JP2002520798A - 光検出器およびその製造方法 - Google Patents
光検出器およびその製造方法Info
- Publication number
- JP2002520798A JP2002520798A JP2000560600A JP2000560600A JP2002520798A JP 2002520798 A JP2002520798 A JP 2002520798A JP 2000560600 A JP2000560600 A JP 2000560600A JP 2000560600 A JP2000560600 A JP 2000560600A JP 2002520798 A JP2002520798 A JP 2002520798A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- channel
- cathode
- tubular member
- layer
- detector
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J43/00—Secondary-emission tubes; Electron-multiplier tubes
- H01J43/04—Electron multipliers
- H01J43/06—Electrode arrangements
- H01J43/18—Electrode arrangements using essentially more than one dynode
- H01J43/24—Dynodes having potential gradient along their surfaces
Landscapes
- Measurement Of Radiation (AREA)
- Photometry And Measurement Of Optical Pulse Characteristics (AREA)
- Electron Tubes For Measurement (AREA)
Abstract
Description
の光電陰極701、陽極704、前述の光電陰極と陽極間にある規定された数の
個々のダイノード703を備えた増倍部702を有する真空にした管から成る光
電子増倍管である。光電陰極701は、放射線が光電陰極に当たると、電子を真
空空間705に放出するように設計されている。これらの光電子は、加速されて
、第1のダイノードに集束される。これらダイノードは、左から右に順次高くな
る正電圧を外部回路(図示せず)から受取り、従って左から右に電子を加速する
。各ダイノード703は、電子が入射するといくつかの二次電子を発生させ、そ
れらの二次電子を、すぐ右のダイノードの電圧により右側に引っ張るように設計
されている。それ故、増倍効果が得られ、最終的に、陽極704でかなり大きい
信号を検出できる。組立てられる個々の部品が多数あるため、図7aの光電子増
倍管は高価である。その他、この光電子増倍管は、所要の電圧をダイノードに印
加するために幾つかの外部回路を必要とする。この光電子増倍管は、光電陰極7
01に電子が発生すると、外被712の内壁に電荷が蓄積する可能性があり、か
つ外被又はその一部が絶縁されているときは、これらの電荷が電界を形成し、電
子の行程を乱す可能性があるという点で、不安定となることがある。
この光電子増倍管において、CEM711は、外被712内に設けられる。外被
712は排気され、その左端には、透明フェースプレート付きの光電陰極701
が設けられる。この装置は嵩張る。この装置は、加速電圧をCEM711に印加
するための端子713、714を備えている。この印加電圧は、排気された中空
CEM711の内側に設けられた導電路に沿って降下する。この形態の増倍部7
11は、光電陰極701から電子を集める円錐形の開口部と、その開口部の後に
、電圧降下で発生する電界により電子を加速する螺旋部があるものが示されてい
る。CEM711の内壁に沿って、電流が絶えず流れる(約10ナノアンペアか
ら約10マイクロアンペアまでの範囲の電流と、約100Vから約1000Vまで
の範囲の電圧)ため、CEM711が、電流と電圧降下に対応する電力で加熱さ
れる。これに反して、CEM711は、真空外被712内に設けられるから、対
流又は熱伝導による熱放散がなく、加熱と輻射による冷却との釣合いが取れる迄
、CEM711は温度上昇する。これにより、高電力消費の場合に、加熱・冷却
段階の間、電気的に不安定となる。さらに、これにより、導電路に流れる最大電
流が制限され、その結果、この装置の最大陽極電流が非常に制限され、かつダイ
ナミックレンジが小さくなる。
れ故二次電子を発生させ、従って増倍効果が起こり、陽極704で信号を検出で
きる。このような装置を用いれば、108を超える増倍が得られる。
器を示す。モノリシック・セラミック本体721内に、螺旋状チャネル722が
形成されている。このチャネルの両端において、一方の側に光電陰極(図示せず
)が、他方の側に陽極部が接続されている。モノリシック・セラミック本体内に
螺旋状チャネルを形成し、この螺旋状チャネルの内壁上に、導電層又は半導電層
を形成するには複雑な製造技法が必要であり、この装置は製造が面倒である。
これは、内側が抵抗性二次電子放出手段732でコーティングされた管状本体7
31を備えている。
ここで、陰極701と陽極704は、管の長手方向の両端に付けられている。
る検出器、並びにこの検出器を製造する方法を提供することである。
発明の好適な実施例を対象とする。
、チャネル部112、113および陽極部114を持つ。陰極部111は、放射
