JP3324765B2 - 磁気フローコントローラ - Google Patents

磁気フローコントローラ

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    • F16K31/00Actuating devices; Operating means; Releasing devices
    • F16K31/02Actuating devices; Operating means; Releasing devices electric; magnetic
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Description

【発明の詳細な説明】 発明の分野 本発明は一般にフロー制御装置に関し、そして特に電
磁的フロー制御装置に関する。
発明の背景 流体のフローを制御するための多くのデバイスおよび
方法が、これらのフローが開放チャネル中のフローまた
は閉鎖導管中のフローのいずれであれ、存在する。この
ようなデバイスおよび方法が用いられる分野としてはと
りわけ、医療、工業、自動車、航空、下水処理および水
管理が挙げられる。
これらの分野の多くは少量の流体の非常に精密な制御
を必要とする。このような分野としては、医用注入シス
テム、製薬、種々の車輌システムが挙げられる。これら
の分野の多くでは、複雑な機械的または電気機械的解決
法が存在するが、電磁的解決法を見いだす試みがなされ
ている。
当該分野の水準の指標は「磁気制御バルブ(Magnetic
Control Valve)」と題された米国特許第3,982,722号
により提供される。この特許は流体システム、特に車輌
の空調システムのための流体制御、バルブを記載する。
このシステム中のフロー通路は「半径方向に可撓性の管
状部材であって、そのためそのフロー領域」が可変であ
ると定義されている。3つの電磁石がこの管状部材の周
囲に同軸的に配置され、環状の空間が電磁石と管状部材
との間に形成されるようになっている。3つの電磁石の
うち中間のものの内径は、環状の空間を収縮させるよう
に、外側のものの直径よりも小さくなっている。環状空
間の中にある量の小さな鉄の粒子が配置される。管状部
材のフロー領域を収縮させるためには、中間の電磁石を
作動させてそれに鉄粒子を誘引し、その結果、電磁石は
鉄粒子を中心領域に蓄積して、管状部材に半径方向内向
きの力が印加される。これにより、その断面積が狭くな
る。管状部材は、両端の(extreme)電磁石を作動させ
て鉄粒子を中心から外側に誘引すると、膨張させられ
る。
上記の構造の欠点は、これが流体フローのみの絞り
(throttling)を提供し、そして流体フローの高分解能
のリアルタイム制御を提供することが不可能であること
を包含する。
発明の要旨 本発明は、電磁場を作業部材に選択的に印加すること
によって、流体フローの動的状態を変化させ得る装置を
提供することを探求し、作業部材は作動して流体のフロ
ーに直接影響を与える。本発明はさらに非常に高分解能
の作業部材の活性化を提供することが可能であり、そし
てさらに、リアルタイムでの作業部材の活性化のインタ
イムでの選択的な変動を提供することが可能である。本
発明はまた、作業部品が最小限の数なので、非常に信頼
性が高い。
従って、本発明の好適な実施態様によれば、電磁的フ
ロー制御装置であって、流体フロー導管と、磁性膜と、
選択的に可変の磁場の複数の不連続な供給源(例えば電
磁石)であって、規則的なアレイで配置され、上記膜を
所望の様式で駆動して導管内の流体のフローを制御する
供給源とを含む、電磁的フロー制御装置が提供される。
膜は好ましくは2つの極限位置の間で駆動され得、ここ
で導管中の流体のフローは膜の静止位置では全体として
拘束されず、かつ膜が半径方向内向きに最大限に変形す
るとき、フローは高度に拘束されるか、あるいは完全に
停止される。
さらに、本発明の好適な実施態様によれば、電磁的フ
ロー制御装置はさらに、電磁石の配列を選択的に活性化
して、それにより磁性膜に所望の変形およびその所望の
時間変動を生じさせる制御デバイスを含む。
本発明の好適な実施態様によれば、フロー制御装置は
一体化された流体フロー導管および電磁的制御装置であ
り、ここで磁性膜は流体フロー導管の本体であるか、ま
たは流体フロー導管に包埋されている。本発明の別の実
施態様によれば、フロー制御装置は、現存する流体フロ
ー導管を包囲し、そしてそこに外側から圧力を及ぼすこ
とによって、その中の流体フローを制御する。
本発明のさらなる実施態様によれば、フロー制御装置
はさらに、ロッド部材を含み、これは磁性材料で作製さ
れ得、流体フロー導管の中心にフロー制御装置の長手方
向に沿って位置する。このようなロッドは、フロー制御
