JP2002541513A - レーザダイオードの2次元アレイの照射を対称化するための光学配列 - Google Patents
レーザダイオードの2次元アレイの照射を対称化するための光学配列Info
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Abstract
(57)【要約】
レーザダイオードの各々の出射が互いに直交する第1方向(y軸)と第2方向(x軸)とに対して非対称である、一定の配分で並列にかつ上下に配列した複数のレーザダイオードの光束を対称化、特にレーザダイオードスタックに上下に積み重ねたレーザダイオードバーの光束を対称化するための光学配列であって、充分に大きいイソプラナシーを有する複数のマイクロシリンダレンズ光学系(2a、2b、2c)を、割り当てられた線形レーザダイオードアレイの光学軸(z軸)の周りに傾けて配列しており、この光学系が割り当てられた線形レーザダイオードアレイの個々のレーザダイオードの出射光束をy方向に視準しかつ異なった程度に偏向しかつその際に分離し、かつy方向に上下に重ね合わせたレーザダイオードから出射する光束(8)は、所定の間隔で一致する。またここで、マイクロシリンダレンズ光学系(2a、2b、2c)に方向素子(3)を後置しており、この方向素子がx方向に並列に配置された、個々のレーザダイオードの光束(8)をx方向にその都度異なる偏向角で、個々の光束(8)の中心点が所定の間隔で一致するように方向転換し、かつこの間隔で方向素子(3)の背後に再方向素子(5)を配列しており、この再方向素子は方向素子(3)によって様々に導入された光束(8)の偏向角をxz面で再び補償する。
Description
【0001】 本発明は、主請求項の前段に記載されるレーザダイオードの光束を対称化する
ための光学的配列に関する。
ための光学的配列に関する。
【0002】 高出力レーザダイオード組合せを行うために、複数のレーザダイオードを一定
の配列でいわゆるレーザダイオードバー(Laserdiodenbarren
)状に並べて配置する。このようなバーは約40Wまでの光学的出力を達成しか
つ50μm×1μmないし200μm×1μmの照射面積の典型的な寸法を有す
る一列に配置された個別エミッタから成り、これらのエミッタの線形配列は常に
それらの最大拡張方向に行われる。さらに高い出力を実現するために、前記のよ
うなレーザダイオードバーはエミッタの小さい拡張方向にいわゆるレーザダイオ
ードスタック(Laserdiodenstack)(重ね)状に重ね合わされ
る。このスタックの照射は非常に非対称的であり、かつ1つのバーの個別のエミ
ッタ間と、バー群における非照射領域の故に、個別エミッタに比べて照射は低い
ものになっている。
の配列でいわゆるレーザダイオードバー(Laserdiodenbarren
)状に並べて配置する。このようなバーは約40Wまでの光学的出力を達成しか
つ50μm×1μmないし200μm×1μmの照射面積の典型的な寸法を有す
る一列に配置された個別エミッタから成り、これらのエミッタの線形配列は常に
それらの最大拡張方向に行われる。さらに高い出力を実現するために、前記のよ
うなレーザダイオードバーはエミッタの小さい拡張方向にいわゆるレーザダイオ
ードスタック(Laserdiodenstack)(重ね)状に重ね合わされ
る。このスタックの照射は非常に非対称的であり、かつ1つのバーの個別のエミ
ッタ間と、バー群における非照射領域の故に、個別エミッタに比べて照射は低い
ものになっている。
【0003】 例えば材料加工または固体レーザのポンピングに必要な、可能な限り高い照射
密度を有する対称の束を得るために、一方で光束対称化を生ぜしめ、ならびに照
射密度を維持するための非照射領域の消滅も生ぜしめる光学系が必要である。
密度を有する対称の束を得るために、一方で光束対称化を生ぜしめ、ならびに照
射密度を維持するための非照射領域の消滅も生ぜしめる光学系が必要である。
【0004】 光ファイバに結合するために若しくは焦点合わせするためにレーザダイオード
スタックを対称化する配列が知られている。対称化および照射密度に関する要求
に応じて、様々な概念が従来技術としてある。
スタックを対称化する配列が知られている。対称化および照射密度に関する要求
に応じて、様々な概念が従来技術としてある。
【0005】 スタックの結合は、ドイツ連邦共和国特許出願明細書DE19500513C
1に記載されている。この場合の欠点は、個々のバー間の最小間隔が、視準レン
ズの厚さの3倍あることであり、このことは所定の高さに可能な限り多数のバー
を集積することができないことを示す。
1に記載されている。この場合の欠点は、個々のバー間の最小間隔が、視準レン
ズの厚さの3倍あることであり、このことは所定の高さに可能な限り多数のバー
を集積することができないことを示す。
【0006】 ドイツ連邦共和国特許DE19544488による配列は、確かに多数のバー
を使用することによって非常に高い出力の調整を可能にするが、達成された照射
密度は、ドイツ連邦共和国特許DE4438368のようにファイバに結合した
レーザダイオードバーより少なくとも1オーダー小さくなる。
を使用することによって非常に高い出力の調整を可能にするが、達成された照射
密度は、ドイツ連邦共和国特許DE4438368のようにファイバに結合した
レーザダイオードバーより少なくとも1オーダー小さくなる。
【0007】 さらに、一定の配分で並列に配置された複数のレーザダイオードの光束を対称
化するための光学配列が知られている(ドイツ連邦共和国特許公報DE1964
5150A1)。対称化配列は、この場合、光学軸の周りを回転するシリンダレ
ンズと、個々のレーザダイオードの照射光束を偏向するための方向レンズと、方
向レンズの偏向を補償するための再方向レンズと、それに続く視準光学系とから
成る。
化するための光学配列が知られている(ドイツ連邦共和国特許公報DE1964
5150A1)。対称化配列は、この場合、光学軸の周りを回転するシリンダレ
ンズと、個々のレーザダイオードの照射光束を偏向するための方向レンズと、方
向レンズの偏向を補償するための再方向レンズと、それに続く視準光学系とから
成る。
【0008】 本発明が解決しようとする課題は、比較的簡単に製造することができるマイク
ロ光学構成素子から成り、コスト的に有利な小型化に近づけることができ、かつ
対称化に伴って確実に現われる照射密度損失を可能な限り減らす調整可能な数の
レーザダイオードバーの光束を対称化するための光学配列を達成することである
。特にファイバに結合されたレーザダイオードバーに比べて照射密度の改善が達
成されることである。
ロ光学構成素子から成り、コスト的に有利な小型化に近づけることができ、かつ
対称化に伴って確実に現われる照射密度損失を可能な限り減らす調整可能な数の
レーザダイオードバーの光束を対称化するための光学配列を達成することである
。特にファイバに結合されたレーザダイオードバーに比べて照射密度の改善が達
成されることである。
【0009】 上述の課題は本発明に従い、前段部の特徴と関係する主請求項に示した特徴部
によって解決される。
によって解決される。
【0010】 好ましい実施例は、従属請求項2ないし15に記載してある。
【0011】 それぞれ個別バーに割り当てられ、そのバーの光学軸(z軸)に関連づけられ
たマイクロシリンダレンズによって、各バーの個別エミッタの出射光束がレーザ
