JP2002533738A - Method for testing a semiconductor product die and an assembly including a test die for the test - Google Patents

Method for testing a semiconductor product die and an assembly including a test die for the test

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JP2002533738A JP2000591661A JP2000591661A JP2002533738A JP 2002533738 A JP2002533738 A JP 2002533738A JP 2000591661 A JP2000591661 A JP 2000591661A JP 2000591661 A JP2000591661 A JP 2000591661A JP 2002533738 A JP2002533738 A JP 2002533738A
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Abstract

(57)【要約】 製品ダイ(2011,300)の製品回路(202,302,304)をテストするためのテストアセンブリ(2000)。一実施形態では、テストアセンブリは、テストダイ(2010,400)及び該テストダイをホストコントローラ(2002)へ電気的に結合する相互接続基板(2008)を含む。該テストダイは、テスト回路(202A,402,404)及び製品回路を統合化された設計(102)に同時に設計するステップを含むテストダイ及び製品ダイに関する設計方法論(100)に従って設計可能である。テスト回路は、該テスト回路により必要とされるシリコン領域の量にほぼ関係なく、対応する製品回路に関して高度の欠陥検出範囲を提供するよう設計可能である。次いで該設計方法論は、統合化された設計をテストダイ及び製品ダイへと分割する(104)。テストダイはテスト回路を含み、製品ダイは製品回路を含む。製品ダイは幾つかのテスト回路を含むことが可能である。次いで製品及びテストダイが別個の半導体ウェハ上に作製される。製品回路及びテスト回路を別個のダイに分割することにより、製品ダイ上の埋設されたテスト回路を排除し又は最小限にすることができる。これは、製品ダイのサイズを縮小し、及び製品ダイの製造コストを低減させると共に製品ダイ内の製品回路の高度のテスト範囲を維持する傾向のものとなる。次いでテストダイを使用して1つ又は2つ以上のウェハ上の多数の製品ダイをテストすることが可能となる。 (57) [Summary] A test assembly (2000) for testing a product circuit (202, 302, 304) of a product die (2011, 300). In one embodiment, a test assembly includes a test die (2010, 400) and an interconnect board (2008) that electrically couples the test die to a host controller (2002). The test die can be designed according to a design methodology (100) for the test die and the product die, including the step of simultaneously designing the test circuit (202A, 402, 404) and the product circuit into an integrated design (102). The test circuit can be designed to provide a high degree of defect coverage for the corresponding product circuit, regardless of the amount of silicon area required by the test circuit. The design methodology then partitions the integrated design into test and product dies (104). The test die contains test circuits, and the product die contains product circuits. A product die can include several test circuits. The product and test dies are then fabricated on separate semiconductor wafers. By splitting the product and test circuits into separate dies, embedded test circuits on the product die can be eliminated or minimized. This tends to reduce the size of the product die and reduce the cost of manufacturing the product die while maintaining a high test coverage of the product circuits within the product die. The test dies can then be used to test multiple product dies on one or more wafers.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION

本発明は、集積回路(IC)半導体デバイスに関し、特に該デバイスのテスト
に関する。
The present invention relates to integrated circuit (IC) semiconductor devices, and more particularly to testing such devices.

【0002】[0002]

【従来の技術】[Prior art]

集積回路設計の複雑性及び密度が増大すると、設計上の方法論は、最終的な製
品のテスト可能性及び品質が改善されるようテスト用設計(DFT:Design-For-Test
)技術を用いて回路を作製することが要求される。テスト方法論もまた、高品質
・低コストのテストソリューションを生成することが要求される。
As the complexity and density of integrated circuit designs increase, design methodologies are designed to improve testability and quality of the final product (Design-For-Test-DFT).
) It is required to fabricate circuits using technology. Test methodologies are also required to produce high quality, low cost test solutions.

【0003】 従来の一つの設計方法論として、最初にソフトウェア設計ツールを使用して集
積回路を設計し、設計の全体的な機能または該設計における個々の回路をシミュ
レートし、次いで該設計の全体的な機能をテストするためのテストベクトルを生
成する、という各プロセスを含むものがある。該テストベクトルは典型的には、
製品中の回路に関する一定の欠陥検出範囲(fault coverage)または欠陥シミュレ
ーションを提供する自動化されたソフトウェアツール(例えば自動テストパター
ン生成器すなわちATPG)により生成される。次いで、かかるテストベクトルが、
典型的にはコンピュータにより読み出すことが可能なファイルという形で自動テ
スト機器(ATE:Automatic Testing Equipment)又はテスタに提供される。ATEは
、ウェハにおけるダイをテストするための製造環境で、及びパッケージ化テスト
(packaged test)で使用される。集積回路設計は、一層複雑になり、及び一層高
速で処理されるようになり、これらはテスト機器により多くを要求するものとな
る。これは、ATEのコストを増大させる傾向にあり、したがって製造コストを
増大させる傾向となる。更に、集積回路設計が一層複雑になるにつれて、該回路
のテストに要する時間が増大することになる。これはまた、製造コストを増大さ
せるものとなる。
[0003] One conventional design methodology is to first design an integrated circuit using software design tools, simulate the overall function of the design or individual circuits in the design, and then Some processes include a process of generating test vectors for testing various functions. The test vector is typically
Generated by an automated software tool (eg, an automatic test pattern generator or ATPG) that provides a fixed fault coverage or defect simulation for circuits in a product. Then, such a test vector is
It is provided to an automatic testing equipment (ATE) or tester, typically in the form of a computer readable file. ATE is a manufacturing environment for testing dies on wafers, and packaging testing
Used in (packaged test). Integrated circuit designs are becoming more complex and faster, which places more demands on test equipment. This tends to increase the cost of the ATE and therefore the manufacturing cost. Further, as integrated circuit design becomes more complex, the time required to test the circuit will increase. This also increases manufacturing costs.

【0004】 ダイのウェハレベルでのテスト中には、テスト信号が、該ダイ上の入力又は入
出力(I/O)ボンディングパッドを介して提供され、そのテスト結果が、出力又はI
/Oボンディングパッド上で監視される。ウェハレベルのテストをパスした良好な
ダイは、単体化され(singulate)、典型的にはそのボンディングパッドを、ボン
ディングワイヤ、はんだボール、又は他の接触構造によりパッケージに電気的に
接続することにより、パッケージ化される。該ボンディングワイヤまたははんだ
ボールに合わせて、ボンディングパッドは一般には、集積回路の回路要素と比較
して極めて大きなものとなる。典型的なボンディングパッドのサイズは、100μm
×100μm(4ミル×4ミル)のオーダーとなる。該ボンディングパッドはまた、典
型的には、規則的なパターンで配列され、例えば、ダイの外周に沿ってグリッド
パターンで、又はダイのほぼ中央を通る行及び列をなすように(リードオンセン
ター:lead-on-center)配列される。
During wafer-level testing of a die, test signals are provided via input or input / output (I / O) bonding pads on the die and the test results are output or I / O.
Monitored on the / O bonding pad. A good die that has passed wafer-level testing is singulated, typically by electrically connecting its bonding pads to the package via bonding wires, solder balls, or other contact structures. Be packaged. In accordance with the bonding wires or solder balls, the bonding pads are generally very large compared to the circuit elements of the integrated circuit. Typical bond pad size is 100μm
× 100μm (4 mils × 4 mils). The bonding pads are also typically arranged in a regular pattern, for example, in a grid pattern along the periphery of the die, or in rows and columns passing approximately through the center of the die (lead-on-center: lead-on-center).

【0005】 個々の回路のテスト範囲を改善するために、テスト回路を設計自体に組み込む
DFTツールが開発された。例えば、個々の回路ブロックをテストするためにビル
トインセルフテスト(BIST)回路を設計に挿入することが可能である。BISTは、
被験装置(DUT)のボンディングパッドにより容易にアクセスすることができな
い回路ブロックをテストするのに特に有用なものである。BIST回路(メモリブロ
ックのテスト用のメモリBISTや論理ブロックのテスト用の論理BIST等)を生成す
るための自動化されたDFTツール(オレゴン州在のMentor Graphicsにより提供さ
れるもの等)は周知のものである。BIST回路により実行されたテストの結果は、
外部I/Oへ直接提供され、又は設計中に含めることが可能な境界走査回路を介し
て外部I/Oへ間接的に提供される。SCANチェーン(chain)回路等の内部的に組み込
まれた更なるテスト回路を設計に追加して、内部的及び連続的な(sequential)設
計の内部的なテスト可能性を増大させることも可能である。
In order to improve the test coverage of individual circuits, test circuits are integrated into the design itself
DFT tools were developed. For example, a built-in self test (BIST) circuit can be inserted into a design to test individual circuit blocks. BIST
It is particularly useful for testing circuit blocks that are not easily accessible by the bonding pads of the device under test (DUT). Automated DFT tools (such as those provided by Mentor Graphics, Oregon) for generating BIST circuits (such as memory BIST for testing memory blocks and logical BIST for testing logic blocks) are well known It is. The result of the test performed by the BIST circuit is
Provided directly to external I / O or indirectly to external I / O via a boundary scan circuit that can be included in the design. Additional internally incorporated test circuits, such as SCAN chain circuits, can be added to the design to increase the internal testability of internal and sequential designs. .

【0006】 1つのダイが、その周囲型、グリッド型、又はリードオンセンター型のボンデ
ィングパッド位置の全てを、1つのデバイスの機能に対して既に提供している場
合には、オンチップテスト回路をサポートするために所定のボンディングパッド
配置で付加的なボンディングパッドを追加すると、ダイのサイズが大幅に増大す
ることになる。これに対応してダイのコストが増大する傾向となる。一般に、ダ
イのサイズが大きくなるほど欠陥が生じ易くなり、結果的に製造コストが高くな
る。更に、オンチップテスト回路はテスト時間を大幅に増大させるものとなり得
る。これは、テスト入力データのロード及びそれに次ぐ少数の利用可能なボンデ
ィングパッドからのテスト結果の出力に多数のクロックサイクルが必要となり得
るからである。オンチップテスト回路はまた、内部回路ノードに対する直接的な
外部アクセスを考慮したものではない。テスト入力データ及びテスト結果は、SC
AN回路又はBIST回路を通過した後でなければ監視することができない。このため
、テスト対象となる回路の故障をマスクすることができる追加の回路が必要とな
り、又はSCAN若しくはBIST回路によって新たな故障が引き起こされる可能性があ
る。
If one die already provides all of its peripheral, grid, or lead-on-center bonding pad locations for the function of one device, then the on-chip test circuit may be used. Adding additional bonding pads in a given bonding pad arrangement to support would significantly increase the die size. The cost of the die tends to increase correspondingly. In general, larger die sizes are more prone to defects, resulting in higher manufacturing costs. Furthermore, on-chip test circuits can significantly increase test time. This is because loading the test input data and then outputting the test results from the few available bonding pads may require many clock cycles. On-chip test circuits also do not allow for direct external access to internal circuit nodes. Test input data and test results are SC
Monitoring is only possible after passing through the AN circuit or BIST circuit. This may require additional circuitry that can mask the failure of the circuit under test, or may cause a new failure by the SCAN or BIST circuit.

【0007】 更に、多くの設計はI/Oを制限したものである。これは、所与のパッケージ方
式では、限られた数のリード(例えばボンディングワイヤ)しか収容することが
できないからである。その上、ダイのI/O機能をテストするために、それらの同
じリード位置を使用しなければならない。回路中のより多くのポイントにアクセ
スすることが(特にテストにとって)有利である。該アクセスポイントを高度の
位置の自由度で突き止めることができることもまた有利となる。該アクセスポイ
ントのサイズが小さいこと、該アクセスポイントが多数存在すること、及び該ア
クセスポイントの任意の又は選択的な位置決めを行うこともまた有利である。
Furthermore, many designs have limited I / O. This is because a given packaging scheme can only accommodate a limited number of leads (eg, bonding wires). In addition, those same lead locations must be used to test the I / O function of the die. Accessing more points in the circuit is advantageous (especially for testing). It would also be advantageous to be able to locate the access point with a high degree of positional freedom. It is also advantageous that the size of the access point is small, that there are many access points, and that any or selective positioning of the access point is performed.

【0008】 組込型(embedded)テスト回路の場合、集積回路の設計方法論は、最初にソフト
ウェア設計ツールを用いて集積回路を設計し、該設計における集積回路又は個々
の回路の全体的な機能をシミュレートし、該設計における個々の回路又は回路ブ
ロックをテストするための組込型テスト回路を生成し、及びATEによるデバイ
スの機能テストを行うためのテストベクトルを生成する、という各プロセスを含
むものとなる。
In the case of embedded test circuits, integrated circuit design methodology first designs the integrated circuit using a software design tool, and determines the overall function of the integrated circuit or individual circuits in the design. Simulating, generating an embedded test circuit for testing individual circuits or circuit blocks in the design, and generating test vectors for performing a functional test of the device by ATE. Becomes

【0009】 特定の設計に付加する組込型テスト回路の量は、典型的には、増大した欠陥検
出範囲及び考え得る短縮されるテスト時間による利益と、最終製品の製造コスト
を増大させるものとなるダイサイズの増大及び製造欠陥の可能性の増大による不
利益との平衡を図ることを必要とするものである。極端な一例では、設計は、全
ての内部回路のあらゆる回路ノードをテストする複雑な組込型テスト回路を含む
ことが可能であるが、かかる設計は法外に高価なものとなる。これは、ダイサイ
ズが基本的にテスト回路のサイズの関数となるからである。別の一例では、設計
は、組込型テスト回路を全く含まず、ATEにより供給されるテストベクトルの
みに依存してウェハレベルで又はパッケージ化形態で該設計の機能をテストする
ものとすることが可能である。しかし、この方法は、欠陥検出範囲を縮小させ、
製品品質を低下させ、及び高価なATEの使用及びテスト時間の増大によって製
造コストを増大させる傾向のものとなる。高価なATEの使用によるコストを最
低限にするための1つの方法が、米国特許第5,497,079号に開示されている。該
米国特許は、ATEの汎用的な機能を汎用機能テストチップへと凝縮するもので
ある。該テストチップは、ホストコンピュータによる制御下で、他の半導体チッ
プをテストすることができるものである。該テストチップは、プローブカード上
に配置することが可能なものであり、又はマザーボードを介してテスト対象チッ
プと電気的に接触させることが可能なものである。これとは別の方法が1997年1
月15日出願の米国特許出願第08/784,862号に開示されている。同出願では、汎用
テスト回路を有するテストチップにより半導体チップのウェハレベルテストが行
われる。
[0009] The amount of embedded test circuitry added to a particular design typically benefits from increased defect coverage and possible shortened test times, and increases the cost of manufacturing the end product. It is necessary to balance the disadvantages of increasing die size and the potential for manufacturing defects. In an extreme example, a design can include complex embedded test circuits that test every circuit node of every internal circuit, but such designs are prohibitively expensive. This is because the die size is basically a function of the size of the test circuit. In another example, the design may include no embedded test circuitry and test the functionality of the design at the wafer level or in a packaged form, relying solely on test vectors provided by the ATE. It is possible. However, this method reduces the defect detection range,
It tends to reduce product quality and increase manufacturing costs through the use of expensive ATEs and increased test times. One method for minimizing the cost of using expensive ATE is disclosed in US Pat. No. 5,497,079. The U.S. Patent condenses the general purpose functions of the ATE into a general purpose function test chip. The test chip can test another semiconductor chip under the control of the host computer. The test chip can be placed on a probe card, or can be brought into electrical contact with a chip to be tested via a motherboard. Another method is 1997 1
No. 08 / 784,862, filed on Mar. 15, 2009. In the application, a wafer level test of a semiconductor chip is performed by a test chip having a general-purpose test circuit.

【0010】 上記2つの極端な例の間で、典型的な集積回路設計は、組込型テスト回路の量
とATEにより実行されることになるテストとの間の平衡に達することになる。
典型的には、組込型テスト回路は、設計の全ダイ領域の約5〜15%に限定され、
該設計の全体的な機能をテストするためにATEに関してテストベクトルが生成
される。しかし、この平衡の結果として得られる欠陥検出範囲は、最適な欠陥検
出範囲に満たないものであり、依然として高価なATEを使用する必要がある。
[0010] Between the above two extremes, a typical integrated circuit design will reach a balance between the amount of embedded test circuitry and the tests to be performed by the ATE.
Typically, embedded test circuits are limited to about 5-15% of the total die area of the design,
Test vectors are generated for the ATE to test the overall functionality of the design. However, the defect detection range resulting from this equilibrium is less than the optimal defect detection range, and still requires the use of expensive ATE.

【0011】[0011]

【発明が解決しようとする課題】[Problems to be solved by the invention]

欠陥検出範囲又はテスト可能性と、設計のテスト又は製造に関するコストとの
間の線形的な関係を打ち破る、設計及びテスト方法論を獲得することが望ましい
It is desirable to have a design and test methodology that breaks the linear relationship between defect coverage or testability and the cost of testing or manufacturing the design.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】[Means for Solving the Problems]

本発明の一実施形態は、製品ダイの製品回路をテストするためのテストアセン
ブリに関するものである。一実施形態では、該テストアセンブリは、テストダイ
と、該テストダイを該テストダイとの通信を行うホストコントローラに電気的に
結合するための相互接続基板とを含む。該テストダイは、テスト回路と製品回路
とを統合化された(unified)設計で同時に設計するステップを含む設計方法論に
従って設計することが可能である。該テスト回路は、該テスト回路により必要と
されることになるシリコン領域の量にほぼ関係なく、対応する製品回路に関して
高度の欠陥検出範囲を提供するよう設計することができる。次いで該設計方法論
は、前記統合化された設計をテストダイと製品ダイとに分割する。該テストダイ
はテスト回路を含み、該製品ダイは製品回路を含む。次いで、該製品ダイ及びテ
ストダイが、別個の半導体ウェハ上に作製される。製品回路とテスト回路とを別
個のダイへ分割することにより、組込型テスト回路を製品ダイ上から排除し又は
最小限にすることができる。これは、製品ダイのサイズを縮小させると共に製品
ダイの製造コストを低減させる一方、製品ダイ内の製品回路の高度のテスト範囲
を維持する傾向のものとなる。次いでテストダイを使用して、1つ又は2つ以上
のウェハ上の多数の製品ダイのテストを行う。
One embodiment of the invention is directed to a test assembly for testing a product circuit of a product die. In one embodiment, the test assembly includes a test die and an interconnect board for electrically coupling the test die to a host controller that communicates with the test die. The test die can be designed according to a design methodology that includes designing test circuits and product circuits simultaneously in a unified design. The test circuit can be designed to provide a high degree of defect coverage for the corresponding product circuit, regardless of the amount of silicon area required by the test circuit. The design methodology then divides the integrated design into a test die and a product die. The test die includes test circuits, and the product die includes product circuits. The product die and test die are then fabricated on separate semiconductor wafers. By splitting the product and test circuits into separate dies, embedded test circuits can be eliminated or minimized on the product die. This tends to reduce the size of the product die and reduce the cost of manufacturing the product die, while maintaining a high test coverage of the product circuits within the product die. The test die is then used to test multiple product dies on one or more wafers.

【0013】 本発明の他の目的、特徴、及び利点は、添付図面及び以下の詳細な説明から明
らかとなろう。
[0013] Other objects, features and advantages of the present invention will be apparent from the accompanying drawings and from the detailed description that follows.

【0014】[0014]

【発明の実施の形態】BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION

本発明の特徴及び利点をその実施形態により例証するが、これは本発明の範囲
をその特定の実施形態に限定することを意図したものでは決してない。
Although the features and advantages of the present invention are illustrated by its embodiments, this is by no means intended to limit the scope of the invention to that particular embodiment.

【0015】 以下の本発明の詳細な説明では、本発明の完全なる理解を提供するために多数
の特定の詳細について解説する。しかし、当業者は、かかる特定の細部なしでも
本発明を実施することが可能である。幾つかの実施形態では、本発明が不明瞭と
なることを防止するために、周知の方法、手順、及び構成要素については説明し
ていない。
In the following detailed description of the present invention, numerous specific details are set forth in order to provide a thorough understanding of the present invention. However, one of ordinary skill in the art can practice the invention without these specific details. In some embodiments, well-known methods, procedures, and components have not been described in detail so as not to obscure the present invention.

【0016】 図1は、製品ダイ及びそれに対応するテストダイを設計するための設計方法論
100の一実施形態である。該テストダイは、該製品ダイ上の1つ又は2つ以上の
回路へテスト信号を提供し又は同回路からの信号を監視するテスト回路を含む。
図2ないし図4は、設計方法論100により生成された製品ダイ及びテストダイを
示している。
FIG. 1 is a design methodology for designing a product die and a corresponding test die.
100 is one embodiment of the present invention. The test die includes a test circuit that provides test signals to or monitors signals from one or more circuits on the product die.
2 through 4 show product dies and test dies generated by the design methodology 100. FIG.

【0017】 本明細書全体を通して、用語「製品ダイ」及び「製品デバイス」は、半導体ウ
ェハ上または絶縁基板その他の適当な基板上に形成された集積回路の一例を意味
するものである。かかる用語はまた、被験装置(DUT)を意味している。用語
「製品回路」は、製品ダイの回路を意味し、集積化された半導体回路、集積化さ
れた微小電気機械構造若しくはシステム(MEMS:Microelectrical mechanic
al structure or systems)、又はその他の適当な回路要素を含む能動素子又は
受動素子から構成することが可能なものである。更に、用語「テストダイ」及び
「テストデバイス」は、半導体ウェハ上または絶縁基板その他の適当な基板上に
形成される集積回路を意味している。該テストダイは、製品ダイへテスト信号を
提供し及び/又は製品ダイからの信号を監視するための回路を含む。テストダイ
は、集積化された半導体回路、集積化されたMEMS、又は製品ダイのテスト又
は監視を行うための他の適当な回路要素を含む、能動素子又は受動素子から構成
することも可能である。後に、テストダイ及び製品ダイは、ランドグリッドアレ
イ(Land Grid Array)パッケージ(例えば、ボールグリッドアレイ(BGA:Ball Gri
d Array)パッケージ、ピングリッドアレイ(PGA:Pin Grid Array)パッケージ、コ
ントロールコラプスチップ接続(controll collapse chip connection)パッケー
ジ、フリップチップパッケージ、他の表面実装パッケージ、デュアルインライン
パッケージ(DIP)等)を含む一般に知られているあらゆるパッケージへとパッケ
ージ化することが可能である。
Throughout this specification, the terms “product die” and “product device” refer to an example of an integrated circuit formed on a semiconductor wafer or on an insulating substrate or other suitable substrate. Such terms also refer to a device under test (DUT). The term “product circuit” refers to the circuit of a product die, and includes integrated semiconductor circuits, integrated microelectromechanical structures or systems (MEMS).
al structure or systems) or other active or passive elements including appropriate circuit elements. Further, the terms "test die" and "test device" refer to an integrated circuit formed on a semiconductor wafer or on an insulating substrate or other suitable substrate. The test die includes circuitry for providing test signals to the product die and / or monitoring signals from the product die. The test die can also be comprised of active or passive devices, including integrated semiconductor circuits, integrated MEMS, or other suitable circuit elements for testing or monitoring product dies. Later, a test die and a product die are provided in a land grid array (land grid array) package (for example, a ball grid array (BGA)).
d Array) packages, Pin Grid Array (PGA) packages, control collapse chip connection packages, flip chip packages, other surface mount packages, dual in-line packages (DIP), etc. It can be packaged into any known package.

【0018】 ステップ102で、製品ダイ及びテストダイのための回路が統合化された設計200
で設計される。該設計は、従来のソフトウェアツールを使用して製品回路202,20
4,206及びテスト回路202A,204A,206Aを(例えばVHDLすなわちVerilog HDL形式で
)設計する従来のコンピューターエイデッドデザイン(CAD)システムで実施する
ことが可能である。テスト回路202A,204A,206Aは、包括的に「テストベンチ」と
呼ばれる場合があり、所望の程度にローバスト(すなわち堅牢)であるよう設計
される。すなわち、テスト回路202A,204A,206Aは、対応する製品回路202,204,20
6をそれぞれテストするのに望ましい数のテスト機能を包含するよう設計するこ
とが可能である。1つのテスト回路は、それに対応する製品回路に関して100%
の欠陥検出範囲を提供するよう設計することが可能であり、又はそれとは異なる
所望の欠陥検出範囲を提供するよう設計することが可能である。以前のDesign-F
or-Test(DFT)設計方法論とは対照的に、テスト回路202A,204A,206Aは、該テス
ト回路を実施するためのシリコンダイ領域の量に関係なく上述のように設計する
ことが可能である。一実施形態では、テスト回路及び製品回路は、結果的に得ら
れる製品ダイ及びテストダイがほぼ同一サイズを有するようにそれぞれ設計する
ことが可能である。別の実施形態では、製品ダイ及びテストダイを異なるサイズ
とすることが可能である。
In step 102, a circuit integrated design 200 for a product die and a test die 200
Designed with. The design uses conventional software tools to create product circuits 202, 20
4, 206 and test circuits 202A, 204A, 206A (eg, in VHDL or Verilog HDL format) can be implemented in a conventional computer aided design (CAD) system. Test circuits 202A, 204A, 206A, sometimes collectively referred to as "test benches", are designed to be as robust as desired. That is, the test circuits 202A, 204A, and 206A correspond to the corresponding product circuits 202, 204, and 20.
Each of the six can be designed to include the desired number of test functions to test. One test circuit is 100% for the corresponding product circuit
Can be designed to provide a desired defect detection range different from the above. Previous Design-F
In contrast to the or-Test (DFT) design methodology, the test circuits 202A, 204A, 206A can be designed as described above regardless of the amount of silicon die area for performing the test circuits. . In one embodiment, the test circuit and the product circuit can each be designed such that the resulting product die and test die have approximately the same size. In another embodiment, the product die and test die can be different sizes.

