JP2002523479A - 銅触媒によるエナンチオ選択性アリル位置換反応 - Google Patents
銅触媒によるエナンチオ選択性アリル位置換反応Info
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- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C67/00—Preparation of carboxylic acid esters
- C07C67/28—Preparation of carboxylic acid esters by modifying the hydroxylic moiety of the ester, such modification not being an introduction of an ester group
- C07C67/293—Preparation of carboxylic acid esters by modifying the hydroxylic moiety of the ester, such modification not being an introduction of an ester group by isomerisation; by change of size of the carbon skeleton
-
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- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07B—GENERAL METHODS OF ORGANIC CHEMISTRY; APPARATUS THEREFOR
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- C07B2200/07—Optical isomers
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Abstract
(57)【要約】
銅塩触媒と銅に対するキラル有機リガンドとの存在下でアリル化合物と有機亜鉛化合物〔Zn(R6)2〕とを反応させて、アリル化合物から基(離脱基)を取り除き、有機亜鉛化合物からの基をアリル化合物に付加させる。
Description
【０００１】 本発明は、選択的な合成およびそのための触媒に関する。
【０００２】 本発明によれば、銅塩触媒と銅に対するキラル有機リガンドとの存在下でアリ
ル化合物と有機亜鉛化合物Zn(R6)2とを反応させて、アリル化合物から基(離脱基
)を取り除き、有機亜鉛化合物からの基をアリル化合物に付加させる。リガンド
は、窒素原子がキラル中心に直接結合している第一アミンまたは第二アミンであ
るのが好ましい。アリル化合物は、式
ル化合物と有機亜鉛化合物Zn(R6)2とを反応させて、アリル化合物から基(離脱基
)を取り除き、有機亜鉛化合物からの基をアリル化合物に付加させる。リガンド
は、窒素原子がキラル中心に直接結合している第一アミンまたは第二アミンであ
るのが好ましい。アリル化合物は、式
【０００３】
【化４】
【０００４】 〔式中、Xは離脱基(例えば塩素原子)であり、Aは水素、または好ましくは0〜20
個の炭素原子を有するアルキル基もしくはアリール基である〕で示される化合物
であるのが適切である。*印を付けた炭素原子にて置換が起これば、キラル中心
が形成され、このプロセスはSn2'置換として知られている。+印を付けた炭素原
子にてこれに代わる置換が起こることがあり、この場合にはキラル中心は存在し
ない。このプロセスはSn2置換として知られている。これらの反応は下記のよう
に示され、このときR6は有機亜鉛化合物からの基である。
個の炭素原子を有するアルキル基もしくはアリール基である〕で示される化合物
であるのが適切である。*印を付けた炭素原子にて置換が起これば、キラル中心
が形成され、このプロセスはSn2'置換として知られている。+印を付けた炭素原
