JP2002528268A - 幅調整可能な粉体供給装置及び幅調整方法 - Google Patents

幅調整可能な粉体供給装置及び幅調整方法

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JP2002528268A
JP2002528268A JP2000579363A JP2000579363A JP2002528268A JP 2002528268 A JP2002528268 A JP 2002528268A JP 2000579363 A JP2000579363 A JP 2000579363A JP 2000579363 A JP2000579363 A JP 2000579363A JP 2002528268 A JP2002528268 A JP 2002528268A
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ルーデンバーグ・フィリップ・アール
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マテリアル・サイエンスズ・コーポレーション
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 粉体供給装置の放出幅を調整する方法及びシステムを提供する。 【解決手段】 システムは粉体供給装置から離間した供給ホッパー(12)を具備する。粉体供給装置は受容口(22)と放出口と少なくとも1つの可調整壁(26、28)を具備する。2つ可調整壁が設けられる。2つの可調整壁の動きは放出口の幅を変えることにより異なる幅をもつ目標体積又は目標面積に対して粉体供給装置を容易に用いることができる。回転可能なオーガーブラシ(18)は、供給ホッパーと連通し、供給ホッパーから引き出される粉体を粉体供給装置へ移送し、粉体供給装置の受容口を均一に覆うように配置される。ブラシは粉体内に浸漬されて粉体供給装置の受容口を覆うように延び、粉体供給装置を充填レベルに維持する。粉体供給装置は特に、コーティング装置並びに両面コーティング装置に好適に使用される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】 [発明の背景] 本発明は、供給幅の調整可能な、好適にはクロスフィードオーガーを具備する
粉体供給装置に関する。本発明のクロスフィードオーガーは、連続基板若しくは
不連続物品を完全に塗装するために適用されるべく、粉体供給装置が一定の体積
の粉体で均一に充填されることを維持する。供給幅が調整可能であることにより
、異なる幅の基板及び不連続物品に対して均一なコーティングが可能となる。
【0002】 静電コーティングプロセスは、基板の表面特性を変性させるために用いられて
きた。基板をコーティングするために、エア流中へ規定量の粉体を配送するため
の供給装置と粉体噴霧器が組み合わされる。エア流は、コーティング装置へと向
けられ、その装置が粉体粒子を帯電させることにより粉体粒子は基板へ引き寄せ
られる。ときには粉体が化学的に高反応性であり、通常、極めて小さな大きさで
ある。強い静電力が粉体粒子を帯電させることにより粉体が基板へ引き寄せされ
る。基板はしばしば連続的な帯片若しくはウェブ形状であり、コーティング装置
を連続的に横切るか若しくは通過する。
【0003】 静電力は、小さな粒子に対して極めて強い力となり得、おそらくその重さの1
0〜1000倍に等しい。電極はしばしば基板から4〜6インチ離して置かれる
ことにより、発生する粉体分散物の大部分がその範囲内で拡散されて静電効果に
より結びつきそれにより有効な効果を受ける。これらは、電場と、帯片へ向かう
電場によりエネルギーを与えられるコロナ放電により発生するイオンと、これら
のイオンが点在する粉体と衝突することによる電荷移動と、エネルギーをもつイ
オン及び点在する粉体の間の衝突及び運動量移動とを含む。
【0004】 粉体供給装置から適用される粉体は、均一な流速で適用されなければならない
。そうでなければ、コーティング中に不連続部分が発生しすなわち均一性が損な
われる場合がある。粉体供給装置内の粉体の高さは、供給装置の入口における均
等なヘッド圧力を維持するために一定かつ水平に保持されるべきである。基板が
、粉体供給装置の入口の上方に配置されたならば、基板はその入口から広く離間
させることができない。なぜなら、所望する電極の距離が4〜6インチであるの
で、第1の電極と基板の間にある実質的に全ての粉体フローを受け入れることに
ならないからである。粉体供給装置内の粉体の粉体の体積を保持しかつ制御する
ことは困難であった。なぜなら、基板と供給装置の間の利用可能な高さが結果的
に制限されるからである。
【0005】 基板上に粉体を均等に分布させるために、粉体は粉体供給装置全体に均等に分
布されているべきである。放出速度は、所与の塗布効率において基板の移動で基
板の幅全体にわたって所望の厚さまで基板をコーティングするために単位時間当
たりに供給されなければならない粉体の量により決定される。もし、粉体が粉体
供給装置内で均一に分布していなければ、供給装置からの放出は不連続すなわち
不均一となるであろう。従って、静電粉体コーティング装置の動作中において粉
体供給装置全体に亘って粉体の一定の堆積を維持するべく機能する装置及び方法
が必要とされている。
【0006】 この問題を解決するための従来の試みには、振動させる、送風する、空中浮揚
させる、粉体を供給装置に押し込む等があった。移動経路に沿って粉体を振動さ
せる場合は、必要な放出速度の範囲で粉体を適切に供給するために供給装置の頂
部と基板との間の制限された空間では適切な角度が得られず、強力な供給装置で
あるがために供給装置へ供給される粉体量の制御を損なう原因となるという欠点
がある。粉体供給装置に押し込む場合は、反応性粉体が化学変化を開始する場合
があり、粉体が放出される前に及び/又は基板へ適用される前に凝集したり焼結
したりすることになる。粉体を横方向に流し通すやや傾斜した水槽中で粉体を空
中浮揚させる流動化法の利用も試みられた。この方法は、供給装置と基板の間の
制限された空間では必要な傾斜角度が得られないためにうまくいかず、またこの
方法は、比較的広いブラシ供給ホッパー中へその幅全体に亘って均一に粉体を配
置させることができない。従って、粉体の反応可能性を最小限とする一方、粉体
供給装置を均一に充填された状態に維持する装置及び方法が必要とされている。
【0007】 この必要性は、Alexanderらにより開発された装置及び方法によりある程度解
決されており、1998年2月27日出願の係属中の米国特許出願「クロスフィード・
オーガー及び方法(Cross Feed Auger and Method)」の主題である。ここに参照
することによりその内容を含める。Alexanderらの装置及び方法は、基板の幅が
装置の放出幅と一致している場合にはまずまずの結果をもたらすが、コーティン
グされる基板の幅が非常に狭い場合にはあまりよい結果が得られない。
【0008】 装置の中央に配置された幅の狭い基板は、例えば、粉体供給装置の横壁と基板
の間に、基板の隙間を残す。これらの隙間にも関わらず、上記出願に記載の粉体
供給装置は、この隙間の領域に粉体を放出し続ける。この結果、基板の横縁近傍
における基板表面に対する粉体比が、基板の中央近傍におけるよりも高くなる。
基板表面に対する粉体比のこの差は、不均一なコーティングを生じ易く、基板の
縁部が基板の中央部よりも厚くなってしまう。しかしながら、不均一なコーティ
ングのみが、唯一の欠点ではない。縁部への不必要な過剰な粉体放出は粉体の無
駄であり、何らの埋め合わせの利点もなく材料コストを上げることとなる。
【0009】 Alexanderらの装置及び方法により与えられる利点を与えることができ、かつ
、粉体供給装置の幅よりもかなり狭い基板を用いることに関係なくそれらの利点
を与えられる装置及び方法が要望されている。この観点から、放出幅の調整可能
な粉体供給装置が必要とされる。
【0010】 しかしながら、粉体受容部の幅を調整することなく放出幅を狭くすることは、
粉体受容部の端部における粉体の供給速度を、受容部の中央部における粉体の速
度と異なるようにすることになる。このような不均一な粉体供給は、その粉体を
コーティング装置に用いた場合には不均一なコーティングを生じるという欠点が
ある。従って、放出幅の調整可能な粉体供給装置であって、どのように放出幅を
調整した場合であっても対応可能な方式で粉体受容部の幅を設けることができる
粉体供給装置が必要とされる。
【手続補正書】特許協力条約第34条補正の翻訳文提出書
【提出日】平成12年11月1日(2000.11.1)
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正内容】
【特許請求の範囲】
【請求項36】 粉体供給部から粉体放出器へ粉体を供給する粉体供給装置
において、該粉体供給装置が、入口、前記粉体放出器へ向けられた放出口、固定
壁部、及び2つの可調整壁を具備する粉体受容部を有し、該2つの可調整壁は該
粉体受容部の対向する端部上に配置され、該2つの可調整壁の各々が放出の幅を
調整すべく前記固定壁部に対して直線状に移動可能である粉体供給装置。
【手続補正書】
【提出日】平成13年5月31日(2001.5.31)
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の詳細な説明
【補正方法】変更
【補正内容】
【発明の詳細な説明】
【0001】 [発明の背景] 本発明は、供給幅の調整可能な、好適にはクロスフィードオーガーを具備する
粉体供給装置に関する。本発明のクロスフィードオーガーは、連続基板若しくは
不連続物品を完全に塗装するために適用されるべく、粉体供給装置が一定の体積
の粉体で均一に充填されることを維持する。供給幅が調整可能であることにより
、異なる幅の基板及び不連続物品に対して均一なコーティングが可能となる。
【0002】 静電コーティングプロセスは、基板の表面特性を変性させるために用いられて
きた。基板をコーティングするために、エア流中へ規定量の粉体を配送するため
の供給装置と粉体噴霧器が組み合わされる。エア流は、コーティング装置へと向
けられ、その装置が粉体粒子を帯電させることにより粉体粒子は基板へ引き寄せ
られる。ときには粉体が化学的に高反応性であり、通常、極めて小さな大きさで
ある。強い静電力が粉体粒子を帯電させることにより粉体が基板へ引き寄せされ
る。基板はしばしば連続的な帯片若しくはウェブ形状であり、コーティング装置
を連続的に横切るか若しくは通過する。
【0003】 静電力は、小さな粒子に対して極めて強い力となり得、おそらくその重さの1
0〜1000倍に等しい。電極はしばしば基板から4〜6インチ離して置かれる
ことにより、発生する粉体分散物の大部分がその範囲内で拡散されて静電効果に
より結びつきそれにより有効な効果を受ける。これらは、電場と、帯片へ向かう
電場によりエネルギーを与えられるコロナ放電により発生するイオンと、これら
のイオンが点在する粉体と衝突することによる電荷移動と、エネルギーをもつイ
オン及び点在する粉体の間の衝突及び運動量移動とを含む。
【0004】 粉体供給装置から適用される粉体は、均一な流速で適用されなければならない
。そうでなければ、コーティング中に不連続部分が発生しすなわち均一性が損な
われる場合がある。粉体供給装置内の粉体の高さは、供給装置の入口における均
等なヘッド圧力を維持するために一定かつ水平に保持されるべきである。基板が
、粉体供給装置の入口の上方に配置されたならば、基板はその入口から広く離間
させることができない。なぜなら、所望する電極の距離が4〜6インチであるの