【0019】 ステップ104で、製品回路及びテスト回路が、別個の製品ダイ及び1つ又は2
つ以上のテストダイへとそれぞれ分割される。テスト回路を別個のテストダイへ
分割することにより、製品ダイ上のテスト回路を最小限にし又はなくすことが可
能となる。これにより、製品ダイのダイサイズが縮小され、このため製造欠陥が
生じる可能性が低減され、及び製造コストが一般に低減される一方、該製品ダイ
のテスト可能性が増大される。テスト刺激を供給する外部テスト回路は、製品ダ
イ300のサイズに影響を与えることなくテスト数を増大させることが可能である
。テスト入力又は出力信号経路中にBIST回路が含まれない場合には、欠陥の位置
を一層精確に判定する可能性が高くなる。これは、欠陥をマスクし又は更なる欠
陥を生じさせるオンチップテスト回路が存在しないからである。更に、回路ブロ
ック又は回路ノードとの間で入出力される信号の速度パラメータ又はタイミング
を、介在するオンチップテスト回路により引き起こされる遅延を伴うことなく、
一層精確に測定し監視することが可能となる。
At step 104, the product circuit and the test circuit are connected to separate product dies and one or two
Each is divided into one or more test dies. Splitting the test circuit into separate test dies allows for minimizing or eliminating test circuits on the product die. This reduces the die size of the product die, thereby reducing the likelihood of manufacturing defects and increasing the testability of the product die while generally reducing manufacturing costs. External test circuits that provide test stimuli can increase the number of tests without affecting the size of the product die 300. If the BIST circuit is not included in the test input or output signal path, the possibility of determining the position of the defect more accurately is increased. This is because there are no on-chip test circuits that mask defects or create additional defects. Furthermore, the speed parameters or timing of signals input to and output from circuit blocks or circuit nodes can be adjusted without delays caused by intervening on-chip test circuits.
Measurement and monitoring can be performed more accurately.

【0020】 製品ダイの設計はステップ106でテープアウトされ、テストダイの設計はステ
ップ108で別個にテープアウトされる。次いで、結果的に得られる製品ダイ300が
、他の多くの同一の製品ダイと共に半導体ウェハ(図示せず)上に作製される。
該製品ダイ300に含まれる製品回路302,304,306は、それぞれ製品回路202,204,20
6に対応する、あらゆるディジタル回路、アナログ回路、又はその他の回路とす
ることが可能である。
The product die design is taped out at step 106 and the test die design is separately taped out at step 108. The resulting product die 300 is then fabricated on a semiconductor wafer (not shown) along with many other identical product dies.
The product circuits 302, 304, 306 included in the product die 300 are product circuits 202, 204, 20 respectively.
It can be any digital, analog or other circuit corresponding to 6.

【0021】 結果的に得られるテストダイ400は、テスト回路402,404,406を含むものとして
作製される。該テスト回路402,404,406は、テスト回路202A,204A,206Aにそれぞ
れ対応し、製品回路302,304,306からの信号のテスト及び監視をそれぞれ行う、
あらゆるディジタル回路、アナログ回路、又はその他のテスト又は監視回路とす
ることが可能である。例えば、各テスト回路は、製品回路の論理的動作をテスト
するための機能回路(例えばテストパターン生成器、シーケンサ、ディジタル信
号処理装置(DSP)、フォーマッタ、アナログディジタル変換器、ディジタルアナ
ログ変換器、欠陥分析回路等)、及びACパラメータ(例えば内部信号のタイミン
グや回路の速度等)及びDCパラメータ(例えば電圧及び電流レベルや電力損失等
)をテストするための回路を含むことが可能である。
The resulting test die 400 is fabricated to include test circuits 402, 404, 406. The test circuits 402, 404, and 406 correspond to the test circuits 202A, 204A, and 206A, respectively, and test and monitor signals from the product circuits 302, 304, and 306, respectively.
It can be any digital, analog, or other test or monitoring circuit. For example, each test circuit is a functional circuit for testing the logical operation of a product circuit (eg, test pattern generator, sequencer, digital signal processor (DSP), formatter, analog-to-digital converter, digital-to-analog converter, It can include circuits for testing AC parameters (eg, timing of internal signals, circuit speed, etc.) and DC parameters (eg, voltage and current levels, power loss, etc.).

【0022】 各テスト回路は、対応する製品回路の特定のテストをサポートするよう設計さ
れるが、例示的なテスト回路500の一実施形態を図5に示す。該テスト回路500は
、該テスト回路500の全体的な動作を制御する制御論理回路502を含む。該制御論
理回路502は、例えばシーケンサとすることが可能である。該制御論理回路502に
関連して、パターン生成器504、分析論理回路506、1つ又は2つ以上のパラメー
タ測定ユニット(PMU)510、1つ又は2つ以上のディジタル電源(DPS)512、及びク
ロック論理回路514が動作する。パターン生成器504は、入出力(I/O)回路508を介
して製品ダイ300内の製品回路に送られる1つ又は2つ以上のテストパターンを
生成する。パターン生成器504は、パターンを格納するためのメモリを含むこと
が可能である。分析論理回路506は、I/O回路508を介して製品ダイ300の製品回路
から受信した信号を分析する。分析論理回路506は、期待される結果を、I/O回路
508から受信した信号と比較する、比較論理回路を含むことが可能である。PMU51
0は、I/O回路508により受信された信号の電圧及び電流レベルを測定する。例え
ば、PMU510は、漏れ電流、ソース電流及び電圧、下降(sink)電流及び電圧、電力
損失等を測定することが可能である。DPS512は、1つ又は2つ以上の電源電圧を
テスト対象となる製品回路に提供する。代替的な実施形態の場合には、テストダ
イ以外のソースから電源を供給することが可能である。クロック論理回路514は
、テスト対処となる製品回路にクロック信号を提供することが可能である。非同
期回路の場合にはクロック信号は不要である。この場合も、テスト回路500は、
テスト回路402,404,406等のテスト回路の一実施形態を示すものである。別の実
施形態を使用することも可能である。図5に示す回路ブロックの全てを各テスト
回路402,404,406に含ませることが可能であり、又は、図5の回路ブロックの内
の任意の1つ又は2つ以上を複数のテスト回路402,404,406により共有すること
が可能である。
While each test circuit is designed to support a particular test of the corresponding production circuit, one embodiment of an exemplary test circuit 500 is shown in FIG. The test circuit 500 includes a control logic circuit 502 that controls the overall operation of the test circuit 500. The control logic circuit 502 can be, for example, a sequencer. Associated with the control logic 502 are a pattern generator 504, analysis logic 506, one or more parameter measurement units (PMUs) 510, one or more digital power supplies (DPS) 512, and The clock logic circuit 514 operates. Pattern generator 504 generates one or more test patterns that are sent to product circuits within product die 300 via input / output (I / O) circuit 508. Pattern generator 504 can include a memory for storing patterns. The analysis logic 506 analyzes signals received from the product circuit of the product die 300 via the I / O circuit 508. The analysis logic circuit 506 outputs the expected result to the I / O circuit.
Comparison logic may be included to compare the signal received from 508. PMU51
0 measures the voltage and current level of the signal received by the I / O circuit 508. For example, PMU 510 can measure leakage current, source current and voltage, sink current and voltage, power loss, and the like. The DPS512 provides one or more power supply voltages to the product circuit under test. In alternative embodiments, power can be supplied from sources other than the test die. The clock logic circuit 514 can provide a clock signal to a product circuit to be tested. In the case of an asynchronous circuit, no clock signal is required. Also in this case, the test circuit 500
1 shows an embodiment of a test circuit such as test circuits 402, 404, and 406. Other embodiments can be used. All of the circuit blocks shown in FIG. 5 can be included in each of the test circuits 402, 404, and 406, or any one or more of the circuit blocks in FIG. 5 can be shared by a plurality of test circuits 402, 404, and 406. Is possible.

【0023】 ここで再び図1ないし図4を参照する。分割ステップ104は、CAD DFTソフトウ
ェアツールで実施することが可能なものであり、各製品回路とその対応するテス
ト回路との間の論理的な相互接続ポイントを最初に決定し、次いで製品ダイ及び
テストダイの各々の論理的及び物理的な記述を作成する。該相互接続ポイントは
、結果的に特殊な接触ポイント又は接触パッド(テストパッド)310,410となる
。該パッド310は、製品回路302,304,306へのテスト信号、又は同回路からの出力
信号を提供するものとなる。以下で詳述するように、パッド310は、テスト回路4
02,404,406との通信を行うために1つの接触構造(例えばバネ接触要素やプロー
ブカードのプローブ等)によりテストダイ400のパッド410と電気的に接触させる
ことが可能なものである。
Here, FIG. 1 to FIG. 4 are referred to again. The splitting step 104, which can be implemented in a CAD DFT software tool, first determines the logical interconnection points between each product circuit and its corresponding test circuit, then the product die and test die. Create a logical and physical description of each of the. The interconnection points result in special contact points or contact pads (test pads) 310,410. The pad 310 provides a test signal to the product circuit 302, 304, 306, or an output signal from the circuit. As described in detail below, the pad 310
02, 404, and 406 can be brought into electrical contact with the pad 410 of the test die 400 by one contact structure (for example, a spring contact element or a probe of a probe card).

【0024】 図3及び図4に示すように、パッド310,410は、特定の被験回路の周囲に物理
的に配置することが可能であり、又は特定の回路ノードに対する一層直接的なア
クセスを提供するよう回路上に配置することが可能である。一般に、パッド310,
410は、図3に示すように製品ダイ300のうちボンディングパッド312により包囲
される領域を含めて、製品ダイ及びテストダイのそれぞれの任意の場所に配設す
ることが可能である。パッド310,410はまた、ボンディングパッドと同じ所定の
配置で配置すること、又はボンディングパッドにより包囲される領域の外部に配
置することが可能である。ボンディングパッド312は、ウェハソート(ウェハの
良否選別)時にプローブの先端を受容し又はボンディングワイヤ若しくははんだ
ボールを受容する、従来の入力、出力、又はI/Oパッドである。ボンディングパ
ッド312は、製品ダイ300を全体として操作するために従来使用されている。同様
に、テストダイ400は、該テストダイ400の全体的な機能を(例えばウェハソート
時に)テストするために使用すること、又は半導体パッケージのピンにテストダ
イをボンドアウト(bond out)するために使用することが可能なボンディングパッ
ド412を含む。
As shown in FIGS. 3 and 4, pads 310 and 410 can be physically located around a particular circuit under test, or provide more direct access to particular circuit nodes. It can be arranged on a circuit. Generally, pad 310,
The 410 can be disposed at any location on the product die and the test die, including the area surrounded by the bonding pads 312 of the product die 300 as shown in FIG. The pads 310, 410 can also be arranged in the same predetermined arrangement as the bonding pads, or outside the area surrounded by the bonding pads. The bonding pad 312 is a conventional input, output, or I / O pad that receives the tip of the probe or receives a bonding wire or solder ball during wafer sorting (wafer sorting). Bonding pads 312 are conventionally used to operate product die 300 as a whole. Similarly, test die 400 may be used to test the overall functionality of test die 400 (eg, during wafer sort) or to bond the test die to pins on a semiconductor package. Includes a possible bonding pad 412.

【0025】 ボンディングパッド312により包囲される領域内にパッド310が配置される場合
には、該パッド310が所与のサイズ及び数を有するものであれば、製品ダイ300の
サイズは拡大しない。更に、テスト回路を別個のテストダイへ移すことにより、
内部のテスト回路と通信を行うために以前に使用されたボンディングパッドを省
略することができる。これにより、製品ダイ300のサイズが更に縮小する。別の
実施形態では、パッド310の追加により製品ダイ300のサイズが大きくなることが
ある。一実施形態では、パッド310のサイズをボンディングパッド312よりも小さ
くすることが可能である。
When the pads 310 are located in the area surrounded by the bonding pads 312, the size of the product die 300 does not increase if the pads 310 have a given size and number. Furthermore, by moving the test circuit to a separate test die,
The bonding pads previously used to communicate with the internal test circuitry can be omitted. This further reduces the size of the product die 300. In another embodiment, the addition of pads 310 may increase the size of product die 300. In one embodiment, the size of pad 310 can be smaller than bonding pad 312.

【0026】 代替的な実施形態の場合には、分割ステップ104が、製品ダイ300のテストを行
うために追加の相互接続ポイントが必要ないことを判定することが可能である。
例えば、分割ステップ104は、ボンディングパッド312が、製品回路302,304,306
の機能全体をテストするために使用することができ、次いでボンディングパッド
312が、テストダイ400の使用時にテスト回路402,404,及び/又は406とのインタ
フェイスをとるために使用されるよう再割り当てを行うことができることを判定
することが可能である。この実施形態では、特殊な接触パッドの数をゼロにする
ことが可能であり、又は上記実施形態で必要とされる個数よりも少数にすること
が可能である。
In an alternative embodiment, the splitting step 104 may determine that no additional interconnection points are needed to test the product die 300.
For example, in the dividing step 104, the bonding pads 312 are connected to the product circuits 302, 304, and 306.
Can be used to test the entire function of the bonding pad
It can be determined that 312 can be reassigned to be used to interface with test circuits 402, 404, and / or 406 when using test die 400. In this embodiment, the number of special contact pads can be zero or less than required in the above embodiment.

【0027】 分割ステップ104での分割の後、BIST回路308等の幾つかのBIST回路を製品ダイ
300に保持することが可能である。例えば、パッド310の追加により不当に課せら
れることになる高速回路をテストするために、又は製品ダイ300上に十分なスペ
ースが存在しない場合にテストダイ400とインタフェイスするためのパッド310を
備えるために、BIST回路を製品ダイ300に有利に保持することが可能である。
After the division in the division step 104, some BIST circuits such as the BIST circuit 308 are
It is possible to hold at 300. For example, to test high speed circuits that would be improperly imposed by the addition of pad 310, or to provide pad 310 to interface with test die 400 if there is not enough space on product die 300. , The BIST circuit can be advantageously retained on the product die 300.

【0028】 別の一実施形態では、設計方法論100は、既存の又は所定のテスト回路を使用
して適当な製品回路を生成することが可能である。例えば、ステップ102で、所
定のテスト回路により所望のレベルの欠陥検出範囲でテストされるよう製品回路
を設計することができる。次いでステップ104〜108は上記と同様の処理を行う。
この実施形態は、例えば、製品ダイにおける製品回路がメモリ回路のように予測
可能なものである場合には、特に適切なものとなる。かかる高度に予測可能なア
ーキテクチャをテストするためのテスト回路は、周知であり十分にテストされた
ものであり(すなわちマーチ(march)パターン、ギャロッピング行列パターン等
を生成するもの)、既存のテスト回路に適応させるよう製品回路を調節しなけれ
ばならない場合にのみ使用することが可能である。更に、該テスト回路は、既存
のテストダイ上に以前に形成されている可能性があり、分割ステップ104は、該
所定のテスト回路を維持するよう製品回路を如何にレイアウトするかを判定し、
すなわち、該テスト回路と製品回路との間に相互接続ポイントを追加することが
可能である。
In another embodiment, the design methodology 100 can use an existing or predetermined test circuit to generate a suitable production circuit. For example, in step 102, a product circuit can be designed to be tested by a predetermined test circuit at a desired level of defect detection range. Next, steps 104 to 108 perform the same processing as described above.
This embodiment is particularly appropriate, for example, if the product circuit on the product die is predictable, such as a memory circuit. Test circuits for testing such highly predictable architectures are well-known and well-tested (i.e., those that generate march patterns, galloping matrix patterns, etc.) and can be implemented on existing test circuits. It can only be used if the product circuit has to be adjusted to accommodate it. Further, the test circuit may have been previously formed on an existing test die, and the dividing step 104 determines how to lay out the product circuit to maintain the predetermined test circuit,
That is, it is possible to add an interconnection point between the test circuit and the product circuit.

【0029】 図6は、図3の製品ダイ300、及び図4のテストダイ400の1つ又は2つ以上を
設計するための設計方法論600の別の実施形態を示している。
FIG. 6 illustrates another embodiment of a design methodology 600 for designing one or more of the product die 300 of FIG. 3 and the test die 400 of FIG.

【0030】 ステップ602で、製品回路202,204,206のための製品設計データが生成され、ス
テップ603で、テスト回路202A,204A,206Aのためのテスト設計データが生成され
る。該設計データは、当該回路に関する回路設計者からの入力に応じてCADソフ
トウェア設計ツールにより生成される。該設計データは、VDHLすなわちVerilog
HDL形式でコンピュータ内に存在することが可能である。前記テスト設計データ
は、回路設計者からの入力により又は該入力を伴うことなく、CAD DFT ソフトウ
ェアツールにより自動的に生成することが可能である。設計方法論100に関して
上述したように、テスト設計データは、該データにより生成されるテスト回路が
回路設計者により所望される程度にローバストなものとなるようなデータである
In step 602, product design data for the product circuits 202, 204, 206 is generated, and in step 603, test design data for the test circuits 202A, 204A, 206A is generated. The design data is generated by a CAD software design tool according to an input from a circuit designer regarding the circuit. The design data is VDHL, Verilog
It can exist in the computer in HDL format. The test design data can be automatically generated by a CAD DFT software tool with or without input from a circuit designer. As described above with respect to the design methodology 100, the test design data is such that the test circuit generated by the data is as robust as desired by the circuit designer.

【0031】 ステップ606で、製品データ及び設計データの両者を含む統合化された設計の
レジスタ伝送レベル(RTL)記述が、CADソフトウェアにより生成され検証される。
ステップ606で、統合化されたRTL記述の論理的合成及び検証が生成される。この
時点で、統合化された製品及びテスト回路のソフトウェア記述が完成する。
At step 606, a register transfer level (RTL) description of the integrated design including both product data and design data is generated and verified by the CAD software.
At step 606, a logical composition and verification of the integrated RTL description is generated. At this point, the software description of the integrated product and test circuit is complete.

【0032】 テストソフトウェアツール608は、ステップ606から出力される統合化された設
計を取得して、製品ダイ300、1つ又は2つ以上の別個のテストダイ400、及び相
互接続の記述をテープアウトし次いで作成するためのデータを生成する。ステッ
プ610で、ソフトウェアツール608は、統合化された設計を別個の製品ダイ及びテ
ストダイの記述へと分割して、物理的なレイアウトを(例えばシリコンに)生成
する。このステップは、物理的な制約612及びユーザプリファレンス(すなわち
嗜好)614を考慮して実行される。この制約612,614は、設計方法論600の実行に
先立ってソフトウェアツール608に入力され、又はソフトウェアツール608がユー
ザにこの入力を実行時に促すことが可能である。
The test software tool 608 takes the integrated design output from step 606 and tapes out the product die 300, one or more separate test dies 400, and the interconnect description. Next, data to be created is generated. At step 610, the software tool 608 splits the integrated design into separate product die and test die descriptions and generates a physical layout (eg, in silicon). This step is performed taking into account physical constraints 612 and user preferences (ie preferences) 614. The constraints 612, 614 may be input to the software tool 608 prior to the execution of the design methodology 600, or the software tool 608 may prompt the user for this input at runtime.

【0033】 物理的な制約612には、例えば、結果的に得られる製品ダイ及びテストダイの
ダイサイズ、各ダイ上のボンディングパッド又は特殊な接触パッドの数、各ダイ
上のボンディングパッド及び特殊な接触パッドのサイズ、プロセス上の制約、又
はプロセス技術、といったものがが含まれる。物理的な制約612は、製品ダイと
テストダイとの間で分割するための回路及びその量を決定するためにソフトウェ
アツール608により使用することが可能である。一例として、ステップ610を実行
する際に製品ダイ300の最大ダイサイズをソフトウェアツール608のパラメータと
してプログラムすることが可能である。製品回路及びテスト回路の分割によって
あまりにも多数の特殊な接触パッドが製品ダイ300上に生じてしまい、製品ダイ
のサイズが所望のダイサイズを超えてしまうことになる場合には、ソフトウェア
ツール608が、該製品回路に必要となる相互接続ポイントがより少数となるよう
にテスト回路を再構成して、テストダイ上のテスト回路の幾つかを製品ダイ上の
BIST回路(すなわち図3のBIST回路308等)と置換すること、及び/又はテスト
回路の幾つかを全てなくすことが可能である。別の実施形態では、特殊な接触パ
ッドを製品ダイ及び/又はテストダイ上に生成すべきでないことが設計上の制約
となることがある。ソフトウェアツール608は、製品ダイがデュアルパーパス(
すなわち、第1目的は製品ダイの全機能のテスト、第2目的はテスト回路を用い
た個々の製品回路のテスト)ボンディングパッドを有するように、テスト及び製
品回路を適切に分割する。この二重の機能を可能とし又はプログラムするための
適当な回路は、製品ダイ及び/又はテストダイに含めることが可能である。
Physical constraints 612 include, for example, the resulting product and test die size, the number of bonding pads or special contact pads on each die, the bonding pads and special contacts on each die. These include pad size, process constraints, or process technology. The physical constraints 612 can be used by the software tool 608 to determine the circuitry and amount to split between the product die and the test die. As an example, the maximum die size of product die 300 can be programmed as a parameter of software tool 608 when performing step 610. If the splitting of the product and test circuits creates too many specialized contact pads on the product die 300, and the size of the product die exceeds the desired die size, the software tool 608 may be used. Reconfiguring the test circuit so that fewer interconnect points are required for the product die so that some of the test circuits on the test die are
It is possible to replace the BIST circuit (ie, the BIST circuit 308 of FIG. 3, etc.) and / or eliminate some of the test circuits. In another embodiment, a design constraint may be that special contact pads should not be created on the product die and / or test die. Software Tool 608 is a product die dual purpose (
The first purpose is to test all functions of the product die, and the second purpose is to test individual product circuits using test circuits. Appropriate circuitry to enable or program this dual function can be included in the product die and / or test die.

【0034】 別の実施形態では、ソフトウェアツール608は、必要とされるテスト回路が様
々なプロセス技術(例えばBiCMOS対CMOS)で最良に実施され、従って異なるプロ
セス技術からテスト回路をサポートする多数のテストダイを生成することができ
る、ということを判定することが可能である。更に別の実施形態では、ソフトウ
ェアツール608は、必要とされるテスト回路の幾つかがアナログ回路を有するテ
ストダイで最良に実施され、他の必要とされるテスト回路がディジタル回路を有
する別個のテストダイで最良に実施される、ということを判定することが可能で
ある。
In another embodiment, the software tool 608 includes a multi-test die where the required test circuits are best implemented in various process technologies (eg, BiCMOS vs. CMOS), and thus support test circuits from different process technologies. Can be determined. In yet another embodiment, the software tool 608 is implemented on a test die where some of the required test circuits have analog circuits and other required test circuits have digital circuits. It can be determined that it is best performed.

【0035】 ソフトウェアツール608により考慮することが可能な別の制約は、テストダイ
のテスト回路の1つ又は2つ以上が予め決定されていることである。例えば、上
述のように、製品回路は、所定のテスト回路により所定レベルの欠陥検出範囲で
テストされるよう設計することができる。所定のテスト回路は、例えば製品ダイ
の製品回路がメモリ回路のように予測可能なものである場合に、特に有用なもの
となる。この実施形態では、ソフトウェアツール608は、所定のテスト回路を維
持する一方で製品回路を適切に調節し又はテスト回路と製品回路との間に相互接
続ポイントを適切に追加するように、回路を分割する態様を決定する。更に、テ
スト回路は、既存のテストダイ上に以前に形成されている可能性があり、ソフト
ウェアツール608は、(例えば製品回路を適切に調節すること又はテスト回路と
製品回路との間に相互接続ポイントを追加することにより)該所定のテスト回路
を維持するように如何に製品回路をレイアウトするかを決定することができる。
Another constraint that can be considered by software tool 608 is that one or more of the test circuits on the test die are predetermined. For example, as described above, a product circuit can be designed to be tested in a predetermined level of defect detection range by a predetermined test circuit. Certain test circuits are particularly useful, for example, when the product circuit of a product die is predictable, such as a memory circuit. In this embodiment, the software tool 608 divides the circuit so as to properly adjust the product circuit while maintaining the predetermined test circuit, or to properly add interconnection points between the test circuit and the product circuit. Is determined. In addition, the test circuits may have been previously formed on an existing test die, and the software tool 608 may be configured to (e.g., adjust the product circuit properly or interconnect points between the test circuit and the product circuit). Can be determined how to lay out the product circuit to maintain the predetermined test circuit.

【0036】 ソフトウェアツール608はまた、ユーザプリファレンス614等の他の所定の制約
を考慮しつつステップ608を実行する。ユーザ又は回路設計者のプリファレンス6
14には、例えば、製品ダイとテストダイとの間に相互接続を提供するコスト、製
品ダイのコスト、テストダイのコスト、タイミング優先順位、テスト精度、欠陥
検出範囲、及びテストダイと該テストダイを制御し又は該テストダイと通信する
外部ホスト装置との間の相互接続のコストが含まれる。用語「コスト」は、本書
では広範な意味で使用され、製造可能性(manufacturability)や使用の容易性等
を含むものである。
The software tool 608 also performs step 608 taking into account other predetermined constraints, such as user preferences 614. User or circuit designer preferences 6
14 includes, for example, the cost of providing an interconnect between the product die and the test die, the cost of the product die, the cost of the test die, the timing priority, the test accuracy, the defect detection range, and the control of the test die and the test die, or Includes the cost of interconnection between the test die and an external host device in communication. The term "cost" is used herein in a broad sense and includes manufacturability, ease of use, and the like.