子にてこれに代わる置換が起こることがあり、この場合にはキラル中心は存在し
ない。このプロセスはSn2置換として知られている。これらの反応は下記のよう
に示され、このときR6は有機亜鉛化合物からの基である。
【０００５】
【化５】
【０００６】 驚くべきことに、これらプロセスにおいて、一般には前者の反応のほうが起こり
やすく、下記に示すように離脱基、リガンド、および溶媒(特に好ましい溶媒は
テトラヒドロフランである)によって影響を受ける。このプロセスは通常、Sn2'
置換に関して化学選択的であり、および/または立体選択的である。
やすく、下記に示すように離脱基、リガンド、および溶媒(特に好ましい溶媒は
テトラヒドロフランである)によって影響を受ける。このプロセスは通常、Sn2'
置換に関して化学選択的であり、および/または立体選択的である。
【０００７】 本発明の好ましい態様においては、反応は下記のように示される。
【０００８】
【化６】
【０００９】 上記式において、R1〜R6は、例えばハロゲン基、アルコキシ基、アリールオキシ
基、アシルオキシ基、ニトロ基、アミド基、アセトアミド基、カルボキシレート
基、シアノ基、アセタール基、スルフィド基、スルホネート基、スルホン基、ス
ルホキシド基、ホスファイト基、ホスホネート基、またはホスフィン基で置換さ
れていてもよいアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アラル
キル基、または複素環式基であって、R1〜R6のそれぞれが、多くても20個の炭素
原子を有していて10個未満の炭素原子を有するのが好ましいか、あるいはR1〜R5 がHであってもよく; R7は、例えばフェニル基もしくはフェロセニル基、または
置換アリール基もしくは置換フェロセニル基等のアリール基であって、このとき
置換基が、例えば1-アミノベンジル、1-アミノ-2-ナフチルメチル、1-アミノ-(4
-tert-ブチルフェニル)メチル、トリメチルシリル、ホスファイト、ホスフィン
、アルキル、アルコキシ、チオホスホネート、アミノ、および/またはハロゲン(
例えばClやBr)原子であってよく; R8はアルキル基またはアリール基であって、
好ましくはメチル基、エチル基、プロピル基、tert-ブチル基、フェニル基、ま
たはナフチル基(例えば2-ナフチル基)であり、これらの基が、例えばニトロ基、
アルコキシ基、アルキル基、および/またはハロアルキル基で置換されていても
よい。Xは、ハロゲン、OR9、OCOR9、OCO2R9、OSO2R9、OCS2R9、CH(OR10)2、OPO(
OR9)2、SOR9、またはSO2R9であって、このときR9とR10は置換されていてもよいC 1 -C10アルキルまたはアリールであり、このとき置換基が、ハロゲン基、ニトロ
基、メトキシ基、トリフルオロメトキシ基、メチル基、エチル基、tert-ブチル
基、またはスルホネート基、例えば、メチル基、エチル基、トリフルオロメチル
基、フェニル基、トシル基、p-ブロモフェニル基、p-ニトロフェニル基、p-メト
キシフェニル基であってよい。窒素原子が結合している炭素原子がキラルである
場合には、R7とR8が一緒になって5員もしくは6員の炭素環式または複素環式の環
を形成してもよい(例えば1-インデン、ボルニルアミン、または2-シクロヘキシ
ルアミン)。Yは、ハロゲン、カルボキシレート(例えば、アセテートやアセトア
セテート)、シアニド、またはチオシアニドであり、Zはエーテルまたはチオエー
テル(例えばジメチルスルフィド、テトラヒドロフラン、またはジエチルエーテ
ル)である。R1、R2、R3、およびR4とR5の一方が水素であり、R4とR5の他方がア
リール基(例えばフェニル、4-クロロフェニル、または4-トリフルオロメチルフ
ェニル)もしくはトリアルキル(例えばトリイソプロピル)シリルオキシメチル基
であり、そしてR6がアルキル、トリアルキル(例えばトリメチル)シリルメチル、
フェニル、または2,2-ジメチルブト-3-エニルであるのが好ましい。R7がフェロ