線および/又は粒子が入射すると電子を放出する光電陰極層101を備える。
射線および/又は粒子に対して透明である。この支持体は、例えば光学ガラス、
鉛ガラス、石英ガラスあるいはフッ化マグネシウム、フッ化カルシウム、サファ
イア又はそれらに類するものなどのクリスタル窓材により形成される。チャネル
部は、細長いチャネル108を閉じ込めている。装置が組立てられると、このチ
ャネルは排気される。チャネル部は、事実上、管状部材106で形成される。管
状部材106自体は細長い。管状部材106を真空に保つために、管状部材10
6は、その一方の端部が気密的に陰極部で塞がれ、かつ他方の端部が気密的に陽
極部で塞がれる。このセンサを組立てる前に、管状部材106は別個に形成され
、それ故、管状部材106をその機能に適合させるために、後で変更する場合が
ある。管状部材106の長さと、チャネル内径113との比は、一般に20:1
〜200:1であり、好ましくは30:1〜100:1である。管状部材106
の断面は、円形、楕円形、長方形もしくはそれらに類するものである。円形の断
面が好ましい。陰極の断面は円形であってよい。特定の用途では、陰極の断面は
長方形、楕円形、多角形もしくはそれらに類するものとされ得る。
07で覆われる。この層は、様々な機能を持っている。即ち、この層は、光電陰
極からあるいは層107の他の部分から侵入する電子の標的であり、1個の電子
の入射に伴ない複数個の二次電子を放出する。概して、吸収される電子よりも多
くの電子を放出するから、この層の長手方向に増倍効果が観測できる。さらに、
この層は、放出される上記電子を供給する。加えてこの層は、そのチャネルに沿
って電圧降下を生じ、この電圧降下が、正電位に向けて電子と二次電子を加速さ
せ、陽極に向かう電子の数をますます増大させるように働く。それ故、このチャ
ネル全長にわたって或いは少なくともこのチャネル全長の一部にわたり、適切な
電圧が印加され、特にその導電層又は半導電層に、適切な電圧が印加される。そ
れ故、この層は、主として或る抵抗が得られるように(適切な電圧にて、この層
を流れる所望の電流を得るために)、かつ二次電子を放出する所望の能力が得ら
れるように、設計する必要がある。
した電子/二次電子を集める。それ故、光子、一群の光子、又は陰極層101に
当たった粒子に応答して、陽極で電気信号が観測できる。
しかしながら、好ましくは層107は、周方向に完全にチャネル108を囲う。
図1は、層107がチャネル108を、その全長にわたり陰極部111から陽極
部114まで覆っている一実施例を示す。上述の電圧が、端子109、115を
通じて層107に印加される。
に層107を形成する。組立前に、チャネル108を真空にする。その後、チャ
ネル108は、真空状態にとどまるように塞がれる。
に、さらに好ましくは、陰極部111と陽極部114の少なくとも側部領域の周
りにも形成されるモールド材105とを含むと(必ずしも必要ではないが)好都
合である。このモールド材105の機能は、この装置を機械的な衝撃から守り、
かつ高圧絶縁を提供することである。それ故、モールド材105は、このような
機能を達成するために選択される。もう1つ別の基準は、層107を流れる電流
で発生する熱を運び去るため、モールド材105が熱を伝達できる点である。
状部材106を成形する。ここで成形するとは、他の面では、所望の通りの形状
を管状部材106に与えることをも意味する。例えば、チャネル部112、11
3は、ほぼ円錐形をなす第1の縮小部112と、ほぼ一定の断面を示す第2の部
分113とを有する管状部材106により形成される。この工程はまた、管状部
材106の内壁に層107を形成する工程をも含む。第1の縮小部112は、陰
極から陽極に向かう方向に、そのチャネルの直径および/又は断面の寸法を縮小
する。好ましくは第1の縮小部112は、その陰極側の端が、陰極部のものに一
致する断面積と形状を持ち、かつその陽極側の端が、第2の部分に一致する直径
と断面積を持つ。この断面の形状および/又は断面積は、第1の縮小部112の
それぞれの側に結合する上記の部分の要件に基づいて選択される。
06に取付ける。
01を設ける必要があることを意味する。陰極層用の公知の材料は、大部分が外
気による影響を受けやすく、従って、所望の陰極層の材料を基板102上に設け
る陰極部の形成は、通常真空状態のもとで行う。
3に取付けることで塞ぐ。チャネル108を、予め真空にする。それ故好ましく
は、チャネル108を真空にし、陰極層101を形成し、陰極部111をチャネ
ル部112、113に封止する処置を、真空システム内で1工程の間に行う。
す少数の部品だけから成る低ノイズのセンサが形成できる。そのほかに、このよ
うにして得られる装置のサイズを小さくすることもできる。図7Bに示す実施例
とは対照的に、導電層又は半導電層107で発生した熱は、熱伝導により運び去
ることができる。それ故、さらに高い電流が可能となり、この検出器のダイナミ
ックレンジが増大する。そして熱的および電気的な安定性が大幅に向上する。
使用できる。層107は、センサを組立てる前に、加熱水素をチャネル108の
中に導き、鉛ガラス又は鉛ビスマス・ガラスを還元することで形成できる。ガラ
ス又はセラミックスでできた管状部材106を使用し、その管状部材106を、
鉛ガラス又は鉛ビスマス・ガラスでコーティングすることも可能である。塊状の
導電材料も使用可能である。
ガスイオンエネルギーをわずかしか得ず、それ故壁面に当たっても、さらなる二
次電子を発生できない、陰極に向って進む残留陽電荷の平均自由行程を短くする
ために、曲がり部および/又は彎曲部を設けることもできる。
