JP2002523260A - 回転成形用ポリマー - Google Patents
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Abstract
Description
、回転成形技術による粒状ポリマー物質の成形、並びに該粒状ポリマー物質及び
成形されたポリマー製品に関する。
ろのポリマー成形技術である。それは、他の慣用の成形技術、例えば、射出成形
又はブロー成形とは全く異なっている。型がポリマー粉末で充填され、閉じられ
、そして炉内に据付けられ、ここでそれは、型の表面全体にポリマー粉末を分散
するように回転される。ポリマーが溶融され、そして型の表面に被覆が形成され
るやいなや、型は冷却される。回転成形は、例えば、J.Materials Sci. 31:第22
27〜2240頁(1996年)においてOliveiraらにより、Polymer Engineering and Scie
nce 34: 第815〜820頁(1994年)においてBawiskarらにより、及び「Basic Princi
ples of Rotational Moulding」、Gordon and Breach、ニューヨーク、1971年、
Bruinsにより開示されている。
又はより一般的にはポリエチレンは、ポリマーが製造されるときとそれが成形さ
れるときとの間での劣化を防止するために、UV安定剤を含む安定剤の存在を要
求する。これは通常、成分を混合しかつポリマーを溶融するためにせん断力を利
用するところの押出混合機中でポリマーと安定剤とを混合することにより達成さ
れる。押出物は次に粉砕されて、適切な粒子寸法の成形用粉末が製造される。し
かし、そのような手順は非常に大きなエネルギーを消費する。
子上に液状安定剤又は安定剤溶液をスプレーすることにより、及び/又はポリマ
ー粒子中に粒状安定剤を単純に混合することにより、回転成形用の適切な粒子寸
法を既に有するところのオレフィンポリマー粒子と安定剤とを単純に混合するこ
とであると思われていたかもしれない。しかし、これは、回転成形において使用
された型の表面にUV安定剤の容認できない析出をもたらす。
を加えられたポリマー粒子のマスターバッチの少量と単純に混合することにより
十分に安定化され得ることが今分かった。この方法において、重合反応器で製造
されたようなポリオレフィンポリマー粒子が、エネルギー集中的な押出機混合及
び造粒並びに成形用粉末を製造するために使用される全物質の粉砕なしに、成形
用粉末を製造するために直接使用され得る。更に、型へのUV安定剤の析出の問
題が減じられ又は回避される。
し、該方法は、UV安定剤を加えられたポリマー粒子とUV安定剤を加えられて
いないポリマー粒子との混合物を含む1〜2000μmの平均粒子寸法を有する
成形用ポリマー粉末を得ること、型中に該粉末を充填すること、該型を加熱及び
回転して該粉末を溶融すること、該型を冷却すること、及び該型から該成形され
たポリマー物品を取り外すことを含む。
を経験するであろうところの製品、例えば、タンク(とりわけ、水貯蔵タンク)
、船等であり得る。
を加えられていないポリマー粒子とを混合することにより成形用粉末を製造する
段階を含み、及びまた任意的に、好ましくは、所望の寸法及びモルホロジーのポ
リマー粒子を製造するところの重合技術を使用して、それにより、大部分のポリ
マーを溶融しかつ粉砕する必要性を回避して、α‐オレフィンモノマー、又は少
なくとも一つのα‐オレフィンを含む複数のモノマーの重合により、UV安定剤
を加えられていないポリマー粒子を製造する段階を含む。
安定剤を加えられていないポリオレフィンポリマー粒子との混合物を含む1〜2
000μmの平均粒子寸法を有する回転成形用の成形用ポリマー粉末を提供する
。
たポリマー物品を提供する。
る方法を提供し、ここで、該方法は、(i)好ましくは、所望の粒子寸法の粒状
生成物を与える重合方法により、1〜2000μmの平均粒子寸法を有する、複
数のポリオレフィンポリマー粒子を得ること;(ii)第二のポリマーを得ること
;(iii)例えば、安定剤と該第二のポリマーの粒子とを混合し、続いて得られ
た混合物を溶融しかつ粉砕することにより、該第二のポリマーをUV安定剤と緊
密に混合して、UV安定剤を加えられた複数のポリマー粒子を製造すること;(
iv)段階(i)において得られたポリマー粒子と、段階(iii)において得られ
