JP2002355278A - 閉空間内雰囲気保持装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 殺菌室等の閉空間に充満させたホルムアルデ
ヒドガス等のガスまたはバイオクリーンルーム等の閉空
間における細菌が、この閉空間から洩れないようにする
ことである。 【解決手段】 第１微差圧検出器３６によって検出され
た第１圧力差に基づいて第１閉空間２ａの第１圧力を調
整する第１室圧調整装置６と、第２微差圧検出器６４に
よって検出された第２圧力差に基づいて第２閉空間４ａ
の第２圧力を調整する第２室圧調整装置３８とを、コン
トロールユニット１２によって制御し、第２閉空間４ａ
の第２圧力を大気圧よりも低く設定し、また第１閉空間
２ａの第１圧力を前記第２圧力よりも高く設定する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、殺菌室等の閉空間
に充満させたホルムアルデヒドガス等のガスまたはバイ
オクリーンルーム等の閉空間における細菌が、この閉空
間から洩れないようにした閉空間内雰囲気保持装置に関
するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、使用済みの介護用品や医療用具は
殺菌室へ搬入され、この殺菌室に殺菌ガス(例えば、ホ
ルムアルデヒドガス等)を供給して殺菌している。この
殺菌ガスの殺菌効果は、このガス濃度のほかに、室内の
湿度や温度等に大きく依存している。ここで、殺菌室に
充満させた殺菌ガスは、この殺菌室から漏れないように
しなければならない。一方、殺菌処理を施したバイオク
リーンルームで、細菌等の実験を行う場合にあってはバ
イオクリーンルーム外に細菌等が洩れないようにしなけ
ればならない。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな殺菌室やバイオクリーンルームは完全に密閉するこ
とが困難であり、この殺菌室またはバイオクリーンルー
ムからホルムアルデヒドガス等の殺菌ガスまたは細菌等
が大気に洩れてしまう虞があった。

【０００４】本発明の課題は、殺菌室等の閉空間に充満
させられたホルムアルデヒドガス等の殺菌ガスまたはバ
イオクリーンルーム等の閉空間における細菌等が、この
閉空間から洩れないようにした閉空間内雰囲気保持装置
を提供することである。

【０００５】

【課題を解決するための手段】請求項１記載の閉空間内
雰囲気保持装置は、第１閉空間を画成する閉空間画成手
段と、閉空間画成手段を外側から囲んで第１閉空間の外
側に第２閉空間を画成し、第２閉空間の外側には大気が
存在する囲み手段と、第１閉空間と第２閉空間との第１
圧力差を検出する第１差圧検出器と、第１差圧検出器に
よって検出された第１圧力差に基づいて第１閉空間の第
１圧力を調整する第１圧力調整手段と、第２閉空間と大
気との第２圧力差を検出する第２差圧検出器と、第２差
圧検出器によって検出された第２圧力差に基づいて第２
閉空間の第２圧力を調整する第２圧力調整手段と、第２
圧力調整手段により第２閉空間の第２圧力を大気圧より
も低く制御すると共に、第１圧力調整手段により第１閉
空間の第１圧力を第２圧力よりも高く制御する制御手段
とを備えることを特徴とする。

【０００６】この請求項１記載の閉空間内雰囲気保持装
置によれば、第１閉空間内にガス等を充満させた場合
に、この第１閉空間からガスが洩れるようなことがあっ
ても、第１圧力調整手段によって第１閉空間内の第１圧
力を第２閉空間の第２圧力よりも高くしているので、こ
のガスは第２閉空間に流れ込む。この第２閉空間に流れ
込んだガスは、第２圧力調整手段によって第２閉空間内
の第２圧力が第２閉空間外の大気圧よりも低く設定され
ているので、圧力に抗して第２閉空間外に洩れることは
ない。したがって、第１閉空間にガスを充満させても、
このガスが第１閉空間から第２閉空間外の大気に洩れな
いようにすることができる。

【０００７】また、請求項２記載の閉空間内雰囲気保持
装置は、第１閉空間内に搬入された物体を殺菌するため
に、第１閉空間に殺菌ガスを供給する殺菌ガス供給手段
を更に備えることを特徴とする。

