JP2002500614A - フッ素化された稀土類ドープトガラスおよびガラスセラミック製品 - Google Patents
フッ素化された稀土類ドープトガラスおよびガラスセラミック製品Info
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Abstract
(57)【要約】
本発明は、フッ素化稀土類ドープトガラス組成物およびそれからガラスセラミック光学製品、例えば、1300nmおよび1550nmの通信窓を有する光ファイバ導波路、ファイバレーザおよび活性ファイバ増幅器を製造する方法に関する。本発明の組成物は、300-2,000質量ppmの間の濃度範囲のPr3+および/またはDy3+並びに500-2,000質量ppmの間の濃度の範囲のAg+;または500-5,000質量ppmの間の濃度範囲のEr3+並びに0-2,000質量ppmの間の濃度範囲のAg+を含む。一価の銀イオンは、イオン電荷の釣り合わされたガラスセラミック結晶を提供する。これらの組成物は、高濃度の稀土類イオンドーパントの存在下で、稀土類イオンのクラスター形成および蛍光消光の効果が減少されているかない。
Description
【発明の詳細な説明】
フッ素化された稀土類ドープトガラス およびガラスセラミック製品
本出願は、米国特許第5,483,628号および同第5,537,505号(以後、それぞれ、
'628号特許および'505号特許と称する)に関するものである。その両方の特許を
全てここに引用する。
発明の分野
本発明は、比較的高濃度の稀土類ドーパントの存在下で、稀土類イオンのクラ
スター形成および蛍光の消光が減少したフッ素化された稀土類ドープトガラス、
および超透明ガラスセラミック製品、特に、活性ファイバ導波路および素子、例
えば、そのような導波路を用いたファイバ増幅器およびレーザに関するものであ
る。ここに用いているように、「超透明」という用語は、高い光学的透明度を意
味するものである。すなわち、本発明のガラスセラミックの透明度は、約350n
mから2.5μmまでのスペクトルに亘りガラスの透明度に匹敵する。
発明の背景
1300nmおよび1550nmの通信窓で潜在的な用途を有する光学組成物およびそ
れから製造された製品が、広く関心を集め、産業上必要とされている。例えば、
効率的な1300nmの光ファイバ増幅器用の材料の見込みのある候補としては、フ
ッ化物、混合ハロゲン化物、および硫化物ガラスの母材中にドーピングされた稀
土類イオンのPr3+およびDy3+が挙げられ、一方で、1550nmの増幅器の材料
には、Er3+が適切にドーピングされる。ボレリ(Borrelli)等による最近の発表
(Transparent glass ceramics for 1300nm amplifier applications,J.Appl.
Phys.78(11),(Sept.1995))では、フッ化物ガラスと酸化物ガラス両方の利点
のうちのいくつかを組み合わせた、Pr3+イオンのための代替母材が報告された
。この新たな材料は、'505号の特許に記載されており、適切に熱処理されて透明
ガラスセラミックを形成しているオキシフルオライドガラスからなるものである
。このガラスセラミックは、主な酸化物ガラスマトリクス中に埋め込まれた、約
6-
15nmの間に亘る直径を有するフッ化物微小結晶を5-40体積%含有していた。前
記'505号の特許に詳しく記載されているように、光学活性であるフッ化物ベース
のガラスセラミック製品が、約50から約900質量ppmの間のPr3+を含有する
Ybを含まない組成物から製造された。このガラスセラミックは、このドーパン
ト濃度範囲に亘り1300nmのスペクトル窓で活性素子として機能することが示さ
れた。このPr3+ドープトガラスセラミックに関して、前記'505号の特許の基礎
ガラスにおいて、約500質量ppmまでのPr3+濃度で、120マイクロ秒より長い
蛍光寿命が観察された。500質量ppmよりもわずかに高いPr3+濃度で、濃度
減少が観察され、蛍光寿命が、900質量ppmでの約70マイクロ秒までほぼ線形
に減少することが観察された。蛍光寿命と濃度との間の最良の場合の釣合いが約
200から約550質量ppmまでの範囲のPr3+で達成されることが報告された。し
かしながら、機能的活性素子が、約50から約650質量ppmまでの範囲のPr3+
濃度で報告された。より長い蛍光寿命およびより高いドーパント濃度の両方が、
ここに記載された活性素子の製造に望ましいので、本発明者は、前記'505号の特
許に記載された新しいガラスセラミック材料の組成範囲を改良し、1550nmの用
途に適した同様の利点を有するガラスセラミック組成物を発明する必要性を認識
した。
ファイバレーザおよび増幅器用の潜在的な利得媒体としての透明ガラスセラミ
ックの評価において、放射量子効率が重要なパラメータである。「Quantum effi
ciency of Pr3+ doped transparent glass-ceramics」と題する論文において(
発表されることになっている)、クインビー(Quimby)およびティック(Tick)は、
相対的蛍光測定に基づく直接測定技術を用いたPr3+ドープト透明ガラスセラミ
ックにおける1300nm発光の量子効率について報告している。蛍光は、Pr3+ 1
D2レベルの励起により蛍光が観察され、1460nm辺りでピークとなり(「A」
転移)、が1D2レベルが595nmの色素レーザ放射線で直接励起されたときに、1
