JP2002537051A - 赤外線発熱体を有するグリドル・プレート - Google Patents
赤外線発熱体を有するグリドル・プレートInfo
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- A47J37/06—Roasters; Grills; Sandwich grills
- A47J37/067—Horizontally disposed broiling griddles
- A47J37/0676—Horizontally disposed broiling griddles electrically heated
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- H05B3/00—Ohmic-resistance heating
- H05B3/68—Heating arrangements specially adapted for cooking plates or analogous hot-plates
- H05B3/72—Plates of sheet metal
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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- H05B2203/00—Aspects relating to Ohmic resistive heating covered by group H05B3/00
- H05B2203/032—Heaters specially adapted for heating by radiation heating
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Food Science & Technology (AREA)
- Baking, Grill, Roasting (AREA)
- Resistance Heating (AREA)
Abstract
Description
セージ・リンク、ジャガイモなど)をグリル焼きするためのグリドル・プレート
を包含する調理機器に関する。
リドル・プレートは、鋼または鋳鉄から作ってあり、管状のさや式要素によって
加熱される。発熱体は、クランプ装置によってグリドル・プレートの下面と接触
した状態に維持され、伝熱を最大にし、発熱体の過熱を防いでいる。クランプ装
置は、実質的にしばしば複雑な金属製作物であり、調理機器のコストおよび重量
を増大させる。クランプ装置は、グリドル・プレートに設けた穴に螺合させるか
あるいはグリドル・プレートに溶接した非常に多数のスタッドによってグリドル
・プレートに固着される。これもまた、調理機器のコストおよび重量を増大させ
る。
品を置いた後の最初の暖気、熱回収時に、グリドル・プレートの発熱体接触点で
、他の領域よりも多くの伝熱があるということである。これは、不均一なグリド
ル・プレート調理面温度の原因となる。不均一な調理面温度は、局所的な冷熱ス
ポットの形で、焼いている食品の質に影響を与える。
構成要素、制御器あるいは構造体に影響するのを防ぐことができる。断熱材は、
もし含まれていないならば、調理機器のユーザにとって環境危険となり得る。断
熱用の容器はコストを高くする。
り、安価である改良した調理機器を提供する。 さらに、本発明は、グリドル・プレートの全面にわたって均一な熱分布を与え
、従来のグリルで使用される発熱体に伴う不均一な熱分布を克服する調理機器を
提供する。
この加熱組立体は、内部に非接触式発熱体が配置してあり、発熱体とグリドル・
プレートとの間にスペースを設けている。 本発明による他の実施例においては、加熱組立体は、空所を有する容器を包含
し、この空所内に発熱体が配置してある。好ましくは、空所は断熱材によって形
成される。容器は、ベースおよび壁で形成される。 本発明の1つの好ましい実施例においては、赤外線発熱体はステープルによっ
て断熱材に固着してある。
包含し、それぞれ、ハウジングに取り付けてある。上方プラテンが、位置決め機
構に取り付けてある。位置決め機構は、下方プラテンに関して調理位置と非調理
位置との間で上方プラテンを移動させるように作動可能である。加熱組立体は、
下方プラテンを加熱するように設けてある。この加熱組立体は、その内部に配置
した非接触式赤外線発熱体を包含し、発熱体と下方プラテンとの間にはスペース
が設けてある。
