JP2002523595A - 難燃性ポリフェニレンエーテル−ポリアミド樹脂ブレンド - Google Patents
難燃性ポリフェニレンエーテル−ポリアミド樹脂ブレンドInfo
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Abstract
Description
ーテル−ポリアミド樹脂ブレンドの難燃性組成物に関する。
成物を製造する方法並びに当該組成物の成形品にも関する。
性質、化学的性質及び電気的性質の比類のない組合せのため、商業的魅力のある
材料である。さらに、かかる樹脂とポリアミド樹脂を組み合わせて相溶化ブレン
ドにすると、全体として耐薬品性、高強度及び高流動性等の付加的性質が得られ
る。かかる相溶化ブレンドの例は、米国特許第4315086号(Ueno他)
、同第4659760号(van der Meer)及び同第4732938
号(Grant他)に見いだすことができる。こうしたブレンドの性質は耐衝撃
性改良剤、光安定剤、加工安定剤、熱安定剤、酸化防止剤及び充填材等の各種添
加剤の添加によってさらに向上させることができる。
の最終用途製品、殊にアンダーフード及び各種外装部品に格好の材料である。そ
の他の市場での用途は、かかるブレンドに有効な難燃剤系がないため幾分限られ
ている。例えば電気コネクタのような望ましい用途では、アンダーライターズラ
ボラトリー(Underwriter’s Laboratory)UL−94
規格で少なくともV−0、V−1又はV−2の難燃性評価が要求される。樹脂は
同時に延性、流動性及び表面外観にも優れていなければならない。従来のリン酸
エステル系難燃剤では、PPE/ポリアミドブレンドに利用したときの特性バラ
ンスに問題があり、数多くの潜在的市場に広く浸透するには至っていない。
に対するニーズが相変わらず存在しているのは明らかである。
上のホスホルアミド化合物とを含んでなる樹脂組成物を提供する。本発明は、難
燃性の相溶化ポリフェレンエーテル−ポリアミド樹脂組成物の製造方法並びに当
該樹脂組成物から製造される物品も提供する。
ド樹脂の相溶化ブレンドを含んでいる。ポリフェニレンエーテル樹脂とポリアミ
ド樹脂の相溶化ブレンドは当技術分野で周知である。かかるブレンドは通例、ポ
リフェニレンエーテル樹脂とポリアミド樹脂を含む組成物に相溶化剤を添加する
ことからなる反応性コンパウンディング技術で製造される。相溶化剤はポリフェ
ニレンエーテル樹脂とポリアミド樹脂の反応生成物を生じ、かかる反応生成物が
ポリフェニレンエーテル樹脂とポリアミド樹脂との相溶性を向上させるものと考
えられる。かかる相溶性の向上の結果、例えば延性の増加等の物理的特性が向上
する。ポリフェニレンエーテル樹脂とポリアミド樹脂のブレンドの代表的相溶化
剤としては、クエン酸、無水マレイン酸、フマル酸、リンゴ酸及びこれらの各種
誘導体がある。
、好ましくはポリアミド樹脂が連続相として留まるように調節する。好ましくは
、ポリアミドは樹脂組成物全体の約40重量%以上である。ポリアミド量を増す
と延性及び流動性が高まり、好ましいことが多い。樹脂組成物は、ナイロン6と
ナイロン6,6のブレンドのように2種類以上のポリアミド樹脂を含んでいても
よい。さらに、ポリアミド樹脂のアミン末端基と酸末端基の比、並びに樹脂組成
物に含まれるポリアミドの相対粘度も種々変更し得る。
テル樹脂がすべて包含される。好ましい樹脂には、ポリ(2,6−ジメチルフェ
ニレンエーテル)及び2,6−ジメチルフェノールと2,3,6−トリメチルフ
ェノールとの共重合体樹脂がある。ポリアミド樹脂及びポリフェニレンエーテル
樹脂の上記その他の変更は本発明から除外されるものではない。
性向上用のエラストマー等、各種の改質剤をさらに含んでいてもよい。かかる目