装置が導管中の流体のフローを遮断する能力を高め得
る。
図面の簡単な説明 本発明は、図面と併せて以下の詳細な説明からより完
全に理解および認識される。ここで: 図1は、本発明の第1の実施態様に従って構築される
フロー制御装置の略断面図であり、ここで磁性膜は電磁
石の単一のアレイのみによって制御される; 図2は、本発明の第2の実施態様に従って構築される
フロー制御装置の略断面図であり、ここで磁性膜は一対
の電磁石のアレイによって制御される; 図3A、3B、および3Cは各々、本発明の第3の実施態様
に従って構築される一体化された流体フロー導管および
電磁的フロー制御装置の、等角図、側断面図、および断
面図である; 図4Aおよび4Bは、図3A、3B、および3Cの導管の断面図
であい、各々、一部閉鎖位置および完全閉鎖位置であ
る; 図5Aは3A〜3Bと同様であるが、その中の長手方向に延
長しているロッド部材を含む導管および流体制御装置の
側断面図である; 図5Bおよび5Cは、図5Aの導管の断面図であり、各々、
完全開放位置および完全閉鎖位置である; 図6Aは、現存する流体フロー導管(これも図示され
る)と共に使用するための、本発明の他の実施態様に従
う流体制御装置の側断面図である; 図6Bは、図6Aと同様の流体制御装置の側断面図であ
り、現存する流体フロー導管の周囲に保護空気緩衝材が
付加されている。
図7は、図1に示す装置の一部を形成するコントロー
ラ回路のブロックダイヤグラムである。
図8は、図1に示す装置の一部を形成するドライバ回
路のブロックダイヤグラムである。
発明の詳細な説明 図1を参照すると、本発明の第1の実施態様に従う流
体フロー制御デバイスが模式的に示され、これは総体的
に10で示される。磁性膜11が電磁石12のアレイに対向し
て位置する。アレイは図1に示すように線状であり得、
あるいは平面状であり得る。電源14からの電力がアレイ
12の電磁石間にコントローラおよびドライバユニット13
によって配電されて、変動する電磁場15を作り出し、こ
の電磁場15が膜の所望の波状の動的変形11'を生じさせ
る。膜が、矢印16で示されるようにその中に流体が流動
している流体フロー導管の中に、あるいはそれに隣接し
て配置されると、この変形がそれに対応する流体フロー
特性の変動を引き起こす。複数の電磁石12およびその電
子的制御を用いることで膜要素11に対して作用する電磁
場15が生じ、膜要素11は流体のフローに直接影響して、
その高分解能かつリアルタイムの制御を提供する。
図7および8は、コントローラ回路およびドライバ回
路の例のブロックダイヤグラムを各々示し、これは共に
図1に示すコントローラおよびドライバユニット13を構
築し得る。これらの回路は当業者に理解されるように、
作動してアレイの電磁石に電力を配電し、上記の変動す
る磁場を作り出す。
当業者に理解されるように、磁性膜11は多くの別の構
成を有し得る。これらは本発明の別の実施態様におい
て、例示として、以下の任意のものであり得る: ・可撓性の磁性材料(例えば、鉄充填材またはニッケル
が埋め込まれたポリエチレン)で作製された単層膜 ・接合された磁性層および非磁性層を有する複合膜であ
って、ここで磁性層は上記のようなその変形から得られ
た力を非磁性層に伝達する ・単層の非磁性膜であって、その中に包埋された磁性要
素を有するもの ・単層の非磁性膜であって、その表面に付着した磁性要
素を有するもの 当業者には、このような磁性要素は永久磁石または他の
磁性材料であり得ることがさらに理解される。
図2に模式的に示される本発明の第2の実施態様で
は、電磁石の第2のアレイ27が、第1のアレイ22と同様
に磁性膜21に対向して位置する。追加のアレイの使用に
より、磁性膜21における空間的および時間的応答が増強
され、その結果導管内の流体のフローの制御が増強され
る。
当業者に理解されるように、電磁場が磁性膜に印加さ
れる不連続な位置が多いほど、その変形に対する制御の
分解能がより高まる。
図3A、3B、および3Cを参照すると、本発明の好適な実
施態様に従って構築される、一体化した流体フロー導管
および電磁的フロー制御装置の等角図、側断面図、およ
び断面図が各々示される。この実施態様では、電磁石32
の複数のアレイが流体フロー導管31の周囲に円筒状に配
置される。流体フロー導管の壁は磁性材料で作製され
る。図3Cは導管31が完全に開放されている場合の断面図
を示す。図4Aおよび4Bは、導管31が、電磁石のアレイを
通じての適切な磁場の印加の結果として、一部閉鎖して
いる場合、および完全に閉鎖している場合の断面図を各
々示す。
流体フロー導管の変形の制御の空間的分解能は、個別
の電磁石の電子的制御によって提供される制御の時間的
分解能と共に、導管31に沿って長手方向に沿う流体フロ
