JP2002533860A - 光走査装置 - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】
光走査装置は、異なる開口数を有する走査ビーム（１５）を必要とする２つの異なる形式の光記録担体（１，２５）を走査できる。装置は、２つの形式のディスクに対する放射ビームが通る経路の光軸に沿った異なる位置で、２つの絞り（３３，３２）を有する。第１の絞り（３３）は、第１の形式の記録担体（１）が走査されるときに放射ビームの開口数を制限する。第２の絞り（３２）は、第２の形式の記録担体（２５）が走査されるときに放射ビームの開口数を制限する。
Description
【０００１】 本発明は、１つの光軸を有する放射ビームを供給する放射源と、走査される記
録担体上にスポットを形成するために放射ビームを集束ビームへ集中させる光学
系とを有し、第１の開口数を有する放射ビームで第１の形式の光学的記録担体を
走査し、且つ、第２の開口数を有する放射ビームで第２の異なる形式の光学的記
録担体を走査する光学的装置に関する。
録担体上にスポットを形成するために放射ビームを集束ビームへ集中させる光学
系とを有し、第１の開口数を有する放射ビームで第１の形式の光学的記録担体を
走査し、且つ、第２の開口数を有する放射ビームで第２の異なる形式の光学的記
録担体を走査する光学的装置に関する。
【０００２】 光記録担体上に蓄積できる情報の量は、記録担体上の情報層に走査装置により
形成されたスポットのサイズにとりわけ依存する。情報密度と、これゆえ蓄積さ
れる情報の量を、スポットサイズを減少することにより増加できる。スポットサ
イズは、スポットを形成する放射ビームの開口数を増加することにより減少する
ことができる。
形成されたスポットのサイズにとりわけ依存する。情報密度と、これゆえ蓄積さ
れる情報の量を、スポットサイズを減少することにより増加できる。スポットサ
イズは、スポットを形成する放射ビームの開口数を増加することにより減少する
ことができる。
【０００３】 上述の形式の光学的装置は、欧州特許出願番号０７６２３９８から知られてい
る。装置の光学ヘッドの対物レンズは放射源からの放射ビームを記録担体上のス
ポットに集束させる。放射源と対物レンズの間に配置された調整可能な絞りは、
走査される記録担体の形式に放射ビームの開口数を適合させる。絞りは、電気的
に動作可能な液晶シャッターの形式である。シャッターは、第１の形式の記録担
体を走査するときには入射光の中心部のみを透過させ、第２の形式の記録担体を
走査するときには放射ビームの全体を透過させ、それにより、記録担体上に入射
するビームの開口数を変化させる。シャッターの欠点は、中央部とその周辺部で
シャッターの光学的特性が異なるので、透過された放射ビームの波面に影響を与
えることである。他の欠点は、シャッターは走査装置の製造コストを増加する光
学部品を構成することである。
る。装置の光学ヘッドの対物レンズは放射源からの放射ビームを記録担体上のス
ポットに集束させる。放射源と対物レンズの間に配置された調整可能な絞りは、
走査される記録担体の形式に放射ビームの開口数を適合させる。絞りは、電気的
に動作可能な液晶シャッターの形式である。シャッターは、第１の形式の記録担
体を走査するときには入射光の中心部のみを透過させ、第２の形式の記録担体を
走査するときには放射ビームの全体を透過させ、それにより、記録担体上に入射
するビームの開口数を変化させる。シャッターの欠点は、中央部とその周辺部で
シャッターの光学的特性が異なるので、透過された放射ビームの波面に影響を与
えることである。他の欠点は、シャッターは走査装置の製造コストを増加する光
学部品を構成することである。
【０００４】 本発明の目的は、上述の欠点の無い走査装置を提供することである。
【０００５】 本発明に従って、この目的は、光学系が、第1の固定の絞りと、光軸上の異な