【0037】 製品ダイとテストダイとの間に相互接続を提供するコストには、特殊な接触パ
ッドの形成に関連するコスト、製品ダイとテストダイとの間で通信を行うための
相互接続要素を形成するコスト、ウェハソートを実施する容易さ、及び製品ダイ
及びテストダイ上に配設される特定数の特殊な接触パッドを用いた更なるテスト
の容易さが含まれる。相互接続を提供するコストが低い場合には、回路設計者は
、ソフトウェアツール608が製品ダイとテストダイとの間に必要とされる相互接
続の数にかかわらず回路を分割することができることを示すことができる。しか
し、該相互接続を提供するコストが高い場合には、回路設計者は、ソフトウェア
ツール608が相互接続の数を最小限にし又は制限するように回路を分割すべきで
あることを示すことができる。
The cost of providing an interconnect between a product die and a test die includes the costs associated with forming special contact pads, forming the interconnect elements for communicating between the product die and the test die. Includes cost, ease of performing wafer sorting, and further testing with a specific number of special contact pads located on the product and test dies. If the cost of providing the interconnect is low, the circuit designer should show that the software tool 608 can split the circuit regardless of the number of interconnects required between the product die and the test die Can be. However, if the cost of providing the interconnect is high, the circuit designer can indicate that the software tool 608 should split the circuit to minimize or limit the number of interconnects. .

【0038】 結果的に得られる製品ダイ及びテストダイの金銭的コストをソフトウェアツー
ル608により使用して製品回路及びテスト回路の分割態様を決定することも可能
である。例えば、分割後に、製品ダイサイズを拡大させることなく製品回路のテ
スト用の特殊な接触パッドを配設するための十分なスペースが製品ダイ上に存在
する場合には、特殊な接触パッドを追加すること及び対応するテスト回路をテス
トダイ中に配設することにより該製品ダイの金銭的コストが増大するということ
はない。このため、この例では、ソフトウェアツール608は、製品回路及びテス
ト回路を分割して必要とされる相互接続ポイントの全てを生成することができる
。しかし、分割後に、製品ダイのダイサイズひいては製品ダイの金銭的コストを
増大させることなく製品ダイ(又はテストダイ)に最初に所望される特殊な接触
パッドの全てを追加するための十分なスペースが存在しない場合には、ソフトウ
ェアツール608は、製品ダイ及びテストダイの金銭的コストを所定のユーザプリ
ファレンス未満に維持するように相互接続部及びパッドの数を削減させることが
可能である。
The financial cost of the resulting product and test dies can also be used by software tool 608 to determine how to partition the product and test circuits. For example, after splitting, if there is enough space on the product die to place special contact pads for product circuit testing without increasing product die size, add special contact pads And placing the corresponding test circuitry in the test die does not increase the financial cost of the product die. Thus, in this example, the software tool 608 can partition the production and test circuits to generate all of the required interconnection points. However, after the split, there is enough space to add all of the initially desired special contact pads to the product die (or test die) without increasing the die size of the product die and hence the financial cost of the product die. If not, the software tool 608 may reduce the number of interconnects and pads to keep the financial cost of the product and test dies below a predetermined user preference.

【0039】 タイミング優先順位及びテスト精度もまた、製品ダイ及びテストダイを如何に
分割するかを決定するためにソフトウェアツール608により使用される。例えば
、高速の製品回路が、特殊な接触パッドの追加により不必要に課せられて遅延さ
れる可能性がある。このため、ソフトウェアツール608は、テスト回路のうちの
幾分かをBIST回路として製品ダイ中に組み込んでその回路をテストするようにし
、これによりタイミング及びテスト精度の遅延を防止することが可能である。
Timing priorities and test accuracy are also used by software tool 608 to determine how to divide product and test dies. For example, high speed product circuits can be unnecessarily imposed and delayed by the addition of special contact pads. As such, software tool 608 may incorporate some of the test circuitry into the product die as a BIST circuit to test the circuitry, thereby preventing timing and test accuracy delays. .

【0040】 製品回路のテストに関する欠陥検出範囲もまた、製品ダイ及びテストダイを如
何に分割するかを決定するためにソフトウェアツール608により使用することが
可能である。例えば、100%その他の高度の欠陥検出範囲が回路設計者により所
望される場合には、ステップ602〜606で生成されるテスト回路は、テストダイと
、製品ダイ及びテストダイの両者について生成される必要とされる数の相互接続
ポイント又は特殊な接触パッドとに分割することが可能である。しかし、回路設
計者が低度の欠陥検出範囲を所望する場合には、ステップ602〜606により生成さ
れるテスト回路の幾分かがテストダイへと分割されることはない。回路設計者は
、他よりもテストすることが重要である製品回路、又は各製品回路毎に所望され
る所望レベルのテスト範囲を入力することが可能である。ソフトウェアツール60
8は、該入力を使用して、最終的なテストダイにおける維持すべきテスト回路と
棄却すべきテスト回路とを判定することが可能である。
The defect coverage for testing product circuits can also be used by the software tool 608 to determine how to divide product and test dies. For example, if 100% or other high defect coverage is desired by the circuit designer, the test circuits generated in steps 602-606 need to be generated for both test dies and product and test dies. It can be divided into as many interconnect points or special contact pads as possible. However, if the circuit designer desires a low defect detection range, some of the test circuits generated by steps 602-606 will not be split into test dies. The circuit designer can input a product circuit that is more important to test than others, or a desired level of test range desired for each product circuit. Software Tools 60
8 can use the input to determine which test circuits to maintain and which to reject in the final test die.

【0041】 テストダイと外部装置との間の回路網の相互接続コストもまた、製品ダイ及び
テストダイを如何に分割するかを決定するためにソフトウェアツール608により
使用することが可能である。該外部装置は、例えば、製品ダイのテスト結果を報
告するためのホストコントローラその他の装置とすることが可能である。別の実
施形態の場合には、ソフトウェアツール608は、1つ又は2つ以上の製品ダイの
ための特定のテスト回路を各々が有する多数のテストダイを生成することが可能
である。それら装置間の通信をサポートするために必要となる図4のボンディン
グパッド410又は特殊な接触パッド412等の相互接続ポイントの数は、テストダイ
のサイズに影響を与えるものであり、このためユーザ入力により制限する(又は
制限しない)ことが可能である。
The interconnection cost of the network between the test die and the external device can also be used by the software tool 608 to determine how to divide the product die and the test die. The external device can be, for example, a host controller or other device for reporting product die test results. In another embodiment, software tool 608 is capable of generating multiple test dies, each having specific test circuitry for one or more product dies. The number of interconnection points, such as bonding pads 410 or special contact pads 412 of FIG. 4, required to support communication between the devices will affect the size of the test die and, therefore, will be affected by user input. It is possible to limit (or not limit).

【0042】 製品回路及びテスト回路の製品ダイ及びテストダイ記述への分割の後、製品ダ
イの論理的な検証及びタイミング的な検証がステップ616で実行され、テストダ
イの論理的な検証及びタイミング的な検証がステップ618で実行される。一緒に
動作する製品ダイ及びテストダイの組み合わせシステムの論理的及びタイミング
的な検証はステップ620で実行される。ステップ616〜620に応じて、ソフトウェ
アツール608は、物理的な制約612及びユーザプリファレンス614の全てが満たさ
れているか否かをステップ622で判定する。制約612,614が満たされている場合に
は、製品ダイがステップ624でテープアウトされ、テストダイがステップ628でテ
ープアウトされ、ダイ間の相互接続ポイントの記述を生成することが可能となる
。制約612,614が満たされていない場合には、ソフトウェアツール608は上記プロ
セスを繰り返す。すなわち、ソフトウェアツール608は、ステップ610に戻って、
制約612,614を満たすための第2の試行において製品回路及びテスト回路の再分
割を行う。該プロセスは、全ての制約が満たされるまで続行される。ソフトウェ
アツール608は、全ての制約を満たすことができないと判定した場合には、プロ
セスを停止してその旨を設計者に知らせる。次いで設計者は、設計を変更し又は
制約を変更することが可能である。
After the division of the product and test circuits into product and test die descriptions, logical and timing verification of the product die is performed at step 616 to provide logical and timing verification of the test die. Is executed in step 618. Logical and timing verification of the combined product die and test die system operating together is performed at step 620. In response to steps 616-620, software tool 608 determines in step 622 whether all of physical constraints 612 and user preferences 614 have been satisfied. If the constraints 612, 614 are satisfied, the product die is taped out at step 624 and the test die is taped out at step 628, allowing a description of the interconnection points between the dies to be generated. If the constraints 612,614 are not satisfied, the software tool 608 repeats the above process. That is, the software tool 608 returns to step 610,
In a second trial to satisfy the constraints 612, 614, the product circuit and test circuit are subdivided. The process continues until all constraints are satisfied. If the software tool 608 determines that all the constraints cannot be satisfied, it stops the process and notifies the designer to that effect. The designer can then change the design or change the constraints.

【0043】 分割ステップ610の一実施形態を図7のステップ710に示す。該分割ステップ71
0は、従来の重み付け(weighting)技法を用いて製品ダイ及びテストダイのレイア
ウトを決定する。例えば、ステップ606からの完全なシステム論理記述、物理的
な制約612、及びユーザプリファレンス614に応じてステップ702で重み付け関数
が形成される。該重み付け関数は、所与の分割に関する相対的なトレードオフ及
び制約を記述する。多くの異なる数値分析技術を使用して、重み付け関数により
記述される分割問題に関する最適なソリューションを見出すことが可能である。
かかる1つの技術が「シミュレーテッドアニーリング」であり、この場合には、
設計ツールが、システムを数学的に高温へと上昇させることにより、物理的なア
ニーリングプロセスをシミュレートする。これにより、最小限の労力又は最小限
のコストで迅速にソリューションを見出すことが可能となる。ステップ704で適
用される際、シミュレートされたアニーリングは、製品ダイ及びテストダイ間で
の製品回路及びテスト回路の最良の分割が決定されるように、特殊な接触パッド
の数、テスト回路の量、またはあらゆる物理的な制約若しくはユーザプリファレ
ンスを変更することにより、最適なソリューションを見出すために使用すること
が可能である。
One embodiment of the dividing step 610 is shown in step 710 of FIG. The dividing step 71
0 determines the layout of product dies and test dies using conventional weighting techniques. For example, a weighting function is formed at step 702 in response to the complete system logic description, physical constraints 612, and user preferences 614 from step 606. The weighting function describes the relative trade-offs and constraints for a given partition. Many different numerical analysis techniques can be used to find the optimal solution for the partitioning problem described by the weighting function.
One such technique is "simulated annealing," in which case,
A design tool simulates the physical annealing process by mathematically raising the system to a high temperature. This allows a solution to be found quickly with minimal effort or cost. When applied in step 704, the simulated annealing may include the number of special contact pads, the amount of test circuits, the amount of test circuits, so that the best division of product and test circuits between the product and test dies is determined. Or by changing any physical constraints or user preferences, it can be used to find the optimal solution.

【0044】 ステップ704における設計の分割は、テスト回路、製品回路、及び/又は製品
ダイ上のBIST回路における回路調節を行うことが可能である。該回路調節には、
製品回路を最適にテストするためのテスト回路及び/又はBIST回路の追加、除去
、又は変更が含まれる。該回路調節は又、分割自体により導入されたテストノー
ドに対する更なるテスト回路の追加を含むことが可能である。このステップは、
自動的に又は回路設計者との対話に基づき完了させることが可能である。
The partitioning of the design in step 704 can make circuit adjustments in test circuits, production circuits, and / or BIST circuits on production dies. To adjust the circuit,
Includes the addition, removal, or modification of test circuits and / or BIST circuits to optimally test product circuits. The circuit adjustment can also include the addition of additional test circuits to the test nodes introduced by the partition itself. This step
It can be completed automatically or based on interaction with the circuit designer.

【0045】 ステップ704で分割が生成されると、ステップ706でソリューションがテストさ
れ、評価され、及び/又はシミュレートされて、最適なソリューションが生成さ
れたか否か及び制約612,614の全てが満たされているか否かが判定される。重み
付け関数が正しく規定されている場合には、該テストされたソリューションは、
制約612,614の全てを満たしており、及びBIST回路を有する(又は有さない)製
品ダイ、テストダイ、及び相互接続の記述を生成することになる。ユーザが該ソ
リューションに満足しない場合には、制約を調節して、新たな重み付け関数を形
成し、及び製品ダイとテストダイとの間で新たな回路分割、特殊な接触パッド、
及びダイサイズ等を生成することが可能である。
Once the partition is generated in step 704, the solution is tested, evaluated, and / or simulated in step 706 to determine whether an optimal solution has been generated and to satisfy all of the constraints 612, 614. Is determined. If the weighting function is correctly specified, the tested solution is
A description of the product dies, test dies, and interconnects that meet all of the constraints 612, 614 and have (or do not) have BIST circuitry will be generated. If the user is not satisfied with the solution, adjust the constraints to form a new weighting function and a new circuit partition between the product die and test die, special contact pads,
And die size and the like.

【0046】 図8は、図6の設計方法論600(又は図1の設計方法論100)の変形例としての
設計方法論800を示している。用途によっては、該設計方法論600(又は100)に
より生成される結果的に得られるテストダイは、ATE等のテスタ又はホストコン
トローラ、汎用コンピュータ、又はその他の制御論理回路又はシステムと通信を
行うことが可能なものとなる。該テスタは、例えば、テストダイにより実行され
るテストを開始及び停止させ、テストダイに電力を供給し、テストダイのテスト
回路へのテストシーケンスを示し、多数のテストダイ間のテストシーケンスを示
し、テストダイから受信したテスト結果に関する目録及び報告を作成する、とい
ったことが可能なものである。該テスタはまた、例えばテストダイを使用して個
々の製品回路又はノードをテストするウェハソート時に、製品ダイを全体として
テストするために使用することが可能であり、及び該テスタにより制御される別
個のプローブカードを使用して製品ダイを全体としてテストすることが可能であ
る。このようにテスタとテストダイとの間で分配されるようにテストを選択する
ことができる。
FIG. 8 shows a design methodology 800 as a modification of the design methodology 600 of FIG. 6 (or the design methodology 100 of FIG. 1). In some applications, the resulting test die generated by the design methodology 600 (or 100) may communicate with a tester or host controller, such as an ATE, a general purpose computer, or other control logic or system. It becomes something. The tester may, for example, start and stop tests performed by the test dies, power the test dies, indicate a test sequence to the test circuits of the test dies, indicate a test sequence between multiple test dies, and receive from the test dies. It can create an inventory and report on test results. The tester can also be used to test the product dies as a whole, for example, during wafer sort when testing individual product circuits or nodes using test dies, and a separate probe controlled by the tester It is possible to test the product die as a whole using the card. Thus, the test can be selected to be distributed between the tester and the test die.

【0047】 設計方法論800では、RTL合成及び検証ステップ604に供給されるテスト設計デ
ータがステップ804〜810で決定される。ステップ808で、製品回路をテストする
ためのテスト要件804及びテスタの能力に関する記述806に応じてテストがテスタ
とテストダイとの間で分割される。テストが(ステップ810で決定された)テス
トダイにより実行されることになる場合には、該テストは、製品回路設計データ
と共にテスト設計データの一部としてステップ604へ提供される。しかし、テス
トがテスタにより実行されることになる場合には、テストは、テスタ用のテスト
ファイル812に格納される。
In the design methodology 800, test design data supplied to the RTL synthesis and verification step 604 is determined in steps 804-810. At step 808, the test is split between the tester and the test die in response to a test requirement 804 for testing the product circuit and a description 806 of the tester's capabilities. If the test is to be performed by a test die (determined in step 810), the test is provided to step 604 as part of the test design data along with the product circuit design data. However, if the test is to be executed by a tester, the test is stored in a test file 812 for the tester.

【0048】 既述の実施形態で説明した設計方法論は、汎用コンピュータ又はワークステー
ション又はカスタムCADシステムにおいて実施することが可能なソフトウェアル
ーチンで実施することが可能である。該ソフトウェアルーチンが格納され実行さ
れる汎用コンピュータシステム900の一実施形態を図9に示す。他の多くのコン
ピュータシステムの実施形態を使用することも可能である。
The design methodology described in the previous embodiments can be implemented with software routines that can be implemented on a general-purpose computer or workstation or custom CAD system. One embodiment of a general-purpose computer system 900 on which the software routines are stored and executed is shown in FIG. Many other computer system embodiments may be used.

【0049】 コンピュータシステム900は、1つ又は2つ以上の内部バス910を介して通信を
行う、メインメモリ902、スタティックメモリ904、大容量記憶装置906、及びプ
ロセッサ912を有するコンピュータ928を含む。メインメモリ902は、例えば、プ
ログラムコード、システムコード、及び/又は様々な設計方法論の実施形態であ
る1つ又は2つ以上のソフトウェアルーチンを格納する、ダイナミックランダム
アクセスメモリ(DRAM)又はその他の揮発性又は不揮発性メモリとすることが可
能である。スタティックメモリ904は、キャッシュメモリとすることが可能であ
り、プログラムコード、システムコード、及び/又は様々な設計方法論の実施形
態である1つ又は2つ以上のソフトウェアルーチンを格納するために使用するこ
とが可能である。大容量記憶装置906は、CD-ROM、フロッピィディスク、ハード
ディスク、レーザディスク、フラッシュメモリカード、又は磁気記憶装置といっ
た、任意の大容量記憶装置とすることが可能である。該大容量記憶装置906はま
た、プログラムコード、システムコード、及び/又は様々な設計方法論の実施形
態である1つ又は2つ以上のソフトウェアルーチンを格納することが可能なもの
である。プロセッサ912は、コンピュータシステム928におけるデータフローを調
整する任意の制御論理回路とすることが可能である。例えば、プロセッサ912は
、マイクロプロセッサ又は1つ又は2つ以上の他のディジタル信号処理装置とす
ることが可能である。
Computer system 900 includes a computer 928 having a main memory 902, a static memory 904, a mass storage device 906, and a processor 912, communicating via one or more internal buses 910. Main memory 902 stores, for example, program code, system code, and / or one or more software routines that are embodiments of various design methodologies, a dynamic random access memory (DRAM) or other volatile memory. Alternatively, a non-volatile memory can be used. Static memory 904, which may be cache memory, may be used to store program code, system code, and / or one or more software routines that are embodiments of various design methodologies. Is possible. Mass storage device 906 can be any mass storage device, such as a CD-ROM, floppy disk, hard disk, laser disk, flash memory card, or magnetic storage device. The mass storage device 906 can also store program code, system code, and / or one or more software routines that are embodiments of various design methodologies. Processor 912 can be any control logic that coordinates data flow in computer system 928. For example, processor 912 can be a microprocessor or one or more other digital signal processing devices.

【0050】 コンピュータ928は、バス926を介して1つ又は2つ以上の周辺機器と通信を行
うことが可能である。該周辺機器には、設計方法論により生成された製品ダイ及
びテストダイの論理回路及び回路要素、及び/又は該設計方法論のソフトウェア
ルーチンのグラフィカル表現を表示するためのディスプレイ914、コンピュータ9
28にデータを入力するためのキーボード916、マウス、トラックボール、又はス
タイラス等のカーソル制御装置918、他の入力信号をコンピュータ928に提供する
ための信号生成装置920、プリンタ等のハードコピー装置922、及び音声記録及び
再生装置924が含まれる。特殊な接触パッド 図3及び図4を参照する。特殊な接点又は特殊な接触パッド310は、製品回路3
00全体の機能をテストすることを必要とすることなく、テスト回路402,404,406
がテスト入力データを製品回路302,304,306へ提供し又は該製品回路302,304,306
からの信号を監視するための手段を提供するものである。この章の残り部分全体
を通して、特殊な接触パッド310及びボンディングパッド312を参照して説明を行
うことになるが、それと同じ説明は、特殊な接触パッド410及びボンディングパ
ッド412にも等しく当てはまるものである。
Computer 928 can communicate with one or more peripheral devices via bus 926. The peripherals include a display 914 for displaying a graphical representation of the product die and test die logic circuits and circuit elements generated by the design methodology, and / or software routines of the design methodology, a computer 9.
A keyboard 916 for inputting data to 28, a cursor control device 918 such as a mouse, a trackball or a stylus, a signal generating device 920 for providing other input signals to the computer 928, a hard copy device 922 such as a printer, And an audio recording and reproducing device 924. Special Contact Pads Referring to FIGS. Special contacts or special contact pads 310
00 test circuits 402, 404, 406 without having to test the entire function.
Provides test input data to the product circuits 302, 304, 306 or the product circuits 302, 304, 306
To monitor the signal from the Throughout the remainder of this chapter, reference will be made to specific contact pads 310 and bonding pads 312, but the same description applies equally to special contact pads 410 and bonding pads 412. .

【0051】 特殊な接触パッド310はまた、内部回路302〜306が他の方法では個々にテスト
することができないものであり及び/又はボンディングパッド312を介してアク
セスできないものである場合に、該内部回路302〜306をテストするための手段を
提供するものでもある。例えば、製品回路302は、ボンディングパッド312を介し
て直接アクセスすることができない組込型メモリとすることが可能である。該特
殊な接触パッド310の幾つかを介してアドレス及び入力データを提供して該組込
型メモリへテストパターンを提供し、及び別のグループの特殊な接触パッド310
が該メモリから読み出されたデータを受信することが可能である。欠陥検出範囲
を拡大するために、組込型メモリのためのテストパターンを提供する外部回路が
任意の数のテストパターンを提供することが可能である。
The special contact pads 310 may also be used when the internal circuits 302-306 are not otherwise individually testable and / or are not accessible via the bonding pads 312. It also provides a means for testing circuits 302-306. For example, the product circuit 302 can be an embedded memory that cannot be directly accessed via the bonding pad 312. Address and input data are provided through some of the special contact pads 310 to provide test patterns to the embedded memory, and another group of special contact pads 310
Can receive data read from the memory. To extend the defect detection range, an external circuit that provides test patterns for the embedded memory can provide any number of test patterns.

【0052】 別の実施形態では、製品回路302を、不揮発性メモリ又はプログラマブル論理
回路といったプログラム可能な回路とすることが可能である。特殊な接触パッド
330を介して内部回路へデータをプログラミングすることができる。例えば、集
積回路300の作製後にプログラム可能回路302に、BIOS情報、プログラムコード、
及びシステムソフトウェアをプログラミングし又はアップデートすることが可能
である。
In another embodiment, the product circuit 302 can be a programmable circuit, such as a non-volatile memory or a programmable logic circuit. Special contact pads
Data can be programmed into the internal circuit via 330. For example, after the integrated circuit 300 is manufactured, the programmable circuit 302 has BIOS information, a program code,
And it is possible to program or update the system software.

【0053】 製品ダイ300に示すように、特殊な接触パッド310はまた、BIST回路308(又は
その他のオンチップテスト回路)と共に動作して、BIST回路308により提供され
たテスト刺激に対する内部回路306の応答を監視することが可能である。これは
、更なるボンディングパッド312を追加すること、又は既存のボンディングパッ
ド312を使用してBIST回路308を通信することを必要とせずに、達成することが可
能である。
As shown in product die 300, special contact pads 310 also operate with BIST circuit 308 (or other on-chip test circuit) to enable internal circuit 306 to respond to test stimuli provided by BIST circuit 308. It is possible to monitor the response. This can be achieved without the need to add additional bonding pads 312 or to use existing bonding pads 312 to communicate the BIST circuit 308.

【0054】 図3に示すように、特殊な接触パッド310は、周囲のボンディングパッド312に
より包囲された領域内に配置される。該特殊な接触パッド310がボンディングパ
ッド312の所定の周囲の位置に配置されないため、特殊な接触パッド310の追加に
より製品ダイ300のサイズが増大することはない。他の実施形態では、特殊な接
触パッド310の数及び配置は、製品ダイ300のサイズを増大させるものとなり得る
As shown in FIG. 3, special contact pads 310 are located in the area surrounded by surrounding bonding pads 312. Since the special contact pad 310 is not arranged at a predetermined position around the bonding pad 312, the size of the product die 300 does not increase due to the addition of the special contact pad 310. In other embodiments, the number and arrangement of special contact pads 310 may increase the size of product die 300.

【0055】 特殊な接触パッド310はまた、ボンディングパッド312間に点在させることが可
能であり、又はボンディングパッド312により包囲された領域外に配置すること
が可能である。特殊な接触パッド310がボンディングパッド312間に点在する一実
施形態の場合には、特殊な接触パッド310をボンディングパッド312よりも小さく
して製品ダイ300のサイズを増大させないようにするのが有利である。
The special contact pads 310 can also be interspersed between the bonding pads 312, or can be located outside the area surrounded by the bonding pads 312. In one embodiment where special contact pads 310 are interspersed between bonding pads 312, it is advantageous to make special contact pads 310 smaller than bonding pads 312 so as not to increase the size of product die 300. It is.