的に有用なエラストマーは当技術分野で公知であり、例えばスチレン系ブロック
共重合体及び各種酸官能化エチレン−プロピレン共重合体(例えば、EP−グラ
フト−無水マレイン酸)がある。特に好ましいのは、いわゆるゴム系ブロック共
重合体(例えばA−B−A型トリブロック共重合体及びA−B型ジブロック共重
合体等)である。使用し得るA−B型及びA−B−A型ブロック共重合体ゴム添
加剤は、1又は2つのアルケニル芳香族ブロック(通例スチレンブロックである
)とゴムブロック(例えばブタジエンブロックであり、部分的又は完全に水添し
てもよい)からなる熱可塑性ゴムである。これらのトリブロック共重合体とジブ
ロック共重合体の混合物が本発明では特に好ましい。
78254号、同第3402159号、同第3297793号、同第32657
65号及び同第3594452号並びに英国特許第1264741号に開示され
ている。A−B型及びA−B−A型のブロック共重合体の典型例としては、ポリ
スチレン−ポリブタジエン(SBR)、ポリスチレン−ポリ(エチレン−プロピ
レン)、ポリスチレン−ポリイソプレン、ポリ(α−メチルスチレン)−ポリブ
タジエン、ポリスチレン−ポリブタジエン−ポリスチレン(SBR)、ポリスチ
レン−ポリ(エチレン−ブチレン)−ポリスチレン、ポリスチレン−ポリイソプ
レン−ポリスチレン及びポリ(α−メチルスチレン)−ポリブタジエン−ポリ(
α−メチルスチレン)並びにこれらを選択的に水添したものがある。上述のブロ
ック共重合体の混合物も有用である。かかるA−B及びA−B−A型ブロック共
重合体は数々の販売元から市販されており、例えばPhillips Petr
oleum社からSOLPRENEという商品名で、Shell Chemic
al社からKRATONという商品名で、Dexco社からVECTORという
商品名で、またクラレ(株)からセプトン(SEPTON)という商品名で市販
されている。その他の改質剤としては、核剤、安定剤、顔料、染料、並びに無機
質充填材及び補強材がある。
及びオルトエステル基からなる群の1以上の残基を含むポリオレフィンエラスト
マーのような、官能化ポリオレフィンエラストマーがある。ポリオレフィンエラ
ストマーの基本構造単位はエチレンと、プロピレン、1−ブテン、1−ヘキセン
及び1−オクテンのような1種類以上のC3-8 1−オレフィンから誘導される。
エチレンと1種類以上のC3-8 1−オレフィンの量比は、それらが共に重合体の
大部分を占めることを条件して、さほど重要ではない。
ン−プロピレンゴム又は官能化エチレン−プロピレン−ジエンエラストマーであ
る。そのジエン部分は、エチリデンノルボルネンや1,4−ヘキサジエンやジシ
クロペンタジエンのような1種類以上の非共役ジエンである。これらのポリオレ
フィンエラストマーは当技術分野ではEPR及びEPDMエラストマーとして知
られている。
量%、好ましくは約1〜約10重量%である。ここで、重量割合は組成物の全重
量を基準とする。前記耐衝撃性改良剤の混合物も有用である。
上、最も好ましくは約20℃以上のガラス転移点を有する式Iのホスホルアミド
1種類以上である。
ールオキシ残基、1以上のアルキル置換基もしくはハロゲン置換基もしくはそれ
らの混合置換基を含むアリールオキシ残基、又はアミン残基であり、Q1は酸素
又はイオウである。Q1基としては酸素が特に好ましい。組成物は、実質的に1
種類のホスホルアミド又は2種類以上の異なるホスホルアミドの混合物を含んで
いてもよい。実質的に1種類のホスホルアミドを含む組成物が好ましい。
燃特性を高めることが知られている有機リン酸エステルと比較して、ポリアミド
のアミン末端基の数及び/又はポリアミド樹脂の分子量に及ぼす影響が格段に少