で、第1の電極と基板の間にある実質的に全ての粉体フローを受け入れることに
ならないからである。粉体供給装置内の粉体の粉体の体積を保持しかつ制御する
ことは困難であった。なぜなら、基板と供給装置の間の利用可能な高さが結果的
に制限されるからである。
【0005】 基板上に粉体を均等に分布させるために、粉体は粉体供給装置全体に均等に分
布されているべきである。放出速度は、所与の塗布効率において基板の移動で基
板の幅全体にわたって所望の厚さまで基板をコーティングするために単位時間当
たりに供給されなければならない粉体の量により決定される。もし、粉体が粉体
供給装置内で均一に分布していなければ、供給装置からの放出は不連続すなわち
不均一となるであろう。従って、静電粉体コーティング装置の動作中において粉
体供給装置全体に亘って粉体の一定の堆積を維持するべく機能する装置及び方法
が必要とされている。
【0006】 この問題を解決するための従来の試みには、振動させる、送風する、空中浮揚
させる、粉体を供給装置に押し込む等があった。移動経路に沿って粉体を振動さ
せる場合は、必要な放出速度の範囲で粉体を適切に供給するために供給装置の頂
部と基板との間の制限された空間では適切な角度が得られず、強力な供給装置で
あるがために供給装置へ供給される粉体量の制御を損なう原因となるという欠点
がある。粉体供給装置に押し込む場合は、反応性粉体が化学変化を開始する場合
があり、粉体が放出される前に及び/又は基板へ適用される前に凝集したり焼結
したりすることになる。粉体を横方向に流し通すやや傾斜した水槽中で粉体を空
中浮揚させる流動化法の利用も試みられた。この方法は、供給装置と基板の間の
制限された空間では必要な傾斜角度が得られないためにうまくいかず、またこの
方法は、比較的広いブラシ供給ホッパー中へその幅全体に亘って均一に粉体を配
置させることができない。従って、粉体の反応可能性を最小限とする一方、粉体
供給装置を均一に充填された状態に維持する装置及び方法が必要とされている。
【0007】 この必要性は、Alexanderらにより開発された装置及び方法によりある程度解
決されており、1998年2月27日出願の係属中の米国特許出願「クロスフィード・
オーガー及び方法(Cross Feed Auger and Method)」の主題である。ここに参照
することによりその内容を含める。Alexanderらの装置及び方法は、基板の幅が
装置の放出幅と一致している場合にはまずまずの結果をもたらすが、コーティン
グされる基板の幅が非常に狭い場合にはあまりよい結果が得られない。
【0008】 装置の中央に配置された幅の狭い基板は、例えば、粉体供給装置の横壁と基板
の間に、基板の隙間を残す。これらの隙間にも関わらず、上記出願に記載の粉体
供給装置は、この隙間の領域に粉体を放出し続ける。この結果、基板の横縁近傍
における基板表面に対する粉体比が、基板の中央近傍におけるよりも高くなる。
基板表面に対する粉体比のこの差は、不均一なコーティングを生じ易く、基板の
縁部が基板の中央部よりも厚くなってしまう。しかしながら、不均一なコーティ
ングのみが、唯一の欠点ではない。縁部への不必要な過剰な粉体放出は粉体の無
駄であり、何らの埋め合わせの利点もなく材料コストを上げることとなる。
【0009】 Alexanderらの装置及び方法により与えられる利点を与えることができ、かつ
、粉体供給装置の幅よりもかなり狭い基板を用いることに関係なくそれらの利点
を与えられる装置及び方法が要望されている。この観点から、放出幅の調整可能
な粉体供給装置が必要とされる。
【0010】 しかしながら、粉体受容部の幅を調整することなく放出幅を狭くすることは、
粉体受容部の端部における粉体の供給速度を、受容部の中央部における粉体の速
度と異なるようにすることになる。このような不均一な粉体供給は、その粉体を
コーティング装置に用いた場合には不均一なコーティングを生じるという欠点が
ある。従って、放出幅の調整可能な粉体供給装置であって、どのように放出幅を
調整した場合であっても対応可能な方式で粉体受容部の幅を設けることができる
粉体供給装置が必要とされる。
【0011】 [発明の概要] 本発明の主な目的は、特に、基板が装置よりも極めて狭いか否かに関わらず基
板を均一に覆って粉体を分散させることができる装置を提供することにより上記
構成における欠点を克服することである。
【0012】 本発明の更なる目的は、幅の調整可能な放出を行う粉体供給装置を提供するこ
とである。
【0013】 本発明の更なる目的は、幅の調整可能な放出を行いかつ幅の調整可能な粉体受
容部を具備する粉体供給装置を提供することである。
【0014】 これらの及び他の目的を達成するべく、本発明は、粉体供給部から粉体放出器
へ粉体を供給するための粉体供給装置を含む。この粉体供給装置は、粉体受容部
と回転可能なオーガーブラシを含む。粉体受容部は、入口、粉体放出器へ向けら
れた放出部、固定壁部、及び該放出の幅を調整するべく該固定壁部に沿って移動
可能な少なくとも1つの可調整壁を有する。回転可能なオーガーブラシは、粉体
供給部へ繋がりかつ粉体受容部の入り口を通って延びる。オーガーブラシは粉体
供給部から粉体を引き出して粉体供給装置の入口を通して粉体を移送するために
回転させられる。「引き出す」という用語は、本明細書ではその最も広い意味で
用いられる。それは、押すこと、引くこと及びホッパーから粉体を取り出す他の
いずれの方法も包含する。
【0015】 好適には、駆動機構が、回転可能なオーガーブラシに対して作用を及ぼすよう
に接続されることにより、粉体を粉体受容部全体に均一に分布させるような回転
速度でオーガーブラシを回転させる。回転可能なオーガーブラシは、好適には粉
体受容部内に水平に配置されかつ粉体中に埋められる。
【0016】 各可調整壁は、好適には、粉体受容部と連通しかつそれぞれの可調整壁の外側
表面から延びるように粉体受容部から延びている粉体フロー管を具備する。好適
には、粉体フロー管はその個々の可調整壁へ固定される。回転可能なオーガーブ
ラシは、粉体フロー管を通って延びかつこの管を通して粉体を移送するべく配置
される。
【0017】 固定供給管は、粉体フロー管が固定供給管の一部に沿って伸縮自在に移動可能
であるように配置される。固定供給管が、好適には、回転可能なオーガーブラシ
の一部の周りに設置されることにより、回転可能なオーガーブラシが固定供給管
を通して粉体を移送する。
【0018】 好適には、固定供給管及び粉体フロー管の1つの組合せが、粉体供給部の方へ
延び、かつ、個々の可調整壁の移動を補償する調整可能な長さの伸縮自在の粉体
供給経路を規定する。加えて、固定供給管及び粉体フロー管の別の組合せがおよ
そ粉体供給部から粉体再生装置へ延びることにより、個々の可調整壁の移動を補
償する調整可能な長さの伸縮自在の粉体再生経路を規定する。
【0019】 粉体受容部は、好適には、その長さに亘って実質的に一定の断面をもつ縦長形
状を有する。少なくとも1つの可調整壁は、粉体供給装置の第1の縦方向の末端
部近傍に設置され、そして粉体供給装置の反対側の縦方向の末端部へ向かって選
択的に直線状に動くことにより放出の幅を選択的に調整する。
【0020】 第1及び第2の端壁は、好適には、粉体供給装置の第1の縦方向の末端部及び
反対側の縦方向の末端部にそれぞれ位置することにより、粉体収容領域の境界を
定める。第1及び第2の端壁の1つは、好適には少なくとも1つの開口を有し、
それを通して少なくとも1つの制御ロッドが延びる。各制御ロッドは少なくとも
間接的に1つの可調整壁へ接続されることにより、制御ロッドの第1の方向への
動作が可調整壁を内側へ移動させ、それにより放出の幅を狭める。そして制御ロ
ッドの第2の反対方向への動作が可調整壁を外側へ移動させ、それにより放出の
幅を広げる。
【0021】 放出部を通して調整可能な速度で出ていく粉体を計測するために、放出部にお
いてブラシが回転可能に装着される。好適には、この計測ブラシは、実質的に回
転可能ブラシに平行である。計測ブラシの回転速度を選択的に調整することによ
り速度を調整可能である。
【0022】 粉体供給装置は好適には、放出器を具備するか又は放出器へ接続される。放出
器自体は、計測ブラシの近傍でかつ実質的に平行に装着された噴霧ブラシを具備
してもよい。噴霧ブラシは、計測ブラシから粉体を受け取りかつ対象とする空間
の方へ実質的に均一に分布される方式で粉体を押し出す。
【0023】 本発明はさらに、粉体供給部から粉体放出器へ粉体を供給する粉体供給装置を
提供する。粉体供給装置の粉体受容部は1つの可調整壁を有する。粉体供給装置
は、粉体受容部及び回転可能なオーガーブラシを具備する。粉体受容部は、入口
、粉体受容部及び回転可能なオーガーブラシを具備する。粉体受容部は、入口、
粉体放出器へ向いた放出部、固定壁部、及び粉体受容部の対向する端部に配置さ
れた2つの可調整壁を有する。2つの可調整壁の各々は、放出の幅を調整するた
めに固定壁部に沿って移動可能である。回転可能なオーガーブラシは、粉体供給
部へ繋がりかつ粉体受容部の入口を通って延びる。粉体は、回転可能なオーガー
ブラシにより粉体供給部から引き出され、粉体供給装置の入口を通って移送され
る。
【0024】 本発明はさらに、粉体供給ホッパー、粉体放出器、及び粉体供給装置を有する
粉体供給及び分散システムを提供する。粉体供給ホッパーは粉体の供給を保持す
る。粉体放出器は、対象とする空間全体に対して実質的に均一な方式で粉体を分
散させる。粉体放出器は、粉体供給装置により粉体供給ホッパーへ接続される。
粉体供給装置は、粉体供給ホッパーから粉体放出器へ粉体を供給し、かつ粉体受
容部及び回転可能なオーガーブラシを具備する。粉体受容部は、入口、粉体放出
器の方へ向いた放出部、固定壁部、及び放出の幅を調整するべく固定壁部に沿っ
て移動可能な少なくとも1つの可調整壁を有する。回転可能なオーガーブラシは
、粉体供給ホッパーへ繋がり、粉体受容部の入口を通って延びる。粉体は、回転
可能なオーガーブラシにより粉体供給部から引き出され粉体供給装置の入口を通
して移送される。
【0025】 本発明はさらに、粉体供給装置の粉体受容部が2つの可調整壁を具備する粉体
供給及び分散システムを提供する。この粉体供給及び分散システムは、粉体供給
ホッパー、粉体放出器、及び粉体供給装置を有する。粉体供給ホッパーは、粉体
の供給を保持する。粉体放出器は、対象とする空間全体に対して実質的にに均一
な方式で粉体を分散させる。粉体放出器は粉体供給装置により粉体供給ホッパー
へ接続される。粉体供給装置は、供給ホッパーから粉体放出器へ粉体を供給し、
かつ粉体受容部及び回転可能なオーガーブラシを具備する。粉体受容部は、入口
、粉体放出器の方へ向いた放出部、固定壁部、及び粉体受容部の対向する端部上
に設置された2つの可調整壁を有する。2つの可調整壁の各々は、放出の幅を調
整するために固定壁部に沿って移動可能である。回転可能なオーガーブラシは、
粉体供給ホッパーへ繋がり、粉体受容部の入口を通り延びている。粉体は、回転
可能なオーガーブラシにより粉体供給ホッパーから引き出され、粉体供給器の入
口を通して移送される。
【0026】 本発明はさらに、対象とするウェブ上に均一なコーティングを適用するための
コーティング装置を提供する。コーティング装置は、粉体供給ホッパー、粉体放
出器、静電コーター、及び粉体供給装置を有する。粉体供給ホッパーは、粉体の
供給を保持する。粉体放出器は、対象とするウェブの近傍の対象とする空間全体
に対して実質的に均一な方式で粉体を分散させる。静電コーターは、対象とする
空間内に配置され、そして粉体放出器により分散される粉体を用いて実質的に均
一な方式で対象とするウェブを静電的にコーティングする。粉体供給装置は、粉