たUV安定剤を加えられたポリマー粒子とを混合することを包含する。
に100〜500μmの(例えば、Malvern分析計のような粒子寸法分析計を使
用して測定されたような)平均ポリマー粒子寸法を有する。粒子寸法分布は、 好ましくは、 D(v、0.5)が100〜500μmであり、 D(v、0.1)が50〜300μmであり、 D(v、0.9)が300〜1000μmであり、 最も好ましくは、 D(v、0.5)が200〜400μmであり D(v、0.1)が100〜200μmであり、及び D(v、0.9)が400〜600μmである。
にD(v、0.1)は、10体積%の粒子が入る粒子寸法未満を意味する。)粒
子寸法及び均一性のこの選択は、得られた回転成形された製品における均一性を
確保する。
ろう。しかし、1〜40のMFR2及び920〜950kg/m3の密度を持つポ
リエチレンのための例のために、最適な粒子寸法は、通常100〜600μmで
あろう。粒子寸法が余りに大きいところでは、回転成形における溶融特性が乏し
く、機械的に低水準の成形品をもたらす。一方、粒子寸法が余りに小さいところ
では、粉末は、乏しい流れ特性を有し、そして型に一様に分散しないであろう。
を加えられていない粒子についての粒子寸法及び粒子寸法分布は、二つのセット
の粒子のために最大20%又はより好ましくは最大10%の平均粒子寸法におけ
る相違が許容できるけれども、好ましくは非常に類似している。寸法のそのよう
な類似性は、成形用粉末におけるUV安定剤を加えられた粒子とUV安定剤を加
えられていない粒子の所望されない分離が、貯蔵又は移送の間に生じないことを
確保する。
リオレフィン粒子と同一又は類似のポリマーから形成される。ポリマータイプの
いくつかの変化が許容できるが、通常、主要なモノマーは両方の粒子のために同
一でなければならない。これは、成形用粉末が成形プロセス中に実質的に均一に
溶融することを確保する。
一な分布を確保するために、狭い分子量分布Mw/Mnを有するであろう。Mw
/Mn値は、好ましくは2〜10、より好ましくは2〜5の範囲にある。20℃
より小さい溶融範囲を伴って、好ましくは、ポリマーは、100〜180℃の溶
融点、より好ましくは120〜130℃の溶融点を有しなければならない。
常に均一な分子構造を有し、示差走査熱量計により得られる曲線において狭い溶
融範囲として、かつ顕微鏡写真研究における非常に均一な結晶構造として観察さ
れる。これは、粉末が一様に溶融し、かつ成形された製品の均一性が高いことを
確保する。
適切な壁厚さを持つ成形された物品を製造することを確保するために、成形用粉
末は、少なくとも300kg/m3、より好ましくは少なくとも330kg/m3 、例えば、330〜500kg/m3、より好ましくは450〜490kg/m3 の嵩密度を有しなければならないことがまた所望される。
50kg/m3の範囲にある。ポリエチレンについて、密度は、好ましくは92
0〜950kg/m3、より好ましくは930〜940kg/m3である。ポリプ
ロピレンについて、密度は、好ましくは880〜950kg/m3、より好まし
くは890〜910kg/m3である。
0分のメルトフローレートMFR2を有する。ポリエチレンについて、MFR2は
、好ましくは2〜10g/10分、より好ましくは5〜7.5g/10分である
。ポリプロピレンについて、MFR2は、好ましくは10〜20g/10分、よ
り好ましくは12〜18g/10分である。
15〜30秒/100gの乾燥流れを有する。
マー又はコポリマー、任意的に、例えば、C2〜14のモノ又はジエンのようなモ
ノ又はジエンから選ばれる一又はそれ以上のコモノマー、とりわけC2〜8のα‐
オレフィンと一緒に、とりわけC2〜4のα‐オレフィン、特にプロピレン及びよ
り特にはエチレンから誘導されるポリマーである。好ましくは少なくとも50重
量%のポリマー構造が、C2〜4のα‐オレフィンから誘導される。
ロム触媒、並びに重合プロセス例えば気相、スラリー及び溶液プロセス、特にス
ラリープロセスを使用して、慣用のオレフィン重合技術により製造され得る。典
型的には、気相、ループ及び槽型反応器が使用され得る。しかし、成形用粉末の
製造のために適切な寸法のポリオレフィンポリマー粒子は、担持された触媒、と
りわけ、触媒、例えば、メタロセンとアルミノキサンとの反応生成物を付けられ
た多孔性粒子を含む触媒を使用して容易に製造され得ることが分かった。そのよ