ルド材で封止することもできる。或るプラスチック材料(例えば、ポリウレタン
)だけでなく、シリコーン樹脂も適切な材料である。
ジウム又はインジウム合金から成る。インジウムとその合金は低い融点を持ち、
かつこれら物質のガス圧力は低く、組立済みCEM内の真空状態が、前述の封止
材料中で、あるいは封止材料と共に発生する作用により乱されることはない。
インジウム(合金)封止部103は、陰極層101にも、チャネル内の導電層/
半導電層107にも接触する。封止部103は、封止部103に結合する端子1
09を設けることで、外部から、電気的に接近可能である。この場合、封止部1
03は、陰極部111をチャネル部112、113に気密封止し、陰極層103
に接触しそして層107に接触する三重の機能を果たす。
スマスの合金が使用される。好ましくは、インジウム合金は共晶合金である。
陰極部111とチャネル部112、113との間の気密封止部103は、通常ガ
ラス/インジウム(合金)/ガラスの連結部である。ガラス面の1つへの前述の
合金の接着性を向上させるため、ガラス面を研磨しおよび/又はそのガラス面に
金属プライマ層を付けることができる。好ましくは、封止部103に接触する上
記のガラス面を最初に研磨し、その後ガラス面に金属層を付ける(例えば金属層
をその研磨済み表面上に蒸着する)。その後、真空状態の下でインジウム合金の
連結部を設けることにより、陰極部111を気密的にチャネル部112、113
に取付ける。好ましくは、封止部103に接触する双方の表面部分(支持体10
2と、管状部材104、106)は、上述の方法で処理する。
しか示していない。この場合も、チャネル領域は、円錐形の部分112と、ほぼ
一定の直径を持つ部分113とを有する。それにもかかわらず、陰極と、第1の
縮小部との間に、断面がほぼ一定の第3の部分106aが、追加的に設けられる
。この第3の部分は、管状部材106と共に、単一体106aとして形成するこ
とができる。さらに、第3の部分106aの内壁も、導電層又は半導電層107
aで覆われてよい。それ故、導電層又は半導電層107、107aは、光電陰極
から陽極に向けて延びている。
の部分106aのうち、陰極部に隣接した内壁に設けられる。集束電極211は
、環状のもの(第3の部分106aが、円形断面を有する場合)であって、第3
の部分106aの内壁の円周全体に設けられる。環状の集束電極211は、陰極
から離れて、第3の部分106aの内壁の一部を覆う。好ましくは、集束電極2
11は、長手方向に、第3の部分106aの全長の1/5を覆う。集束電極21
1は、封止部103に電気的に結合され、それ故陰極の電位を受ける。集束電極
211は、第3の部分106aの内壁に設けられた低抵抗の導電(金属)層であ
ってよい。これもまた、金属リングであっても差し支えない。
電位を持つので、集束電極211は、陰極と層107a(その層に沿って、電圧
が、陽極から陰極まで連続的に低下する)との電位差のために、普通なら自由電
子が引き付けられるはずの第3の部分106aの側壁から自由電子を跳ね返す働
きをする。符号221は自由電子の運動経路に一致する軌跡を示し、符号222
は等電位線を示している。これらの電子は、第3の部分106aの側壁から、ま
た円錐体104の幅広い部分から跳ね返されるから、電子は、チャネル108の
開口部に近い壁あるいはチャネル内の壁にのみ初めて当たる。これは、電子がさ
らに大きい運動エネルギーを蓄積するという効果を持ち、従って電子が二次電子
を発生させる能力を向上させる。
施例と違って、中間部200が、第3の部分106aに設けられる。この中間部
は、層107により覆われないかあるいはその一部だけが覆われる。封止部10
3は、陰極部111と第3の部分106aの間に設けられる。封止部103は、
これら2つの部分間の気密連結部を持ち、さらに陰極層101にも接触する。し
かしながら、中間部200が層107を持たないため、封止部103は、層10
7に接触する目的では使用できない。この層は、公知の技法により、それ自体の
接触子201と別に接触する。
差を加えることができる。二次電子放出に対して、層107上の光電子の衝突エ
ネルギーを最適化できるから、そのことは、好都合な効果を持つ。
果を持つ。特に、集束電極211は、電子が、中間部200の内部絶縁壁に当た
るのを大幅に防止し、従って、この壁の帯電をも防止する。
止部103は、これら2つの部分間に気密の連結部を形成し、さらに、陰極層1
01と集束電極211にも接触する。
電圧UBを、端子109と図1の陽極との間に印加し、従って、電子を左から右
に加速するのに必要な電圧降下を発生するようにしている。陽極にプラスを接続
し、端子109にマイナスを接続する。この電圧は、数百Vから数千Vまでの範囲
内とする。好ましくは、この電圧は、1000〜4000Vである。装置の正規
動作により発生する電流よりも充分に大きい電流を流す、即ち電子と二次電子が
、チャネル108を通って左から右に移動するように、導電層/半導電層107
の抵抗を調節する。好ましくはこの電流は、数百ナノアンペアから数百マイクロ
アンペア、例えば10〜100マイクロアンペア迄の範囲である。例えば、20
00Vと10マイクロアンペアの値を用いると、100mWの加熱電力が得られ
る。その最終的に求められる信号は、陽極電極110のところで、アース306
に対する電圧パルスとして、又は電流の流れとして検出できる。直流電圧は、電
圧源301により与えられる。陽極電圧パルス又は陽極電流は、適切な計器30
2を用いて測定される。図3に模式的に示す実施例では、中間部200が設けら
れるので、陰極層101は、チャネル112、113の層107に電気的に結合
