JP2002522537A - 改良されたオメプラゾールの方法および組成物 - Google Patents

改良されたオメプラゾールの方法および組成物

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Abstract

(57)【要約】 本発明は、抗癌剤オメプラゾールの改善された製造、単離および精製方法であって、スルフィド前駆体であるピルメタゾールを正確に1当量のメタクロロ過安息香酸の塩化メチレンもしくはトルエン溶液と表面下で反応させ;残留有機溶媒を減圧蒸留によって水層から除去し;ギ酸アルキルまたはギ酸溶液を用いる反応結晶化およびシード添加によって粗生成物を得て;pH9.0となるまで酢酸水溶液を表面下添加することで、NaOH水溶液を含むメタノール−水中で再結晶し、シード添加し、濾過し、洗浄し、乾燥することで純粋な生成物を得る方法について記載したものである。クロマトグラフィー的に検出可能なレベルの残留非アルコール系有機反応溶媒を含まないオメプラゾールの組成物についても記載されている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】 (技術分野) 本発明は、抗癌剤オメプラゾールについての新規な改良された製造、単離およ
び精製の方法を提供するものである。クロマトグラフィー的に検出可能なレベル
の残留非アルコール系有機反応溶媒を含まないオメプラゾールの組成物も開示さ
れる。
【0002】 (背景技術) 5−メトキシ−2−[[4−メトキシ−3,5−ジメチル−2−ピリジニル)
メチル]スルフィニル]−1−ベンズイミダゾール(以下に式Iとして示す)
に対する一般名であるオメプラゾールは、公知の胃プロトンポンプ阻害薬であり
、胃潰瘍および十二指腸潰瘍、胃炎、十二指腸炎および逆流性食道炎の治療用に
、LOSEC(登録商標)またはPRILOSEC(登録商標)として市販され
ている(Merck Index, 12th Ed., entry 6977およびそれに引用の文献参照)。
オメプラゾールは商業的には多段階手順で製造され、その最後の段階は、一般的
にはピルメタゾール(pyrmetazole)として知られるスルフィド中間体5−メト
キシ−2−[[4−メトキシ−3,5−ジメチル−2−ピリジニル)メチル]メ
チルチオ]−1H−ベンズイミダゾール(以下に式IIとして示す)の酸化であ
り、それは代表的には、好適な非アルコール系有機反応溶媒中、メタクロロ過安
息香酸(以下、MCPBAと称する)(米国特許4255431号および538
6032号)、モノ過フタル酸マグネシウム(MMPP)(米国特許53917
52号)または過酢酸(WO98/09962)などの過酸を用いて行われる。
好ましい酸化剤は通常はMCPBAであり、好ましい非アルコール系有機反応溶
媒にはベンゼンおよびトルエンなどの芳香族炭化水素溶媒、クロロホルムおよび
塩化メチレンなどの塩素化脂肪族炭化水素溶媒などがあり、メタノール、エタノ
ール、イソプロパノールまたは1−ブタノールなどのアルコール系溶媒との混合
で用いられる。好ましい非アルコール系有機反応溶媒は通常は塩化メチレンおよ
びトルエンであり、好ましいアルコール系溶媒はエタノールである。
【0003】 先行技術のオメプラゾールについてのプロセスには多くの欠点があり、そのた
めに最終生成物の収率および純度のいずれも制限される。
【0004】 そのような先行技術の重大な欠点は、ピルメタゾールのオメプラゾールへの不
完全な酸化的変換と非化学選択的酸化である。ピルメタゾールの酸化では化学的
選択性の2つの側面が重要である。第1に、ピルメタゾールは、酸化剤に対して
スルフィド基と競合し得る2個の3級アミノ基を有する。これらのアミノ基は所
望のスルフィドより反応性が低いが、そうではあっても、室温以下でMCPBA
によって定量的酸化を受ける場合がある。第2に、生成物であるオメプラゾール
(スルホキシド)もMCPBAと反応して、副生成物であるスルホンを形成する
場合がある。従来法の特徴である非化学的選択性および過剰酸化は、酸化剤量に
対する制御が有効でないために生じるとともに、酸化剤を反応容器に入れる方法
によっても生じるものである。先行技術の方法は正確に測定された量の酸化剤を
用いるものではなく、反応混合物へのそれの添加は注意深く制御されない。非化
学的選択的酸化、過剰酸化および不十分な酸化はいずれも、高い不純物量と最終
の所望生成物の収率低下につながる。
【0005】 先行技術の手順の別の欠点は、母液中および溶媒洗浄液中でのオメプラゾール
の溶解度のために精製段階および単離段階で生成物がかなり損失するという点で
ある。
【0006】 さらに別の欠点は、結晶化段階時における残留溶媒および反応副生成物の吸蔵
によって生じる生成物品質低下に関するものである。毒性/安全上の理由から、
最終結晶生成物中の有機反応溶媒および再結晶溶媒不純物の残留レベルを除去す
ることが望ましい。
【0007】 従って本発明の目的は、先行技術の方法の収率および生成物純度における制限
を克服する、改良されたオメプラゾールの製造、精製および単離方法を提供する
ことにある。
【0008】 本発明の別の目的は、最初の粗反応結晶化段階後に、残留非アルコール系有機
反応溶媒レベルが低いオメプラゾールの組成物を提供することにある。
【0009】 本発明のさらに別の目的は、クロマトグラフィー検出範囲内に残留非アルコー