うな担持触媒は、例えば、粒状担体、メタロセン、アルミノキサン及び溶媒のス
ラリーを形成し、過剰の溶媒を除き、過剰のメタロセン/アルミノキサンを濯ぎ
、そして乾燥することにより製造され得る。そのような触媒担体製造技術は文献
に公知である。
無機又は有機物質、例えば、シリカ、アルミナ若しくはジルコニアのような無機
酸化物、又は塩化マグネシウムのような無機ハロゲン化物、又はアクリレート若
しくはメタクリレートのようなポリマーである。好ましくは担体物質は、もし無
機なら、例えば、乾燥した、非還元性(例えば、酸素含有)雰囲気、例えば空気
中で、少なくとも200℃、好ましくは少なくとも400℃及び特に好ましくは
少なくとも600℃の温度で、0.5〜50時間、例えば、2〜30時間、好ま
しくは10〜20時間の熱処理により、触媒含浸前に熱処理(か焼)に付される
。か焼前の担体物質は都合よくは、20〜500ミリリットル/gの表面積(B
ET法)、0.2〜3.5ミリリットル/gの多孔度及び10〜200μmの平
均粒子寸法を有する。
媒(即ち、遷移金属(例えば、Ti、V又はCr)化合物とアルミニウム化合物
との組合せ)、ピラゾリル触媒(例えば、国際特許出願公開第97/17379
号公報、米国特許第4808680号明細書、欧州特許出願公開第482934
号公報、米国特許第5312394号明細書又は欧州特許出願公開第61705
2号公報に開示されているような)又はメタロセン触媒であろうけれども、それ
は任意の重合触媒であり得る。
開第22595号公報、欧州特許出願公開第420436号公報、欧州特許出願
公開第347128号公報、欧州特許出願公開第551277号公報、欧州特許
出願公開第648230号公報、国際特許出願公開第94/03506号公報、
国際特許出願公開第96/28479号公報、米国特許第5057475号明細
書、欧州特許出願公開第672688号公報、欧州特許出願公開第368644
号公報、欧州特許出願公開第491842号公報、欧州特許出願公開第6144
68号公報、欧州特許出願公開第705281号公報、国際特許出願公開第93
/19103号公報、国際特許出願公開第95/07939号公報、国際特許出
願公開第97/29134号公報、国際特許出願公開第98/02470号公報
、国際特許出願公開第95/12622号公報、米国特許第5086135号明
細書、米国特許第5455214号明細書、国際特許出願公開第97/3270
7号公報、欧州特許出願公開第519237号公報、欧州特許出願公開第518
092号公報、欧州特許出願公開第444474号公報、欧州特許出願公開第4
16815号公報、欧州特許出願公開第62979号公報、欧州特許出願公開第
284708号公報、欧州特許出願公開第354893号公報、欧州特許出願公
開第567952号公報及び欧州特許出願公開第661300号公報から公知で
ある。
移金属又はランタニドであり、とりわけ、第4、5又は6族金属、例えば、Ti
、Zr又はHfである。そのようなメタロセンは、好ましくは金属に配位する1
、2又は3η‐結合基を持つ、η‐結合配位子、例えば、任意的に置換された任
意的に縮合されたホモ又はヘテロ環状シクロペンタジエニル配位子を含む(術語
メタロセンはしばしば、金属がη‐結合基により配位されているところの錯体を
示すために使用され、ここでは、しかし、それは、金属が、一つ又はそれ以上の
η‐結合基、即ち、金属を錯体化するためにπ‐軌道を使用するところの基によ
り配位されるところの錯体を包含するその広い意味に使用される)。そのような
η‐結合配位子の例は、シクロペンタジエニル、インデニル、テトラヒドロイン
デニル、フルオレニル及びオクタヒドロフルオレニル配位子、及びそのようなη
‐配位子が、例えば、1、2、3又は4原子鎖(例えば、C、N、O、S、Si
又はP鎖原子、例えば、エチレン又はSi(CH3)2基を含む)を介して更にそ
のようなη‐配位子に結合されているところの架橋された二量体を含む。
ジエニルη‐配位子であり、 R’は、1〜20個の炭素原子を含む、ヒドロカルビル、ヒドロカルビルオキシ
、ヒドロカルビルシリルオキシ若しくはヒドロカルビルゲルミルオキシ基であり
、又は一つのR’は、更なる縮合した又は縮合していないホモ又はヘテロ環式シ
クロペンタジエニルη‐配位子への架橋基であり、該架橋基は好ましくは、例え
ば、C、N、O、S、P又はSi鎖原子、とりわけ、C及び/又はSi、例えば
