JP2002362737A - Apparatus, system, and method for conveying mask - Google Patents

Apparatus, system, and method for conveying mask

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JP2002362737A JP2001172953A JP2001172953A JP2002362737A JP 2002362737 A JP2002362737 A JP 2002362737A JP 2001172953 A JP2001172953 A JP 2001172953A JP 2001172953 A JP2001172953 A JP 2001172953A JP 2002362737 A JP2002362737 A JP 2002362737A
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Shakuhyon Kin
Kenji Tokunaga
謙二 徳永
錫▲ヒョン▼ 金
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Semiconductor Leading Edge Technologies Inc
株式会社半導体先端テクノロジーズ
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To convey a plurality of mask accommodating containers onto a mask storage device and/or a plurality of substrate processing devices and place them by aligning with the direction of a placement base where the mask accommodating containers are placed.
SOLUTION: In the mask conveyance method where a carriage 1 holding the plurality of mask accommodating containers 14 for accommodating a pattern copying mask is connected with a track rail 13 laid between the mask storage device 16 and/or the plurality of substrate processing devices for conveyance, the layout of the plurality of mask accommodating containers 14 is made to match with the laying direction of the track rail 13 while the carriage 1 is traveling. The carriage 1 stops when it reaches a prescribed position, and the carriage 1 is rotated so that the layout of the plurality of mask accommodating containers 14 may match with the layout of the placement base of the mask accommodating containers 14 to place the mask accommodating containers 14 on the placement base.
COPYRIGHT: (C)2003,JPO

Description

【発明の詳細な説明】 DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】 [0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、パターン転写用マスクのマスク搬送装置、マスク搬送システム、及びマスク搬送方法に関する。 TECHNICAL FIELD The present invention is a mask conveying device of the mask for pattern transfer, the mask conveying system, and a mask transfer method. さらに具体的な適用としては、 More specific applications,
半導体製造工場において、パターン転写用マスクを、マスク貯蔵装置や基板処理装置に搬送することを可能とするマスク搬送装置、マスク搬送システムの構造、使用に関するものである。 In the semiconductor manufacturing plant, a mask for pattern transfer, a mask conveying apparatus capable of conveying the mask storage device and a substrate processing apparatus, the structure of the mask conveying system, to the use.

【0002】 [0002]

【従来の技術】図5は、半導体製造工場において、半導体基板を自動搬送するための搬送システムを示す概念図である。 BACKGROUND OF THE INVENTION FIG. 5, in a semiconductor manufacturing factory, is a conceptual view showing a transport system for automatically transferring a semiconductor substrate. OHT(Overhead Hoist Transfer)51は、 OHT (Overhead Hoist Transfer) 51 is
半導体基板を収納したウエハキャリア54を把持し、半導体製造工場内に敷設された軌道レール53を辿って、 Grips the wafer carrier 54 accommodating the semiconductor substrate, by following the track rail 53 laid in the semiconductor manufacturing factory,
所定のストッカー56あるいは基板処理装置57に、ウエハキャリア54を移動する。 A predetermined stocker 56 or the substrate processing apparatus 57, to move the wafer carrier 54.

【0003】OHT51に備えられたホイスト機構52 [0003] The hoist mechanism 52 provided in the OHT51
は、OHT51に把持されて所定の位置に移動したウエハキャリア54を、ストッカー56あるいは基板処理装置57に備えられた載置台55に載置する。 It places the wafer carrier 54 is gripped OHT51 which was moved to a predetermined position, the mounting table 55 provided in the stocker 56 or the substrate processing apparatus 57. 基板処理装置57では、載置台55は、ロードポート装置の一部となっており、このロードポート装置により、ウエハキャリア54内部に収納された半導体基板は取り出され、基板処理装置57の内部に取り込まれる。 In the substrate processing apparatus 57, the mounting table 55 is a part of the load port device, this load port device, a semiconductor substrate which is housed inside the wafer carrier 54 is removed, taken into the substrate processing apparatus 57 It is.

【0004】なお、上述のウエハキャリアの代表例として、SEMI規格でFOUPと呼ばれているものがある。 [0004] Incidentally, as a representative example of the aforementioned wafer carrier, there is what is called a FOUP in SEMI standards. FOUPとは、フロント・オープニング・ユニファイド・ポッド(Front Opening unified pod)の略である。 The FOUP, is an abbreviation of the front opening unified pod (Front Opening unified pod). 詳細な寸法などの情報は、SEMI規格 E52、 Information, such as detailed dimensions, SEMI standards E52,
E1.9、E47.1等に記載されている。 E1.9, are described in such E47.1. また、上述のOHT(Overhead Hoist Transfer)51は、半導体工場のベイ内で、半導体基板を収納したウエハキャリアを搬送する代表的な自動搬送機器である。 Further, the above OHT (Overhead Hoist Transfer) 51, within the semiconductor plant bay, a typical automatic transfer device for transferring the wafer carrier housing a semiconductor substrate.

【0005】半導体装置の製造において、ミクロン単位を扱う微細加工の現場では、温度や湿度による物質の収縮や膨張、またゴミなどの異物の侵入は、大きな問題となる。 [0005] In the manufacture of semiconductor devices, in the field of fine processing to handle microns, contraction and expansion of the substance due to temperature and humidity, also the foreign matter such as dust intrusion becomes a serious problem. 従って半導体装置の製造は、ほとんどの工程が空調を行い、空気中のゴミなどを除去したクリーンルーム内で行われる。 Thus the manufacture of semiconductor devices, most of the process is carried out air-conditioning is carried out in a clean room to remove the dust in the air. このようなクリーンルーム内への人の侵入は、異物の侵入源となるため、抑えることが望ましい。 Such human intrusion into the clean room, since the foreign matter source of intrusion, it is desirable to suppress. 従って、上述のような、自動搬送システムは、半導体製造においては重要な役割を果たすものである。 Therefore, as described above, the automatic conveyor system are those that play an important role in the semiconductor manufacturing.

【0006】また、人手によって、各基板処理装置に運ばれる場合の、ミスを抑え、また、運搬時間を短縮することにより、処理効率を上げるためにも、重要なシステムである。 Furthermore, manually, if carried into the substrate processing apparatuses, reducing the errors, also by reducing the transport time, in order to improve the processing efficiency is an important system. 以上のような観点から、半導体基板の自動搬送システムについては、研究、開発が進められている。 In view of the above, the semiconductor substrate automated conveying systems, research and development has been promoted.

【0007】一方、半導体基板を処理する基板処理装置内で使用されるパターン転写用マスク、具体的には、たとえば縮小投影露光装置内で使用されるレチクルは、現状では、マスク収納容器に収納され、このマスク収納容器ごと、人手により、縮小投影露光装置に設けられたマスク収納容器用の載置台に載置している。 On the other hand, the reticle pattern transfer mask, specifically, as used for example reduction projection exposure apparatus for use in a substrate processing apparatus for processing a semiconductor substrate, at present, is accommodated in the mask container , each mask container, manually, and placed on the stage of the mask container provided reduction projection exposure apparatus. しかし、半導体基板について、自動搬送システムが重要であるのと同様に、異物の侵入防止、処理効率等を考慮すれば、パターン転写用マスクについても、自動搬送が可能となることが好ましい。 However, the semiconductor substrate, in the same manner as it is important automatic transport system, intrusion prevention of the foreign matter, in consideration of the processing efficiency and the like, for the mask pattern transfer, it is preferable that the automatic transport becomes possible.