【0056】 特殊な接触パッド310は、ボンディングパッド312よりも小さいサイズを含めて
任意のサイズとすることが可能である。特殊な接触パッド310がボンディングパ
ッド312よりも小さい場合には、周囲のボンディングパッド312により規定される
サイズを超えてダイのサイズを増大させることなく、製品ダイ300上により多く
の特殊な接触パッドを配置することが可能となる。特殊な接触パッドの数が多く
なると、内部回路に提供することができるテストの数及び/又は複雑性を増大さ
せることが可能となり、これによりテストの欠陥検出範囲及びローバスト性を増
大させることが可能となる。一実施形態では、ボンディングパッド312は約100μ
m×100μm(4ミル×4ミル)とすることが可能であり、特殊な接触パッドはそ
の一辺を5〜10μmとすることが可能である。別の実施形態では、特殊な接触パ
ッドはその一辺を5μm未満とすることが可能である。更に別の実施形態では、
ダイ上の異なる空間的な位置(例えば「ボンディングパッド312の間」と「該ボ
ンディングパッド312により包囲される領域」)に適応させるように、又は様々
なプローブの先端、ボンディングワイヤ、又ははんだボールの異なる寸法に適応
させるように、又はテスト中の回路の異なる機能に適応させる(例えば出力信号
を提供するノードが入力信号を提供するパッドよりも大きなパッドを必要とする
(逆も又同様)可能性がある)ように、異なるサイズを有するよう製造すること
が可能である。特殊な接触パッドのサイズの下限は、プローブとパッドとの位置
合わせ精度及びプローブのサイズにより制限される可能性がある。
The special contact pad 310 can be of any size, including a size smaller than the bonding pad 312. If the special contact pad 310 is smaller than the bonding pad 312, more special contact pads on the product die 300 can be added without increasing the size of the die beyond the size defined by the surrounding bonding pads 312. It becomes possible to arrange. The increased number of specialized contact pads can increase the number and / or complexity of tests that can be provided to internal circuitry, thereby increasing the test coverage and robustness of the test Becomes In one embodiment, the bonding pad 312 is about 100 μm.
It can be m × 100 μm (4 mil × 4 mil), and a special contact pad can have one side of 5-10 μm. In another embodiment, the special contact pad may be less than 5 μm on a side. In yet another embodiment,
To accommodate different spatial locations on the die (eg, “between the bonding pads 312” and “the area surrounded by the bonding pads 312”), or the tips of various probes, bonding wires, or solder balls. The possibility of adapting to different dimensions or to different functions of the circuit under test (e.g. the node providing the output signal needs a larger pad than the pad providing the input signal and vice versa) Can be manufactured to have different sizes. The lower limit of the size of the special contact pad may be limited by the alignment accuracy between the probe and the pad and the size of the probe.

【0057】 特殊な接触パッド310は、ほぼ正方形の形状、長方形の形状、又は他のあらゆ
る幾何学形状に形成することが可能である。特殊な接触パッド310はまた、ボン
ディングパッド312とは異なる高さを有することが可能である。特殊な接触パッ
ド310は、ボンディングパッドその他の比較的平坦な導電性ランドを形成するの
に一般に使用されている従来の写真平版プロセスを使用して作製することが可能
である。一実施形態では、特殊な接触パッドは、アルミニウム、銅、金、又は他
の金属若しくは導電材料を含む、1つ又は2つ以上の金属層から作成することが
可能である。
The special contact pad 310 can be formed in a substantially square shape, a rectangular shape, or any other geometric shape. The special contact pad 310 can also have a different height than the bonding pad 312. The special contact pads 310 can be made using conventional photolithographic processes commonly used to form bonding pads and other relatively flat conductive lands. In one embodiment, the special contact pads can be made from one or more metal layers, including aluminum, copper, gold, or other metals or conductive materials.

【0058】 特殊な接触パッド310は、集積回路パッケージ(例えば典型的なプラスティッ
ク及びセラミックチップパッケージ)に永久的にボンドアウトされるものではな
く、テスト入力情報(例えばアドレス信号、制御信号、又はデータ信号)を受信
するため又は内部テストノード又は信号を監視するために使用される。しかし、
該特殊な接触パッドは、(以下で詳述するように)電気的な接触要素を受容する
のに十分な大きさを有するものである。特殊な接触パッド310は、パッケージに
ボンドアウトされていない場合には、ボンディングパッド312により一般に必要
とされるサポート回路よりも大幅に小さいサポート回路を一般に必要とする。典
型的なボンディングパッドは、かなりの量のシリコンダイ面積を必要とするサポ
ート回路を含む。サポート回路の例として、抵抗、コンデンサ、及び/又はダイ
オードといった静電放電(ESD)保護構造、ガードリング等のラッチアップ防止
回路、集積化されたデバイスの外部の回路及び信号ラインを駆動するため又は外
部の信号ラインから受信した内部信号をバッファリングするためのバッファ、論
理若しくは電圧変換回路、及びノイズリダクション回路が挙げられる。特殊な接
触パッド310は、必要とされるサポート回路の量を削減することが可能である。
特殊な接触パッドと電気的に接触して該接触部分における信号を監視するための
外部プローブについては、ESD保護は殆ど又は全く必要なく、バッファリングも
殆ど又は全く必要ない。例えば、図10に示すように、内部テストポイント324
と特殊な接触パッド310との間でI/Oバッファ320を使用することが可能である。
該I/Oバッファ320は、制御信号322により制御することが可能なものである。I/O
バッファ320は、ボンディングパッドがPCB環境で重い負荷を駆動しなければなら
ない場合に必要となるものの10分の一〜100分の一の弱いものとすることが可能
である。更に、ラッチアップサポート回路又はノイズリダクション回路は殆ど又
は全く必要とされない。例えば、ノイズリダクション回路のために各特殊な接触
パッドに必要なものは弱いプルアップ抵抗だけである。一般に、特殊な接触パッ
ドが必要とするサポート回路は、ボンディングパッドに一般に必要とされるサポ
ート回路の1〜50%だけである。
The special contact pads 310 are not permanently bonded out to integrated circuit packages (eg, typical plastic and ceramic chip packages), but are used to test input information (eg, address, control, or data signals). ) Or to monitor internal test nodes or signals. But,
The special contact pad is large enough to receive an electrical contact element (as described in detail below). The special contact pads 310, when not bonded to the package, typically require significantly smaller support circuits than those typically required by the bonding pads 312. Typical bonding pads include support circuits that require a significant amount of silicon die area. Examples of support circuits include electrostatic discharge (ESD) protection structures such as resistors, capacitors, and / or diodes, latch-up prevention circuits such as guard rings, circuits and signal lines external to integrated devices, or Examples include a buffer for buffering an internal signal received from an external signal line, a logic or voltage conversion circuit, and a noise reduction circuit. Special contact pads 310 can reduce the amount of support circuitry required.
For external probes that make electrical contact with special contact pads and monitor signals at those contacts, little or no ESD protection is required and little or no buffering is required. For example, as shown in FIG.
It is possible to use an I / O buffer 320 between the device and a special contact pad 310.
The I / O buffer 320 can be controlled by a control signal 322. I / O
Buffer 320 can be as low as one tenth to one hundredth of what would be needed if the bonding pads had to drive heavy loads in a PCB environment. Further, little or no latch-up support or noise reduction circuitry is required. For example, all that is required for each special contact pad for the noise reduction circuit is a weak pull-up resistor. Generally, special contact pads require only 1-50% of the support circuits typically required for bonding pads.

【0059】 図3及び図4は、特殊な接触パッド310,410が、周辺に配置されたボンディン
グパッド312,412により包囲された領域内に配置されたものを示しているが、特
殊な接触パッドは、他の製品ダイ又はテストダイのレイアウト内に配設すること
も可能である。図11に示す集積回路1100(製品ダイ又はテストダイ)は、C4又
はフリップチップ構成における接触ボール(例えば、はんだその他の金属相互接
続部)へ接合するためのLGAパターンで整列されたボンディングパッド312を備え
ている。特殊な接触パッド310は、そのグリッドパターンの内部又は外部に選択
的に分散されている。この実施形態では、特殊な接触パッド310は、ボンディン
グパッド312又は接触ボールよりも小さく、所与の数のボンディングパッド312に
必要とされる最小限のサイズを超えて集積回路1100のサイズが拡大しないように
なっている。代替的な実施形態では、特殊な接触パッド310をボンディングパッ
ド312と同じサイズにすることが可能である。
FIGS. 3 and 4 show that the special contact pads 310 and 410 are arranged in the area surrounded by the bonding pads 312 and 412 arranged on the periphery, but the special contact pads are other contact pads. It is also possible to arrange them in the layout of a product die or a test die. The integrated circuit 1100 (product die or test die) shown in FIG. 11 includes bonding pads 312 aligned in an LGA pattern for bonding to contact balls (eg, solder or other metal interconnects) in a C4 or flip chip configuration. ing. The special contact pads 310 are selectively distributed inside or outside the grid pattern. In this embodiment, the special contact pads 310 are smaller than the bonding pads 312 or contact balls and do not increase the size of the integrated circuit 1100 beyond the minimum size required for a given number of bonding pads 312. It has become. In an alternative embodiment, the special contact pad 310 can be the same size as the bonding pad 312.

【0060】 図12は、2つのボンディングパッド312間に配置された特殊な接触パッド310
を側方から見た断面図である。ボンディングパッド312は、その上部に接触ボー
ル1204が形成されており、それらの中心間の最小間隔1202(約250μm(約10ミル)
)で一般に隔置される。接触ボール1204の最小直径1208は、典型的には約25〜76
μm(1〜3ミル)のオーダーとなり、接触ボール1204の縁部間の最小距離1206は、
典型的には約178〜229μm(7〜9ミル)のオーダーとなる。特殊な接触パッド310は
、ボンディングパッド312間に適したサイズとすることができ、約229μm(9ミル)
よりも小さい幅1210を有することが可能である。別の実施形態では、特殊な接触
パッド310は、約25〜127μm(約1〜5ミル)の幅を有することが可能である。更に
別の実施形態では、特殊な接触パッド310は、約25μm(1ミル)未満の幅を有する
ことが可能である。特殊な接触パッド310は、ほぼ正方形の形状、長方形の形状
、又は他の幾何学形状に形成することが可能である。特殊な接触パッド310はま
た、ボンディングパッド312と異なる高さを有することが可能である。
FIG. 12 shows a special contact pad 310 located between two bonding pads 312.
FIG. 4 is a cross-sectional view of the device viewed from the side. The bonding pad 312 has a contact ball 1204 formed on its upper part, and has a minimum distance 1202 between their centers (about 250 μm (about 10 mil)).
) Are generally separated. The minimum diameter 1208 of the contact ball 1204 is typically about 25-76
μm (1-3 mils) and the minimum distance 1206 between the edges of the contact ball 1204 is:
Typically on the order of about 178-229 μm (7-9 mils). The special contact pad 310 can be a suitable size between the bonding pads 312 and is about 229 μm (9 mil)
It is possible to have a smaller width 1210. In another embodiment, the special contact pad 310 may have a width of about 25-127 μm (about 1-5 mil). In yet another embodiment, the special contact pads 310 can have a width of less than about 1 mil. The special contact pad 310 can be formed in a substantially square shape, a rectangular shape, or other geometric shapes. The special contact pad 310 can also have a different height than the bonding pad 312.

【0061】 図11及び図12に示す実施形態はまた、ソケット又はプリント回路基板(PCB
)とのインタフェイスを行うためのピン又は接触ボールを有する、BGAパッケージ
等のLGAパッケージ、PGAパッケージ、C4パッケージ、又はフリップチップパッケ
ージとすることが可能である。特殊な接触パッド310は、テスト信号を受信し、
又はテスト出力信号その他の信号をプローブ、ソケット、又はPCBへ提供するこ
とができる、追加のピン又はパッドとすることが可能である。
The embodiment shown in FIGS. 11 and 12 also provides a socket or printed circuit board (PCB)
), An LGA package such as a BGA package, a PGA package, a C4 package, or a flip-chip package having pins or contact balls for interfacing. Special contact pad 310 receives the test signal,
Or, there may be additional pins or pads that can provide test output signals or other signals to the probe, socket, or PCB.

【0062】 図12はまた、(図3に示すような)周辺に整列された2つのボンディングパ
ッド312間に配置された特殊な接触パッド310を示している。ボンディングパッド
312上に接触ボール1204が形成される必要はない。
FIG. 12 also shows a special contact pad 310 located between two peripherally aligned bonding pads 312 (as shown in FIG. 3). Bonding pad
Contact ball 1204 need not be formed on 312.

【0063】 図13は、リードオンセンターパターンで一列(又は一行)として配列された
ボンディングパッド312を含む集積回路1300(製品ダイ又はテストダイ)を示し
ている。特殊な接触パッド310は、該リードオンセンターパターンの内部と外側
とに選択的に分散されており、該集積回路1300の内部回路1302,1304へテスト信
号を提供し又は該内部回路1302,1304からの信号を監視するために使用すること
が可能なものである。
FIG. 13 shows an integrated circuit 1300 (product die or test die) including bonding pads 312 arranged in a row (or row) in a lead-on center pattern. Special contact pads 310 are selectively distributed inside and outside of the lead-on center pattern to provide test signals to or from internal circuits 1302, 1304 of the integrated circuit 1300. Can be used to monitor the signals of

【0064】 図3及び図4は、製品回路ブロック又は内部回路ノードを特殊な接触パッドに
よりテストし又は監視することができることを示している。図14は、連続する
製品回路1402,1404,1406もまたボンディングパッドを使用して又は使用すること
なく特殊な接触パッドによりテストすることができることを示している。この実
施形態では、テスト入力データは、テストダイ上のテスト回路から特殊な接触パ
ッド1412及び組込型メモリ1402へと提供される。代替的な実施形態の場合には、
入力データは、ボンディングパッドから提供することが可能である。テストデー
タは、アドレス、制御信号(例えば、読み出し、書き込み、その他)、及び/又
はテストパターンを含むことが可能である。該テストデータがメモリ1402内の一
ロケーションのアドレスであると仮定すると、該アクセスされるアドレスに格納
されているデータを、I/Oインタフェイス1404を介して提供し、及び特殊な接触
パッド1413により監視することが可能である。メモリ1402のアクセスタイム(す
なわちデータ出力へのアドレス(address to data out))は、特殊な接触パッド1
412,1413により一層精確に測定することが可能である。これは、I/Oインタフェ
イス1404及びI/Oドライバ1406等の回路ブロックに起因して更なる時間が導入さ
れることがないからである。BIST回路を使用する従来のアプローチは、(例えば
メモリ1402へ)アドレス信号を提供するために一般に更なるオンチップ回路を含
むものとなり、次いで外部回路が1つ又は2つ以上のボンディングパッド1416で
結果を監視することが可能となる。しかし、この従来のアプローチは、(特殊な
接触パッド1413を用いる場合のように)メモリ1402の出力を直接監視することは
できず、このため、メモリ1402の実際のアクセスタイムを直接測定することがで
きないことになる。
FIGS. 3 and 4 show that product circuit blocks or internal circuit nodes can be tested or monitored with special contact pads. FIG. 14 shows that successive product circuits 1402, 1404, 1406 can also be tested with special contact pads, with or without the use of bonding pads. In this embodiment, test input data is provided from test circuitry on the test die to special contact pads 1412 and embedded memory 1402. In an alternative embodiment,
Input data can be provided from bonding pads. Test data may include addresses, control signals (eg, read, write, etc.), and / or test patterns. Assuming that the test data is the address of one location in memory 1402, the data stored at the accessed address is provided through I / O interface 1404 and by special contact pads 1413. It is possible to monitor. The access time (ie, address to data out) of the memory 1402 is controlled by the special touch pad 1
It is possible to measure more accurately by using 412 and 1413. This is because no additional time is introduced due to circuit blocks such as the I / O interface 1404 and the I / O driver 1406. Conventional approaches using BIST circuitry generally involve additional on-chip circuitry to provide address signals (eg, to memory 1402), and then external circuitry can be implemented with one or more bonding pads 1416 Can be monitored. However, this conventional approach cannot directly monitor the output of memory 1402 (as with the use of special touch pad 1413), and therefore can directly measure the actual access time of memory 1402. You can't.

【0065】 メモリ1402から読み出されたデータに応じて、I/Oインタフェイス1404は、デ
ータをI/Oドライバ1406への提供に先だってフォーマットすることが可能である
。I/Oインタフェイス1404が特殊な接触パッド1414上の制御信号を受信すること
が可能であり、すなわちI/Oインタフェイス1404内の内部回路ノードを特殊な接
触パッド1414により監視することが可能である。I/Oインタフェイス1404によりI
/Oドライバ1406へ出力されるデータは、特殊な接触パッド1415を介して監視する
ことが可能である。次いでI/Oドライバ1406がボンディングパッド1416へデータ
を駆動することが可能である。
In response to data read from memory 1402, I / O interface 1404 can format the data prior to providing it to I / O driver 1406. The I / O interface 1404 can receive control signals on a special contact pad 1414, i.e., internal circuit nodes within the I / O interface 1404 can be monitored by the special contact pad 1414. is there. I via I / O interface 1404
Data output to the / O driver 1406 can be monitored via special contact pads 1415. The I / O driver 1406 can then drive data to the bonding pad 1416.

【0066】 特殊な接触パッド1413,1415及びボンディングパッド1416は、該ボンディング
パッド1416で受信された不正データを欠陥を生じさせた回路へ隔離することがで
きるように、メモリ1402、I/Oインタフェイス1404、及びI/Oドライバ1406の各々
の出力を監視するために使用することが可能である。アドレスが例えばメモリ14
02へ提供される従来のBIST技術では、ボンディングパッド1416で受信された不正
データのソースは未知のものとなる。
The special contact pads 1413, 1415 and the bonding pad 1416 are connected to the memory 1402, the I / O interface, so that illegal data received at the bonding pad 1416 can be isolated to the circuit that caused the defect. 1404 and can be used to monitor the output of each of the I / O drivers 1406. Address is for example memory 14
In the conventional BIST technique provided to 02, the source of the fraudulent data received at the bonding pad 1416 is unknown.

【0067】 図14に示す実施形態は、組込型メモリ1402中のデータへのアクセスの特定の
例を含むものであるが、該例は、一連の他の任意の回路ブロックに関する信号の
導入及び監視にも当てはまるものである。
The embodiment shown in FIG. 14 includes a specific example of accessing data in the embedded memory 1402, which is used to introduce and monitor signals for any other series of circuit blocks. Is also true.

【0068】 特殊な接触パッドはまた、欠陥を隔離するためだけでなく、欠陥のある回路と
置換するために使用される冗長回路をイネーブルにするためにも使用することが
可能である。図16は、欠陥のある回路ブロックを識別し及び該欠陥のある回路
ブロックと交換するための冗長回路をイネーブルにするために特殊な接触パッド
を用いるテストダイ上のテスト回路の一実施形態を示している。この実施形態も
また、組込型メモリ内のデータのアクセスに関する例を使用するが、一連の回路
のうちの1つが冗長回路を有する該一連の回路へと拡張することができるもので
ある。
Special contact pads can also be used not only to isolate defects, but also to enable redundant circuits that are used to replace defective circuits. FIG. 16 illustrates one embodiment of a test circuit on a test die that uses special contact pads to identify defective circuit blocks and enable redundant circuits to replace the defective circuit blocks. I have. This embodiment also uses the example of accessing data in an embedded memory, but can be extended to one of a series of circuits having redundant circuits.

【0069】 図16は、欠陥のあるI/Oインタフェイス1404と交換することができる冗長I/O
インタフェイス1405を含むものである。メモリ1402の出力は、I/Oインタフェイ
ス1404,1405の両者へと提供される。I/Oインタフェイス1404の出力は、特殊な接
触パッド1415を介してテストダイにより監視することができ、冗長I/Oインタフ
ェイス1405の出力は、特殊な接触パッド1417を介してテストダイにより監視する
ことができる。I/Oインタフェイス1404の出力が、該I/Oインタフェイス1404の出
力が正しく動作していることを期待通りに示している場合には、ライン1423上の
信号をI/Oドライバ1406へ提供することが可能となるように、マルチプレクサ140
8がライン1421上の制御信号により構成される。しかし、I/Oインタフェイス1404
の出力が、該I/Oインタフェイス1404が正しく動作していないことを期待に反し
て示しており、及び冗長I/Oインタフェイス1405の出力が期待通りである場合に
は、ライン1425上の信号をI/Oドライバ1406へ提供することが可能となるように
、マルチプレクサ1408がライン1423上の制御信号により構成される。該マルチプ
レクサ1408により出力される信号は、特殊な接触パッド1419を介して監視するこ
とが可能である。
FIG. 16 illustrates a redundant I / O that can be replaced with a defective I / O interface 1404.
It includes an interface 1405. The output of memory 1402 is provided to both I / O interfaces 1404, 1405. The output of the I / O interface 1404 can be monitored by the test die via a special contact pad 1415, and the output of the redundant I / O interface 1405 can be monitored by the test die via a special contact pad 1417. Can be. If the output of the I / O interface 1404 indicates as expected that the output of the I / O interface 1404 is operating properly, provide the signal on line 1423 to the I / O driver 1406 Multiplexer 140
8 comprises the control signal on line 1421. However, I / O interface 1404
Output indicates that the I / O interface 1404 is not operating properly, and if the output of the redundant I / O interface 1405 is as expected, Multiplexer 1408 is configured with control signals on line 1423 so that signals can be provided to I / O driver 1406. The signal output by the multiplexer 1408 can be monitored via a special contact pad 1419.

【0070】 ライン1423上の制御信号は、スイッチ1410により、適当な電圧レベル又は論理
状態まで駆動することができる。TOGGLE信号に応じて、特殊な接触パッド1417,1
415における信号を監視することに応じて電圧V3又はV2が選択されることになる
。該TOGGLE信号は、別の特殊な接触パッド又はボンディングパッドを介してテス
トダイ上のテスト回路により制御することができる。
The control signal on line 1423 can be driven by switch 1410 to the appropriate voltage level or logic state. Special contact pad 1417,1 according to TOGGLE signal
The voltage V3 or V2 will be selected in response to monitoring the signal at 415. The TOGGLE signal can be controlled by a test circuit on the test die via another special contact or bonding pad.

【0071】 図15は、図16のスイッチ1410の一実施形態であるスイッチ1500を示してい
る。スイッチ1410の別の実施形態を使用することも可能である。該スイッチ1500
に含まれるPMOSトランジスタは、そのゲートが接地に結合されることによりオン
状態に付勢され、そのソースが電源VDDに結合され、そのドレインが信号ライン1
421に結合されている。スイッチ1500はまた、信号ライン1421と接地との間に結
合されたヒューズ要素1504も含む。該ヒューズ要素1504は、金属ヒューズ、抵抗
ヒューズ、又はメモリ素子とすることが可能である。TOGGLE信号に応じてヒュー
ズ要素1504が切れると、信号ライン1421がVDDへプルされ、ライン1425上の信号
が例えばマルチプレクサ1408により出力される。ヒューズ要素1504が切れない場
合には、信号ライン1421が該ヒューズ要素1504により接地へプルされ、ライン14
23上の信号が例えばマルチプレクサ1408により出力される。ヒューズ要素1504は
、レーザパルス又は電流の使用を含めた幾つかの周知の技術を用いて切ることが
可能である。一例として、ヒューズ要素1504を切る電流を提供するために特殊な
接触パッドを使用することが可能である。
FIG. 15 illustrates a switch 1500 that is one embodiment of the switch 1410 of FIG. Other embodiments of the switch 1410 can be used. The switch 1500
The PMOS transistor included in the PMOS transistor is energized to the ON state by coupling its gate to ground, its source is coupled to the power supply VDD, and its drain is connected to the signal line 1.
421. Switch 1500 also includes a fuse element 1504 coupled between signal line 1421 and ground. The fuse element 1504 can be a metal fuse, a resistance fuse, or a memory element. When fuse element 1504 blows in response to the TOGGLE signal, signal line 1421 is pulled to VDD and the signal on line 1425 is output, for example, by multiplexer 1408. If the fuse element 1504 does not blow, the signal line 1421 is pulled to ground by the fuse
The signal on 23 is output, for example, by multiplexer 1408. Fuse element 1504 can be blown using several well-known techniques, including the use of laser pulses or current. As an example, a special contact pad can be used to provide a current to cut fuse element 1504.

【0072】 図17は、図16の冗長機構の代替的な実施形態を示している。図17におい
て、複数のヒューズグループ1702,1704,1706,1708をI/Oインタフェイスの前後に
配設することが可能である。I/Oインタフェイスのうちの1つが欠陥を有するも
のとして識別された際に、該欠陥を有するI/Oインタフェイスを適当なヒューズ
グループにより隔離することが可能である。例えば、I/Oインタフェイス1404が
欠陥を有するものであり、I/Oインタフェイス1405が正しく動作している場合に
は、ヒューズグループ1704,1708を切ってI/Oインタフェイス1404を隔離すること
が可能である。該ヒューズグループ1704,1708は、該ヒューズグループ1704,1708
に大電流を流す1つ又は2つ以上の信号を提供する特殊な接触パッド(図示せず
)を介して切ることが可能である。ヒューズを切るための代替的な手段を使用す
ることも可能である。
FIG. 17 shows an alternative embodiment of the redundancy mechanism of FIG. In FIG. 17, a plurality of fuse groups 1702, 1704, 1706, 1708 can be arranged before and after the I / O interface. When one of the I / O interfaces is identified as defective, the defective I / O interface can be isolated by a suitable fuse group. For example, if the I / O interface 1404 is defective and the I / O interface 1405 is operating properly, disconnect the fuse group 1704, 1708 to isolate the I / O interface 1404. Is possible. The fuse groups 1704, 1708 are
It is possible to cut through special contact pads (not shown) that provide one or more signals that carry a large current to the device. It is also possible to use alternative means for blowing the fuse.

【0073】 図3に関して上述したように、製品回路をテストするために、オンチップテス
ト回路と共に特殊な接触パッドを使用することができる。図18は、1つ(又は
2つ以上)の特殊な接触パッド1810を使用して、クロック信号、リセット信号、
イネーブル信号、または他の制御信号をBIST回路1802へ提供する、一実施形態を
示している。これに応じて、BIST回路1802は、1つ又は2つ以上のテスト信号を
内部回路1804及び/又は内部回路1806へ提供する。次いで該内部テストの結果が
ボンディングパッド1808(又は代替的には他の特殊な接触パッド)において監視
される。別の実施形態では、特殊な接触パッドを使用してイネーブル信号又はク
ロック信号を他の任意の内部回路へ提供することも可能である。
As described above with respect to FIG. 3, special contact pads can be used with on-chip test circuits to test product circuits. FIG. 18 illustrates the use of one (or more) special contact pads 1810 to provide a clock signal, a reset signal,
9 illustrates one embodiment of providing an enable signal, or other control signal, to a BIST circuit 1802. In response, BIST circuit 1802 provides one or more test signals to internal circuit 1804 and / or internal circuit 1806. The results of the internal test are then monitored at bonding pad 1808 (or, alternatively, another special contact pad). In another embodiment, a special contact pad may be used to provide an enable or clock signal to any other internal circuitry.

