JP2002540562A - 磁気浸レンズ - Google Patents
磁気浸レンズInfo
- Publication number
- JP2002540562A JP2002540562A JP2000607244A JP2000607244A JP2002540562A JP 2002540562 A JP2002540562 A JP 2002540562A JP 2000607244 A JP2000607244 A JP 2000607244A JP 2000607244 A JP2000607244 A JP 2000607244A JP 2002540562 A JP2002540562 A JP 2002540562A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- immersion lens
- magnetic immersion
- magnetic
- electrode
- lens according
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000007654 immersion Methods 0.000 title claims abstract description 53
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims abstract description 35
- 238000000605 extraction Methods 0.000 claims abstract description 8
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 28
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims description 11
- 230000001846 repelling effect Effects 0.000 claims description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 claims 2
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 10
- 238000005094 computer simulation Methods 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 230000005686 electrostatic field Effects 0.000 description 3
- 238000005421 electrostatic potential Methods 0.000 description 2
- 235000014676 Phragmites communis Nutrition 0.000 description 1
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 1
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/244—Detectors; Associated components or circuits therefor
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement or ion-optical arrangement
- H01J37/10—Lenses
- H01J37/14—Lenses magnetic
- H01J37/141—Electromagnetic lenses
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/10—Lenses
- H01J2237/103—Lenses characterised by lens type
- H01J2237/1035—Immersion lens
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Abstract
Description
された内側磁極片および外側磁極片を備え、この内側磁極片が通り孔(through-
bore)を有するタイプの磁気浸レンズに関するものである。この磁気浸レンズを
使用する際は、内側磁極片の先端の前に、通常約2mmの適切な作動距離をおいて
試料が置かれる。上下が逆転した状態の従来の磁気浸レンズの一例を図1に示す
。
に使用されている。この場合、磁気浸レンズの磁気影像界が一次電子ビームを拘
束して通り孔に沿った軸軌道を強制的に通過させ、試料上に集束させる。試料か
ら放出された二次電子は磁気影像界によって通り孔内に案内され、通り孔内に配
置された二次電子検出装置によって検出される。通り孔内のスペースに制限があ
るため、この二次電子検出装置はコンパクトである必要があり、このことが深刻
な技術上の問題となっている。
るおそれがあり、とりわけ、一次電子ビームの整列不良を生じさせ、これによっ
て顕微鏡の電子光学特性の悪化を招く。このような問題は、低電圧での顕微鏡使
用の場合、特に、一次電子エネルギーが1keV 以下の場合に特に深刻である。
の形状をしており、SPIE、第2014巻、荷電粒子光学(charged-particle
optics )(1993年発行)のエム.サトー(M. Sato )、エイチ.トドコロ
(H. Todokoro )、およびケー.カゲヤマ(K. Kageyama )による論文「二次電
子を検出するためのE交差B界を有するシュノーケル型円錐形対物レンズ(a sn
orkel type conical objective lens with E cross B fields for detecting se
condary electronics )」に記載されている。
垂直な平面に静電界を生成するための静電偏光器を有している。この検出装置は