説明を参照することによって理解して貰えよう。なお、添付図面で、類似した参
照符号は類似した構成要素を示している。
示してある。調理機器10は、加熱組立体20によって加熱されるグリドル・プ
レート11を有する。
普通のグリドル・プレートである。グリドル・プレート11は、たとえば、肉、
鶏肉あるいは魚、ジャガイモその他の野菜類、サンドイッチ、ベーカリ製品など
のようなグリル焼き食品を調理するのに役立つ。
、グリドル・プレート11と形状、伝熱機能で適合する任意適当な形状を有し得
る。好ましい実施例においては、容器21は、ベースまたは底部22と、4つの
側壁23、24、25、26とを包含するボックス形状を有する。
うに形づくられている。発熱体30は、空所29内に位置する。空所29は、発
熱体30の頂部とグリドル・プレート11の底部との間にスペースを設けるのに
充分に大きい深さを有する。
てある。断熱層27は、底部22の内面に着座するように配置してある。断熱層
28は、側壁23〜26の内面に着座しており、また、断熱層27の頂面に着座
している。断熱層28は、断熱層27の周縁まわりで、側壁23〜26に隣接し
て形成してもよい。また別の実施例では、断熱層27、28を、空所29を構成
する一体構造として形成してもよい。断熱層28は、発熱体30の頂部とグリド
ル・プレート11の底部との間に前述のスペースを設けるに充分な量だけ側壁2
3〜26上方に延びている。
ねじ留め具12によってグリドル・プレート11に固着してある。各ねじ留め具
12は、ねじ山14を備える植込ボルト13とそれに嵌合するナット15とを有
する。植込ボルト13は、グリドル・プレート11の底面に固定してある。植込
ボルト15は、容器21およびその底部22を貫いて延びている。植込ボルト1
3に螺合させたとき、ナット15は、加熱組立体21をグリドル・プレート11
の底面にぴったりと固着する。
たときに赤外線を発し、グリドル・プレート11下のかなりの面積をカバーする
パターンで配置することができる。好ましくは、発熱体30は、断熱層27の頂
面に蛇行状態で配置したコイルである。赤外線発熱体30は、約900〜4,0
00ナノメートル(nm)の波長範囲の赤外線を放射するような寸法となってい
る。
から入手可能なモデルRage3がある。発熱体30は、両端でコネクタ・ブロ
ック31に電気的に接続してある。コネクタ・ブロック31は底部22に設けて
あり、電流を受け入れるために容器21の外部に通じる業界標準連結部(図示せ
ず)を有する。
て層27に取り付けることができる密度と、容器21を通しての伝熱を制限する
比較的高い断熱係数とを有する任意適当な断熱材であってもよく、それによって
、発熱体30からグリドル・プレート11への伝熱を最大限にすることができる
。断熱層27、28は、微孔性断熱材であると適当であるかもしれない。
0はその作動温度まで急速に温度上昇し、非常に強い赤外線をあらゆる方向へ放
射する。発熱体30の急速ヒートアップ時間、初期加熱時間およびグリドル・プ
レート11の回復時間は、接触式発熱体上の普通のクランプの場合よりもかなり
高い。発熱体30の蛇行分布と断熱材27、28が熱損失を最小限にすることに
より、非常に均一な熱伝達が生じ、グリドル・プレート11における温度を非常
に均一にする。また、断熱材27、28の高断熱係数と急速なヒートアップ時間
とにより、同様の調理作業に対するエネルギ使用量が低くなる。
設けた穴40に埋め込んでもよい。このために、穴40に螺合する取り付けアダ
プタ41を設ける。この取り付けアダプタ41は、熱センサさやを赤外線から保
護すると共に、熱センサを取り付ける手段となる。取り付けアダプタ41は、断
熱層27および容器底部22を貫いて外部へ延びており、グリドル・プレート1
1の所望の調理温度を維持するための温度制御システムに電気接続することがで
きる。
いは2面式調理装置100である。クラムシェル・グリル100は、下方調理プ
ラテンまたはグリドル・プレート111を水平に取り付ける支持構造110を包
含する。下方プラテン111は、その上面に滑らかで平らな調理表面を有する。
1つまたはそれ以上の加熱組立体20が下方プラテン111の下面に取り付けて
あり、下方プラテン111を調理温度に加熱する。本実施例において、下方プラ
テン111は、一度に多数の食品を収容できるようにかなりの寸法、たとえば3
フィート×2フィートの寸法となっている。3つの加熱組立体20の全部が、こ
のような大きい下方プラテン111について図3に示してある。
後部に可動状態で取り付けてある。上方プラテン組立体101は、ケーシング内