体供給ホッパーを粉体放出器へ接続する。粉体は、粉体供給装置により粉体供給
ホッパーから粉体放出器へ供給される。粉体供給装置は、粉体受容部及び回転可
能なオーガーブラシを具備する。粉体受容部は、入口、粉体放出器の方へ向いた
放出部、固定壁部、及び放出の幅を調整するべく固定壁部に沿って移動可能な少
なくとも1つの可調整壁を有する。回転可能なオーガーブラシは、粉体供給ホッ
パーへ繋がり、粉体受容部の入口を通って延びる。粉体は、回転可能なオーガー
ブラシにより粉体供給ホッパーから引き出され、粉体供給装置の入口を通して移
送される。
【0027】 本発明はさらに、コーティング装置を提供し、粉体供給装置の粉体受容部が2
つの可調整壁を具備する。このコーティング装置は、対象とするウェブ上に均一
なコーティングを適用し、かつ、粉体供給ホッパー、粉体放出器、静電コーター
、及び粉体供給装置を有する。粉体供給ホッパーは、粉体の供給を保持する。粉
体放出器は、対象とするウェブ近傍の対象とする空間全体に実質的に均一な方式
で粉体を分散させる。静電コーターは、対象とする空間内に配置され、そして粉
体放出器により分散される粉体を用いて実質的に均一な方式で対象とするウェブ
を静電的にコーティングする。粉体供給装置は、粉体供給ホッパーを粉体放出器
へ接続する。粉体は、粉体供給装置により粉体供給ホッパーから粉体放出器へ供
給される。粉体供給装置は、粉体受容部及び回転可能なオーガーブラシを具備す
る。粉体受容部は、入口、粉体放出器の方へ向いた放出部、固定壁部、及び粉体
受容部の対向する端部に設置された2つの可調整壁を有する。2つの可調整壁の
各々は、放出の幅を調整するべく固定壁部に沿って移動可能である。回転可能な
オーガーブラシは、粉体供給ホッパーへ繋がり、粉体受容部の入口を通って延び
る。粉体は、回転可能なオーガーブラシにより粉体供給ホッパーから引き出され
、粉体供給装置の入口を通して移送される。
【0028】 本発明はさらに、対象とするウェブの反対側にある第1の面と第2の面に対し
て均一なコーティングを適用する両面コーティング装置を提供する。両面コーテ
ィング装置は、少なくとも1つの粉体供給ホッパー、第1及び第2の粉体放出器
、第1及び第2の静電コーター、及び第1及び第2の粉体供給装置を有する。各
粉体供給ホッパーは粉体の供給を保持する。第1の粉体放出器は、対象ウェブの
第1の面上の第1の対象空間全体に対して実質的に均一に粉体を分散させる。第
1の静電コーターは、第1の対象空間内に配置され、第1の粉体放出器により分
散される粉体を用いて実質的に均一な方式で対象ウェブの第1の面を静電的にコ
ーティングする。第1の粉体供給装置は、粉体供給ホッパーを第1の粉体放出器
へ接続し、粉体供給ホッパーから第1の粉体放出器へ粉体を供給する。第1の粉
体供給装置は、第1の粉体受容部と第1の回転可能なオーガーブラシを具備する
。第1の粉体受容部は、入口、第1の粉体放出器の方へ向いた放出部、放出の幅
を調整するための固定壁部を具備する。第1の回転可能なオーガーブラシは、粉
体供給ホッパーへ繋がり、かつ第1の粉体受容部の入口を通って延びる。粉体は
、第1の回転可能なオーガーブラシにより粉体供給ホッパーから引き出され、第
1の粉体供給装置の入口を通して移送される。第2の粉体放出器は、対象ウェブ
の第2の面上の第2の対象空間全体に実質的に均一な方式で粉体を分散させる。
第2の静電コーターは、第2の対象空間内に配置され、そして第2の粉体放出器
により分散された粉体を用いて実質的に均一な方式で対象ウェブの第2の面を静
電的にコーティングする。第2の粉体供給装置は、粉体供給ホッパーを第2の粉
体放出器へ接続する。好適には、第2の粉体供給装置が、第1の粉体供給装置が
具備するものと類似若しくは同一の構成要素を具備する。
【0029】 1つの粉体供給ホッパーで十分であるが、2つの粉体供給ホッパーによれば融
通性のある装備が実現される。特に、1つのホッパーを各々の粉体供給装置のた
めに用いることにより、各粉体供給装置が異なる粉体供給ホッパーから粉体を引
き出すことができる。このことは、特に、対象ウェブの反対側の各面に対して異
なるコーティングを施したい場合に望ましい。
【0030】 本発明はさらに、対象とするウェブの反対側にある第1の面と第2の面に対し
て均一なコーティングを適用する両面コーティング装置を提供し、この場合、両
面コーティング装置の第1の粉体供給装置における粉体受容部が2つの可調整壁
を具備する。両面コーティング装置は、少なくとも1つの粉体供給ホッパー、第
1及び第2の粉体放出器、第1及び第2の静電コーター、及び第1及び第2の粉
体供給装置を有する。1又は複数の粉体供給ホッパーは、粉体の供給を保持する
。第1の粉体放出器は、対象ウェブの第1の面上の第1の対象空間全体に対して
実質的に均一な方式で粉体を分散させる。第1の静電コーターは、第1の対象空
間内に配置され、そして第1の粉体放出器により分散される粉体を用いて実質的
に均一な方式で対象ウェブの第1の面を静電的にコーティングする。第1の粉体
供給装置は、粉体供給ホッパーを第1の放出器へ接続し、粉体供給ホッパーから
第1の粉体供給器へ粉体を供給する。第1の粉体供給装置は、第1の粉体受容部
と第1の回転可能なオーガーブラシを具備する。第1の粉体受容部は、入口、粉
体放出部の方へ向いた放出部、固定壁部、第1の粉体受容部の対向する端部上に
設置された2つの可調整壁を有する。2つの可調整壁の各々は、放出の幅を調整
するために固定壁部に沿って移動可能である。第1の回転可能なオーガーブラシ
は粉体供給ホッパーへ繋がり、第1の粉体受容部の入口を通って延びる。粉体は
、第1の回転可能なオーガーブラシにより粉体供給ホッパーから引き出され、第
1の粉体供給装置の入口を通って移送される。第2の粉体放出器は、対象ウェブ
の第2の面上の第2の対象空間全体に実質的に均一な方式で粉体を分散させる。
第2の静電コーターは、第2の対象空間内に配置され、そして第2の粉体放出器
により分散された粉体を用いて実質的に均一な方式で対象ウェブの第2の面を静
電的にコーティングする。第2の粉体供給装置は、粉体供給ホッパーを第2の粉
体放出器へ接続する。好適には、第2の粉体供給装置は、第1の粉体供給装置の
ものと類似若しくは同一の構成要素を具備する。
【0031】 1つの粉体供給ホッパーで十分であるが、2つの粉体供給ホッパーによれば融
通性のある装備が実現される。特に、各ホッパーが異なるタイプの粉体を供給で
きるからである。
【0032】 本発明はさらに、粉体供給噴霧器及び適用チャンバを有する粉体適用システム
を提供する。粉体供給噴霧器は、供給ホッパー、粉体供給装置、回転可能なオー
ガーブラシ、駆動装置、及び少なくとも1つの可調整壁を具備する。粉体供給装
置は供給ホッパーから離れており、入口と放出部を具備する。回転可能なオーガ
ーブラシは、供給ホッパーへ繋がりかつ入口を通って延びており、供給ホッパー
から粉体を引き出して、粉体供給装置に対して縦方向に移送し、入口を通して粉
体供給装置全体に水平に粉体を分散させる。駆動装置は、ブラシを回転させる。
可調整壁は、放出の幅を調整するために移動可能である。適用チャンバは、粉体
供給噴霧器と連通する。適用チャンバは、基板入口と並んだ基板出口、粉体供給
噴霧器により供給される粉体を帯電させるべくチャンバ内に配列された複数の帯
電電極、及び粉体の分散形状を形成するべく電極と共に介在させたチャンバ内に
配置された複数のバッフルを具備し、電極から得られる電場により粉体は、チャ
ンバ内に配置された導電性基板に引き寄せられ付着させられる。
【0033】 本発明はさらに、粉体供給部から粉体放出器へ粉体を供給する粉体供給装置を
提供する。この粉体供給装置は粉体受容部を有し、該粉体受容部は、入口、粉体
放出部へ向いた放出部、固定壁部、及び放出の幅を調整するために固定壁部に沿
って直線状に移動可能な少なくとも1つの可調整壁を有する。
【0034】 本発明はさらに、粉体供給部から粉体放出器へ粉体を供給する粉体供給装置を
提供し、この場合、粉体受容部が2つの可調整壁を有する。粉体供給装置は、入
口、粉体放出部へ向いた放出部、固定壁部、及び2つの可調整壁を有する。2つ
の可調整壁は、放出の幅を調整するために固定壁部に沿って互いに近づき又は遠
ざかるように直線状に移動可能である。
【0035】 本発明はさらに、異なるサイズの対象面積に対応するために粉体供給装置を調
整する方法を含む。この場合、粉体供給装置が、少なくとも1つの可調整壁を具
備する粉体受容部を有する。この方法は、粉体を受ける対象面積を決定するステ
ップと、粉体受容部の放出部が該対象面積の幅に実質的に一致する幅をもつよう
に粉体受容部の可調整壁を動かすステップとを含む。
【0036】 [図面の簡単な説明] 図1は、本発明の好適例による粉体供給装置の部分展開斜視図である。 図2は、図2に示した粉体供給装置の平面図である。 図3は、図1及び2に示した粉体供給装置の側面図である。 図4は、コーティング装置に組み込まれたときの図1〜図3に示した粉体供給
装置の一側面の断面図である。 図5は、本発明による静電コーティング装置の切り欠き斜視図である。 図6は、図5に示した装置の側面図である。 図7は、本発明のクロスフィード・オーガーの頂面図である。 図8は、本発明によるコーティング装置の側面図である。 図9は、本発明による別のコーティング装置の側面図である。 図10は、本発明による基板の上面及び下面を静電的にコーティングするため
のコーティング装置の側面図である。 図11は、図5に示した実施例の切り欠き断面図である。
【0037】 [発明の詳細な説明] 図1〜図4に示す通り、粉体供給装置10が、粉体供給部12から粉体放出器
14へ粉体(図示せず)を供給するべく設けられる。粉体供給装置10は、粉体
受容部16及び回転可能なオーガーブラシ18を具備する。オーガーブラシ18
は、回転軸18aについて回転させられる。回転可能なオーガーブラシ18は、
好適には、フライト(段)19に螺旋状に設けられた複数の剛毛18bを具備す
る。螺旋フライト19は、オーガー構造を付与する。概略的に描かれた螺旋フラ
イト19を構成する複数の剛毛18bは、回転軸18aから径方向外側へ延びて
いる。好適には、剛毛18bが、粉体の粒子直径にほぼ等しい厚さを具備する。
【0038】 しかしながら、ブラシ18のオーガー構造は、剛毛18bにより構成される必
要はない。すなわち、ブラシ18が、剛毛ではない他のオーガー手段を用いて構
成されてもよい。この点で、本明細書における「ブラシ」という用語は、粉体が
搬送されるとき粉体を掃き寄せていく、剛毛を具備しないオーガーも包含するも
のである。
【0039】 回転可能なオーガーブラシ18は、後述するように大きな利点をもたらすが、
本発明の幾つかの応用においては必須ではない。例えば、粉体受容部16内の粉
体分布の均一性がそれほど重要でない場合、あるいはそのような均一性を得るた
めの別の手段が設けられる場合は、省くことができる。
【0040】 粉体受容部16は、入口20、粉体放出器14の方へ向いた放出部22、固定
壁部24、及び放出部22の幅(W)を調整するために固定壁部24に沿って(
又は関して)移動可能な少なくとも1つの可調整壁26,28を具備する。粉体
受容部16は、その長さ全体に亘って実質的に一定の断面をもつ縦長形状を有す
る。
【0041】 2つの可調整壁26,28は、図示の実施例において設けられている。2つの
可調整壁26,28は、粉体供給装置10の対向する縦方向の末端部30,32
の近傍にあり、放出部22の幅(W)を調整するために末端部30,32に対し
て及び互いに対して近づいたり遠ざかったり直線状に選択的に移動可能である。
【0042】 可調整壁26,28の各々は、好適には、粉体受容部16と連通する個々の粉