されない。チャネル112、113への電圧供給は、電圧源301に接続された
適切な要素303を通じて達成される。この要素は、端子201(図2)と端子
109(図1)間に電圧降下を発生させる。それ故、チャネル112、113の
入口には、陰極層101と比較して正のバイアスが掛かっている。このバイアス
は、30〜300Vであり、好ましくは約100Vである。要素303は、ツェナ
ーダイオード、抵抗、電圧源、もしくはそれらに類するものである。304は、
抵抗、ツェナーダイオード又は端子115と端子110との間に10〜100V
の電位差を与える電圧源である。陽極は、端子110を通じてシールド線305
、好ましくは同軸ケーブル又はシールド無しの電線に接続される。ケーブル30
5で、端子110を計器302に接続する。図3において、陽極がアース電位に
、また陰極が−UBに設定される。いくつかの用途では、陰極をアース電位に、
また陽極を+UBの電位に設定するのが得策である。
401は、ターゲット電極403を担持する絶縁体である。ターゲット電極は検
出される。管状部材106と絶縁体401との間に封止部404を設ける。この
場合も、封止部404は、絶縁体401を管状部材106に取付ける気密封止部
である。
れる。このことは、層107が、その陽極側の端に、それ自体の端子402を必
要とすることを意味する。層107の陽極側の端とターゲット電極403を、こ
のように電気的に隔離することで、このセンサは、例えば発光物質を用いる分光
用途のため、光子計数モードやパルスモードだけでなく、アナログ直流モードで
も使用可能となる。他の実施例において、層107は、ターゲット電極403に
電気的に結合され、従って端子402、110のいずれかが不要となる。とはい
え、この場合、アナログ直流モードが不可能となる。
らに粒子又は透過力の強い放射線が入射すると光子を放出する発光物質を支持体
102の他方の側に設けると、上述のセンサがγ線やx線のような粒子や透過力
の強い放射線を感知できるようになる。この層は、粒子や透過力の強い放射線に
曝され、粒子や透過力の強い放射線が上記の発光層に当たると光子を発生させ、
これらの光子が、透明な支持体102を通過して、光電陰極101から自由電子
を放出させる。これらの電子は、上述の通り、陽極部に向けて加速される。
ある。即ち、これは、管状部材106、支持体102と401および使用される
様々な封止部と間連を持つ。真空状態をできる限り長く維持できるようにしなけ
ればならない。本発明者により認められた1つの傾向は、このチャネルを閉じ込
めた上記材料内のガスのために、チャネル112、113内の真空状態が失われ
ることであった。それ故これらの材料は、ガス運搬能力も、ガス圧力も小さいも
のから選択しなければならない。さらに、例えば電子でこれらの材料を処理する
かあるいはこれらの材料をベーキングすることにより、材料を適切に選択するこ
とに加えて、ガス運搬能力も小さくすることもできる。その処理の後で初めて、
チャネルを、真空状態で塞ぐ。そのほかに、チャネル内にゲッタ物質も設けるこ
ともできる。このゲッタ物質は、チャネル内に放出されたガスを吸収し、それ故
、チャネル部112、113を真空状態に保つのに役立つ。好ましくはこのゲッ
タ物質は、陰極部111とチャネル部200、112、113との間のインジウ
ム封止部の個所に設けられる。
組み入れているときはγ線やX線又は複数のこれらの波長の電磁波を感知する。
この曲がり形状、即ちチャネルは、例えば正弦波曲線に沿い一平面内でのみ曲げ
られる。しかしまた、螺旋状曲線又は他の形状、例えばC字形も可能である。
れている。108以上の利得が得られた。図5は、縦座標502の利得と、横座
標501の印加電圧UBを示している。
得るための測定条件を示す。その電気的な構成を、図6aに示す。光源600は
、本発明に基づき形成された光検出器601を照らす。その出力信号は、電荷感
知の前置増幅器602に送られ、そこから増幅器603へ送られ、次にそこから
A/D変換器604に送られ、そこからマルチチャネル・アナライザ605に送
られる。図6bは、その測定結果を示す。単一の光電子ピーク610は、電子バ
ックグラウントノイズ608とは異なることが明らかである。ノイズ608と電
子ピーク610は、明らかに、谷609により分けられる。10:1以上のピー
ク/谷比が得られた。図6bにおいて、横座標は606、チャネル数を示し、こ
のチャネル数は、電子エネルギーの指標である。また、縦座標607は、1つの
チャネル内での当たりの数を示している。
を示すことが確認された。可視光電陰極(例えば、K2CsSbの光電陰極)を
用いれば、ノイズレベルを、1秒当たり数ダーク・カウントまで下げることがで
きる。約数十メガヘルツまでの最大カウント・レートを用いれば、約7桁のダイ
ナミックレンジに達する。
Claims (24)
- 【請求項1】 電磁放射線および/又は粒子が入射すると電子を放出する陰
極部(111)と、 電子を受取る陽極部(114)と、 一方の端部に陰極部が気密的に取付けられ、他方の端部が陽極部により気密的
に封止された真空チャネル(106、106a、108、112、113、20
0)と、 陽極部に向かう方向に真空チャネルの断面積を縮小する第1の縮小部と を有し、 管状部材(106)から成る真空チャネルにおいて、 その内面を少なくとも部分的に覆う、一次電子が入射すると二次電子を放出する
導電層又は半導電層(107)と、 を備えることを特徴とする電磁放射線又は粒子用の検出器。 - 【請求項2】 チャネルが、ガラス管又はセラミックス管から成ることを特
徴とする請求項1記載の検出器。 - 【請求項3】 管状部材が鉛ガラスおよび/又は鉛ビスマス・ガラスから成
