JP2002500735A - 磁気フローコントローラ - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 電磁的フロー制御装置(20)は流体フロー導管(26)と、磁性膜(21)と、選択的に変動する磁場の複数の不連続な供給源(22、27’)（例えば電磁石）であって、規則的なアレイで配置され、膜(21)を所望の様式で駆動して、導管内の流体のフローを制御する供給源とを含む。膜(21)は好ましくは２つの極限位置の間で駆動され得、ここで導管中の流体のフローは膜の静止位置では全体として拘束されず、かつ膜が半径方向内向きに最大限変形するとき、フローは高度に拘束されるか、あるいは完全に停止される。

Description

【発明の詳細な説明】 磁気フローコントローラ 発明の分野 本発明は一般にフロー制御装置に関し、そして特に電磁的フロー制御装置に関 する。 発明の背景 流体のフローを制御するための多くのデバイスおよび方法が、これらのフロー が開放チャネル中のフローまたは閉鎖導管中のフローのいずれであれ、存在する 。このようなデバイスおよび方法が用いられる分野としてはとりわけ、医療、工 業、自動車、航空、下水処理および水管理が挙げられる。 これらの分野の多くは少量の流体の非常に精密な制御を必要とする。このよう な分野としては、医用注入システム、製薬、種々の車輌システムが挙げられる。 これらの分野の多くでは、複雑な機械的または電気機械的解決法が存在するが、 電磁的解決法を見いだす試みがなされている。 当該分野の水準の指標は「磁気制御バルブ(Magnetic Control Valve)」と題さ れた米国特許第3,982,722号により提供される。この特許は流体システム、特に 車輌の空調システムのための流体制御、バルブを記載する。このシステム中のフ ロー通路は「半径方向に可撓性の管状部材であって、そのためそのフロー領域」 が可変であると定義されている。３つの電磁石がこの管状部材の周囲に同軸的に 配置され、環状の空間が電磁石と管状部材との間に形成されるようになっている 。３つの電磁石のうち中間のものの内径は、環状の空間を収縮させるように、外 側のものの直径よりも小さくなっている。環状空間の中にある量の小さな鉄の粒 子が配置される。管状部材のフロー領域を収縮させるためには、中間の電磁石を 作動させてそれに鉄粒子を誘引し、その結果、電磁石は鉄粒子を中心領域に蓄積 して、管状部材に半径方向内向きの力が印加される。これにより、その断面積が 狭くなる。管状部材は、両端の(extreme)電磁石を作動させて鉄粒子を中心から 外 側に誘引すると、膨張させられる。 上記の構造の欠点は、これが流体フローのみの絞り(throttling)を提供し、そ して流体フローの高分解能のリアルタイム制御を提供することが不可能であるこ とを包含する。 発明の要旨 本発明は、電磁場を作業部材に選択的に印加することによって、流体フローの 動的状態を変化させ得る装置を提供することを探求し、作業部材は作動して流体 のフローに直接影響を与える。本発明はさらに非常に高分解能の作業部材の活性 化を提供することが可能であり、そしてさらに、リアルタイムでの作業部材の活 性化のインタイムでの選択的な変動を提供することが可能である。本発明はまた 、作業部品が最小限の数なので、非常に信頼性が高い。 従って、本発明の好適な実施態様によれば、電磁的フロー制御装置であって、 流体フロー導管と、磁性膜と、選択的に可変の磁場の複数の不連続な供給源（例 えば電磁石）であって、規則的なアレイで配置され、上記膜を所望の様式で駆動 して導管内の流体のフローを制御する供給源とを含む、電磁的フロー制御装置が 提供される。膜は好ましくは２つの極限位置の間で駆動され得、ここで導管中の 流体のフローは膜の静止位置では全体として拘束されず、かつ膜が半径方向内向 きに最大限に変形するとき、フローは高度に拘束されるか、あるいは完全に停止 される。 さらに、本発明の好適な実施態様によれば、電磁的フロー制御装置はさらに、 電磁石の配列を選択的に活性化して、それにより磁性膜に所望の変形およびその 所望の時間変動を生じさせる制御デバイスを含む。 