体フロー管27,29を具備する。各粉体フロー管27,29の一端は、その個
々の可調整壁26,28と共に動くためにそれぞれに固定される。各粉体フロー
管27,29の別の部分すなわち他端は、滑動可能なバルクヘッド26b、28
bへ固定されかつ支持される。バルクヘッド26b、28bは、粉体受容部16
の固定壁部24に沿って直線状に滑動可能である。
【0043】 少なくとも1つの制御ロッド27d、29dが、滑動可能なバルクヘッド26
b,28bの各々へ接続されることにより、制御ロッド27d、29dを第1の
方向へ作動させると個々の粉体フロー管27、29及びそれに関連する可調整壁
26,28を外側へ移動させ、放出部22の幅を広げる。図示の実施例では、2
本の制御ロッド27d、29dが各々の滑動可能なバルクヘッド26b、28b
へ接続されているが、本発明はまた、各バルクヘッド26b、28bについて1
本の制御ロッド27d、29dのみを用いて実施することもできると理解される
【0044】 制御ロッド27d、29dは、第1及び第2の端壁33,35におけるそれぞ
れの開口を通って延びている。第1及び第2の端壁33,35は、粉体供給装置
10の縦方向の第1の末端部30及び縦方向の反対側の末端部32にそれぞれ配
置される。第1及び第2の端壁33,35は、粉体収容領域37の境界となり、
粉体が出られないように障壁となる。
【0045】 開口27a及び29aは、粉体受容部16から個々の粉体フロー管27,29
に対して設けられる。粉体フロー管27,29は、可調整壁26,28の外側表
面26a、28aから出て粉体受容部16から離れるように反対方向に延びてい
る。好適には、各粉体フロー管27,29が、個々の可調整壁26,28と共に
動くように可調整壁26,28へ固定される。
【0046】 各粉体フロー管27,29と、各固定供給管27b、29bがそれぞれ関係す
る。各固定供給管27b、29bは、それぞれ関係する粉体フロー管27,29
が固定供給管27b、29bの一部に沿って伸縮自在に移動可能なように配置さ
れる。固定供給管27b、29b及び粉体フロー管27,29は、回転可能なオ
ーガーブラシ18の一部分の周りに設置される。
【0047】 一方の固定供給管27b及び一方の粉体フロー管27は、粉体供給部の方へ延
び、そしてこれらが共になって、長さ調整可能な伸縮自在の粉体供給経路27c
を形成する。伸縮自在の粉体供給経路27cの長さは、可調整壁26の直線状の
移動を補償するように調整される。
【0048】 他方の固定供給管29b及び他方の粉体フロー管29は、粉体再生装置31の
方へ延び、そしてこれらが共になって、長さ調整可能な伸縮自在の粉体再生経路
29cを形成する。伸縮自在の粉体再生経路29cの長さは、可調整壁28の直
線状の移動を補償するように調整される。
【0049】 粉体フロー管27,29及び固定供給管27b、29bを通って回転可能なオ
ーガーブラシ18が延びている。オーガーブラシはさらに、粉体受容部16の入
口を通り、粉体供給部12へと繋がる。
【0050】 オーガーブラシ18が回転すると、オーガーブラシ18は、粉体供給部12か
ら粉体を固定供給管27bへと引き出す。この粉体は、オーガーブラシ18によ
り固定供給管27b及び粉体フロー管27を通って移送される。そして、粉体は
、開口27aから粉体供給装置10の入口20へと流れ込む。この方式において
、粉体は、可調整壁26,28の間にある粉体受容部16を少なくともオーガー
ブラシ18の高さまで充填する。
【0051】 入口20へ引き込まれる過剰な粉体は、オーガーブラシ18により開口29a
を通って粉体受容部16の外へ移送される。その後、過剰な粉体は、粉体フロー
管29及び固定供給管29bを通り、再生装置31へ流れていく。再生装置は粉
体を再利用し、再利用される粉体を粉体供給部12へ戻す。
【0052】 粉体の再利用が望ましくない場合は、廃棄経路に応じて再生装置を省くことが
できる。廃棄経路が用いられるとき、固定供給管29bを流れる過剰な粉体は廃
棄経路の末端において廃棄される。
【0053】 好適には、駆動機構34が、回転可能なオーガーブラシ18へ作用を及ぼすよ
うに接続される。図4に示すように、駆動機構34は、好適には電子モータ36
を具備する。駆動機構34は、計測ブラシ40により引き出される粉体に対して
過剰な粉体を供給することにより粉体が粉体受容部16全体に均一に分布される
ような回転速度でオーガーブラシ18を回転させる。入口20を通して粉体を引
き出すことにより、回転可能なオーガーブラシ18は、粉体の上面に形成される
おそれのある谷間を充填する。
【0054】 オーガーブラシ18は、好適には、粉体受容部16内に水平に配置され、粉体
中に埋められる。粉体供給部12により供給される粉体は、熱硬化性、熱可塑性
及び他の細かく分割された材料等の粒子により形成され、対象ウェブ38の下面
に対して静電的に適用される。対象ウェブ38は、図3に示されており、ほぼ水
平方向に粉体供給装置10を超えるように連続的に搬送される。対象ウェブ38
の移動方向は、矢印38aで示される。
【0055】 計測ブラシ40は、粉体受容部16の放出部22において回転可能に装着され
る。計測ブラシ40は複数の剛毛42を具備し、それらは放出部22にて粉体に
接触し、調整可能な速度で粉体を放出部22を通して外へ出す。その速度は、計
測ブラシ40の回転速度を選択的に調整することにより調整される。好適には、
計測ブラシ40が実質的に回転可能なオーガーブラシ18に平行である。
【0056】 図3に示す通り、放出器14は、好適には粉体供給装置10の一部として設け
られる。放出器14は、計測ブラシ40の近傍にてこれに対して実質的に平行に
回転可能に装着された噴霧ブラシ44を具備する。噴霧ブラシ44の回転は、計
測ブラシ40により供給された粉体を、実質的に均一に分散される方式で羽70
から外へ対象空間48の方へ押し出す。通常、噴霧ブラシ44は計測ブラシ40
よりも相当速い速度で回転する。なぜなら、噴霧ブラシ44の目的は、凝集して
いる粉体を分離して均一に分散させることだからである。一方、計測ブラシ40
は、噴霧ブラシ44の方へ所望の速度の粉体フローを供給するために十分な速度
でのみ回転する。
【0057】 好適には、放出器14はさらにパン47を具備する。パン47は、計測ブラシ
40及び噴霧ブラシ44と同一の広がりをもって設けられる。パン47は、計測
ブラシ40及び噴霧ブラシ44を収容する窪み47aを具備する。ベンチュリ4
7bが、パン47と噴霧ブラシ44の間に設けられる。計測経路Cは、パン47
と計測ブラシ40の間に形成される。
【0058】 図1に示す通り、粉体供給及び放出システム49は、粉体供給部12と共に粉
体放出器14及び粉体供給装置10を組み合わせることにより形成することがで
きる。好適には、粉体供給部12が粉体供給ホッパー76を具備する。粉体供給
ホッパー76の例は、図7〜図10の別の実施例に示されている。ホッパー76
は、放出器14へ供給されるべき粉体の供給を保持する。
【0059】 図1に示す粉体供給及び放出システムにおいては、粉体供給装置10が粉体供
給部を粉体放出器14へ接続する。粉体供給装置10は、粉体供給ホッパー76
から粉体放出器14へ粉体を供給する。そして粉体放出器14は、対象空間48
全体に実質的に均一な方式で粉体を放散する。
【0060】 図3に最もよく示される通り、本発明の粉体供給及び放出システム49は、コ
ーティング装置51へ組み込むことができる。図示された実施例では対象ウェブ
38の下面へコーティングを行うため対象ウェブ38の下方に配置されているが
、対象ウェブ38の上面にコーティングを行いたい場合はコーティング装置51
を対象ウェブ38の情報に配置し、基板が垂直に配置される場合は対象ウェブ3
8の横に沿ってコーティング装置51を配置できることは自明である。
【0061】 コーティング装置51は、粉体供給及び放出システム49の対象空間48の下
方に位置する静電コーター50を含む。静電コーター50は、複数の電極52を
具備する。電極52は、対象空間48の下方に配列され、噴霧ブラシ44により
対象空間48へ放出される粉体を帯電させるべく機能する。電極52による放電
がなされると、粉体は対象ウェブ38へ引き寄せられることによりウェブ38の
表面へコーティングされる。このようにして静電コーター50は、粉体放出器1
4により対象空間48中へ放出される粉体で実質的に均一な方式で対象ウェブ3
8を静電的にコーティングする。
【0062】 複数のバッフル54が対象空間48内に設置され、電極52が間に介在する。
これらのバッフル54は、粉体の分散形状と、帯電した電極52から放射される
電場の形状を形成し、それにより粉体が、望ましい均一な効率的方式にて対象ウ
ェブ38へ引き寄せられかつ付着させられる。
【0063】 前述の構成は、末端壁33,35を境界とする適用チャンバ53を設ける。適
用チャンバ53は、噴霧ブラシ44と連通しかつウェブ入口55及びウェブ出口
59を具備する。ウェブ入口55及びウェブ出口59は互いに並べられる。電極
52は、適用チャンバ53内に配列される。バッフル54がチャンバ53内に設
置され、電極52がそれらの間に介在することにより、粉体の分散形状及び帯電
電極52から生じる電場形状を形成し、それにより粉体が導電性ウェブ38へ引
き寄せられ、それに付着させられることとなる。
【0064】 図示のコーティング装置51は、コーティングの均一性を損なうことなく異な
る幅の対象ウェブ38に適応することができる。特に、粉体受容部の幅が、可調
整壁26,28を互いに遠ざけたり近づけたり直線状に動かすことにより調整さ
れ、対象ウェブ38の幅に一致する放出幅(W)が得られる。
【0065】 コーティングしようとする対象ウェブ38が、それ以前にコーティングされた
ウェブ38よりも広い場合は、可調整壁26,28を互いに遠ざけるように直線
状に動かす。これにより放出部22の幅(W)が広がり、より広い対象ウェブ3
8により規定される領域に対して粉体を実質的に均一に分布させることができる
【0066】 反対に、対象ウェブ38が、それ以前にコーティングされた対象ウェブよりも
狭い場合は、放出部22の幅(W)を狭くするべく可調整壁26,28を互いに
近づくように直線状に動かす。この結果、粉体は、対象ウェブ38により規定さ
れる狭まった領域に対して均一に分散される。
【0067】 好適には、対象ウェブ38がコーティング装置51を通して搬送される間、対
象ウェブ38は中央に維持される。従って、可調整壁26,28の直線状の移動
は、対称的に実行される。さらに具体的には、一方の壁26,28が移動すると
き、他方の壁28,26が反対方向に等距離だけ移動する。双方の壁26,28
は従って、粉体受容部16の中央から実質的に等しい距離の位置へ移動させられ
る。このような対称的な移動は、図示の制御ロッド27d,29dを用いて手動
により実行されるが、あるいは、適宜の駆動機構(図示せず)を具備する自動調
整装置(図示せず)を用いて実行することができる。
【0068】 受容部16の中央に対して前述の対称性を維持するために、適宜の結合機構(
図示せず)を用いて可調整壁26,28を互いに結合させることができる。特に
、この結合機構は、可調整壁26,28の一方を移動させると他方の可調整壁2
8,26が対応して移動するように配置される。結合機構により設けられる結合
は、実質的に永続的なものとできるが、別の方法としては、可調整壁26,28
を非結合可能とすることによりそれぞれを独立に動かせるような補助手動機構(
図示せず)を用いて結合機構を設けることができる。
【0069】 可調整壁26,28は、放出幅(W)を調整するための好適な機構を代表する