、エチレン基を持つ環状基の間に1、2、3又は4原子鎖を与え、 kは、0又は1、2、3、4若しくは5の値を有する整数であり、 Mは、第4、5又は6族金属であり、 Xは、ハロゲン原子であり、 Rは、水素又は1〜20個の炭素原子を含むヒドロカルビル若しくはヒドロカル
ビルオキシ基であり、 mは、整数1、2又は3であり、 n及びqは、0又は整数1、2若しくは3であり、かつ m、n及びqの合計は、配位が存在する酸化状態におけるMのついて可能な配位
の程度に対応する。
くとも一つのCp基を含み、即ち、好ましくはメタロセンは、「置換されたメタ
ロセン」である。
。
l、BASF、DOW、Fina、Hoechst及びBorealisの特許
公報、例えば、欧州特許出願公開第206749号公報等に開示されているよう
に公知である。
ジエニル、メチル‐シクロペンタジエニル、1,3‐ジ‐メチル‐シクロペンタ
ジエニル、i‐プロピル‐シクロペンタジエニル、1,3‐ジ‐i‐プロピル‐
シクロペンタジエニル、n‐ブチル‐シクロペンタジエニル、1,3‐ジ‐n‐
ブチル‐シクロペンタジエニル、t‐ブチル‐シクロペンタジエニル、1,3‐
ジ‐t‐ブチル‐シクロペンタジエニル、トリメチルシリル‐シクロペンタジエ
ニル、1,3‐ジ‐トリメチルシリル‐シクロペンタジエニル、ベンジル‐シク
ロペンタジエニル、1,3‐ジ‐ベンジル‐シクロペンタジエニル、フェニル‐
シクロペンタジエニル、1,3‐ジ‐フェニル‐シクロペンタジエニル、ナフチ
ル‐シクロペンタジエニル、1,3‐ジ‐ナフチル‐シクロペンタジエニル、1
‐メチル‐インデニル、1,3,4‐トリ‐メチル‐シクロペンタジエニル、1
‐i‐プロピル‐インデニル、1,3,4‐トリ‐i‐プロピル‐シクロペンタ
ジエニル、1‐n‐ブチル‐インデニル、1,3,4‐トリ‐n‐ブチル‐シク
ロペンタジエニル、1‐t‐ブチル‐インデニル、1,3,4‐トリ‐t‐ブチ
ル‐シクロペンタジエニル、1‐トリメチルシリル‐インデニル、1,3,4‐
トリ‐トリメチルシリル‐シクロペンタジエニル、1‐ベンジル‐インデニル、
1,3,4‐トリ‐ベンジル‐シクロペンタジエニル、1‐フェニル‐インデニ
ル、1,3,4‐トリ‐フェニル‐シクロペンタジエニル、1‐ナフチル‐イン
デニル、1,3,4‐トリ‐ナフチル‐シクロペンタジエニル、1,4‐ジ‐メ
チル‐インデニル、1,4‐ジ‐i‐プロピル‐インデニル、1,4‐ジ‐n‐
ブチル‐インデニル、1,4‐ジ‐t‐ブチル‐インデニル、1,4‐ジ‐トリ
メチルシリル‐インデニル、1,4‐ジ‐ベンジル‐インデニル、1,4‐ジ‐
フェニル‐インデニル、1,4‐ジ‐ナフチル‐インデニル、メチル‐フルオレ
ニル、i‐プロピル‐フルオレニル、n‐ブチル‐フルオレニル、t‐ブチル‐
フルオレニル、トリメチルシリル‐フルオレニル、ベンジル‐フルオレニル、フ
ェニル‐フルオレニル、ナフチル‐フルオレニル、5,8‐ジ‐メチル‐フルオ
レニル、5,8‐ジ‐i‐プロピル‐フルオレニル、5,8‐ジ‐n‐ブチル‐
フルオレニル、5,8‐ジ‐t‐ブチル‐フルオレニル、5,8‐ジ‐トリメチ
ルシリル‐フルオレニル、5,8‐ジ‐ベンジル‐フルオレニル、5,8‐ジ‐
フェニル‐フルオレニル及び5,8‐ジ‐ナフチル‐フルオレニル を含む。
ましくはホウ素化合物であり、より好ましくはアルミノキサンであり、とりわけ
、C1〜10のアルキルアルミノキサンであり、かつ最も好ましくはメチルアルミ
ノキサン(MAO)である。
あるいは、他の助触媒と一緒に使用され得る。従って、アルミノキサンの他に又
は加えて、触媒活性化剤を形成する他のカチオン錯体が使用され得る。これに関
連して、公知の銀及びホウ素化合物が挙げられ得る。そのような活性化剤の要求
されるところのことは、それらが、メタロセン又はピラゾリル錯体と反応されて
、有機金属カチオン及び非配位アニオンを生じなければならない(例えば、欧州
特許出願公開第617052号公報(Asahi)における非配位アニオンJ-につい
ての議論を参照せよ)。
てHoechstにより開示されている。これらは、最大40個、好ましくは3〜20
個の−[Al(R”)O]−繰返し単位(ここで、R”は水素、C1〜10アルキ
ル(好ましくはメチル)又はC6〜18アリール又はそれらの混合物である)を有
する直鎖又は環状オリゴマーである。
はそれはまた、多孔性担体物質に充填される。この場合に、触媒及び助触媒が液