ダイオードバーの積層方向へ視準され、別様に偏向され、それから分離される。
この偏向は、互いに上下に重なり合った様々なバーの個別エミッタの光束中心が
再方向素子(Redirektionselement)上を、同じ高さでこの
方向に所定の間隔で当たるように、行われる。マイクロシリンダレンズに後置し
た方向素子(Direktionselement)が個別エミッタの線形配列
方向のバーの個別エミッタの光束偏向を生ぜしめるため、バーのエミッタの光束
中心は、所定の間隔で再方向素子上でこの方向に発生する。さらに、この方向素
子は個々のバーの光束中心を積層方向に偏向し、積層方向の全ての中心も、同様
にして再方向素子上に落ちる。この再方向素子は、個々のエミッタから発生する
出射光束を、方向素子によって作られた偏向角が再び補償されるように偏向する
。再方向素子に隣接する投映レンズは、ここで各バーの光束を、所定の間隔で存
在する1つの焦点に投映する。この焦点は、そこに存在する1つの光ファイバ束
の開脚したファイバの正面に結合される。この束により、元々バーの重なり方向
に配列されていた焦点を所望の対称全焦点に再配列する。
たマイクロシリンダレンズによって、各バーの個別エミッタの出射光束がレーザ
ダイオードバーの積層方向へ視準され、別様に偏向され、それから分離される。
この偏向は、互いに上下に重なり合った様々なバーの個別エミッタの光束中心が
再方向素子(Redirektionselement)上を、同じ高さでこの
方向に所定の間隔で当たるように、行われる。マイクロシリンダレンズに後置し
た方向素子(Direktionselement)が個別エミッタの線形配列
方向のバーの個別エミッタの光束偏向を生ぜしめるため、バーのエミッタの光束
中心は、所定の間隔で再方向素子上でこの方向に発生する。さらに、この方向素
子は個々のバーの光束中心を積層方向に偏向し、積層方向の全ての中心も、同様
にして再方向素子上に落ちる。この再方向素子は、個々のエミッタから発生する
出射光束を、方向素子によって作られた偏向角が再び補償されるように偏向する
。再方向素子に隣接する投映レンズは、ここで各バーの光束を、所定の間隔で存
在する1つの焦点に投映する。この焦点は、そこに存在する1つの光ファイバ束
の開脚したファイバの正面に結合される。この束により、元々バーの重なり方向
に配列されていた焦点を所望の対称全焦点に再配列する。
【0012】 前記のような配列は、方向素子および再方向素子および全バー用の写像光学系
(Abbildungsoptik)の多重利用によって個々のエミッタの照射
密度をできるだけ維持して簡単かつコスト的に好適にレーザダイオードスタック
の照射の対称化を可能にする。
(Abbildungsoptik)の多重利用によって個々のエミッタの照射
密度をできるだけ維持して簡単かつコスト的に好適にレーザダイオードスタック
の照射の対称化を可能にする。
【0013】 一実施例を図面に表わし、以下により詳しく説明する。
【0014】 図1に示した光学配列では、y方向に積層した3つのレーザダイオードバーが
1a、1b、1cで示されている。ここで3つのバー1a、1b、1cに制限し
た理由は単によりよい説明のためである。これらのバー1a、1b、1cの各々
は、x方向に配列した複数の個別のエミッタから成る。ここでは見易くするため
に、外側の2個のエミッタおよび中央のエミッタを示している。各エミッタの光
束の違いはyz面(急速軸 fast axis)で比較的大きく、光束の広が
りの半角度は30゜またはそれ以上になる。これに対し、xz面(緩速軸 sl
ow axis)においては、各エミッタの光束の違いは比較的小さい。この場
合の光速の広がりの半角度は典型的には約6゜になる。バー1a、1b、1cの
全拡張部は緩速軸で典型的には10mmになる。バー1a、1b、1cの積層間
隔は互いに約0.1mm〜数mmの範囲内である。
1a、1b、1cで示されている。ここで3つのバー1a、1b、1cに制限し
た理由は単によりよい説明のためである。これらのバー1a、1b、1cの各々
は、x方向に配列した複数の個別のエミッタから成る。ここでは見易くするため
に、外側の2個のエミッタおよび中央のエミッタを示している。各エミッタの光
束の違いはyz面(急速軸 fast axis)で比較的大きく、光束の広が
りの半角度は30゜またはそれ以上になる。これに対し、xz面(緩速軸 sl
ow axis)においては、各エミッタの光束の違いは比較的小さい。この場
合の光速の広がりの半角度は典型的には約6゜になる。バー1a、1b、1cの
全拡張部は緩速軸で典型的には10mmになる。バー1a、1b、1cの積層間
隔は互いに約0.1mm〜数mmの範囲内である。
【0015】 個々のバー1a、1b、1cに後置されて各々1つのマイクロシリンダレンズ
2a、2b、2cがある。光束通路には、さらに順番に方向素子3およびレンズ
4、再方向素子5、もう1つのレンズ6ならびに光ケーブル束7にまとまる光フ
ァイバ7a、7b、7cがある。
2a、2b、2cがある。光束通路には、さらに順番に方向素子3およびレンズ
4、再方向素子5、もう1つのレンズ6ならびに光ケーブル束7にまとまる光フ
ァイバ7a、7b、7cがある。
【0016】 z軸に関連したマイクロシリンダレンズ2a、2b、2cは、互いに重なって
異なったバー1a、1b、1cの個々のエミッタの光束を視準し、かつ図面に8
で示された個別エミッタの光束を同じ高さで再方向素子5上で偏向し、バー1a
、1b、1cのエミッタの光束8が分離されている。マイクロシリンダレンズ2
a、2b、2cとして、グラジエント(gradienten)光学的シリンダ
レンズまたは充分なイソプラナシー(Isoplanasie)を有する多素子
円筒光学系が使用されることが好ましい。マイクロシリンダレンズ2a、2b、
2cの典型的な焦点距離は100μm〜約1mmの範囲内にある。
異なったバー1a、1b、1cの個々のエミッタの光束を視準し、かつ図面に8
で示された個別エミッタの光束を同じ高さで再方向素子5上で偏向し、バー1a
、1b、1cのエミッタの光束8が分離されている。マイクロシリンダレンズ2
a、2b、2cとして、グラジエント(gradienten)光学的シリンダ
レンズまたは充分なイソプラナシー(Isoplanasie)を有する多素子
円筒光学系が使用されることが好ましい。マイクロシリンダレンズ2a、2b、
2cの典型的な焦点距離は100μm〜約1mmの範囲内にある。
【0017】 方向素子3は、緩速軸でエミッタの個別光束8を偏向させ、急速軸で各個別の
バーの全てのエミッタの光束を同様にして偏向させ、その結果バー1a、1b、
1cのエミッタの光束8が、各バーの同じx位置でおよび各バーの光束中心点が
再方向素子5上の同じy位置であたる。
バーの全てのエミッタの光束を同様にして偏向させ、その結果バー1a、1b、
1cのエミッタの光束8が、各バーの同じx位置でおよび各バーの光束中心点が
再方向素子5上の同じy位置であたる。
【0018】 方向素子3として、平凸レンズまたは両凸レンズまたはデュブレット(dou
blett)、好ましくは大きいフィールド角、球面または非球面の面を有する
ものが使用される。
blett)、好ましくは大きいフィールド角、球面または非球面の面を有する
ものが使用される。
【0019】 可能な別の実施形態は、図2に記載するプリズムアレイ9とこの方向レンズ3