ル系有機反応溶媒を含まず、残留結晶化溶媒が20ppm未満であるオメプラゾ
ールの最終組成物を提供することにある。
【0010】 (発明の開示) 本発明は、式Iのオメプラゾールの改良された製造、精製および単離方法を提
供するものである。オメプラゾール製造の最終化学変換は、式IIのスルフィド
中間体であるピルメタゾールをそれのスルホキシド誘導体である式Iのオメプラ
ゾールに酸化的に変換するものである。
【0011】
【化3】
【0012】 前記改良されたプロセスの1実施態様では、酸化剤はメタクロロ過安息香酸(
MCPBA)であり、非アルコール系有機反応溶媒は塩化メチレンもしくはトル
エンであって、メタノール、エタノール、イソプロパノールもしくは1−ブタノ
ールなどのアルコール系溶媒、特にはエタノールと混合されたものである。本実
施態様では、酸化の完全性および化学的選択性は、反応容器に投入されるMCP
BAの量を注意深く制御することで至適化された。ピルメタゾールのモル数に関
してMCPBAを1モル当量使用することで、非化学的選択的酸化、過剰酸化お
よび不十分な酸化が防止され、それによって不純物が少なくなり、収率が向上す
る。本発明の別の実施態様では、投入溶液中のMCPBA濃度を、3−メチルイ
ソキノリンのそれのN−オキサイド誘導体へのMCPBA酸化とそれに続くHP
LC定量に基づく新規な分析法を用いて計算する。その分析を用いなければ、ピ
ルメタゾールのオメプラゾールへの酸化が過剰になったり不十分になったりする
ことを避ける実用的方法はない。
【0013】 本発明のさらに別の実施態様では、撹拌機羽根の先端で反応容器中に酸化剤溶
液を投入するようにして、MCPBAを表面下で加え、同時に反応温度を制御す
ることで局所的過剰酸化の抑制を行う。これらの新規な特徴をプロセスに組み込
むことで、スルホン副生成物を形成することなく、ピルメタゾールのオメプラゾ
ールへの完全な変換が確実に行われる。
【0014】 本発明のさらに別の実施態様では、結晶化に先だって反応混合物抽出後に粗水
相を減圧蒸留して酸化段階から混入した塩化メチレンまたはトルエンのほとんど
を除去することで、粗生成物の単離が改善されている。アルコール系溶媒、特に
エタノールの濃度を再度調節して、粗結晶化段階時に良好な結晶成長を促進する
。結晶化段階には、ギ酸C1−3アルキル、好ましくはギ酸メチルあるいはギ酸
の含水メタノールもしくはエタノール溶液のいずれかをインペラ先端付近に位置
してそれに垂直な液浸チューブによって表面下にて加えて行う2段階中和が関与
する。このギ酸メチルまたはギ酸溶液の添加形態によって、中和剤が急速に分散
して、自然核形成と比較して結晶成長が促進される。それを行う場合、結晶への
母液の吸蔵が低減される。粗生成物中の着色不純物を除去する上で必要なアンモ
ニア水洗浄において、先行技術の手順で用いられるものと比較してアンモニア濃
度を低下させることで、オメプラゾールの収率がさらに高くなる。
【0015】 本発明のさらに別の実施態様は、最終精製段階に関するものである。結晶化段
階ではメタノール−水混合物を用い、結晶化は酢酸水溶液を表面下に添加し、そ
の後オメプラゾールのシードを加えることで開始する。同じメタノール−水混合
物を置換洗浄液として用いて母液および溶解している不純物を除去し、しかも溶
解度損失を抑制する。そのようにして、かなりの収率向上が得られ、しかも生成
物の品質に悪影響がない。
【0016】 このようにして、結晶オメプラゾールが収率および純度において大幅に改善さ
れて得られる。単離物には、残留非アルコール系有機反応溶媒がクロマトグラフ
ィー的に検出されるレベルでは含有されず、結晶化溶媒としての残留メタノール
は20ppm未満である。
【0017】 (発明を実施するための最良の形態) 本発明は、プロトンポンプ阻害薬オメプラゾールの改良された製造、精製およ
び単離方法ならびにそれの新規な組成物に関するものである。式Iの構造を有す
るオメプラゾールは、約−5〜+5℃まで冷却しpH約5〜6まで緩衝させた式
IIの構造を有するピルメタゾール溶液を、アルコール系溶媒と混合した非アル
コール系有機反応溶媒に溶かしたピルメタゾールのモル数に対して1モル当量の
酸化剤と反応させることで製造される。アルコール系溶媒は、メタノール、エタ
ノール、イソプロパノールおよび1−ブタノールから選択される。
【0018】
【化4】
【0019】 本発明の改良された方法の1実施態様では、緩衝溶液は重炭酸カリウムを含み
、酸化剤はメタクロロ過安息香酸であり、非アルコール系有機反応溶媒は塩化メ
チレンもしくはトルエンであって、それらはいずれもエタノールとの混合である
。反応は、酸化の完全性および化学的選択性の両方が至適化されるように行う。
反応をほぼ定量的に進行させるためには、酸化剤MCPBAの過剰を低減するこ
とが必要である。従って、酸化剤を含む溶液を正確に分析して、正確な量の試薬
を反応容器に投入するようにする。先行技術の方法では、加えるMCPBAの量
は販売業者の分析値に基づいていた。MCPBA固体は安全上の理由から約15
〜25%の水分を含有することから、その固体は均一ではない。従って製造業者
は、MPCBAの平均分析結果を提供できるのみである。別の容器および別の供
給業者からのMCPBAを用いる場合には、MPCPBAの投入量が不正確にな