相で反応すること、及び担体上に該反応生成物を充填することを可能にすること
が好ましい。
り製造され得る。
、UV吸収剤、例えば、ベンゾフェノン、ベンゾトリアゾール、ヒンダードアミ
ン光安定剤(HALS)、例えば、ヒンダード環状アミン、又は高分子アミン、とり
わけ、ヒンダード高分子アミン、例えば、一つ又はそれ以上のアザシクロヘキシ
ル基及びより好ましくは2,2,6,6‐テトラメチル‐1‐アザシクロヘキシ
ル又は1,2,2,6,6‐ペンタメチル‐1‐アザシクロヘキシル残基を、例
えば、ポリマー繰返し単位中に含む化合物であり得る。適切なUV安定剤の例は
、Tinuvin 622、Tinuvin 326、Tinuvin 327、
Tinuvin 770、Chimasorb 81、Chimasorb 94
4、Chimasorb 2020、Cyasorb UV−3529、Cyas
orb UV−3346、Hostavin N30、Hostavin N20
、Dastib 845、AKD STAB LA63、AKD STAB LA6
8LD、AKD STAB LA57、AKD STAB LA67、Uvinyl
4050H、CGL 2020、CGL 116、UV Check AM 806
、Uvasorb HA88、N,N’‐ビス(2,2,6,6‐テトラメチル
‐4‐ピペリジル)‐N,N’‐ヘキサメチレンビス(ホルムアミド)、N‐(
2,2,6,6‐テトラメチル‐4‐ピペリジル)‐マレインイミド、CAS
No.1843−05−06、CAS No.3864−99−1、CAS No
.3896−11−5、CAS No.52829−07−9、CAS No.4
1556−26−7、CAS No.82919−37−7、CAS No.86
403−32−9、CAS No.604022−61−3、CAS No.91
788−83−9、CAS No.102089−33−8、CAS No.73
704−27−5、CAS No.136504−96−6、CAS No.19
3098−40−7、CAS No.82451−48−7、CAS No.10
1544−98−3、CAS No.84696−70−0、CAS No.81
406−61−3、CAS No.94274−03−0、CAS No.654
47−77−0、CAS No.71878−19−8及びCAS No.106
990−43−6を含む。
−3529 ポリ((6‐モルホリノ‐s‐トリアジン‐2,4‐ジイル)(1,2,2,6
,6‐ペンタメチル‐4‐ピペリジル)イミノ)ヘキサメチレン(1,2,2,
6,6‐ペンタメチル‐4‐ピペリジル)イミノ))
公知であり、かつ2,4,6‐トリクロロ‐1,3,5‐トリアジンを持つ1,
6‐ヘキサンジアミン,N,N’‐ビス(2,2,6,6‐テトラメチル‐4‐
ピペリジル)ポリマーとN‐ブチル‐1‐ブタンアミン及びN‐ブチル‐2,2
,6,6‐テトラメチル‐4‐ピペリジンアミンとの反応生成物である。
asorb 2020又はCyasorb UV−3529を含むポリエチレン回
転成形用粉末を提供する。
範囲の溶融点/軟化点を有し、又は環境温度で液状の形態である。典型的には、
該安定剤は、300〜5000、より一般的には500〜3000の範囲の(重
量平均)分子量を有し得る。
かつ実際には通常含むであろう。
止することができる任意の物質であり得る。適切なそのような安定剤物質は、酸
化防止剤、抗酸剤及び熱安定剤を含む。
及びチオエーテル、例えば、トリノニルフェニルホスファイトを含む。抗酸剤の
例は、ステアレート(例えば、Zn‐ステアレート)、カーボネート及びヒドロ
タルサイトを含む。
物質、好ましくは少なくとも一つの酸化防止剤及び少なくとも一つのUV安定剤
が加えられるであろう。
可塑剤、難燃剤等を一緒に含み得る。
可される品位であろう。
、高せん断ミキサーからの)押出し及び造粒そして続く固化された生成物の粉砕
により簡便に達成される。UV安定剤は安定剤を加えられた粒子全体に分散され
ることが所望される。
び任意の更なる添加剤(例えば、酸化防止剤)は、押出機(例えば、Braba
nder押出機19/25)に導入される前に、機械式ミキサー(例えば、Fo
rberg ブレンダー)において混合される。押出物は次いで、粉砕され、そ
して篩われて、所望の粒子寸法範囲の粒子を選択する。
えられていないポリオレフィン粒子が一緒に混合されるとき加えられ得る。液状