【0008】 [0008]

【発明が解決しようとする課題】以上説明したように、 As explained in the invention Problems to be Solved] or more,
半導体製造工場内において、パターン転写用マスクについても搬送作業の自動化が望まれている。 In the semiconductor manufacturing factory, automation of the transport work is also desired for the mask pattern transfer. この搬送作業の自動化を実現するためには、上述した半導体基板の自動搬送システムをそのまま応用することが考えられる。 In order to realize automation of the transport task, it is conceivable to directly apply the automatic transport system of the semiconductor substrates described above.
しかし、各基板処理装置に設置された、マスク収納容器の載置台の高さは様々であり、この載置台に対して、正確な位置にマスク収納装置を置くためには、半導体基板の自動搬送システムに加えて、載置位置を大幅に調整できるような手段が必要となる。 However, installed in each substrate processing apparatus, the height of the mounting table of the mask container may vary, with respect to the mounting table, to put the mask storage device in the correct position, the automatic transport of the semiconductor substrate in addition to the system, it is necessary means, such as the placement position can be significantly adjusted.

【0009】また、基板処理装置に設けられた載置台には、複数個のマスク収納容器を載置することが可能となっている。 Further, the mounting table provided in the substrate processing apparatus, it is possible to place a plurality of mask storage container. 従って、これを有効に利用し、円滑にかつ迅速にマスク収納容器の搬送を行うためには、複数個のマスク収納容器を一度に搬送できることが望ましい。 Accordingly, this effectively utilized, in order to smoothly and quickly transported to the mask receiving container, it is desirable to be able to convey a plurality of mask storage container at a time. しかし、基板処理装置に設けられた載置台は、一般には複数の基板処理装置間を繋ぐ方向、即ち、軌道レールの敷設方向に対して、ほぼ垂直な方向に複数並んでいることが多い。 However, the mounting table provided in the substrate processing apparatus is generally the direction that connects between a plurality of substrate processing apparatus, i.e., with respect to the laying direction of the track rail, it is often lined plurality in a direction substantially perpendicular. これに対して、各基板処理装置の載置台にあわせて、複数の軌道レールを敷設して搬送したり、あるいは、複数の軌道レールに垂直な状態に複数個のマスク収納容器を並べて一度に搬送したりする場合には、搬送のために多くのスペースが必要となり、現状の工場、設備の上では問題である。 In contrast, in accordance with the table of the substrate processing apparatus, conveyance plurality or transported by laying track rail, or by arranging a plurality of mask container perpendicular state to a plurality of track rail at a time in the case of or is, a lot of space is required for the transport, the current state of the factory, on top of the equipment is a problem. また、軌道レールの敷設方向に沿って、基板処理装置の載置台の配列全てを変更するような、基板処理装置に対する大掛かりな変更も、コストの面でも好ましくない。 Also, along the laying direction of the track rail, so as to change all sequences of the mounting table of a substrate processing apparatus, even large-scale changes to the substrate processing apparatus, which is not preferable in terms of cost.

【0010】さらに、パターンの微細化、集積化する今日においては、使用されるパターン転写用マスクの種類も様々であることから、これを必要な基板処理装置に誤りなく搬送するためには、搬送作業は、できる限り自動化した状態で行われることが好ましい。 Furthermore, miniaturization of patterns, in today to integrate, to convey without error from that kind of pattern transfer mask used also vary, the substrate processing apparatus need this, transport work is preferably performed in a state of being automated as possible.

【0011】従って、この発明は、コストの面を考慮し、従来の設備を生かしつつ、パターン転写用マスクを自動的に搬送することを可能にすることを目的とする。 Accordingly, the present invention takes into account the cost of the surface, while utilizing conventional equipment, and aims to make it possible to automatically convey the mask pattern transfer.
具体的には、この発明は、基板処理装置に備えられた載置台の配列のまま、大掛かりな変更をすることなく、パターン転写用マスクの収納されたマスク収納容器を複数個、一度に、自動的に搬送することを可能にするマスクの搬送手段を提案するものである。 Specifically, the present invention, while the array of the mounting table provided in the substrate processing apparatus, without a large-scale changes, the stored mask container of the mask for pattern transfer a plurality at a time, automatically It proposes a conveying means of a mask making it possible to convey to.

【0012】 [0012]

【課題を解決するための手段】この発明のマスク搬送装置は、パターン転写用マスクをマスク貯蔵装置及び・又は基板処理装置に搬送するために敷設された軌道レールに、可動に接続され、前記軌道レールを辿って動くことができ、かつ、前記軌道レールに接続される部分を軸としてほぼ水平に回転することができる台車と、パターン転写用マスクを収納することができるマスク収納容器を複数把持するため前記台車に備えられた把持具と、を含むものである。 Means for Solving the Problems] mask transport apparatus of the present invention, in the laid track rails for conveying the mask pattern transferred to the mask storage device and, or the substrate processing apparatus, is connected to the movable, said track rail can move by following the, and, a plurality gripping the truck can rotate substantially horizontally, the mask storage container capable of accommodating a mask for pattern transfer portions connected to the track rail as the shaft a gripper provided on said carriage for those comprising a.

【0013】また、この発明のマスク搬送装置は、前記台車が、前記複数の把持具の配列方向が、前記軌道レールの敷設方向に沿う第一の状態で、前記レールを辿るようにしたものである。 [0013] The mask conveying apparatus according to the present invention, the truck, the arrangement direction of the plurality of gripper, in a first state along the laying direction of the track rail, which has to follow a said rail is there.

【0014】また、この発明のマスク搬送装置は、前記把持具が、前記マスク貯蔵装置及び・又は前記基板処理装置と、前記台車との間で、前記マスク収納容器を授受するための授受手段を含むものである。 [0014] The mask conveying apparatus according to the present invention, the gripper, and the mask storage device and, or the substrate processing apparatus, to and from the carriage, the transfer means for transferring the mask container it is intended to include.

【0015】また、この発明のマスク搬送装置は、前記台車を、前記マスク貯蔵装置及び・又は前記基板処理装置に対する所定の位置に停止させ、所定の角度回転させることのできる制御手段を備えるものである。 Further, the mask conveying apparatus of the invention, the carriage, the stopping in position with respect to the mask storage device and, or the substrate processing apparatus, in which a control means capable of predetermined angular rotation is there.

【0016】次に、この発明のマスク搬送システムは、 [0016] Next, the mask transport system of the present invention,
複数のパターン転写用マスクを収納することができるマスク収納容器を、マスク貯蔵装置及び・又は複数の基板処理装置との間で搬送するための軌道レールと、前記軌道レールに可動に接続され、前記軌道レールを辿って動くことのでき、かつ、前記軌道レールに接続される部分を軸としてほぼ水平に回転することができる台車と、複数のマスク収納容器を把持するため前記台車に備えられた複数の把持具と、前記マスク貯蔵装置及び・又は基板処理装置に備えられ、前記マスク収納容器を載置するための載置台と、前記載置台と前記台車との間で、前記マスク収納容器を前記把持具により授受する授受手段と、 The mask container capable of accommodating a plurality of pattern transfer mask, a track rail for transporting between the mask storage device and, or a plurality of substrate processing apparatus, is connected to the movable to the track rail, the more can of be moved following the track rail, and which is provided with a portion to be connected to the track rail and carriage can rotate substantially horizontally as the shaft, the carriage for gripping a plurality of mask storage container and grippers, provided in the mask storage device and, or the substrate processing apparatus, wherein a mounting table for mounting a mask container, between the mounting table and the carriage, the said mask container and transfer means for transferring the gripper,
を含むものである。 It is intended to include.