【０００８】この請求項２記載の閉空間内雰囲気保持装
置によれば、第１閉空間内に使用済みの介護用品や医療
用具などを搬入し、これら介護用品や医療用具等を第１
閉空間内に殺菌ガス供給手段から殺菌ガスを供給して殺
菌することができる。この場合に殺菌ガスは第２閉空間
外の大気に洩れないようにすることができる。

【０００９】また、請求項３記載の閉空間内雰囲気保持
装置は、第１閉空間からの排ガスを処理する第１排ガス
処理器と、第２閉空間からの排ガスを処理する第２排ガ
ス処理器を更に備えることを特徴とする。

【００１０】この請求項３記載の閉空間内雰囲気保持装
置によれば、第１閉空間に充満させたガスは第１排ガス
処理器によって排ガス処理を施されてから第２閉空間外
の大気に排気され、またこの第１閉空間内のガスが第２
閉空間に洩れたとしても、このガスは第２排ガス処理器
によって排ガス処理を施されてから第２閉空間外の大気
に排気される。

【００１１】また、請求項４記載の閉空間内雰囲気保持
装置は、第２圧力調整手段を、第２閉空間内の空気を第
２閉空間外に排気する排気ユニットおよび第２閉空間外
の空気を第２閉空間内に給気する給気ユニットとで構成
し、排気ユニットと給気ユニットの間の個所に隔壁を設
け、給気ユニットから第２閉空間に給気された空気を、
第２閉空間内を循環させて排気ユニットから第２閉空間
外に排気させることを特徴とする。

【００１２】この請求項４記載の閉空間内雰囲気保持装
置によれば、給気ユニットと排気ユニットとの間には隔
壁が設けられているので、給気ユニットによって第２閉
空間内に給気された空気は、第２閉空間内において隔壁
の給気ユニット側へ給気される。また、第２閉空間内か
ら排気ユニットによって排気される空気は、第２閉空間
内において隔壁の排気ユニット側から排気される。この
ため、第２閉空間内に給気された空気は、第２閉空間内
を循環した後、排気ユニットによって排気される。従っ
て、第１閉空間内にガス等を充満させた場合に、この第
１閉空間から第２閉空間内にガスが洩れるようなことが
あっても、このガスは第２閉空間内を循環しながら排気
ユニットによって排気される。

【００１３】

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して、この発明
の実施の形態にかかる閉空間内雰囲気保持装置を用いた
ホルムアルデヒドガス殺菌装置について説明する。

【００１４】図１において、符号２は物体の殺菌を行う
ための殺菌室(閉空間画成手段)であり、この殺菌室２は
例えば使用済みの介護用品や医療用具等を搬入して殺菌
するための安全キャビネットであり、他にはバイオクリ
ーンルーム、試料調整クリーンルーム、手術室等のよう
に室内に固定された形態のもの、また救急車内、移動式
クリ−ンルーム、移動式手術室、テント式手術室等のよ
うに戸外に臨時的に固定された形態のものが考えられ
る。また、この殺菌室２の中は第１閉空間２ａとなって
いる。殺菌室２の外側には、ビニールシート等からなる
囲いシート４(囲み手段)がこの殺菌室２を囲むようにし
て設けられている。この囲いシート４と殺菌室２との間
には第２閉空間４ａが画成され、この第２閉空間４ａは
第１閉空間２ａの周囲に位置している。

【００１５】殺菌室２の壁には第２閉空間４ａの圧力
（第２圧力）に対して第１閉空間２ａの圧力（第１圧
力）を所定の圧力に調整する第１室圧調整装置６が設け
られている。この第１室圧調整装置６は、第１閉空間２
ａに第２閉空間４ａ外の空気を給気する給気ユニット８
と、第１閉空間２ａ内の空気を第２閉空間４ａ外に排気
する排気ユニット１０とを備え、給気ユニット８および
排気ユニット１０はコントロールユニット１２(制御手
段)よって制御される。また、給気ユニット８および排
気ユニット１０は、それぞれ第１閉空間２ａに対して給
気を行う給気口８ａ、第１閉空間２ａから排気を行う排
気口１０ａを有している。給気ユニット８は、第２閉空
間４ａ外の空気を取り込むための給気グリル１４を有
し、この給気グリル１４の下流側には、第２閉空間４ａ
外から第１閉空間２ａに供給される空気量を調整するた
めの給気量調整電磁弁１６が三つ設けられている。ま
た、給気量調整電磁弁１６の下流側の空気通路内には送
風機１８、ＨＥＰＡ（high efficiency ｐarticulate
air）フィルタ２０が順次設けられている。