の組合せであり、これは緩速軸で再方向素子5上で個々のバー1a、1b、1c
の光束8の置換を生ぜしめる。この場合、各バー1a、1b、1cには緩速軸で
偏向するプリズム9a、9b、9cが割り当てられる。このように達成された再
方向素子5上での個々のバー1a、1b、1cの光束中心点の分離によって焦点
域の1a、1b、1cに対する位置決めは、各バーのy方向に個別的に実現可能
であり、若し方向素子5が適当に作られていると、例えば個々の焦点域をお互い
の上に正確に位置決めすることができる。あるいは方向レンズ3とプリズムアレ
イ9の組合せは、選択的に緩速軸で互いに置換して配列した複数のセグメントに
方向レンズ3を分割することによっても達成することができる。方向素子3の焦
点距離は、典型的に数mm〜数10mmの範囲になる。
の組合せであり、これは緩速軸で再方向素子5上で個々のバー1a、1b、1c
の光束8の置換を生ぜしめる。この場合、各バー1a、1b、1cには緩速軸で
偏向するプリズム9a、9b、9cが割り当てられる。このように達成された再
方向素子5上での個々のバー1a、1b、1cの光束中心点の分離によって焦点
域の1a、1b、1cに対する位置決めは、各バーのy方向に個別的に実現可能
であり、若し方向素子5が適当に作られていると、例えば個々の焦点域をお互い
の上に正確に位置決めすることができる。あるいは方向レンズ3とプリズムアレ
イ9の組合せは、選択的に緩速軸で互いに置換して配列した複数のセグメントに
方向レンズ3を分割することによっても達成することができる。方向素子3の焦
点距離は、典型的に数mm〜数10mmの範囲になる。
【0020】 方向素子3に後置されて、再方向素子5(図1参照)および写像光学系レンズ
4、6がある。具体的な実施形態において、まず初めに焦点距離が方向焦点距離
に相当するレンズ4がある。写像光学系のこの第1のレンズ4は緩速軸で個別エ
ミッタの光束の視準を行う。これは、ほぼ収差のない再方向素子5の作動を可能
にする。写像光学系の第1のレンズ4における実施の具体例は、方向素子3の変
形に対応する。
4、6がある。具体的な実施形態において、まず初めに焦点距離が方向焦点距離
に相当するレンズ4がある。写像光学系のこの第1のレンズ4は緩速軸で個別エ
ミッタの光束の視準を行う。これは、ほぼ収差のない再方向素子5の作動を可能
にする。写像光学系の第1のレンズ4における実施の具体例は、方向素子3の変
形に対応する。
【0021】 再方向素子5は緩速軸において偏向作用を有する急速軸で積層された複数の素
子、例えば回折格子のアレイ、プリズム積層体またはミラーアレイから成る。再
方向素子5によって、各バー1a、1b、1cから四角形または正方形の断面を
有する視準された光束が得られる。この再方向素子5から視準された光束の方向
は、急速軸の各バー1a、1b、1cに対して様々である。
子、例えば回折格子のアレイ、プリズム積層体またはミラーアレイから成る。再
方向素子5によって、各バー1a、1b、1cから四角形または正方形の断面を
有する視準された光束が得られる。この再方向素子5から視準された光束の方向
は、急速軸の各バー1a、1b、1cに対して様々である。
【0022】 図2に示されているように、方向レンズ3およびプリズムアレイ9の組合せに
よって緩速軸で個々のバー1a、1b、1cの光束8の分離が再方向素子5で達
成される場合、この種々の照射方向は急速軸と緩速軸で偏向する適当な素子10
によって再方向素子5の付近で補償することができる。これらの素子10は、例
えば追加のプリズムを使って再方向素子5の付近に、好適な再方向素子5を形成
し、例えば2次元に偏向する回折格子またはこれらの素子の組合せのアレイとし
て実現可能である。再方向素子5により、その結果広範囲に対称的な高い照射密
度を有する視準された光束が実現する。四角形の断面を有する視準された光束が
必要になる場合に適用するためには、さもなければここで必要とする写像光学系
の後続の第2レンズ6を省くことができる。
よって緩速軸で個々のバー1a、1b、1cの光束8の分離が再方向素子5で達
成される場合、この種々の照射方向は急速軸と緩速軸で偏向する適当な素子10
によって再方向素子5の付近で補償することができる。これらの素子10は、例
えば追加のプリズムを使って再方向素子5の付近に、好適な再方向素子5を形成
し、例えば2次元に偏向する回折格子またはこれらの素子の組合せのアレイとし
て実現可能である。再方向素子5により、その結果広範囲に対称的な高い照射密
度を有する視準された光束が実現する。四角形の断面を有する視準された光束が
必要になる場合に適用するためには、さもなければここで必要とする写像光学系
の後続の第2レンズ6を省くことができる。
【0023】 しかし通常は、焦点合わせをした出射光束が必要になる。後続のレンズ6は各
バー1a、1b、1cの個別エミッタの像を共通の焦点に形成する。
バー1a、1b、1cの個別エミッタの像を共通の焦点に形成する。
【0024】 図1には、各々のバー1a、1b、1cうちの1つにおけるエミッタの重ね合
わせた写像が結合されるレンズ6の焦点面に配列された光ファイバ7a、7b、
7cが示されている。1つのファイバ束7にこの光ファイバ7a、7b、7cを
収束することによって、所望の対称的な束の断面が最大の照射密度を維持しなが
ら得られる。
わせた写像が結合されるレンズ6の焦点面に配列された光ファイバ7a、7b、
7cが示されている。1つのファイバ束7にこの光ファイバ7a、7b、7cを
収束することによって、所望の対称的な束の断面が最大の照射密度を維持しなが
ら得られる。
【0025】 若し図2に示したように、各々1つのプリズムアレイ9若しくは10を有する
方向レンズ3および再方向素子5の組合せの変形が実現される場合、レンズ6の
焦点面に全てのバー1a、1b、1cの共通の焦点域が得られる。その場合、こ
の実施形態において個々のバー1a、1b、1cの焦点域を集結させるために広
げたファイバ束が不要になる。
方向レンズ3および再方向素子5の組合せの変形が実現される場合、レンズ6の
焦点面に全てのバー1a、1b、1cの共通の焦点域が得られる。その場合、こ
の実施形態において個々のバー1a、1b、1cの焦点域を集結させるために広
げたファイバ束が不要になる。
【図1】 ファイバ束を使用した際の2次元レーザダイオードアレイの照射対称化用の光
学配列
学配列
【図2】 追加の偏向素子を使用した際の2次元レーザダイオードアレイの照射対称化用
の光学配列
の光学配列
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 シュライバー ペーター ドイツ連邦共和国 ディー−07749 イエ ナ ブルクヴェーク 2 Fターム(参考) 2H037 AA04 BA03 CA13 CA15 CA21 CA32 CA33 CA37 5F073 AB04 AB25 AB27 AB28 BA09 EA24 【要約の続き】 るように方向転換し、かつこの間隔で方向素子(3)の 背後に再方向素子(5)を配列しており、この再方向素 子は方向素子(3)によって様々に導入された光束 (8)の偏向角をxz面で再び補償する。
Claims (15)
- 【請求項1】 レーザダイオードの各々の出射が互いに垂直に重なる第1方
向(y軸)と第2方向(x軸)とに対して非対称である、一定の配分で並列にか