る位置に第２の固定の絞りを有し、第１と第２の絞りは第１と第２の開口数をそ
れぞれに決定することを特徴とする前文で述べた走査装置により達成される。固
定の絞りは、絞りにより透過される波面の品質に影響を与えず、且つ、例えば、
レンズの面に与えられた中央開口の非透明コーティングの形式で、簡単に光学経
路内に他の部品と共に集積される。異なる形式の記録担体間で変更する時には、
光学ヘッド内の１つ又はそれ以上の部品の光学特性又は位置が、記録担体上で適
切なスポットが得られるように変更される。変更は、スポットの軸位置内での変
更を許すための対物レンズの軸位置内の変更、光学ヘッド内の部品の相互距離の
変更又は、波長の変更を含む。そのような変更は、第１と第２の形状の間で光学
部品を通した放射ビームの形状を変化させる。第１と第２の絞りが光学経路内で
適切に配置されているなら、第１の絞りは、第１の形状を有しているときに、放
射ビームの直径を制限し、一方、第２の絞りは、第２の形状を有しているときに
、放射ビームの直径を制限する。共通の光学経路上で放射源の放射ビームを得る
ために、光学ヘッドに２つ又はそれ以上の放射ビームとビーム結合部品が設けら
れている場合には、第１及び第２の絞りは共通の経路上に配置される。
る位置に第２の固定の絞りを有し、第１と第２の絞りは第１と第２の開口数をそ
れぞれに決定することを特徴とする前文で述べた走査装置により達成される。固
定の絞りは、絞りにより透過される波面の品質に影響を与えず、且つ、例えば、
レンズの面に与えられた中央開口の非透明コーティングの形式で、簡単に光学経
路内に他の部品と共に集積される。異なる形式の記録担体間で変更する時には、
光学ヘッド内の１つ又はそれ以上の部品の光学特性又は位置が、記録担体上で適
切なスポットが得られるように変更される。変更は、スポットの軸位置内での変
更を許すための対物レンズの軸位置内の変更、光学ヘッド内の部品の相互距離の
変更又は、波長の変更を含む。そのような変更は、第１と第２の形状の間で光学
部品を通した放射ビームの形状を変化させる。第１と第２の絞りが光学経路内で
適切に配置されているなら、第１の絞りは、第１の形状を有しているときに、放
射ビームの直径を制限し、一方、第２の絞りは、第２の形状を有しているときに
、放射ビームの直径を制限する。共通の光学経路上で放射源の放射ビームを得る
ために、光学ヘッドに２つ又はそれ以上の放射ビームとビーム結合部品が設けら
れている場合には、第１及び第２の絞りは共通の経路上に配置される。
【０００６】 走査装置の好適な実施例では、第２の絞りは集束ビームの経路中に配置され、
第２の開口数は第１の開口数よりも小さい。直感とは逆に、第２の絞りは、より
小さな開口数を決定し、大きな開口数には影響を与えない。
第２の開口数は第１の開口数よりも小さい。直感とは逆に、第２の絞りは、より
小さな開口数を決定し、大きな開口数には影響を与えない。
【０００７】 特定の実施例では、光学系は第１と第２の光学部品を有する対物系を有し、第
１の部品は、第２の部品よりも放射源から更に離れている。対物系は、大開口数
のビームの集束に適している。第２の絞りは第１の光学部品上に配置された絞り
であることが好ましい。
１の部品は、第２の部品よりも放射源から更に離れている。対物系は、大開口数
のビームの集束に適している。第２の絞りは第１の光学部品上に配置された絞り
であることが好ましい。
【０００８】 本発明の優位点と特徴は、図を参照して、以下の本発明の詳細な説明から明ら
かとなろう。
かとなろう。
【０００９】 図１は、少なくとも２つの異なる形式の光記録担体を走査する装置を示す。図
は、第１の形式の光記録担体１を示す。記録担体は、透明層２を有し、一方の側
には情報層３が設けられている。透明層から離れた方に面する情報層側は、保護
層４により周囲の影響から保護されている。装置に面する透明層側は、入射面５