【0017】また、この発明のマスク搬送システムは、 [0017] In addition, the mask transport system of the present invention,
前記複数の把持具の配列方向が、前記軌道レールを辿る場合には、前記軌道レールの敷設方向に沿う第一の状態となり、前記載置台に載置される場合には、前記載置台に沿った第二の状態となるように前記台車の回転を制御する制御手段を備えたものである。 Arrangement direction of the plurality of gripper, when follow the track rail becomes the first state along the laying direction of the track rail, when placed on the mounting table is along the mounting table and those having a control unit for controlling the rotation of the carriage so that the second state.

【0018】また、この発明のマスク搬送システムは、 [0018] In addition, the mask transport system of the present invention,
前記制御手段は、前記台車を、前記載置台に対する所定の位置に停止させるものである。 It said control means, said carriage is intended to stop at a predetermined position relative to the mounting table.

【0019】また、この発明のマスク搬送システムは、 [0019] In addition, the mask transport system of the present invention,
前記制御手段は、前記台車が前記載置台に対する所定の位置に来たことを自動的に検出して前記台車を停止させ、この検出に伴って、前記台車を前記第二の状態になるように自動的に回転させるものである。 The control unit automatically detects stopping the carriage by that come to a predetermined position the bogie for the mounting table, along with this detection, so that the carriage to the second state it is intended to automatically rotate.

【0020】次に、この発明のマスク搬送方法は、マスク貯蔵装置及び・または複数の基板処理装置の間に敷設された軌道レールを介して、一台の台車により、パターン転写用マスクを収納するためのマスク収納容器を複数把持して搬送し、前記マスク貯蔵装置及び・又は、前記複数の基板処理装置に対して、前記マスク収納容器を授受するマスク搬送方法において、前記台車の移動時には、前記複数のマスク収納容器の配列が、前記軌道レールの敷設方向に沿う第一の状態にし、前記台車が前記マスク貯蔵装置及び・又は前記複数の基板処理装置に対する所定位置に来たときに停止させ、前記複数のマスク収納容器の配列が、前記マスク貯蔵装置及び・又は前記複数の基板処理装置に備えられた載置台の配置に沿う第二の状態に前記台車を Next, a mask transfer method of the present invention, through the laid track rail between the mask storage device and, or a plurality of substrate processing apparatus, the single bogie, housing a mask for pattern transfer the mask container conveys a plurality grip for the mask storage device and, or, to the plurality of substrate processing apparatus, the mask transfer method for exchanging the mask container, during the movement of the carriage, the array of mask storage container, the first state along the laying direction of the track rail, is stopped when it came to the predetermined position relative to the bogie said mask storage device and, or the plurality of substrate processing apparatus, sequence of said plurality of mask storage container, said carriage in a second state along the mask storage device and, or placement of the mounting table provided in the plurality of substrate processing apparatus 転させ、前記マスク収納容器を授受するようにしたものである。 It is rolling, in which so as to transfer the mask container.

【0021】また、この発明のマスク搬送方法は、前記台車の停止及び回転は、自動的に行うことを特徴とする請求項9に記載のマスク搬送方法。 [0021] The mask transfer method of the present invention, stops and rotation of the carriage, mask transport method according to claim 9, characterized in that automatically.

【0022】 [0022]

【発明の実施の形態】以下図面を参照して、この発明の実施の形態について説明する。 Referring to DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Hereinafter drawings will be described embodiments of the present invention. なお、各図において、同一または相当する部分には同一符号を付してその説明を省略ないし簡略化する。 In the drawings, the same or corresponding portions is omitted or simplified thereof are denoted by the same reference numerals.

【0023】実施の形態図1は、この発明の実施の形態におけるマスク搬送システムについて説明するための図であり、図1(a)は、斜視図、図1(b)は、上面図である。 [0023] The embodiment Figure 1 embodiment is a view for explaining mask transport system according to an embodiment of the present invention, FIG. 1 (a) is a perspective view, and FIG. 1 (b) is a top view .

【0024】図1において、200は、マスク搬送システム、100は、マスク搬送装置、14は、マスク収納容器を示す。 [0024] In FIG. 1, 200, the mask conveyance system, 100, a mask conveying device, 14 denotes a mask container. マスク収納容器14には、パターン転写用マスクであるレチクルが収納され、マスク収納容器14 The mask container 14, a reticle is a mask for pattern transfer is housed, mask storage container 14
は、マスク搬送装置100によって搬送される。 It is conveyed by the mask conveying apparatus 100. このようにレチクルを収納するマスク収納容器14には、代表的なものとして、レチクルSMIFポッドがある。 The mask container 14 for accommodating this manner the reticle, as a typical, there is a reticle SMIF pod. ここで、SMIFとは、Standard Mechanical Interfaceの略で、詳細な寸法などの情報は、SEMI規格E19に記載されている。 Here, the SMIF, stands for Standard Mechanical Interface, the information such as the detailed dimensions are described in the SEMI standard E19.

【0025】16は、マスク貯蔵装置であるレチクルストッカーである。 [0025] 16 is a reticle stocker is a mask storage device. 17は、基板処理装置であり、ここでは、運ばれてきたレチクルを使用して基板を処理する縮小投影露光装置である。 17 is a substrate processing apparatus, here is a reduction projection exposure apparatus for processing a substrate using a reticle that has been carried. また、15Aは、マスク貯蔵装置16に備えられた載置台、15Bは、縮小投影露光装置17に備えられた載置台を示す。 Also, 15A is table, 15B provided in the mask storage device 16 indicates a mounting table provided in the reduced projection exposure apparatus 17. 13は、マスク収納容器14に収納されたレチクルを、レチクルストッカー16と縮小投影露光装置17との間で搬送するために敷設された軌道レールを示す。 13 shows a reticle housed in the mask container 14, a laid down by the track rail to transport between the reticle stocker 16 and the reduced projection exposure apparatus 17.

【0026】また、51は、半導体基板の自動搬送機器であるOHTであり、53は、半導体基板を搬送するため敷設された軌道レールを示す。 Further, 51 is an OHT is an automatic conveying device of the semiconductor substrate, 53 denotes a laid down by track rails for transporting the semiconductor substrate. また、54は、半導体基板を収納したウエハキャリア、57は、半導体基板にレジストを塗布するための塗布装置、55は、塗布装置57に備えられた載置台を示す。 Further, 54 is a wafer carrier housing a semiconductor substrate, 57, a coating apparatus for applying a resist on a semiconductor substrate, 55 denotes a mounting table provided in the coating apparatus 57. 塗布装置57は、縮小投影露光装置17と繋がっていて、塗布装置57においてレジストの塗布された半導体基板は、縮小投影露光装置17に送られるようになっている。 Coating device 57, have led a reduction projection exposure apparatus 17, a resist coated semiconductor substrate in the coating apparatus 57, it is sent to the reduction projection exposure apparatus 17.

【0027】図2は、この発明の実施の形態における、 [0027] Figure 2, in the embodiment of the present invention,
マスク搬送装置100の移動時の状態を説明するための図であり、図2(a)は正面図、図2(b)は、側面図、図2(c)は、上面図である。 Is a diagram for explaining a state when the movement of the mask conveying apparatus 100, FIG. 2 (a) is a front view, FIG. 2 (b) is a side view, FIG. 2 (c) is a top view.