ないことが判明した。ホスホルアミドは約0℃以上、好ましくは約10℃以上、
最も好ましくは約20℃以上のガラス転移点を有するのが好ましい。ガラス転移
点が約0℃以上のホスホルアミドを樹脂組成物のリン源として用いると、その樹
脂組成物で作成した試験片では、当技術分野で公知の有機リン酸エステルを含む
組成物よりも高い加熱撓み温度を得ることができるという意外な知見も得られた
。
ようなR1、R2、R3残基を各々選択することで、制限の少ない残基を有する類
似ホスホルアミドよりもガラス転移点が上昇するものと考えられる。例えば、1
以上のハロゲン又は好ましくは1以上のアルキル置換基を含むアリールオキシ残
基のような嵩高い置換基を有する残基は、アリールオキシ残基に置換基のない類
似ホスホルアミドよりも高いガラス転移点を有するホスホルアミドを与える。同
様に、R1、R2、R3残基の2以上が相互に結合し、例えばR2とR3残基の組合
せがペンチル残基であると、ガラス転移点が約0℃以上の望ましいホスホルアミ
ドが得られる。
以上、最も好ましくは約20℃以上のガラス転移温度を有する式VIのホスホルア
ミドからなる。
はハロゲン置換基又はそれらの混合置換基を含むアリール基、又はアミン残基で
ある。
ル基又は2,3,6−トリメチルフェニル基である。これらのホスホルアミドは
ピペラジン型ホスホルアミドである。上記の式で各A3-6残基が2,6−ジメチ
ルフェニル基であると、そのホスホルアミドのガラス転移温度は約62℃、融点
は約192℃である。逆に、上記の式で各A3-6残基がフェニルであると、その
ホスホルアミドのガラス転移温度は約0℃、融点は約188℃である。上記式の
A3-6が各々2,6−ジメチルフェニル基であるホスホルアミドのガラス転移温
度が各A3-6がフェニルであるホスホルアミドのガラス転移温度(約0℃)と比
べてこれほど高い(約62℃)ことは、特にこれらのホスホルアミドの融点の差
が約4℃しかなかったことから、予想外であった。比較のため、テトラフェニル
レゾルシノールジホスフェートのガラス転移温度は約−38℃である。また、ホ
スホルアミドに各種の置換及び非置換アリール残基を混ぜて使うことで、中間の
ガラス転移温度を有するホスホルアミドを作ることもできる。
0℃以上、最も好ましくは約20℃以上のガラス転移温度を有する式VIIのホス
ホルアミドからなる。
しくはハロゲン置換基又はそれらの混合置換基を含むアリール基、又はアミン残
基であり、nは0〜約5である。さらに好ましい実施形態では、各A7-11残基は
独立にフェニル、2,6−ジメチルフェニル又は2,3,6−トリメチルフェニ
ルであり、nは0〜約5である。
0℃以上、最も好ましくは約20℃以上のガラス転移温度を有する式VIIIのホス
ホルアミドからなる。
ルキル置換基もしくはハロゲン置換基又はそれらの混合置換基を含むアリールオ
キシ基、又はアミン残基である。
0℃以上、最も好ましくは約20℃以上のガラス転移温度を有する式IXのホスホ
ルアミドからなる。
くはハロゲン置換基又はそれらの混合置換基を含むアリール基、又はアミン残基
であり、R7は各々アルキル基であるか或いは2つのR7基一体で1つのアルキレ
ン基である。
0℃以上、最も好ましくは約20℃以上のガラス転移点を有する式Iのホスホル
アミドからなる。
、アリールオキシ残基、1以上のアルキル置換基もしくはハロゲン置換基又はそ
れらの混合置換基を含むアリールオキシ残基、又はアミン残基である。
しくはハロゲン置換基又はそれらの混合置換基を含む芳香族基、又はアミン残基
であり、各1はアルキル基、芳香族基、又は1以上のアルキル置換基もしくはハ
ロゲン置換基又はそれらの混合置換基を含む芳香族基であり、各X1はアルキル