と呼ばれる。透明層２は、情報層の機械的な支持を行うことにより記録担体の基
板として働く。代わりに、透明層は情報層を保護する単一の機能を有しても良く
、一方、例えば、保護層４又は、更なる情報層及び情報層３と接続された透明層
により、機械的な支持は情報層の他の側の層により提供される。情報は、記録担
体の情報層３に、図には示していないが、実質的に平行に配置された同心状又は
螺旋状のトラックに配置された光学的に検出可能なマークの形式で蓄積される。
マークは、例えば、ピット又は、反射係数或は磁化の向きが周囲と異なる領域の
形式の又は、これらの形式の組合せの、どのような光学的に読出し可能な形式で
も良い。
は、第１の形式の光記録担体１を示す。記録担体は、透明層２を有し、一方の側
には情報層３が設けられている。透明層から離れた方に面する情報層側は、保護
層４により周囲の影響から保護されている。装置に面する透明層側は、入射面５
と呼ばれる。透明層２は、情報層の機械的な支持を行うことにより記録担体の基
板として働く。代わりに、透明層は情報層を保護する単一の機能を有しても良く
、一方、例えば、保護層４又は、更なる情報層及び情報層３と接続された透明層
により、機械的な支持は情報層の他の側の層により提供される。情報は、記録担
体の情報層３に、図には示していないが、実質的に平行に配置された同心状又は
螺旋状のトラックに配置された光学的に検出可能なマークの形式で蓄積される。
マークは、例えば、ピット又は、反射係数或は磁化の向きが周囲と異なる領域の
形式の又は、これらの形式の組合せの、どのような光学的に読出し可能な形式で
も良い。
【００１０】 走査装置は、例えば、半導体レーザの、発散放射ビーム７を放出する放射源６
を有する。例えば、半透明板のようなビームスプリッタ８は、放射をレンズ系へ
向けて反射する。レンズ系は、コリメータレンズ９、対物レンズ１０及び、平凸
レンズ１１を有する。コリメータレンズ９は、発散放射ビーム７を平行ビーム１
２にする。光軸１３を有する対物レンズ１０は、平行放射ビーム１２を、レンズ
１１に入射する集束ビーム１４へ変換する。コリメータレンズ９と対物レンズ１
０は、単一レンズに結合されうる。平凸レンズ１１は、入射ビーム１４を集束ビ
ーム１５へ変換し、情報層３上にスポット１６の焦点を結ぶ。平凸レンズ１１は
、凸面と平坦面を有する。平坦面は透明層２に面し、レンズと層の間のギャップ
を形成する。平坦面は僅かに凸であり、光学的には影響を与えないが、レンズ１
０及び/又は１１が、面５の入射上の空気ベアリング上に支持された活動部に埋
め込まれている場合には、光学ヘッドの空力特性を改善する。対物レンズ１０は
図においては、単一レンズ部品として示されているが、更に多くのレンズを有し
、且つまた、反射又は透過でホログラム動作を行い、又は、放射ビームを担う導
波路からの放射の結合のための回折を行う。情報層３により反射された集束ビー
ム１５の放射は、反射ビーム１７を形成し、集束ビーム１４に向かって光学経路
をも戻る。対物レンズ１０とコリメータレンズ９は、反射ビーム１７を集束する
反射ビーム１８へ変換し、そして、ビームスプリッタ８は、少なくとも反射ビー
ム１８の一部を検出系１９に向かって透過させることにより、前向き及び、反射
されたビームを分離する。検出系は、放射を捕捉し、１つ又はそれ以上の電子信
号に変換する。これらの信号の１つは、情報信号２０であり、その値は情報層３
から読み出された情報を表す。他の信号は、フォーカスエラー信号２１であり、
その値はスポット１６と情報層３の間の高さの軸方向の差を示す。フォーカスエ
ラー信号は、対物レンズ１０及び/又は平凸レンズ１１の軸方向の位置を制御す
るフォーカスサーボコントローラ２２の入力として使用され、それにより、情報
層３の面とスポット１６の軸方向の位置が実質的に一致するように制御される。
１つ又はそれ以上の放射検知検出部品と検出部品の出力信号を処理する電子回路