【００１６】排気ユニット１０は、排気通路内にＨＥＰ
Ａフィルタ２２を有し、このＨＥＰＡフィルタ２２の下
流側に向けて第２閉空間４ａ外に排気される空気量を調
整するための排気量調整電磁弁２４が三つ設けられてい
る。また、排気量調整電磁弁２４の下流側には、白金触
媒およびヒータからなるエアー処理装置２６が設けられ
ている。ＨＥＰＡフィルタ２０,２２は、給気ガスおよ
び排気ガスがこの中を通過する際に、この給気ガスおよ
び排気ガス中に存在する細菌を除去する。しかし、ＨＥ
ＰＡフィルタ２２は排気ガス中のウィルスまでは除去す
ることができず、エアー処理装置２６によってこのウィ
ルスを焼き殺して殺菌する。

【００１７】ここで、このエアー処理装置２６には、電
磁弁２８を介して第２閉空間４ａ外の空気が供給され
る。この第２閉空間４ａ外の空気の供給により触媒の温
度を一定に保つことができる。さらに、排気量調整電磁
弁２４の下流側には、送風機３２及び第１排ガス処理器
３４が設けられている。この第１排ガス処理器３４は第
１閉空間２ａからの排気ガス中におけるホルムアルデヒ
ドガス等の濃度を所望する程度に低くするものである。
送風機３２は、エアー処理装置２６を通過した空気およ
び給気グリル３０から取り込んだ空気を第１室圧調整装
置６の外に排気するためのものである。

【００１８】また、殺菌室２の壁には、第１閉空間２ａ
と第２閉空間４ａとの圧力差を検出する第１微差圧検出
器３６(第１差圧検出器)が設けられ、この第１微差圧検
出器３６は信号線を介してコントロールユニット１２に
接続されている。この第１微差圧検出器３６によって検
出された圧力差の検出値は、検出信号としてコントロー
ルユニット１２に出力される。

【００１９】コントロールユニット１２は、信号線を介
して給気ユニット８の給気量調整電磁弁１６および送風
機１８に接続され、また排気ユニット１０の排気量調整
電磁弁２４、電磁弁２８および送風機３２に接続されて
いる。コントロールユニット１２は、第１微差圧検出器
３６の検出値に基づいて、給気量調整電磁弁１６、送風
機１８、排気量調整電磁弁２４および送風機３６などの
制御を行い、第１閉空間２ａの圧力を第２閉空間４ａの
圧力よりも少し高く制御する。このように第１閉空間２
ａの圧力を制御することにより殺菌されていない空気が
第１閉空間２ａ内に侵入するのを防止することができ
る。また、コントロールユニット１２は、第１微差圧検
出器３６による検出値を常時記憶する記憶部および記憶
部に記憶されている検出値を出力するプリンタなどの出
力部を有している。

【００２０】囲いシート４には第２閉空間４ａ外の大気
の圧力に対して第２閉空間４ａの圧力を所定の圧力にす
る第２室圧調整装置３８が設けられ、この第２室圧調整
装置３８は前記第１室圧調整装置８と同じ構成からなっ
ている。そこで、この第２室圧調整装置３８を簡略に説
明する。第２室圧調整装置３８は第２閉空間４ａに第２
閉空間４ａ外の空気を給気する給気ユニット４０と、第
２閉空間４ａ内の空気を第２閉空間４ａ外に排気する排
気ユニット４２とを備え、この給気ユニット４０および
排気ユニット４２はコントロールユニット１２によって
制御される。また、給気ユニット４０および排気ユニッ
ト４２は、それぞれ第２閉空間４ａに対して給気を行う
給気口４０ａ、第２閉空間４ａから排気を行う排気口４
２ａを有している。給気ユニット４０は、第２閉空間４
ａ外の空気を取り込むための給気グリル４３を有し、第
２閉空間４ａ外から第２閉空間４ａに供給される空気量
を調整するための給気量調整電磁弁４４、送風機４６、
ＨＥＰＡフィルタ４８が上流側から順次設けられてい
る。