【0074】 同様に、図19に示すように、1つ(又は2つ以上)の特殊な接触パッド1910
を使用して、クロック信号、リセット信号、イネーブル信号、又はその他の制御
信号をSCAN回路のシフトレジスタ要素1906,1908へ提供することが可能である。
該SCAN回路は、SCAN入力データSIを受信し及びSCAN出力データSOを提供すること
が可能なボンディングパッド1906,1908(又は代替的には1つ又は2つ以上の特
殊な接触パッド)間に結合させることが可能である。
Similarly, as shown in FIG. 19, one (or more) special contact pads 1910
Can be used to provide a clock signal, reset signal, enable signal, or other control signal to the shift register elements 1906, 1908 of the SCAN circuit.
The SCAN circuit couples between bonding pads 1906, 1908 (or alternatively one or more special contact pads) that can receive SCAN input data SI and provide SCAN output data SO It is possible to do.

【0075】 代替的な実施形態では、パッド1212の一方又は両方を特殊な接触パッドとする
ことが可能である。これは、SCAN回路のロケーション及び使用における設計上の
フレキシビリティを向上させるものとなる。例えば、これは、サイズ及び複雑性
が互いに異なる多数のSCAN領域又は回路を使用して、様々な異なる内部回路又は
回路ブロックをテストすることを可能にする。テスト方法論及びテストアセンブリ 上述の複数の設計方法論の1つにより生成されるテストダイは、様々なテスト
アセンブリを使用して製品ダイの信号をテスト又は監視するために使用すること
が可能である。
In an alternative embodiment, one or both of the pads 1212 can be special contact pads. This increases design flexibility in the location and use of the SCAN circuit. For example, this allows testing of a variety of different internal circuits or circuit blocks using a number of SCAN regions or circuits that differ in size and complexity from one another. Test Methodologies and Test Assemblies The test dies generated by one of the multiple design methodologies described above can be used to test or monitor product die signals using various test assemblies.

【0076】 図20は、テストダイ2010により製品ダイ2011のウェハレベルのソートテスト
を実行するためのテストアセンブリ2000の一実施形態を側方から見た断面図であ
る。製品ダイ2011は図3の製品ダイ300とすることが可能であり、テストダイ201
0は図4のテストダイ400とすることが可能である。
FIG. 20 is a side cross-sectional view of one embodiment of a test assembly 2000 for performing a wafer-level sort test of a product die 2011 by a test die 2010. The product die 2011 can be the product die 300 of FIG.
0 can be the test die 400 of FIG.

【0077】 テストアセンブリ2000は、相互接続及びサポート基板2008、テストダイ2010、
及び製品第2012を含む。相互接続及びサポート基板2008は、テストダイ2010とホ
スト2002との間の電気的な相互接続を提供する。該基板2008はまた、テストダイ
2010のための構造的なサポートを提供する。基板2008は、電気的な相互接続及び
サポート機能を実施する1つ又は2つ以上のプリント回路基板(PCB)とすること
が可能である。基板2008は、ウェハ2012をサポートする構造体(例えば図示しな
いウェハプローバ又はチャック)に取り付けることが可能である。
The test assembly 2000 includes an interconnect and support substrate 2008, a test die 2010,
And Product No. 2012. The interconnect and support substrate 2008 provides an electrical interconnect between the test die 2010 and the host 2002. The substrate 2008 also includes a test die
Provide structural support for 2010. Substrate 2008 may be one or more printed circuit boards (PCBs) that perform electrical interconnect and support functions. The substrate 2008 can be attached to a structure that supports the wafer 2012 (for example, a wafer prober or chuck (not shown)).

【0078】 ホスト2002は、基板2008を介してテストダイ2010と通信を行う。ホスト2002は
、テストの開始及び停止、テスト結果のカタログ作成及びそのユーザへの表示、
又は他のテストデータのテストダイ2010への送信のための信号を送出することが
可能なものである。汎用コンピュータ、ATE、又は他の任意の制御論理回路を含
めた任意のタイプのホストを使用することが可能である。
The host 2002 communicates with the test die 2010 via the board 2008. Host 2002 starts and stops testing, catalogs test results and displays them to users,
Alternatively, a signal for transmitting other test data to the test die 2010 can be transmitted. Any type of host may be used, including a general purpose computer, ATE, or any other control logic.

【0079】 テストダイ2010は、特殊な接触パッド2006及びボンディングパッド2004を含む
。それらのパッド上にはバネ接触要素2020,2018が配置される。製品ダイ2011は
、他の製品ダイ2011を含むことが可能なウェハ2012上に形成される。ウェハ2012
は、真空チャック(図示せず)といった適当なサポート構造上に配置することが
可能である。
The test die 2010 includes special contact pads 2006 and bonding pads 2004. Spring contact elements 2020, 2018 are arranged on those pads. Product dies 2011 are formed on a wafer 2012, which can include other product dies 2011. Wafer 2012
Can be placed on a suitable support structure such as a vacuum chuck (not shown).

【0080】 バネ接触要素2018は、テストダイ2010が製品ダイ2012に向かって付勢された際
にボンディングパッド2004とボンディングパッド2014との間に電気的な接続を提
供するように所定の配置で形成される。バネ接触要素2020は、テストダイ2010が
製品ダイ2012に向かって付勢された際に特殊な接触パッド2004と特殊な接触パッ
ド2016との間に電気的な接続を提供するものである。一実施形態では、接触要素
2018は、ダイ2011上にグリッドアレイパターンで配列されたボンディングパッド
2014と接触するように対応するグリッドアレイパターンで配列することが可能で
ある。バネ接触要素2020は、ダイ2011上の対応する特殊な接触パッド2016と電気
的な接触を行うように、所定のグリッドアレイパターン内に整列させ、該グリッ
ドアレイパターンの外部に整列させ、又は該グリッドアレイパターン内に点在さ
せて、配置することが可能である。代替的には、バネ接触要素2018を周辺パター
ンで配列して、それに対応する周辺パターンでダイ2011上に配置されたボンディ
ングパッド2014と接触するようにすることが可能である。バネ接触要素2020は、
ダイ2011上の対応する特殊な接触パッド2016と電気的な接触を行うように、所定
の周辺パターン内に整列させ、該周辺パターンの外部に整列させ、又は該周辺パ
ターンにより包囲される領域内に整列させて、配置することが可能である。更に
別の実施形態では、バネ接触要素2018は、対応するリードオンセンターボンディ
ングパッド2014と整列するようにリードオンセンター配列で配置することが可能
であり、バネ接触要素2020は、対応する特殊な接触パッド2016と整列するように
リードオンセンター配列の内部又は外部に配置することが可能である。更に別の
実施形態では、ボンディングパッド2014及び特殊な接触パッド2016は、他の任意
の配列で配置することが可能である。
The spring contact elements 2018 are formed in a predetermined arrangement so as to provide an electrical connection between the bonding pad 2004 and the bonding pad 2014 when the test die 2010 is biased toward the product die 2012. You. Spring contact element 2020 provides an electrical connection between special contact pad 2004 and special contact pad 2016 when test die 2010 is biased toward product die 2012. In one embodiment, the contact element
2018 shows bonding pads arranged in a grid array pattern on die 2011
It is possible to arrange in a corresponding grid array pattern to contact 2014. The spring contact elements 2020 are aligned within a predetermined grid array pattern, external to the grid array pattern, or the grid to make electrical contact with corresponding special contact pads 2016 on the die 2011. It is possible to disperse and arrange in an array pattern. Alternatively, the spring contact elements 2018 can be arranged in a peripheral pattern such that they contact the bonding pads 2014 located on the die 2011 in a corresponding peripheral pattern. Spring contact element 2020
Aligned within a predetermined peripheral pattern, aligned outside of the peripheral pattern, or within an area surrounded by the peripheral pattern so as to make electrical contact with a corresponding special contact pad 2016 on the die 2011. It is possible to arrange and arrange. In yet another embodiment, the spring contact elements 2018 can be arranged in a lead-on-center arrangement to align with the corresponding lead-on-center bonding pads 2014, and the spring-contact element 2020 can have a corresponding special contact. It can be located inside or outside of the lead-on center arrangement to align with the pad 2016. In yet another embodiment, the bonding pads 2014 and special contact pads 2016 can be arranged in any other arrangement.

【0081】 テストダイ2010が製品ダイ2011に向かって付勢されて該製品ダイ2011と接触す
ると、製品回路のうちの1つ又は2つ以上を同時に又は連続的にテストダイ2010
のテスト回路によりテストすることが可能となる。製品ダイ2011はまた、全体と
してテストすることが可能である。ウェハ2012は、多数の製品ダイ2011を含むこ
とが可能であり、テストダイ2010は、該ウェハ2012を横切って歩進して各製品ダ
イをテストすることが可能である。図21に示す代替的な実施形態では、多数の
テストダイ2010を並列に使用してウェハ2012上の多数の製品ダイ2011をテストし
、これによりテストのスループットを向上させている。この図21に示すテスト
方法論は、テストダイのウェハ2009がそれに対応する製品ダイのウェハ2012を同
時にテストするように拡張させることが可能なものである。
When the test die 2010 is biased toward and contacts the product die 2011, one or more of the product circuits may be simultaneously or sequentially tested.
Can be tested by the test circuit of FIG. Product die 2011 can also be tested as a whole. The wafer 2012 may include a number of product dies 2011, and the test dies 2010 may step across the wafer 2012 to test each product die. In the alternative embodiment shown in FIG. 21, multiple test dies 2010 are used in parallel to test multiple product dies 2011 on wafer 2012, thereby increasing test throughput. The test methodology shown in FIG. 21 can be extended so that the test die wafer 2009 simultaneously tests the corresponding product die wafer 2012.

【0082】 図20は、テストダイ2010が、ボンディングパッド2014及び特殊な接触パッド
2016とそれぞれ通信を行うために接触要素2018,2020を備えていることを示して
いるが、多数の独立したテストダイを使用して特殊な接触パッド2016及び/又は
ボンディングパッド2014のプロービングを行うことも可能である。例えば、バネ
接触要素2018が取り付けられたボンディングパッド2004を含む第1のテストダイ
2010を最初に使用して、製品ダイ2011のボンディングパッド2014との接触を行う
ことが可能である。該第1のテストダイは、製品ダイ2011を全体として機能的に
テストすることが可能である。続いて、特殊な接触パッド2006及びバネ接触要素
2020を含む第2のテストダイ2010を使用することが可能である。該第2のテスト
ダイ2010は、製品ダイ2011の製品回路のうちの1つ又は2つ以上を同時に又は連
続的にテストするために使用することが可能である。別の実施形態では、バネ接
触要素2018,2020を取り混ぜた多数のテストダイを使用することが可能である。
テストダイの数、及びテストダイの構成は、上述の設計方法論のうちの1つ又は
2つ以上により決定される。
FIG. 20 shows that the test die 2010 has bonding pads 2014 and special contact pads.
It shows that it has contact elements 2018 and 2020 to communicate with 2016 respectively, but it is also possible to use a number of independent test dies to probe special contact pads 2016 and / or bonding pads 2014. It is possible. For example, a first test die including a bonding pad 2004 having a spring contact element 2018 attached thereto.
It is possible to use 2010 first to make contact with the bonding pads 2014 of the product die 2011. The first test die is capable of functionally testing the product die 2011 as a whole. Subsequently, special contact pads 2006 and spring contact elements
It is possible to use a second test die 2010 including 2020. The second test die 2010 can be used to test one or more of the product circuits of the product die 2011 simultaneously or sequentially. In another embodiment, it is possible to use multiple test dies that mix spring contact elements 2018,2020.
The number of test dies and the configuration of the test dies are determined by one or more of the design methodologies described above.

【0083】 代替的な実施形態では、図22に示すように、ダイ2011上のボンディングパッ
ド2014及び特殊な接触パッド2016に対してバネ接触要素2018,2020を取り付ける
ことが可能である。更に別の実施形態では、バネ接触要素2018,2020のうちの幾
つかをテストダイ2010に取り付け、バネ接触要素2018,2020のうちの幾つかをダ
イ2011に取り付けることが可能である。
In an alternative embodiment, as shown in FIG. 22, it is possible to attach the spring contact elements 2018, 2020 to the bonding pads 2014 and special contact pads 2016 on the die 2011. In yet another embodiment, some of the spring contact elements 2018, 2020 can be attached to the test die 2010 and some of the spring contact elements 2018, 2020 can be attached to the die 2011.

【0084】 また、ボンディングパッド2016及び特殊な接触パッド2016は、異なる高さのも
のとすることが可能である。例えば、図23に示すようにボンディングパッド20
14を特殊な接触パッド2016よりも高く(又はその逆に)することが可能である。
この実施形態では、プローブ2018,2020は、異なる奥行きに延びる(又は異なる
高さを有する)。すなわち、プローブ2020は、特殊な接触パッド2016と接触する
ためにプローブ2018よりも低い位置まで延びる。更に別の実施形態では、テスト
ダイ2010のボンディングパッド2004及び特殊な接触パッド2006を、互いに異なる
高さを有するものとすることが可能である。
Also, the bonding pads 2016 and special contact pads 2016 can be of different heights. For example, as shown in FIG.
It is possible to make 14 higher than the special contact pad 2016 (or vice versa).
In this embodiment, probes 2018, 2020 extend to different depths (or have different heights). That is, the probe 2020 extends to a position lower than the probe 2018 to make contact with the special contact pad 2016. In yet another embodiment, the bonding pads 2004 and the special contact pads 2006 of the test die 2010 can have different heights from each other.

【0085】 図24は、図20ないし図23のバネ接触要素2018,2020の一実施形態である
バネ接触要素2400を側方から見た断面図である。該バネ接触要素2400は、ベース
2402、細長い弾性部材2404、細長い接触先端構造2406、及びピラミッド型の接触
構造2408を含む。本出願人の同時係属中の米国特許出願第08/526,246号(1995年
9月21日出願)、本出願人の同時係属中の米国特許出願第08/558,332号(1995年1
1月15日出願)、本出願人の同時係属中の米国特許出願第08/789,147号(1997年1
月24日出願)、本出願人の同時係属中の米国特許出願第08/819,464号(1997年3
月17日出願)、本出願人の同時係属中の米国特許出願第08/189,761号(1998年11
月10日出願)に開示されているものを含めたバネ接触要素の他の多くの実施形態
を使用することが可能である。
FIG. 24 is a side sectional view of a spring contact element 2400 which is an embodiment of the spring contact elements 2018 and 2020 of FIGS. 20 to 23. The spring contact element 2400 has a base
2402, an elongated elastic member 2404, an elongated contact tip 2406, and a pyramid-shaped contact structure 2408. Applicant's co-pending US patent application Ser. No. 08 / 526,246 (1995
(Filed September 21), and applicant's co-pending US patent application Ser. No. 08 / 558,332 (Jan.
Filed Jan. 15), and applicant's co-pending US patent application Ser. No. 08 / 789,147 (Jan.
Applicant's co-pending US patent application Ser. No. 08 / 819,464, filed Mar.
Applicant's co-pending US patent application Ser. No. 08 / 189,761 (November 1998)
Many other embodiments of the spring contact element can be used, including those disclosed in US Pat.

【0086】 構造2406は任意の形状とすることが可能である。図25は、構造2406の一実施
形態を示すものであり、部材2404と接触するための比較的幅の広い端部と、ピラ
ミッド型の接触構造2408をサポートするための比較的幅の狭い端部を有している
[0086] The structure 2406 can be of any shape. FIG. 25 illustrates one embodiment of a structure 2406 with a relatively wide end for contacting the member 2404 and a relatively narrow end for supporting a pyramidal contact structure 2408. have.

【0087】 図26は、ピラミッド型の接触構造2408の一実施形態を示している。他の形状
を用いることも可能である。構造2408は、有利に、片持ち式プローブの典型的な
タングステンのプローブ先端及びフリップチッププローブカード技術のC4の接触
ボールよりも大幅に小さくすることが可能である。ピラミッド型の接触構造2408
の先端は、約1〜5μmの長さ寸法2414及び幅寸法2416を有することが可能である
。代替的な実施形態では、長さ寸法2414及び幅寸法2416をサブミクロンの寸法と
することが可能である。該接触構造2408のサイズが小さいことより、特殊な接触
パッドをボンディングパッドよりも小さくすることが可能となる。既述のように
、特殊な接触パッドがボンディングパッドよりも小さい場合には、製品ダイ2011
等の集積回路にそのダイサイズを拡大させることなく特殊な接触パッドを追加す
ることが可能となる。更に、小さな特殊な接触パッドは、はんだボールのボンデ
ィングパッド間に配置することが可能となる。
FIG. 26 illustrates one embodiment of a pyramid-shaped contact structure 2408. Other shapes can be used. The structure 2408 can advantageously be much smaller than the typical tungsten probe tip of a cantilevered probe and the C4 contact ball of flip chip probe card technology. Pyramid contact structure 2408
May have a length dimension 2414 and a width dimension 2416 of about 1-5 μm. In alternative embodiments, the length dimension 2414 and the width dimension 2416 can be sub-micron. The small size of the contact structure 2408 allows a special contact pad to be smaller than a bonding pad. As mentioned, if the special contact pad is smaller than the bonding pad, the product die 2011
It is possible to add a special contact pad to an integrated circuit such as this without increasing the die size. Furthermore, small special contact pads can be arranged between the solder ball bonding pads.

【0088】 図43A及び図43Bは、米国特許出願第09/189,761号に開示されている別の
バネ接触要素の実施形態を示している。バネ接触要素4300は、基板4306に結合さ
れ、細長い弾性部材4304、先端構造4308、及びブレード4302を有している。ブレ
ード4302は、ボンディングパッド又は特殊な接触パッドとの電気的接続を行うた
めに使用される。ブレード4302は、パッドの上面をカットし、スライスし、又は
突き出す(penetrate)場合に、接触したボンディングパッド又は特殊な接触パッ
ドに良好な電気的接続を提供するよう有利に使用することが可能なものである。
ブレード4302は、先端構造4308上にほぼ水平方向に、又はその他の任意の方向に
、配置することが可能である。
FIGS. 43A and 43B show another spring contact element embodiment disclosed in US patent application Ser. No. 09 / 189,761. The spring contact element 4300 is coupled to the substrate 4306 and has an elongated elastic member 4304, a tip structure 4308, and a blade 4302. Blades 4302 are used to make electrical connections with bonding pads or special contact pads. Blade 4302 can be advantageously used to provide good electrical connection to contacted bonding pads or special contact pads when cutting, slicing, or penetrating the top surface of the pad. It is.
The blade 4302 can be positioned on the tip structure 4308 in a substantially horizontal direction, or in any other direction.

【0089】 図44A及び図44Bは、バネ接触要素の先端構造上にブレードを用いる別の
実施形態を示す斜視図及び側面図である。ブレード4400は、先端構造4406上に配
置された複数の高さを有するブレードである。該ブレード4400は、先端構造4406
の正面縁部に向かう主ブレード4402と先端構造4406の後方に向かう後方ブレード
4404とを有している。
FIGS. 44A and 44B are perspective and side views illustrating another embodiment using a blade on the tip structure of a spring contact element. Blade 4400 is a blade having a plurality of heights disposed on tip structure 4406. The blade 4400 has a tip structure 4406
Main blade 4402 towards the front edge of the rear blade and rear blade towards the tip structure 4406
4404.

【0090】 図45は、先端構造4500上に形成された別のブレード構造を示す斜視図である
。図45のブレードは、ほぼ矩形の基部4502とほぼ三角形の部分4504とを有する
よう形成されている。
FIG. 45 is a perspective view showing another blade structure formed on the tip structure 4500. The blade of FIG. 45 is formed having a substantially rectangular base 4502 and a generally triangular portion 4504.

【0091】 図27は、製品ダイ2011のウェハレベルのソートテストを実行するための別の
実施形態であるテストアセンブリ2700を示している。この実施形態では、2つ(
又は3つ以上の)テストダイ2010を使用して単一の製品ダイ2011の複数の異なる
製品回路を同時に又は連続的にテストすることが可能である。複数のテストダイ
を使用して単一の製品ダイをテストする際に、ボンディングパッド2014及び特殊
な接触パッド2016の物理的なマッピング又はロケーションは、どのテストダイが
製品ダイ2011のどの製品回路をテストし又は監視するかを決定するものとなる。
各テストダイは、該テストダイによりテストを実行する必要のあるパッドの全て
に接触しなければならない。
FIG. 27 illustrates another embodiment of a test assembly 2700 for performing a wafer-level sort test of a product die 2011. In this embodiment, two (
It is possible to use a test die 2010 (or more than two) to test multiple different product circuits of a single product die 2011 simultaneously or sequentially. When testing a single product die using multiple test dies, the physical mapping or location of the bonding pads 2014 and special contact pads 2016 will determine which test die tests which product circuit of the product die 2011 or It will determine whether to monitor.
Each test die must contact all of the pads that need to be tested by the test die.

【0092】 アセンブリ2700の複数のテストダイは、上述の設計方法論により生成すること
が可能である。例えば、製品ダイ2011の製品回路をテストするために必要となる
テスト回路が複数の異なるプロセス技術(例えばBiCMOSとCMOS)で最良に実施さ
れることを(例えば図6のソフトウェアツール608により)決定することが可能
であり、このため、異なるプロセス技術によるテスト回路をサポートするよう異
なるテストダイを生成することが可能である。別の実施形態では、ソフトウェア
ツール608は、必要とされるテスト回路のうちの幾つかが第1のテストダイ上の
アナログ回路において最良に実施され、それとは異なる必要とされるテスト回路
が第2のテストダイ上のディジタル回路において最良に実施されることを判定す
ることが可能である。
[0092] The plurality of test dies of the assembly 2700 can be generated by the design methodology described above. For example, determine (eg, via software tool 608 in FIG. 6) that the test circuitry required to test the product circuits of product die 2011 is best implemented in a number of different process technologies (eg, BiCMOS and CMOS). It is possible to create different test dies to support test circuits with different process technologies. In another embodiment, the software tool 608 is configured such that some of the required test circuits are best implemented in analog circuits on a first test die, whereas the required test circuits are different in a second test die. It is possible to determine what is best performed in digital circuitry on the test die.

【0093】 図28は、2つ(又は3つ以上)の製品ダイ2011が単一のテストダイ2010によ
りテストされる別のテストアセンブリ2800を示している。この実施形態では、単
一のテストダイ2010は、両方の製品ダイについて(同時に又は非同時に)実行す
ることができる複数のテストを含むことが可能である。一実施形態では、テスト
ダイ2010は、複数の製品ダイ2011へ複製された信号を提供するための複数の相互
接続ポイント又はパッドを有する1つのテスト回路を含むことが可能である。代
替的な実施形態では、テストダイ2010は、複数の製品ダイと接触するための複数
の複製されたテスト回路を含むことが可能である。代替的には、各製品ダイ2011
は、単一のテストダイ2010によりテストすることができる一意の回路を含むこと
が可能である。
FIG. 28 shows another test assembly 2800 in which two (or more) product dies 2011 are tested by a single test die 2010. In this embodiment, a single test die 2010 may include multiple tests that can be performed (simultaneously or non-simultaneously) on both product dies. In one embodiment, test die 2010 may include a single test circuit having multiple interconnect points or pads for providing replicated signals to multiple product dies 2011. In an alternative embodiment, test die 2010 may include multiple replicated test circuits for contacting multiple product dies. Alternatively, each product die 2011
Can include a unique circuit that can be tested by a single test die 2010.

【0094】 図29のテストアセンブリ2900は、複数の製品ダイ2011を複数のテストダイ20
10を用いてテストするための階層的なアプローチの一実施形態を示している。図
29に示すように、各製品ダイ2010は、別個のテストダイ2010によりテストする
ことが可能である。テストダイ2902は、ホスト2002と通信を行って複数のテスト
ダイ2010をサポートし又は制御する第2階層レベルである。例えば、テストダイ
2902は、テストダイ2010の全てにより共通して使用される回路を含む共有リソー
スとすることが可能である。この共通の回路をテストダイ2902へ移して例えばテ
ストダイ2010のサイズを縮小するのが有利である。例えば、自動パターン生成器
(APG)回路又はその他のテストベクトル生成又は格納回路をテストダイ2902へ
移して複数のテストダイ2010の各々により共有することが可能である。次いで、
テストダイ2010は、テストダイ2902により提供されるパターンのためのフォーマ
ッタ、ドライバ、及びタイミング生成器を単に含むことが可能である。これによ
り、APG回路をテストダイ2010の各々で複製する必要がなくなる。
The test assembly 2900 of FIG. 29 converts a plurality of product dies 2011 to a plurality of test dies 20.
1 illustrates one embodiment of a hierarchical approach to testing with 10; As shown in FIG. 29, each product die 2010 can be tested by a separate test die 2010. Test die 2902 is a second level level that communicates with host 2002 to support or control multiple test dies 2010. For example, test die
2902 may be a shared resource that includes circuits commonly used by all of the test dies 2010. It is advantageous to move this common circuit to a test die 2902, for example, to reduce the size of the test die 2010. For example, an automatic pattern generator (APG) circuit or other test vector generation or storage circuit can be moved to test die 2902 and shared by each of multiple test dies 2010. Then
Test die 2010 may simply include a formatter, driver, and timing generator for the pattern provided by test die 2902. This eliminates the need to duplicate the APG circuit on each of the test dies 2010.