っているか、その内面が鉛ガラスおよび/又は鉛ビスマス・ガラスでコーティン
グされているか、あるいは管状部材が塊状の導電性材料又は半導電材料であるこ
とを特徴とする請求項2記載の検出器。 - 【請求項4】 チャネルを形成する管状部材を少なくとも部分的に封止する
モールド材(105)をさらに備えることを特徴とする請求項1記載の検出器。 - 【請求項5】 モールド材が、シリーコンベースの材料および/又はポリウ
レタンから成ることを特徴とする請求項4記載の検出器。 - 【請求項6】 導電層又は半導電層(107)および/又は陰極部(111
)に電気的に結合された、陰極部とチャネル間の金属封止部(103)と、 封止部(103)に電気的に結合された外部端子(109)と、 をさらに備えることを特徴とする請求項1記載の検出器。 - 【請求項7】 陰極部に電気的に結合された、陰極部とチャネル間の金属封
止部(103)と、 封止部に電気的に結合された、外部端子(109)と、 をさらに備え、 チャネルのうち、封止部付近の部分(200)が、導電層又は半導電層(107
)では覆われず、また層が、気密的にチャネルに挿入した接触子(201)に電
気的に結合されたことを特徴とする請求項1記載の検出器。 - 【請求項8】 封止部が、インジウム又はインジウム合金から成ることを特
徴とする請求項6記載の検出器。 - 【請求項9】 封止部が、インジウム錫合金又はインジウム・ビスマス合金
から成ることを特徴とする請求項8記載の検出器。 - 【請求項10】 合金が共晶合金であることを特徴とする請求項9記載の検
出器。 - 【請求項11】 チャネルが、曲がり部分を有することを特徴とする請求項
1記載の検出器。 - 【請求項12】 第1の縮小部が円錐形又は漏斗形の部分(112)であり
、かつ第2の部分(113)が、ほぼ一定の断面を持ち、第1の部分が陰極部と
第2の部分との間に設けられたことを特徴とする請求項1記載の検出器。 - 【請求項13】 断面がほぼ一定の第3の部分(106a)が、第1の縮小
部と陰極部との間に設けられたことを特徴とする請求項1記載の検出器。 - 【請求項14】 チャネルが、事実上、導電層又は半導電層(107)のな
い、陰極部(111)と第1の縮小部(112)との間に位置する中間部(20
0)を持ち、かつ接触子(201)が、チャネルの第3の部分と第1の縮小部と
の間の移行部分のところで、あるいは移行部分の近くでチャネルに達し、導電層
又は半導電層(107)に電気的に結合されたことを特徴とする請求項7記載の
検出器。 - 【請求項15】 チャネル内に拡散したガスを吸収するゲッタ物質をチャネ
ル内に設けたことを特徴とする請求項1記載の検出器。 - 【請求項16】 第3の部分(106a)の内壁の円周方向の少なくとも一
部に、電極(211)が設けられたことを特徴とする請求項13記載の検出器。 - 【請求項17】 電極が、陰極の電位を持つことを特徴とする請求項16記
載の検出器。 - 【請求項18】 (a)管状部材と、管状部材の内面の少なくとも一部の上
の導電層又は半導電層とを形成する工程と、 (b)陽極部を形成し、陽極部を気密的に管状部材に取付ける工程と、 (c)管状部材を真空にする工程と、 (d)電磁放射線および/又は粒子を感知する陰極部を形成する工程と、 (e)陰極部を、真空にした管状部材に気密的に取付ける工程と、 を含むことを特徴とする電磁放射線又は粒子用の検出器を製造する方法。 - 【請求項19】 工程(c)〜(e)を、真空システム内で実行することを
特徴とする請求項18記載の方法。 - 【請求項20】 管状部材が、鉛ガラス又は鉛ビスマス・ガラスからなり、
かつ導電層又は半導電層が、水素を用いて鉛ガラス又は鉛ビスマス・ガラスを還
元することで形成されることを特徴とする請求項18記載の方法。 - 【請求項21】 工程(e)後に、チャネルの少なくとも一部の周りにモー
ルド材を付与する工程をさらに含むことを特徴とする請求項18記載の方法。 - 【請求項22】 モールド材が、チャネルの周りおよび陰極部および/又は
陽極部の一部の周りに付与されることを特徴とする請求項21記載の方法。 - 【請求項23】 工程(e)が、インジウム合金物質を用いて陰極部を管状
部材に取付ける工程をさらに含むことを特徴とする請求項18記載の方法。 - 【請求項24】 工程(e)において、陰極部を管状部材に取付ける前に、
インジウム合金の封止部と接触する少なくとも1つの面が研磨され、かつ/又は
金属層でコーティングされることを特徴とする請求項23記載の方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US09/116,520 US6166365A (en) | 1998-07-16 | 1998-07-16 | Photodetector and method for manufacturing it |
US09/116,520 | 1998-07-16 | ||
PCT/EP1999/004420 WO2000004567A1 (en) | 1998-07-16 | 1999-06-25 | Photodetector and method for manufacturing it |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002520798A true JP2002520798A (ja) | 2002-07-09 |
Family
ID=22367681