セニル基であり、R8がナフチル基であり、Xがクロライドであり、Yがクロライド
もしくはブロマイドであり、そしてZがジメチルスルフィドである。R5はフェニ
ルであるのが好ましく、R6はネオペンチルであるのが好ましい。R7の置換基は合
計で10個以下の炭素原子を有するのが好ましく、またR8の置換基は合計で8個以
下の炭素原子を有するのが好ましい。アルカン溶媒、シクロアルカン溶媒、およ
び/または芳香族溶媒(例えばトルエン)が存在してもよい。
基、アシルオキシ基、ニトロ基、アミド基、アセトアミド基、カルボキシレート
基、シアノ基、アセタール基、スルフィド基、スルホネート基、スルホン基、ス
ルホキシド基、ホスファイト基、ホスホネート基、またはホスフィン基で置換さ
れていてもよいアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アラル
キル基、または複素環式基であって、R1〜R6のそれぞれが、多くても20個の炭素
原子を有していて10個未満の炭素原子を有するのが好ましいか、あるいはR1〜R5 がHであってもよく; R7は、例えばフェニル基もしくはフェロセニル基、または
置換アリール基もしくは置換フェロセニル基等のアリール基であって、このとき
置換基が、例えば1-アミノベンジル、1-アミノ-2-ナフチルメチル、1-アミノ-(4
-tert-ブチルフェニル)メチル、トリメチルシリル、ホスファイト、ホスフィン
、アルキル、アルコキシ、チオホスホネート、アミノ、および/またはハロゲン(
例えばClやBr)原子であってよく; R8はアルキル基またはアリール基であって、
好ましくはメチル基、エチル基、プロピル基、tert-ブチル基、フェニル基、ま
たはナフチル基(例えば2-ナフチル基)であり、これらの基が、例えばニトロ基、
アルコキシ基、アルキル基、および/またはハロアルキル基で置換されていても
よい。Xは、ハロゲン、OR9、OCOR9、OCO2R9、OSO2R9、OCS2R9、CH(OR10)2、OPO(
OR9)2、SOR9、またはSO2R9であって、このときR9とR10は置換されていてもよいC 1 -C10アルキルまたはアリールであり、このとき置換基が、ハロゲン基、ニトロ
基、メトキシ基、トリフルオロメトキシ基、メチル基、エチル基、tert-ブチル
基、またはスルホネート基、例えば、メチル基、エチル基、トリフルオロメチル
基、フェニル基、トシル基、p-ブロモフェニル基、p-ニトロフェニル基、p-メト
キシフェニル基であってよい。窒素原子が結合している炭素原子がキラルである
場合には、R7とR8が一緒になって5員もしくは6員の炭素環式または複素環式の環
を形成してもよい(例えば1-インデン、ボルニルアミン、または2-シクロヘキシ
ルアミン)。Yは、ハロゲン、カルボキシレート(例えば、アセテートやアセトア
セテート)、シアニド、またはチオシアニドであり、Zはエーテルまたはチオエー
テル(例えばジメチルスルフィド、テトラヒドロフラン、またはジエチルエーテ
ル)である。R1、R2、R3、およびR4とR5の一方が水素であり、R4とR5の他方がア
リール基(例えばフェニル、4-クロロフェニル、または4-トリフルオロメチルフ
ェニル)もしくはトリアルキル(例えばトリイソプロピル)シリルオキシメチル基
であり、そしてR6がアルキル、トリアルキル(例えばトリメチル)シリルメチル、
フェニル、または2,2-ジメチルブト-3-エニルであるのが好ましい。R7がフェロ
セニル基であり、R8がナフチル基であり、Xがクロライドであり、Yがクロライド
もしくはブロマイドであり、そしてZがジメチルスルフィドである。R5はフェニ
ルであるのが好ましく、R6はネオペンチルであるのが好ましい。R7の置換基は合
計で10個以下の炭素原子を有するのが好ましく、またR8の置換基は合計で8個以
下の炭素原子を有するのが好ましい。アルカン溶媒、シクロアルカン溶媒、およ
び/または芳香族溶媒(例えばトルエン)が存在してもよい。