る。従って、新規な分析方法を開発して投入溶液中のMCPBAを定量して、正
確な量の酸化剤を加えるようにした。その分析によれば、過剰量の3−メチルイ
ソキノリン(III)をMCPBAのトルエン/エタノール溶液と反応させて、
以下の式に従って3−メチルイソキノリン−オキサイド(IV)を形成する。
【0020】
【化5】
【0021】 この反応は迅速かつ定量的である。反応混合物中の残った3級アミンを逆相高
速液体クロマトグラフィー(RP−HPLC)によって定量する。反応中に消費
されたアミンの量を用いて、MCPBA溶液の濃度を計算する。
【0022】 試薬添加中に過剰の酸化剤が蓄積しないことも重要である。それは、撹拌機羽
根付近に配置してその羽根に対して垂直な液浸チューブからバッチに溶液を投入
するようにMCPBAを表面下添加することで最も良好に行われる。この添加形
態によって、酸化剤は直ちに分散することから、局所的な過剰酸化が抑制される
【0023】 酸化の化学的選択性および程度も、酸化剤を結晶化させずに反応温度を制御す
ることで高めることができる。至適温度範囲は酸化剤溶液で約0〜5℃であり、
反応混合物については添加プロセスを通じて約−5〜+5℃である。MCPBA
溶液または反応混合物のいずれかがこれより高い温度になると、若干のスルホン
形成が生じる。同様に、これよりかなり低い温度になると一時的に酸化反応が抑
制され、そのために酸化剤の局所的蓄積が生じて、過剰酸化生成物が生じる場合
がある。
【0024】 酸化剤を含む溶液を加えた後、塩基水溶液(例:50%NaOHまたはKOH
)を加え、溶液を0〜5℃で約0.5〜1.0時間熟成させ、水相を有機相から
分離する。精製生成物中の揮発性非アルコール系有機反応溶媒レベルが高くなる
原因となる粗生成物中の非アルコール系有機反応溶媒、特にトルエンまたは塩化
メチレンの残留レベルを低下させるには、粗水相から取り込まれたトルエンまた
は塩化メチレンをできるだけ除去することが重要である。残留トルエンまたは塩
化メチレンが生じるのは、粗バッチを塩基水溶液とともにトルエンまたは塩化メ
チレンから抽出する際に生じる乳濁液が原因である。残留溶媒の除去は、約25
〜70mmHgの圧力および約15〜35℃の温度で約1〜4時間にわたって水
相を減圧蒸留することで行うことができる。さらに例を挙げると、蒸留は約50
mmHgおよび約15℃で2時間行う。減圧蒸留手順によって、トルエンまたは
塩化メチレンの結晶化前レベルが400ppm未満まで低下する。乳濁液を破壊
し、より良好な相分離を行うための他の選択肢は、この方法より効果が低い。そ
れらの方法には、沈殿時間を長くしたセライト(登録商標)床による粗水相の濾
過および強電解質の添加などがある。
【0025】 蒸留プロセスによってアルコール、特にエタノールも除去されることから、そ
の濃度を再度約15%に調節して、粗結晶化プロセス時の結晶成長を促進するよ
うにしなければならない。アルコール系溶媒、特にエタノールのレベルが低いと
結晶が細かくなり、その後の洗浄時に溶解しやすくなって、粗生成物の収率低下
につながる。
【0026】 この時点で、オメプラゾールの反応結晶化を開始し、条件を制御しながら維持
する。ギ酸C1−3アルキル(好ましくはギ酸メチル)投入量の約40%を最初
の30分間をかけて加えることで、バッチのpHを約13.5から約10.6〜
10.8のpHでのほぼ過飽和とする。ギ酸メチル添加は、片方の先端が狭くな
っていて細流を生じるようになっており、インペラ先端付近に配置されてそれに
対して垂直である液浸チューブで行う。この方法によってギ酸メチルが急速に分
散されて、不純物の吸蔵が低減される。約10.6〜10.8のpHが得られた
ら、ギ酸メチル添加を中止し、バッチを10〜20分間熟成させて、放冷によっ
て温度を約20℃とし、シード添加に供する。シード添加はpH10.6〜10
.8で行うことが重要である。10.6以下では、自然核形成が起こって、十分
なシード床が存在しなければほとんど結晶成長が起こらなくなる。シード添加は
純粋で粉砕されたオメプラゾール(HPLCで100%)を用いて行い、ギ酸メ
チルの残りを6〜8時間かけて表面下に添加して、pHを約9.0〜9.3に調
節する。この結晶化手順によって、生成物の収率および純度の両方が向上する。
具体的な機構に拘束されるものではないが、純度向上は主として、核形成と比較
して結晶成長を促進することで母液の吸蔵が防止されるためであると考えられて
いる。この段階での粗オメプラゾールは、ガスクロマトグラフィー分析による測
定で、残留トルエンまたは塩化メチレンを100ppm未満で含む。
【0027】 粗オメプラゾールの反応結晶化も、ギ酸のメタノールまたはエタノール溶液(
好ましくは約20体積%ギ酸の含水メタノール(約25%)溶液)を前段落に記
載の表面下法で加えることによりオメプラゾールの塩基性水溶液を中和すること
で行うことができる。このようにして十分なギ酸溶液を加えることで、pHを約
13.5からほぼ過飽和のpH約10.6〜10.8に調節する。この段階では
、シード添加は純粋な粉砕オメプラゾール(HPLCで100%)を用いて行い
、ギ酸溶液の残りを6〜8時間かけて表面下に加えることでpHを約9.0〜9
.3に調節する。このギ酸メチルに代えてギ酸溶液を用いる代替中和手順によっ
て、より大きくより均一な結晶で粗結晶オメプラゾールが生じる。ギ酸中和で得