ーに波状の動き(図1および2に、11'および21'で各々
示される)を与えてフロー流体を導管を通して蠕動様式
で駆動さえるような、本発明の実施態様を可能とする。
図5A、5B、および5Cを参照すると、本発明の別の実施
態様が示され、ここでは一体化された流体フロー導管お
よび電磁的フロー制御装置はさらにロッド53を含み、こ
のロッド53は流体フロー導管51の中心を長手方向に沿っ
て延びている。ロッド53は任意の取付要素(図示せず)
で支持される。磁性要素52が活性化して流体フロー導管
51を図5Cに示すように閉鎖するとき、導管51の磁性膜壁
はロッド53を圧迫し、それにより、導管は流体のフロー
に対してより強固に封鎖される。本発明のさらなる実施
態様によれば、ロッド53は、導管51内の流体フローを閉
鎖する磁気力を増強するために、磁性材料で作製され得
る。
本発明のさらなる好適な実施態様では、図6Aおよび6B
に示すように、電磁的フロー制御装置62が現存する流体
フロー導管61と組み合わせて使用される。本発明のこの
実施態様では、電磁的フロー制御装置62は磁性膜63を含
み、スリーブ状の構成であり、これは現存する流体フロ
ー導管61の区画の周囲に配置される。装置62により生じ
る磁場に応答する磁性膜63の変形が導管を圧迫して、そ
の中の流体のフローを制御する。本発明の別の実施態様
では、電磁的フロー制御装置62は気体を充填したセル65
を含み得、このセル65は磁性膜63を流体フロー導管61か
ら隔てて、導管を過剰の力から保護するための緩衝材を
提供する。
当業者には、本発明は上記で単に例示として、図示
し、かつ記載したもので限定されないことが理解され
る。むしろ、本発明の範囲は以下の請求の範囲でのみ限
定される。
フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) F16K 31/00 - 31/11 F16K 7/00 - 7/20 H02K 11/00 G05D 7/06

Claims (26)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】フロー制御装置であって: 作業流体に関連して配置される磁性膜装置と; 変動する電磁気場を該磁性膜装置に該磁性膜装置に沿っ
    た複数の不連続な位置に選択的に印加する装置であっ
    て、これにより該磁性膜装置が選択的な様式で駆動さ
    れ、そのため該作業流体の動的状態がそれに応じて変化
    する装置とを含む、フロー制御装置。
  2. 【請求項2】前記磁性膜装置が: 非磁性層と; 該非磁性層に力が伝達されるように関連して配置される
    磁性層であって、ここで該磁性層が該磁性層への電磁場
    の印加に応答して作動して、該非磁性層をそれに応じて
    駆動する磁性層とを含む、 請求項1に記載のフロー制御装置。
  3. 【請求項3】前記磁性膜装置が非磁性膜を含み、該非磁
    性膜が該非磁性膜に固定して関連して配置される磁性要
    素を有する、請求項1に記載のフロー制御装置。
  4. 【請求項4】前記磁性要素が前記非磁性膜に埋め込まれ
    ている、請求項3に記載のフロー制御装置。
  5. 【請求項5】前記磁性要素が前記非磁性膜の表面に付着
    している、請求項3に記載のフロー制御装置。
  6. 【請求項6】前記磁性要素が永久磁石である、請求項3
    に記載のフロー制御装置。
  7. 【請求項7】前記電磁場印加装置が、変動する電磁場を
    前記磁性膜装置にほぼ垂直に印加する装置を含む、請求
    項1〜6のいずれかに記載のフロー制御装置。
  8. 【請求項8】前記電磁場印加装置が、前記磁性膜装置を
    動かして該磁性膜装置に所定の波動を与えるようにする
    装置を含む、請求項1〜7のいずれかに記載のフロー制
    御装置。
  9. 【請求項9】前記磁性膜装置が静止時には湾曲した平面
    形状を有し、かつ前記電磁場印加装置が該磁性膜装置の
    湾曲度を変化させる装置を含む、請求項1〜8のいずれ
    かに記載のフロー制御装置。
  10. 【請求項10】前記電磁場印加装置が: 前記膜装置に沿って不連続な位置に配置された複数の電
    磁石と; 該電磁石を所定の様式で活性化して、該磁性膜装置を対
    応する様式で動かすための制御装置とを含む、 請求項1〜9のいずれかに記載のフロー制御装置。
  11. 【請求項11】前記磁性膜装置が流体フローを運搬する
    ための管として形成され、前記複数の電磁石が該管に沿
    って不連続な位置に配置され、かつさらに該管の周囲に
    半径方向に配置され、かつ 前記制御装置が作動して該電磁石を所定の方法で活性化
    して、該管の断面構成を該管に沿った所定の位置で所定