基、芳香族基、又は1以上のアルキル置換基もしくはハロゲン置換基又はそれら
の混合置換基を含む芳香族基であり、nは0〜約5である。
0℃以上、最も好ましくは約20℃以上のガラス転移点を有する式Iのホスホル
アミドからなる。
、アリールオキシ残基、1以上のアルキル置換基もしくはハロゲン置換基又はそ
れらの混合置換基を含むアリールオキシ残基、又はアミン残基である。
あり、R8、R9、R10は各々独立にアルキルオキシ残基、アリールオキシ残基、
1以上のアルキル置換基もしくはハロゲン置換基又はそれらの混合置換基を含む
アリールオキシ残基、又はアミン残基であり、nは0〜約5である。特に好まし
い実施形態ではホスホルアミドはピペラジンから誘導される(すなわち、X2及
びZ2は各々−CH2−CH2−である。)。
0℃以上、最も好ましくは約20℃以上のガラス転移点を有する式XIIのホスホ
ルアミドからなる。
あり、Q1は酸素又はイオウであり、A25は同一又は異なる残基(脂肪族でも、
脂環式でも、芳香族でも、アルカリールでもよい)を有する第一又は第二アミン
から誘導される基、或いはA25は複素環式アミンから誘導される基、或いはA25 はヒドラジン化合物である。好ましくは、Q1は酸素である。なお、nが0のと
きは、その部位(すなわちX3の存在しない部位)で2つのアリール環がホスホ
リル結合に対してオルト位,オルト′位で単結合により結合している。
0℃以上、最も好ましくは約20℃以上のガラス転移点を有する式XIIIのホスホ
ルアミドからなる。
あり、X4は存在すればアルキリデン基であり、m及びnは各々独立に0又は1
であり、A26は
Z3は独立にアルキル基又はアリール基である)、或いはA26は
る)である。好ましいホスホルアミドは、Qが酸素で、A26がピペラジン残基で
あるものであり、かかるホスホルアミドはA26に対称中心を有する。非常に好ま
しいホスホルアミドには、Q1が酸素で、A26がピペラジン残基であるものがあ
り、かかるホスホルアミドはA26に対称中心を有しており、各アリール環の1以
上のR置換基は酸素置換基に隣接したメチルであり、n及びmは各々1であり、
X4はCHR23であり、R23は水素又は炭素原子数約1〜約6のアルキル残基で
ある。なお、mとnのいずれか又は両方が0であるときは、その部位(すなわち
X4の存在しない部位)で2つのアリール環がホスホリル結合に対してオルト位
,オルト′位で単結合により結合している。
、例えばアルキル基とアルキル残基はいずれもアルキルを意味する。
えばピペラジンやN,N′−ジメチルエチレンジアミンのような対応アミンを式
(アリール−O)2POClのジアリールクロロホスフェートと反応させて製造さ
れる。この製造方法は、Talley, J. Chem. Eng. Dat
a, 33, 221−222(1988)に記載されており、繰返し単位のな
いホスホルアミド化合物を与える。別法として、ホスホルアミドは、第三アミン
の存在下で、対応アミンをP(O)Cl3、及びアミン添加と同時又はアミン添加
後に加えられる所望のヒドロキシ化合物と反応させることによっても製造できる
。P(O)Cl3にジアミン又はトリアミンを加え、それと同時又は後でヒドロキ
シ化合物を添加すると、大抵は化合物当たり1〜約5個のホスホルアミド結合を
有するホスホルアミドの繰返し単位を生じると考えられる。同様に、モノ置換ホ
スホリルジクロリドにジアミン又はトリアミンを加え、それと同時に又は後で含
ヒドロキシ化合物を添加しても、ホスホルアミドの繰返し単位が得られると考え
られる。
のホスホルアミドを含む。難燃性は、好ましくはアンダーライターズラボラトリ
ーUL−94規格に従って測定される。難燃化量とは、約0.125インチ、好
ましくは約0.06インチ、最も好ましくは約0.03インチの厚さで、UL−