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000560600A Pending JP2002520798A (ja) | 1998-07-16 | 1999-06-25 | 光検出器およびその製造方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6166365A (ja) |
EP (1) | EP1097465B1 (ja) |
JP (1) | JP2002520798A (ja) |
WO (1) | WO2000004567A1 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005276837A (ja) * | 2004-03-24 | 2005-10-06 | Burle Technologies Inc | イオン移動度スペクトロメータにおいて電場を作り出すための伝導性ガラス管の利用 |
JP2015503824A (ja) * | 2011-12-27 | 2015-02-02 | ディーエイチ テクノロジーズ デベロップメント プライベート リミテッド | パルス計数用途のための電子増倍管と相互作用する超高速トランスインピーダンス増幅器 |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19922678C2 (de) * | 1999-05-18 | 2001-06-21 | Perkinelmer Optoelectronics | Bleisilicatglas sowie dessen Verwendung |
JP4256212B2 (ja) * | 2003-06-17 | 2009-04-22 | 浜松ホトニクス株式会社 | 光検出管 |
US7138289B2 (en) * | 2004-07-07 | 2006-11-21 | Jbcr Innovations, Llp | Technique for fabricating multilayer color sensing photodetectors |
JP4708118B2 (ja) * | 2005-08-10 | 2011-06-22 | 浜松ホトニクス株式会社 | 光電子増倍管 |
US7687992B2 (en) * | 2007-04-26 | 2010-03-30 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy | Gating large area hybrid photomultiplier tube |
US7667399B2 (en) * | 2007-04-26 | 2010-02-23 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy | Large area hybrid photomultiplier tube |
US8642944B2 (en) * | 2007-08-31 | 2014-02-04 | Schlumberger Technology Corporation | Downhole tools with solid-state neutron monitors |
DE102009015586A1 (de) | 2009-03-30 | 2010-10-14 | Perkinelmer Optoelectronics Gmbh & Co.Kg | Sensorausleseschaltung, Sensor und Verfahren zum Auslesen eines Sensorelements |
US8399850B2 (en) * | 2010-08-09 | 2013-03-19 | General Electric Company | Systems, methods, and apparatus for anode and cathode electrical separation in detectors |
JP6474281B2 (ja) * | 2015-03-03 | 2019-02-27 | 浜松ホトニクス株式会社 | 電子増倍体、光電子増倍管、及び光電子増倍器 |
JP7176927B2 (ja) * | 2018-10-30 | 2022-11-22 | 浜松ホトニクス株式会社 | Cemアセンブリおよび電子増倍デバイス |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6484560A (en) * | 1987-09-25 | 1989-03-29 | Japan Atomic Energy Res Inst | Channel type secondary electron doubling device |
JPH01239749A (ja) * | 1988-03-18 | 1989-09-25 | Toshiba Corp | 荷電粒子検出器 |
JPH01292737A (ja) * | 1988-05-19 | 1989-11-27 | Murata Mfg Co Ltd | 2次電子増倍装置 |
JPH04359855A (ja) * | 1991-06-06 | 1992-12-14 | Hamamatsu Photonics Kk | 二次電子増倍装置 |
JPH05509192A (ja) * | 1990-07-27 | 1993-12-16 | ケイ アンド エム エレクトロニクス インコーポレイテッド | チャネル光電子増倍管 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
BE633900A (ja) * | 1962-06-26 | |||