られるオメプラゾール結晶の平均粒径は約280μmであり、それに対してギ酸
メチル中和で得られるものは平均粒径180μmである。粒径が大きいというこ
とは遠心や濾過の効率が高くなるということであり、それによって生産規模での
生産性が大きく高まることになる。
【0028】 ギ酸メチルまたはギ酸中和から得られる粗結晶生成物を濾過し、0.01〜1
.0%、好ましくは0.1%のアンモニア水で洗浄し、次にメタノールで洗浄す
る。
【0029】 粗湿オメプラゾールを、塩基水溶液(好ましくは50%NaOHまたはKOH
)を含む2:1−0.5−1(体積基準)メタノール−水溶液中に20℃で溶か
し、その塩基性溶液を約0〜5℃まで冷却し、温度を0〜5℃に維持しながら酢
酸水溶液(好ましくは25%酢酸水溶液)を端部の狭い液浸チューブ(粗単離段
階で用いたものと同じ装置形状)から30分かけて表面下添加することでpHを
>11.0から約10.5に低下させることで、粗湿オメプラゾールを精製する
。この時点で、バッチに純粋なオメプラゾール(HPLCで100%)のシード
を加え、pH約9.0が得られるまで25%酢酸水溶液の表面下添加を2〜4時
間続ける。次にバッチを0.5〜1.0時間、好ましくは0.5時間熟成させる
。熟成期間後、生成物を濾過し、同じメタノール−水混合液で洗浄して不純物を
含む母液を置換し、最後に冷メタノールで洗浄する。30〜50mmHgおよび
30〜35℃で窒素パージしながら真空乾燥することで、純粋なオメプラゾール
が得られる。
【0030】 この最終精製段階での至適なメタノール−水比は1:1である。従来の方法で
はそれより高いメタノール/水比を用いていた。置換洗浄で使用される溶媒混合
物中のメタノールの割合を下げることで溶解度損失が低減し、精製要求(demand
s)が得られることで、生成物品質を低下させることなく最終生成物の収率が向
上する。
【0031】 本発明の改良された方法を用いて得られる結晶オメプラゾールはHPLC純度
が100%であり、検出限界3ppmでのガスクロマトグラフィー測定で、前記
粗段階からの取り込まれた残留トルエンまたは塩化メチレンは検出できないレベ
ルである。先行技術の方法では、残留非アルコール系有機反応溶媒、すなわちト
ルエンまたは塩化メチレンを30〜100ppm含むオメプラゾールが得られて
いる。精製生成物には結晶化溶媒としての残留メタノールが20ppm未満で含
まれる。
【0032】 経口投与用製剤での医薬組成物の調製を行うには、本発明の方法に従って製造
されたオメプラゾールを、乳糖、ショ糖、ソルビトール、マンニトール、デンプ
ン、アミロペクチン、セルロース誘導体もしくはゼラチンなどの固体の粉末担体
、ならびにステアリン酸マグネシウム、ステアリン酸カルシウムおよびポリエチ
レングリコールロウ類などの減摩剤と混合することができる。次に、混合物を加
圧して錠剤とする。コート錠が必要な場合には、上記で製造した核を、アラビア
ガム、ゼラチン、タルク、酸化チタンを含むことができる糖の濃縮液で、あるい
は揮発性有機溶媒もしくは溶媒混合物に溶かしたラッカーでコーティングするこ
とができる。このコーティングには各種染料を加えて、存在する活性化合物の量
が異なる錠剤を識別するようにすることができる。
【0033】 本発明によって製造される純粋なオメプラゾールと植物油の混合物を含む軟ゼ
ラチンカプセルを製造することができる。硬ゼラチンカプセルは、乳糖、ショ糖
、ソルビトール、マニトール、ジャガイモデンプン、コーンスターチ、アミロペ
クチン、セルロース誘導体またはゼラチンなどの固体の粉末担体との組合せで活
性化合物顆粒を含むことができる。
【0034】 経口用の医薬錠剤は以下のようにして製造される。固体物質を粉砕または篩通
しして一定の粒径とし、結合剤を均質化して好適な溶媒中に懸濁させる。本発明
の方法に従って製造された固体のオメプラゾールと補助剤を、結合剤溶液と混和
する。得られた混合物に水で湿らせて、湿った雪の粘稠性を有する均一懸濁液を
得る。湿らせることによって粒子が若干凝集し、得られた塊を、メッシュ径約1
mmのステンレス製篩に押し付ける。混合物層を注意深く制御された乾燥キャビ
ネット中で約10時間乾燥させて、所望の粒径および粘稠度を得る。乾燥混合物
の顆粒を篩通しして粉末を除去する。この混合物に崩壊剤、減摩剤および粘着防
止剤を加える。最後に、適切なパンチおよびダイスを有する機械で混合物を打錠
して、所望の錠剤径を得る。加える圧力が錠剤の径、それの強度および水への溶
解能に影響する。使用する圧縮圧力は0.5〜5トンの範囲内とする。錠剤、特
に粗いまたは苦い錠剤は糖その他の何らかの風味の良い物質の層でコーティング
することができる。それを電子計数装置を搭載した機械によって包装する。
【0035】 以下の実施例は本発明の方法を例示するものであり、添付の特許請求の範囲に
規定の本発明の範囲を限定するものではない。
【0036】 実施例1 MCPBA投入液のHPLC分析 段階A:HPLC操作パラメータ 下記の追加パラメータで、ウォーターズμボンダパック(Waters μBondapak)
C−18カラム(4.6×300mm、粒径10μm)を用いて高速液体クロマ
トグラフィーを行った。