ものであるが、同様の結果を得るために別の機構を設けることが可能であること
は明らかである。例えば、壁26,28を固定しかつ遮蔽板(図示せず)を対向
する末端部30,32から内側へ滑動させることにより、遮蔽板が放出幅(W)
の端を遮蔽し、選択的に所定量で放出幅(W)を狭めることにより、放出幅(W
)を狭めることができる。しかしながら、このような構成は、遮蔽板の真上に位
置する受容部16の部分に粉体が入るのを防げない。この結果、過剰な粉体が受
容部16の端に、特に遮蔽板の真上に堆積する。しかしながら、所与の粉体を用
いると、このような粉体の堆積は凝集を生じさせる可能性がある。加えて、粉体
の堆積によって、計測ブラシ40の長さ全体に亘って分布が不規則となる可能性
がある。そして、このような不規則性によって対象空間48への粉体の放出が不
均等となり、対象基板38に対するコーティングが不均一となるおそれがある。
【0070】 図1〜図4に示した可調整壁26,28は、受容部16のサイズを放出部22
の幅と一致するように維持するべく調整されるので、図示の受容部16の端にお
ける過剰な粉体の堆積はない。従って、図示の受容部16は、遮蔽板ベースの構
成における欠点を避けられる。
【0071】 上述の及び他の本発明の利点は、図1〜図4の実施例がどのように動作するか
についての以下の説明により容易に明らかとなるであろう。
【0072】 先ず、可調整壁26,28を、対象ウェブ38の側縁に対して実質的に並ぶよ
うな位置へ移動させる。この移動により放出幅(W)に一致させる調整を行う。
この移動に対する最大幅限界は、バルクヘッド26b、28bが末端壁33,3
5に当たる位置により規定される。最小幅限界は、可調整壁26,28が互いに
当たる位置及び/又は伸縮自在の粉体供給経路27c及び伸縮自在の粉体再生経
路29cの伸縮限界の位置により規定される。
【0073】 固定供給管27b、29b及び粉体フロー管27,29が互いに伸縮自在に配
置されるので、放出幅の調整は、伸縮自在の粉体供給経路27cの長さにおいて
及び伸縮自在の粉体再生経路29cの長さにおいて対応する調整を行うことにも
なる。
【0074】 適切な調整が行われると、対象ウェブ38がコーティング装置51を通して供
給される。同時にオーガーブラシ18が、粉体供給ホッパーから固定供給管27
b内へ粉体を引き出し、粉体フロー管27を通って開口27aへ粉体を出すべく
回転する。粉体が、開口27aを経由して粉体フロー管27を出ると、粉体は、
粉体受容部16の入口を通って水平に分布する。
【0075】 粉体受容部16内の過剰な粉体は、オーガーブラシ18の回転により粉体受容
部16から引き出される。特に、オーガーブラシ18は、開口29a及び伸縮自
在の粉体再生経路29cを通して粉体を引き出して再生装置31へ送り、そこで
再利用されるか又は廃棄場所へ送られ廃棄される。
【0076】 オーガーブラシ18が回転すると、計測ブラシ40もまた回転する。計測ブラ
シ40は矢印58の方向へ回転する。計測ブラシ40の回転速度は、粉体フロー
を放出部22を通して放出器14へそして噴霧ブラシ44へ供給するための所望
の速度を得るべく選択される。
【0077】 噴霧ブラシ44は矢印60の方向へ回転し、通常は計測ブラシ40よりもかな
り高速で回転する。この回転により、噴霧ブラシ44とパン47の間のベンチュ
リ47bにおけるベンチュリ効果が生じる。このベンチュリ効果により、計測ブ
ラシ40による所定速度で供給される粉体をベンチュリ47b中へ引き出す。そ
して噴霧ブラシ44が、この粉体を羽70から対象空間48へ均一に分散させる
【0078】 粉体が対象空間48へ入ると、静電コーター50は、接地された導電性対象ウ
ェブ38に粉体が静電的に引き寄せられるようにする。このように引き寄せられ
るので、放出器14からの粉体が対象ウェブ38をコーティングする。これによ
り、対象ウェブ38が静電コーター50を通って進行していくと、均一な粉体コ
ーティングが対象ウェブ38上に実現される。
【0079】 特に、コーティング装置51は、粉体供給ホッパーを対象ウェブ38の下に位
置させることなく、対象ウェブ38の下面56に対して粉体を供給し、放出しか
つ適用することができる。従って、コーティング装置51は、対象ウェブ38と
放出器14による粉体の放出位置との間の縦方向の間隙の限界のみを維持しつつ
、下面56上に粉体を均一にコーティングできるという利点を有する。
【0080】 上述の説明は、単層コーティングに関するが、示された装置及び方法は、多層
コーティングへ適応することができる。更に、後述するように、示された装置及
び方法は、対象ウェブ38の両面上へのコーティングへも適応することができる
【0081】 多層コーティングに関しては、図3に示したパン47が、更なる計測ブラシ及
び更なる噴霧ブラシ66を収容できる補助ブランチ62を含むことができる。こ
れらは、それらの対向するブラシ40,44とは逆に回転する。三角形の断面を
もつ分割器68が、パン47の上に設けられる。分割器68は粉体を分割し、粉
体を放出器22のみでなく、更なる放出器22bへも送る。得られる双放出構成
は、粉体を別の対象空間48cへ放出するために用いることができ、ウェブ38
の同じ面上に2層のコーティングを適用することができる。
【0082】 図5及び図6は、図1〜図4と類似要素には同じ参照符号を付した本発明の別
の実施例を示す。移動可能な壁26,28がこの別の実施例にも存在するが、そ
れらは図5及び図6には示されていない。
【0083】 図5及び図6に示す通り、回転可能なオーガーブラシ18は、幅可変のウェブ
コーティング装置51における粉体供給及び放出システム49の粉体中に埋め込
まれている。粉体供給及び放出システム49は、熱硬化性、熱可塑性及びその他
の微細に分割された材料等の粒子を、連続的に移動する対象ウェブ38の下面5
6へ静電的に適用させる。装置51は、放出器22を具備する粉体供給装置10
を含み、放出器22を通って粉体が計測ブラシ40から噴霧ブラシ44へ運ばれ
、最終的に対象ウェブ38上へ適用される。
【0084】 粉体供給及び放出システム49は、パン47,羽70及び噴霧ブラシ44を含
む。噴霧ブラシ44は、ほぼ水平な軸74について矢印72の方向に回転するよ
うに軸支される。噴霧ブラシ44及びパン47は、ベンチュリ47bを形成する
ようにそれらの間に隙間を設けている。その隙間に粉体供給装置10から粉体が
供給される。
【0085】 作動中は、粉体供給装置10が放出部22、計測経路47a、及びベンチュリ
47bを通して噴霧ブラシ44へ粉体を供給する。噴霧ブラシ44が回転し、凝
集した粉体を分解すると、粉体は、羽70により静電コーター50内の対象空間
48へと向けられる。粉体は、流動分散のように噴霧ブラシ44により分散され
る。分散物が、静電コーター50の対象空間48内に受け入れられると、分散物
はコーター50の帯電電極52の電場及びイオン化の影響下に置かれることにな
る。従って、帯電した粉体粒子は、接地された導電性対象ウェブ38の方へ静電
引力により移動させられる。
【0086】 この実施例は、特定の静電コーティングプロセスと共に用いられるように説明
したが、他の静電コーティングシステムと共に用いられることも可能である。さ
らに、本発明は、一定体積の粉体供給装置が必要でありかつ粉体が高反応性であ
る任意のコーティング操作において利用することが可能である。別の静電コーテ
ィングプロセスの例は、米国特許No.5,314,090に開示されており、ここに参照す
る。
【0087】 均一にコーティングされたウェブ38を得るためには、粉体が、計測ブラシ4
0によりその長さ全体に亘って一様に放出部22へ向けて放出されるべきである
。粉体供給装置10内の粒子の水平方向に平坦な供給を保持するために、回転可
能なオーガーブラシ18は、粉体内に埋められて少なくとも粉体供給装置10の
長さだけ延びている。粉体供給装置10は限定された体積を有し、そして粉体が
計測ブラシ40により引き出されたならば、粉体が補給されなければならない。
【0088】 対象ウェブ38と粉体供給装置10の間の空間が限定されているので、供給装
置10へ粉体を補給できるようにウェブ38と粉体供給装置10の間に実用的大
きさの粉体供給ホッパーを入れようとすることは、不可能でないとしても困難で
ある。従って、図7及び図8に最もよく示される通り、水平に設置された回転可
能なオーガーブラシ18が粉体供給ホッパー76から粉体供給装置10へ粉体を
移送する。可調整壁26,28は、図1〜図4に示したものと実質的に同じ方式
で図5〜図8に示す粉体供給及び放出システム49の放出幅(W)を調整するた
めに直線状に動くことができる。
【0089】 回転可能なオーガーブラシ18は、スクリューコンベヤの形態であり、それに
より、供給ホッパー76から粉体供給装置10へ粉体が動かされる。供給ホッパ
ー76から粉体供給装置10への粉体の流れを変えるために、オーガー速度を変
えてもよい。通常の動作では、毎分5ポンドの粉体フローについて、2インチ直
径のオーガーブラシ18を約100RPMで回転させる。回転速度及びブラシ直
径の各々は、粉体粒子に対する望ましくない剪断力を最小限とするためにできる
だけ小さくすべきである。さらに、所与の速度のオーガーブラシ18により移相
される粉体のフローを増すために、オーガーブラシ18の剛毛42のフライト(
段)のピッチを増加させてもよい。オーガーブラシ18は、粉体供給装置10を
充填状態に保持するために連続的に回転する。オーガーブラシ18の粉体搬送能
力は、そのピッチと回転速度とその直径を掛け合わせたものに比例する。剛毛4
2が柔軟で可撓性があり小さいために、剛毛と管の境界における粉体に負荷され
る剪断力が小さくなる。回転可能なオーガーブラシ18は剛毛46から作製され
、それらの剛毛は、粉体を供給ホッパー76から粉体供給装置10へ掃き寄せて
いくために適切な長さと空間密度をもつ。
【0090】 オーガーブラシ18は、電気モータ36へ軸支された基部端78と、粉体供給
装置10を水平方向に超えて延びる遠方端80とをもつ。オーガーブラシ18は
、基部端78にて外部に固定され、遠方端80にて伸縮自在の再生経路29cの
固定供給管29bにより支持される。伸縮自在の粉体供給経路27cは、基部端
78から供給装置10の第1の末端壁33を通って延び、オーガーブラシ18の
第1の長さ部分を取り囲みかつ包囲する。固定供給管27bは開口82を具備し
、供給ホッパー76からの粉体はこの開口82から供給される。供給ホッパー7
6は、流動化した粉体の静置角度による粉体のこぼれ落ちを防ぐために十分な距
離だけ、開いた基部端78から離れている。
【0091】 オーガーブラシ18は、粉体供給装置10を充填する粉体と同じ広がりをもち
かつ粉体内に埋め込まれる。粉体は、2つの可調整壁26,28の間における粉
体供給装置10の長さ全体に分散される。オーガーブラシ18が回転すると、ホ
ッパー76から粉体が引き出され、ブラシ18の剛毛46のフライトの間を縦方
向に進められる。粉体が壁26を超えて進むと、供給装置10の頂部に入り、そ
して供給装置10に利用可能な空間があれば供給装置10内に落下していくこと
もある。粉体は、供給装置10内の最初に利用可能な場所へ落下することとなり
、最終的には全ての隙間を充填することとなる。好適には、供給装置10の充填
状態を維持するために必要な粉体より約5%〜約10%過剰な粉体をブラシ18
へ供給することにより、その可調整壁26と28の間における供給装置10の充
填レベルを確保する。初期作動において、粉体は先ず供給装置10の可調整壁2
6の近傍を充填し、粉体の静置角度を考慮すると、可調整壁28の方へ向かって
供給装置10を充填し続けることとなる。従って、粉体は、粉体供給装置10の