つ上下に配列した複数のレーザダイオードの光束を対称化するための、特にレー
ザダイオードスタック(Laserdiodenstack)に上下に積み重ね
られたレーザダイオードバー(Laserdiodenbarren)の光束を
対称化するための光学配列であって、 充分に大きいイソプラナシー(Isoplanasie)を有する複数のマイ
クロシリンダレンズ光学系(2a、2b、2c)を、前記割り当てられた線形レ
ーザダイオードアレイの前記光学軸(z軸)周りに傾けて配列されており、前記
光学系は、前記割り当てられた線形レーザダイオードアレイの個々のレーザダイ
オードの出射光束をy方向に視準しかつ異なった角度で偏向しかつその際に分離
し、 方向素子(Direktionselement)(3)は、前記マイクロシ
リンダレンズ光学系(2a、2b、2c)に後置されており、前記方向素子は、
x方向に並列に配置した前記個々のレーザダイオードの光束(8)を、前記x方
向にその都度異なる偏向角度で、前記個々の光束(8)の中心が所定の間隔で前
記x方向に収束するように方向転換し、かつ前記各個別の線形レーザダイオード
アレイの光束を前記y方向に、前記光束が所定の間隔で収束するように方向転換
し、かつ 前記方向素子(3)に並んで、xz面で前記方向素子(3)によって導入され
る前記光束(8)の異なった偏向角を再び補償する再方向素子(Redirek
tionselement)(5)が配されていることを特徴とする光学配列。 - 【請求項2】 写像光学系(Abbildungsoptik)(4、6)
は、前記再方向素子(5)に割り当てられており、前記写像光学系は、前記x方
向に並列に配置された、全てのレーザダイオードの前記光束(8)を共通の照射
域ごとに写像し、前記光束は、1つのファイバ束(7)の開脚した個々の光ファ
イバ(7a、7b、7c)の中に結合されて、共通の照射域に統合されることを
特徴とする、請求項1に記載の配列。 - 【請求項3】 前記マイクロシリンダレンズ光学系(2a、2b、2c)の
各々は、グラジエント光学系のマイクロシリンダレンズ(GRIN)、球面また
は非球面マイクロシリンダレンズ、フレネルレンズおよび/またはそれらの組合
せを有することを特徴とする、請求項1ないし2のいずれかに記載の配列。 - 【請求項4】 前記方向素子(3)は、デュブレット(Dublett)、
球面または非球面の表面を有する両凸レンズまたは平凸レンズとして形成されて
いることを特徴とする、請求項1ないし3のいずれかに記載の配列。 - 【請求項5】 前記方向素子(3)がそれに割り当てられた光学素子(9)
を有しており、前記光学素子は、前記x方向に並列に配置されたレーザダイオー
ドの前記光束を、y方向に上下に配列されているレーザダイオードから所定の間
隔で前記x方向に互いに分離されるように等しく偏向することを特徴とする、請
求項1または3ないし4に記載の配列。 - 【請求項6】 偏向素子(9)として、回折格子、プリズム積層体またはミ
ラー積層体アレイを利用することを特徴とする、請求項5に記載の配列。 - 【請求項7】 前記偏向機能は、x方向に方向素子を分割化し、それに続き
x方向に互いにずらして合わせることによって実現されていることを特徴とする
、請求項5に記載の配列。 - 【請求項8】 再方向素子(5)として、回折格子、プリズム積層体または
ミラー積層体アレイを利用することを特徴とする、請求項1ないし7のいずれか
に記載の配列。 - 【請求項9】 y方向に偏向する素子(10)は、前記再方向素子(5)に
割り当てられており、前記素子は、前記個々のバー(1a、1b、1c)の前記
光束(8)をy方向に方向転換させて、前記光束が前記再方向素子(5)をz軸
と平行にすることを特徴とする、請求項5ないし7のいずれか1項に記載の配列
。 - 【請求項10】 偏向素子(10)として、回折格子アレイ、プリズムアレ
イまたはミラーアレイを利用することを特徴とする、請求項9に記載の配列。 - 【請求項11】 前記再方向素子(5)の機能も、前記偏向素子(10)の
機能も、回折素子によって実現されていることを特徴とする、請求項9に記載の
配列。 - 【請求項12】 前記個別光束(8)の視準を前記x方向で生ぜしめるレン
ズ(4)は、再方向素子(5)に前置されていることを特徴とする、請求項1な
いし11のいずれかに記載の配列。 - 【請求項13】 前記再方向素子(5)に前置した前記レンズ(4)は、デ
ュブレット、球面または非球面の表面を有する両凸レンズまたは平凸レンズとし
て形成されていることを特徴とする、請求項12に記載の配列。 - 【請求項14】 フォーカスレンズ(6)は、前記再方向素子(5)に後置
されており、前記レンズは、前記光束(8)を1つまたはそれ以上の焦点域に収
束させることを特徴とする、請求項1ないし13のいずれかに記載の配列。 - 【請求項15】 前記フォーカスレンズ(6)は、アクロマート、アクロマ
ートおよびメニスカスレンズ、平凸レンズ、平凸レンズおよびメニスカスレンズ
またはそれぞれ球面または非球面断面形状を有する両凸レンズとして形成されて
いることを特徴とする、請求項14に記載の配列。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19914755 | 1999-03-31 | ||
DE19914755.8 | 1999-03-31 | ||
PCT/EP2000/002708 WO2000060399A1 (de) | 1999-03-31 | 2000-03-28 | Optische anordnung zur symmetrierung der strahlung von zweidimensionalen arrays von laserdioden |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002541513A true JP2002541513A (ja) | 2002-12-03 |
Family
ID=7903174
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000609831A Pending JP2002541513A (ja) | 1999-03-31 | 2000-03-28 | レーザダイオードの2次元アレイの照射を対称化するための光学配列 |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6683727B1 (ja) |
EP (1) | EP1166165B1 (ja) |
JP (1) | JP2002541513A (ja) |
AT (1) | ATE224066T1 (ja) |
CA (1) | CA2368958A1 (ja) |
DE (2) | DE50000497D1 (ja) |
ES (1) | ES2184703T3 (ja) |
WO (1) | WO2000060399A1 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003511740A (ja) * | 1999-10-11 | 2003-03-25 | ユニーク モード アーゲー | 直線状発光体の放射を対称化する装置、当該装置のアレイ、及び当該装置の応用 |