【００１０】 好ましい溶媒はエーテル(例えばジエチルエーテル、1,4-ジオキサン、およびt
ert-ブチルメチルエーテルなど)であり、特に好ましいのはテトラヒドロフラン
である。好ましい温度は−120℃〜25℃であり、さらに好ましい温度は−100℃〜
20℃であり、特に好ましい温度は−90℃〜−50℃である。
ert-ブチルメチルエーテルなど)であり、特に好ましいのはテトラヒドロフラン
である。好ましい温度は−120℃〜25℃であり、さらに好ましい温度は−100℃〜
20℃であり、特に好ましい温度は−90℃〜−50℃である。
【００１１】 触媒の好ましい濃度は、アリル化合物１モルを基準とした銅原子数をパーセン
ト表示したときに0.1〜20原子%であり、特に好ましい濃度は0.5原子%〜5原子%で
ある。
ト表示したときに0.1〜20原子%であり、特に好ましい濃度は0.5原子%〜5原子%で
ある。
【００１２】 銅原子対アミンリガンド分子の比は1:10〜2:1であるのが適切である。 式
【００１３】
【化７】
【００１４】 (式中、Aはフェロセニル基または置換フェロセニル基であり、Bはメチル基また
はフェニル基以外の基R8である)で示される化合物は新規化合物であると考えら
れる。立体特異性を得るために、基AとBは異なっていなければならない。Bは2-
ナフチル基であるのが好ましい。
はフェニル基以外の基R8である)で示される化合物は新規化合物であると考えら
れる。立体特異性を得るために、基AとBは異なっていなければならない。Bは2-
ナフチル基であるのが好ましい。
【００１５】 実施例1 (R)-(1-アミノ-2-ナフチルメチル)フェロセンの製造 工程1 フェロセン(4.5g, 24ミリモル)と三塩化アルミニウム(3.5g, 26ミリモル)を、
アルゴン雰囲気下、0℃にて乾燥ジクロロメタン(100ml)中で混合した。この緑色
懸濁液溶液に、塩化2-ナフトイル(5.0g, 26ミリモル)のジクロロメタン(20ml)溶
液を0℃にて20分で加えて暗紫色の溶液を得た。反応混合物を室温で2時間撹拌し
、塩化アンモニウム飽和水溶液(100ml)を慎重に加えることによってクエンチし
た。有機層を分離し、重炭酸ナトリウム飽和水溶液で洗浄し(2×30ml)、MgSO4で
乾燥し、減圧にて濃縮した。ペンタン/ジエチルエーテル(容量比1/1)を溶離剤と
して使用し、シリカゲルによるカラムクロマトグラフィーによって粗製残留物を
精製して、所望のケトン(5.6g, 69%)を赤色固体として得た。
アルゴン雰囲気下、0℃にて乾燥ジクロロメタン(100ml)中で混合した。この緑色
懸濁液溶液に、塩化2-ナフトイル(5.0g, 26ミリモル)のジクロロメタン(20ml)溶
液を0℃にて20分で加えて暗紫色の溶液を得た。反応混合物を室温で2時間撹拌し
、塩化アンモニウム飽和水溶液(100ml)を慎重に加えることによってクエンチし
た。有機層を分離し、重炭酸ナトリウム飽和水溶液で洗浄し(2×30ml)、MgSO4で
乾燥し、減圧にて濃縮した。ペンタン/ジエチルエーテル(容量比1/1)を溶離剤と
して使用し、シリカゲルによるカラムクロマトグラフィーによって粗製残留物を
精製して、所望のケトン(5.6g, 69%)を赤色固体として得た。
【００１６】 工程2 CBS触媒(0.70g, 2.5ミリモル)のTHF(80ml)溶液中に、フェロセニルケトン(4.5
, 13.2ミリモル)とボランジメチルスルフィド錯体(1.4ml, 14ミリモル)を同時に
、アルゴン雰囲気下0℃にて30分で加えた。CBS触媒は下記の式
, 13.2ミリモル)とボランジメチルスルフィド錯体(1.4ml, 14ミリモル)を同時に
、アルゴン雰囲気下0℃にて30分で加えた。CBS触媒は下記の式
【００１７】
【化８】
【００１８】 で示される化合物である。この触媒は、1,1-ジフェニルピロリジンメタノールと
ボランから製造される(Synlett 1993, 929を参照)。 さらに30分撹拌した後、混合物を塩化アンモニウム水溶液(70ml)でクエンチし