【0037】 移動相:A=アセトニトリル;B=0.1%HPO; モード:流量1.0mL/分での定組成25%A/75%B; 注入量:10μL; 検出器波長:254nm; 測定時間:32分; 定量法:電子的積分による面積; 大体の保持時間: 3−メチルイソキノリン:3.5分、 3−メチルイソキノリン−オキサイド:5.7分、 MCPBA:11.4分、 トルエン:25.1分。
【0038】 段階B:試薬 アセトニトリル(MeCN):HPLC用; 水:HPLC用; リン酸:HPLC用; 3−メチルイソキノリン:98%; サンプル希釈剤:50/50(MeCN/0.1%HPO)。
【0039】 段階C:3−メチルイソキノリン標準液の調製 3−メチルイソキノリン(98%)20±5mgを10mLメスフラスコに移
し入れ、MeCN1.0mLに溶かした。室温まで加熱した後MCPBA1.0
mLをフラスコに注意深くピペットで入れ、フラスコの側面をMeCN1.0m
Lで洗浄した。次にフラスコをパラフィルムで覆い、5分間超音波処理した。冷
却後、フラスコの側面をMeCN1.0mLで洗浄し、フラスコをさらに1分間
超音波処理した。この溶液1.0mLをピペットによって25mLメスフラスコ
に移し、段階Bからのサンプル希釈液で規定量まで希釈した。
【0040】 段階D:手順 段階Aに示した移動相条件下で10分間以上かけてHPLC系を平衡状態とし
た。段階Cからの標準調製液を2回注入したが、3−メチルイソキノリンピーク
についての平均面積応答がそれの平均の±1%以内で一致していなければならな
い。サンプル調製液を1回注入した。
【0041】 段階E:計算 MCPBA溶液の濃度(mg/mL)を以下の式を用いて計算した。
【0042】
【数1】 式中、 A=サンプル溶液における3−メチルイソキノリンの面積応答; B=サンプル調製液中の3−メチルイソキノリンの重量(mg); As=標準溶液についての3−メチルイソキノリンの平均面積応答; Cs=3−メチルイソキノリン標準液の濃度; 172.57=3−メチルイソキノリンの式量; 143.19=MCPBAの式量である。
【0043】 分析例として、スペクトラムからのMCPBAサンプル(ロット番号LF01
02、72.7%MCPBA)の分析を行い、MCPBAについて72.8%(
重量%)という値を得た。
【0044】 実施例2 溶媒として塩化メチレンを用いたオメプラゾールの製造 重炭酸カリウム(14.0g、0.140mol、1.2当量)の脱イオン水
(115mL)溶液を、1リットルの三頸丸底フラスコに入ったピルメタゾール
(0.114mol)の塩化メチレン(170mL)溶液に加え、混合物を冷却
して0℃とした。メタクロロ過安息香酸(MCPBA)(28g、0.114m
ol、1.0当量)の塩化メチレン(51mL)およびエタノール(13.3m
L)溶液を調製し、実施例1に記載の3−メチルイソキノリン/HPLC法によ
って分析して、MCPBAを正確に1モル当量使用するようにした。次に溶液を
冷却して0〜5℃とし、インペラの先端で表面下に向かって、高速撹拌したピル
メタゾール溶液に2時間かけて加えた。酸化変換率は99.8%であり、HPL
C分析での測定により、スルホンまたはN−オキサイドへの過剰酸化はなかった
。反応混合物に冷脱イオン水(115mL、5℃)および50%NaOH(15
mL)を加えた。溶液を0〜5℃で30分間静置して、相分離を行った。塩化メ
チレン層を廃棄し、水層を減圧下(50mmHg)に15℃で2時間濃縮して、
残留塩化メチレンをほとんど除去した。エタノールレベルを再度調節して15体
積%とした。この時点で、残留塩化メチレンレベルはガスクロマトグラフィー分
析での測定で200ppm未満であった。
【0045】 次に、ギ酸メチルの表面下添加による反応結晶化によって粗生成物を単離した
。ギ酸メチル投入量の約40%(約6mL)を最初の30分間に加えてpHを約
13.5から10.8に調節した。混合物を約20分間静置して放冷することで
内部温度を約20℃まで再度戻した。混合物に純粋なオメプラゾールのシード(
0.5g)を加え、残りのギ酸メチル(約9mL)を7時間かけて表面下添加し
てpHを9.0とした。粗生成物を濾過し、0.1%アンモニア水(50mL)
と次にメタノール(40mL)によって洗浄した。
【0046】 粗生成物を、20℃にて500mL三頸丸底フラスコ中で1:1メタノール−
水(270mL)および50%NaOH(4mL)に溶かした。溶液を冷却して
0〜5℃とし、温度を5℃に維持しながら30分間かけて25%酢酸を表面下添
加することでpHを>11.0から約10.5に調節した。バッチに純粋なオメ
プラゾール(0.5g)のシードを入れ、25%酢酸の表面下添加を4時間にわ
たって継続してpH9.0となるようにした。30分後、得られた固体を濾過し
、1:1メタノール−水(30mL)で洗浄し、最後に冷(5℃)メタノール(
30mL)で洗浄した。純粋なオメプラゾール(HPLC分析による測定で10
0%)を真空乾燥後に得た(50mmHg、30〜35℃)。総収率は92.7
%であった。残留メタノールレベルはガスクロマトグラフィー測定で10ppm
であり、検出可能なレベルの塩化メチレンはなかった(検出限界3ppm)。
【0047】 実施例3 溶媒としてトルエンを用いたオメプラゾールの製造 重炭酸カリウム(14.0g、0.140mol、1.2当量)の脱イオン水
(115mL)溶液を、1リットルの三頸丸底フラスコに入ったピルメタゾール
(0.114mol)のトルエン(310mL)溶液に加え、混合物を冷却して