又は低溶融成分は、粒状混合物にスプレーされることができ、かつ固体状成分は
、粒子状形態、好ましくは粉末形態で混合され得る。
)は、ミキサーチャンバー、例えば、機械式流動床ミキサー(例えば、Forb
ergミキサー)においてUV安定剤を加えられたポリマー粒子及びUV安定剤
を加えられていないポリマー粒子の混合物にスプレーされる。スプレーされた液
体及びポリマー粒子の両者は、例えば、40〜150℃、好ましくは60〜11
0℃に加熱されることが好ましい。安定剤及び添加剤は、一緒に又は順次ポリマ
ーに加えられ得る。もし、粉末にされた添加剤又は安定剤が加えられるなら、し
かし、それらの粒子寸法は、ポリマーの粒子寸法に匹敵するか又はより小さいこ
とが好ましい。
法を提供し、ここで、該方法は、機械的に流動化される流動床ミキサー中で、1
〜2000μmの範囲の平均粒子寸法を有する攪拌され、加熱されたポリマー粒
子上に加熱された液状安定剤組成物をスプレーすることを含み、該ポリマー粒子
が、UV安定剤を加えられたポリマー粒子とUV安定剤を加えられていないポリ
オレフィンポリマー粒子との混合物を含む。
00〜130℃の範囲の温度に加熱され、そしてスプレーが開始する前に、ポリ
マーは、60〜80℃の範囲の温度に加熱されることが好ましい。スプレーは、
例えば、予熱されたスプレーダイを通して直接的に、又は例えば、ディフューザ
ーに液体の流れを向けることにより間接的であってもよい。
0、より好ましくは1:99〜5:95、更により好ましくは2:98〜4:9
6の重量比でUV安定剤を加えられたポリマー粒子及びUV安定剤を加えられて
いないポリオレフィンポリマー粒子を含むであろう。
%、より好ましくは5〜15重量%、更により好ましくは8〜12重量%のUV
安定剤を含むであろう。UV安定剤添加の正味の含有量は明らかに、成形用粉末
中に加えられたマスターバッチの量に影響を及ぼす。10%のUV安定剤マスタ
ーバッチのために、25:975(重量/重量)のマスターバッチ対UV安定剤
が加えられていないポリマー比を使用することが通常可能であり、これはポリマ
ーの夫々のkgの単に25gが押出されかつ粉砕されることが必要であることを
意味する。
の夫々の濃度で、他の安定剤及び添加剤を含むであろう。
使用して、簡便に成し遂げられる。炉温度及び炉硬化時間は、ポリマーの溶融特
性及び製造される物品の厚さに従って選択され得る。
り得られたポリエチレン粉末(嵩密度460〜480kg/m3、MFR25.9
〜6.8g/10分、及び粒子寸法分布:600μm最大0%、500μm最大
5%、425μm最大5〜30%、300μm最大20〜40%、212μm最
大15〜35%、150μm最大8〜20%、<150μm最大10%)が、F
orbergミキサー中で6分間Chimasorb及びIrgafos安定剤
とブレンドされた。ブレンドは、Brabander押出機19/25(温度プ
ロフィール180℃‐200℃‐200℃‐200℃、スクリュー速度120r
pm)においてペレット化された。ペレットは、ミル中で粉砕され、そして40
0μm篩で篩われてマスターバッチが製造された。
り得られたポリエチレン粉末(嵩密度460〜480kg/m3、MFR25.9
〜6.8g/10分、及び粒子寸法分布:600μm最大0%、500μm最大
5%、425μm最大5〜30%、300μm最大20〜40%、212μm最
大15〜35%、150μm最大8〜20%、<150μm最大10%)が、F
orbergミキサー中で6分間Tinuvin安定剤とブレンドされた。ブレ
ンドは、Brabander押出機19/25(温度プロフィール180℃‐2
00℃‐200℃‐200℃、スクリュー速度120rpm)においてペレット
化された。ペレットは、ミル中で粉砕され、そして400μm篩で篩われてマス
ターバッチが製造された。
り得られたポリエチレン粉末(嵩密度460〜480kg/m3、MFR25.9
〜6.8g/10分、及び粒子寸法分布:600μm最大0%、500μm最大
5%、425μm最大5〜30%、300μm最大20〜40%、212μm最
大15〜35%、150μm最大8〜20%、<150μm最大10%)が、F
orbergミキサー中で6分間Tinuvin安定剤とブレンドされた。ブレ
ンドは、Brabander押出機19/25(温度プロフィール180℃‐2