を含む、フォーカスエラーを発生するのに使用される検出系の部分は、フォーカ
スエラー検出系と呼ばれる。レンズ系の位置決めをするフォーカスサーボ系は、
フォーカスエラー検出系、フォーカスサーボコントローラ、及び、レンズ系を移
動するアクチュエータを有する。
を有する。例えば、半透明板のようなビームスプリッタ８は、放射をレンズ系へ
向けて反射する。レンズ系は、コリメータレンズ９、対物レンズ１０及び、平凸
レンズ１１を有する。コリメータレンズ９は、発散放射ビーム７を平行ビーム１
２にする。光軸１３を有する対物レンズ１０は、平行放射ビーム１２を、レンズ
１１に入射する集束ビーム１４へ変換する。コリメータレンズ９と対物レンズ１
０は、単一レンズに結合されうる。平凸レンズ１１は、入射ビーム１４を集束ビ
ーム１５へ変換し、情報層３上にスポット１６の焦点を結ぶ。平凸レンズ１１は
、凸面と平坦面を有する。平坦面は透明層２に面し、レンズと層の間のギャップ
を形成する。平坦面は僅かに凸であり、光学的には影響を与えないが、レンズ１
０及び/又は１１が、面５の入射上の空気ベアリング上に支持された活動部に埋
め込まれている場合には、光学ヘッドの空力特性を改善する。対物レンズ１０は
図においては、単一レンズ部品として示されているが、更に多くのレンズを有し
、且つまた、反射又は透過でホログラム動作を行い、又は、放射ビームを担う導
波路からの放射の結合のための回折を行う。情報層３により反射された集束ビー
ム１５の放射は、反射ビーム１７を形成し、集束ビーム１４に向かって光学経路
をも戻る。対物レンズ１０とコリメータレンズ９は、反射ビーム１７を集束する
反射ビーム１８へ変換し、そして、ビームスプリッタ８は、少なくとも反射ビー
ム１８の一部を検出系１９に向かって透過させることにより、前向き及び、反射
されたビームを分離する。検出系は、放射を捕捉し、１つ又はそれ以上の電子信
号に変換する。これらの信号の１つは、情報信号２０であり、その値は情報層３
から読み出された情報を表す。他の信号は、フォーカスエラー信号２１であり、
その値はスポット１６と情報層３の間の高さの軸方向の差を示す。フォーカスエ
ラー信号は、対物レンズ１０及び/又は平凸レンズ１１の軸方向の位置を制御す
るフォーカスサーボコントローラ２２の入力として使用され、それにより、情報
層３の面とスポット１６の軸方向の位置が実質的に一致するように制御される。
１つ又はそれ以上の放射検知検出部品と検出部品の出力信号を処理する電子回路
を含む、フォーカスエラーを発生するのに使用される検出系の部分は、フォーカ
スエラー検出系と呼ばれる。レンズ系の位置決めをするフォーカスサーボ系は、
フォーカスエラー検出系、フォーカスサーボコントローラ、及び、レンズ系を移
動するアクチュエータを有する。
【００１１】 ギャップ即ち、レンズ１１の平坦面と記録担体１の入射面の間の距離は、実質
的に公称値に維持される。これは、レンズ１１を担う受動的な空気ベアリング構
造を使用することにより達成され、そして、ギャップを公称値に維持するように
設計される。公称値からの実際のギャップのサイズの偏差を表す、光学的に得ら
れたエラー信号を使用することが可能であり、アクチュエータサーボループに対
する入力信号としてエラー信号を使用することにより、特殊なアクチュエータは
、透明層からの所定の距離に、平凸レンズを保持する。レンズ１０のアクチュエ
ータは、情報層３上にスポット１６を保持するために、フォーカスエラー信号に
より制御される。
的に公称値に維持される。これは、レンズ１１を担う受動的な空気ベアリング構
造を使用することにより達成され、そして、ギャップを公称値に維持するように
設計される。公称値からの実際のギャップのサイズの偏差を表す、光学的に得ら
れたエラー信号を使用することが可能であり、アクチュエータサーボループに対
する入力信号としてエラー信号を使用することにより、特殊なアクチュエータは