本発明の好適な実施態様によれば、フロー制御装置は一体化された流体フロー 導管および電磁的制御装置であり、ここで磁性膜は流体フロー導管の本体である か、または流体フロー導管に包埋されている。本発明の別の実施態様によれば、 フロー制御装置は、現存する流体フロー導管を包囲し、そしてそこに外側から圧 力を及ぼすことによって、その中の流体フローを制御する。 本発明のさらなる実施態様によれば、フロー制御装置はさらに、ロッド部材を 含み、これは磁性材料で作製され得、流体フロー導管の中心にフロー制御装置の 長手方向に沿って位置する。このようなロッドは、フロー制御装置が導管中の流 体のフローを遮断する能力を高め得る。 図面の簡単な説明 本発明は、図面と併せて以下の詳細な説明からより完全に理解および認識され る。ここで： 図１は、本発明の第１の実施態様に従って構築されるフロー制御装置の略断面 図であり、ここで磁性膜は電磁石の単一のアレイのみによって制御される； 図２は、本発明の第２の実施態様に従って構築されるフロー制御装置の略断面 図であり、ここで磁性膜は一対の電磁石のアレイによって制御される； 図３Ａ、３Ｂ、および３Ｃは各々、本発明の第３の実施態様に従って構築され る一体化された流体フロー導管および電磁的フロー制御装置の、等角図、側断面 図、および断面図である； 図４Ａおよび４Ｂは、図３Ａ、３Ｂ、および３Ｃの導管の断面図であり、各々 、一部閉鎖位置および完全閉鎖位置である； 図５Ａは３Ａ〜３Ｂと同様であるが、その中の長手方向に延長しているロッド 部材を含む導管および流体制御装置の側断面図である； 図５Ｂおよび５Ｃは、図５Ａの導管の断面図であり、各々、完全開放位置およ び完全閉鎖位置である； 図６Ａは、現存する流体フロー導管（これも図示される）と共に使用するため の、本発明の他の実施態様に従う流体制御装置の側断面図である； 図６Ｂは、図６Ａと同様の流体制御装置の側断面図であり、現存する流体フロ ー導管の周囲に保護空気緩衝材が付加されている。 図７は、図１に示す装置の一部を形成するコントローラ回路のブロックダイヤ グラムである。 図８は、図１に示す装置の一部を形成するドライバ回路のブロックダイヤグラ ムである。 発明の詳細な説明 図１を参照すると、本発明の第１の実施態様に従う流体フロー制御デバイスが 模式的に示され、これは総体的に10で示される。磁性膜11が電磁石12のアレイに 対向して位置する。アレイは図１に示すように線状であり得、あるいは平面状で あり得る。電源14からの電力がアレイ12の電磁石間にコントローラおよびドライ バユニット１３によって配電されて、変動する電磁場15を作り出し、この電磁場 15が膜の所望の波状の動的変形11’を生じさせる。膜が、矢印16で示されるよう にその中に流体が流動している流体フロー導管の中に、あるいはそれに隣接して 配置されると、この変形がそれに対応する流体フロー特性の変動を引き起こす。 複数の電磁石12およびその電子的制御を用いることで膜要素11に対して作用する 電磁場15が生じ、膜要素11は流体のフローに直接影響して、その高分解能かつリ アルタイムの制御を提供する。 図７および８は、コントローラ回路およびドライバ回路の例のブロックダイヤ グラムを各々示し、これは共に図１に示すコントローラおよびドライバユニット 13を構築し得る。これらの回路は当業者に理解されるように、作動してアレイの 電磁石に電力を配電し、上記の変動する磁場を作り出す。 当業者に理解されるように、磁性膜11は多くの別の構成を有し得る。これらは 本発明の別の実施態様において、例示として、以下の任意のものであり得る： ・可撓性の磁性材料（例えば、鉄充填材またはニッケルが埋め込まれたポリエチ レン）で作製された単層膜 ・接合された磁性層および非磁性層を有する複合膜であって、ここで磁性層は上 記のようなその変形から得られた力を非磁性層に伝達する ・単層の非磁性膜であって、その中に包埋された磁性要素を有するもの ・単層の非磁性膜であって、その表面に付着した磁性要素を有するもの 当業者には、このような磁性要素は永久磁石または他の磁性材料であり得ること がさらに理解される。 