00℃‐200℃‐200℃、スクリュー速度120rpm)においてペレット
化された。ペレットは、ミル中で粉砕され、そして400μm篩で篩われてマス
ターバッチが製造された。
り得られたポリエチレン粉末(嵩密度460〜480kg/m3、MFR25.9
〜6.8g/10分、及び粒子寸法分布:600μm最大0%、500μm最大
5%、425μm最大5〜30%、300μm最大20〜40%、212μm最
大15〜35%、150μm最大8〜20%、<150μm最大10%)が、F
orbergミキサー中で6分間Chimasorb安定剤とブレンドされた。
ブレンドは、Brabander押出機19/25(温度プロフィール180℃
‐200℃‐200℃‐200℃、スクリュー速度120rpm)においてペレ
ット化された。ペレットは、ミル中で粉砕され、そして400μm篩で篩われて
マスターバッチが製造された。
末は、高速ミキサー中で70℃に加熱され、そして次いで、機械的に流動化され
た流動床ミキサー、例えば、Forbergミキサーに移送された。Zn−ステ
アレート粉末及びマスターバッチが加えられ、そして該混合物が2〜3分間ブレ
ンドされた。加熱された酸化防止剤が、予熱されたダイを通して混合物上にスプ
レーされ、同時に混合が継続された。ブレンディングは、スプレーが完了した後
、6分間で停止された。
末は、高速ミキサー中で70℃に加熱され、そして次いで、機械的に流動化され
た流動床ミキサー、例えば、Forbergミキサーに移送された。Zn−ステ
アレート粉末及びマスターバッチが加えられ、そして該混合物が2〜3分間ブレ
ンドされた。加熱された酸化防止剤が、予熱されたダイを通して混合物上にスプ
レーされ、同時に混合が継続された。ブレンディングは、スプレーが完了した後
、6分間で停止された。
末は、高速ミキサー中で70℃に加熱され、そして次いで、機械的に流動化され
た流動床ミキサー、例えば、Forbergミキサーに移送された。Zn−ステ
アレート粉末及びマスターバッチが加えられ、そして該混合物が2〜3分間ブレ
ンドされた。加熱されたx酸化防止剤が、予熱されたダイを通して混合物上にス
プレーされ、同時に混合が継続された。ブレンディングは、スプレーが完了した
後、6分間で停止された。
末は、高速ミキサー中で70℃に加熱され、そして次いで、機械的に流動化され
た流動床ミキサー、例えば、Forbergミキサーに移送された。Zn−ステ
アレート粉末及びマスターバッチが加えられ、そして該混合物が2〜3分間ブレ
ンドされた。加熱された酸化防止剤が、予熱されたダイを通して混合物上にスプ
レーされ、同時に混合が継続された。ブレンディングは、スプレーが完了した後
、6分間で停止された。
lty Chemicalsから市販されているIrgafos P−EPQ(6
00ppm)、又はGESpecialty Chemicalsから市販され
ているUltranox 641(600ppm)が使用され得る。
itco製)が、Keydol又はOndina 933に代えて実施例5〜8
において使用され得る。
成形機を使用してポリエチレン物品と共に成形された。型上にUV安定剤の析出
はなく(FT−IR分析)、かつ成形された製品は、満足な衝撃強度及びUV安
定性を有していた。
分)循環ファン、750CFM(21m3/分)排気ファン、及び二つの335
0CFM(95m3/分)強制空気冷却ファンを備えた一つのクランクアームを
持つシャトルマシンであった。使用された炉温度は280℃であり、炉時間10
分間及び冷却時間20分間であった。
50mm寸法の鋼及びアルミナ箱型であった。回転比は9:1:4であり、かつ
回転速度は9/mm及び1.4/分であった。成形用粉末量は、約4mmの壁厚
さを与える2.5kgであった。
った。
BorealisからのME8169)を使用して製造された物品と比較された
。衝撃強度(−20℃で落錘を使用)は同等であった(実施例9の製品について
1406N/mm、そして比較製品について1407N/mm)。しかし、(we
ather-o-meter C165を使用してISO-4892に従って試験された)UV照射後の破断
時の伸びは、比較製品に比較して実施例9の製品についての時間における顕著な
改善を示した。
施例9において述べられたと同様に成形された。型上の析出が目視で見られるこ
とができ、そしてFT−IR分析は、該析出がChimasorb 944であ
ることを確認した。