G4レベルからの蛍光が、約1300nmでピークとなった(「B」転移)。クイン
ビー等のOpt.Lett.,20,2021(1995)により記載された分析に従えば、1G41300
nm発光の量子効率は、全B転移率対全A転移率の比率を取ることにより決定さ
れた。以下により詳しく記載されることになっている図1のデータは、約25質量
ppmから約1000質量ppmまでの範囲に亘るPr3+濃度を有する、'505号の特
許の二種類の
基礎組成のガラスセラミックの実施の形態に関して測定したB/A比を示してい
る。本発明者が予測したように、B/A比は、Pr3+イオンのクラスター形成が
増大したことにより生じるクロスリラクゼーション(cross-relaxation)のためで
あると考えられている濃度の増加とともに増加する。
三価の稀土類、例えば、Pr3+がこれらのガラスセラミック中に含まれたとき
に、その稀土類は、セラミック化工程中に形成される第二相の結晶中に分離され
ることが知られている。これらの結晶は、立方格子構造を有するものであり、主
に二価のフッ化カドミウムおよびフッ化鉛からなると考えられている。本発明者
は、これらの二価フッ化物の三価の稀土類のフッ化物による置換のために、前記
格子内で生じた局所的歪みによりクラスターが形成されるものと考えている。前
記結晶格子中への稀土類の置換が直接生じたときに、その稀土類近くの結晶構造
中に格子間フッ素を含めることにより電荷の釣合いを維持することかできる。塊
状結晶において、これは、局所的歪みの源であり、この歪みは、これらの欠陥が
クラスターを形成できるときに減少することが観察されている。本発明者は、同
様の機構がガラスセラミックの微小結晶においても生じると考えている。しかし
ながら、これにより、約500質量ppmの濃度で現れるのが本発明者により観察
された、より高いPr濃度での量子効率が減少してしまう。
したがって、本発明者は、透明な稀土類ドープトガラスおよびガラスセラミッ
ク組成物、並びにそれらから製造された製品であって、稀土類のドーパントが高
濃度であるにも拘わらず、稀土類イオンのクラスター形成および稀土類イオンの
濃度の抑制が減少しており、量子効率が比較的高く、スペクトル利得バンドがよ
り広い製品が必要とされていることを認識した。
発明の概要
したがって、本発明は、そのような特徴を提供するガラス組成を有するガラス
セラミック光学製品、並びにここに記載したようなコアおよびクラッド組成を有
するガラスセラミック光ファイバ導波路製品を製造する方法に関するものである
。
本発明のある実施の形態は、ガラスセラミック光学製品に関するものである。
このガラスセラミック製品の組成構造は、その中に三価の稀土類イオンが含まれ
た二価のフッ化カドミウムまたは二価のフッ化鉛いずれかを実質的に含み、そし
て、一価の銀または一価のタリウムイオンを含んで結晶の電荷を釣り合わせた第
二相立方格子である。
1300nmの通信窓における用途に特に適した本発明の別の実施の形態には、実
質的にたった一つの結晶相を有し、カチオンパーセントで表して、20-40%のS
iO2、10-20%のAlO1.5、19-34%のCdF2、19-23%のPbF2から実質的
になり、ここで、5モル%までのCdSまたは3モル%までのCdCl2で等量
のCdF2を置換でき、または等量の酸化物でこのフッ化物を置換でき、少なく
とも一つの稀土類フッ化物YF3(3-7%)、GdF3(3-7%)、およびLuF3(4-15
%)を含み、ここで、これらの稀土類フッ化物の合計量が(3-15%)であり、少な
くとも一つのPr3+およびDy3+を約300から2,000質量ppmまでの範囲の濃度
で含み、Ag+を約500から2,000質量ppmまでの範囲の濃度で含む透明ガラス
セラミックである活性コア;および酸化物基準の重量パーセントで表して、25-3
5%のSiO2、3-5%のAl2O3、12-16%のCdF2、40-50%のPbF2、4-8%
のZnF2、および0-10%のBi2O3から実質的になる透明ガラスであるクラッ
ドを含むガラスセラミック光学製品が記載されている。
1300nmの通信窓における用途に特に適した本発明の別の実施の形態には、実
質的にたった一つの結晶相を有し、カチオンパーセントで表して、20-40%のS
iO2、15-25%のPbF2、10-20%のAlO1.5、21-31%のCdF2、3-7%のZ
nF2から実質的になり、ここで、5モル%までのCdSまたは3モル%までの
CdCl2で等量のCdF2を置換でき、または等量の酸化物でこのフッ化物を置
換でき、少なくとも一つの稀土類フッ化物YF3(3-7%)、GdF3(3-7%)、およ
びLuF3(4-15%)を含み、ここで、これらの稀土類フッ化物の合計量が(3-15%
)であり、少なくとも一つのPr3+およびDy3+を約300から2,000質量ppmま
での範囲の濃度で含み、Ag+を約500から2,000質量ppmまでの範囲の濃度で
含む透明ガラスセラミックである活性コア;および酸化物基準の重量パーセント
で表して、25-35%のSiO2、3-5%のAl2O3、12-16%のCdF2、40-50%の
PbF2、4-8%のZnF2、および0-10%のBi2O3から実質的になる透明ガラ
スであるクラッドを含むガラスセラミック光学製品が記載されている。
上述した実施の形態のある態様において、前記Ag+が、約700から1,000質量
p
pmの範囲の濃度にある。