全体に亘って均等に分布され、計測ブラシ40に対する均一なヘッド圧力を保証
することにより、対象ウェブ38に対して均一なコーティングを適用することが
可能となる。過剰な粉体が供給されないとすると、末端壁35において供給装置
10はそのヘッド圧力を保持できなくなるであろう。この結果、計測ブラシ40
を通るフロー速度は低下し、その領域において対象ウェブ38への塗布が薄くな
ってしまう。
【0092】 回転可能なオーガーブラシ18は、その遠方端80にて固定供給管29bによ
り取り囲まれる。固定供給管29bは、粉体供給装置10の粉体フロー管29の
内側から遠方端80へ延びる。得られる伸縮自在の粉体再生経路29cは、粉体
供給装置10が充填されているとき、必要な過剰な粒子を粉体供給装置10を超
えて移送する。粉体再生経路29c及び遠方端80は、出口の末端壁35から所
定距離だけ延びる。再生ポート84は、固定供給管29bと連通しかつ適宜の再
生装置31へ接続されることにより、過剰な粉体を供給ホッパー76へ戻す。En
dlessand Hauser Model DTR 131Z等のドップラーマイクロ波装置は、常に過剰な
粉体が粉体供給装置10を通って供給されることを保証する。過剰な粉体が供給
ホッパー76へ戻され再利用されることが可能であり、本システムの粉体利用効
率を向上させる。
【0093】 オーガーブラシ18の回転速度は、オーガーブラシ18から粉体供給装置10
へ、そして噴霧ブラシ44からコーター50そして対象ウェブ38へ連続的かつ
適切に粉体が流れるように、計測ブラシ40の回転速度により調整される。
【0094】 粉体塗料は、通常、金属基板の表面をコーティングするために用いられる。粉
体は熱硬化性樹脂とすることができ、これは少量のエネルギー投入のみで反応す
る。しかしながら、本発明は熱硬化性樹脂による金属基板のコーティングのみに
限定されないことは明らかである。例えば、本発明は、熱可塑性ナイロン塗布、
紙製品へのコーンスターチ塗布等にも用いることができる。本発明は、特定の静
電コーティングプロセスと共に用いるものとして説明されたが、放出幅を変える
ことが望まれる任意のコーティング操作に用いることができる。このような構成
に限定されないが、本発明は、異なる幅の対象ウェブ38に対応するために放出
の均一性を損なうことなく放出幅を変えることが望ましい場合に、特に有用であ
る。
【0095】 オーガーブラシ18を具備する示された実施例は、特に、水平面をもつ粉体供
給装置10が必要である場合や、粉体が高反応性である場合に特に有用である。
しかしながら、本発明はこのような構成に限定されず、示された実施例は説明さ
れた条件下での使用に限定されない。
【0096】 図7及び図8の実施例においては、供給ホッパー76が円錐状であり、固定供
給管27bの開口82を通して粉体を供給する。別の例では、図9に示すように
、供給ホッパー76が直方体でもよい。図9は、図5〜図8と類似の実施例を開
示しており、同様の構成要素は同じ符号で参照する。
【0097】 図9の実施例においては、放出幅(W)が、図1〜図8とほぼ同じ方法で調整
される。特に、可調整壁26,28は、所望の調整幅(W)を設けるために互い
に直線状に近づいたり遠ざかったり動かされる。
【0098】 粉体は、開口86を通してホッパー76へ投入される。底面88に沿ってエア
プレナム90があり、ここでは、気泡や不活性ガス等の流体を流動化ベッドにお
けるように供給ホッパー76を通して発泡させる。エアプレナム90は、ホッパ
ー76の下方のオーガー領域において粉体を流動化させ、それにより高剪断力を
誘起することなく粉体を非常に容易にブラシ又はオーガー18中へ流すことがで
きる。エアプレナム90は、その長さ方向に沿って幾つかの流動化区画を有して
もよく、それにより、流動性を損なうラットホールを生じることなくブラシ18
の十分な充填を保証するような異なるエアの流れを適用することが可能となる。
さらに、ホッパー76の領域におけるオーガーブラシ18のピッチを、均一な横
方向の充填を促進するために局所的に変えてもよい。
【0099】 供給ホッパー76は、第1の開口92及び第2の開口94を具備し、これらを
通って延びるブラシ18を具備する。管96は、回転可能なオーガーブラシ18
の周りをその開いた基部端78と開口92の間において取り囲む。固定供給管2
7bは、開口94から末端壁33を通ってオーガーブラシ18の周りを取り囲む
。管96は、その開いた端から粉体がこぼれ出るのを防ぐために十分な長さとさ
れる。オーガーブラシ18は、外部ベアリング98により回転されるべく支持さ
れる。
【0100】 場合によっては、対象ウェブ38の両面コーティングが望まれる。従って本発
明は、対象ウェブ38の反対側にある第1の面と第2の面上に均一なコーティン
グを施すための両面コーティング装置も提供する。
【0101】 図10に最もよく示される通り、両面コーティング装置100が、粉体の供給
を保持するための少なくとも1つの粉体供給ホッパー76と、図1〜図9に示し
たいずれかのコーティング装置51のうち2セット102,104とを含む。1
つのセット102は、対象ウェブ38のほぼ上方に配置され、他方のセット10
4は対象ウェブ38のほぼ下方に配置される。
【0102】 第1の粉体放出器(例えば、図1,3,5及び6の符号14で示されるタイプ
のもの)は、第1の対象空間48aに対して実質的に均一な形式で粉体を放出す
る。第1の対象空間48aは対象ウェブ38の上面57に対して配置される。第
1の対象空間48a内には、電極52aを具備する第1の静電コーターが配置さ
れる。第1の静電コーターは、第1の粉体放出器により放出される粉体を用いて
実質的に均一な方式で対象ウェブ38の上面57を静電的にコーティングする。
【0103】 前述の粉体供給装置10のいずれかから選択された第1の粉体供給装置10a
は、粉体供給ホッパー76を第1の粉体放出器へ接続する。第1の粉体供給装置
10aは、粉体供給ホッパー76から第1の粉体放出器へ粉体を供給する。
【0104】 第2の粉体放出器(例えば、図1,3,5及び6の符号14で示されるタイプ
のもの)は、第2の対象空間48bに対して実質的に均一な形式で粉体を放出す
る。第2の対象空間48bは対象ウェブ38の下面56に対して配置される。第
2の対象空間48b内には、電極52bを具備する第2の静電コーターが配置さ
れる。第2の静電コーターは、第2の粉体放出器により放出される粉体を用いて
実質的に均一な方式で対象ウェブ38の下面56を静電的にコーティングする。
【0105】 第2の粉体供給装置10bは、粉体供給ホッパー76を第2の粉体放出器へ接
続する。起動されたとき、第2の粉体供給装置10bは、粉体供給ホッパー76
から第2の粉体放出器へ粉体を供給する。
【0106】 粉体供給装置10a、10bの各々は、好適には、図1〜図9に示した実施例
のいずれかの粉体供給装置10を用いて実施される。しかしながら、他の粉体供
給装置の構成を利用可能であり、特に、ウェブ38の上方に配置されるコーティ
ング装置102を設ける場合には他の粉体供給装置の構成を利用可能であること
は明らかであろう。そのような特定の装置102においては、ウェブ38の下面
へコーティングするときのようにヘッド空間が制限されない。
【0107】 図10に示す通り、粉体供給装置10a、10bの各々が図9の粉体供給装置
と類似の構成を用いて設けられる場合、両面コーティング装置100は、2つの
回転可能なオーガーブラシ18’、18”、並びに各オーガーブラシ18’、1
8”をそれぞれ駆動する2つのモーター36a及び36bを具備する。ホッパー
76はホッパー入口86を有し、回転可能なオーガーブラシ18’、18”をそ
れぞれ用いて粉体を双方の粉体供給装置10a、10bへ供給する。従って供給
ホッパー76は、4つの開口92a、92b、94a、94bを具備する。開口
92a及び94aは、供給ホッパー76の対向する壁に水平方向に並んで設けら
れる。同様に、開口92b及び94bは、供給ホッパー76の対向する壁に水平
方向に並んで設けられる。開口92a及び94aは、回転可能なオーガーブラシ
18’がホッパー76を通って延びるためであり、それにより粉体を供給ホッパ
ー76から粉体供給装置10aへ移送することができる。同様に、開口92b及
び94bは、回転可能なオーガーブラシ18”がホッパー76を通って延びるた
めであり、それにより粉体を供給ホッパー76から粉体供給装置10bへ移送す
ることができる。
【0108】 オーガーブラシ18’は、開いた基部端78aを具備し、基部端78aはベア
リング98により支持され、可変速モーター36aへ軸支される。そして遠方端
80aは、普通は個々の固定供給管29bにより支持される。基部端78aから
供給ホッパー76の開口92aまでのブラシ18’の一部分は、管96aにより
周りを囲まれる。管96aは、流動化粉体の静置角度によるその開口端からのこ
ぼれ出しを防ぐために十分な長さとされる。ブラシ18’の別の部分は、固定供
給管27bにより取り囲まれ、供給ホッパー76の開口94aから末端壁33を
通って延びる。回転可能なオーガーブラシ18’はまた、粉体供給装置10aを
通りかつ同一の広がりをもって延びる。オーガーブラシ18’は、末端壁35か
ら遠方端80aへ延びる2つの固定供給管29bのいずれかにより囲まれる。管
29bは、粉体の不必要な動作を避けるためにできるだけ短くされる。再生ポー
ト84は各管29bと連通し、粉体の固結や凝集を生じる可能性のある架橋や詰
め込みを避けるために粉体を再び供給ホッパー76へ戻す。
【0109】 回転可能なオーガーブラシ18”は、同様に、開いた基部端78bを具備し、
これは外部のベアリング98により支持されかつ可変速モータ36bへ軸支され
る。遠方端80bは通常支持されていない。基部端78bから供給ホッパー76
の開口92bまでのブラシ18”の一部分は、管96bにより周りを囲まれる。
管96bは、その開口端から管96bへの粉体のこぼれ出しを防ぐために十分な
長さとされる。ブラシ18”の別の部分は、固定供給管27bにより取り囲まれ
、供給ホッパー76の開口94bから末端壁33を通って延びる。回転可能なオ
ーガーブラシ18”はまた、末端壁35を通り遠方端80bへ延びる固定供給管
29bにより囲まれる。再生ポート84は、ドップラーセンサ106bと接続さ
れ、経路108へ接続される。固定供給管29bからの粉体は従って、供給ホッ
パー76へ戻される。
【0110】 クロスフィード・オーガーブラシ18’、18”は、粉体供給装置10a、1
0bにおける粉体の水平かつ均一な供給を保持しつつ、対象ウェブ38の下面と
上面56,57を均一にコーティングすることが可能である。従って、粉体供給
装置10a、10bから粉体が放出されると、粉体は電極52a、52bにより
帯電させられ、対象ウェブ38の下面と上面56,57を均等にコーティングす
る。同時にブラシ18’、18”は、ホッパー76から粉体を引き出し、引き出
した粉体により供給装置10a、10bを補給するために回転する。
【0111】 好適には、図1〜図9の実施例におけるものと同じ方法により壁26,28を
直線状に動かすことによりウェブ幅の変化が補完される。ウェブ38の異なる面
56,57に対して異なるコーティングを所望する場合は、異なるタイプの粉体
を供給装置10a、10bへ供給するために別個のホッパーを用いることができ
る。
【0112】 図11は、図5の切り欠き断面図であり、同じ構成要素には同じ符号を付して
いる。好適には、羽70が、粉体供給装置10の前方固定面を形成する上側面1
20を有する。羽70は、粉体を電極52及びウェブ28の方へ向けるために曲
