｂ、Ｋ、および実施例２で調製した現像液Ｃ１
−Ｂを用い、かつプロキシ量を６０μｍとして、特開平
１０−２０６８８８号公報の記載にしたがって、アクテ
ィブマトリスク基板上にカラーフィルタを形成し、カラ
ーフィルタ付アクティブマトリスク基板を作製した。以
上より、ＴＦＴ等の半導体素子の半導体特性に悪影響を
及ぼすことなく、アクティブマトリスク基板上に直接、
高精細なカラーフィルタを現像残渣なく高解像度に形成
することができた。

【０１３１】（実施例９）上記より得た感光性転写材料
Ｓ、および実施例１で調製した現像液Ｃ１−Ａを用い、
かつプロキシ量を６０μｍとして、特開平１０−２０６
８８８号公報の記載にしたがって、アクティブマトリス
ク基板上に層間絶縁膜を形成し、層間絶縁膜付アクティ
ブマトリスク基板を作製した。以上より、ＴＦＴ等の半
導体素子の半導体特性に悪影響を及ぼすことなく、アク
ティブマトリスク基板上に直接樹脂層を現像残渣なく形
成することができた。

【０１３２】（評価２）実施例８または実施例９で得
た、カラーフィルタ付アクティブマトリスク基板および
層間絶縁膜付アクティブマトリスク基板に対して、下記
操作、評価を行った。ＩＴＯターゲットを設置したスパ
ッタ装置に上記両基板を入れ、真空度５×１０^-1Ｐａ、
温度１８０℃の条件下で９０分予備加熱した後、アルゴ
ン／酸素＝８０／６の割合の混合ガスを流しながら２０
分間スパッタすることにより、カラーフィルタ付アクテ
ィブマトリスク基板の該カラーフィルタ上、および層間
絶縁膜付アクティブマトリスク基板の該層間絶縁膜上、
にそれぞれ０．２μｍ厚のＩＴＯ膜を形成した。その後
冷却し、コンタクトホール部の導通テストを行ったとこ
ろ、いずれも導通不良率は小さく良好であった。

【０１３３】

【発明の効果】本発明によれば、安定した現像活性を有
し現像促進性に優れ、特に感光性樹脂を適切な時間で現
像し、解像度および現像残渣の除去性に優れると共に、
ＴＦＴ等の半導体素子の半導体特性に及ぼす悪影響がな
く、しかも発泡性の低い現像液を提供することができ
る。また、現像残渣を生じず、高精細な画像を高解像度
に安定形成し得る画像形成方法および着色画像形成方
法、並びに現像残渣による解像度の低下がなく、高精細
なカラーフィルタを安定に形成し得るカラーフィルタの
製造方法を提供することができる。更に、本発明によれ
ば、ＴＦＴ等の半導体素子の半導体特性に悪影響を及ぼ
すことなく、アレイ基板上に直接、高精細な樹脂層また
はカラーフィルタを現像残渣なく高解像度に形成し得る
カラーフィルタ付アレイ基板の製造方法または樹脂層付
アレイ基板の製造方法を提供することができる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H048 BA45 BA48 BB02 BB42 2H096 AA27 AA28 BA05 GA09 GA11 5F046 LA12

Claims (11)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 （Ａ）リン酸系アルカリ剤、（Ｂ）ケイ
   酸系アルカリ剤、（Ｃ）炭酸系アルカリ剤、（Ｄ）硼酸
   系アルカリ剤、（Ｅ）アミン系アルカリ剤、および
   （Ｆ）アンモニウム系アルカリ剤より選択される少なく
   とも一種のアルカリ剤と、アルキルナフタレン系界面活
   性剤とを含むことを特徴とする現像液。
2. 【請求項２】 前記選択されるアルカリ剤の少なくとも
   一種が有機アルカリ化合物であることを特徴とする請求
   項１に記載の現像液。
3. 【請求項３】 ｐＨ値が、前記選択されるアルカリ剤の
   ｐＫａ値に対し、ｐＫａ−１．５〜ｐＫａ＋１．５の範
   囲内にあることを特徴とする請求項１または２に記載の
   現像液。
4. 【請求項４】 前記界面活性剤が、下記一般式（Ｉ）で
   表されることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記
   載の現像液。 【化１】 〔一般式（Ｉ）中、Ｍは非メタルカチオンを表し、Ｒは
   アルキル基を表す。ｎは０〜５の整数を表す。〕
5. 【請求項５】 前記選択されるアルカリ剤の含有濃度が
   ０．０１〜２０質量％であり、かつ、前記界面活性剤の
   含有濃度が０．０１〜２０質量％であることを特徴とす
   る請求項１〜４のいずれかに記載の現像液。
6. 【請求項６】 アルカリ現像可能でかつ感光性の画像形
   成材料からなる感光性樹脂層を基板上に形成し、露光現
   像して画像を形成する画像形成工程を含む画像形成方法
   において、 前記露光現像に用いる現像液が、請求項１〜５のいずれ
   かに記載の現像液であることを特徴とする画像形成方
   法。
7. 【請求項７】 アルカリ現像可能でかつ感光性の着色画
   像形成材料からなる感光性樹脂層を基板上に形成し、露
   光現像して着色画像を形成する着色画像形成工程を含む
   着色画像形成方法において、 前記露光現像に用いる現像液が、請求項１〜５のいずれ
   かに記載の現像液であることを特徴とする着色画像形成
   方法。
8. 【請求項８】 前記着色画像形成材料が、酸価２０〜３
   ００の樹脂、顔料、重合性不飽和結合を分子内に１個以
   上含有するモノマー、および、光重合開始剤を含むこと
   を特徴とする請求項７に記載の着色画像形成方法。
9. 【請求項９】 同一基板上に、請求項７または８に記載
   の着色画像形成方法によって複数の着色領域を形成する
   工程を含むことを特徴とするカラーフィルタの製造方
   法。
10. 【請求項１０】 同一のアレイ基板上に、請求項７また
    は８に記載の着色画像形成方法によって複数の着色領域
    を形成する工程を含むことを特徴とするカラーフィルタ
    付アレイ基板の製造方法。
11. 【請求項１１】 アレイ基板上に、請求項６に記載の画
    像形成方法によって樹脂層を形成する工程を含むことを
    特徴とする樹脂層付アレイ基板の製造方法。