また、この静電界に垂直でしかもこの静電界と同一平面内にある磁界を生成する
ためのコイルを有している。この磁界の強度および方向は、一次電子ビームに作
用する静電界の力を補償するようになっている。したがって、1keV 程度の低い
エネルギーの場合でも感知できるほどの一次電子ビームの整列不良は生じない。
それにもかかわらず、この検出装置は構造が複雑で、調整が難しく最適結果を得
るのが困難である。
よび外側磁極片を備え、上記内側磁極片は通り孔を有する磁気浸レンズであって
、この磁気浸レンズは、上記内側磁極片の前に置かれた試料から放出される荷電
粒子を上記通り孔に沿って導くための磁気影像界を生成し、上記磁気浸レンズは
、さらに、上記磁気影像界によって上記通り孔に沿って導かれた荷電粒子を検出
するために上記通り孔内に配置された軸対称の荷電粒子検出装置を備え、この荷
電粒子検出装置が、上記荷電粒子を上記縦軸から偏向させるための反発手段と、
上記反発手段により偏向された荷電粒子を検出するための検出手段とを具備する
ような構成の磁気浸レンズが提供される。
軸X−Xの周囲に対称に配置された内側磁極片10および外側磁極片11を備え
ており、内側磁極片10は通り孔12を有している。
離dをおいて置かれている。試料Sの表面から放出された荷電粒子は、磁気浸レ
ンズの磁気影像界により束縛されて内側磁極片10の通り孔12に入り、そこで
螺旋軌道をとり、通り孔12内に配置された検出装置20によって検出される。
この実施例においては、磁気浸レンズは走査型電子顕微鏡の一部である。したが
って、この場合、荷電粒子は二次電子であり、磁気浸レンズの縦軸X−Xに沿っ
て導かれる一次電子ビームによって試料表面から放出される。
に配置された多数の電極によって構成される。すなわち、上記検出装置は、集束
電極21、反発電極22、抽出電極23、検出電極24および反射電極25によ
って構成される。集束電極21は、通り孔12への入り口から約20mmの位置に
設けられた環状板電極からなる。この電極は、約50Vの正電圧Vfに保たれてお
り、通り孔に入ってくる二次電子を加速するのに有効である。加速された電子は
環状板電極内の中央開口21′を通過し、反発電極22に向かって集束軌道をと
る。
電圧Vrに保たれている。反発電極22は二次電子を加速電極21に向けて戻し、
これと同時に二次電子を縦軸X−Xから偏向させる。図2に、上記のような二つ
の電子の軌跡T1、T2を示す。軌跡T1をとる電子は、軌跡T2をとる電子とは異なる
角度で通り孔に入る。偏向された電子は、抽出電極23によって検出電極24に
向かって加速される。抽出電極23および検出電極24は共に環状であり、反発
電極22の周囲に配置され、反発電極22とは電気的に絶縁されていて、それぞ
れ縦軸X−Xに垂直な平面上に位置している。抽出電極23は、網目状になって
いて、約+150Vの正電圧Veに保たれている。また一方で、検出電極24は、
板電極状になっていて+500Vの正電位Vdに保たれている。加速された電子は
、抽出電極23の網目を通り抜けて検出電極24によって検出される。
の負電圧Vrに保たれている。反射電極は、反発電極22によって偏向された二次
電子が内側磁極片10の壁および集束電極21に衝突するのを防止し、検出電極
24によって集められる電子の流れから逸脱するのを防止する。反射電極25に
印加される負電圧Vrは、検出電極24により検出される二次電子信号が最大にな
るように調整することができる。
5′と、軸方向にて反発電極22と重なっている円筒状電極25″と、上記の電
極25′、25″を相互に接続する円錐台状電極25′′′とから構成される。
ことと、二次電子軌跡を縦軸から離すことにある。さらに、検出装置20が軸対
称になっているため、二次電子は、磁気影像界の著しい歪みや、結果として起こ
る一次電子ビームの整列不良を生じることなく、検出電極24に導かれる。
術を用いてモデル化されたものである。このモデルは、1keV の一次電子ビーム
を2mmの作動距離に支持された試料の表面に集束させることができる磁気影像界
を有している。異なる角度の軌跡で試料表面を離れ、5eVの運動エネルギーを有
する1000個の二次電子を用いたこのコンピュータ・シミュレーションによる
検討の結果、二次電子の80%以上が検出電極24に入射することがわかった。
、わかり易くするために、1000個の二次電子のうちの10個だけを選んで示
している。図5は、検出器20の領域内の静電位の軸方向分布φ(z) が±20V
より大きくないことを示している。この軸方向分布を一般的な1000eVの一次
電子ビームエネルギーEpと比較すると、検出装置の効果による静電分布は、一
次電子ビームの電子光学特性に対してほとんどあるいは全く影響がない。このこ
とは、磁気レンズを検出装置と一緒にまたは検出装置なしで動作させることによ
って形成される高分解能電子プローブのレンズ収差値を比較するような他の計算
によって、別に確認されている。
ている。これに替わる実施例においては、別の形状の検出手段が使用可能である
。例えば、環状マイクロチャンネル・プレート・アセンブリ(annular microcha
nnel plate assembly )、環状固体ダイオード、環状シンチレータ(annular sc
intillator)、あるいは、好ましくは電気的に絶縁された多数の部分から構成さ
れる検出装置が使用可能である。
示す図である。
Claims (21)
- 【請求項1】 磁気浸レンズの縦軸の周囲に対称に配置された内側磁極片お
よび外側磁極片を備え、前記内側磁極片は通り孔を有する磁気浸レンズであって
、 前記磁気浸レンズは、前記内側磁極片の前に置かれた試料から放出される荷電
粒子を前記通り孔に沿って導くための磁気影像界を生成し、前記磁気浸レンズは
、さらに、前記磁気影像界によって前記通り孔に沿って導かれた荷電粒子を検出
するために前記通り孔内に配置された軸対称の荷電粒子検出装置を備え、前記荷
電粒子検出装置は、前記荷電粒子を前記縦軸から偏向させるための反発手段と、
前記反発手段により偏向された荷電粒子を検出するための検出手段とを具備する