94規格で試験したときにV−2評価以上、好ましくはV−1評価以上、最も好
ましくはV−0評価を組成物に与えるのに有効な量をいう。加工性の向上は、例
えばコンパウンディング時の押出機のトルクの低下、射出成形時の圧力の低下、
粘度の低下及び/又はサイクル時間の増大として求めることができる。
て測定される。難燃化量とは、約0.03〜約0.125インチ厚×約0.5イ
ンチ×約5インチ、好ましくは約0.125インチ厚×約0.5インチ×約5イ
ンチ、さらに好ましくは約0.06インチ厚×約0.5インチ×約5インチ、最
も好ましくは約0.03インチ厚×約0.5インチ×約5インチの寸法の試験片
で測定して、UL−94規格で試験したときにV−2評価以上、好ましくはV−
1評価以上、最も好ましくはV−0評価を組成物に与えるのに有効な量をいう。
加工性の向上は、例えばコンパウンディング時の押出機のトルク低下、射出成形
時の圧力の低下、粘度の低下及び/又はサイクル時間の短縮として求めることが
できる。
のリン添加剤との混合物の量は、通例、樹脂材料100部当たりリン約0.1〜
3部(phr)、好ましくは約0.25〜2.5部である。ここでの割合はすべ
て重量基準である。ホスホルアミド又はホスホルアミド/リン添加剤混合物の合
計量は大抵は約1〜50phr、好ましくは5〜35phrである。
防止剤、染料、顔料、着色剤、安定剤、ガラス繊維、炭素繊維及びカーボンフィ
ブリル、クレイやマイカやタルクのような細粒鉱物、帯電防止剤、可塑剤、滑剤
及びこれらの混合物からなる群から選択される1種類以上の添加剤を有効量含ん
でいてもよい。これらの添加剤は当技術分野において公知であり、その有効量及
び配合方法も同様に公知である。添加剤の有効量は広範囲にわたるが、普通は組
成物全体の重量を基準にして約50重量%以下或いはそれ以上である。特に好ま
しい添加剤には、ヒンダードフェノール類、チオ化合物、及び各種脂肪酸から誘
導されるアミド類がある。これらの添加剤の好ましい量は組成物の総重量を基準
にして合計約2重量%以下である。
する。ポリシロキサン化合物はそれ自体公知である。その性質は比較的低粘度の
液体からゴム状ポリマーまで種々異なる。ポリシロキサン一般にケイ素原子と酸
素原子が交互に連なる主鎖からなり、ケイ素原子が様々な基で置換されている。
ポリシロキサン化合物は、単独重合体、ブロック共重合体又はランダム共重合体
など種々の構造を有し得る。好適なポリシロキサンには、ケイ素原子の置換基が
主にアルキル基(例えばメチル基やフェニル基)又はアリール基(例えばフェニ
ル基)又は両者の組合せからなる液体がある。また、ケイ素原子の一部が水素原
子に結合していてもよい。
ロキサンを使用してもよい。かかる基の例には、アミン基、エポキシ基、及びカ
ルボン酸から誘導される基がある。
R7、R8、R9、R10、R11、R12、R13、R14、R15は各々独立に水素原子又
は炭素原子数1〜12の、アルキル、アルコキシ、アルケニル、アリール、アラ
ルキル、アルキルアリール(これらの基はハロゲン化されていてもよい)のいず
れかの基を表し、X1、X2、X3は各々独立に、アルキレン、シクロアルキレン
、アリーレン、アラルキレン、アルキルアリーレンのいずれかの基を表し、Z1
、Z2、Z3の各々は、−NR16R17、−NH−(CH2)k−NR16R17(式中、R 16 及びR17は各々独立に水素原子又は炭素原子数1〜12のアルキル基を表し、
kは1〜10の値を有する)、脂肪族又は環式脂肪族エポキシド、カルボン酸基
のいずれかの基を表し、Z1又はZ2は水素原子である。ただし、ポリシロキサン
化合物は、アミン基とエポキシド基を同時に含むべきではなく、アミン基とカル