に取り付けた発熱体によって調理温度まで加熱される上方調理プラテン120を
包含する。たとえば、上方調理プラテン120は、図1、2の組立体20と同様
に、1つまたはそれ以上の赤外線加熱組立体によって加熱される金属プレートで
あってもよい。上方調理プラテン120は、下方調理プラテン111より小さい
か、あるいはそれと同等の寸法である。上方プラテン120は、それを手作業で
操作できるようにその前面に装着したハンドル121を有する。好ましい実施例
においては、2つの別々の上方プラテン組立体が単一の下方プラテン上に装着し
てあり、コック/操作者にとってより大きな融通性を与えることができる。
の間で上方プラテン120を移動させるように作動できる任意適当な位置決め機
構であってよい。好ましくは、位置決め機構102は、その最上方位置から調理
位置まで上方プラテン120による2つの異なった運動を容易にするタイプであ
る。当業者にとって明らかなように、この運動は多数の異なった機構によって達
成することができる。
機構139によって2つの垂直方向往復動軸133に連結される直線アクチュエ
ータ131を包含する。アクチュエータ・クロス・バー・リンク機構139は、
直線運動軸受137を通って延びる垂直方向往復動軸133にダンプされている
。垂直往復動軸133は、アーム・ピボット/ストップ・ヘッド124に取り付
けられている。カンチレバー・バー122は、回転ピボット軸受123を通して
アーム・ピボット/ストップ・ヘッド124に通って延びている。上方プラテン
120がその最上方回転位置(図3参照)にあるとき、直線アクチュエータ13
1がその最大位置まで延ばされ、垂直往復動軸133およびアーム・ピボット/
ストップ・ヘッド124が上方へ延ばされ、カンチレバー・バー122の後端を
接触回転軸受132まで押圧し、上方プラテン120の回転運動を水平位置から
ほぼ54度の角度まで強制する位置まで延ばされる。直線アクチュエータ運動を
逆転すると、上方プラテン120は、垂直方向へ、そして上方プラテン120の
片持ち重量によって生じた円弧に沿って下降し、回転軸受132とカンチレバー
・バー122の項部との接触を維持する。カンチレバー・バー122および上方
プラテン120が下方プラテン111と平行になると、アーム・ピボット/スト
ップ・ヘッド124の停止部分が、カンチレバー・バー122の回転運動を止め
、このポイントからの上方プラテン120の純粋な垂直方向運動を生じさせ、さ
らに調理位置の任意の位置まで下方へ移動させる。
、2つのほぼ垂直方向の往復動軸133および上方、下方の位置センサ・スイッ
チ138A、138Bを包含する。起動すると、直線アクチュエータ131が上
方プラテン120を垂直方向に移動させると共に、上方プラテン120の片持ち
重量が、カンチレバー・バー122の後部が回転軸受132と接触するまで、ア
ーム・ピボット/ストップ・ヘッド124との接触を維持する。この運動により
、確実に、上方プラテンのこの移動段階中に上方プラテン120が常に下方プラ
テン111と平行になる。ひとたびカンチレバー・バー122が回転軸受132
と接触したならば、上方位置センサ・スイッチ138Aがセットされるポイント
(水平方向から約54度)まで上方プラテン120が上昇するポイントまで垂直
方向運動を回転運動に変える。可聴信号が5秒間発せられてから上方プラテンの
移動が開始し、上方プラテンの移動が差し迫っていることを操作者に知らせる。
一対の起動ボタン16を同時に押し下げて調理サイクルを開始すると、ユーザ・
インタフェース・コントローラ113がモータ位置コントローラ115に情報を
送る。この情報をモータ位置コントローラ115が使用して直線駆動モータ13
5を起動させる。直線駆動モータ135の回転運動の作用により、電気パルスが
位置決めパルス・エンコーダ134によって発生させられる。位置決めパルス・
エンコーダ134の発生したパルスは、モータ位置コントローラ115が受信す
る。この情報と、下方位置センサ・スイッチ138Bの起動により、モータ・コ
ントローラ115が駆動システム全体を調理用に予め定めた上方プラテン位置に
正確に位置させることができる。
おいて定義するような本発明の精神および範囲から逸脱することなく種々の変更
、修正をなし得ることは明らかである。
Claims (24)
- 【請求項1】 グリドル・プレートと、このグリドル・プレートを加熱する
ための加熱組立体とを包含し、前記加熱組立体は、非接触式赤外線発熱体を包含
し、この非接触式赤外線発熱体と前記グリドル・プレートとの間にスペースがあ