【0095】 テストダイ2902は、テストダイ2010の各々に共通のテストパターンを同時に提
供することにより全てのテストダイ2010を同時にサポートすることが可能であり
、またテストダイ2902は、テストダイ2011のうちの1つ又は2つ以上に対して、
統合機能を実施すること及び選択的に(例えば連続的に)テスト又はパターンを
提供することが可能である。
The test dies 2902 can simultaneously support all test dies 2010 by simultaneously providing a common test pattern to each of the test dies 2010, and the test die 2902 can be one or two of the test dies 2011. For one or more,
It is possible to perform an integrated function and optionally (eg, continuously) provide tests or patterns.

【0096】 上述の設計方法論は、テスト回路を1つ又は2つ以上のテストダイへ分割する
のが有利な場合を判定することが可能である。例えば、比較的大きな回路(APG
等)を2つ以上のテストダイにより共有することができる場合には、その回路を
共有テストダイ2902へ移して各テストダイ2010のダイサイズを縮小させることが
可能である。
The design methodology described above can determine when it is advantageous to split a test circuit into one or more test dies. For example, a relatively large circuit (APG
) Can be shared by two or more test dies, the circuit can be moved to a shared test die 2902 to reduce the die size of each test die 2010.

【0097】 図30は、共有テストダイ2902を含むテストアセンブリ3000を示している。こ
の実施形態では、各テストダイ2010は、対応する各製品ダイ2011に専用のもので
あり、各製品ダイに異なるテストを提供するものである。しかし、テストダイ29
02は、同時に又は統合化された態様で使用されて、製品ダイ2011の各々により使
用するための共有されるテスト又はテストパターンをテストダイ3002へ提供する
ことが可能なものである。
FIG. 30 shows a test assembly 3000 including a shared test die 2902. In this embodiment, each test die 2010 is dedicated to each corresponding product die 2011 and provides a different test for each product die. But test die 29
02 can be used simultaneously or in an integrated manner to provide a shared test or test pattern to the test die 3002 for use by each of the product dies 2011.

【0098】 図21ないし図28に示した実施形態は、上述の設計方法論に従って設計され
た1つ又は2つ以上のテストダイ及び1つ又は2つ以上の製品ダイを(接触構造
2018,2020を介して)直接に電気的に接続するものである。図31は、テストダ
イ3104により製品ダイ3111のウェハレベルのソートテストを実施するテストアセ
ンブリ3100を示している。テストダイ3104は、接触子3108及び相互接続基板3106
を介して製品ダイ3110へ間接的に電気的に接続される。接触子3108は、エポキシ
リングプローブカード、メンブレンプローブカード、又はその他のあらゆるタイ
プのプローブカードアセンブリ(例えばFormFactor, Inc.(Livermore, CA)及
びWentworth Laboratories(Bookfield ,CT)により提供されるもの)といった
、任意のタイプのプローブカードとすることが可能なものである。
The embodiments shown in FIGS. 21 to 28 may include one or more test dies and one or more product dies (contact structures) designed in accordance with the design methodology described above.
(Via 2018, 2020) direct electrical connection. FIG. 31 illustrates a test assembly 3100 that performs a wafer-level sort test of a product die 3111 with a test die 3104. The test die 3104 includes a contact 3108 and an interconnect substrate 3106.
Is electrically connected indirectly to the product die 3110 via the. Contact 3108 may be an epoxy ring probe card, a membrane probe card, or any other type of probe card assembly, such as those provided by FormFactor, Inc. (Livermore, CA) and Wentworth Laboratories (Bookfield, CT). It can be any type of probe card.

【0099】 テストダイ3104は、上述の設計方法論により生成された図4のテストダイ400
等の1つ又は2つ以上のテストダイとすることが可能である。製品ダイ3111は、
これもまた上述の設計方法論により生成された図3の製品ダイ300等の1つ又は
2つ以上の製品ダイとすることが可能である。製品ダイ3111は、他の製品ダイ31
11を含むことが可能なウェハ3110上に形成される。ウェハ3110は、真空チャンク
(図示せず)等の適当なサポート構造上に配置することが可能である。製品ダイ
3111はまた、接触要素3112を受容するためのボンディングパッド3114及び特殊な
接触パッド3116を含む。接触要素3112は、片持ち式のプローブニードル、メンブ
レンプローブカードの接触ボール、上述のバネ接触要素、又は他の任意の電気的
接触要素を含むことが可能である。
The test die 3104 is the test die 400 of FIG. 4 generated by the above-described design methodology.
One or more test dies can be used. Product die 3111
Again, this may be one or more product dies, such as product die 300 of FIG. 3 generated by the design methodology described above. Product die 3111, other product die 31
Formed on a wafer 3110 that can include 11. Wafer 3110 can be placed on a suitable support structure, such as a vacuum chunk (not shown). Product die
3111 also includes bonding pads 3114 for receiving contact elements 3112 and special contact pads 3116. The contact element 3112 can include a cantilevered probe needle, a contact ball of a membrane probe card, a spring contact element as described above, or any other electrical contact element.

【0100】 相互接続基板3106は、テストダイ3104と接触子3108との間の電気的な相互接続
を提供する。図31に示すように、テストダイ3104は、基板3106の上部3120上に
配置することが可能である。代替的には、テストダイ3104は、基板3106の下部31
22上に配置することが可能である。更に別の実施形態では、テストダイ3104は、
接触子3108上に直接配置することが可能である。
The interconnect substrate 3106 provides electrical interconnection between the test dies 3104 and the contacts 3108. As shown in FIG. 31, the test die 3104 can be placed on the upper portion 3120 of the substrate 3106. Alternatively, test die 3104 may be located on lower portion 31 of substrate 3106.
22 is possible. In yet another embodiment, the test die 3104 comprises:
It is possible to place it directly on the contact 3108.

【0101】 テストダイ3104を2つ以上の製品ダイ3111に電気的に接続するために、相互接
続基板3106は十分な取り回し(routing)を含むことが可能であり、接触子3108は
十分な数の接触要素3112を含むことが可能である。例えば、製品ダイのウェハ全
体を1つ又は2つ以上のテストダイにより同時にテストすることが可能である。
To electrically connect test die 3104 to two or more product dies 3111, interconnect substrate 3106 may include sufficient routing and contacts 3108 may have a sufficient number of contacts. Element 3112 can be included. For example, an entire product die wafer can be tested simultaneously by one or more test dies.

【0102】 一実施形態では、テストダイ3104は、基板3106上に取り付け、そのボンディン
グパッド及び特殊な接触パッドを基板3106にボンドアウトすることが可能であり
、又は最初に適当な半導体パッケージ内にパッケージ化し、次いで基板3106に対
して電気的に接続することが可能である。
In one embodiment, test die 3104 can be mounted on substrate 3106 and its bonding pads and special contact pads can be bonded out to substrate 3106, or packaged first in a suitable semiconductor package. Can then be electrically connected to the substrate 3106.

【0103】 基板3106はまた、テストダイ3104及び接触子3108のための構造的なサポートを
提供する。基板3106は、電気的な相互接続及びサポート機能を実施する1つ又は
2つ以上のPCBとすることが可能であり、ウェハ3110をサポートする構造体(例
えば図示しないウェハプローバ又はチャック)へ取り付けることが可能である。
The substrate 3106 also provides structural support for the test dies 3104 and contacts 3108. Substrate 3106 may be one or more PCBs that perform electrical interconnect and support functions, and may be attached to a structure that supports wafer 3110 (eg, a wafer prober or chuck not shown). Is possible.

【0104】 ホスト3102はテストダイ3104と通信を行う。ホスト3102は、テストの開始及び
停止、テスト結果のカタログ作成、及びそのユーザに対する表示、又は他のテス
トデータのテストダイ3104への送信を行うための信号を送出する。パーソナルコ
ンピュータ、ATE、または他の任意の制御論理回路といった、任意のタイプのホ
ストを使用することが可能である。
The host 3102 communicates with the test die 3104. The host 3102 sends signals to start and stop the test, create a catalog of test results and display it to the user, or send other test data to the test die 3104. Any type of host can be used, such as a personal computer, ATE, or any other control logic.

【0105】 図32は、テストアセンブリ3100の一実施形態であるテストアセンブリ3200を
示すものであり、この場合、接触子3108はプローブカード3120を含む。テストア
センブリ3200は、テストヘッド3204及びプローブカードアセンブリ3210を含む。
プローブカードアセンブリ3213は、相互接続基板3106(例えばテストロード基板
)、テストダイ3104、及びプローブカード3210を含む。テストダイ3104は、基板
3106の下側またはプローブカード3210自体に配置することが可能である。
FIG. 32 shows a test assembly 3200, which is an embodiment of the test assembly 3100, in which the contacts 3108 include a probe card 3120. Test assembly 3200 includes test head 3204 and probe card assembly 3210.
Probe card assembly 3213 includes an interconnect board 3106 (eg, a test load board), a test die 3104, and a probe card 3210. Test die 3104
It can be located below the 3106 or on the probe card 3210 itself.

【0106】 プローブカード3210は、製品ダイ3111との間での信号の送受信を提供する片持
ち式プローブ3220を含む片持ち式またはニードルプローブカードである。プロー
ブ3220は、タングステンを含む任意の適当な導電材料から構成することが可能で
ある。図33にプローブカード3220の平面図を示すように、プローブ3220は、テ
ストダイ3104上のテスト回路と接触する接触ピンまたはポイント3304に接続され
る。プローブカード3210は、1つ又は2つ以上の固定ピン3302、ネジ、又はその
他の固定手段を介して基板3106へ固定することが可能である。
The probe card 3210 is a cantilevered or needle probe card that includes a cantilevered probe 3220 that provides for sending and receiving signals to and from the product die 3111. Probe 3220 can be constructed from any suitable conductive material, including tungsten. As shown in a plan view of the probe card 3220 in FIG. 33, the probe 3220 is connected to a contact pin or point 3304 that contacts a test circuit on the test die 3104. The probe card 3210 can be fixed to the substrate 3106 via one or more fixing pins 3302, screws, or other fixing means.

【0107】 プローブ3220は、プローブアセンブリ3213が製品ダイ3111に向かって付勢され
た際に特殊な接触パッド3116に接触するよう配設される。代替的な実施形態では
、特殊な接触パッド3116をプロービングすることにより製品回路を最初にテスト
し、続いてボンディングパッド3114をプロービングすることにより製品ダイ3111
を全体としてテストするために、別個のプローブカードを使用することが可能で
ある。
The probe 3220 is arranged to contact a special contact pad 3116 when the probe assembly 3213 is biased toward the product die 3111. In an alternative embodiment, the product circuit is first tested by probing special contact pads 3116 and then product die 3111 by probing bonding pads 3114.
It is possible to use a separate probe card to test as a whole.

【0108】 図34は、1つ又は2つ以上の特殊な接触パッド3116及び1つ又は2つ以上の
ボンディングパッド3114のプロービングを行うためのプローブを同一のプローブ
カード3410上に配設することが可能な別の実施形態を示している。この実施形態
では、プローブ3220は、プローブ3218がボンディングパッド3114との間で信号の
送受信を行うのと同じ回数又は異なる回数だけ、特殊な接触パッド3116との間で
信号の送受信を行うことが可能である。プローブ3118は、ボンディングパッド31
14のアライメントに対応する所定のアライメントで形成される。図35のプロー
ブカード3410の平面図に示すように、プローブ3118は、製品ダイ3111上の周囲の
ボンディングパッド3114と接触することになる比較的矩形の形状を形成する。プ
ローブ3120は、一般にはプローブ3118と同一の所定のアライメントで配置される
ことはなく、プローブ3118(及びボンディングパッド3114)により包囲される領
域内へと延びるものとなる。代替的な実施形態では、プローブ1320は、プローブ
3118により包囲される領域の外部に存在することが可能であり、又はプローブ31
18及びボンディングパッド3114と同じ所定のアライメントで配置することが可能
である。別の実施形態では、プローブ3118は、製品ダイ3111上のボンディングパ
ッド3114の同様の配列と整列するように、リードオンセンター配列又はその他の
所定の配列で構成することが可能であり、プローブ3120は、対応する特殊な接触
パッド3116と整列するように、プローブ3118の配列の内部又は外部に構成するこ
とが可能である。更に別の実施形態では、ボンディングパッド3114及び特殊な接
触パッド3116を他の任意のアライメントで構成することが可能である。
FIG. 34 shows that probes for probing one or more special contact pads 3116 and one or more bonding pads 3114 can be provided on the same probe card 3410. 7 shows another possible embodiment. In this embodiment, probe 3220 can send and receive signals to and from special contact pad 3116 as many times as probe 3218 sends and receives signals to and from bonding pad 3114. It is. Probe 3118 is connected to bonding pad 31
It is formed with a predetermined alignment corresponding to the 14 alignments. As shown in the plan view of the probe card 3410 in FIG. 35, the probe 3118 forms a relatively rectangular shape that will contact the surrounding bonding pads 3114 on the product die 3111. The probe 3120 is not generally arranged in the same predetermined alignment as the probe 3118, but extends into a region surrounded by the probe 3118 (and the bonding pad 3114). In an alternative embodiment, probe 1320 is a probe
3118 can be outside the area enclosed by
18 and the bonding pad 3114 can be arranged in the same predetermined alignment. In another embodiment, the probe 3118 can be configured in a lead-on-center arrangement or other predetermined arrangement to align with a similar arrangement of the bonding pads 3114 on the product die 3111, and the probe 3120 , Can be configured inside or outside the array of probes 3118 to align with corresponding special contact pads 3116. In still other embodiments, bonding pads 3114 and special contact pads 3116 can be configured with any other alignment.

【0109】 プローブカード3410は、基板3104とプローブ3218,3220との間の電気的な接続
を提供する1つ又は2つ以上の接触ピン3502を含む。テストダイ3104は、(図3
3に示すように)プローブカード3410上に配置することが可能であり、又はプロ
ーブカード3410の外部(例えば基板3106上)に配置することが可能であり、この
場合には電気的な接続はピン3502へと配線され若しくは相互接続ポイント3304に
直接接続される。
The probe card 3410 includes one or more contact pins 3502 that provide an electrical connection between the substrate 3104 and the probes 3218, 3220. Test die 3104 (Fig. 3
It can be located on the probe card 3410 (as shown in FIG. 3), or it can be located outside the probe card 3410 (eg, on the substrate 3106), in which case the electrical connections are Wired to 3502 or directly connected to interconnection point 3304.

【0110】 図32ないし図35に示す実施形態では、ボンディングパッド3114及び特殊な
接触パッド3116は互いに異なる高さを有することが可能である。例えば、ボンデ
ィングパッド3114を特殊な接触パッド3116よりも高く(又は低くする)すること
が可能である。この実施形態では、プローブ3118,3120は互いに異なる奥行きに
延びることが可能である。すなわち、プローブ3120がプローブ3118よりも低い位
置まで延びて特殊な接触パッド3116と接触するようにすることが可能である。
In the embodiment shown in FIGS. 32 to 35, the bonding pad 3114 and the special contact pad 3116 can have different heights from each other. For example, the bonding pad 3114 can be higher (or lower) than the special contact pad 3116. In this embodiment, the probes 3118, 3120 can extend to different depths. That is, it is possible that the probe 3120 extends to a position lower than the probe 3118 and comes into contact with the special contact pad 3116.

【0111】 図36は、テストアセンブリ3100の別の実施形態を示すテストアセンブリ3600
を示している。該テストアセンブリ3600は、テストヘッド3204及びプローブカー
ドアセンブリ3613を含む。プローブカードアセンブリ3613は、相互接続基板3106
,テストダイ3104、及びメンブレンプローブカード3620を含む。メンブレンプロ
ーブカード3620は、製品ダイ3111と接触するよう付勢された際にボンディングパ
ッド3114及び特殊な接触パッド3116との間での信号の送受信を提供する接触ボー
ル3618,3620を含む。接触ボール又はプローブ3618,3620は、はんだを含む任意の
適当な導電性材料から構成することが可能である。
FIG. 36 shows another embodiment of test assembly 3100, test assembly 3600.
Is shown. The test assembly 3600 includes a test head 3204 and a probe card assembly 3613. The probe card assembly 3613 is connected to the interconnect board 3106
, A test die 3104, and a membrane probe card 3620. Membrane probe card 3620 includes contact balls 3618, 3620 that, when urged into contact with product die 3111, provide signals to and from bonding pads 3114 and special contact pads 3116. The contact balls or probes 3618, 3620 can be constructed from any suitable conductive material, including solder.

【0112】 図37のプローブカード3610の平面図に示すように、接触ボール3618は、対応
するグリッドアレイパターンに配列されたボンディングパッド3114と接触するよ
うにグリッドアレイに配列することが可能である。接触ボール3620は、所定のグ
リッドアレイ内に配列することが可能であり、又は製品ダイ3111上の特殊な接触
パッド3116と一致するように図37に示すようにグリッドアレイパターン内に点
在させることが可能である。代替的には、図38に示すように、接触ボール3618
は、対応する周辺パターンで配列されたボンディングパッド3114と接触するよう
周囲パターンで配列することが可能である。接触ボール3620は、所定の周囲パタ
ーンで前記周辺パターンの外部に又は図38に示すように周辺パターン内に配列
して対応する特殊な接触パッド3116と整列するようにすることが可能である。更
に別の実施形態では、接触ボール3618は、製品ダイ3110上のリードオンセンター
ボンディングパッドと整列するようリードオンセンター配列で配置することが可
能であり、接触ボール3620は、対応する特殊な接触パッドと整列するようリード
オンセンター配列の内部又は外部に配置することが可能である。
As shown in the plan view of the probe card 3610 in FIG. 37, the contact balls 3618 can be arranged in a grid array so as to contact the bonding pads 3114 arranged in a corresponding grid array pattern. The contact balls 3620 can be arranged in a predetermined grid array, or can be interspersed in a grid array pattern as shown in FIG. 37 to match special contact pads 3116 on the product die 3111. Is possible. Alternatively, as shown in FIG.
Can be arranged in a peripheral pattern so as to contact the bonding pads 3114 arranged in the corresponding peripheral pattern. The contact balls 3620 can be arranged in a predetermined peripheral pattern outside the peripheral pattern or in the peripheral pattern as shown in FIG. 38 to align with the corresponding special contact pads 3116. In yet another embodiment, the contact balls 3618 can be arranged in a lead-on-center arrangement to align with the lead-on-center bonding pads on the product die 3110, with the contact balls 3620 being the corresponding special contact pads It can be placed inside or outside of the lead-on-center arrangement so as to align with.

【0113】 別の実施形態では、接触ボール3620を既述のバネ接触要素に置換することが可
能である。この実施形態では、特殊な接触パッド3116は、図11に示すようなボ
ンディングパッド3114のグリッドアレイ内に選択的に配置することが可能であり
、該特殊な接触パッドの追加により製品ダイ3110のダイサイズが増大しないよう
に図12に示すようなボンディングパッド3114のサイズよりも小さくすることが
可能である。更に別の実施形態では、ボンディングパッド3114及び特殊な接触パ
ッド3116を他のあらゆるアライメントで配列することが可能である。
In another embodiment, the contact ball 3620 can be replaced with the previously described spring contact element. In this embodiment, the special contact pads 3116 can be selectively arranged in a grid array of bonding pads 3114 as shown in FIG. It is possible to make the size smaller than the size of the bonding pad 3114 as shown in FIG. 12 so that the size does not increase. In still other embodiments, the bonding pads 3114 and special contact pads 3116 can be arranged in any other alignment.

【0114】 テストダイ3104は、基板3106を介して1つ又は2つ以上のプローブ3620へ電気
的に接続される。テストダイ3104はまた、基板3106を介して1つ又は2つ以上の
プローブ3618へ電気的に接続される。代替的には、テストダイ3104は、プローブ
カード3610上に直接配置することが可能であり、又はテストアセンブリ3600の他
の任意のロケーションに配置することが可能である。
The test die 3104 is electrically connected to one or more probes 3620 via the substrate 3106. Test die 3104 is also electrically connected to one or more probes 3618 via substrate 3106. Alternatively, test die 3104 may be located directly on probe card 3610, or may be located at any other location in test assembly 3600.

【0115】 図36ないし図38は、単一のメンブレンプローブカードを使用して特殊な接
触パッド3116及びボンディングパッド3114と通信を行うことが可能であることを
示しているが、代替的な実施形態では、別個のメンブレンプローブカードを使用
して特殊な接触パッド3116及びボンディングパッド3114をプロービングすること
が可能である。すなわち、1つ又は2つ以上のプローブカードを使用して、最初
に特殊な接触パッド3116のみを1つ又は2つ以上の接触ボール3618に接触させて
製品ダイ3111の1つ又は2つ以上の製品回路をテストすることが可能である。続
いて、1つ又は2つ以上の追加のプローブカードを使用して、ボンディングパッ
ド3114を1つ又は2つ以上の接触ボール3220に順次接触させて製品ダイ3111を全
体としてテストすることが可能である。更に別の実施形態では、接触ボール3618
,3620を取り混ぜたものを有する複数のプローブカードを使用することが可能で
ある。
FIGS. 36-38 show that a single membrane probe card can be used to communicate with special contact pads 3116 and bonding pads 3114, but in an alternative embodiment. It is possible to probe special contact pads 3116 and bonding pads 3114 using separate membrane probe cards. That is, using one or more probe cards, first, only the special contact pads 3116 are brought into contact with one or more contact balls 3618 and one or more of the product dies 3111 It is possible to test product circuits. Subsequently, using one or more additional probe cards, the bonding pads 3114 can be sequentially contacted with one or more contact balls 3220 to test the product die 3111 as a whole. is there. In yet another embodiment, the contact ball 3618
, 3620 can be used.

【0116】 代替的な実施形態では、ボンディングパッド3114及び特殊な接触パッド3116を
異なる高さのものとすることが可能である。例えば、ボンディングパッド3114を
接触パッド3116よりも高く(又は低く)することが可能である。この実施形態の
場合、接触ボール3218,3220が互いに異なる高さを有することが可能である。す
なわち、接触ボール3220が接触ボール3218よりも低い位置まで延びて特殊な接触
パッド1516との接触を行うことが可能である。代替的に、バネ接触要素等の他の
プローブ要素を使用して、一層短い特殊な接触パッド3116のプロービングを行う
ことが可能である。
In an alternative embodiment, bonding pads 3114 and special contact pads 3116 can be of different heights. For example, the bonding pad 3114 can be higher (or lower) than the contact pad 3116. In this embodiment, the contact balls 3218, 3220 can have different heights from each other. That is, the contact ball 3220 can extend to a position lower than the contact ball 3218 to make contact with the special contact pad 1516. Alternatively, other probe elements, such as spring contact elements, can be used to probe shorter special contact pads 3116.

【0117】 図39は、テストヘッド3204及びコブラ型のプローブカードアセンブリ3913を
含む、テストアセンブリ3100の別の実施形態であるテストアセンブリ3900を示し
ている。該コブラ型のプローブカードアセンブリは、Wentworth Laboratories(
Brookfield CT.)から入手することが可能なものである。該プローブカードアセ
ンブリ3913は、相互接続基板3106、スペース変換器(ワイヤード又はセラミック
)3908、及びヘッドアセンブリ3907を含む。ヘッドアセンブリ3907は、上板3909
、スペーサ3910、下板3911、テストダイ3104、及びコブラ型プローブ3918,3920
を含む。製品ダイ3111に向かって付勢された際に、プローブ3918,3920は、それ
ぞれ、ボンディングパッド3114及び特殊な接触パッド3116との間での信号の送受
信を提供する。
FIG. 39 shows a test assembly 3900, another embodiment of a test assembly 3100, that includes a test head 3204 and a cobra-type probe card assembly 3913. The cobra probe card assembly is available from Wentworth Laboratories (
Brookfield CT.). The probe card assembly 3913 includes an interconnect substrate 3106, a space transformer (wired or ceramic) 3908, and a head assembly 3907. The head assembly 3907 has an upper plate 3909
, Spacer 3910, lower plate 3911, test die 3104, and cobra probe 3918, 3920
including. When activated toward product die 3111, probes 3918 and 3920 provide for the transmission and reception of signals to and from bonding pad 3114 and special contact pad 3116, respectively.

【0118】 テストダイ3104は、1つ又は2つ以上のプローブ3920に電気的に接続され、1
つ又は2つ以上のプローブ3918にも電気的に接続される。テストダイ3104は、図
39に示すように上側ダイ3909の下側に、下板3911の上側3902に、相互接続基板
3106上に、又はテストアセンブリ3900の他の任意のロケーションに配置すること
が可能である。
The test die 3104 is electrically connected to one or more probes 3920 and
One or more probes 3918 are also electrically connected. The test die 3104 is connected to the lower side of the upper die 3909 and the upper side 3902 of the lower plate 3911 as shown in FIG.
It can be located on 3106 or at any other location in test assembly 3900.

【0119】 プローブ3918は、典型的にはグリッドアレイ内に形成され、対応するグリッド
アレイパターンで配列されたボンディングパッド3914に接触する。プローブ3920
は、所定のグリッドアレイで整列させて、グリッドアレイパターンの外部に、又
は図40に示すようにグリッドアレイパターン内に分散させて、特殊な接触パッ
ド1816に接続させることが可能である。代替的には、図41に示すように、プロ
ーブ3918を周辺パターンで配列して、それに対応する周辺パターンで製品ダイ31
11上に配列されたボンディングパッド3114に該プローブ3018が接触するようにす
ることが可能である。プローブ3920は、所定の周辺パターンで、周辺パターンの
外部に、又は図41に示すように周辺パターン内に整列させて、特殊な接触パッ
ド3116をプロービングさせることが可能である。更に別の実施形態では、プロー
ブ3918は、リードオンセンター配列で配列して製品ダイ3111上のリードオンセン
ターボンディングパッドと整列させることが可能であり、またプローブ3920は、
リードオンセンター配列の内部または外部に整列させて、対応する特殊な接触パ
ッドと整列するようにすることが可能である。更に別の実施形態では、ボンディ
ングパッド3114及び特殊な接触パッド3116は、他の任意のアライメントで配列す
ることが可能である。
Probes 3918 are typically formed in a grid array and contact bonding pads 3914 arranged in a corresponding grid array pattern. Probe 3920
Can be connected to special contact pads 1816, aligned in a predetermined grid array and distributed outside the grid array pattern or dispersed within the grid array pattern as shown in FIG. Alternatively, as shown in FIG. 41, the probes 3918 are arranged in a peripheral pattern, and the product die 31 is arranged in a corresponding peripheral pattern.
The probe 3018 can be brought into contact with the bonding pads 3114 arranged on 11. The probe 3920 can be probed with a specific peripheral pattern, external to the peripheral pattern, or aligned within the peripheral pattern as shown in FIG. In yet another embodiment, the probes 3918 can be arranged in a lead-on-center arrangement to align with the lead-on-center bonding pads on the product die 3111, and the probe 3920 is
It can be aligned inside or outside the lead-on-center arrangement to align with the corresponding special contact pads. In yet another embodiment, the bonding pads 3114 and special contact pads 3116 can be arranged in any other alignment.