1550nmの通信窓における用途に特に適した本発明の別の実施の形態には、実
質的にたった一つの結晶相を有し、カチオンパーセントで表して、20-40%のS
iO2、10-20%のAlO1.5、19-34%のCdF2、19-23%のPbF2から実質的
になり、ここで、5モル%までのCdSまたは3モル%までのCdCl2で等量
のCdF2を置換でき、または等量の酸化物でこのフッ化物を置換でき、少なく
とも一つの稀土類フッ化物YF3(3-7%)、GdF3(3-7%)、およびLuF3(4-15
%)を含み、ここで、これらの稀土類フッ化物の合計量が(3-15%)であり、Er
F3を約500から5,000質量ppmまでの範囲の濃度で含み、Ag+を0から2,000
質量ppmまでの範囲の濃度で含む透明ガラスセラミックである活性コア;およ
び酸化物基準の重量パーセントで表して、25-35%のSiO2、3-5%のAl2O3
、12-16%のCdF2、40-50%のPbF2、4-8%のZnF2、および0-10%のBi2
O3から実質的になる透明ガラスであるクラッドを含むガラスセラミック光学製
品が記載されている。
1550nmの通信窓における用途に特に適した本発明の別の実施の形態には、実
質的にたった一つの結晶相を有し、カチオンパーセントで表して、20-40%のS
iO2、15-25%のPbF2、10-20%のAlO1.5、21-31%のCdF2、3-7%のZ
nF2から実質的になり、ここで、5モル%までのCdSまたは3モル%までの
CdCl2で等量のCdF2を置換でき、または等量の酸化物でこのフッ化物を置
換でき、少なくとも一つの稀土類フッ化物YF3(3-7%)、GdF3(3-7%)、およ
びLuF3(4-15%)を含み、ここで、これらの稀土類フッ化物の合計量が(3-15%
)であり、ErF3を約500から5,000質量ppmまでの範囲の濃度で含み、Ag+
を0から2,000質量ppmまでの範囲の濃度で含む透明ガラスセラミックである
活性コア;および酸化物基準の重量パーセントで表して、25-35%のSiO2、3-
5%のAl2O3、12-16%のCdF2、40-50%のPbF2、4-8%のZnF2、およ
び0-10%のBi2O3から実質的になる透明ガラスであるクラッドを含むガラスセ
ラミック光学製品が記載されている。
上述した実施の形態の全てのある態様において、前記コアは、第一と第二の端
部を有する細長い中心部材であり、前記クラッドは、この細長い中心部材の表面
を被覆するが、第一と第二の端部は露出されたままにする。
上述した実施の形態の全てのある態様において、前記コアの組成は、0-7%の
BO1.5、0-12%のGeO2、0-7%のPO2.5、0-3%のTiO2、0-2%のNb2O5
、0-7%のGaF3、0-7%のHfF4、0-7%のInF3、0-15%のBiF3、0-1
%のLaF3、0-3%のCdCl2、および0-5%のCdSからなる群より選択され
る少なくとも一つの成分を、合計で17カチオンパーセントまで含有する。
上述した実施の形態の全てのある態様において、銀は、例えば、フッ化銀(A
gF)、酸化銀(Ag2O)、硝酸銀(AgNO3)、または普通の銀塩により提
供される一価の陽イオンの形態にある。
本発明の別の態様は、光ファイバ導波路を製造する方法であって、流体状態に
ある、好ましくは、再溶融カレットの形態にある仕上げコアガラス組成物を二重
るつぼ炉の内側るつぼに充填し;該二重るつぼ炉の外側るつぼ内に、好ましくは
管の形態にある流体コアを含有するのに十分な剛性を有するクラッドガラスを提
供し;それぞれの液相線温度より高い前記コアまたはクラッドガラスの部分が該
二重るつぼ炉の白金壁とは全く接触しないように該コアおよびクラッドガラスを
それぞれの液相線温度またはそれより高い温度に維持し;前記炉から細長いガラ
ス製品を引き出し、該ガラス製品をその液相線温度より低く冷却する各工程を含
む方法に関するものである。この実施の形態のある態様において、前記中心部材
のガラスおよびクラッドガラスを約800-1300℃の範囲の温度まで加熱し、前記細
長いガラス製品を、1分未満の時間でピーク結晶化温度未満の温度まで急冷する
。
この細長いガラス製品、例えば、光ファイバは、好ましくは、第一と第二の端
部を有し、上述した実施の形態の内の一つに記載したコアおよびクラッドの組成
を有する。前記ガラス製品のコアは、高い光学透明度を有し、所定の時間に亘り
所定の温度でその細長いガラス製品を加熱することにより実質的にたった一つの
結晶相を含有する透明ガラスセラミックに転移できる。好ましくは、セラミック
化工程が、前記ガラス製品を約1/2-24時間の間に亘り前記中心部材のガラスのピ
ーク結晶化温度近くまで加熱することにより行われる。「実質的に一つの結晶相
」という表現は、前記ガラスセラミックが、そのガラスセラミックの化学的およ
び/または物理的性質、特に、光学透明度を変更するほど十分な量の第二の結晶
相
を含まないことを意味する。最も好ましくは、第二の結晶相は、全く存在しない
。前記稀土類金属イオンは、結晶相中に存在する。
前記コアガラス組成物が、等量のCdF2を置換した5モル%までのCdSま
たは3モル%までのCdCl2を含有している、またはフッ化物を置換した等量
の酸化物を有している本発明のある態様において、そのガラスコアは、製品が炉
から取り出されたときに冷却されてガラスセラミックに転移され、追加のまたは
外部のセラミック化工程を必要としない。