るように前記加熱組立体内に配置されている調理機器。 - 【請求項2】 請求項1による調理機器において、前記加熱組立体は、さら
に、前記加熱組立体内の空所を包含し、前記赤外線発熱体が、前記空所内に配置
されている調理機器。 - 【請求項3】 請求項2による調理機器において、前記加熱組立体は、さら
に、金属の容器と、この容器内に配置された断熱材とを包含し、この断熱材が前
記空所を形成している調理機器。 - 【請求項4】 請求項3による調理機器において、前記容器は、ベースと少
なくとも1つの壁とによって形成されている調理機器。 - 【請求項5】 請求項3による調理機器において、前記容器は、ベースと4
つの側壁とによって形成されている調理機器。 - 【請求項6】 請求項5による調理機器において、さらに、前記加熱組立体
を前記グリドル・プレートの下面に固定する手段を包含する調理機器。 - 【請求項7】 請求項5による調理機器において、前記加熱組立体は、さら
に、前記発熱体に電気エネルギを付与して前記グリドル・プレートを加熱するた
めの赤外線熱を発生させる手段を包含する調理機器。 - 【請求項8】 請求項6による調理機器において、前記側壁は、前記容器の
頂部を形成しており、前記断熱材は容器の前記頂部上方へ延びていてシーリング
面を形成し、前記固定手段は、前記シーリング面を前記グリドル・プレートの前
記下面と密封接触した状態に保持する調理機器。 - 【請求項9】 請求項6による調理機器において、前記発熱体はステープル
によって前記断熱材に固定してある調理機器。 - 【請求項10】 請求項6による調理機器において、前記発熱体は、前記断
熱材上に蛇行状態で配置してある調理機器。 - 【請求項11】 請求項6による調理機器において、前記発熱体は、約90
0〜4,000ナノメートルの波長範囲にある赤外線を発する調理機器。 - 【請求項12】 請求項6による調理機器において、前記発熱体は、コイル
である調理機器。 - 【請求項13】 ハウジングと、このハウジングに取り付けた下方プラテン
と、前記ハウジングに取り付けた位置決め機構と、この位置決め機構に取り付け
た上方プラテンと、さらに、前記下方プラテンを加熱する加熱組立体を包含し、
前記位置決め機構は、前記下方プラテンに関して調理位置と非調理位置との間で
前記上方プラテンを移動させることが作動可能であり、前記加熱組立体の内部に
非接触式赤外線発熱体が配置してあり、この非接触式赤外線発熱体と前記下方プ
ラテンとの間にスペースが設けてある調理機器。 - 【請求項14】 請求項13による調理機器において、前記加熱組立体が、
さらに、内部に空所を包含しており、この空所内に前記赤外線発熱体が配置され
ている調理機器。 - 【請求項15】 請求項14による調理機器において、前記加熱組立体が、
さらに、金属の容器と、この容器内に配置された断熱材とを包含し、この断熱材
が前記空所を形成している調理機器。 - 【請求項16】 請求項15による調理機器において、前記容器が、ベース
と少なくとも1つの壁によって形成されている調理機器。 - 【請求項17】 請求項15による調理機器において、前記容器が、ベース
および4の側壁により形成される調理機器。 - 【請求項18】 請求項17による調理機器において、さらに、前記加熱組
立体を前記下方プラテンの下面に固定する手段を包含する調理機器。 - 【請求項19】 請求項18による調理機器において、前記加熱組立体が、
さらに、前記発熱体に電気エネルギを付与して前記グリドル・プレートを加熱す
る赤外線熱を生じさせる手段を包含する調理機器。 - 【請求項20】 請求項18による調理機器において、前記側壁が、前記容
器の頂部を形成し、前記断熱材が容器の前記頂部上方へ延びていてシーリング面
を形成し、そして、前記固定手段が、前記グリドル・プレートの前記下面との密
封接触状態に前記シーリング面を保持する調理機器。 - 【請求項21】 請求項18による調理機器において、前記発熱体が、ステ
ープルによって前記断熱材に固定されている調理機器。 - 【請求項22】 請求項18による調理機器において、前記発熱体が、前記
断熱材上に蛇行状態で配置されている調理機器。 - 【請求項23】 請求項18による調理機器において、前記発熱体が、約9
00〜4,000ナノメートルの波長範囲の赤外線を発する調理機器。 - 【請求項24】 請求項18による調理機器において、前記発熱体が、コイ
ルである調理機器。
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