JP2017040905A (ja) * | 2015-08-20 | 2017-02-23 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 発光装置 |
Families Citing this family (71)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE50000497D1 (de) | 1999-03-31 | 2002-10-17 | Fraunhofer Ges Forschung | Optische anordnung zur symmetrierung der strahlung von zweidimensionalen arrays von laserdioden |
CN100384032C (zh) * | 2000-11-30 | 2008-04-23 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 含有准直模块激光二极管线列阵的激光装置 |
DE10062453B4 (de) * | 2000-12-14 | 2007-07-19 | My Optical Systems Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zur Überlagerung von Strahlenbündeln |
DE10118788A1 (de) * | 2001-04-18 | 2002-10-24 | Lissotschenko Vitalij | Anordnung zur Kollimierung des von einer Laserlichtquelle ausgehenden Lichts sowie Strahltransformationsvorrichtung für eine derartige Anordnung |
JP2002329935A (ja) * | 2001-05-07 | 2002-11-15 | Toshiba Corp | レーザ光源装置、レーザ装置、レーザ出射方法およびレーザ光源装置の製造方法 |
FR2832813B1 (fr) * | 2001-11-27 | 2004-02-27 | Ecole Polytech | Systeme de juxtaposition de faisceaux d'un reseau de diodes lasers |
US7978981B2 (en) * | 2002-02-22 | 2011-07-12 | Avago Technologies Fiber Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Structure and apparatus for a very short haul, free space, and fiber optic interconnect and data link |
US7010194B2 (en) | 2002-10-07 | 2006-03-07 | Coherent, Inc. | Method and apparatus for coupling radiation from a stack of diode-laser bars into a single-core optical fiber |
EP1460469A1 (en) * | 2003-03-17 | 2004-09-22 | Heptagon Oy | Optical arrangement and linear laser emitting device |
US7006549B2 (en) * | 2003-06-11 | 2006-02-28 | Coherent, Inc. | Apparatus for reducing spacing of beams delivered by stacked diode-laser bars |
US6993059B2 (en) * | 2003-06-11 | 2006-01-31 | Coherent, Inc. | Apparatus for reducing spacing of beams delivered by stacked diode-laser bars |
DE10327735A1 (de) * | 2003-06-18 | 2005-01-05 | Hentze-Lissotschenko Patentverwaltungs Gmbh & Co.Kg | Abbildungsvorrichtung für die Abbildung des Lichtes einer Halbleiterlasereinheit mit einer Mehrzahl von Emittern in einer Arbeitsebene sowie Beleuchtungsvorrichtung mit einer derartigen Abbildungsvorrichtung |
DE102004040608B4 (de) * | 2004-08-21 | 2006-09-07 | Dilas Diodenlaser Gmbh | Diodenlaser mit einer optischen Einrichtung zur Erhöhung der Strahldichte eines aus ihm austretenden Ausgangslaserstrahls |
US20070217468A1 (en) * | 2006-03-20 | 2007-09-20 | Nlight Photonics Corporation | Laser diode package utilizing a laser diode stack |
US20070217471A1 (en) * | 2006-03-20 | 2007-09-20 | Nlight Photonics Corporation | Laser diode stack utilizing a non-conductive submount |
US20070217467A1 (en) * | 2006-03-20 | 2007-09-20 | Nlight Photonics Corporation | Laser diode package utilizing a laser diode stack |
US20070115617A1 (en) * | 2005-11-22 | 2007-05-24 | Nlight Photonics Corporation | Modular assembly utilizing laser diode subassemblies with winged mounting blocks |
US20070116071A1 (en) * | 2005-11-22 | 2007-05-24 | Nlight Photonics Corporation | Modular diode laser assembly |
US7436868B2 (en) * | 2005-11-22 | 2008-10-14 | Nlight Photonics Corporation | Modular diode laser assembly |
US7586963B2 (en) * | 2005-11-22 | 2009-09-08 | Nlight Photonics Corporation | Modular diode laser assembly |