本発明の追加の特徴および利点が、以下の説明に述べられており、一部は、そ
の説明から明らかとなり、もしくは本発明を実施することにより分かるであろう
。本発明の目的および他の利点は、以下の説明および請求の範囲並びに添付した
図面に特に指摘された装置および方法により実現され、達成される。
上述した一般的な説明および以下の詳細な説明の両方は、例示であり、請求の
範囲に記載した本発明をさらに説明することを意図したものであるのが理解され
よう。
それらの添付した図面は、本発明をさらに理解するために含まれたものであり
、この明細書に含まれ、その一部を構成するものであり、本発明の実施の形態を
示し、前記説明とともに本発明の原理を説明する役割を果たす。
図面の簡単な説明
図1は、Agを有するものと有さないものの本発明のいくつかの例示的組成の
実施の形態に関する質量ppmで表したPr3+濃度の関数としてのB/A比(ク
ロスリラクゼーションの尺度)を示すグラフであり、Agを含有する組成物に関
して、より高いPr3+濃度で減少したクロスリラクゼーションを示している。
図2は、ZBLANガラス標準のスペクトル利得バンドおよび本発明の実施の
形態による製品の対応するより広いスペクトル利得バンドを表すプロットを示し
ている。
図3は、本発明のいくつかの組成物の実施の形態の組成範囲を示す組成マップ
である。
図4は、ガラス組成物とガラスセラミック組成物との間の粘度差を示す、本発
明の実施の形態によるフッ素化稀土類コア光学ガラス(FROG)に関する粘度
対温度のグラフである。
図5は、本発明の実施の形態によるクラッドガラスに関する粘度対温度のプロ
ットである。
図6(a)は、二重るつぼ炉内の異なる位置でのガラスの相対温度を示している
。
図6(b)は、内側るつぼ心だし環をその首領域に含む、本発明の実施の形態に
よる二重るつぼ炉の外側るつぼを図示している。
図6(c)は、本発明の実施の形態による二重るつぼ炉の内側るつぼを図示して
いる。
図6(d)は、本発明の実施の形態による冷却環を備えた二区域炉を図示してい
る。
発明の好ましい実施の形態の詳細な説明
本発明のある実施の形態によれば、単モードおよび多モード光導波路ファイバ
並びにこれらのファイバを用いた光学活性素子、例えば、光増幅器およびレーザ
のようなガラスセラミック光学製品が、表I−IVに列記された本発明のガラスコ
ア組成物、および以下の表Vに列記された適合する被覆すなわちクラッドガラス
から適切に製造される。ここで、5モル%までのCdSまたは3モル%までのCdCl2で、等量のCd
F2を置換でき、または等量の酸化物でこのフッ化物を置換できる;
YF3(3-7)および/またはGdF3(3-7)および/またはLuF3(4-15)[合計(3-
15)];
Pr3+および/またはDy3+(300から2,000質量ppm);および
Ag+(500から2,000質量ppm)
ここで、5モル%までのCdSまたは3モル%までのCdCl2で、等量のCd
F2を置換でき、または等量の酸化物でこのフッ化物を置換できる;
YF3(3-7)および/またはGdF3(3-7)および/またはLuF3(4-15)[合計(3-
15)];
Pr3+および/またはDy3+(300から2,000質量ppm);および
Ag+(500から2,000質量ppm)ここで、5モル%までのCdSまたは3モル%までのCdCl2で、等量のCd
F2を置換でき、または等量の酸化物でこのフッ化物を置換できる;
YF3(3-7)および/またはGdF3(3-7)および/またはLuF3(4-15)[合計(3-
15)];
ErF3(500-5,000質量ppm);および
Ag+(0-2,000質量ppm)
ここで、5モル%までのCdSまたは3モル%までのCdCl2で、等量のCd
F2を置換でき、または等量の酸化物で上記フッ化物を置換でき、もしくは3-7モ
ル%のZnOでZnF2を置換できる;
YF3(3-7)および/またはGdF3(3-7)および/またはLuF3(4-15)[合計(3-
15)];
ErF3(500-5,000質量ppm);および
Ag+(0-2,000質量ppm) 本発明のある実施の形態による光ファイバ導波路製品は、表I−IVの基礎ガラ
ス組成いずれかから実質的になる細長い中心コア部材、および表Vに列記した組
成による適合する被覆すなわちクラッドガラスを含む。
前記中心部材は、0-7%のBO1.5、0-12%のGeO2、0-7%のPO2.5、0-3%
のTiO2、0-2%のNb2O5、0-7%のGaF3、0-7%のHfF4、0-7%のIn
F2
、0-15%のBiF3、0-1%のLaF3、0-3%のCdCl2、および0-5%のCd
Sからなる群より選択される金属酸化物および金属フッ化物から構成されていて
もよく、これらの成分は、表I−IVに列記された基礎ガラス組成における酸化物
およびフッ化物を置換するものである。一般的に、酸化物およびフッ化物は、そ
れぞれ、酸化物およびフッ化物を置換する。少なくとも4カチオン%のYF3ま
たは少なくとも3カチオン%のGdF3またはLuF3の存在が、高光学透明度の
透明ガラスセラミック材料を生成する適切なその場での結晶化を確実にするため
に必要とされる。ZnF2を含むことにより、ガラスの溶融および結晶化挙動が
いくぶん改良される。それゆえ、ZnF2を含有するガラスが好ましい。
前記基礎ガラス組成は、三価の稀土類イオンが二価のフッ化カドミウムまたは
フッ化鉛の結晶中に含まれたときの結晶を釣り合わせる電荷のために一価の陽イ