、透明層からの所定の距離に、平凸レンズを保持する。レンズ１０のアクチュエ
ータは、情報層３上にスポット１６を保持するために、フォーカスエラー信号に
より制御される。
【００１２】 記録担体上に亘って相対的に一定の厚さを有する透明層を有する記録担体に適
する他の実施例では、レンズ１０と１１の間の距離は固定され、そして、２つの
レンズの組合せの軸上での位置が、フォーカスエラー信号により制御される。
する他の実施例では、レンズ１０と１１の間の距離は固定され、そして、２つの
レンズの組合せの軸上での位置が、フォーカスエラー信号により制御される。
【００１３】 代わりの実施例では、両レンズ１０と１１の軸方向の位置は、記録担体から来
るビーム内のフォーカスエラー信号と球面収差を表す信号により制御される。公
称の厚さを有する層２のような透明層を通過することによる球面収差は、対物レ
ンズ１０及び/又は平凸レンズ１１内で適切な設計により補償されることが好ま
しい。公称厚さからの偏差により起きる球面収差は、レンズ１０と１１の間の距
離の対応する変化により補償されることが好ましい。距離は、球面収差を表す信
号により制御され且つ、記録担体から来る放射ビーム中に配置された検出器によ
り決定される。
るビーム内のフォーカスエラー信号と球面収差を表す信号により制御される。公
称の厚さを有する層２のような透明層を通過することによる球面収差は、対物レ
ンズ１０及び/又は平凸レンズ１１内で適切な設計により補償されることが好ま
しい。公称厚さからの偏差により起きる球面収差は、レンズ１０と１１の間の距
離の対応する変化により補償されることが好ましい。距離は、球面収差を表す信
号により制御され且つ、記録担体から来る放射ビーム中に配置された検出器によ
り決定される。
【００１４】 図１は、第２の形式の記録担体２５も示す。記録担体は、第１の形式の記録担
体１の透明層２よりも厚い透明層２６を含む。記録担体２５の情報層２７は、第
１の形式の記録担体の情報層３よりも、情報密度が低い。透明層と反対の情報層
の側は、保護層２８により外部の影響から保護されている。情報層２７から情報
層３へ走査が変更されたときには、対物レンズ１０の位置は、情報層２７上にス
ポット１６を配置するために、情報層に近づけられる。異なる厚さの透明層２６
は、放射ビームに球面収差を発生する。対物レンズ１０と１１の間の距離が設計
距離から変わると、倍率の変化により、平凸レンズは放射ビームに球面収差を発
生する。距離の適切な減少は、透明層２７の異なる厚さにより起こる球面収差を
補償する。
体１の透明層２よりも厚い透明層２６を含む。記録担体２５の情報層２７は、第
１の形式の記録担体の情報層３よりも、情報密度が低い。透明層と反対の情報層
の側は、保護層２８により外部の影響から保護されている。情報層２７から情報
層３へ走査が変更されたときには、対物レンズ１０の位置は、情報層２７上にス
ポット１６を配置するために、情報層に近づけられる。異なる厚さの透明層２６
は、放射ビームに球面収差を発生する。対物レンズ１０と１１の間の距離が設計
距離から変わると、倍率の変化により、平凸レンズは放射ビームに球面収差を発
生する。距離の適切な減少は、透明層２７の異なる厚さにより起こる球面収差を
補償する。
【００１５】 透明層２７の厚さの小さな変化により発生する球面収差は、対物レンズ１０と
平凸レンズ１１の間の距離を変えることにより補償される。検出系１９による球
面収差の測定は、記録担体から来る放射ビームの球面収差を表す電気信号を供給
し得る。信号は、２つのレンズ間の距離を制御するサーボ系の入力として使用さ
れる。対物レンズのフォーカシング動作中に、ギャップが上述のように、実質的
に公称値に、維持されねばならない。透明層の厚さに応じた球面収差の制御は、
光記録担体に対してどのような走査装置でも、異なる形式の記録担体の間で開口
数を変える方法とは独立に、使用され得ることに注意する。