た。有機層を分離し、MgSO4で乾燥し、減圧にて濃縮した。ペンタン/エーテル(1
/1)を溶離剤として使用し、シリカゲルによるカラムクロマトグラフィーによっ
て粗生成物を精製して、所望のアルコール(4.0g, 89%)をオレンジ色固体として
得た。
ボランから製造される(Synlett 1993, 929を参照)。 さらに30分撹拌した後、混合物を塩化アンモニウム水溶液(70ml)でクエンチし
た。有機層を分離し、MgSO4で乾燥し、減圧にて濃縮した。ペンタン/エーテル(1
/1)を溶離剤として使用し、シリカゲルによるカラムクロマトグラフィーによっ
て粗生成物を精製して、所望のアルコール(4.0g, 89%)をオレンジ色固体として
得た。
【００１９】 工程3 フェロセニルアルコール(4.0g, 11.6ミリモル)を室温にて乾燥ピリジン(30ml)
と無水酢酸(20ml)中に溶解した。室温で18時間撹拌した後、揮発性成分を高減圧
にて50℃で除去して、高純度のアセチル化アルコール(4.5g, 100%)を赤色の糊状
物として得た。本物質は、静置すると速やかに結晶化して赤色固体になった。
と無水酢酸(20ml)中に溶解した。室温で18時間撹拌した後、揮発性成分を高減圧
にて50℃で除去して、高純度のアセチル化アルコール(4.5g, 100%)を赤色の糊状
物として得た。本物質は、静置すると速やかに結晶化して赤色固体になった。
【００２０】 このアセチル化アルコール(3.0g, 8ミリモル)をアセトニトリル(200ml)と37%
アンモニア水溶液(40ml)中に溶解した。室温で24時間撹拌した後、混合物を10%
塩酸中に注ぎ込んだ。得られた沈殿物を濾過によって採取し、エーテルで洗浄し
た(4×20ml)。残留物を20%水酸化ナトリウム水溶液(200ml)中に溶解し、所望の
生成物をエーテルで抽出した(5×50ml)。MgSO4で乾燥した後、減圧にて溶媒を除
去し、高純度の(R)-(1-アミノ-2-ナフチルメチル)フェロセン(1.8g, 66%)をオレ
ンジ色固体として得た。
アンモニア水溶液(40ml)中に溶解した。室温で24時間撹拌した後、混合物を10%
塩酸中に注ぎ込んだ。得られた沈殿物を濾過によって採取し、エーテルで洗浄し
た(4×20ml)。残留物を20%水酸化ナトリウム水溶液(200ml)中に溶解し、所望の
生成物をエーテルで抽出した(5×50ml)。MgSO4で乾燥した後、減圧にて溶媒を除
去し、高純度の(R)-(1-アミノ-2-ナフチルメチル)フェロセン(1.8g, 66%)をオレ
ンジ色固体として得た。
【００２１】 ナフチル基をフェニル、o-トリル、1-ナフチル、2-ナフチル、メチル、シクロ
ヘキシル、o-ビフェニル、p-ビフェニル、フェナンスレニル、o-ブロモフェニル
、およびp-ブチルフェニルで置き換えた対応する化合物を同様の仕方で製造した
。フェロセニルを1-アミノベンジル、1-アミノ-2-ナフチルメチル、1-アミノ-(4
-tert-ブチルフェニル)メチル、またはトリメチルシリルで対称的に1,1'-ジ置換
した化合物を、2モル当量の塩化アルミニウムと塩化アシルを工程1において使用
したこと、2モル当量のボランジメチルスルフィドと30モル%のCBS触媒を工程2に
おいて使用したこと、そして2モル当量の無水酢酸、ピリジン、およびアンモニ
アを工程3において使用したこと以外は、実施例1に記載の方法を使用して製造し
た。いずれの場合も、エナンチオマー過剰率は99%以上であった。
ヘキシル、o-ビフェニル、p-ビフェニル、フェナンスレニル、o-ブロモフェニル
、およびp-ブチルフェニルで置き換えた対応する化合物を同様の仕方で製造した
。フェロセニルを1-アミノベンジル、1-アミノ-2-ナフチルメチル、1-アミノ-(4
-tert-ブチルフェニル)メチル、またはトリメチルシリルで対称的に1,1'-ジ置換
した化合物を、2モル当量の塩化アルミニウムと塩化アシルを工程1において使用
したこと、2モル当量のボランジメチルスルフィドと30モル%のCBS触媒を工程2に