    の第1および第2の極限位置の間で変動させ、 ここで、該管が該第1の極限構造にある場合、該複数の
    電磁石は作動されず、かつ該管は静止位置で完全に開放
    され、それにより該管の中のフローを可能とし、 かつ、該管が該第2の極限位置にある場合、該複数の電
    磁石は該管の対向する壁部分に半径方向内向きに力をか
    けるように作動して、それにより該管の断面積を低減し
    て該管に沿う流体のフローを圧縮する、 請求項10に記載のフロー制御装置。
  12. 【請求項12】さらに、前記管の内部に位置し、かつ該
    管に沿って長手方向に延長するロッドを含み、ここで該
    管が前記第2の極限位置にあるとき、該管の少なくとも
    一部の前記壁部分が該ロッドに押しつけられる、請求項
    11に記載のフロー制御装置。
  13. 【請求項13】前記ロッドが磁性である、請求項12に記
    載のフロー制御装置。
  14. 【請求項14】フロー制御装置であって: 作業流体に関連して配置される磁気装置と; 変動する電磁場を該磁気装置に該磁気装置に沿った複数
    の不連続な位置で選択的に印加する装置であって、これ
    により該磁気装置が選択的な様式で駆動され、そのため
    該作業流体の動的状態がそれに応じて変化する装置とを
    含む、 フロー制御装置。
  15. 【請求項15】前記磁気装置が: 非磁気部分と; 該非磁気部分に力が伝達されるように関連して配置され
    る磁気部分であって、ここで該磁気部分が、該磁気部分
    への電磁場の印加に応答して作動して、該非磁気部分を
    それに応じて駆動する磁気部分とを含む、 請求項14に記載のフロー制御装置。
  16. 【請求項16】前記磁気装置が非磁気部分を含み、該非
    磁気部分が該非磁気部分に固定して関連して配置される
    磁性要素を有する、請求項14に記載のフロー制御装置。
  17. 【請求項17】前記磁性要素が前記非磁気部分に埋め込
    まれている、請求項16に記載のフロー制御装置。
  18. 【請求項18】前記磁性要素が前記非磁気部分に付着し
    ている、請求項16に記載のフロー制御装置。
  19. 【請求項19】前記磁性要素が永久磁石である、請求項
    16に記載のフロー制御装置。
  20. 【請求項20】前記電磁場印加装置が、変動する電磁場
    を前記磁気装置にほぼ垂直に印加する装置を含む、請求
    項14に記載のフロー制御装置。
  21. 【請求項21】前記電磁場印加装置が、前記磁気装置を
    動かして該磁気装置に所定の波状の動きを与えるように
    する装置を含む、請求項14に記載のフロー制御装置。
  22. 【請求項22】前記磁気装置が静止時にはほぼ湾曲した
    平面形状を有し、かつ前記電磁場印加装置が、該磁気装
    置の湾曲度を変化させる装置を含む、請求項14に記載の
    フロー制御装置。
  23. 【請求項23】前記電磁場印加装置が: 前記磁気装置に沿って不連続な位置に配置された複数の
    電磁石と; 該電磁石を所定の様式で活性化して、該磁気装置を対応
    する様式で動かすための制御装置とを含む、 請求項14に記載のフロー制御装置。
  24. 【請求項24】前記磁気装置が流体フローを運搬するた
    めの管の周囲に配置され、前記複数の電磁石が該管に沿
    って不連続な位置に配置され、かつさらに該管の周囲に
    半径方向に配置され、かつ 前記制御装置が作動して該電磁石を所定の方法で該管に
    関連して活性化して、該管の断面構成を該管に沿った所
    定の位置で所定の第1および第2の極限位置の間で変動
    させ、 ここで、該管が該第1の極限構造にある場合、該複数の
    電磁石は作動されず、かつ該管は静止位置で完全に開放
    され、それにより該管の中のフローを可能とし、 かつ、該管が該第2の極限位置にある場合、該複数の電
    磁石は該管の対向する壁部分に半径方向内向きに力をか
    けるように作動して、それにより該管の断面積を低減し
    て該管に沿う流体のフローを圧縮する、 請求項23に記載のフロー制御装置。
  25. 【請求項25】さらに、前記管の内部に位置し、かつ該
    管に沿って長手方向に延長するロッドを含み、ここで該
    管が前記第2の極限位置にあるとき、該管の少なくとも
    一部の前記壁部分が該ロッドに押しつけられる、請求項
    24に記載のフロー制御装置。
  26. 【請求項26】前記ロッドが磁性である、請求項25に記
    載のフロー制御装置。
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