【0028】図2において、1は、台車であり、2は、 [0028] In FIG. 2, 1 is a truck, 2,
台車1に備えられた把持具、4は、接続部を示し、これは台車1に含まれる部分である。 A provided gripper to the cart 1, 4 denotes a connecting portion, which is a portion included in the carriage 1. 把持具2は、1台の台車1に2つ備えられ、この2つの把持具2によって2つのマスク収納容器14が把持され、台車1に吊持される。 Gripper 2 is provided two in one carriage 1, by the two grippers 2 are two mask storage container 14 is gripped, it is suspended in the cart 1. また、台車1は、接続部4によって、軌道レール1 Also, carriage 1, the connecting portion 4, the track rail 1
3に可動に接続され、これによって、台車1は、軌道レール13を辿って、移動することができる。 3 is connected to the movable, whereby, carriage 1 can follow a track rail 13, to move. また、台車1は、接続部4を軸として、ほぼ水平に回転することができるようになっている。 Also, carriage 1, the connecting portion 4 as an axis, so that it can rotate substantially horizontally.

【0029】図2に示される状態は、マスク搬送装置1 The state shown in FIG. 2, the mask conveying apparatus 1
00の移動中の状態であり、台車1は、2つの把持具2 00 is a state during the movement of the bogie 1, two grippers 2
及びこれに把持されるマスク収納容器14の配列が、軌道レール13の敷設方向に沿うような方向になっている。 And the sequence of mask storage container 14 to be grasped in this, which is in a direction along the laying direction of the track rail 13. この台車1の状態を、この明細書において、第一の状態という。 The state of the carriage 1, in this specification, referred to as a first state. なお、ここでは、2つの把持具2を1台に備えた台車1を用いるが、これに限るものではなく、2 Here, two grippers 2 using the dolly 1 with the one but not limited to, 2
つのマスク収納容器14を把持できる1つの把持具を備えた台車を用いても良い。 One of the truck may be used with one of the gripping tools of the mask container 14 can be grasped.

【0030】図3は、この発明の実施の形態における、 [0030] Figure 3, in the embodiment of the present invention,
マスク搬送装置100において、マスク収納容器14を授受する際の状態を示す図であり、図3(a)は正面図、図3(b)は側面図である。 In the mask conveying apparatus 100 is a diagram showing a state at the time of exchanging the mask storage container 14, FIG. 3 (a) is a front view, FIG. 3 (b) is a side view. 図3において、3は、 3, 3,
台車1と載置台15Aまたは15Bとの間で、マスク収納容器14を授受する際に用いられる授受手段としての昇降ロープを示す。 Between the carriage 1 and the mounting table 15A or 15B, showing the elevator rope as transfer means to be used for exchanging the mask storage container 14. 昇降ロープ3は、把持具2に含まれ、マスク搬送装置100移動時の第一の状態では、図2に示すように、把持具2内部に収納された状態となっていて、マスク収納容器14を載置台15に移載する場合にのみ、図3に示すように伸びた状態で使用される。 Lifting ropes 3 are included in the gripper 2, in a first state during the mask conveying apparatus 100 moves, as shown in FIG. 2, though in a state of being housed in the gripper 2, the mask container 14 only when transferring the stage 15, it is used in an extended state as shown in FIG.

【0031】ここで、マスク搬送装置100の停止、及び昇降ロープ3の降下の開始及び停止は、マスク搬送装置100に備えられた制御手段(図示せず)によって、 [0031] Here, stop of the mask conveying apparatus 100, and the start and stop of the descent of the lifting rope 3, the control means provided in the mask conveying apparatus 100 (not shown),
制御される。 It is controlled. 制御手段は、レチクルストッカー16あるいは縮小投影露光装置17に対応して軌道レールに備えられたバーコードを読み取ることにより、停止するレチクルストッカー16あるいは縮小投影露光装置17の位置と載置台15Aまたは15Bの高さ等の必要な情報を入手することができる。 Control means, by reading the bar code provided in the track rail so as to correspond to the reticle stocker 16 or a reduction projection exposure apparatus 17, the position and the mounting table 15A or 15B of the reticle stocker 16 or a reduction projection exposure apparatus 17 is stopped the necessary information such as the height can be obtained. この情報により、制御手段は、 This information, control means,
マスク搬送装置100を、レチクルストッカー16あるいは所定の縮小投影露光装置17の適切な位置に停止させ、さらに、昇降ロープ3を降ろして載置台15Aまたは15Bの高さにあわせてこの昇降ロープ3を止める。 The mask conveying apparatus 100, is stopped at the proper position of the reticle stocker 16 or a predetermined reduction projection exposure apparatus 17, further, stops the elevator rope 3 in accordance with the height of the mounting table 15A or 15B to lower the lifting ropes 3 .
これによって、レチクルストッカー16あるいは各縮小投影露光装置17に備えられた高さの様々に異なる載置台15A及び15Bに対しても、マスク収納容器の自動搬送を行うことができる。 Thus, even for a variety of different table 15A and 15B of the height provided in the reticle stocker 16 or the reduction projection exposure apparatus 17, it is possible to perform automatic transfer of a mask container.

【0032】図4は、台車1が載置台15Bの配列方向にあわせて回転した状態を示す図であり、図4(a)は回転前の状態を示す正面図、図4(b)は回転後の状態を示す側面図、図4(c)は、回転後の状態を示す上面図である。 [0032] FIG. 4 is a diagram showing a state where the carriage 1 is rotated in accordance with the arrangement direction of the table 15B, FIGS. 4 (a) is a front view showing a state before the rotation, FIG. 4 (b) Rotation side view showing a state after FIG. 4 (c) is a top view showing a state after the rotation. 図4(a)に示すように、回転前は、マスク搬送装置100は、第一の状態にある。 As shown in FIG. 4 (a), pre-rotation, the mask conveying apparatus 100 is in a first state. この実施の形態では、載置台15Bの配列方向は、軌道レール13に対して垂直になっている。 In this embodiment, the arrangement direction of the mounting table 15B is perpendicular with respect to the track rail 13. 従って、載置台15Bの付近に移動した台車1は、90度回転して、図4(b)あるいは図4(c)に示すような状態になる。 Accordingly, carriage 1 is moved to the vicinity of the mounting table 15B is rotated 90 degrees, a state as shown in FIG. 4 (b) or FIG. 4 (c). この状態において、2つの把持具2及びマスク収納容器14の配列は、 In this state, the sequence of the two grippers 2 and mask storage container 14,
載置台15の配列方向に沿う状態である。 A state along the arrangement direction of the mounting table 15. なお、この明細書においてこの状態を、第二の状態という。 Incidentally, the state in this specification, referred to as a second state.

【0033】ここで、回転の開始、及び停止、また、回転する角度の制御は、上述の制御手段によって、行われる。 [0033] Here, the start of the rotation, and stop, also, control of the angle of rotation by the above-mentioned control unit, is performed. 上述したように制御手段は、軌道レール13に備えられたバーコードから、載置台15Aまたは15B配列方向等の情報を入手する。 Control means as described above, the bar code provided in the track rail 13, to obtain information such as the table 15A or 15B array direction. この情報は、制御手段に伝えられ、制御手段は、昇降ロープ3の降下の停止に続けて、台車1の回転を開始し、伝えられた情報から、マスク搬送装置100が第二の状態になるために必要な角度、台車1を回転させ、その後回転を停止する。 This information is transmitted to the control means, the control means, following the drop of the stopping of the lifting rope 3, starts rotation of the carriage 1, from transmitted The information, mask transport device 100 is in the second state rotate the angle trolley 1 necessary to stop the subsequent rotation.