0℃とした。重炭酸カリウムを加えた後、メタクロロ過安息香酸(0.114m
ol、1当量)のトルエン(53mL)およびエタノール(20mL)溶液につ
いて、実施例2に記載の方法に従って分析を行い、ピルメタゾール溶液に加えた
。酸化変換率は99.8%であり、スルホンまたはN−オキサイドへの過剰酸化
はなかった。反応混合物に冷脱イオン水(145mL、5℃)および50%Na
OH(12mL)を加えた。溶液を0〜5℃で30分間静置して、相分離を行っ
た。溶液を0〜5℃で30分間静置し、分液を行った。トルエン層を廃棄し、水
層を減圧下(50mmHg)に15℃で2時間濃縮して、残留トルエンをほとん
ど除去した。エタノールレベルを再度調節して15体積%とした。この時点で、
残留トルエンレベルはガスクロマトグラフィー分析での測定で400ppm未満
であった。
【0048】 次に、実施例2に記載の方法に従ってギ酸メチルの表面下添加による反応結晶
化によって粗生成物を単離した。それを濾過し、0.1%アンモニア水(50m
L)で洗浄し、次にメタノール(40mL)で洗浄した。湿粗生成物を実施例2
に記載の方法に従って処理して純粋なオメプラゾールとした。総収率は93.8
%であり、純度はHPLCで100%であった。残留メタノールレベルはガスク
ロマトグラフィー測定で10ppmであり、検出可能なレベルのトルエンはなか
った(検出限界3ppm)。
【0049】 実施例4 ギ酸との反応結晶化による粗オメプラゾールの単離 粗生成物の結晶化段階まで実施例3の通りに行ってオメプラゾールの塩基性水
溶液を得た。ギ酸、メタノールおよび水の20:20:60の比での溶液を、室
温で表面下添加にて粗生成物の水溶液に加えることで結晶化を行った。ギ酸の約
40%を最初の30分間かけて加えてpHを約13.5から調節した。次にバッ
チに純粋なオメプラゾール(0.5g)のシードを加え、残りのギ酸溶液を7時
間かけて表面下添加することでpHを9.0とした。粗生成物を濾過し、0.1
%アンモニア水で洗浄し(20℃で50mL)、次にメタノールで洗浄し(5℃
で40mL)、減圧乾燥した(50mmHg、30〜35℃)。粗段階の収率は
95.4%であり、HPLCによる純度は99.9%であって、粒径中位値は2
85μmであった。
【0050】 実施例5 有効成分として本発明の方法に従って製造されたオメプラゾールを含む医薬組
成物を以下の製剤で例示する。
【0051】 本発明のオメプラゾール30mgを含むカプセルを以下の成分から製造した。
【0052】 実施例2または3の化合物:300g、 乳糖:700g、 微結晶セルロース:40g、 低置換ヒドロキシプロピルセルロース:62g、 リン酸水素二ナトリウム:2g、 精製水:十分量。
【0053】 実施例2または3のオメプラゾールを乾燥した成分と混合し、リン酸水素二ナ
トリウム溶液とともに造粒した。湿った塊を押出機に通し、流動床乾燥機で乾燥
した。
【0054】 ペレット500gを、流動床コーターを用いてヒドロキシプロピルメチルセル
ロース(30g)水溶液(水750mL)でコーティングした。乾燥後、以下の
ようにしてペレットを第2のコーティング剤でコーティングした。
【0055】 コーティング液 メチルセルロースフタル酸ヒドロキシプロピル:70g、 セチルアルコール:4g、 アセトン:200g、 エタノール:600g。
【0056】 最終コーティングペレットをカプセルに充填した。
【手続補正書】特許協力条約第19条補正の翻訳文提出書
【提出日】平成12年1月17日(2000.1.17)
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正内容】
【特許請求の範囲】
【化1】 を有するオメプラゾールの製造方法であって、約−5〜+5℃で下記構造式II
【化2】 を有するピルメタゾールの非アルコール系有機反応溶媒中の緩衝溶液を、該ピル
メタゾールのモル数に対して等価な量の酸化剤で処理する段階であって該酸化剤
が約0〜5℃でアルコール系溶媒との混合で非アルコール系有機反応溶媒に溶か
したものである段階と塩基水溶液の存在下に熟成を行う段階を有することを特徴
とする方法。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 EP(AT,BE,CH,CY, DE,DK,ES,FI,FR,GB,GR,IE,I T,LU,MC,NL,PT,SE),OA(BF,BJ ,CF,CG,CI,CM,GA,GN,GW,ML, MR,NE,SN,TD,TG),AP(GH,GM,K E,LS,MW,SD,SL,SZ,UG,ZW),E A(AM,AZ,BY,KG,KZ,MD,RU,TJ ,TM),AE,AL,AM,AU,AZ,BA,BB ,BG,BR,BY,CA,CN,CR,CU,CZ, EE,GD,GE,HR,HU,ID,IL,IN,I S,JP,KG,KR,KZ,LC,LK,LR,LT ,LV,MD,MG,MK,MN,MX,NO,NZ, PL,RO,RU,SG,SI,SK,TJ,TM,T R,TT,UA,US,UZ,VN,YU,ZA (72)発明者 バンクス,ベンジヤミン・ニユートン アメリカ合衆国、ニユー・ジヤージー・ 07065、ローウエイ、イースト・リンカー ン・アベニユー・126 (72)発明者 マクマナス,ジエイムズ・ダブリユ アメリカ合衆国、ニユー・ジヤージー・ 07065、ローウエイ、イースト・リンカー ン・アベニユー・126 (72)発明者 チヨウ,リンウエン アメリカ合衆国、ニユー・ジヤージー・ 07065、ローウエイ、イースト・リンカー ン・アベニユー・126 (72)発明者 リウ,ホイ アメリカ合衆国、ニユー・ジヤージー・ 07065、ローウエイ、イースト・リンカー ン・アベニユー・126 Fターム(参考) 4C063 AA01 BB08 CC26 DD12 EE01 4C086 AA01 AA04 BC39 GA07 GA08 MA01 MA04 NA06 ZA68 ZC41