オンを含有する。Ag+およびTl+は、適切な一価の陽イオンとして認識されて
いる。しかしながら、この銀イオンは、揮発性が少なく、イオンサイズが小さく
、毒性が低いために、タリウムよりも好ましい。本発明の実施の形態において、
AgF、Ag2O、AgNO3、または通常の銀塩を、約500から2,000質量ppm
の間、そして、好ましくは、約700-1,000質量ppmの間、表IおよびIIに列記
した基礎ガラス組成中に含むことにより、これらの組成が、約500質量ppmの
ドーパント濃度で前記基礎組成中で以前に観察されたクエンチングおよびクロス
リラクゼーションの有害な影響なく、約300から2,000質量ppmの範囲の濃度で
Pr3+およびDy3+を含有することができた。この稀土類イオンのクラスター形
成の減少していることは、Ag+含有試料が、銀を含まない試料よりも、高いP
r3+濃度で著しく低いB/A比を有している、図1に示したデータにより証明さ
れている。「B」値は、1300nmでピータに達する、Pr3+ 1G4レベルから起
こるB転移を意味し、一方で、「A」値は、1460nm辺りでピークに達するPr3+ 1D2レベルから起こるA転移を意味する。このB/A比は、1D2レベルのイ
オンが基底状態にある近くのイオンとエネルギーを交換するときに、それらイオ
ンのうちの一方が1G4レベルに残される限りは、クロスリラクゼーションの程度
の間接的な尺度である。1G4レベルへの非放射経路により、追加のB蛍光か生じ
、それによって、測定されたB/A比が増加する。クロスリラクゼーションは、
電荷釣合い一価陽
イオンを含有しない試料に関して、それら試料のより高いB/A値により示され
るように、イオン−イオン分離がより小さい場合には、より高いPr3+濃度でよ
り著しくなる。図1において、Y/Z試料は、表IIのPr3+/Dy3+ドープト組
成物(すなわち、ZnF2を含有するもの)を意味し、一方で、Y試料は、表I
の(Znを含まない)Pr3+/Dy3+ドープト組成物を意味する。xxx/yy
という形態にある各々の組成物試料に関連する番号は、各々の試料に関する、そ
れぞれ、セラミック化温度およびセラミック化時間を意味する。
本発明者は、表IIIおよびIVに列記されたコアガラス組成物が、0-2,000質量p
pmのAg+の存在下で著しいクラスター形成および蛍光消光の影響なく、約500
から5,000質量ppmのEr3+を含むことも発見した。図2の蛍光放出曲線は、
カチオン%で表して、30%のSiO2、15%のAlO1.5、3.5%のYF3、5%の
ZnF2、17%のPbF2、29%のCdF2、および0.5%のErF3から実質的に
なる本発明のEr3+ドープト組成物の実施の形態のスペクトル利得バンドを、E
r3+ドープトZBLAN組成物と比較しており、本発明の組成物が、Er3+ドー
プトアルミノケイ酸塩すなわちZBLANガラス組成物よりも、長い寿命および
広いスペクトル利得バンドを有することを示している。
前記コアガラス組成物の好ましい実施の形態が、以下の表VI(A,B,C,D
,E,F,GおよびH)に示されている。
ここで、*=CdCl2,**=CdS,***=CdO,X’=300-2,000(質量ppm
),およびX”=500-5,000(質量ppm)
図3のガラスマップは、GdF3、YF3、およびLuF3を含有するコア組成
物の実施の形態の三つの好ましい組成範囲を示している。線で囲った領域が、安
定な超透明ガラスセラミックとなる組成物の境界を定めている。これらの領域の
外側の組成物は、セラミック化後に不安定であるかまたは曇った。
クラッドガラス組成物の好ましい実施の形態が、以下の表VIIに示されている
。
前記二重るつぼ技術は、従来技術においてよく知られており、「Fabrication
of Long Single Mode and Multimode Fluoride Glass Fibers by the Double Cr
ucible Technique」,トキワ等,ElectronicLetters,#24,V.21,1985のような
多くの文献に記載されている。この技術は、様々なコアおよびクラッド組成物か
ら光ファイバを製造するのに有用であるが、伝統的に、同様の液相線粘度を有す
るコアおよびクラッド組成物が必要である。しかしながら、本発明のオキシフル
オライドコア組成物は、フッ化物の溶融物に特徴的な傾向にある高温特性を有す
る。取り扱わなければならないその特性の最も困難なことは、低い液相線粘度で
ある。本発明のある実施の形態のセラミック化工程は、図4に示すように、少な
くとも108ポアズの粘度で行われるので、光ファイバ製造のための典型的なプリ
フォーム/再線引き方法は、それに用いる材料には通常の再線引き粘度で過剰に
セラミック化される傾向があるので、実施することができない。通常の線引きに
おいて、材料の流れの粘度は、根元を制御するために、約2,000-1,000,000ポア
ズの間、好ましくは、10,000-1,000,000ポアズの間になければならない。しかし
ながら、本発明のコア組成物の液相線粘度は、粘度の下限よりも約4桁大きい流
動性のものである。これらのことを考慮して、改良二重るつぼ技術を用いて、上
述した組成物から光ファイバを製造する。ここでは、流体コア組成物が、このコ
アの流れを含有し、最終的にファイバに引き伸ばされるのに十分に硬いクラッド
ガラス中に供給される。ここに記載した適切なクラッドガラス組成物を、以下に