US7420996B2 (en) * | 2005-11-22 | 2008-09-02 | Nlight Photonics Corporation | Modular diode laser assembly |
US7443895B2 (en) * | 2005-11-22 | 2008-10-28 | Nlight Photonics Corporation | Modular diode laser assembly |
US20070116077A1 (en) * | 2005-11-22 | 2007-05-24 | Nlight Photonics Corporation | Vertically displaced stack of multi-mode single emitter laser diodes |
US7881355B2 (en) * | 2005-12-15 | 2011-02-01 | Mind Melters, Inc. | System and method for generating intense laser light from laser diode arrays |
US20070217470A1 (en) * | 2006-03-20 | 2007-09-20 | Nlight Photonics Corporation | Laser diode stack end-pumped solid state laser |
US20070217469A1 (en) * | 2006-03-20 | 2007-09-20 | Nlight Photonics Corporation | Laser diode stack side-pumped solid state laser |
US7515346B2 (en) | 2006-07-18 | 2009-04-07 | Coherent, Inc. | High power and high brightness diode-laser array for material processing applications |
DE102007011902A1 (de) | 2007-03-13 | 2008-07-24 | Daimler Ag | Laserschweißvorrichtung |
US7733932B2 (en) * | 2008-03-28 | 2010-06-08 | Victor Faybishenko | Laser diode assemblies |
DE102008020858B4 (de) * | 2008-04-25 | 2012-09-13 | Carl Zeiss Ag | Projektionssystem für ein optisches Anzeigegerät sowie Head-mounted Display mit einem solchen |
US20100175685A1 (en) * | 2008-07-14 | 2010-07-15 | Robert Owen Campbell | Advanced Tracking Concentrator Employing Rotating Input Arrangement and Method |
JP5351272B2 (ja) * | 2008-09-22 | 2013-11-27 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 |
TWI448830B (zh) | 2010-02-09 | 2014-08-11 | Asml Netherlands Bv | 微影裝置及元件製造方法 |
WO2011104180A1 (en) | 2010-02-23 | 2011-09-01 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
EP2539771B1 (en) | 2010-02-25 | 2017-02-01 | ASML Netherlands BV | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
KR101537289B1 (ko) | 2010-04-12 | 2015-07-16 | 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. | 기판 핸들링 장치 및 리소그래피 장치 |
US8432945B2 (en) | 2010-09-30 | 2013-04-30 | Victor Faybishenko | Laser diode combiner modules |
WO2012076300A1 (en) | 2010-12-08 | 2012-06-14 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
NL2008329A (en) | 2011-03-29 | 2012-10-02 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus, method for measuring radiation beam spot position, device manufacturing method, and radiation detector system for a lithographic apparatus. |
US9645502B2 (en) | 2011-04-08 | 2017-05-09 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus, programmable patterning device and lithographic method |
US9513561B2 (en) | 2011-04-21 | 2016-12-06 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus, method for maintaining a lithographic apparatus and device manufacturing method |
DE102011051120B9 (de) | 2011-06-16 | 2012-08-30 | Jos. Schneider Optische Werke Gmbh | Kamera-Objektiv |
WO2013023876A1 (en) | 2011-08-18 | 2013-02-21 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
NL2009342A (en) | 2011-10-31 | 2013-05-07 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus and device manufacturing method. |