Claims (42)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 下記構造式I 【化1】 を有するオメプラゾールの製造方法であって、約−5〜+5℃で下記構造式II 【化2】 を有するピルメタゾールの非アルコール系有機反応溶媒中の緩衝溶液を、該ピル
    メタゾールのモル数に対して等価な量の酸化剤で処理する段階であって該酸化剤
    が約0〜5℃でアルコール系溶媒との混合で非アルコール系有機反応溶媒に溶か
    したものである段階と塩基水溶液の存在下に熟成を行う段階を有することを特徴
    とする方法。
  2. 【請求項2】 さらに、 (a)熟成した反応混合物の水相を有機相から分離する段階; (b)前記水相から残留非アルコール系有機反応溶媒を除去し、次に前記アル
    コール系溶媒濃度を再調節して約15体積%とする段階 を有する請求項1に記載の方法。
  3. 【請求項3】 前記アルコール系溶媒がメタノール、エタノール、イソプロ
    パノールおよび1−ブタノールから選択される請求項1に記載の方法。
  4. 【請求項4】 前記アルコール系溶媒がエタノールである請求項3に記載の
    方法。
  5. 【請求項5】 さらに、 (a)前記水相から粗生成物を結晶化させる段階; (b)粗生成物を濾過によって単離し、アンモニア水およびメタノールで洗浄
    する段階 を有する請求項2に記載の方法。
  6. 【請求項6】 前記粗生成物の結晶化を、ギ酸C1−3アルキルを表面下添
    加してpHを約13.5から約10.6〜10.8に調節し、約10〜20分間
    熟成を行って温度を約20℃とし、前記ギ酸アルキルの残りを6〜8時間かけて
    加えてpHを約9.0〜9.3とすることで行う請求項5に記載の方法。
  7. 【請求項7】 前記粗生成物の結晶化を、約20体積%のギ酸の含水メタノ
    ールもしくはエタノール溶液を表面下添加してpHを約13.5から約10.6
    〜10.8に調節し、シードを添加し、前記ギ酸の残りを6〜8時間かけて加え
    てpHを約9.0〜9.3とすることで行う請求項5に記載の方法。
  8. 【請求項8】 さらに (a)約0〜5℃まで冷却することで水酸化ナトリウム水溶液を含むメタノー
    ル−水中で粗生成物を結晶化させ、25%酢酸水溶液を表面下添加することでp
    Hを約10.5に調節し、シード添加を行い、25%酢酸水溶液を加えることで
    pHを約9.0に調節し、約0.5時間熟成させる段階;ならびに (b)濾過、メタノール−水および冷メタノールによる洗浄および減圧乾燥に
    よって純粋な生成物を単離する段階 を有する請求項5に記載の方法。
  9. 【請求項9】 約25〜70mmHgおよび約15〜35℃で約1〜4時間
    の減圧蒸留を行うことによって、水相から残留非アルコール系有機反応溶媒を除
    去する請求項2に記載の方法。
  10. 【請求項10】 酸化剤が過安息香酸、メタクロロ過安息香酸、モノ過フタ
    ル酸マグネシウムおよび過酢酸から選択される請求項1に記載の方法。
  11. 【請求項11】 前記酸化剤がメタクロロ過安息香酸である請求項10に記
    載の方法。
  12. 【請求項12】 前記非アルコール系有機反応溶媒が芳香族炭化水素溶媒お
    よび塩素化脂肪族炭化水素溶媒から選択される請求項1に記載の方法。
  13. 【請求項13】 前記芳香族炭化水素がトルエンである請求項12に記載の
    方法。
  14. 【請求項14】 前記塩素化脂肪族炭化水素溶媒が塩化メチレン、1,2−
    ジクロロエタンおよびクロロホルムから選択される請求項12に記載の方法。
  15. 【請求項15】 前記塩素化脂肪族炭化水素溶媒が塩化メチレンである請求
    項14に記載の方法。
  16. 【請求項16】 前記熟成を、約0〜5℃で約0.5〜1.0時間進行させ
    る請求項1に記載の方法。
  17. 【請求項17】 前記緩衝液が重炭酸ナトリウム水溶液または重炭酸カリウ
    ム水溶液を含む請求項1に記載の方法。
  18. 【請求項18】 前記塩基水溶液が水酸化ナトリウム水溶液または水酸化カ
    リウム水溶液を含む請求項1に記載の方法。
  19. 【請求項19】 前記ギ酸C1−3アルキルがギ酸メチルである請求項6に
    記載の方法。
  20. 【請求項20】 段階(a)および(b)でのメタノール/水の体積比が2
    :1〜0.5:1である請求項8に記載の方法。
  21. 【請求項21】 前記メタノール/水体積比が1:1である請求項20に記
    載の方法。
  22. 【請求項22】 前記減圧蒸留を約50mmHgの圧力および約15〜25