おいて使用したこと、そして2モル当量の無水酢酸、ピリジン、およびアンモニ
アを工程3において使用したこと以外は、実施例1に記載の方法を使用して製造し
た。いずれの場合も、エナンチオマー過剰率は99%以上であった。
【００２２】 反応経路を下記に示す。さらに、この反応を下記の化合物を使用して行った。
%の数値は出発物質を基準とした高純度物質の収率を示している。
%の数値は出発物質を基準とした高純度物質の収率を示している。
【００２３】
【化９】
【００２４】 ＤＭＳはジメチルスルフィドであり、ＴＨＦはテトラヒドロフランである。 実施例2 エナンチオ選択性アリル化. (+)-(S)-5,5-ジメチル-3-(4-トリフルオロメチ
ルフェニル)-1-ヘキセンの製造 反応経路を下記に示す。
ルフェニル)-1-ヘキセンの製造 反応経路を下記に示す。
【００２５】
【化１０】
【００２６】 キラル有機リガンド(R7=フェロセニル、R8=2-ナフチル)(70mg, 0.2ミリモル)
とCuBr.Me2S(3mg, 0.02ミリモル)をTHF(5ml)中に溶解して透明溶液を得た。−90
℃に冷却した後、(ネオペンチル)2Zn(0.3ml, 2.4ミリモル)と塩化4-トリフルオ
ロメチルシンナミルを順次加えた。反応混合物を−90℃で18時間撹拌し、最終処
理を施した。溶媒を蒸発除去して得た粗製残留物をフラッシュクロマトグラフィ
ー(エーテル/ペンタン=1/50)によって精製して所望の生成物(370mg, 収率72%; S N 2'/SN2比=97/3)を得た。キラルデックス(Chiraldex)キャピラリーカラムを使用
したガスクロマトグラフィーによれば、キラル生成物のエナンチオマー過剰率は
87%であった。
とCuBr.Me2S(3mg, 0.02ミリモル)をTHF(5ml)中に溶解して透明溶液を得た。−90
℃に冷却した後、(ネオペンチル)2Zn(0.3ml, 2.4ミリモル)と塩化4-トリフルオ
ロメチルシンナミルを順次加えた。反応混合物を−90℃で18時間撹拌し、最終処
理を施した。溶媒を蒸発除去して得た粗製残留物をフラッシュクロマトグラフィ
ー(エーテル/ペンタン=1/50)によって精製して所望の生成物(370mg, 収率72%; S N 2'/SN2比=97/3)を得た。キラルデックス(Chiraldex)キャピラリーカラムを使用
したガスクロマトグラフィーによれば、キラル生成物のエナンチオマー過剰率は
87%であった。
【００２７】 非対称アリル化反応における異なった基R7とR8の使用 下記の表1は、−50℃での塩化シンナミルとジ-ネオペンチル亜鉛との反応にお
ける、異なったキラル有機リガンド(lig*)のR7とR8の使用を示している。これら
のキラル有機リガンドを実施例1に記載の方法に従って製造し、いずれも(R)配置
であった。実験条件は上記実施例2の場合と同様である。
ける、異なったキラル有機リガンド(lig*)のR7とR8の使用を示している。これら
のキラル有機リガンドを実施例1に記載の方法に従って製造し、いずれも(R)配置
であった。実験条件は上記実施例2の場合と同様である。
【００２８】
【表１】
【００２９】 エントリー1-8：CuBrMe2S/Lig*/基質比=1/1/20。エントリー9-23：1/10/100。1 反対のステレオアイソマーが過剰。 置換に対して異なった基質の使用 下記の表2と3は、(R)配置のキラルリガンド(R7=フェロセニル、R8=2-ナフチル
)を使用したときのジ-ネオペンチル亜鉛との反応における、異なったアリル試剤
〔R1とR2とR3がHであり(表3のエントリー13を除く)、R4とR5が表に記載の通りで
ある〕の使用を示している。実験条件は上記実施例2の場合と同様である。
)を使用したときのジ-ネオペンチル亜鉛との反応における、異なったアリル試剤
〔R1とR2とR3がHであり(表3のエントリー13を除く)、R4とR5が表に記載の通りで
ある〕の使用を示している。実験条件は上記実施例2の場合と同様である。
【００３０】 −50℃にて行った反応
【００３１】
【表２】