ことを特徴とする磁気浸レンズ。 - 【請求項2】 前記荷電粒子検出装置が、さらに、前記反発手段に向けて前
記荷電粒子を集束させるための集束手段を備えたことを特徴とする請求項1に記
載の磁気浸レンズ。 - 【請求項3】 前記荷電粒子検出装置が、さらに、前記荷電粒子を前記通り
孔の側面および前記集束手段から離して偏向させるための反射手段を備えること
を特徴とする請求項2に記載の磁気浸レンズ。 - 【請求項4】 前記反発手段が、前記荷電粒子が前記検出手段によって検出
される前に、前記荷電粒子を、前記試料に向かって軌跡上を移動させるように配
置されることを特徴とする請求項1から3のいずれか一項に記載の磁気浸レンズ
。 - 【請求項5】 前記検出手段が、前記縦軸上に中心を有すると共に前記縦軸
に垂直な平面上に配置された環状板電極を具備することを特徴とする請求項1か
ら4のいずれか一項に記載の磁気浸レンズ。 - 【請求項6】 前記荷電粒子検出装置が、検出用の前記環状板電極に向けて
前記荷電粒子を加速するための抽出電極を有することを特徴とする請求項5に記
載の磁気浸レンズ。 - 【請求項7】 前記抽出電極が、前記検出手段の環状板電極に平行でかつ前
記検出手段の環状板電極から離れた平面内に配置された環状網目を具備すること
を特徴とする請求項6に記載の磁気浸レンズ。 - 【請求項8】 前記検出手段が、環状マイクロチャンネル・プレート・アセ
ンブリを具備することを特徴とする請求項1から4のいずれか一項に記載の磁気
浸レンズ。 - 【請求項9】 前記検出手段が、環状固体ダイオードを具備することを特徴
とする請求項1から4のいずれか一項に記載の磁気浸レンズ。 - 【請求項10】 前記検出手段が、環状シンチレータを具備することを特徴
とする請求項1から4のいずれか一項に記載の磁気浸レンズ。 - 【請求項11】 前記検出手段が、複数のセグメントを具備することを特徴
とする請求項1から4のいずれか一項に記載の磁気浸レンズ。 - 【請求項12】 前記複数のセグメントが互いに電気的に絶縁されているこ
とを特徴とする請求項11に記載の磁気浸レンズ。 - 【請求項13】 前記反発手段が、前記通り孔の縦軸の周囲に対称に配置さ
れると共に前記荷電粒子と同じ極性を有する円筒状電極を具備することを特徴と
する請求項1から12のいずれか一項に記載の磁気浸レンズ。 - 【請求項14】 前記荷電粒子検出装置が、さらに、前記反発手段および前
記反射手段に向けて前記荷電粒子を集束させるための集束手段を具備し、前記反
射手段は、前記反発手段と前記集束手段との間に伸びており、前記反発手段によ
って偏向された前記荷電粒子を前記集束手段から離すと共に前記磁気浸レンズの
前記通り孔の側面から離して偏向させるように配置されることを特徴とする請求
項1に記載の磁気浸レンズ。 - 【請求項15】 前記反射手段が、軸方向にて前記反発手段と重なっている
ことを特徴とする請求項14に記載の磁気浸レンズ。 - 【請求項16】 前記反射手段が、前記集束手段に隣接した環状板電極と、
前記反発手段に隣接した円筒状電極と、前記環状板電極と前記円筒状電極とを相
互に接続する円錐台電極とを具備することを特徴とする請求項14または15に
記載の磁気浸レンズ。 - 【請求項17】 前記荷電粒子が二次電子であることを特徴とする請求項1
から16のいずれか一項に記載の磁気浸レンズ。 - 【請求項18】 請求項1から17のいずれか一項に記載の磁気浸レンズと
、一次電子ビームを、前記磁気浸レンズの前記通り孔に沿って前記磁気浸レンズ
の前記内側磁極片の前に置かれた試料上に導くための手段とを備えることを特徴
とする電子顕微鏡。 - 【請求項19】 前記電子顕微鏡が、走査型電子顕微鏡の形状を有している
ことを特徴とする請求項18に記載の電子顕微鏡。 - 【請求項20】 添付図面の図2から図5を参照して本願明細書の中で記載
された磁気浸レンズと実質的に同一である磁気浸レンズ。 - 【請求項21】 本願明細書の中で記載された電子顕微鏡と実質的に同一で
ある電子顕微鏡。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
GB9906443.8 | 1999-03-19 | ||
GB9906443A GB2348048A (en) | 1999-03-19 | 1999-03-19 | Magnetic immersion lenses |
PCT/GB2000/000996 WO2000057450A2 (en) | 1999-03-19 | 2000-03-17 | Magnetic immersion lense with detection arrangement |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002540562A true JP2002540562A (ja) | 2002-11-26 |
JP2002540562A5 JP2002540562A5 (ja) | 2007-05-24 |
Family
ID=10850028
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000607244A Pending JP2002540562A (ja) | 1999-03-19 | 2000-03-17 | 磁気浸レンズ |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6664544B1 (ja) |
EP (1) | EP1166320B1 (ja) |
JP (1) | JP2002540562A (ja) |
AU (1) | AU3305900A (ja) |
DE (1) | DE60032591T2 (ja) |
GB (1) | GB2348048A (ja) |