【0120】 図39ないし図41は、単一のプローブカードアセンブリを使用して特殊な接
触パッド3116及びボンディングパッド3114と通信を行うことが可能であることを
示しているが、代替的な実施形態では、別個のプローブカードを使用して特殊な
接触パッド3116及びボンディングパッド3114をプロービングすることが可能であ
る。すなわち、1つ又は2つ以上のプローブカードを使用して、最初に特殊な接
触パッド3116のみを1つ又は2つ以上のプローブ3920と接触させて製品ダイ3111
の関連する製品回路をテストすることが可能である。続いて、1つ又は2つ以上
の追加のプローブカードを使用して、ボンディングパッド3114を1つ又は2つ以
上のプローブ3018に順次接触させて製品ダイ3111を全体としてテストすることが
可能である。更に別の実施形態では、プローブ3918,3920を取り混ぜたものを有
する複数のプローブカードアセンブリを使用することが可能である。
Although FIGS. 39-41 show that a single probe card assembly can be used to communicate with special contact pads 3116 and bonding pads 3114, an alternative embodiment is shown. It is possible to probe special contact pads 3116 and bonding pads 3114 using separate probe cards. That is, using one or more probe cards, first, only the special contact pads 3116 are brought into contact with one or more probes 3920 to make the product die 3111.
It is possible to test related product circuits. Subsequently, the product die 3111 can be tested as a whole by using one or more additional probe cards to sequentially contact the bonding pads 3114 with one or more probes 3018. . In yet another embodiment, multiple probe card assemblies having a mix of probes 3918, 3920 can be used.

【0121】 代替的な実施形態では、ボンディングパッド3114及び特殊な接触パッド3116を
互いに異なる高さのものとすることが可能である。例えば、ボンディングパッド
3114を接触パッド3116よりも高く(又は低く)することが可能である。この実施
形態の場合、プローブ3918,3920が互いに異なる奥行きに延びる(又は異なる高
さを有する)ことが可能である。すなわち、プローブ3920がプローブ3918よりも
低い位置まで延びて特殊な接触パッド3116との接触を行うことが可能である。
In an alternative embodiment, the bonding pad 3114 and the special contact pad 3116 can be of different heights. For example, bonding pads
It is possible for 3114 to be higher (or lower) than contact pad 3116. In this embodiment, the probes 3918, 3920 can extend to different depths (or have different heights). That is, probe 3920 can extend to a position lower than probe 3918 to make contact with special contact pad 3116.

【0122】 図42は、テストヘッド3204及びプローブカードアセンブリ4213(例えばForm
Factor, Inc.(Livermore, CA)により提供されるもの)を含む、テストアセン
ブリ3100の別の実施形態であるテストアセンブリ4200を示している。プローブカ
ードアセンブリ4213の一実施形態がPCT国際出願第WO96/38858号に開示されてい
る。プローブカードアセンブリ4213は、プローブカード4204、介在手段(interpo
ser)4206、スペース変換器4210、及びバネ接触要素4218,4220を含む。製品ダイ3
111に向かって付勢された際に、バネ接触要素4218,4220は、それぞれ、ボンディ
ングパッド3114及び特殊な接触パッド3116との間での信号の送受信を提供する。
FIG. 42 shows a test head 3204 and a probe card assembly 4213 (eg, Form
FIG. 18 illustrates another embodiment of a test assembly 3100, test assembly 4200, including Factor, Inc. (provided by Livermore, CA). One embodiment of a probe card assembly 4213 is disclosed in PCT International Application No. WO 96/38858. The probe card assembly 4213 includes the probe card 4204, an interposer (interpo
ser) 4206, a space transformer 4210, and spring contact elements 4218, 4220. Product die 3
When biased toward 111, the spring contact elements 4218, 4220 provide for sending and receiving signals to and from the bonding pad 3114 and the special contact pad 3116, respectively.

【0123】 テストダイ3104は、1つ又は2つ以上のプローブ4220に電気的に接続され、ま
た1つ又は2つ以上のプローブ4218に電気的に接続される。相互接続は、プロー
ブカード4204、介在手段4206、又はスペース変換器4210により行われる。テスト
ダイ3104は、図42に示すように介在手段4206の下側に配置することが可能であ
り、またスペース変換器4210上、プローブカード4204上、又はテストアセンブリ
4200の他の任意のロケーションに配置することが可能である。
The test die 3104 is electrically connected to one or more probes 4220 and is electrically connected to one or more probes 4218. Interconnection is provided by probe card 4204, intervening means 4206, or space converter 4210. The test die 3104 can be located below the intervening means 4206, as shown in FIG.
It can be located at any other location of the 4200.

【0124】 バネ接触要素4218は、対応するボンディングパッド3114との間での信号の送受
信を提供するよう所定の配置で提供される。一実施形態では、プローブ4218は、
グリッドアレイパターンで配置される。バネ接触要素4220は、所定のグリッドア
レイと整列させて、該グリッドアレイパターンの外側に、又はグリッドアレイパ
ターン内に分散させて、対応する特殊な接触パッド3116と整列させることが可能
である。別の実施形態では、バネ接触要素4218は周辺パターンで配列することが
可能である。バネ接触要素4220は、所定の周辺パターンにより包囲される領域内
に、周辺パターンの外側に、又は周辺パターンで分散させて配列して、対応する
特殊な接触パッド3116と整列させることが可能である。更に別の実施形態では、
バネ接触要素4218をリードオンセンター配列で配列し、バネ接触要素4220をリー
ドオンセンター配列の内部又は外部に配列して対応する特殊な接触パッドと整列
させることが可能である。更に別の実施形態では、ボンディングパッド3114及び
特殊な接触パッド3116を他の任意のアライメントで配列することが可能である。
The spring contact elements 4218 are provided in a predetermined arrangement to provide for sending and receiving signals to and from the corresponding bonding pads 3114. In one embodiment, probe 4218 is
They are arranged in a grid array pattern. The spring contact elements 4220 can be aligned with a predetermined grid array, distributed outside the grid array pattern, or dispersed within the grid array pattern to align with the corresponding special contact pads 3116. In another embodiment, the spring contact elements 4218 can be arranged in a peripheral pattern. The spring contact elements 4220 can be arranged in an area surrounded by a predetermined peripheral pattern, outside of the peripheral pattern, or distributed in the peripheral pattern to align with the corresponding special contact pad 3116. . In yet another embodiment,
The spring contact elements 4218 can be arranged in a lead-on-center arrangement, and the spring contact elements 4220 can be arranged inside or outside the lead-on-center arrangement to align with corresponding special contact pads. In still other embodiments, the bonding pads 3114 and special contact pads 3116 can be arranged in any other alignment.

【0125】 図42は、単一のプローブカードアセンブリを使用して特殊な接触パッド3116
及びボンディングパッド3114と通信を行うことが可能であることを示しているが
、代替的な実施形態では、別個のプローブカードアセンブリ(又はプローブカー
ド)を使用して特殊な接触パッド3116及びボンディングパッド3114をプロービン
グすることが可能である。すなわち、1つ又は2つ以上のプローブカードアセン
ブリを使用して、最初に特殊な接触パッド3116のみを1つ又は2つ以上のバネ接
触要素4220と接触させて製品ダイ3111の1つ又は2つ以上の製品回路をテストす
ることが可能である。続いて、1つ又は2つ以上の追加のプローブカードアセン
ブリを使用して、ボンディングパッド3114を1つ又は2つ以上のバネ接触要素42
18に接触させて製品ダイ3111を全体としてテストすることが可能である。更に別
の実施形態では、バネ接触要素4218,4220を取り混ぜたものを有する複数のプロ
ーブカードアセンブリを使用することが可能である。
FIG. 42 illustrates a special contact pad 3116 using a single probe card assembly.
And it is possible to communicate with bonding pads 3114, but in an alternative embodiment, a separate probe card assembly (or probe card) may be used to provide special contact pads 3116 and bonding pads 3114. Can be probed. That is, using one or more probe card assemblies, first contacting only the special contact pads 3116 with one or more spring contact elements 4220 to one or two of the product dies 3111 It is possible to test the above product circuit. Subsequently, using one or more additional probe card assemblies, bonding pads 3114 may be connected to one or more spring contact elements 42.
It is possible to test product die 3111 as a whole by contacting 18. In yet another embodiment, multiple probe card assemblies having a mix of spring contact elements 4218, 4220 can be used.

【0126】 代替的な実施形態では、ボンディングパッド3114及び特殊な接触パッド3116を
互いに異なる高さのものとすることが可能である。例えば、ボンディングパッド
3114を特殊な接触パッド3116よりも高く(又は低く)することが可能である。こ
の実施形態の場合、プローブ4218,4220が互いに異なる奥行きに延びる(又は異
なる高さを有する)ことが可能である。すなわち、プローブ4220がプローブ4218
よりも低い位置まで延びて特殊な接触パッド3116との接触を行うことが可能であ
る。
In an alternative embodiment, the bonding pad 3114 and the special contact pad 3116 can be of different heights. For example, bonding pads
It is possible for 3114 to be higher (or lower) than special contact pads 3116. In this embodiment, the probes 4218, 4220 can extend to different depths (or have different heights). That is, probe 4220 is replaced by probe 4218
It is possible to extend to a lower position to make contact with a special contact pad 3116.

【0127】 代替的な実施形態では、バネ接触要素4218,4220を製品ダイ3111上のボンディ
ングパッド3114及び特殊な接触パッド3116に取り付けることが可能である。この
実施形態では、バネ接触要素4218,4220との接触を行うためのパッドをスペース
変換器4210が含むことが可能である。更に別の実施形態では、バネ接触要素4218
又は4220の幾つかをスペース変換器4210に取り付け、バネ接触要素4218又は4220
の別の幾つかを製品ダイ3111に取り付けることが可能である。
In an alternative embodiment, spring contact elements 4218, 4220 can be attached to bonding pads 3114 and special contact pads 3116 on product die 3111. In this embodiment, the space transformer 4210 can include pads for making contact with the spring contact elements 4218, 4220. In yet another embodiment, the spring contact element 4218
Or, attach some of the 4220 to the space transformer 4210 and use the spring contact element 4218 or 4220
Can be attached to the product die 3111.

【0128】 上述の設計方法論により生成された製品ダイはまた、ソケットに挿入して、テ
ストダイによりテストすることが可能である。製品ダイは、半導体集積回路のた
めの任意の既知のパッケージへとパッケージ化することが可能であり、またパッ
ケージ化しなくてもよい(例えばチップスケール構成(chip-scale configuration
))。任意の一般的な既知のソケットを使用して製品ダイを支持することが可能
である。テストダイは、プリント回路基板に取り付けることが可能であり、また
(例えばバネ接触要素等を介して)製品ダイに直接接触させることも可能であり
、又は接触子やエッジコネクタ等を介して製品ダイに間接的に接触させることも
可能である。
A product die generated by the above-described design methodology can also be inserted into a socket and tested by a test die. The product die can be packaged into any known package for semiconductor integrated circuits and may not be packaged (e.g., chip-scale configuration
)). Any common known socket can be used to support the product die. The test die can be attached to a printed circuit board, can be in direct contact with the product die (eg, via a spring contact element, etc.), or can be attached to the product die via contacts, edge connectors, etc. Indirect contact is also possible.

【0129】 図46は、プリント回路基板(PCB)4610へ取り付けるための、及びLGAパッケ
ージ4604のボンディングパッド4612及び特殊な接触パッド4614との圧接を行うた
めの、はんだ付けされた(solder-down)(表面実装)LGAソケット4600をの一実
施形態を示している。LGAパッケージ4604は、上述の設計方法論に従って設計さ
れた製品ダイを含むことが可能である。本書で用いるように、用語「ソケット」
は、別の電気的な構成要素の端子又は接続ポイントとの電気的な接続を行うのに
適した相互接続要素を有する電気的な構成要素を意味している。図46に示すソ
ケットは、半導体パッケージを着脱自在に回路基板へ接続することを可能にする
ことを意図したものである。ソケット4600の別の実施形態については、本出願人
の米国特許第7,772,451号に開示されている。
FIG. 46 is solder-down for mounting to a printed circuit board (PCB) 4610 and for making pressure contact with the bonding pads 4612 and special contact pads 4614 of the LGA package 4604. (Surface mounting) One embodiment of an LGA socket 4600 is shown. The LGA package 4604 can include a product die designed according to the design methodology described above. As used in this document, the term "socket"
Means an electrical component having an interconnecting element suitable for making an electrical connection with a terminal or connection point of another electrical component. The socket shown in FIG. 46 is intended to enable a semiconductor package to be detachably connected to a circuit board. Another embodiment of the socket 4600 is disclosed in applicant's U.S. Patent No. 7,772,451.

【0130】 PCB4610は複数の端子又はパッド4618を有しており、パッケージ4604は複数の
ボンディングパッド4612及び特殊な接触パッド4614を有している。ソケット4600
は、端子4618をパッド4612,4614へ電気的に相互接続するための手段を提供する
。PCB4610上に設けられたテスト回路又はPCB4610と通信可能な状態にあるテスト
回路は、ソケット4600を介してパッド4612,4614へ信号を提供し又は該パッド461
2,4614からの信号を監視することが可能である。例えば、パッケージ4604内のプ
ログラマブル回路を、バネ接触要素4616、特殊な接触パッド4614、及び/又はパ
ッド4612を介してプログラミングし又は監視することが可能である。
The PCB 4610 has a plurality of terminals or pads 4618, and the package 4604 has a plurality of bonding pads 4612 and special contact pads 4614. Socket 4600
Provides a means for electrically interconnecting terminals 4618 to pads 4612, 4614. A test circuit provided on the PCB 4610 or a test circuit in communication with the PCB 4610 provides a signal to the pads 4612, 4614 through the socket 4600, or
It is possible to monitor the signal from 2,4614. For example, the programmable circuits in package 4604 can be programmed or monitored via spring contact elements 4616, special contact pads 4614, and / or pads 4612.

【0131】 ソケット4600は、例えば従来のPCB材料から形成されたサポート基板4608を含
む。サポート基板4608は、その上面に形成されたバネ接触要素4616及びその底面
に形成されたパッド4622を含む。バネ接触要素4616は、保持手段4602によりパッ
ケージ4604の上側に加えられた力により下方へ付勢された際にパッケージ4604が
パッケージ4604のパッド4612,4614と接触するためのものである。バネ接触要素
の他に他の接触要素を使用することも可能である。サポート基板4608はまた、バ
ネ接触要素4616とパッド4622との間に電気的な相互接続を提供する導電手段4624
を含む。代替的な実施形態では、バネ接触要素4616を端子4618へ直接接続するこ
とが可能である。
The socket 4600 includes a support substrate 4608 formed from, for example, a conventional PCB material. The support substrate 4608 includes a spring contact element 4616 formed on its top surface and a pad 4622 formed on its bottom surface. The spring contact element 4616 is for the package 4604 to come into contact with the pads 4612 and 4614 of the package 4604 when urged downward by the force applied to the upper side of the package 4604 by the holding means 4602. It is also possible to use other contact elements besides the spring contact elements. The support substrate 4608 also includes conductive means 4624 for providing electrical interconnection between the spring contact elements 4616 and the pads 4622.
including. In an alternative embodiment, the spring contact element 4616 can be connected directly to the terminal 4618.

【0132】 接触ボール(従来のはんだボール等)がパッド4622の底面に配置される。該接
触ボール4622は、PCB4610上の対応するパッド又は端子4618と接触するようサポ
ート基板4608の底面に配置された接触構造として機能する。他の電気的な接触構
造を使用することも可能である。
A contact ball (such as a conventional solder ball) is located on the bottom surface of pad 4622. The contact balls 4622 function as contact structures disposed on the bottom surface of the support substrate 4608 to contact corresponding pads or terminals 4618 on the PCB 4610. Other electrical contact structures can be used.

【0133】 ソケット4600はまた、PCB4602に取り付けられたフレーム4606を含む。該フレ
ーム4606は、パッケージ4604をサポートするためのランド4626を含む。ソケット
4600はまた、フレーム4626及びパッケージ4604上に配置された保持手段4602を含
む。該保持手段4602は、ランド4626上にパッケージ4604を保持して、バネ接触要
素4616がパッド4612,4614と電気的に接触した状態を維持するようにする。例え
ばバネクリップといった他の任意の適当な機械的手段を保持手段4602に用いるこ
とが可能である。
The socket 4600 also includes a frame 4606 attached to the PCB 4602. The frame 4606 includes lands 4626 to support the package 4604. socket
4600 also includes holding means 4602 disposed on frame 4626 and package 4604. The retaining means 4602 retains the package 4604 on the land 4626 so that the spring contact element 4616 remains in electrical contact with the pads 4612, 4614. Any other suitable mechanical means, such as a spring clip, can be used for the retaining means 4602.

【0134】 図47は、テストダイ4630がPCB4610上に配置されているソケット4600の別の
実施形態を示している。テストダイ4630は、上述の設計方法論に従って設計する
ことが可能である。端子又はパッド4618をテストダイ4630上に形成して接触ボー
ル4620との電気的なインタフェイスを行うことが可能である。別の実施形態では
、バネ接触要素4616を端子4618に直接接続することが可能である。
FIG. 47 shows another embodiment of a socket 4600 in which a test die 4630 is located on a PCB 4610. The test die 4630 can be designed according to the design methodology described above. Terminals or pads 4618 can be formed on test die 4630 to provide an electrical interface with contact balls 4620. In another embodiment, the spring contact element 4616 can be connected directly to the terminal 4618.

【0135】 更に、及び/又は代替的に、1つ又は2つ以上のバネ接触要素4616をパッド46
12,4614に取り付けることが可能である。この実施形態では、バネ接触要素は、
サポート基板4608の上側4632上のパッド又は端子と接触することが可能であり、
又はバネ接触要素は端子4618と直接接触することが可能である。。
Additionally and / or alternatively, one or more spring contact elements 4616 may be attached to pads 46
It can be attached to 12,4614. In this embodiment, the spring contact element is
Capable of contacting pads or terminals on the upper side 4632 of the support substrate 4608,
Alternatively, the spring contact element can be in direct contact with terminal 4618. .

【0136】 上記説明では、その特定の例示としての実施形態に関して本発明を説明してき
たが、本発明の広範な思想及び範囲から逸脱することなくそれら実施形態に様々
な修正及び変更を加えることが可能であることは明らかである。したがって、本
明細書及び図面は本発明を例証するものであって本発明を制限するものではない
とみなされるべきである。
Although the above description has described the invention with reference to specific exemplary embodiments thereof, various modifications and changes can be made to those embodiments without departing from the broader spirit and scope of the invention. Clearly, it is possible. Therefore, the specification and drawings are to be regarded as illustrative of the invention and not as limiting.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明の一実施形態による製品及びテストダイを設計するための設計方法論で
ある。
FIG. 1 is a design methodology for designing products and test dies according to one embodiment of the present invention.

【図2】 本発明の一実施形態による統合化された製品及びテスト回路設計のブロック図
である。
FIG. 2 is a block diagram of an integrated product and test circuit design according to one embodiment of the present invention.

【図3】 図2の統合化された設計の分割後に生成される製品ダイのブロック図である。FIG. 3 is a block diagram of a product die that is created after partitioning of the integrated design of FIG.

【図4】 図2の統合化された設計の分割後に生成されたテストダイのブロック図である
FIG. 4 is a block diagram of a test die generated after partitioning of the integrated design of FIG.

【図5】 テストダイにおけるテスト回路の一実施形態のブロック図である。FIG. 5 is a block diagram of one embodiment of a test circuit in a test die.

【図6】 本発明の別の実施形態による製品及びテスト回路の設計のための設計方法論で
ある。
FIG. 6 is a design methodology for product and test circuit design according to another embodiment of the present invention.

【図7】 製品及びテスト回路の分割を決定するプロセスの一実施形態である。FIG. 7 is one embodiment of a process for determining the partitioning of product and test circuits.

【図8】 本発明の更に別の実施形態による製品及びテスト回路の設計のための設計方法
論である。
FIG. 8 is a design methodology for product and test circuit design according to yet another embodiment of the present invention.

【図9】 図1及び図6ないし図8のプロセスを実施することが可能なコンピュータシス
テムの一実施形態のブロック図である。
FIG. 9 is a block diagram of one embodiment of a computer system capable of implementing the processes of FIGS. 1 and 6-8.

【図10】 双方向バッファを介して内部回路ノードへ結合された特殊な接触パッドの一実
施形態の論理図である。
FIG. 10 is a logic diagram of one embodiment of a special contact pad coupled to an internal circuit node via a bidirectional buffer.

【図11】 グリッドパターンに整列されたボンディングパッド、グリッドパターンに整列
されない特殊な接触パッド、及びグリッドパターンに整列された特殊な接触パッ
ドを有する集積回路の一実施形態の平面図である。
FIG. 11 is a plan view of one embodiment of an integrated circuit having bonding pads aligned with a grid pattern, special contact pads not aligned with the grid pattern, and special contact pads aligned with the grid pattern.

【図12】 接触ボールを有する2つのボンディングパッド間に配置された特殊な接触パッ
ドを側方から見た断面図である。
FIG. 12 is a side sectional view of a special contact pad disposed between two bonding pads having contact balls.

【図13】 リードオンセンターボンディングパッド、内部回路、及び該内部回路をテスト
するための特殊な接触パッドを有する集積回路の一実施形態の平面図である。
FIG. 13 is a plan view of one embodiment of an integrated circuit having lead-on-center bonding pads, internal circuitry, and special contact pads for testing the internal circuitry.

【図14】 シーケンシャル回路及び該シーケンシャル回路のテストのための特殊な接触パ
ッドの一実施形態のブロック図である。
FIG. 14 is a block diagram of one embodiment of a sequential circuit and a special contact pad for testing the sequential circuit.

【図15】 図16のスイッチの一実施形態の回路図である。FIG. 15 is a circuit diagram of one embodiment of the switch of FIG.

【図16】 欠陥のある回路ブロックを隔離して冗長回路ブロックをイネーブルにするため
に特殊な接触パッドを使用する一実施形態のブロック図である。
FIG. 16 is a block diagram of one embodiment that uses special contact pads to isolate defective circuit blocks and enable redundant circuit blocks.

【図17】 欠陥のある回路ブロックを隔離して冗長回路ブロックをイネーブルにするため
に特殊な接触パッドを使用する別の一実施形態のブロック図である。
FIG. 17 is a block diagram of another embodiment that uses special contact pads to isolate defective circuit blocks and enable redundant circuit blocks.

【図18】 被験回路をイネーブルにし又は刺激を与えるために特殊な接触パッドを使用す
る一実施形態のブロック図である。
FIG. 18 is a block diagram of one embodiment that uses special contact pads to enable or provide stimulation to a circuit under test.

【図19】 走査回路に制御信号を提供するために特殊な接触パッドを使用する一実施形態
のブロック図である。
FIG. 19 is a block diagram of one embodiment that uses special contact pads to provide control signals to a scanning circuit.

【図20】 製品ダイをテストするためのテストアセンブリを側方から見た断面図である。FIG. 20 is a side sectional view of a test assembly for testing a product die.

【図21】 被験ウェハ上の多数の製品ダイをテストするためのテストアセンブリを側方か
ら見た断面図である。
FIG. 21 is a side cross-sectional view of a test assembly for testing multiple product dies on a test wafer.

【図22】 製品ダイに取り付けられたバネ接触要素を含むテストアセンブリを側方から見
た断面図である。
FIG. 22 is a side cross-sectional view of a test assembly including a spring contact element attached to a product die.

【図23】 バネ接触要素、ボンディングパッド、及び特殊な接触パッドが異なる高さを有
するテストアセンブリの別の実施形態である。
FIG. 23 is another embodiment of a test assembly in which the spring contact elements, bonding pads, and special contact pads have different heights.

【図24】 バネ接触要素の一実施形態を側方から見た断面図である。FIG. 24 is a side cross-sectional view of one embodiment of a spring contact element.

【図25】 図24のバネ接触要素の接触先端構造及びピラミッド型接触形状の一実施形態
の斜視図である。
FIG. 25 is a perspective view of one embodiment of a contact tip structure and a pyramidal contact shape of the spring contact element of FIG. 24.

【図26】 図25のピラミッド型の接触先端構造の一実施形態の斜視図である。FIG. 26 is a perspective view of one embodiment of the pyramid-shaped contact tip structure of FIG. 25.

【図27】 1つの製品ダイをテストするための多数のテストダイを含むテストアセンブリ
の一実施形態を側方から見た断面図である。
FIG. 27 is a side cross-sectional view of one embodiment of a test assembly including multiple test dies for testing one product die.

【図28】 多数の製品ダイをテストするための1つのテストダイを含むテストアセンブリ
の一実施形態を側方から見た断面図である。
FIG. 28 is a side cross-sectional view of one embodiment of a test assembly including a single test die for testing multiple product dies.