平凸レンズ１１の間の距離を変えることにより補償される。検出系１９による球
面収差の測定は、記録担体から来る放射ビームの球面収差を表す電気信号を供給
し得る。信号は、２つのレンズ間の距離を制御するサーボ系の入力として使用さ
れる。対物レンズのフォーカシング動作中に、ギャップが上述のように、実質的
に公称値に、維持されねばならない。透明層の厚さに応じた球面収差の制御は、
光記録担体に対してどのような走査装置でも、異なる形式の記録担体の間で開口
数を変える方法とは独立に、使用され得ることに注意する。
【００１６】 図２は、記録担体の入射面上の平凸レンズ１１の平坦面の高さｈの関数として
の、２つの形式の記録担体に対する、記録担体に面する平凸レンズ１１のレンズ
面での放射ビームの半径を示す。破線は、０．１ｍｍの厚さｄの透明層を有する
第１の形式の記録担体を、０．８５の開口数ＮＡを有するビームにより走査した
場合を示す。実線は、０．６ｍｍの厚さｄの透明層を有する第１の形式の記録担
体を、０．６０の開口数ＮＡを有するビームにより走査した場合を示す。走査装
置の特定の実施例では、高さは、０．１ｍｍ厚さの透明層上で０．１ｍｍであり
、一方、厚さ０．６ｍｍの厚さを有する透明層の場合には、高さは０．０５１ｍ
ｍである。図２より、開口数０．８５に対しては、平坦面で放射ビームの半径は
０．２２ｍｍであり、一方、開口数０．８５に対しては０．２９ｍｍに等しいと
推定される。従って、平坦面状でのビームの直径は、ＮＡ＝０．６０に対してよ
りも、ＮＡ＝０．８５に対しての方が小さい。
の、２つの形式の記録担体に対する、記録担体に面する平凸レンズ１１のレンズ
面での放射ビームの半径を示す。破線は、０．１ｍｍの厚さｄの透明層を有する
第１の形式の記録担体を、０．８５の開口数ＮＡを有するビームにより走査した
場合を示す。実線は、０．６ｍｍの厚さｄの透明層を有する第１の形式の記録担
体を、０．６０の開口数ＮＡを有するビームにより走査した場合を示す。走査装
置の特定の実施例では、高さは、０．１ｍｍ厚さの透明層上で０．１ｍｍであり
、一方、厚さ０．６ｍｍの厚さを有する透明層の場合には、高さは０．０５１ｍ
ｍである。図２より、開口数０．８５に対しては、平坦面で放射ビームの半径は
０．２２ｍｍであり、一方、開口数０．８５に対しては０．２９ｍｍに等しいと
推定される。従って、平坦面状でのビームの直径は、ＮＡ＝０．６０に対してよ
りも、ＮＡ＝０．８５に対しての方が小さい。
【００１７】 図３Ａは、図２の破線に対応する第１の形式の記録担体の場合の、対物レンズ
１０と平凸レンズ１１を横切る放射ビーム１５の光線３０を示す。このＮＡ＝０
．８５の場合には、開口数は、対物レンズ１０の近くの絞り３３により制限され
る。絞りは、対物レンズ１０のホルダの一部である不透明環３３により画定され
る。代わりに、絞りは、対物レンズ１０の２面の内の１つに与えられた透明開口
を有する不透明コーティングにより制限されても良い。
１０と平凸レンズ１１を横切る放射ビーム１５の光線３０を示す。このＮＡ＝０
．８５の場合には、開口数は、対物レンズ１０の近くの絞り３３により制限され
る。絞りは、対物レンズ１０のホルダの一部である不透明環３３により画定され
る。代わりに、絞りは、対物レンズ１０の２面の内の１つに与えられた透明開口
を有する不透明コーティングにより制限されても良い。
【００１８】 図３Ｂは、図２の実線に対応する、第２の記録担体の場合の放射ビーム１５の
光線を示す。ＮＡ＝０．８５の場合の絞りの面でのビームの直径と等しい直径の
平坦面３１上及び／又は近くの絞りは、放射ビームの開口数を制限する。絞りは
図で、太い線３２で示されている。図３Ａと比較して、両レンズ１０と１１の位
置は情報層２７上にスポットを得られるように調整され、大きな厚さの透明層２
６により起こされる球面収差の変化が補正される。
光線を示す。ＮＡ＝０．８５の場合の絞りの面でのビームの直径と等しい直径の