ボン酸基を同時に含むべきではなく、又はエポキシド基とカルボン酸基を同時に
含むべきではない。好適なカルボン酸基としては酸無水物基がある。
記成分を単にブレンディングすることによって達成される。かかる条件には、往
々にして、単軸又は二軸押出機その他上記成分に剪断力を与え得る同様の混合装
置での混合が含まれる。
分の1又はそれ以上(好ましくはPPE、任意成分のエラストマー及び/又はポ
リアミド)と予備コンパウンディングしてもよい。ポリアミド樹脂とのコンパウ
ンディングに先立って最初にPPEとゴム系ブロック共重合体及び任意にはその
他の成分を予備コンパウンディングしておくことによって、衝撃強さ及び伸びの
ようなある種の性質が向上することもあるが、これらの改善は相溶化組成物の粘
度の上昇という犠牲を伴う。加工には別々の押出機を使用してもよいが、これら
の組成物は好ましくは各種成分の添加に適合した複数の供給口をその長手方法に
沿って有する単一の押出機を使用することによって製造される。組成物中の揮発
性不純物を除去するため押出機の1箇所以上のベント口を介してメルトを真空に
引くのが往々にして有利である。ブレンディングの時間及び温度並びに成分添加
については、過度の実験を要することなく当業者が適宜設定し得るであろう。
が本発明の技術的範囲に属することは明らかである。
。
が45ml/gのポリ(2,6−ジメチル−1,4−フェニレンエーテル); PA−6,6: ASTM D789に準拠して90%ギ酸中8.4重量%ナ
イロン溶液で測定した粘度が54〜62ml/gのポリアミド−6,6で、アミ
ン末端基数がμeq/gのもの; CAH: クエン酸一水和物; XPP: N,N′−ビス−[ジ−(2,6−キシレノキシ)ホスフィニル]
ピペラジン、すなわち次式の化合物、
で市販されているアミン官能化ポリシロキサン流体; BP: Budenheim社からBudit 321として市販されている
リン酸ホウ素。
て、以下の表に示す重量比で成分をコンパウンディングした。スクリュー速度は
300rpmであり、押出量は毎時10kgであった。ポリアミドを除くすべて
の成分は押出機のスロートから供給し、ポリアミドはその下流の押出機の長さの
略半分のところから供給した。押出機から吐出したストランドを実験室装置でペ
レットに造粒し、約110℃で約3時間乾燥した。乾燥ペレットを物性試験用標
準ASTM試験片へと射出成形した。各試料について、FOT(5枚の試験片に
ついて1回目と2回目の着火の合計消炎時間)及びUL−94分類を求めた。結
果を表1に示す。
)を含む組成物は非常に短い消炎時間及びアンダーライターズラボラトリー試験
法で非常に望ましいV1及びV0評価を達成できる。さらに、ホスホルアミドと
共にシリコーンオイルを添加して用いると低レベルのホスホルアミドで同様の結
果が得られる。
アミド組成物の相溶化を邪魔するのが通例であるので、ホスホルアミドを配合し
た上記の結果は予想外のことである。このことは、XPP、RDP及びBPA−
DPと共に加熱したポリアミド6,6のアミン末端基分析及び分子量を比較した
以下の表IIのデータで実証される。
−DPはいずれもポリアミド樹脂のアミン末端基数と分子量に影響することを示
している。意外なことに、ホスホルアミドの一種であるXPPはポリアミドのア
ミン末端基数にも分子量にも大した影響を及ぼさなかった。ポリアミドのアミン
末端基数と分子量はPPEとポリアミドの相溶化、ひいては組成物の最終特性の
鍵を握る要因であると考えられる。
法、並びに当該組成物から製造された物品及び関連方法を包含していることは明
らかである。
Claims (19)
- 【請求項1】 a)相溶化ポリフェレンエーテル−ポリアミド樹脂組成物、
及び b)次式の1種類以上のホスホルアミド 【化1】 (式中、R1はアミン残基であり、R2及びR3は独立にアリールオキシ残基、1