US10346729B2 (en) | 2011-11-29 | 2019-07-09 | Asml Netherlands B.V. | Apparatus and method for converting a vector-based representation of a desired device pattern for a lithography apparatus, apparatus and method for providing data to a programmable patterning device, a lithography apparatus and a device manufacturing method |
JP5815887B2 (ja) | 2011-11-29 | 2015-11-17 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | リソグラフィ装置、デバイス製造方法およびコンピュータプログラム |
US9341960B2 (en) | 2011-12-05 | 2016-05-17 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
KR101607176B1 (ko) | 2011-12-06 | 2016-03-29 | 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. | 리소그래피 장치, 세트포인트 데이터를 제공하는 장치, 디바이스 제조 방법, 세트포인트 데이터를 계산하는 방법, 및 컴퓨터 프로그램 |
US9065237B2 (en) * | 2011-12-07 | 2015-06-23 | Jds Uniphase Corporation | High-brightness spatial-multiplexed multi-emitter pump with tilted collimated beam |
US8891579B1 (en) | 2011-12-16 | 2014-11-18 | Nlight Photonics Corporation | Laser diode apparatus utilizing reflecting slow axis collimators |
NL2009902A (en) | 2011-12-27 | 2013-07-01 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus and device manufacturing method. |
US9354502B2 (en) | 2012-01-12 | 2016-05-31 | Asml Netherlands B.V. | Lithography apparatus, an apparatus for providing setpoint data, a device manufacturing method, a method for providing setpoint data and a computer program |
KR101633761B1 (ko) | 2012-01-17 | 2016-06-27 | 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. | 리소그래피 장치 및 디바이스 제조 방법 |
JP6042457B2 (ja) | 2012-02-23 | 2016-12-14 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | デバイス、露光装置および放射誘導方法 |
US9343868B2 (en) | 2012-08-28 | 2016-05-17 | Optical Engines Inc. | Efficient generation of intense laser light from multiple laser light sources using misaligned collimating optical elements |
US8917997B2 (en) * | 2012-10-05 | 2014-12-23 | Applied Micro Circuits Corporation | Collimated beam channel with four lens optical surfaces |
NL2012052A (en) | 2013-01-29 | 2014-08-04 | Asml Netherlands Bv | A radiation modulator for a lithography apparatus, a lithography apparatus, a method of modulating radiation for use in lithography, and a device manufacturing method. |
US10203399B2 (en) | 2013-11-12 | 2019-02-12 | Big Sky Financial Corporation | Methods and apparatus for array based LiDAR systems with reduced interference |
US9720145B2 (en) | 2014-03-06 | 2017-08-01 | Nlight, Inc. | High brightness multijunction diode stacking |
US9705289B2 (en) | 2014-03-06 | 2017-07-11 | Nlight, Inc. | High brightness multijunction diode stacking |
US9360554B2 (en) | 2014-04-11 | 2016-06-07 | Facet Technology Corp. | Methods and apparatus for object detection and identification in a multiple detector lidar array |
US10036801B2 (en) | 2015-03-05 | 2018-07-31 | Big Sky Financial Corporation | Methods and apparatus for increased precision and improved range in a multiple detector LiDAR array |
US10761276B2 (en) | 2015-05-15 | 2020-09-01 | Nlight, Inc. | Passively aligned crossed-cylinder objective assembly |
WO2017132209A1 (en) * | 2016-01-27 | 2017-08-03 | Coherent, Inc | Aberration compensated diode-laser stack |
WO2017143089A1 (en) | 2016-02-16 | 2017-08-24 | Nlight, Inc. | Passively aligned single element telescope for improved package brightness |