【0034】なお、この実施の形態において、接続部4 [0034] Incidentally, in this embodiment, the connecting portion 4
を含む台車1、把持具2、昇降ロープ3及び制御手段を含んで、マスク搬送装置100が構成される。 Trolley 1 comprising a grasper 2, includes a lifting rope 3, and a control unit, a mask conveying device 100 is configured. また、マスク搬送装置100、軌道レール13、及び載置台15 The mask conveying apparatus 100, the track rail 13 and the mounting table 15,
A、15Bを含んでマスク搬送システム200が構成される。 A, mask transport system 200 configured to include a 15B.

【0035】次に、この実施の形態におけるレチクルの搬送方法を示す。 [0035] Next, a method of transporting the reticle in this embodiment. 台車1は、接続部4を介して、軌道レール13に可動に接続される。 Carriage 1 via the connecting portion 4 is connected to the movable track rail 13. レチクルは、マスク収納容器14の中に収納され、レチクルの収納されたマスク収納容器14が、レチクルストッカー16内部に収納されている。 The reticle is housed in a mask storage container 14, the mask container 14 which is accommodated in the reticle are housed in the reticle stocker 16. このレチクルストッカー16から所定のレチクルが収納されたマスク収納容器14が2つ選択され、 The reticle stocker 16 mask storage container 14 in which a predetermined reticle is accommodated from is two selected,
レチクルストッカー16の載置台15Aに載置される。 It is placed on the stage 15A of the reticle stocker 16.
あるいは、レチクルがレチクルストッカー16に直接収納されている場合がある。 Alternatively, there is a case where the reticle is housed directly in the reticle stocker 16. この場合、必要なレチクルが、レチクルストッカー16から取り出され、ロードポートシステムなどを用いて、載置台15Aに載置されたマスク収納容器14に収納される。 In this case, the necessary reticle is removed from the reticle stocker 16, by using a load port system is accommodated in the mask container 14 mounted on the mounting table 15A.

【0036】軌道レール13に備えられたバーコード(図示せず)から、制御手段によって、レチクルストッカー16の位置及び載置台15Aの高さ、配列方向等の情報が読み取られる。 [0036] From provided the track rail 13 bar code (not shown), by the control means, the height of the position and the mounting table 15A of the reticle stocker 16, information such as the arrangement direction are read.

【0037】制御手段は、この読み取った情報により、 The control means, by the read-out information,
マスク搬送装置100をレチクルストッカー16の上部の適切な位置に停止し、把持具2に備えられた昇降ロープ3を降ろし、この昇降ロープ3を適切な位置で止める。 Stop the mask conveying apparatus 100 in the proper position above the reticle stocker 16, down the lifting ropes 3 provided in the gripper 2, stop this lifting rope 3 in place. なお、ここでは、図1(b)に示すように、載置台15Aの配置と、台車1に備えられた把持具2の配置は同じ方向である。 Here, as shown in FIG. 1 (b), the arrangement of the mounting table 15A, the arrangement of the grippers 2 provided in the carriage 1 is in the same direction. 従って、台車1の回転は行われない。 Thus, the rotation of the bogie 1 is not performed.
しかし、バーコードから読み取った配列方向の情報から判断して、把持具2の配列方向が載置台15Aの配列方向に沿う第二の状態となるため、回転が必要な場合には、制御手段は、台車1を適切な角度回転する。 However, judging from the arrangement direction of the information read from the bar code, since the second state along the arrangement direction of the arrangement direction table 15A of the gripper 2, when the rotation is required, the control means the trolley 1 is suitable angle.

【0038】把持具2から昇降ロープ3が適切な位置に降ろされると、2つのマスク収納容器14は、それぞれ、把持具2によって、把持され、その後昇降ロープ3 [0038] When the lifting ropes 3 from gripper 2 is lowered in position, the two mask container 14, respectively, by gripper 2 is gripped, subsequently lifting ropes 3
は引き上げられる。 It is raised. 昇降ロープ3は、把持具2の内部に取り込まれた状態になり、軌道レール13の敷設方向と同じ方向に、2つの把持具2及びマスク収納容器14の配列は固定される。 Lifting ropes 3 is made in the state they were taken in the gripper 2, in the same direction as the laying direction of the track rail 13, the sequence of the two grippers 2 and mask storage container 14 is fixed. このようにして、マスク搬送装置1 In this way, the mask conveying apparatus 1
00は、図2に示す移動時の状態、即ち、第一の状態になる。 00, the movement time in the state shown in FIG. 2, i.e., the first state.

【0039】次に、マスク搬送装置100は、第一の状態を維持して、軌道レール13を辿って移動する。 Next, a mask conveying device 100 maintains a first state, to move following the track rail 13. マスク搬送装置100に備えられた制御手段は、所定の縮小投影露光装置17に対応して軌道レールに備えられたバーコードから、その縮小投影露光装置17の位置及び載置台15Bの高さ、配列方向等の情報を読み取る。 Control means provided in the mask conveying apparatus 100, from the bar code provided in the track rail so as to correspond to a predetermined reduction projection exposure apparatus 17, the height of the position and the mounting table 15B of the reduction projection exposure apparatus 17, sequence read the information on the direction and the like.

【0040】ここで、読み取られた載置台15Bの位置及び高さについての情報により、制御手段は、マスク搬送装置100を適切な位置で停止させた後、昇降ロープ3の降下を開始し、載置台15B付近まで降ろし、適切な高さで停止する。 [0040] Here, the information about the position and height of the read table 15B, the control means, after stopping the mask conveying apparatus 100 in place, to start the descent of the lifting rope 3, the mounting down to the vicinity of the table 15B, it stops at the appropriate height. この停止に続いて、制御手段は、台車1の回転を開始する。 Following this stop, the control means starts rotation of the bogie 1. 制御手段は、配列方向の情報から、マスク収納容器14の配列が、載置台15Bの配列に沿う第二の状態になるように、台車1を回転させた後、回転を停止する。 Control means, the arrangement direction of the information, the sequence of mask storage container 14, so that the second state along the sequence of the table 15B, after rotating the carriage 1 stops rotation. ここでは、軌道レール13の敷設方向に対して、載置台15は垂直になっているので、台車1は、90度回転する。 Here, with respect to the laying direction of the track rail 13, since the table 15 is in the vertical, carriage 1 rotates 90 degrees. この第二の状態において、制御手段は、再び、昇降用ロープ3を下ろし、載置台15 In this second state, the control means is again lower the lifting ropes 3, the mounting table 15
Bの高さ合わせてマスク収納容器14の高さを正確に調整する。 Precisely adjust the height of the mask storing container 14 to fit the height of the B. その後、マスク収納容器14は、把持具2から放され、載置台15Bの適切な位置に載置される。 Thereafter, the mask container 14 is released from the gripper 2 is placed in position of the table 15B.

【0041】載置台15に載置されたマスク収納容器1 [0041] placed on the stage 15 has been mask storage container 1
4は、必要に応じて、縮小投影露光装置17内部に取り込まれる。 4 is optionally taken into a reduction projection exposure apparatus 17.