US3634690A (en) * | 1970-03-23 | 1972-01-11 | Itt | Tubular photocell with secondary emission from internal surface |
DE2732639A1 (de) * | 1977-07-19 | 1979-02-01 | Istvan Majoros | Vorrichtung zum uebertragen von heizwaerme von einer waermequelle auf verbraucherkreise |
US4671778A (en) * | 1986-03-19 | 1987-06-09 | Rca Corporation | Imaging device having an improved photoemissive cathode appendage processing assembly |
US4757229A (en) * | 1986-11-19 | 1988-07-12 | K And M Electronics, Inc. | Channel electron multiplier |
US4967115A (en) * | 1986-11-19 | 1990-10-30 | Kand M Electronics | Channel electron multiplier phototube |
US5514928A (en) * | 1994-05-27 | 1996-05-07 | Litton Systems, Inc. | Apparatus having cascaded and interbonded microchannel plates and method of making |
US5493169A (en) * | 1994-07-28 | 1996-02-20 | Litton Systems, Inc. | Microchannel plates having both improved gain and signal-to-noise ratio and methods of their manufacture |
JPH08148113A (ja) * | 1994-11-24 | 1996-06-07 | Hamamatsu Photonics Kk | 光電子増倍管 |
-
1998
- 1998-07-16 US US09/116,520 patent/US6166365A/en not_active Expired - Lifetime
-
1999
- 1999-06-25 WO PCT/EP1999/004420 patent/WO2000004567A1/en active Application Filing
- 1999-06-25 EP EP99931181A patent/EP1097465B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1999-06-25 JP JP2000560600A patent/JP2002520798A/ja active Pending
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6484560A (en) * | 1987-09-25 | 1989-03-29 | Japan Atomic Energy Res Inst | Channel type secondary electron doubling device |
JPH01239749A (ja) * | 1988-03-18 | 1989-09-25 | Toshiba Corp | 荷電粒子検出器 |
JPH01292737A (ja) * | 1988-05-19 | 1989-11-27 | Murata Mfg Co Ltd | 2次電子増倍装置 |
JPH05509192A (ja) * | 1990-07-27 | 1993-12-16 | ケイ アンド エム エレクトロニクス インコーポレイテッド | チャネル光電子増倍管 |
JPH04359855A (ja) * | 1991-06-06 | 1992-12-14 | Hamamatsu Photonics Kk | 二次電子増倍装置 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005276837A (ja) * | 2004-03-24 | 2005-10-06 | Burle Technologies Inc | イオン移動度スペクトロメータにおいて電場を作り出すための伝導性ガラス管の利用 |
JP2015503824A (ja) * | 2011-12-27 | 2015-02-02 | ディーエイチ テクノロジーズ デベロップメント プライベート リミテッド | パルス計数用途のための電子増倍管と相互作用する超高速トランスインピーダンス増幅器 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP1097465A1 (en) | 2001-05-09 |
WO2000004567A1 (en) | 2000-01-27 |
US6166365A (en) | 2000-12-26 |
EP1097465B1 (en) | 2010-08-04 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP0495283B1 (en) | Semiconductor anode photomultiplier tube | |