げられている。非導電性バッフル122がウェブ38の最大幅まで延びることに
より、露出した表面全体に対して粉体が適用される。
【0113】 好適には、別途のブラシとすることができるクリーナー124が、計測ブラシ
40の長さ全体に延びる。クリーナー124は、計測ブラシ40の剛毛の内側へ
延びており、これにより剛毛を開き、残留した粉体を剛毛から落とすことができ
る。従って、計測ブラシ40が粉体受容部16の方へ回転すると、その剛毛は実
質的に空となり、均一に充填された粉体をその長さ全体に亘って容易に受け取る
ことができる。噴霧ブラシ44へ移送するために領域126において計測ブラシ
40により搬送される粉体を水平方向に平坦な状態で供給することにより、粉体
をウェブ38に対して均一に適用することが最適に実行される。
【0114】 本発明は好適設計を具備するものとして説明された、本発明の原理に一般的に
従って更なる変更、利用及び/又は適応が可能でありそのような逸脱は本発明に
関連する技術分野において周知若しくは慣用的なものであることは自明であろう
【手続補正書】
【提出日】平成13年6月1日(2001.6.1)
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正内容】
【特許請求の範囲】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 EP(AT,BE,CH,CY, DE,DK,ES,FI,FR,GB,GR,IE,I T,LU,MC,NL,PT,SE),OA(BF,BJ ,CF,CG,CI,CM,GA,GN,GW,ML, MR,NE,SN,TD,TG),AP(GH,GM,K E,LS,MW,SD,SL,SZ,TZ,UG,ZW ),EA(AM,AZ,BY,KG,KZ,MD,RU, TJ,TM),AE,AL,AM,AT,AU,AZ, BA,BB,BG,BR,BY,CA,CH,CN,C U,CZ,DE,DK,EE,ES,FI,GB,GD ,GE,GH,GM,HR,HU,ID,IL,IN, IS,JP,KE,KG,KP,KR,KZ,LC,L K,LR,LS,LT,LU,LV,MD,MG,MK ,MN,MW,MX,NO,NZ,PL,PT,RO, RU,SD,SE,SG,SI,SK,SL,TJ,T M,TR,TT,UA,UG,UZ,VN,YU,ZA ,ZW Fターム(参考) 4F034 AA01 BA32 BA41 BB04 BB26 CA02 DA08 DA23 4F042 AA22 AB03 CB05 CB11 CB19 EC01

Claims (37)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 粉体供給部から粉体放出器へ粉体を供給する粉体供給装置に
    おいて、 入口、前記粉体放出器へ向けられた放出口、固定壁部、及び放出の幅を調整す
    べく前記固定壁部に対して移動可能な少なくとも1つの可調整壁を具備する粉体
    受容部と、 前記粉体供給部から粉体を引き出しかつ該粉体を前記供給装置の前記入口を通
    して移動するために前記粉体供給部と連通しかつ前記粉体受容部の前記入口を通
    って延びる回転可能なオーガーブラシとを有する 粉体供給装置。
  2. 【請求項2】 前記回転可能なオーガーブラシを回転させるべく該回転可能
    なオーガーブラシに対して作用を及ぼすように接続される駆動機構を有する請求
    項1に記載の粉体供給装置。
  3. 【請求項3】 前記回転可能なオーガーブラシが、前記粉体受容部全体に均
    一に粉体が適用されるような回転速度を用いる前記駆動機構により駆動される請
    求項2に記載の粉体供給装置。
  4. 【請求項4】 前記回転可能なオーガーブラシが、前記粉体受容部内に水平
    に配置される請求項1に記載の粉体供給装置。
  5. 【請求項5】 前記少なくとも1つの可調整壁が、前記粉体受容部と連通し
    かつ該粉体受容部から延びる粉体フロー管を具備し、前記少なくとも1つの可調
    整壁の外側表面から、前記回転可能なオーガーブラシが前記粉体フロー管を通っ
    て延びかつこれを通して粉体を移送するべく配置されている請求項1に記載の粉
    体供給装置。
  6. 【請求項6】 前記粉体フロー管が、前記少なくとも1つの可調整壁に対し
    てこれとともに動くために固定されている請求項5に記載の粉体供給装置。
  7. 【請求項7】 さらに固定供給管を有し、前記粉体フロー管が該固定供給管
    の一部に沿って遠近自在に移動可能であるように該固定供給管が配置され、該固
    定供給管が前記回転可能なオーガーブラシの一部の周囲に配置されることにより
    、該回転可能なオーガーブラシが該固定供給管を通して粉体を移送する請求項6
    に記載の粉体供給装置。
  8. 【請求項8】 前記固定供給管及び前記粉体フロー管が前記粉体供給部の方
    へ延び、かつそれらが共になって、前記少なくとも1つの可調整壁の移動を補償
    する調整可能な長さの遠近自在の粉体供給経路を規定する請求項7に記載の粉体
    供給装置。
  9. 【請求項9】 前記固定供給管及び前記粉体フロー管が前記粉体供給部から
    粉体再生装置の方へ延び、かつそれらが共になって、前記少なくとも1つの可調
    整壁の移動を補償する調整可能な長さの遠近自在の粉体再生経路を規定する請求
    項7に記載の粉体供給装置。
  10. 【請求項10】 前記粉体受容部がその長さ全体にわたって実質的に一定の
    断面の縦長形状を有し、前記少なくとも1つの可調整壁が前記粉体供給装置の縦
    方向の一端近傍に配置され、縦方向の他端へ向かって直線上に選択的に移動する
    ことにより放出の幅を選択的に調整する請求項1に記載の粉体供給装置。
  11. 【請求項11】 前記少なくとも1つの可調整壁が、前記粉体受容部と連通
    しかつ該粉体受容部から延びる粉体フロー管を具備し、前記少なくとも1つの可
    調整壁の外側表面から、前記回転可能なオーガーブラシが該粉体フロー管を通っ
    て延びかつこれを通して粉体を移送するべく配置されている請求項10に記載の
    粉体供給装置。
  12. 【請求項12】 前記粉体フロー管が、前記少なくとも1つの可調整壁と共
    に動くために該可調整壁へ固定されている請求項11に記載の粉体供給装置。
  13. 【請求項13】 さらに固定供給管を有し、前記粉体フロー管が該固定供給
    管の一部に沿って遠近自在に移動可能であるように配置され、該固定供給管が前
    記回転可能なオーガーブラシの一部の周りに配置されることにより該回転可能な
    オーガーブラシが該固定供給管を通して粉体を移送する請求項12に記載の粉体
    供給装置。
  14. 【請求項14】 前記固定供給管及び前記粉体フロー管が前記粉体供給部の
    方へ延び、かつ共になって、前記少なくとも1つの可調整壁の移動を補償する遠
    近自在の調整可能な長さをもつ粉体供給経路を規定する請求項13に記載の粉体
    供給装置。
  15. 【請求項15】 前記固定供給管及び前記粉体フロー管が前記粉体供給部か
    ら粉体再生装置へと延び、かつ共になって、前記少なくとも1つの可調整壁の動
    きを補償する遠近自在の調整可能な長さをもつ粉体再生経路を規定する請求項1
    3に記載の粉体供給装置。
  16. 【請求項16】 前記粉体フロー管が、前記少なくとも1つの可調整壁へ固
    定された第1の端部を具備し、前記粉体供給装置がさらに、該粉体フロー管のそ
    の部分を支持するために該第1の端部ではない該粉体フロー管の一部へ固定され
    た滑動可能なバルクヘッドを有する請求項11に記載の粉体供給装置。
  17. 【請求項17】 前記滑動可能なバルクヘッドへ接続された少なくとも1つ
    の制御ロッドを有し、該少なくとも1つの制御ロッドの第1の方向への動作が前
    記粉体フロー管及び前記少なくとも1つの可調整壁を内側へ移動させることによ
    り放出の幅を狭め、かつ、前記少なくとも1つの制御ロッドの第2の方向への動
    作が前記粉体フロー管及び前記少なくとも1つの可調整壁を外側へ移動させるこ
    とにより放出の幅を広げる請求項16に記載の粉体供給装置。
  18. 【請求項18】 前記縦方向の一方の端部及び他方の端部に位置する第1及
    び第2の末端壁をそれぞれ有し、これらが粉体封入領域の境界を規定し、第1及
    び第2の末端壁の1つが少なくとも1つの開口を具備し、その開口を通して前記
    少なくとも1つの制御ロッドが延びる請求項17に記載の粉体供給装置。
  19. 【請求項19】 前記少なくとも1つの可調整壁に対して少なくとも間接的
    に接続された少なくとも1つの制御ロッドを有し、前記少なくとも1つの制御ロ
    ッドの第1の方向への動作により前記少なくとも1つの可調整壁を内側へ移動さ
    せることにより放出の幅を狭め、かつ、前記少なくとも1つの制御ロッドの第2
    の方向への動作が前記粉体フロー管及び前記少なくとも1つの可調整壁を外側へ
    移動させることにより放出の幅を広げる請求項1に記載の粉体供給装置。
  20. 【請求項20】 調整可能な速度にて放出部を通して粉体を供給するべく、
    放出部にて回転可能に装着されている計測ブラシを有し、該計測ブラシの回転速
    度を選択的に調整することにより速度を調整可能である請求項1に記載の粉体供
    給装置。
  21. 【請求項21】 前記計測ブラシが前記回転可能なオーガーブラシに対して
    実質的に平行である請求項20に記載の粉体供給装置。
  22. 【請求項22】 前記粉体受容部がその長さ全体に亘って実質的に一定の断
    面の縦長形状を有し、前記少なくとも1つの可調整壁が前記粉体供給装置の長手
    方向の一端近傍に配置され、該粉体供給装置の他端へ向かって選択的に直線状に
    動くことにより放出の幅を選択的に調整し、 前記少なくとも1つの可調整壁が、粉体受容部と連通し該可調整壁と共に動く
    べく該可調整壁へ固定されかつ該粉体受容部から延びる粉体フロー管を有し、前
    記少なくとも1つの可調整壁の外側表面から、回転可能なオーガーブラシが該粉
    体フロー管を通って延びかつこれを通して粉体を移送するべく配置され、 前記粉体供給装置がさらに固定供給管を有し、該固定供給管は、粉体フロー管
    が前記回転可能なオーガーブラシの一部に沿って遠近自在に移動可能であるよう
    に配置され、それにより該回転可能なオーガーブラシが該固定供給管を通して粉
    体を移送する請求項20の粉体供給装置。
  23. 【請求項23】 前記固定供給管及び前記粉体フロー管は前記粉体供給部の
    方へ延び、かつ共になって前記少なくとも1つの可調整壁の動きを調整可能な長
    さの遠近自在の粉体供給経路を規定する請求項22の粉体供給装置。
  24. 【請求項24】 前記固定供給管及び前記粉体フロー管が、前記粉体供給部
    から粉体再生装置へ延び、かつ共になって前記少なくとも1つの可調整壁の動き
    を補償する調整可能な長さの遠近自在の粉体再生経路を規定する請求項22に記
    載の粉体供給装置。
  25. 【請求項25】 前記粉体供給装置が放出器を有し、該放出器が、前記計測
    ブラシの近傍に回転可能にかつ該計測ブラシに対して実質的に平行に装着された
    噴霧ブラシを具備し、それにより計測ブラシから粉体を受け取り、該粉体を目標
    体積へ実質的に均一に分布される方式で分散させる請求項22に記載の粉体供給
    装置。
  26. 【請求項26】 前記粉体供給装置が放出器を有し、該放出器が、前記計測