【0042】一方、ウエハキャリア54に収納された半導体基板は、OHT51により軌道レール53を辿って、塗布装置57に備えられた載置台55に載置される。 On the other hand, the semiconductor substrate placed in the wafer carrier 54 follows the track rail 53 by OHT51, is placed on the stage 55 provided in the coating apparatus 57. この載置台55からロードポート装置(図示せず) From this table 55 load port device (not shown)
によって、塗布装置57内部に半導体基板が取り込まれる。 Accordingly, the semiconductor substrate is taken into the coating apparatus 57. 半導体基板は、塗布装置57で、レジストを塗布され、この半導体基板は、塗布装置57から、縮小投影露光装置17内部に収納される。 Semiconductor substrate, the coating apparatus 57, a resist is applied, the semiconductor substrate from the coating apparatus 57, is housed inside a reduction projection exposure apparatus 17. 縮小投影露光装置17において、自動搬送されたレチクルを用いて、レジストの塗布された半導体基板に、露光処理を行う。 In reduction projection exposure apparatus 17, using an automated conveying reticle, the coated semiconductor substrate in the resist, performing an exposure process.

【0043】なお、ここでは、レチクルストッカー16 [0043] Here, the reticle stocker 16
から、マスク収納容器14が、所定の基板処理装置17 From mask storage container 14, a predetermined substrate processing apparatus 17
に搬送される場合を例にとって説明したが、これに限らず、投影露光装置において、使用され、不要となったレチクルを収納したマスク収納容器14を投影露光装置1 The case to be conveyed has been described as an example, the present invention is not limited to this, in the projection exposure apparatus is used, the projection exposure apparatus a mask container 14 accommodating the reticle that has become unnecessary 1
7から受け取り、レチクルストッカー16に搬送して戻す場合も使用することができる。 Receiving from 7, it can also be used to return to convey the reticle stocker 16.

【0044】また、2つの把持具2を備える台車1を用いてマスク収納容器の受け渡しと、受け取りの授受の作業を同時に行っても良い。 [0044] Also, the transfer of the mask container with the dolly 1 with two grippers 2 may be performed simultaneously work exchange receipt. 即ち、一方の把持具2で、マスク収納容器14を把持して搬送して、これを縮小投影露光装置17に載置する。 That is, in one gripper 2, and conveyed by gripping the mask storage container 14 is placed it in the reduction projection exposure apparatus 17. これと同時に、他方の把持具2で、縮小投影露光装置17において、不要となったレチクルを収納したマスク収納容器14を受け取り、これをレチクルストッカー16に戻すことにより、授受の作業を同時に行っても良い。 At the same time, the other gripper 2, the reduction projection exposure apparatus 17 receives the mask container 14 accommodating the reticle that has become unnecessary, which by returning to the reticle stocker 16, working on transfer at the same time it may be.

【0045】また、ここでは、レチクルを縮小投影露光装置17あるいはレチクルストッカー16に搬送する場合について説明したが、縮小投影露光装置17に対するレチクルの搬送に限るものではなく、他の装置に、その装置において使用するパターン転写用マスクを搬送する場合であっても良い。 Further, here, there has been described a case where conveying a reticle to a reduction projection exposure apparatus 17 or a reticle stocker 16 is not limited to the transport of the reticle relative to a reduction projection exposure apparatus 17, to another device, that device it may be a case of transporting the pattern transfer mask used in the. さらに、載置台の配列方向と、軌道レールの敷設方向とが一致しない装置に、基板を搬送する場合などにも用いることができる。 Furthermore, the arrangement direction of the table, the device comprising a laying direction of the track rail do not match, can be used for example, to convey the substrate.

【0046】さらに、ここでは、台車に2つの把持具2 [0046] Further, here, two grippers to cart 2
を備えた場合を説明したが、載置台15に載置できるマスク収納容器の個数に合わせて、1または2以上の把持具を備えているものであっても良い。 A case has been described with the in accordance with the number of mask storage container can be placed on the mounting table 15, or may be provided with one or more grippers. 3個以上のマスク収納容器14を把持して搬送する場合でも、上述の第一の状態で搬送した後、載置台の上部で、その載置台の配列に合わせて台車を回転すれば、搬送のために要するスペースは、マスク収納容器を2個把持したときと大きく変らないため、問題がない。 Even when carrying three or more mask storage container 14 the grasped, after the transport in the first state described above, at the top of the table, if the rotation of the bogie in accordance with the sequence of the mounting table, the transport space required for, since unchanged large as when the mask container and two grasping, there is no problem.

【0047】また、ここでは、軌道レールと載置台15 Further, here, the mounting table and the track rail 15
Bの配列が90度の場合、即ち、台車1を90度回転させる場合について説明したが、これに限るものではなく、台車1は、載置台の配列にあわせて、0〜360度の角度を回転することができる。 If the sequence of B is 90 degrees, i.e., the description has been given of the case of rotating the bogie 1 90 degrees, not limited to this, carriage 1, in accordance with the arrangement of the mounting table, the angle of 0 to 360 degrees it can be rotated.

【0048】さらに、ここでは、マスク搬送装置100 [0048] In addition, here, the mask transport apparatus 100
が制御手段を備える場合について説明したが、制御手段を有する場合に限るものではない。 Although There has been described a case where a control means is not limited if it has a control means. また、制御手段は、 In addition, the control means,
軌道レール13に備えられたバーコードを読み取ることにより、載置台の位置、高さ、配列等の情報を入手し、 By reading a bar code provided in the guide rail 13, the position of the mounting table, the height, the information sequence, and the like to obtain,
台車1を自動的に停止し、また回転させた。 Automatically stops the carriage 1 and is rotated. しかし、このような制御手段に限るものでもなく、予め、マスク搬送装置100に停止位置、停止高度、回転角度などを記憶させておくものや、また、遠隔操作により、外部から制御するものであっても良い。 However, neither those limited to such a control unit, in advance, the stop position in the mask conveying apparatus 100, and those allowed to store stopped altitude, such as the angle of rotation a, also by remote control, be those externally controlled and it may be.

【0049】 [0049]

【発明の効果】以上説明したように、この発明によれば、各基板処理装置によって、異なる高さ、及び異なる配列となっている載置台に対応させて、パターン転写用マスクを自動搬送することができる。 As described in the foregoing, according to the present invention, the respective substrate processing apparatuses, different heights, and in correspondence to it and mounting table becomes different sequences, to automatically convey a mask for pattern transfer can. 従って、パターン転写用マスクを、人手によって運ぶ必要がなく、異物の発生を抑えることができる。 Thus, a mask for pattern transfer, there is no need to carry manually, it is possible to suppress the generation of foreign matter. また、従来の基板処理装置側の大幅な変更を必要としないため、コストを抑えることが可能である。 Moreover, since it does not require significant changes in the conventional substrate processing apparatus, it is possible to suppress the cost.

【0050】また、この発明によれば、台車に把持されるマスク収納容器は、搬送時には軌道レールの敷設方向に沿った状態を保って搬送される。 [0050] According to the present invention, the mask container to be grasped in the carriage, at the time of conveyance is conveyed while maintaining a state along the laying direction of the track rail. 従って、マスク収納容器を1つ搬送する場合と同じスペースで、複数のマスク収納容器を同時に搬送することができ、短時間の処理が可能である。 Accordingly, in the same space as when transporting one mask container may carry multiple masks container simultaneously, it is possible to short the process. また、このように複数のマスク収納容器を載置台に載置する場合にも、載置台の配列に合わせて、台車を回転するだけでよいので、搬送のための時間を短時間に抑えることができる。 Moreover, even if this manner is placed on the mounting table a plurality of mask storage container, in accordance with the arrangement of the mounting table, it is only rotating the bogie, it is kept to a short period of time for the transport it can.