【図29】 他のテストダイにより共有される1つのテストダイを含むテストアセンブリの
一実施形態を側方から見た断面図である。
FIG. 29 is a side cross-sectional view of one embodiment of a test assembly including one test die shared by another test die.

【図30】 他のテストダイにより共有される1つのテストダイを含むテストアセンブリの
別の一実施形態を側方から見た断面図である。
FIG. 30 is a side cross-sectional view of another embodiment of a test assembly including one test die shared by another test die.

【図31】 テストダイ、接触器、及び製品ダイを含むテストアセンブリの一実施形態を側
方から見た断面図である。
FIG. 31 is a side cross-sectional view of one embodiment of a test assembly including a test die, a contactor, and a product die.

【図32】 テストダイ、及び製品ダイの特殊な接触パッドをプロービングするための片持
型プローブを有するプローブカードを有する、テストアセンブリの一実施形態を
側方から見た断面図である。
FIG. 32 is a side cross-sectional view of one embodiment of a test assembly having a test die and a probe card having cantilevered probes for probing special contact pads of a product die.

【図33】 図32のプローブカードの平面図である。FIG. 33 is a plan view of the probe card of FIG. 32.

【図34】 テストダイ、及び製品ダイのボンディングパッド及び特殊な接触パッドをプロ
ービングするための片持型プローブを有するプローブカードを有する、テストア
センブリの別の一実施形態を側方から見た断面図である。
FIG. 34 is a side cross-sectional view of another embodiment of a test assembly having a test die and a probe card having a cantilevered probe for probing bonding and special contact pads of a product die. is there.

【図35】 図34のプローブカードの平面図である。FIG. 35 is a plan view of the probe card of FIG. 34.

【図36】 製品ダイのボンディングパッド及び特殊な接触パッドをプロービングするため
の接点を有するメンブレンプローブカードを有するテストアセンブリの別の一実
施形態を側方から見た断面図である。
FIG. 36 is a cross-sectional side view of another embodiment of a test assembly having a membrane probe card having contacts for probing bonding pads and special contact pads of a product die.

【図37】 グリッドパターンに整列された接触ボール及びグリッドパターンに整列されな
い接触ボールを有する図36のメンブレンプローブカードの平面図である。
FIG. 37 is a plan view of the membrane probe card of FIG. 36 with contact balls aligned with the grid pattern and contact balls not aligned with the grid pattern.

【図38】 周辺パターンに整列された接触ボール及び周辺パターンに整列されない接触ボ
ールを有する図36のメンブレンプローブカードの平面図である。
FIG. 38 is a plan view of the membrane probe card of FIG. 36 having contact balls aligned with the peripheral pattern and contact balls not aligned with the peripheral pattern.

【図39】 製品ダイのボンディングパッド及び特殊な接触パッドをプロービングするため
のプローブを有するコブラ型プローブカードアセンブリを有するテストアセンブ
リの別の一実施形態を側方から見た断面図である。
FIG. 39 is a side cross-sectional view of another embodiment of a test assembly having a cobra-type probe card assembly having probes for probing bonding pads and special contact pads of a product die.

【図40】 グリッドパターンに整列された複数の先端とグリッドパターンに整列されない
他の先端とを有する図39のコブラ型プローブの先端の平面図である。
FIG. 40 is a plan view of the tip of the cobra probe of FIG. 39 having a plurality of tips aligned with the grid pattern and another tip not aligned with the grid pattern.

【図41】 周辺パターンに整列された複数の先端と周辺パターンに整列されない他の先端
とを有する図39のコブラ型プローブの先端の平面図である。
41 is a plan view of the tip of the cobra probe of FIG. 39 having a plurality of tips aligned with the peripheral pattern and other tips not aligned with the peripheral pattern.

【図42】 製品ダイのボンディングパッド及び特殊な接触パッドをプロービングするため
のバネ接触要素を有するプローブカードアセンブリの別の一実施形態を側方から
見た断面図である。
FIG. 42 is a side cross-sectional view of another embodiment of a probe card assembly having a spring contact element for probing bonding pads and special contact pads of a product die.

【図43A】 バネ接触要素の別の一実施形態を側方から見た断面図である。FIG. 43A is a side cross-sectional view of another embodiment of a spring contact element.

【図43B】 図43Aのバネ接触要素の斜視図である。FIG. 43B is a perspective view of the spring contact element of FIG. 43A.

【図44A】 バネ接触要素の別の一実施形態の斜視図である。FIG. 44A is a perspective view of another embodiment of a spring contact element.

【図44B】 図44Aのバネ接触要素を側方から見た断面図である。FIG. 44B is a side sectional view of the spring contact element of FIG. 44A.

【図45】 バネ接触要素のための先端構造の別の一実施形態の斜視図である。FIG. 45 is a perspective view of another embodiment of a tip structure for a spring contact element.

【図46】 特殊な接点及び従来の入力、出力、及び入出力ピンを有するパッケージを保持
するためのソケットの一実施形態を側方から見た断面図である。、
FIG. 46 is a side cross-sectional view of one embodiment of a socket for holding a package having special contacts and conventional input, output, and input / output pins. ,

【図47】 プリント回路基板上にテストダイを含むソケットの別の一実施形態を側方から
見た断面図である。
FIG. 47 is a side sectional view of another embodiment of a socket including a test die on a printed circuit board.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H01L 21/66 G01R 31/28 Q 21/822 H01L 27/04 T 27/04 E K V G (81)指定国 EP(AT,BE,CH,CY, DE,DK,ES,FI,FR,GB,GR,IE,I T,LU,MC,NL,PT,SE),JP,KR (72)発明者 ペダーセン,デイビッド,ブイ アメリカ合衆国カリフォルニア州95066, スコッツバレー,スターリング・レーン・ 6 (72)発明者 ウィッテン,ラルフ,ジー アメリカ合衆国カリフォルニア州95132, サンノゼ,シエラ・ロード・5220 Fターム(参考) 2G011 AA02 AA15 AB01 AB06 AB07 AC14 AE03 AF07 2G132 AA00 AB01 AC11 AC12 AC14 AG02 AK11 AK29 AL00 AL11 4M106 AA02 AA08 AC02 AC13 BA01 DJ11 DJ15 DJ18 DJ20 DJ21 DJ23 5F038 AV06 AV13 AV15 BE10 DF05 DF11 DT04 DT07 DT08 DT15 EZ09 EZ20 【要約の続き】 イズを縮小し、及び製品ダイの製造コストを低減させる と共に製品ダイ内の製品回路の高度のテスト範囲を維持 する傾向のものとなる。次いでテストダイを使用して1 つ又は2つ以上のウェハ上の多数の製品ダイをテストす ることが可能となる。──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) H01L 21/66 G01R 31/28 Q 21/822 H01L 27/04 T 27/04 EKVG (81) Designated country EP (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE), JP, KR (72) Inventor Pedersen, David, Buoy 95066, California, United States, Sterling Lane, Scotts Valley 6 (72) Inventor Witten, Ralph, G 95132, California, United States, San Jose, Sierra Road, 5220 F-term (reference) 2G011 AA02 AA15 AB01 AB06 AB07 AC14 AE03 AF07 2G132 AA00 AB01 AC11 AC12 AC14 AG02 AK11 AK29 AL00 AL11 4 M106 AA02 AA08 AC02 AC13 BA01 DJ11 DJ15 DJ18 DJ20 DJ21 DJ23 5F038 AV06 AV13 AV15 BE10 DF05 DF11 DT04 DT07 DT08 DT15 EZ09 EZ20 [Continued Summary] Reduce the size of the product and the manufacturing cost of the product die, as well as the products in the product die. It tends to maintain a high test range of the circuit. The test die can then be used to test multiple product dies on one or more wafers.

Claims (54)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 製品ダイの製品回路をテストするためのテストアセンブリであって、 製品ダイの製品回路をテストするためのテスト回路を有するテストダイであっ
て、該テスト回路が、(i)テスト回路及び製品回路を同時に設計して1つの統合
化された設計を生成し、(ii)テスト回路を製品回路から分割し、(iii)テスト回
路をテストダイに作製することにより生成される、テストダイと、 該テストダイを製品ダイへ電気的に結合するための相互接続手段と、 前記テストダイと通信を行うホストコントローラに該テストダイを電気的に結
合する相互接続手段と を備えている、テストアセンブリ。
1. A test assembly for testing a product circuit of a product die, the test die having a test circuit for testing a product circuit of the product die, the test circuit comprising: (i) a test circuit; And a test die generated by simultaneously designing the product circuit to generate one integrated design, (ii) dividing the test circuit from the product circuit, and (iii) fabricating the test circuit on the test die. A test assembly, comprising: interconnecting means for electrically coupling the test die to a product die; and interconnecting means for electrically coupling the test die to a host controller in communication with the test die.
【請求項2】 前記テストダイが、前記テスト回路に結合された複数のパッドを更に備えてい
る、請求項1に記載のテストアセンブリ。
2. The test assembly according to claim 1, wherein said test die further comprises a plurality of pads coupled to said test circuit.
【請求項3】 前記複数のパッドが、 ボンディングパッドと、 バネ接触要素を受容するための特殊な接触パッドと を備えている、請求項2に記載のテストアセンブリ。3. The test assembly according to claim 2, wherein said plurality of pads comprises: a bonding pad; and a special contact pad for receiving a spring contact element. 【請求項4】 前記ボンディングパッド及び特殊な接触パッドが互いに異なる高さを有する、
請求項3に記載のテストアセンブリ。
4. The bonding pad and the special contact pad have different heights from each other,
The test assembly according to claim 3.
【請求項5】 前記テスト回路を前記製品回路に電気的に結合する複数の接触要素を更に備え
ている、請求項1に記載のテストアセンブリ。
5. The test assembly according to claim 1, further comprising a plurality of contact elements for electrically coupling the test circuit to the product circuit.
【請求項6】 前記複数の接触要素が互いに異なる高さを有する、請求項5に記載のテストア
センブリ。
6. The test assembly according to claim 5, wherein the plurality of contact elements have different heights from each other.
【請求項7】 前記複数の接触要素がバネ接触要素からなる、請求項5に記載のテストアセン
ブリ。
7. The test assembly according to claim 5, wherein said plurality of contact elements comprise spring contact elements.
【請求項8】 前記複数の接触要素が接触ボールからなる、請求項5に記載のテストアセンブ
リ。
8. The test assembly according to claim 5, wherein said plurality of contact elements comprise contact balls.
【請求項9】 前記テスト回路が、前記製品回路のACパラメータをテストするよう構成されて
いる、請求項1に記載のテストアセンブリ。
9. The test assembly according to claim 1, wherein the test circuit is configured to test AC parameters of the product circuit.
【請求項10】 前記テスト回路が、前記製品回路のDCパラメータをテストするよう構成されて
いる、請求項1に記載のテストアセンブリ。
10. The test assembly according to claim 1, wherein the test circuit is configured to test DC parameters of the product circuit.
【請求項11】 前記テスト回路が、前記製品回路をプログラミングするよう構成されている、
請求項1に記載のテストアセンブリ。
11. The test circuit is configured to program the product circuit.
The test assembly according to claim 1.
【請求項12】 前記テストダイが半導体ウェハ上に形成される、請求項1に記載のテストアセ
ンブリ。
12. The test assembly according to claim 1, wherein said test die is formed on a semiconductor wafer.
【請求項13】 前記テスト回路が、2つ以上の製品ダイの製品回路をテストするよう構成され
ている、請求項1に記載のテストアセンブリ。
13. The test assembly according to claim 1, wherein the test circuit is configured to test product circuits of two or more product dies.
【請求項14】 前記相互接続手段に電気的に結合された第2のテストダイを更に備えている、
請求項1に記載のテストアセンブリ。
14. The apparatus of claim 14, further comprising a second test die electrically coupled to the interconnect means.
The test assembly according to claim 1.
【請求項15】 前記第2のテストダイが、前記製品ダイの製品回路をテストするためのテスト
回路を備えている、請求項14に記載のテストアセンブリ。
15. The test assembly according to claim 14, wherein said second test die comprises a test circuit for testing a product circuit of said product die.
【請求項16】 前記第2のテストダイが、もう1つの製品ダイの製品回路をテストするための
テスト回路を備えている、請求項15に記載のテストアセンブリ。
16. The test assembly according to claim 15, wherein the second test die comprises a test circuit for testing a product circuit of another product die.
【請求項17】 前記第1のテストダイ及び前記第2のテストダイに電気的に結合されてそれら
テストダイと通信を行う第3のテストダイを更に備えている、請求項14に記載
のテストアセンブリ。
17. The test assembly according to claim 14, further comprising a third test die electrically coupled to and communicating with the first test die and the second test die.
【請求項18】 前記第3のテストダイが、前記第1及び第2の製品ダイの製品回路をテストす
るために前記第1及び第2のテストダイにより共通に使用される機能を実行する
ための回路を備えている、前記請求項17に記載のテストアセンブリ。
18. A circuit for performing a function commonly used by the first and second test dies to test a product circuit of the first and second product dies. 18. The test assembly according to claim 17, comprising:
【請求項19】 製品ダイのためのテストダイを設計する方法であって、 製品回路と該製品回路をテストするためのテスト回路とを同時に設計して1つ
の統合化された設計を生成し、 該統合化された設計を前記テスト回路を含むテストダイと前記製品回路を含む
製品ダイとに分割する、 という各ステップを有する、設計方法。
19. A method for designing a test die for a product die, comprising: simultaneously designing a product circuit and a test circuit for testing the product circuit to generate one integrated design; Splitting the integrated design into a test die including the test circuit and a product die including the product circuit.
【請求項20】 前記テストダイと前記製品ダイとを別個に作製するステップを更に含む、請求
項19に記載の方法。
20. The method of claim 19, further comprising separately fabricating the test die and the product die.
【請求項21】 前記テスト回路と前記製品回路との間の相互接続の記述を生成するステップを
更に含む、請求項19に記載の方法。
21. The method of claim 19, further comprising generating a description of an interconnect between the test circuit and the product circuit.
【請求項22】 前記テストダイと通信を行うホストコントローラのテスト能力を判定するステ
ップを更に含む、請求項19に記載の方法。
22. The method of claim 19, further comprising determining a test capability of a host controller communicating with the test die.
【請求項23】 前記テスト回路により実行する第1のテストと前記ホストコントローラにより
実行する第2のテストとを選択するステップを更に含む、請求項22に記載の方
法。
23. The method of claim 22, further comprising selecting a first test to be performed by the test circuit and a second test to be performed by the host controller.
【請求項24】 分割されたテストダイ及び製品ダイが所定の制約を満たすか否かを判定し、 該所定の制約が満たされるまで前記分割ステップ及び判定ステップを繰り返す
、 という各ステップを更に含む、請求項19に記載の方法。
24. The method further comprising: determining whether the divided test die and product die satisfy a predetermined constraint, and repeating the dividing step and the determining step until the predetermined constraint is satisfied. Item 19. The method according to Item 19.
【請求項25】 前記所定の制約が、前記テストダイ及び前記製品ダイの各々の物理的なサイズ
を含む、請求項24に記載の方法。
25. The method of claim 24, wherein the predetermined constraint comprises a physical size of each of the test die and the product die.
【請求項26】 前記所定の制約が、前記テストダイ及び前記製品ダイの各々の製造コストを含
む、請求項24に記載の方法。
26. The method of claim 24, wherein the predetermined constraint includes a cost of manufacturing each of the test die and the product die.
【請求項27】 前記所定の制約が、前記製品回路のテストに関する選択された量の欠陥範囲を
含む、請求項24に記載の方法。
27. The method of claim 24, wherein the predetermined constraint comprises a selected amount of defect coverage for testing the production circuit.
【請求項28】 前記所定の制約が、前記テスト回路により監視される前記製品ダイ中の信号の
速度テスト精度を含む、請求項24に記載の方法。
28. The method of claim 24, wherein the predetermined constraint comprises a speed test accuracy of a signal in the product die monitored by the test circuit.
【請求項29】 前記所定の制約が、前記テスト回路及び前記製品ダイの各々の製造プロセス上
のパラメータを含む、請求項24に記載の方法。
29. The method of claim 24, wherein said predetermined constraints include parameters in a manufacturing process of each of said test circuit and said product die.
【請求項30】 前記所定の制約が、前記テスト回路により監視される前記製品ダイ中の信号の
ACタイミングパラメータを含む、請求項24に記載の方法。
30. The apparatus of claim 30, wherein the predetermined constraint is a signal of a signal in the product die monitored by the test circuit.
25. The method of claim 24, comprising an AC timing parameter.
【請求項31】 前記判定ステップが、前記テストダイ及び前記製品ダイの分割をシミュレート
することを更に含む、請求項24に記載の方法。
31. The method of claim 24, wherein the determining step further comprises simulating a split of the test die and the product die.
【請求項32】 前記テストダイ及び前記製品ダイ上に複数の相互接続ポイントを生成するステ
ップを更に含み、前記所定の制約が該相互接続ポイントの数を含む、請求項24
に記載の方法。
32. The method of claim 24, further comprising creating a plurality of interconnect points on the test die and the product die, wherein the predetermined constraint includes a number of the interconnect points.
The method described in.
【請求項33】 前記分割ステップが、前記テスト回路を、第1のテスト回路及び第2のテスト
回路へと更に分割する、請求項19に記載の方法。
33. The method of claim 19, wherein the dividing step further divides the test circuit into a first test circuit and a second test circuit.
【請求項34】 前記分割ステップが更に、前記第1のテスト回路を前記テストダイに配置し、
前記第2のテスト回路を前記製品ダイに配置する、請求項33に記載の方法。
34. The dividing step further comprises: placing the first test circuit on the test die.
34. The method of claim 33, wherein the second test circuit is located on the product die.
【請求項35】 前記第2のテスト回路がビルトインセルフテスト(BIST)回路からなる、請求
項34に記載の方法。
35. The method of claim 34, wherein said second test circuit comprises a built-in self test (BIST) circuit.
【請求項36】 前記第2のテスト回路がSCAN回路からなる、請求項34に記載の方法。36. The method of claim 34, wherein said second test circuit comprises a SCAN circuit. 【請求項37】 前記テスト回路が、製品回路を各々有する複数の製品ダイをテストすることが
可能なものである、請求項19に記載の方法。
37. The method of claim 19, wherein said test circuit is capable of testing a plurality of product dies each having a product circuit.
【請求項38】 前記テスト回路を調節するステップを更に含む、請求項19に記載の方法。38. The method of claim 19, further comprising adjusting the test circuit. 【請求項39】 前記調節ステップが、前記テスト回路に更なる回路を追加するステップを含む
、請求項38に記載の方法。
39. The method of claim 38, wherein said adjusting step includes adding additional circuitry to said test circuit.
【請求項40】 前記調節ステップが、前記テスト回路のうちの幾つかを除去するステップを含
む、請求項38に記載の方法。
40. The method of claim 38, wherein said adjusting comprises removing some of said test circuits.
【請求項41】 前記製品ダイにビルトインセルフテスト(BIST)回路を追加するステップを更
に含む、請求項19に記載の方法。
41. The method of claim 19, further comprising adding a built-in self test (BIST) circuit to the product die.
【請求項42】 複数のテスト回路及び製品回路を同時に設計して統合化された設計を生成し、
該テスト回路が該製品回路と通信を行うものであり、 前記統合化された設計を複数のテストダイ及び製品ダイへと分割し、該複数の
テストダイの各々が前記複数のテスト回路のうちの少なくとも1つを有している
、 という各ステップを更に含む、請求項19に記載の方法。
42. Designing a plurality of test circuits and product circuits simultaneously to produce an integrated design;
The test circuit is in communication with the product circuit; and dividing the integrated design into a plurality of test dies and a product die, each of the plurality of test dies being at least one of the plurality of test circuits. 20. The method of claim 19, further comprising the steps of:
【請求項43】 各テスト回路が一意の回路からなる、請求項42に記載の方法。43. The method of claim 42, wherein each test circuit comprises a unique circuit. 【請求項44】 前記テスト回路のうちの1つが、前記テスト回路の全てにより共通に使用され
る回路を含み、前記分割ステップが、該共通に使用される回路を他のテストダイ
と通信を行うテストダイ内へと更に分割するステップを含む、請求項42に記載
の方法。
44. A test die, wherein one of the test circuits includes a circuit commonly used by all of the test circuits, and wherein the dividing step communicates the commonly used circuit with another test die. 43. The method of claim 42, further comprising the step of subdividing into.
【請求項45】 前記共通に使用されるテスト回路がパターン生成器を含む、請求項44に記載
の方法。
45. The method of claim 44, wherein said commonly used test circuit comprises a pattern generator.
【請求項46】 前記共通に使用されるテスト回路を有するテストダイがホストコントローラと
更に通信を行う、請求項44に記載の方法。
46. The method of claim 44, wherein the test die having the commonly used test circuit further communicates with a host controller.
【請求項47】 前記テストダイ及び製品ダイを別個の半導体ウェハ上に作製するステップを更
に含む、請求項42に記載の方法。
47. The method of claim 42, further comprising fabricating the test die and the product die on separate semiconductor wafers.
【請求項48】 分割されたテストダイ及び製品ダイが所定の制約を満たすか否かを判定し、 該所定の制約が満たされるまで前記分割ステップ及び前記判定ステップを繰り
返す、 という各ステップを更に含む、請求項42に記載の方法。
48. The method of claim 48, further comprising: determining whether the divided test die and product die satisfy a predetermined constraint, and repeating the dividing step and the determining step until the predetermined constraint is satisfied. 43. The method according to claim 42.
【請求項49】 計算装置により読み出しを行うことが可能な媒体であって、該媒体が、テスト
ダイの記述及び製品ダイの記述を生成するための一連の命令を格納し、該命令に
より前記計算装置が、 テスト回路及び製品回路の記述を生成して統合化された回路設計を生成し、該
テスト回路が前記製品回路をテストするためのものであり、 前記統合化された回路設計を、前記テストダイ及び製品ダイの別個の記述へと
分割する、 計算装置により読み出しを行うことが可能な媒体。
49. A medium readable by a computing device, the medium storing a series of instructions for generating a description of a test die and a description of a product die, wherein the instructions cause the computing device to execute. Generating a description of a test circuit and a product circuit to generate an integrated circuit design, wherein the test circuit is for testing the product circuit; and And a medium readable by a computing device that divides into separate descriptions of product dies.
【請求項50】 前記一連の命令が更に、 前記テストダイ及び製品ダイの記述が所定の制約を満たしているか否かを判定
し、 該所定の制約が満たされるまで前記統合化された回路設計を再分割して前記テ
ストダイ及び製品ダイの更新された記述を生成する、 という各ステップを前記計算装置に実行させるものである、請求項49に記載の
媒体。
50. The series of instructions further determines whether the test die and product die descriptions meet predetermined constraints, and re-creates the integrated circuit design until the predetermined constraints are satisfied. 50. The medium of claim 49, causing the computing device to perform the steps of: splitting to generate updated descriptions of the test die and product die.
【請求項51】 半導体ウェハ上の製品ダイの回路をテストする方法であって、該製品ダイが、
集積回路パッケージのリードに電気的に結合するためのボンディングパッドを有
しており、及び製品回路にアクセスするが前記集積回路パッケージのリードには
電気的に結合されない特殊な接触パッドを更に有しており、該方法が、 第1のプローブカードを使用して少なくとも1つの前記ボンディングパッドと
接触し、 第2のプローブカードを使用して少なくとも1つの第2のボンディングパッド
と接触する、 という各ステップを含む、テスト方法。
51. A method for testing a circuit of a product die on a semiconductor wafer, the product die comprising:
Having a bonding pad for electrically coupling to a lead of the integrated circuit package, and further comprising a special contact pad for accessing a product circuit but not electrically coupled to the lead of the integrated circuit package. The method comprising: contacting at least one of said bonding pads using a first probe card; and contacting at least one second bonding pad using a second probe card. Including, testing methods.
【請求項52】 半導体ウェハ上の製品ダイの回路をテストする方法であって、該製品ダイが、
集積回路パッケージのリードに電気的に結合するためのボンディングパッドを有
しており、及び製品回路にアクセスするが前記集積回路パッケージのリードには
電気的に結合されない特殊な接触パッドを更に有しており、該方法が、 第1のテストダイを使用して少なくとも1つの前記ボンディングパッドと接触
し、該第1のテストダイが前記製品回路をテストするための回路を有しており、 第2のテストダイを使用して少なくとも1つの第2のボンディングパッドと接
触する、 という各ステップを含む、テスト方法。
52. A method for testing a circuit of a product die on a semiconductor wafer, the product die comprising:
Further comprising bonding pads for electrically coupling to the leads of the integrated circuit package, and special contact pads for accessing product circuits but not electrically coupled to the leads of the integrated circuit package. The method comprising: contacting at least one of the bonding pads using a first test die, the first test die having circuitry for testing the product circuit; Using the method to contact at least one second bonding pad.
【請求項53】 テストダイのための製品ダイを設計する方法であって、 所定のテスト回路によりテストされる製品回路を設計し、該製品回路及びテス
ト回路を1つの統合化された回路設計に組み込み、 該統合化された設計をテストダイ及び製品ダイへと分割し、該テストダイがテ
スト回路を含み、該製品ダイが製品回路を含む、 という各ステップを含む、設計方法。
53. A method for designing a product die for a test die, comprising designing a product circuit to be tested by a predetermined test circuit, and incorporating the product circuit and the test circuit into one integrated circuit design. Splitting the integrated design into test dies and product dies, the test dies including test circuitry, and the product dies including product circuitry.
【請求項54】 前記製品ダイ及びテストダイを別個に作製するステップを更に含む、請求項5
3に記載の方法。
54. The method of claim 5, further comprising separately fabricating the product die and the test die.
3. The method according to 3.
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