    ℃の温度で行う請求項9に記載の方法。
  23. 【請求項23】 段階(b)でのアンモニア水濃度が0.01〜1.0体積
    %である請求項5に記載の方法。
  24. 【請求項24】 前記アンモニア水濃度が0.1体積%である請求項23に
    記載の方法。
  25. 【請求項25】 前記ピルメタゾール溶液に添加される酸化剤のモル量を、
    過剰の3−メチルイソキノリンの3−メチルイソキノリン−−オキサイドへの
    酸化程度を定量する高速液体クロマトグラフィー分析によって計算する請求項1
    に記載の方法。
  26. 【請求項26】 前記酸化剤を表面下に添加することで、前記溶液を撹拌機
    羽根の先端で反応混合物に投入する請求項1に記載の方法。
  27. 【請求項27】 残留芳香族炭化水素溶媒を100ppm未満で含む請求項
    8に記載の方法によって得られる5−メトキシ−2−[[4−メトキシ−3,5
    −ジメチル−2−ピリジニル)メチル]スルフィニル]−1H−ベンズイミダゾ
    ール(オメプラゾール)。
  28. 【請求項28】 残留塩素過脂肪族炭化水素溶媒を100ppm未満で含む
    請求項8に記載の方法によって得られる5−メトキシ−2−[[4−メトキシ−
    3,5−ジメチル−2−ピリジニル)メチル]スルフィニル]−1H−ベンズイ
    ミダゾール(オメプラゾール)。
  29. 【請求項29】 前記芳香族炭化水素溶媒がトルエンである請求項27に記
    載の5−メトキシ−2−[[4−メトキシ−3,5−ジメチル−2−ピリジニル
    )メチル]スルフィニル]−1H−ベンズイミダゾール(オメプラゾール)。
  30. 【請求項30】 前記塩素化脂肪族炭化水素溶媒が塩化メチレンである請求
    項28に記載の5−メトキシ−2−[[4−メトキシ−3,5−ジメチル−2−
    ピリジニル)メチル]スルフィニル]−1H−ベンズイミダゾール(オメプラゾ
    ール)。
  31. 【請求項31】 残留芳香族炭化水素溶媒を3ppm未満で含み残留メタノ
    ールを20ppm未満で含む5−メトキシ−2−[[4−メトキシ−3,5−ジ
    メチル−2−ピリジニル)メチル]スルフィニル]−1H−ベンズイミダゾール
    (オメプラゾール)。
  32. 【請求項32】 残留塩素化脂肪族炭化水素溶媒を3ppm未満で含み残留
    メタノールを20ppm未満で含む5−メトキシ−2−[[4−メトキシ−3,
    5−ジメチル−2−ピリジニル)メチル]スルフィニル]−1H−ベンズイミダ
    ゾール(オメプラゾール)。
  33. 【請求項33】 前記芳香族炭化水素溶媒がトルエンである請求項31に記
    載の5−メトキシ−2−[[4−メトキシ−3,5−ジメチル−2−ピリジニル
    )メチル]スルフィニル]−1H−ベンズイミダゾール(オメプラゾール)。
  34. 【請求項34】 前記塩素化脂肪族炭化水素溶媒が塩化メチレンである請求
    項32に記載の5−メトキシ−2−[[4−メトキシ−3,5−ジメチル−2−
    ピリジニル)メチル]スルフィニル]−1H−ベンズイミダゾール(オメプラゾ
    ール)。
  35. 【請求項35】 オメプラゾールに対して残留芳香族炭化水素溶媒を3pp
    m未満で含み残留メタノールを20ppm未満で含む5−メトキシ−2−[[4
    −メトキシ−3,5−ジメチル−2−ピリジニル)メチル]スルフィニル]−1
    H−ベンズイミダゾール(オメプラゾール)を含む組成物。
  36. 【請求項36】 オメプラゾールに対して残留塩素化脂肪族炭化水素溶媒を
    3ppm未満で含み残留メタノールを20ppm未満で含む5−メトキシ−2−
    [[4−メトキシ−3,5−ジメチル−2−ピリジニル)メチル]スルフィニル
    ]−1H−ベンズイミダゾール(オメプラゾール)を含む組成物。
  37. 【請求項37】 前記芳香族炭化水素溶媒がトルエンである請求項35に記
    載の組成物。
  38. 【請求項38】 前記塩素化脂肪族炭化水素溶媒が塩化メチレンである請求
    項36に記載の組成物。
  39. 【請求項39】 オメプラゾールに対して残留芳香族炭化水素溶媒を3pp
    m未満で含み残留メタノールを20ppm未満で含む5−メトキシ−2−[[4
    −メトキシ−3,5−ジメチル−2−ピリジニル)メチル]スルフィニル]−1
    H−ベンズイミダゾール(オメプラゾール)ならびに医薬的に許容される賦形剤
    を含む医薬組成物。
  40. 【請求項40】 オメプラゾールに対して残留塩素化脂肪族炭化水素溶媒を
    3ppm未満で含み残留メタノールを20ppm未満で含む5−メトキシ−2−
    [[4−メトキシ−3,5−ジメチル−2−ピリジニル)メチル]スルフィニル
    ]−1H−ベンズイミダゾール(オメプラゾール)ならびに医薬的に許容される
    賦形剤を含む医薬組成物。
  41. 【請求項41】 前記芳香族炭化水素溶媒がトルエンである請求項39に記
    載の医薬組成物。
  42. 【請求項42】 前記塩素化脂肪族炭化水素溶媒が塩化メチレンである請求
    項40に記載の医薬組成物。
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