【0051】さらに、この発明によれば、載置台の位置、高さ、配列は、自動的に読み取られ、台車は、自動的に必要な場所に停止し、自動的に回転してマスク収納容器は、授受される。 [0051] Further, according to the present invention, the mounting position of the table, the height, the sequence, automatically read, truck stops automatically where necessary, a mask container rotates automatically It is exchanged. 従って、人手による作業の場合に比べて、パターン転写用マスクを誤って搬送することを防ぎ、より正確かつ効率の良い搬送を行うことが可能である。 Therefore, as compared with the case of manual work, it prevents transporting incorrectly mask pattern transfer, it is possible to perform a more accurate and efficient conveyance.

【図面の簡単な説明】 BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS

【図1】 この発明の実施の形態におけるマスク搬送システムについて説明するための図である。 1 is a diagram for explaining a mask transport system in the embodiment of the present invention.

【図2】 この発明の実施の形態における、マスク搬送装置の移動時の状態を説明するための図である。 [Figure 2] in the embodiment of the present invention, it is a diagram for explaining a state when the movement of the mask conveying apparatus.

【図3】 この発明の実施の形態における、マスク搬送装置において、マスク収納容器を授受する際の状態を示す図である。 [3] in the embodiment of the present invention, the mask conveying apparatus, showing a state at the time of exchanging the mask container.

【図4】 この発明の実施の形態における、マスク搬送装置において、台車が載置台の配列方向にあわせて回転した状態を示す図である。 [4] in the embodiment of the present invention, the mask conveying apparatus, showing a state in which the truck is rotated in accordance with the arrangement direction of the table.

【図5】 半導体製造工場において、半導体基板を自動搬送するための搬送システムを示す概念図である。 In Figure 5 the semiconductor manufacturing plant is a conceptual diagram illustrating a conveying system for automatically transferring a semiconductor substrate.

【符号の説明】 DESCRIPTION OF SYMBOLS

100 マスク搬送装置 200 マスク搬送システム 1 台車 2 把持具 3 昇降ロープ 4 接続部 13 軌道レール 14 マスク収納容器 15 載置台 16 マスク貯蔵装置(レチクルストッカー) 17 基板処理装置(縮小投影露光装置) 51 OHT 52 ホイスト機構 53 軌道レール 54 ウエハキャリア 55 載置台 56 ウエハ貯蔵装置(ストッカー) 57 基板処理装置 100 mask transport device 200 mask conveying system 1 truck 2 gripper 3 lifting rope 4 connection 13 guide rail 14 mask container 15 stand 16 mask storage device (reticle stocker) 17 substrate processing apparatus (reduction projection exposure apparatus) 51 OHT 52 mounting the hoist mechanism 53 track rail 54 wafer carrier 55 table 56 the wafer storage device (stocker) 57 substrate processing apparatus

フロントページの続き Fターム(参考) 5F031 CA02 CA07 DA08 DA12 DA17 EA14 FA03 FA07 FA09 FA15 GA12 GA19 GA36 GA58 JA49 MA06 MA26 MA27 PA02 5F046 AA21 CD02 CD04 Front page of the continued F-term (reference) 5F031 CA02 CA07 DA08 DA12 DA17 EA14 FA03 FA07 FA09 FA15 GA12 GA19 GA36 GA58 JA49 MA06 MA26 MA27 PA02 5F046 AA21 CD02 CD04

Claims (10)