US9866816B2 (en) | 2016-03-03 | 2018-01-09 | 4D Intellectual Properties, Llc | Methods and apparatus for an active pulsed 4D camera for image acquisition and analysis |
WO2017161334A1 (en) | 2016-03-18 | 2017-09-21 | Nlight, Inc. | Spectrally multiplexing diode pump modules to improve brightness |
JP6814887B2 (ja) | 2016-12-23 | 2021-01-20 | エヌライト,インコーポレーテッド | 低コスト光ポンプレーザパッケージ |
US10763640B2 (en) | 2017-04-24 | 2020-09-01 | Nlight, Inc. | Low swap two-phase cooled diode laser package |
DE102017108936A1 (de) * | 2017-04-26 | 2018-10-31 | Trumpf Laser Gmbh | Homogenisierung von Pumplaserstrahlung |
EP3750218A4 (en) | 2018-02-06 | 2021-11-03 | Nlight, Inc. | DIODE LASER DEVICE WITH FAC LENS BEAM STEERING OUTSIDE THE PLANE |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE4438368C3 (de) | 1994-10-27 | 2003-12-04 | Fraunhofer Ges Forschung | Anordnung zur Führung und Formung von Strahlen eines geradlinigen Laserdiodenarrays |
DE19500513C1 (de) | 1995-01-11 | 1996-07-11 | Dilas Diodenlaser Gmbh | Optische Anordnung zur Verwendung bei einer Laserdiodenanordnung |
DK0803075T3 (da) * | 1995-01-11 | 2003-03-31 | Ullmann Christoph Dr | Optisk anordning til anvendelse i et laserdiodesystem |
US5633695A (en) * | 1995-08-14 | 1997-05-27 | Canon Kabushiki Kaisha | Beam steering optical system and method and ophthalmic apparatus using same having spaced apart irradiation and observation paths |
DE19645150C2 (de) * | 1996-10-28 | 2002-10-24 | Fraunhofer Ges Forschung | Optische Anordnung zur Symmetrierung der Strahlung von Laserdioden |
DE19800590B4 (de) * | 1998-01-09 | 2005-12-01 | Jenoptik Ag | Optische Anordnung zur Symmetrierung der Strahlung eines oder mehrerer übereinander angeordneter Hochleistungsdiodenlaser |
DE50000497D1 (de) * | 1999-03-31 | 2002-10-17 | Fraunhofer Ges Forschung | Optische anordnung zur symmetrierung der strahlung von zweidimensionalen arrays von laserdioden |
-
2000
- 2000-03-28 DE DE50000497T patent/DE50000497D1/de not_active Expired - Fee Related
- 2000-03-28 DE DE10015245A patent/DE10015245C2/de not_active Expired - Fee Related
- 2000-03-28 WO PCT/EP2000/002708 patent/WO2000060399A1/de active IP Right Grant
- 2000-03-28 EP EP00912651A patent/EP1166165B1/de not_active Expired - Lifetime
- 2000-03-28 ES ES00912651T patent/ES2184703T3/es not_active Expired - Lifetime
- 2000-03-28 AT AT00912651T patent/ATE224066T1/de not_active IP Right Cessation
- 2000-03-28 JP JP2000609831A patent/JP2002541513A/ja active Pending
- 2000-03-28 US US09/926,076 patent/US6683727B1/en not_active Expired - Fee Related
- 2000-03-28 CA CA002368958A patent/CA2368958A1/en not_active Abandoned
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003511740A (ja) * | 1999-10-11 | 2003-03-25 | ユニーク モード アーゲー | 直線状発光体の放射を対称化する装置、当該装置のアレイ、及び当該装置の応用 |
JP2017040905A (ja) * | 2015-08-20 | 2017-02-23 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 発光装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE10015245A1 (de) | 2000-10-19 |
WO2000060399A1 (de) | 2000-10-12 |
DE50000497D1 (de) | 2002-10-17 |
CA2368958A1 (en) | 2000-10-12 |
ATE224066T1 (de) | 2002-09-15 |
DE10015245C2 (de) | 2002-01-03 |
EP1166165B1 (de) | 2002-09-11 |
EP1166165A1 (de) | 2002-01-02 |
US6683727B1 (en) | 2004-01-27 |
ES2184703T3 (es) | 2003-04-16 |
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