記載する二重るつぼ線引き方法を用いるために開発した。
前記クラッドガラスは、好ましくは、1.64から1.75までの間、より好ましくは
、1.65-1.74の範囲にある屈折率;800℃で1,500ポアズより大きい粘度;800℃未
満の液相線粘度;室温から300℃までの範囲で約65-110×10-7/℃の間の熱膨張
係数を有し;800℃で前記コアガラスと化学的非反応性である。本発明のクラッ
ドガラスの実施の形態の粘度性質が図5に示されている。'628号および'505号の
特許におけるクラッドガラス組成物は、適切なクラッド組成物のための物理的お
よび光学的必要条件を有するアルカリ鉛ケイ酸塩ガラスの一群を含んだけれども
、800℃でコア組成物と接触するアルカリが存在すると、前記コアガラスが急速
に失透することが分かった。さらに、上述した中心部材ガラスが、そのガラスが
液相線温度に近い温度、すなわち、本発明の実施の形態においては800℃辺りに
長く留まりすぎると、形成工程中に望ましくない大きな結晶を形成してしまう。
したがって、光ファイバを製造するためには、標準的な二重るつぼ炉を改良する
必要があった。好ましくは、図6(a-d)に図示したように、流体状態にある本発
明の実施の形態によるフッ素化稀土類ガラス(FROG)、そしてより好ましく
は、再溶融カレットの流体コア78が、このコア流を含有し、その後、ファイバに
引き伸ばされるのに十分な剛性を有するクラッドガラス管64中に供給される。本
発明の重要な特徴は、コア78がその液相線温度より低い温度で二重るつぼ炉の白
金壁に接触するのを防ぎ、同様に、クラッドガラスが、望ましくない結晶を形成
しないように、その液相線温度より低い温度で前記るつぼ壁に接触するのを防ぐ
ことにある。前記コアは、炉から排出されるまで、常に液相線温度より高い温度
にあるので、停滞した副液相線(subliquidus)境界層がなく、熱い区域にある滞
留時間が短い。それゆえ、前記コア流は、スラッグとして、好ましくは、できる
だけ速く、内側るつぼの供給セクション72中を移動する。このコア流は、供給セ
クションの先端74から排出された後、ガラスに急冷される。好ましくは、このガ
ラスは、液相線温度より低い温度まで急速に冷却される。この温度は、中心部材
のガラス組成に依存して異なるが、示差走査熱量測定(DSC)または従来技術
においてよく知られている他の方法により容易に決定される。望ましくない結晶
の成長は、二重るつぼ内で形成される細長いガラス製品を約1分以内で結晶化温
度より低い温度まで冷却することにより抑えられる。
5モル%までのCdSまたはCdCl2で等量のCdF2を置換している本発明
の実施の形態において、前記コアの結晶化(セラミック化)は、ファイバが線引
き炉から排出されるのと同時に行われる。したがって、このガラスをセラミック
化するのに外部での加熱は必要ない。
一般的に、図4に示したような、セラミック化を行うピーク結晶化温度は、約
400から500℃の範囲にある。一旦前記ガラス製品がその最終形状に到達したら、
このガラス製品を再加熱して(追加に加熱する必要のある、すなわち、外部セラ
ミック化工程を必要とする組成物にとって)、前記コアを超透明ガラスセラミッ
クにセラミック化することができる。この結晶化工程は、ピーク結晶化温度で、
またはその近くの温度で行ってもよい(ここに用いている結晶化という用語は、
ガラスのガラスセラミックへの転移と等しい)。この温度は、結晶のサイズ、数
および間隔を決定する上での制御のために望ましい。好ましい温度は、約400か
ら500℃までの範囲にあり、この温度範囲にある時間は、1/2から24時間までで変
動してもよい。必要とされる結晶化が2-8時間で完了する温度を選択してもよい
。図4の粘度曲線は、概して、本発明の組成の実施の形態によるFROGを示し
ている。二組のデータの間の曲線は、独断的に補間されたものである。液相線温
度は、約25ポアズの粘度に対応する約800℃であり、一方で、セラミック化温度
が、108ポアズよりも大きいことが示されている。
図6(a-d)は、改良二重るつぼの設計および方法の詳細を図示している。外側
るつぼ60が図6(b)に示されている。この外側るつぼは、長さが約2インチ(5.0
8cm)であり、内径が約0.400インチ(1.02cm)の管状供給セクション62を有
する。テーパー状端部(図示せず)を有する白金棒部材が、クラッドガラス64が
外側るつぼから早まって漏れないように、供給セクション62の下方の端部に挿入
するために取付可能となっている。内側るつぼ70は、長さが約1インチ(2.54c
m)であり、好ましくは、本発明の組成物の実施の形態のために内径が0.030イ
ンチ(0.076cm)±0.005インチ(0.013cm)である管状先端74をその下側端
部に有する供給セクション72を有する。この内側るつぼは、内側管の先端74が、
運転中に外側るつぼの供給セクション62内のどの所望の位置にも配置できるよう
に独立して移動可能な三軸支持ブラケット76上に取り付けられている。
先端74を通って供給セクション72中を容易であるがぴったりと嵌合し、その供
給セクション72内に白金ワイヤ(図示せす)を取外し可能に配置させるのに十分
な外径を有する該ワイヤを用いて、装置が作動する準備ができるまで、流体コア
78が内側るつぼの先端を通って流動しないように内側るつぼをシールした。必要
に応じてテフロンプラグ82を用いて、その上側領域で内側るつぼをシールして、