【００３２】1 エナンチオマーの分離はできなかった。 −90℃にて行った反応
【００３３】
【表３】
【００３４】 −50℃での異なったジ有機亜鉛化合物(diorganozincs)の使用 下記の表4は、(R)配置のキラルリガンド(R7=フェロセニル、R8=2-ナフチル)を
使用したときの塩化トランス-シンナミルとの反応における、異なった有機亜鉛
試剤〔Zn(R6)2〕の使用を示している。実験条件は上記実施例2の場合と同様であ
る。
使用したときの塩化トランス-シンナミルとの反応における、異なった有機亜鉛
試剤〔Zn(R6)2〕の使用を示している。実験条件は上記実施例2の場合と同様であ
る。
【００３５】
【表４】
【００３６】1 完了前に反応に最終処理を施した。2−85℃で反応を行った。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ０７Ｃ 21/18 Ｃ０７Ｃ 21/18 25/24 25/24 41/30 41/30 43/15 43/15 67/293 67/293 67/347 67/347 69/145 69/145 69/618 69/618 Ｃ０７Ｆ 17/02 Ｃ０７Ｆ 17/02 // Ｃ０７Ｂ 53/00 Ｃ０７Ｂ 53/00 Ｂ 61/00 ３００ 61/00 ３００ Ｃ０７Ｍ 7:00 Ｃ０７Ｍ 7:00 (81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＣＹ， ＤＥ，ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，Ｉ Ｔ，ＬＵ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＯＡ(ＢＦ，ＢＪ ，ＣＦ，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＧＷ，ＭＬ， ＭＲ，ＮＥ，ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＧＨ，ＧＭ，Ｋ Ｅ，ＬＳ，ＭＷ，ＳＤ，ＳＬ，ＳＺ，ＵＧ，ＺＷ)，Ｅ Ａ(ＡＭ，ＡＺ，ＢＹ，ＫＧ，ＫＺ，ＭＤ，ＲＵ，ＴＪ ，ＴＭ)，ＡＥ，ＡＬ，ＡＭ，ＡＴ，ＡＵ，ＡＺ，ＢＡ ，ＢＢ，ＢＧ，ＢＲ，ＢＹ，ＣＡ，ＣＨ，ＣＮ，ＣＲ， ＣＵ，ＣＺ，ＤＥ，ＤＫ，ＤＭ，ＥＥ，ＥＳ，ＦＩ，Ｇ Ｂ，ＧＤ，ＧＥ，ＧＨ，ＧＭ，ＨＲ，ＨＵ，ＩＤ，ＩＬ ，ＩＮ，ＩＳ，ＪＰ，ＫＥ，ＫＧ，ＫＰ，ＫＲ，ＫＺ， ＬＣ，ＬＫ，ＬＲ，ＬＳ，ＬＴ，ＬＵ，ＬＶ，ＭＤ，Ｍ Ｇ，ＭＫ，ＭＮ，ＭＷ，ＭＸ，ＮＯ，ＮＺ，ＰＬ，ＰＴ ，ＲＯ，ＲＵ，ＳＤ，ＳＥ，ＳＧ，ＳＩ，ＳＫ，ＳＬ， ＴＪ，ＴＭ，ＴＲ，ＴＴ，ＵＡ，ＵＧ，ＵＳ，ＵＺ，Ｖ Ｎ，ＹＵ，ＺＡ，ＺＷ Ｆターム(参考） 4H006 AA02 AB84 AC81 BA05 BA36 BA37 BA43 BA81 BB11 BB15 BC10 BC32 BC34 EA21 GP01 4H039 CA19 CF10 4H050 AB40 WB11 WB21
Claims (21)
- 【請求項1】 銅塩触媒と銅に対するキラル有機リガンドとの存在下でアリ
ル化合物と有機亜鉛化合物とを立体特異的に反応させて、アリル化合物から基(
離脱基)を取り除き、有機亜鉛化合物からの基をアリル化合物に付加させる方法
。 - 【請求項２】 前記アリル化合物が式 【化１】 (式中、Xは離脱基たとえば塩素原子であり、Aは水素または0〜20個の炭素原子を
有するアルキル基もしくはアリール基である)で示される化合物である、請求項1
記載の方法。 - 【請求項３】 キラル中心をもたらすSN2'置換が起こる、請求項1または2に
記載の方法。 - 【請求項４】 前記反応が立体特異的(立体選択的)である、請求項1〜3のい
ずれか一項に記載の方法。 - 【請求項５】 前記反応が下記反応式 【化２】 〔式中、R1〜R6は、例えばハロゲン基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシ
ルオキシ基、ニトロ基、アミド基、アセトアミド基、カルボキシレート基、シア
ノ基、アセタール基、スルフィド基、スルホネート基、スルホン基、スルホキシ
ド基、ホスファイト基、ホスホネート基、またはホスフィン基で置換されていて
もよいアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アラルキル基、
または複素環式基であって、R1〜R6のそれぞれが、多くても20個の炭素原子を有
していて10個未満の炭素原子を有するのが好ましいか、あるいはR1〜R5がHであ
ってもよく; R7は、例えばフェニル基もしくはフェロセニル基、または置換アリ
ール基もしくは置換フェロセニル基等のアリール基であり; R8は、置換されてい
てもよいアルキル基もしくはアリール基であって、好ましくは置換されていても
よいナフチル基であり; Xは、ハロゲン、OR9、OCOR9、OCO2R9、OSO2R9、OCS2R9
、CH(OR10)2、OPO(OR9)2、SOR9、またはSO2R9であって、このときR9とR10はC1-C 10 アルキルまたはアリールで置換されていてもよく; Yは、ハロゲン、カルボキ
シレート、シアニド、またはチオシアニドであり; そしてZはエーテルまたはチ
オエーテルである〕である、請求項1〜4のいずれか一項に記載の方法。 - 【請求項６】 R8が、フェニル基またはハロゲン基もしくはハロアルキル基
で置換されたアリール基である、請求項5記載の方法。 - 【請求項７】 R1、R2、R3、およびR4とR5の一方が水素であり、R4とR5の他
方がアリール基もしくはトリアルキルシリルオキシメチル基であり、R6がアルキ
ル基であり、R7がフェロセニル基であり、そしてR8がアリール基である、請求項
5または6に記載の方法。 - 【請求項８】 R8がナフチル基または置換ナフチル基である、請求項6また
は7に記載の方法。 - 【請求項９】 Xが塩素であり、Yが塩化物または臭化物である、請求項5〜8
のいずれか一項に記載の方法。 - 【請求項１０】 R1、R2、R3、およびR4とR5の一方が水素であり、R4とR5の
他方が、フェニル、4-クロロフェニル、4-トリフルオロメチルフェニル、または
トリアルキルシリルオキシメチル基である、請求項5〜9のいずれか一項に記載の
方法。 - 【請求項１１】 基R7とR8の一方がフェロセニル基または置換フェロセニル
基であり、他方がナフチル基または置換ナフチル基である、請求項6〜10のいず
れか一項に記載の方法。 - 【請求項１２】 R5がフェニル基であり、R6がネオペンチル基である、請求
項5〜11のいずれか一項に記載の方法。 - 【請求項１３】 アルカン溶媒、シクロアルカン溶媒、および/または芳香
族化合物溶媒が存在する、請求項1〜12のいずれか一項に記載の方法。 - 【請求項１４】 エーテルが溶媒として存在する、請求項1〜13のいずれか
一項に記載の方法。 - 【請求項１５】 前記エーテルがジエチルエーテル、1,3-ジオキサン、tert
-ブチルメチルエーテル、またはテトラヒドロフランである、請求項14記載の方
法。 - 【請求項１６】 −90℃〜−50℃の温度で行われる、請求項1〜15のいずれ
か一項に記載の方法。 - 【請求項１７】 触媒の濃度が、アリル化合物のモル数を基準とした銅原子
数で表したときに0.5〜5原子%の範囲である、請求項1〜16のいずれか一項に記載
の方法。 - 【請求項１８】 銅原子対アミンリガンド分子の比が1:10〜2:1である、請
求項1〜17のいずれか一項に記載の方法。 - 【請求項１９】 式 【化３】 (式中、Aはフェロセニル基または置換フェロセニル基であり、Bはメチル基また
はフェニル基以外の基R8である)で示される化合物。 - 【請求項２０】 Bが2-ナフチル基である、請求項19記載の化合物。
- 【請求項２１】 請求項19または20に記載の化合物と銅とを含む錯体。
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