図２に模式的に示される本発明の第２の実施態様では、電磁石の第２のアレイ 27が、第１のアレイ22と同様に磁性膜21に対向して位置する。追加のアレイの使 用により、磁性膜21における空間的および時間的応答が増強され、その結果導管 内の流体のフローの制御が増強される。 当業者に理解されるように、電磁場が磁性膜に印加される不連続な位置が多い ほど、その変形に対する制御の分解能がより高まる。 図３Ａ、３Ｂ、および３Ｃを参照すると、本発明の好適な実施態様に従って構 築される、一体化した流体フロー導管および電磁的フロー制御装置の等角図、側 断面図、および断面図が各々示される。この実施態様では、電磁石32の複数のア レイが流体フロー導管31の周囲に円筒状に配置される。流体フロー導管の壁は磁 性材料で作製される。図３Ｃは導管31が完全に開放されている場合の断面図を示 す。図４Ａおよび４Ｂは、導管31が、電磁石のアレイを通じての適切な磁場の印 加の結果として、一部閉鎖している場合、および完全に閉鎖している場合の断面 図を各々示す。 流体フロー導管の変形の制御の空間的分解能は、個別の電磁石の電子的制御に よって提供される制御の時間的分解能と共に、導管31に沿って長手方向に沿う流 体フローに波状の動き（図１および２に、11’および21’で各々示される）を与 えてフロー流体を導管を通して蠕動様式で駆動させるような、本発明の実施態様 を可能とする。 図５Ａ、５Ｂ、および５Ｃを参照すると、本発明の別の実施態様が示され、こ こでは一体化された流体フロー導管および電磁的フロー制御装置はさらにロッド 53を含み、このロッド53は流体フロー導管51の中心を長手方向に沿って延びてい る。ロッド53は任意の取付要素（図示せず）で支持される。磁性要素52が活性化 して流体フロー導管51を図５Ｃに示すように閉鎖するとき、導管51の磁性膜壁は ロッド53を圧迫し、それにより、導管は流体のフローに対してより強固に封鎖さ れる。本発明のさらなる実施態様によれば、ロッド53は、導管51内の流体フロー を閉鎖する磁気力を増強するために、磁性材料で作製され得る。 本発明のさらなる好適な実施態様では、図６Ａおよび６Ｂに示すように、電磁 的フロー制御装置62が現存する流体フロー導管61と組み合わせて使用される。本 発明のこの実施態様では、電磁的フロー制御装置62は磁性膜63を含み、スリーブ 状の構成であり、これは現存する流体フロー導管61の区画の周囲に配置される。 装置62により生じる磁場に応答する磁性膜63の変形が導管を圧迫して、その中の 流体のフローを制御する。本発明の別の実施態様では、電磁的フロー制御装置62 は気体を充填したセル65を含み得、このセル65は磁性膜63を流体フロー導管61か ら隔てて、導管を過剰の力から保護するための緩衝材を提供する。 当業者には、本発明は上記で単に例示として、図示し、かつ記載したもので限 定されないことが理解される。むしろ、本発明の範囲は以下の請求の範囲でのみ 限定される。

【手続補正書】 【提出日】平成１２年８月８日（２０００．８．８） 【補正内容】 請求の範囲 １．フロー制御装置であって： 作業流体に関連して配置される磁性膜装置と； 変動する電磁気場を該磁性膜装置に該磁性膜装置に沿った複数の不連続な位置 に選択的に印加する装置であって、これにより該磁性膜装置が選択的な様式で駆 動され、そのため該作業流体の動的状態がそれに応じて変化する装置とを含む、 フロー制御装置。 ２．前記磁性膜装置が： 非磁性層と； 該非磁性層に力が伝達されるように関連して配置される磁性層であって、ここ で該磁性層が該磁性層への電磁場の印加に応答して作動して、該非磁性層をそれ に応じて駆動する磁性層とを含む、 請求項１に記載のフロー制御装置。 ３．前記磁性膜装置が非磁性膜を含み、該非磁性膜が該非磁性膜に固定して関連 して配置される磁性要素を有する、請求項１に記載のフロー制御装置。 ４．前記磁性要素が前記非磁性膜に埋め込まれている、請求項３に記載のフロー 制御装置。 ５．前記磁性要素が前記非磁性膜の表面に付着している、請求項３に記載のフロ ー制御装置。 ６．前記磁性要素が永久磁石である、請求項３に記載のフロー制御装置。 ７．前記電磁場印加装置が、変動する電磁場を前記磁性膜装置にほぼ垂直に印加 する装置を含む、請求項１〜６のいずれかに記載のフロー制御装置。 ８．前記電磁場印加装置が、前記磁性膜装置を動かして該磁性膜装置に所定の波 動を与えるようにする装置を含む、請求項１〜７のいずれかに記載のフロー制御 装置。 ９．前記磁性膜装置が静止時には湾曲した平面形状を有し、かつ前記電磁場印加装置 が該磁性膜装置の湾曲度を変化させる装置を含む、請求項１〜８のいずれか に記載のフロー制御装置。 １０．前記電磁場印加装置が： 前記膜装置に沿って不連続な位置に配置された複数の電磁石と； 該電磁石を所定の様式で活性化して、該磁性膜装置を対応する様式で動かすた めの制御装置とを含む、 請求項１〜９のいずれかに記載のフロー制御装置。 １１．前記磁性膜装置が流体フローを運搬するための管として形成され、前記複 数の電磁石が該管に沿って不連続な位置に配置され、かつさらに該管の周囲に半 径方向に配置され、かつ 前記制御装置が作動して該電磁石を所定の方法で活性化して、該管の断面構成 を該管に沿った所定の位置で所定の第１および第２の極限位置の間で変動させ、 ここで、該管が該第１の極限構造にある場合、該複数の電磁石は作動されず、 かつ該管は静止位置で完全に開放され、それにより該管の中のフローを可能とし 、 かつ、該管が該第２の極限位置にある場合、該複数の電磁石は該管の対向する 壁部分に半径方向内向きに力をかけるように作動して、それにより該管の断面積 を低減して該管に沿う流体のフローを圧縮する、 請求項１０に記載のフロー制御装置。 １２．さらに、前記管の内部に位置し、かつ該管に沿って長手方向に延長するロ ッドを含み、ここで該管が前記第２の極限位置にあるとき、該管の少なくとも一 部の前記壁部分が該ロッドに押しつけられる、請求項１１に記載のフロー制御装 置。 １３．前記ロッドが磁性である、請求項１２に記載のフロー制御装置。 １４．フロー制御装置であって： 作業流体に関連して配置される磁気装置と； 変動する電磁場を該磁気装置に該磁気装置に沿った複数の不連続な位置で選択 的に印加する装置であって、これにより該磁気装置が選択的な様式で駆動され、 そのため該作業流体の動的状態がそれに応じて変化する装置とを含む、 フロー制御装置。 １５．前記磁気装置が： 非磁気部分と； 該非磁気部分に力が伝達されるように関連して配置される磁気部分であって、 ここで該磁気部分が、該磁気部分への電磁場の印加に応答して作動して、該非磁 気部分をそれに応じて駆動する磁気部分とを含む、 請求項１４に記載のフロー制御装置。 １６．前記磁気装置が非磁気部分を含み、該非磁気部分が該非磁気部分に固定し て関連して配置される磁性要素を有する、請求項１４に記載のフロー制御装置。 １７．前記磁性要素が前記非磁気部分に埋め込まれている、請求項１６に記載の フロー制御装置。 １８．前記磁性要素が前記非磁気部分に付着している、請求項１６に記載のフロ ー制御装置。 １９．前記磁性要素が永久磁石である、請求項１６に記載のフロー制御装置。 ２０．前記電磁場印加装置が、変動する電磁場を前記磁気装置にほぼ垂直に印加 する装置を含む、請求項１４に記載のフロー制御装置。 ２１．前記電磁場印加装置が、前記磁気装置を動かして該磁気装置に所定の波状 の動きを与えるようにする装置を含む、請求項１４に記載のフロー制御装置。 ２２．前記磁気装置が静止時にはほぼ湾曲した平面形状を有し、かつ前記電磁場 印加装置が、該磁気装置の湾曲度を変化させる装置を含む、請求項１４に記載の フロー制御装置。 ２３．前記電磁場印加装置が： 前記磁気装置に沿って不連続な位置に配置された複数の電磁石と； 該電磁石を所定の様式で活性化して、該磁気装置を対応する様式で動かすため の制御装置とを含む、 請求項１４に記載のフロー制御装置。 ２４．