WO (1) | WO2000057450A2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006004855A (ja) * | 2004-06-21 | 2006-01-05 | Topcon Corp | 走査電子顕微鏡および類似装置 |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB0506907D0 (en) * | 2005-04-05 | 2005-05-11 | Oxford Instr Analytical Ltd | Method for correcting distortions in electron backscatter diffraction patterns |
JP4588602B2 (ja) * | 2005-09-30 | 2010-12-01 | 株式会社トプコン | 静電偏向器の製造方法 |
EP2706554B1 (en) * | 2012-09-10 | 2016-05-25 | Fei Company | Method of using a compound particle-optical lens |
US9082580B2 (en) * | 2013-09-23 | 2015-07-14 | Kla-Tencor Corporation | Notched magnetic lens for improved sample access in an SEM |
CN113192814B (zh) * | 2021-03-25 | 2022-04-19 | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 | 一种混合式磁聚焦透镜电子束成像系统 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6197575A (ja) * | 1984-10-19 | 1986-05-16 | Jeol Ltd | 電子線を用いた電位測定装置 |
JPS63274049A (ja) * | 1987-05-06 | 1988-11-11 | Horon:Kk | 走査型電子顕微鏡 |
JPH03295141A (ja) * | 1990-04-11 | 1991-12-26 | Hitachi Ltd | 検出器 |
JPH05500132A (ja) * | 1989-08-31 | 1993-01-14 | ベル コミュニケーションズ リサーチ インコーポレーテッド | 非対称界浸レンズ付き電子顕微鏡 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3236271A1 (de) * | 1982-09-30 | 1984-04-05 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Spektrometerobjektiv fuer die korpuskularstrahl-messtechnik |
GB8327737D0 (en) * | 1983-10-17 | 1983-11-16 | Texas Instruments Ltd | Electron detector |
JPH0736321B2 (ja) * | 1985-06-14 | 1995-04-19 | イーツエーテー、インテグレイテツド、サーキツト、テスチング、ゲゼルシヤフト、フユア、ハルプライタープリユーフテヒニク、ミツト、ベシユレンクテル、ハフツング | 定量的電位測定用スペクトロメ−タ−対物レンズ装置 |
GB8607222D0 (en) * | 1986-03-24 | 1986-04-30 | Welding Inst | Charged particle collection |
US4926054A (en) * | 1988-03-17 | 1990-05-15 | Ict Integrated Circuit Testing Gesellschaft Fur Halbleiterpruftechnik Mbh | Objective lens for focusing charged particles in an electron microscope |
DE4239443A1 (en) * | 1992-11-24 | 1993-07-01 | Siemens Ag | Electron beam appts. for testing IC logic circuit - contains remote focus beam generator, beam gate, deflection unit, magnetic lens and secondary electron detector |
EP0821393B1 (en) * | 1996-07-25 | 1999-06-16 | ACT Advanced Circuit Testing Gesellschaft für Testsystementwicklung mbH | Detector objective lens |
US5900667A (en) * | 1996-10-04 | 1999-05-04 | Etec Systems, Inc. | Operating a solid state particle detector within a magnetic deflection field so as to minimize eddy currents |
DE19732093B4 (de) * | 1997-07-25 | 2008-09-25 | Carl Zeiss Nts Gmbh | Korpuskularstrahlgerät |
-
1999
- 1999-03-19 GB GB9906443A patent/GB2348048A/en not_active Withdrawn
-
2000
- 2000-03-17 WO PCT/GB2000/000996 patent/WO2000057450A2/en active IP Right Grant
- 2000-03-17 AU AU33059/00A patent/AU3305900A/en not_active Abandoned