1010を有するEastman Aquastab 3.6g 脱イオン水 1リットル ポリエチレン粉末 1kg 安定剤は脱イオン水で希釈され、そしてプラスチックバッグ中のポリエチレン
粉末上に注がれ、そして溶液が全てのポリエチレン粉末に接触されることを可能
にするために5分間振とう/混合された。該粉末は空気乾燥され、そして次いで
、実施例9において述べられたように回転成形された。光安定剤の析出が観察さ
れた(目視及びFT−IR)。成形された物品は真に黄色であった。
hemicalsから市販されている) Irgafos 38 (1000ppm) Zn−ステアレート (1800ppm) Ondina 933鉱油 (500ppm)(Shellから市販されている)
アセトン(20g)に溶解されたChimasorb 944(7.5g) ポリエチレン粉末 合計100重量部まで 酸化防止剤が鉱油と一緒に100℃に加熱された。光安定剤がアセトンに溶解
された。ポリエチレン粉末が70℃に加熱された。溶解された光安定剤がミキサ
ー上にスプレーされ、一方、粉末が2分間循環され、次いで、加熱された酸化防
止剤が、同一の方法で混合物上にスプレーされ、そして最後に、Zn−ステアレ
ート粉末が加えられた。ブレンディングは、スプレーが完了した後、6分間で停
止された。
転成形される前に、24時間室温で空気乾燥され、アセトンを蒸発させた。Ch
imasorb 944の析出が観察された(目視及びFT−IR分析)。
二層に分離し、そしてそれをポリマー粉末上にスプレーすることができなかった
。
Claims (11)
- 【請求項1】 成形されたポリマー物品を製造する方法において、UV安定剤
を加えられたポリマー粒子とUV安定剤を加えられていないポリオレフィンポリ
マー粒子との混合物を含む1〜2000μmの平均粒子寸法を有する成形用ポリ
マー粉末を得ること、型中に該粉末を充填すること、該型を加熱及び回転して該
粉末を溶融すること、該型を冷却すること、及び該型から該成形されたポリマー
物品を取り外すことを含む方法。 - 【請求項2】 該粉末が、100〜500μmの平均粒子寸法を有するところ
の請求項1記載の方法。 - 【請求項3】 該粉末が、300〜500kg/m3の嵩密度を有するところ
の請求項1又は2記載の方法。 - 【請求項4】 該UV安定剤が、少なくとも一つのアザシクロヘキシル基を含
むヒンダード高分子アミンであるところの請求項1〜3のいずれか一つに記載の
方法。 - 【請求項5】 該UV安定剤を加えられた粒子とUV安定剤を加えられていな
い粒子が、0.5:99.5〜1:10の重量比で存在するところの請求項1〜
4のいずれか一つに記載の方法。 - 【請求項6】 該UV安定剤を加えられた粒子が、5〜15重量%のUV安定
剤を含むところの請求項1〜5のいずれか一つに記載の方法。 - 【請求項7】 UV安定剤を加えられたポリマー粒子とUV安定剤を加えられ
ていないポリオレフィンポリマー粒子との混合物を含む1〜2000μmの平均
粒子寸法を有する、回転成形のための成形用ポリマー粉末。 - 【請求項8】 請求項7記載の粉末であって、請求項2〜6のいずれか一つに
記載された粉末。 - 【請求項9】 請求項1〜6のいずれか一つに記載の方法により製造される成
形されたポリマー物品。 - 【請求項10】 回転成形のための成形用ポリマー粉末を製造する方法であっ
て、(i)1〜2000μmの平均粒子寸法を有する、複数のポリオレフィンポ
リマー粒子を得ること;(ii)第二のポリマーを得ること;(iii)UV安定剤
と該第二のポリマーとを緊密に混合して、UV安定剤を加えられた複数のポリマ
ー粒子を製造すること;及び(iv)段階(i)において得られたポリマー粒子と
、段階(iii)において得られたUV安定剤を加えられたポリマー粒子とを混合
することを含む方法。 - 【請求項11】 回転成形のための成形用粉末を製造する方法において、該方
法は機械的に流動化される流動床ミキサー中で、1〜2000μmの平均粒子寸
法を有する攪拌され、加熱されたポリマー粒子上に加熱された液状安定剤組成物
をスプレーすることを含み、該ポリマー粒子が、UV安定剤を加えられたポリマ
ー粒子とUV安定剤を加えられていないポリオレフィンポリマー粒子との混合物
を含むところの方法。
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