所望であれば、前記管を一定の圧力に保つ。内側るつぼ70の先端74の内径は、コ
アガラスの流れを制御するために重要である。先端の内径が小さすぎると、流体
コアが、表面張力が大きすぎて流動できなくなることがあり、一方で、この内径
が大きすぎると、コア/クラッドの流れが制御できなくなってしまう。当業者に
より認識されるように、先端の寸法および流量は、少なくとも一部には、流体コ
アの粘度に依存する。したがって、改良二重るつぼの寸法および加工は、それに
応じて調節しなければならない。
ある実施の形態において、図6(d)に示したように、炉90は、断熱板96により
隔てられた二つの区域92および94に区切られている。ガラスカレットの充填物は
、上側区域92中の内側るつぼ中に導入され、再溶融される。この上側区域の温度
は、熱電対98により約1000-1200℃の間に維持されている。熱電対98から内側る
つぼの中心までには約70℃の勾配があった。したがって、FROGカレットは10
50℃より高い温度で再溶融されなければならないので、上側区域は、各々の運転
に関して1150℃に維持された。下側の設定温度制御のための熱電対100は、供給
管72と接触して、その端部から約1インチ(2.54cm)の所に位置しており、少
なくとも800℃に設定されていた。内側供給管72の先端74は、熱電対100と同じ高
さに位置していた。ファイバフラックスシート102を供給パイプと下側マッフル9
4との間に配置して、供給セクション72が冷却されるのを防いだ。環状に配列さ
れた20個の下方に向けられた孔106を有する外気冷却環104を、供給管の先端のち
ょうど下に配置した。冷却環からのガス流は、ガラスが供給管から排出されると
きにガラスを冷却することによって、根元のサイズを効果的に制御し、したがっ
て、失透の可能性を最小にした。上述したパラメータは、コア/クラッド構造の
光導波路ファイバが製造される工程窓を提供した。
当業者には、本発明の精神すなわち範囲から逸脱せずに、本発明の装置および
方法に様々な改変および変更が行えることが明らかである。したがって、本発明
は、添付した請求の範囲およびその同等物の範囲に入るのであれば、本発明の改
変および変更を包含することを意図したものである。
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フロントページの続き
(81)指定国 EP(AT,BE,CH,CY,
DE,DK,ES,FI,FR,GB,GR,IE,I
T,LU,MC,NL,PT,SE),AL,AM,A
T,AU,AZ,BA,BB,BG,BR,BY,CA
,CH,CN,CU,CZ,DE,DK,EE,ES,
FI,GB,GE,GH,HU,ID,IL,IS,J
P,KE,KG,KP,KR,KZ,LC,LK,LR
,LS,LT,LU,LV,MD,MG,MK,MN,
MW,MX,NO,NZ,PL,PT,RO,RU,S
D,SE,SG,SI,SK,SL,TJ,TM,TR
,TT,UA,UG,UZ,VN,YU,ZW
(72)発明者 コーネリアス,ローレン ケー
アメリカ合衆国 ニューヨーク州 14870
ペインテッド ポスト デイヴィス ス
トリート 140
(72)発明者 オコーネル,ジョン ダブリュ
アメリカ合衆国 ニューヨーク州 14830
コーニング イースト セカンド スト
リート 222
(72)発明者 ティック,ポール エイ
アメリカ合衆国 ニューヨーク州 14830
コーニング レノックス ドライヴ
10615
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1.透明なガラスセラミックコアおよび透明なガラスクラッドを備えた光学製品 であって、 該ガラスセラミックが、実質的にたった一つの結晶相を有し、カチオンパー セントで表して、20-40%のSiO2、10-20%のAlO1.5、19-34%のCdF2 、15-25%のPbF2、0-7%のZnF2、3-10%のREF、300-5,000質量pp mのRE、および0-2,000質量ppmのAg+から実質的になり、 5モル%までのCdSまたは3モル%までのCdCl2で等量のCdF2が置き 換えられ、もしくは、等量の酸化物で、このフッ化物が置き換えられ、REF がYF3(3-7%)、GdF3(3-7%)、およびLuF3(4-15%)の内の少なくとも 一つであり、REがPr3+、Dy3+、およびEr3+の内の少なくとも一つであ り、 前記透明ガラスクラッドが、酸化物基準の重量パーセントで表して、25-35 %のSiO2、3-5%のAl2O3、12-16%のCdF2、40-50%のPbF2、4-8 %のZnF2、および0-10%のBi2O3から実質的になる ことを特徴とする製品。 2.PbF2が19-23%であり、ZnF2が0であり、Er3+が0であり、Pr3+お よびDy3+の内の少なくとも一つが300-2,000質量ppmであり、Ag+が1,00 0-2,000質量ppmであることを特徴とする請求の範囲第1項記載の製品。 3.CdF2が21-31%であり、ZnF2が3-7%であり、Er3+が0であり、Pr3 +およびDy3+の内の少なくとも一つが300-2,000質量ppmの範囲にあり、A g+が1,000-2,000質量ppmであることを特徴とする請求の範囲第1項記載の 製品。 4.PbF2が19-23%であり、ZnF2が0であり、Er3+が500-5,000質量pp mであり、Pr3+が0であり、Dy3+が0であることを特徴とする請求の範囲第 1項記載の製品。 