平坦面３１上及び／又は近くの絞りは、放射ビームの開口数を制限する。絞りは
図で、太い線３２で示されている。図３Ａと比較して、両レンズ１０と１１の位
置は情報層２７上にスポットを得られるように調整され、大きな厚さの透明層２
６により起こされる球面収差の変化が補正される。
【００１９】 図３Ａと３Ｂは、透明層の厚さが変わった場合の、平坦面３１での放射ビーム
の直径の変化を示す。平坦面上でのＮＡ＝０．８５のビームの直径は、ＮＡ＝０
．６０のビームの直径よりも小さいので、絞り３２は、ＮＡ＝０．８５の放射ビ
ームの開口数には影響を与えない。図３Ａと３Ｂは、第１の形式の記録担体１を
走査している時に、放射ビーム１５の開口数が、第１の絞り３３により制限され
ていることを示し、一方、第２の形式の記録担体２５を走査している時に、放射
ビーム１５の開口数が、第２の絞り３２により制限されていることを示す。
の直径の変化を示す。平坦面上でのＮＡ＝０．８５のビームの直径は、ＮＡ＝０
．６０のビームの直径よりも小さいので、絞り３２は、ＮＡ＝０．８５の放射ビ
ームの開口数には影響を与えない。図３Ａと３Ｂは、第１の形式の記録担体１を
走査している時に、放射ビーム１５の開口数が、第１の絞り３３により制限され
ていることを示し、一方、第２の形式の記録担体２５を走査している時に、放射
ビーム１５の開口数が、第２の絞り３２により制限されていることを示す。
【００２０】 図４は、平凸レンズ１１の２つの実施例を示す。図４Ａは、レンズは、平坦面
３１の近くの絞りとして効果がある円開口３６を有するレンズホルダ３５に固定
されている。図４Ｂに示すレンズは、平坦面３１の近くの比較的大きな開口を有
するレンズホルダ３７に固定されている。透明開口３９を有する平坦面３１上の
不透明コーティング３８は、絞りとして働く。開口３６と３９は円形又は、非円
形対象スポット１６を得るには、楕円形状のような他の形状でも良い。
３１の近くの絞りとして効果がある円開口３６を有するレンズホルダ３５に固定
されている。図４Ｂに示すレンズは、平坦面３１の近くの比較的大きな開口を有
するレンズホルダ３７に固定されている。透明開口３９を有する平坦面３１上の
不透明コーティング３８は、絞りとして働く。開口３６と３９は円形又は、非円
形対象スポット１６を得るには、楕円形状のような他の形状でも良い。
【００２１】 特定の光ヘッドに対する２つのスポットの正しい位置が、走査される記録担体
の形式に依存して調整された光学部品の位置の関数として、図２に示すようなビ
ーム半径のグラフから得られることが明らかである。第１の形式の記録担体に対
するビーム半径が、第２の形式の記録担体に対するビーム半径よりも大きい位置
を、且つ、第２の形式の記録担体に対するビーム半径が、第２の形式の記録担体
に対するビーム半径よりも大きい位置を見つけるために、グラフは、光軸に沿っ
た連続した位置に対して作られるべきである。
の形式に依存して調整された光学部品の位置の関数として、図２に示すようなビ
ーム半径のグラフから得られることが明らかである。第１の形式の記録担体に対
するビーム半径が、第２の形式の記録担体に対するビーム半径よりも大きい位置
を、且つ、第２の形式の記録担体に対するビーム半径が、第２の形式の記録担体
に対するビーム半径よりも大きい位置を見つけるために、グラフは、光軸に沿っ
た連続した位置に対して作られるべきである。
【図１】 本発明に従った走査装置を示す図である。
【図２】 開口数ＮＡが異なる値で且つ、記録担体の透過層の厚さがｄを有する２つの場
合の、記録担体上の面の高さｈの関数としての、記録担体に最も近いレンズ面で
の放射ビームの半径ｒを示す図である。
合の、記録担体上の面の高さｈの関数としての、記録担体に最も近いレンズ面で
の放射ビームの半径ｒを示す図である。
【図３】 図３Ａと３Ｂは、第１と第２の形式の記録担体を走査する時の放射ビームの光