前記磁気装置が流体フローを運搬するための管の周囲に配置され、前記複 数の電磁石が該管に沿って不連続な位置に配置され、かつさらに該管の周囲に半 径方向に配置され、かつ 前記制御装置が作動して該電磁石を所定の方法で該管に関連して活性化して、 該管の断面構成を該管に沿った所定の位置で所定の第１および第２の極限位置の 間で変動させ、 ここで、該管が該第１の極限構造にある場合、該複数の電磁石は作動されず、 かつ該管は静止位置で完全に開放され、それにより該管の中のフローを可能とし 、 かつ、該管が該第２の極限位置にある場合、該複数の電磁石は該管の対向する 壁部分に半径方向内向きに力をかけるように作動して、それにより該管の断面積 を低減して該管に沿う流体のフローを圧縮する、 請求項２３に記載のフロー制御装置。 ２５．さらに、前記管の内部に位置し、かつ該管に沿って長手方向に延長するロ ッドを含み、ここで該管が前記第２の極限位置にあるとき、該管の少なくとも一 部の前記壁部分が該ロッドに押しつけられる、請求項２４に記載のフロー制御装 置。 ２６．前記ロッドが磁性である、請求項２５に記載のフロー制御装置。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＤＥ， ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，ＩＴ，Ｌ Ｕ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＯＡ(ＢＦ，ＢＪ，ＣＦ ，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＭＬ，ＭＲ，ＮＥ， ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＧＨ，ＫＥ，ＬＳ，ＭＷ，Ｓ Ｄ，ＳＺ，ＵＧ，ＺＷ)，ＥＡ(ＡＭ，ＡＺ，ＢＹ，ＫＧ ，ＫＺ，ＭＤ，ＲＵ，ＴＪ，ＴＭ)，ＡＬ，ＡＭ，ＡＴ ，ＡＵ，ＡＺ，ＢＡ，ＢＢ，ＢＧ，ＢＲ，ＢＹ，ＣＡ， ＣＨ，ＣＮ，ＣＵ，ＣＺ，ＤＥ，ＤＫ，ＥＥ，ＥＳ，Ｆ Ｉ，ＧＢ，ＧＥ，ＨＵ，ＩＬ，ＩＳ，ＪＰ，ＫＥ，ＫＧ ，ＫＰ，ＫＲ，ＫＺ，ＬＣ，ＬＫ，ＬＲ，ＬＳ，ＬＴ， ＬＵ，ＬＶ，ＭＤ，ＭＧ，ＭＫ，ＭＮ，ＭＷ，ＭＸ，Ｎ Ｏ，ＮＺ，ＰＬ，ＰＴ，ＲＯ，ＲＵ，ＳＤ，ＳＥ，ＳＧ ，ＳＩ，ＳＫ，ＴＪ，ＴＭ，ＴＲ，ＴＴ，ＵＡ，ＵＧ， ＵＳ，ＵＺ，ＶＮ

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １．フロー制御装置であって： 作業流体に関連して配置される磁性膜手段と； 変動する電磁気場を該磁性膜手段に該磁性膜手段に沿った複数の不連続な位置 に選択的に印加する手段であって、これにより該磁性膜手段が選択的な様式で駆 動され、そのため該作業流体の動的状態がそれに応じて変化する手段とを有する 、フロー制御装置。 ２．前記磁性膜手段が： 非磁性層と； 該非磁性層に力が伝達されるように関連して配置される磁性層であって、ここ で該磁性層が該磁性層への電磁場の印加に応答して作動して、該非磁性層をそれ に応じて駆動する磁性層とを有する、 請求項１に記載のフロー制御装置。 ３．前記磁性膜手段が非磁性膜を有し、該非磁性膜が該非磁性膜に固定して関連 して配置される磁性要素を有する、請求項１に記載のフロー制御装置。 ４．前記磁性要素が前記非磁性膜に埋め込まれている、請求項３に記載のフロー 制御装置。 ５．前記磁性要素が前記非磁性膜の表面に付着している、請求項３に記載のフロ ー制御装置。 ６．前記磁性要素が永久磁石である、請求項３に記載のフロー制御装置。 ７．前記電磁場印加手段が、変動する電磁場を前記磁性膜手段にほぼ垂直に印加 する手段を有する、請求項１〜６のいずれかに記載のフロー制御装置。 ８．前記電磁場印加手段が、前記磁性膜手段を動かして該磁性膜手段に所定の波 動を与えるようにする手段を有する、請求項１〜７のいずれかに記載のフロー制 御装置。 ９．前記磁性膜手段が静止時には湾曲した平面形状を有し、かつ前記電磁場印加 手段が該磁性膜手段の湾曲度を変化させる手段を有する、請求項１〜８のいずれ かに記載のフロー制御装置。 １０．前記電磁場印加手段が： 前記膜手段に沿って不連続な位置に配置された複数の電磁石と； 該電磁石を所定の様式で活性化して、該磁性膜手段を対応する様式で動かすた めの制御手段とを有する、 請求項１〜９のいずれかに記載のフロー制御装置。 １１．