US5374826A (en) | Hybrid photomultiplier tube with high sensitivity | |
RU2584693C2 (ru) | Электронный умножитель с наноалмазным слоем | |
JP2002520798A (ja) | 光検出器およびその製造方法 | |
Wiley et al. | Electron multipliers utilizing continuous strip surfaces | |
US4032783A (en) | Pyroelectric radiation sensor and imaging device utilizing same | |
Leskovar | Microchannel plates | |
JP2562982B2 (ja) | チャネル電子増倍管 | |
JP3790548B2 (ja) | フローティング・ゲートが有るmosfetを含む受光素子 | |
US2575769A (en) | Detection of ions | |
US5359187A (en) | Microchannel plate with coated output electrode to reduce spurious discharges | |
Johansen et al. | Operational characteristics of an electron-bombarded silicon-diode photomultiplier tube | |
US3099764A (en) | Photomultiplier tube | |
US7592746B2 (en) | Photomultiplier | |
JPH07320681A (ja) | 高感度ハイブリッド・フォトマルチプライア・チューブ | |
Laprade | The high output technology microchannel plate | |
JP3059483B2 (ja) | チャネル光電子増倍管 | |
CN206516606U (zh) | 一种电极引线单元及真空光电器件 | |
US4001618A (en) | Electron discharge image tube with electrostatic field shaping electrode | |
US3254252A (en) | Image device | |
GB2398924A (en) | Ion detector | |
Singer | Analysis and perfomance characteristics of an intensified silicon vidicon tube | |
CA1114001A (en) | Image tube with conditioned input screen | |
Leskovar | Photomultiplier characteristics considerations for the deep underwater muon and neutrino detection system | |
RU2660947C2 (ru) | Рентгеновский визуализатор |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060410 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090512 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20090811 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20090818 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20090914 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20090924 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20091013 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20091021 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20091106 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20100302 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100702 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100806 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20100806 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20100910 |
|
A912 | Re-examination (zenchi) completed and case transferred to appeal board |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A912 Effective date: 20101022 |