線を示す図である。
線を示す図である。
【図４】 図４Ａと４Ｂは平凸レンズ上の絞りの２つの実施例を示す図である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (71)出願人 Ｇｒｏｅｎｅｗｏｕｄｓｅｗｅｇ １， 5621 ＢＡ Ｅｉｎｄｈｏｖｅｎ， Ｔｈ ｅ Ｎｅｔｈｅｒｌａｎｄｓ Ｆターム(参考） 5D119 AA11 AA22 AA41 BA01 CA06 EA03 EB02 EC01 EC37 JA44 JA60 JB02
Claims (4)
- 【請求項１】 １つの光軸を有する放射ビームを供給する放射源と、走査さ
れる記録担体上にスポットを形成するために放射ビームを集束ビームへ集中させ
る光学系とを有し、第１の開口数を有する放射ビームで第１の形式の光学的記録
担体を走査し、且つ、第２の開口数を有する放射ビームで第２の異なる形式の光
学的記録担体を走査する光学的装置であって、光学系は、第1の固定の絞りと、
光軸上の異なる位置に第２の固定の絞りを有し、第１と第２の絞りは第１と第２
の開口数をそれぞれに決定することを特徴とする装置。 - 【請求項２】 第２の絞りは、集束ビームの経路に配置され、且つ、第２の
開口数は第１の開口数よりも小さい請求項１記載の光走査装置。 - 【請求項３】 光学系は第１と第２の光学部品を有する対物系を有し、第１
の部品は、第２の部品よりも放射源から更に離れている請求項１記載の光走査装
置。 - 【請求項４】 第２の絞りは、第１の光学部品上に配置された絞りである請
求項３記載の光走査装置。
Applications Claiming Priority (3)
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| EP98204351 | 1998-12-21 | ||
| EP98204351.5 | 1998-12-21 | ||
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Family Applications (1)
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| JPH09243805A (ja) * | 1996-03-13 | 1997-09-19 | Sony Corp | レンズ設計方法 |
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-
1999
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- 1999-12-06 CN CN99802970A patent/CN1122987C/zh not_active Expired - Fee Related
- 1999-12-06 JP JP2000590167A patent/JP2002533860A/ja not_active Withdrawn
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- 1999-12-13 US US09/459,624 patent/US6278560B1/en not_active Expired - Fee Related
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20061205 |
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| A761 | Written withdrawal of application |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761 Effective date: 20071207 |