前記磁性膜手段が流体フローを運搬するための管として形成され、前記複 数の電磁石が該管に沿って不連続な位置に配置され、かつさらに該管の周囲に半 径方向に配置され、かつ 前記制御手段が作動して該電磁石を所定の方法で活性化して、該管の断面構成 を該管に沿った所定の位置で所定の第１および第２の極限位置の間で変動させ、 ここで、該管が該第１の極限構造にある場合、該複数の電磁石は作動されず、 かつ該管は静止位置で完全に開放され、それにより該管の中のフローを可能とし 、 かつ、該管が該第２の極限位置にある場合、該複数の電磁石は該管の対向する 壁部分に半径方向内向きに力をかけるように作動して、それにより該管の断面積 を低減して該管に沿う流体のフローを圧縮する、 請求項１０に記載のフロー制御装置。 １２．さらに、前記管の内部に位置し、かつ該管に沿って長手方向に延長するロ ッドを有し、ここで該管が前記第２の極限位置にあるとき、該管の少なくとも一 部の前記壁部分が該ロッドに押しつけられる、請求項１１に記載のフロー制御装 置。 １３．前記ロッドが磁性である、請求項１２に記載のフロー制御装置。 １４．フロー制御装置であって： 作業流体に関連して配置される磁気装置と； 変動する電磁場を該磁気装置に該磁気装置に沿った複数の不連続な位置で選択 的に印加する装置であって、これにより該磁気装置が選択的な様式で駆動され、 そのため該作業流体の動的状態がそれに応じて変化する装置とを有する、 フロー制御装置。 １５．前記磁気装置が： 非磁気部分と； 該非磁気部分に力が伝達されるように関連して配置される磁気部分であって、 ここで該磁気部分が、該磁気部分への電磁場の印加に応答して作動して、該非磁 気部分をそれに応じて駆動する磁気部分とを有する、 請求項１４に記載のフロー制御装置。 １６．前記磁気装置が非磁気部分を有し、該非磁気部分が該非磁気部分に固定し て関連して配置される磁性要素を有する、請求項１４に記載のフロー制御装置。 １７．前記磁性要素が前記非磁気部分に埋め込まれている、請求項１６に記載の フロー制御装置。 １８．前記磁性要素が前記非磁気部分に付着している、請求項１６に記載のフロ ー制御装置。 １９．前記磁性要素が永久磁石である、請求項１６に記載のフロー制御装置。 ２０．前記電磁場印加装置が、変動する電磁場を前記磁気装置にほぼ垂直に印加 する装置を有する、請求項１４に記載のフロー制御装置。 ２１．前記電磁場印加装置が、前記磁気装置を動かして該磁気装置に所定の波状 の動きを与えるようにする装置を有する、請求項１４に記載のフロー制御装置。 ２２．前記磁気装置が静止時にはほぼ湾曲した平面形状を有し、かつ前記電磁場 印加装置が、該磁気装置の湾曲度を変化させる装置を有する、請求項１４に記載 のフロー制御装置。 ２３．前記電磁場印加装置が： 前記磁気装置に沿って不連続な位置に配置された複数の電磁石と； 該電磁石を所定の様式で活性化して、該磁気装置を対応する様式で動かすため の制御装置とを有する、 請求項１４に記載のフロー制御装置。 ２４．前記磁気装置が流体フローを運搬するための管の周囲に配置され、前記複 数の電磁石が該管に沿って不連続な位置に配置され、かつさらに該管の周囲に半 径方向に配置され、かつ 前記制御装置が作動して該電磁石を所定の方法で該管に関連して活性化して、 該管の断面構成を該管に沿った所定の位置で所定の第１および第２の極限位置の 間で変動させ、 ここで、該管が該第１の極限構造にある場合、該複数の電磁石は作動されず、 かつ該管は静止位置で完全に開放され、それにより該管の中のフローを可能とし 、 かつ、該管が該第２の極限位置にある場合、該複数の電磁石は該管の対向する 壁部分に半径方向内向きに力をかけるように作動して、それにより該管の断面積 を低減して該管に沿う流体のフローを圧縮する、 請求項２３に記載のフロー制御装置。 ２５．さらに、前記管の内部に位置し、かつ該管に沿って長手方向に延長するロ ッドを有し、ここで該管が前記第２の極限位置にあるとき、該管の少なくとも一 部の前記壁部分が該ロッドに押しつけられる、請求項２４に記載のフロー制御装 置。 ２６．前記ロッドが磁性である、請求項２５に記載のフロー制御装置。