    【特許請求の範囲】 [The claims]
  1. 【請求項1】 パターン転写用マスクをマスク貯蔵装置及び・又は基板処理装置に搬送するために敷設された軌道レールに、可動に接続され、前記軌道レールを辿って動くことができ、かつ、前記軌道レールに接続される部分を軸としてほぼ水平に回転することができる台車と、 パターン転写用マスクを収納することができるマスク収納容器を複数把持するため前記台車に備えられた把持具と、 を含むことを特徴とするマスク搬送装置。 To 1. A track rail laid pattern transfer mask to carry the mask storage device and, or the substrate processing apparatus, is connected to the movable, it can be moved by following the guide rail, and wherein a carriage which can be rotated substantially horizontally portion connected to the track rail as an axis, and a gripper provided on said carriage to a plurality grasp the mask storage container capable of accommodating a mask for pattern transfer, the mask transport apparatus which comprises.
  2. 【請求項2】 前記台車は、前記複数の把持具の配列方向が、前記軌道レールの敷設方向に沿う第一の状態で、 Wherein said bogie arrangement direction of the plurality of gripper, in a first state along the laying direction of the track rail,
    前記レールを辿るようにしたことを特徴とする請求項1 Claim 1, characterized in that it has to follow the rail
    に記載のマスク搬送装置。 Mask transport apparatus according to.
  3. 【請求項3】 前記把持具は、前記マスク貯蔵装置及び・又は前記基板処理装置と、前記台車との間で、前記マスク収納容器を授受するための授受手段を含むことを特徴とする請求項1または2に記載のマスク搬送装置。 Wherein said gripper, said mask storage device and, or the substrate processing apparatus, to and from the carriage, claims, characterized in that it comprises transfer means for transferring the mask container mask transport apparatus according to 1 or 2.
  4. 【請求項4】 前記台車を、前記マスク貯蔵装置及び・ Wherein said carriage, said mask storage device and,
    又は前記基板処理装置に対する所定の位置に停止させ、 Or stopped at a predetermined position relative to the substrate processing apparatus,
    所定の角度回転させることのできる制御手段を備えることを特徴とする請求項1から3のいずれかに記載のマスク搬送装置。 Mask transport apparatus according to any one of claims 1 to 3, characterized in that it comprises a control means capable of predetermined angular rotation.
  5. 【請求項5】 複数のパターン転写用マスクを収納することができるマスク収納容器を、マスク貯蔵装置及び・ 5. The mask container capable of accommodating a plurality of pattern transfer mask, a mask storage device and,
    又は複数の基板処理装置との間で搬送するための軌道レールと、 前記軌道レールに可動に接続され、前記軌道レールを辿って動くことのでき、かつ、前記軌道レールに接続される部分を軸としてほぼ水平に回転することができる台車と、 複数のマスク収納容器を把持するため前記台車に備えられた複数の把持具と、 前記マスク貯蔵装置及び・又は基板処理装置に備えられ、前記マスク収納容器を載置するための載置台と、 前記載置台と前記台車との間で、前記マスク収納容器を前記把持具により授受する授受手段と、 を含むことを特徴とするマスク搬送システム。 Or a track rail for transporting between a plurality of substrate processing apparatuses, connected to said movable track rail, can the be moved by following the guide rail, and the shaft portion connected to the track rail substantially the carriage can be horizontally rotated, and a plurality of grippers provided on the carriage for gripping a plurality of mask storage container, provided in the mask storage device and, or the substrate processing apparatus, the mask storage as mask transport system for the mounting table for mounting the container, between the mounting table and the carriage, characterized in that it comprises a transfer means for transferring the said gripper the mask container.
  6. 【請求項6】 前記複数の把持具の配列方向が、 前記軌道レールを辿る場合には、前記軌道レールの敷設方向に沿う第一の状態となり、 前記載置台に載置される場合には、前記載置台に沿った第二の状態となるように前記台車の回転を制御する制御手段を備えたことを特徴とする請求項5に記載のマスク搬送システム。 The arrangement direction of wherein said plurality of gripper, when follow the track rail becomes the first state along the laying direction of the track rail, when placed on the mounting table are mask transport system according to claim 5, further comprising a control means for controlling the rotation of the carriage so that the second state along the mounting table.
  7. 【請求項7】 前記制御手段は、前記台車を、前記載置台に対する所定の位置に停止させることを特徴とする請求項5に記載のマスク搬送システム。 Wherein said control means is a mask conveying system according to claim 5, characterized in that stopping the carriage in a predetermined position relative to the mounting table.
  8. 【請求項8】 前記制御手段は、前記台車が前記載置台に対する所定の位置に来たことを自動的に検出して前記台車を停止させ、 この検出に伴って、前記台車を前記第二の状態になるように自動的に回転させることを特徴とする請求項7に記載のマスク搬送システム。 Wherein said control means automatically detects stopping the carriage by said carriage comes to a predetermined position relative to the mounting table, along with this detection, the carriage the second mask transport system according to claim 7, characterized in that automatically rotate to a state.
  9. 【請求項9】 マスク貯蔵装置及び・または複数の基板処理装置の間に敷設された軌道レールを介して、台車により、パターン転写用マスクを収納するためのマスク収納容器を複数把持して搬送し、前記マスク貯蔵装置及び・又は、前記複数の基板処理装置に対して、前記マスク収納容器を授受するマスク搬送方法において、 前記台車の移動時には、前記複数のマスク収納容器の配列が、前記軌道レールの敷設方向に沿う第一の状態にし、 前記台車が前記マスク貯蔵装置及び・又は前記複数の基板処理装置に対する所定位置に来たときに停止させ、 前記複数のマスク収納容器の配列が、前記マスク貯蔵装置及び・又は前記複数の基板処理装置に備えられた載置台の配置に沿う第二の状態に前記台車を回転させ、 前記マスク収納容器を授受す Through 9. the laid track rail between the mask storage device and, or a plurality of substrate processing apparatus, a carriage, a mask storage container for housing the mask pattern transfer to conveying a plurality grasped , said mask storage device and, or, to the plurality of substrate processing apparatus, the mask transfer method for exchanging the mask container, during the movement of the carriage, the sequence of the plurality of mask storage container, wherein the track rail laying the first state along the direction, the carriage is stopped when it came to the predetermined position relative to the mask storage device and, or the plurality of substrate processing apparatus, the sequence of the plurality of mask storage container, the mask rotating the bogie to the second state along the storage device and, or placement of the mounting table provided in the plurality of substrate processing apparatuses, to transfer the mask container ようにしたことを特徴とするマスク搬送方法。 Mask conveying method characterized by the the like.
  10. 【請求項10】 前記台車の停止及び回転は、自動的に行うことを特徴とする請求項9に記載のマスク搬送方法。 10. A stop and rotation of the carriage, mask transport method according to claim 9, characterized in that automatically.
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Cited By (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2009063903A1 (en) * 2007-11-15 2009-05-22 Nikon Corporation Mask case, transfer apparatus, exposure apparatus, mask transfer method and device manufacturing method
US7806648B2 (en) 2006-04-14 2010-10-05 Murata Kikai Kabushiki Kaisha Transportation system and transportation method
JP2011230859A (en) * 2010-04-23 2011-11-17 Seibu Electric & Mach Co Ltd Plate-like object conveyance system
JP5739036B1 (en) * 2014-03-27 2015-06-24 株式会社椿本チエイン Transport equipment
JP2016044008A (en) * 2014-08-20 2016-04-04 村田機械株式会社 Conveyance storage system
US9341954B2 (en) 2007-10-24 2016-05-17 Nikon Corporation Optical unit, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method
US9423698B2 (en) 2003-10-28 2016-08-23 Nikon Corporation Illumination optical apparatus and projection exposure apparatus
US9558977B2 (en) 2014-06-05 2017-01-31 Daifuku Co., Ltd. Transport device with rotating receiving part
US9678437B2 (en) 2003-04-09 2017-06-13 Nikon Corporation Illumination optical apparatus having distribution changing member to change light amount and polarization member to set polarization in circumference direction
US9678332B2 (en) 2007-11-06 2017-06-13 Nikon Corporation Illumination apparatus, illumination method, exposure apparatus, and device manufacturing method
US9885872B2 (en) 2003-11-20 2018-02-06 Nikon Corporation Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method with optical integrator and polarization member that changes polarization state of light
US9891539B2 (en) 2005-05-12 2018-02-13 Nikon Corporation Projection optical system, exposure apparatus, and exposure method
US10007194B2 (en) 2004-02-06 2018-06-26 Nikon Corporation Polarization-modulating element, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101341425B1 (en) * 2011-11-02 2013-12-13 주식회사 에스에프에이 Stocker system
KR101396223B1 (en) * 2012-08-17 2014-05-19 주식회사 에스에프에이 Mask supplying system
KR101658056B1 (en) 2014-12-19 2016-09-20 주식회사 에스에프에이 Object supplying system
KR101666803B1 (en) 2014-12-31 2016-10-17 주식회사 에스에프에이 Apparatus for alinging mask and cassette and cassette supplying system having thereof

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH118186A (en) 1997-06-18 1999-01-12 Toshiba Corp Reticle carrying method and equipment

Cited By (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9885959B2 (en) 2003-04-09 2018-02-06 Nikon Corporation Illumination optical apparatus having deflecting member, lens, polarization member to set polarization in circumference direction, and optical integrator
US9678437B2 (en) 2003-04-09 2017-06-13 Nikon Corporation Illumination optical apparatus having distribution changing member to change light amount and polarization member to set polarization in circumference direction
US9423698B2 (en) 2003-10-28 2016-08-23 Nikon Corporation Illumination optical apparatus and projection exposure apparatus
US9760014B2 (en) 2003-10-28 2017-09-12 Nikon Corporation Illumination optical apparatus and projection exposure apparatus
US9885872B2 (en) 2003-11-20 2018-02-06 Nikon Corporation Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method with optical integrator and polarization member that changes polarization state of light
US10007194B2 (en) 2004-02-06 2018-06-26 Nikon Corporation Polarization-modulating element, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method
US9891539B2 (en) 2005-05-12 2018-02-13 Nikon Corporation Projection optical system, exposure apparatus, and exposure method
US7806648B2 (en) 2006-04-14 2010-10-05 Murata Kikai Kabushiki Kaisha Transportation system and transportation method
US9341954B2 (en) 2007-10-24 2016-05-17 Nikon Corporation Optical unit, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method
US9857599B2 (en) 2007-10-24 2018-01-02 Nikon Corporation Optical unit, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method
US9678332B2 (en) 2007-11-06 2017-06-13 Nikon Corporation Illumination apparatus, illumination method, exposure apparatus, and device manufacturing method
WO2009063903A1 (en) * 2007-11-15 2009-05-22 Nikon Corporation Mask case, transfer apparatus, exposure apparatus, mask transfer method and device manufacturing method
CN101809709B (en) 2007-11-15 2014-04-30 株式会社尼康 Mask case, transfer apparatus, exposure apparatus, mask transfer method and device manufacturing method
JP5316420B2 (en) * 2007-11-15 2013-10-16 株式会社ニコン Mask case, the transport device, the transport method, exposure apparatus and device manufacturing method
JP2011230859A (en) * 2010-04-23 2011-11-17 Seibu Electric & Mach Co Ltd Plate-like object conveyance system
JP5739036B1 (en) * 2014-03-27 2015-06-24 株式会社椿本チエイン Transport equipment
US9558977B2 (en) 2014-06-05 2017-01-31 Daifuku Co., Ltd. Transport device with rotating receiving part
JP2016044008A (en) * 2014-08-20 2016-04-04 村田機械株式会社 Conveyance storage system

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