    ブラシの近傍に回転可能にかつ該計測ブラシに対して実質的に平行に装着された
    噴霧ブラシを具備し、それにより計測ブラシから粉体を受け取り、該粉体を目標
    体積へ実質的に均一に分布される方式で分散させる請求項20に記載の粉体供給
    装置。
  27. 【請求項27】 粉体供給部から粉体放出器へ粉体を供給する粉体供給装置
    において、 入口、前記粉体放出器へ向けられた放出口、固定壁部、及び2つの可調整壁を
    具備する粉体受容部を有し、該2つの可調整壁は該粉体受容部の対向する端部上
    に配置され、該2つの可調整壁の各々が放出の幅を調整すべく前記固定壁部に対
    して移動可能であり、さらに、 前記粉体供給部から粉体を引き出しかつ該粉体を前記供給装置の前記入口を通
    して移動するために前記粉体供給部と連通しかつ前記粉体受容部の前記入口を通
    って延びる回転可能なオーガーブラシとを有する 粉体供給装置。
  28. 【請求項28】 粉体供給及び放出システムにおいて、 粉体の供給を保持するための粉体供給ホッパーと、 実質的に均一な方式で目標体積全体に対して前記粉体を放出するための粉体放
    出器と、 前記粉体供給ホッパーから前記粉体放出器へ粉体を供給するべく前記粉体供給
    ホッパーを前記粉体放出器へ接続する粉体供給装置とを有し、前記粉体供給装置
    が、 入口、前記粉体放出器へ向けられた放出口、固定壁部、及び放出の幅を調整す
    べく前記固定壁部に対して移動可能な少なくとも1つの可調整壁を具備する粉体
    受容部と、 前記粉体供給部から粉体を引き出しかつ該粉体を前記供給装置の前記入口を通
    して移動するために前記粉体供給部と連通しかつ前記粉体受容部の前記入口を通
    って延びる回転可能なオーガーブラシとを有する 粉体供給及び放出システム。
  29. 【請求項29】 粉体供給及び放出システムにおいて、 粉体供給及び放出システムにおいて、 粉体の供給を保持するための粉体供給ホッパーと、 実質的に均一な方式で目標体積全体に対して前記粉体を放出するための粉体放
    出器と、 前記粉体供給ホッパーから前記粉体放出器へ粉体を供給するべく前記粉体供給
    ホッパーを前記粉体放出器へ接続する粉体供給装置とを有し、前記粉体供給装置
    が、 入口、前記粉体放出器へ向けられた放出口、固定壁部、及び2つの可調整壁を
    具備する粉体受容部を有し、該2つの可調整壁は該粉体受容部の対向する端部上
    に配置され、該2つの可調整壁の各々が放出の幅を調整すべく前記固定壁部に対
    して移動可能であり、さらに、 前記粉体供給部から粉体を引き出しかつ該粉体を前記供給装置の前記入口を通
    して移動するために前記粉体供給部と連通しかつ前記粉体受容部の前記入口を通
    って延びる回転可能なオーガーブラシとを有する 粉体供給及び放出システム。
  30. 【請求項30】 目標ウェブ上に均一なコーティングを行うためのコーティ
    ング装置において、該コーティング装置が、 粉体の供給を保持するための粉体供給ホッパーと、 実質的に均一な方式で目標ウェブ近傍の目標体積全体に対して前記粉体を放出
    するための粉体放出器と、 粉体放出器により放出された粉体を用いて実質的に均一な方式で目標ウェブを
    静電的にコーティングするための目標体積における静電コーターと、 前記粉体供給ホッパーから前記粉体放出器へ粉体を供給するべく前記粉体供給
    ホッパーを前記粉体放出器へ接続する粉体供給装置とを有し、前記粉体供給装置
    が、 入口、前記粉体放出器へ向けられた放出口、固定壁部、及び放出の幅を調整す
    べく前記固定壁部に対して移動可能な少なくとも1つの可調整壁を具備する粉体
    受容部と、 前記粉体供給部から粉体を引き出しかつ該粉体を前記供給装置の前記入口を通
    して移動するために前記粉体供給部と連通しかつ前記粉体受容部の前記入口を通
    って延びる回転可能なオーガーブラシとを有する コーティング装置。
  31. 【請求項31】 目標ウェブ上に均一なコーティングを行うためのコーティ
    ング装置において、該コーティング装置が、 粉体の供給を保持するための粉体供給ホッパーと、 実質的に均一な方式で目標ウェブ近傍の目標体積全体に対して前記粉体を放出
    するための粉体放出器と、 粉体放出器により放出された粉体を用いて実質的に均一な方式で目標ウェブを
    静電的にコーティングするための目標体積における静電コーターと、 前記粉体供給ホッパーから前記粉体放出器へ粉体を供給するべく前記粉体供給
    ホッパーを前記粉体放出器へ接続する粉体供給装置とを有し、前記粉体供給装置
    が、 入口、前記粉体放出器へ向けられた放出口、固定壁部、及び2つの可調整壁を
    具備する粉体受容部を有し、該2つの可調整壁は該粉体受容部の対向する端部上
    に配置され、該2つの可調整壁の各々が放出の幅を調整すべく前記固定壁部に対
    して移動可能であり、さらに、 前記粉体供給部から粉体を引き出しかつ該粉体を前記供給装置の前記入口を通
    して移動するために前記粉体供給部と連通しかつ前記粉体受容部の前記入口を通
    って延びる回転可能なオーガーブラシとを有する コーティング装置。
  32. 【請求項32】 目標ウェブの両側の第1の面と第2の面に対して均一なコ
    ーティングを行うための両面コーティング装置において、 粉体の供給を保持するための少なくとも1つの粉体供給ホッパーと、 実質的に均一な方式で目標ウェブの第1の面上の第1の目標体積全体に対して
    前記粉体を放出するための第1の粉体放出器と、 前記第1の粉体放出器により放出された粉体を用いて実質的に均一な方式で目
    標ウェブの第1の面を静電的にコーティングするための第1の目標体積における
    第1の静電コーターと、 前記第1の粉体供給ホッパーから前記第1の粉体放出器へ粉体を供給するべく
    前記第1の粉体供給ホッパーを前記第1の粉体放出器へ接続する第1の粉体供給
    装置と、 実質的に均一な方式で目標ウェブの第2の面上の第2の目標体積全体に対して
    前記粉体を放出するための第2の粉体放出器と、 前記第2の粉体放出器により放出された粉体を用いて実質的に均一な方式で目
    標ウェブの第2の面を静電的にコーティングするための第2の目標体積における
    第2の静電コーターと、 前記第2の粉体供給ホッパーから前記第2の粉体放出器へ粉体を供給するべく
    前記第2の粉体供給ホッパーを前記第2の粉体放出器へ接続する第2の粉体供給
    装置とを有し、 前記第1の粉体供給装置が、 入口、前記粉体放出器へ向けられた放出口、固定壁部、及び放出の幅を調整す
    べく前記固定壁部に対して移動可能な少なくとも1つの可調整壁を具備する第1
    の粉体受容部と、 前記第1の粉体供給部から粉体を引き出しかつ該粉体を前記供給装置の前記入
    口を通して移動するために前記第1の粉体供給部と連通しかつ前記第1の粉体受
    容部の前記入口を通って延びる回転可能な第1のオーガーブラシとを有する 両面コーティング装置。
  33. 【請求項33】 目標ウェブの両側の第1の面と第2の面に対して均一なコ
    ーティングを行うための両面コーティング装置において、 粉体の供給を保持するための少なくとも1つの粉体供給ホッパーと、 実質的に均一な方式で目標ウェブの第1の面上の第1の目標体積全体に対して
    前記粉体を放出するための第1の粉体放出器と、 前記第1の粉体放出器により放出された粉体を用いて実質的に均一な方式で目
    標ウェブの第1の面を静電的にコーティングするための第1の目標体積における
    第1の静電コーターと、 前記第1の粉体供給ホッパーから前記第1の粉体放出器へ粉体を供給するべく
    前記第1の粉体供給ホッパーを前記第1の粉体放出器へ接続する第1の粉体供給
    装置と、 実質的に均一な方式で目標ウェブの第2の面上の第2の目標体積全体に対して
    前記粉体を放出するための第2の粉体放出器と、 前記第2の粉体放出器により放出された粉体を用いて実質的に均一な方式で目
    標ウェブの第2の面を静電的にコーティングするための第2の目標体積における
    第2の静電コーターと、 前記第2の粉体供給ホッパーから前記第2の粉体放出器へ粉体を供給するべく
    前記第2の粉体供給ホッパーを前記第2の粉体放出器へ接続する第2の粉体供給
    装置とを有し、 前記第1の粉体供給装置が、 入口、前記第1の粉体放出器へ向けられた放出口、固定壁部、及び2つの可調
    整壁を具備する第1の粉体受容部を有し、該2つの可調整壁は該第1の粉体受容
    部の対向する端部上に配置され、該2つの可調整壁の各々が放出の幅を調整すべ
    く前記固定壁部に対して移動可能であり、さらに、 前記第1の粉体供給部から粉体を引き出しかつ該粉体を前記第1の供給装置の
    前記入口を通して移動するために前記第1の粉体供給部と連通しかつ前記第1の
    粉体受容部の前記入口を通って延びる回転可能な第1のオーガーブラシとを有す
    る 両面コーティング装置。
  34. 【請求項34】 粉体適用システムにおいて、 供給ホッパー、該供給ホッパーから離れかつ入口と放出口をもつ粉体供給装置
    、該供給ホッパーと連通しかつ該入口を覆って延びることにより該供給ホッパー
    から粉体を引き出して縦方向に該粉体供給装置へ移送し該入口を通して該粉体供
    給装置全体に水平に供給する回転可能なオーガーブラシ、該ブラシを回転させる
    駆動装置、並びに放出の幅を調整するべく移動可能な少なくとも1つの可調整壁
    を有する粉体供給噴霧器と、 前記粉体供給噴霧器と連通する適用チャンバとを有し、該適用チャンバが、基
    板出口と並んだ基板入口、該粉体供給噴霧器により供給される粉体を帯電させる
    べく該チャンバ内に並べられた複数の帯電電極、及び粉体の分散及び該電極から
    発生する電場を形成するための電極を介在させた該チャンバ内に設置される複数
    のバッフルを具備し、それにより粉体が該チャンバ内に配置された基板に対して
    引きつけられ付着させられる 粉体適用システム。
  35. 【請求項35】 粉体供給部から粉体放出器へ粉体を供給する粉体供給装置
    において、該粉体供給装置が、入口、前記粉体放出器へ向けられた放出口、固定
    壁部、及び放出の幅を調整すべく前記固定壁部に対して直線状に移動可能な少な
    くとも1つの可調整壁を具備する粉体受容部を有する粉体供給装置。
  36. 【請求項36】 粉体供給部から粉体放出器へ粉体を供給する粉体供給装置
    において、該粉体供給装置が、入口、前記粉体放出器へ向けられた放出口、固定
    壁部、及び2つの可調整壁を具備する粉体受容部を有し、該2つの可調整壁は該
    粉体受容部の対向する端部上に配置され、該2つの可調整壁の各々が放出の幅を
    調整すべく前記固定壁部に対して直線状に移動可能である粉体供給装置。
  37. 【請求項37】 異なるサイズの目標面積に対応するべく粉体供給装置を調
    整する方法において、 前記粉体供給装置が少なくとも1つの可調整壁を具備する粉体受容部を具備し
    、前記方法が、 前記粉体を受ける目標面積を決定するステップと、 前記粉体受容部からの放出が実質的に前記目標面積に一致する幅であるように
    前記粉体受容部の前記少なくとも1つの可調整壁を動かすステップとを含む 粉体供給装置を調整する方法。
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