5.CdF2が21-31%であり、ZnF2が3-7%であり、Er3+が500-5,000質量 ppmであり、Pr3+が0であり、Dy3+が0であることを特徴とする請求の範 囲第1項記載の製品。 6.第一と第二の端部を有し、前記クラッドが前記コアの表面を被覆するが、該 第一と第二の端部を露出したままにすることを特徴とする請求の範囲第1項記 載の製品。 7.Ag+が700-1,000質量ppmの範囲にあることを特徴とする請求の範囲第2 項記載の製品。 8.Ag+が700-1,000質量ppmの範囲にあることを特徴とする請求の範囲第3 項記載の製品。 9.前記コアが、0-7%のBO1.5、0-12%のGeO2、0-7%のPO2.5、0-3%の TiO2、0-2%のNb2O5、0-7%のGaF3、0-7%のHfF4、0-7%のIn F3、0-15%のBiF3、0-1%のLaF3、0-3%のCdCl2、および0-5%の CdSからなる群より選択される少なくとも一つの成分を、合計で17カチオン パーセントまで含有することを特徴とする請求の範囲第1項記載の製品。 10.Ag+が、フッ化銀(AgF)、酸化銀(Ag2O)および硝酸銀(AgNO 3)の内の少なくとも一つにより提供されることを特徴とする請求の範囲第1 項記載の製品。 11.前記製品が光導波路ファイバであることを特徴とする請求の範囲第1項記載 の製品。 12.前記光導波路ファイバが単モードファイバであることを特徴とする請求の範 囲第11項記載の製品。 13.イオン荷電の釣り合わされた組成を有する光学製品であって、 二価のフッ化カドミウムおよび二価のフッ化鉛の内の少なくとも一つを実質 的に含む第二相の立方格子結晶、 該結晶中に含まれる三価の稀土類イオン、および 該結晶の電荷を釣り合わせる少なくとも一つの一価の形態の銀および一価の 形態のタリウムを含むことを特徴とする製品。 14.前記三価の稀土類イオンが、Pr3+、Dy3+、およびEr3+、の内の少なく とも一つであることを特徴とする請求の範囲第13項記載の製品。 15.光ファイバ導波路を製造する方法であって、 二重るつぼ炉の、供給セクションを含む内側るつぼに、流体状態の仕上げコ アガラス組成物であって液相線温度を有するコアガラス組成物を充填し、 液相線温度を有するクラッドガラスを、該クラッドガラスか前記流体状態に あるコアを含有するのに十分な剛性を有している前記二重るつぼ炉の外側るつ ぼに提供し、 前記コアまたはクラッドガラスが、それぞれ、該コアまたはクラッドガラス の液相線温度より低い温度で前記二重るつぼ炉の白金表面と接触する部分のな いように、該クラッドガラスおよび該コアガラスの一部を該二重るつぼ炉内で それぞれの液相線温度でまたはそれより高い温度に維持し、 前記供給セクションの出口で、前記流体状態にあるコアをそのレイリー不安 定領域内に維持して、該供給セクションから該コアの液滴状流動を提供し、 前記炉の出口から前記コアを含有する前記クラッドを含むファイバを引き出 し、 該ファイバをその液相線温度より低い温度まで冷却する 各工程を含むことを特徴とする方法。 16.前記ファイバをその液相線温度より低い温度まで冷却した後に、該ファイバ をセラミック化する工程を含むことを特徴とする請求の範囲第15項記載の方法 。 17.コアおよびクラッドを備えた光ファイバ導波路を製造する方法であって、 a) 第一と第二の端部を有し、 カチオンパーセントで表して、20-40%のSiO2、10-20%のAlO1.5、19-3 4%のCdF2、19-23%のPbF2、ここで、5モル%までのCdSまたは3モ ル%までのCdCl2で等量のCdF2を置換でき、もしくは等量の酸化物で該 フッ化物を置換でき; 稀土類フッ化物YF3(3-7%)、GdF3(3-7%)、およびLuF3(4-15%)の 内の少なくとも一つ、ここで、該稀土類フッ化物の合計量が(3-15%)であり; 約300から2,000質量ppmまでの範囲の濃度のPr3+およびDy3+の内の少 なくとも一つ; 約500から2,000質量ppmまでの範囲の濃度のAg+ から実質的になる透明ガラスからなる中心部材と、 該中心部材の表面を被覆するが、該第一と第二の端部を露出したままにする 、 酸化物基準の重量パーセントで表して、25-35%のSiO2、3-5%のAl2O3 、12-16%のCdF2、40-50%のPbF2、4-8%のZnF2、および0-10%のB i2O3から実質的になる透明ガラスを備えた細長いガラス体を形成し、 b) 前記細長いガラス体を予め選択された時間に亘り予め選択された温度 で加熱して、前記中心部材を実質的にたった一つの結晶相を含有する透明な光 学的透明なガラスセラミックに転移させる、 各工程を含むことを特徴とする方法。 18.前記形成工程が二重るつぼ技術を用いて行われ、前記中心部材のガラスおよ び前記透明ガラスの被覆の各々が、形成中に約1,000-1,200℃の範囲の温度ま で加熱され、ピーク結晶化温度を有する、形成されたガラスが、1分未満の時 間で該ピーク結晶化温度より低い温度まで急冷されることを特徴とする請求の 範囲第17項記載の方法。 19.前記加熱工程が、前記中心部材のガラスのピーク結晶化温度に近い予め選択 された温度を用いて行われ、前記予め選択された時間が、約1/2-24時間の範囲 にあることを特徴とする請求の範囲第17項記載の方法。
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