- 2000-03-17 EP EP00911062A patent/EP1166320B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2000-03-17 US US09/936,875 patent/US6664544B1/en not_active Expired - Fee Related
- 2000-03-17 DE DE60032591T patent/DE60032591T2/de not_active Expired - Lifetime
- 2000-03-17 JP JP2000607244A patent/JP2002540562A/ja active Pending
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6197575A (ja) * | 1984-10-19 | 1986-05-16 | Jeol Ltd | 電子線を用いた電位測定装置 |
JPS63274049A (ja) * | 1987-05-06 | 1988-11-11 | Horon:Kk | 走査型電子顕微鏡 |
JPH05500132A (ja) * | 1989-08-31 | 1993-01-14 | ベル コミュニケーションズ リサーチ インコーポレーテッド | 非対称界浸レンズ付き電子顕微鏡 |
JPH03295141A (ja) * | 1990-04-11 | 1991-12-26 | Hitachi Ltd | 検出器 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006004855A (ja) * | 2004-06-21 | 2006-01-05 | Topcon Corp | 走査電子顕微鏡および類似装置 |
JP4632407B2 (ja) * | 2004-06-21 | 2011-02-16 | 株式会社トプコン | 電子線装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE60032591T2 (de) | 2007-11-15 |
WO2000057450A3 (en) | 2001-01-18 |
EP1166320A2 (en) | 2002-01-02 |
GB9906443D0 (en) | 1999-05-12 |
US6664544B1 (en) | 2003-12-16 |
DE60032591D1 (de) | 2007-02-08 |
EP1166320B1 (en) | 2006-12-27 |
GB2348048A (en) | 2000-09-20 |
AU3305900A (en) | 2000-10-09 |
WO2000057450A2 (en) | 2000-09-28 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN109300759B (zh) | 低能扫描电子显微镜系统、扫描电子显微镜系统及样品探测方法 | |
US6614026B1 (en) | Charged particle beam column | |
JP4215282B2 (ja) | 静電対物レンズ及び電気走査装置を装備したsem | |
JP4384027B2 (ja) | サンプルを検査するための荷電粒子ビーム装置及び方法 | |
US6407387B1 (en) | Particle beam apparatus | |
JP4037533B2 (ja) | 粒子線装置 | |
CN207425790U (zh) | 一种低能扫描电子显微镜系统 | |
JP4300710B2 (ja) | 走査形電子顕微鏡 | |
CN108807118B (zh) | 一种扫描电子显微镜系统及样品探测方法 | |
US6504164B2 (en) | Electron beam apparatus | |
EP1288996A1 (en) | Particle beam apparatus | |
US6617579B2 (en) | Scanning electronic beam apparatus | |
JP2002540562A (ja) | 磁気浸レンズ | |
JPH11120950A (ja) | 電子線レンズ装置 | |
EP0150089A1 (en) | Charged-particle optical systems | |
JPH0636346B2 (ja) | 荷電粒子線装置及びこれによる試料観察方法 | |
JPH08138611A (ja) | 荷電粒子線装置 | |
JP2002134051A (ja) | 電磁界重畳型レンズ及びこれを用いた電子線装置 | |
JP2000164167A (ja) | 荷電粒子の二重モ―ド検知 | |
JPH06325719A (ja) | 荷電粒子線装置 | |
KR100518812B1 (ko) | 주사 전자 현미경과 그 유사 장치에서 빈 필터에 의해발생되는 광행차의 감소 | |
EP1052679A1 (en) | Corpuscular beam device | |
JP3101141B2 (ja) | 電子ビーム装置 | |
JPH0294239A (ja) | 走査型電子顕微鏡 | |
JP2000182557A (ja) | 荷電粒子線装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20070314 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070314 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100128 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100202 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20100713 |