以上のアルキル置換基を含むアリールオキシ残基、又はアミン残基であり、Qは
酸素原子又はイオウ原子である。) を含んでなる樹脂組成物。 - 【請求項2】 R1が次式を有する、請求項1記載の組成物。 【化2】 式中、各Aは独立に芳香族基、又は1以上のアルキル置換基を含む芳香族基であ
り、各Zは独立にアルキル基又はアリール基であり、各Xは独立にアルキル基又
はアリール基であり、nは0〜約5であり、Qは酸素原子である。 - 【請求項3】 R1が次式を有する、請求項1記載の組成物。 【化3】 式中、各Xは独立にアルキル、アリール又はアルカリールであり、各Zは独立に
アルキルであり、R4、R5及びR6は各々独立にアリールオキシ残基、1以上の
アルキル置換基を含むアリールオキシ残基、又はアミン残基であり、nは0〜約
5であり、Qは酸素原子である。 - 【請求項4】 ホスホルアミドが次式のホスホルアミドからなる、請求項1
記載の組成物。 【化4】 式中、各A残基は独立に2,6−ジメチルフェニル残基又は2,4,6−トリメ
チルフェニル残基であり、Qは酸素原子である。 - 【請求項5】 ホスホルアミドが次式のホスホルアミドからなる、請求項1
記載の組成物。 【化5】 式中、各A残基は独立に2,6−ジメチルフェニル残基である。 - 【請求項6】 ホスホルアミドが、約0.125インチ×約0.5インチ×
約5インチの寸法の試験片で測定してアンダーライターズラボラトリーUL−9
4規格でV−0、V−1又はV−2の難燃性評価を当該樹脂組成物に付与するの
に有効な量で存在する、請求項1記載の組成物。 - 【請求項7】 ホスホルアミドが約0℃以上のガラス転移点を有する、請求
項1記載の組成物。 - 【請求項8】 樹脂材料100部当たりのリンの合計量が約0.1〜3重量
部である、請求項1記載の組成物。 - 【請求項9】 ポリシロキサンをさらに含む、請求項1記載の組成物。
- 【請求項10】 請求項1記載の組成物から製造される物品。
- 【請求項11】 約0.125インチ×約0.5インチ×約5インチの寸法
の試験片で測定してアンダーライターズラボラトリーUL−94規格でV−2以
上の難燃性評価を難燃性組成物に付与するのに有効な量の含リン化合物を含む難
燃性組成物の加熱撓み温度を上昇させる方法であって、当該方法が、1種類以上
の熱可塑性樹脂と約0℃以上のガラス転移点を有する1種類以上のホスホルアミ
ドとを含んでなる方法。 - 【請求項12】 ホスホルアミドが次式を有する、請求項11記載の方法。 【化6】 式中、R1はアミン残基であり、R2及びR3は独立にアリールオキシ残基、1種
類以上のアルキル置換基を含むアリールオキシ残基、又はアミン残基であり、Q
は酸素原子又はイオウ原子である。 - 【請求項13】 ポリシロキサンをさらに含む、請求項11記載の方法。
- 【請求項14】 前記組成物がV−1以上の難燃性評価を有する、請求項1
1記載の方法。 - 【請求項15】 前記組成物がV−0以上の難燃性評価を有する、請求項1
1記載の方法。 - 【請求項16】 1種類以上のホスホルアミドが約10℃以上のガラス転移
点を有する、請求項11記載の方法。 - 【請求項17】 1種類以上のホスホルアミドが約20℃以上のガラス転移
点を有する、請求項11記載の方法。 - 【請求項18】 ホスホルアミドが次式のホスホルアミドからなる、請求項
11記載の方法。 【化7】 式中、各A残基は独立に2,6−ジメチルフェニル残基又は2,4,6−トリメ
チルフェニル残基である。 - 【請求項19】 請求項11記載の難燃性組成物。
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