【００２１】排気ユニット４２は、ＨＥＰＡフィルタ５
０を有し、その下流側に向けて第２閉空間４ａ外に排気
される空気量を調整するための排気量調整電磁弁５２、
白金触媒およびヒータからなるエアー処理装置５４が順
次設けられ、エアー処理装置５４の下流側には送風機５
８及び第２排ガス処理器６０が設けられている。この第
２排ガス処理器６０は、第２閉空間４ａからの排気ガス
中のホルムアルデヒドガス等の濃度を所望する程度に低
くするものである。送風機５８は、エアー処理装置５４
を通過した空気および給気グリル５６から取り込んだ空
気を第２室圧調整装置３８の外に排気するためのもので
ある。またこのエアー処理装置５４は、電磁弁６２を介
して供給される第２閉空間４ａ外の空気により触媒の温
度を一定に保つことができる。

【００２２】第２閉空間４ａにおいて、第２閉空間４ａ
外の空気を第２閉空間４ａ内に給気する給気口４０ａ
と、第２閉空間４ａ内の空気を第２閉空間４ａ外に排気
する排気口４２ａとの間の個所には、第２閉空間４ａ内
を給気口４０ａ側と排気口４２ａ側とで分離するための
隔壁４１が設けられている。

【００２３】囲いシート４の壁には、第２閉空間４ａと
第２閉空間４ａ外の大気との圧力差を検出する第２微差
圧検出器６４(第２差圧検出器)が設けられ、この第２微
差圧検出器６４は信号線を介して前記コントロールユニ
ット１２に接続されている。この第２微差圧検出器６４
によって検出された圧力差の検出値は、検出信号として
コントロールユニット１２に出力され、このコントロー
ルユニット１２によって第２閉空間４ａの圧力を第２閉
空間４ａ外の大気圧よりも低く制御する。

【００２４】ところで、殺菌室２には使用済みの介護用
品や医療器具等が搬入されるが、これら介護用品や医療
器具等を殺菌するためにこの殺菌室２の壁にはホルムア
ルデヒドガス殺菌装置６６(殺菌手段)が設けられてい
る。ホルムアルデヒドガス殺菌装置６６は、図２に示す
ようにハウジング６８を有し、このハウジング６８の図
２中左端側には第１閉空間２ａにホルムアルデヒドガス
を供給して殺菌可能な状態(第１雰囲気)とするためのガ
ス入り口７０が取りつけられ、また第１閉空間２ａから
ホルムアルデヒドガスを排出するためのガス出口７２が
取り付けられている。ハウジング６８内には制御器７４
が設けられ、この制御器７４には第１閉空間２ａに設け
られたホルムアルデヒド濃度センサ７６、湿度センサ７
８、温度センサ８０によってモニタされた値が制御ライ
ンを介して伝達される。

【００２５】ハウジング６８内には一対のポンプ８４，
８６が設けられ、一方のポンプ８４は第２閉空間４ａ外
の空気をガス入り口７０から第１閉空間２ａへ導入する
ためのものであり、また他方のポンプ８６は第１閉空間
２ａ内のガスを第１閉空間２ａ内から第２閉空間４ａ外
へ排出するためのものである。一対のポンプ８４，８６
間は環流通路８８によって接続されており、ポンプ８６
から出た排気ガスをこの還流通路８８を通じて再びポン
プ８４に導入することで第１閉空間２ａ内のガスを還流
させている。ハウジング６８内には制御器７４のほか
に、湿度調節器９０、温度調節器９２が設けられてお
り、この湿度調節器９０、温度調節器９２は制御器７４
からの指示に基づいて第１閉空間２ａ内を温度２０〜４
０℃、湿度５０〜９０％(相対湿度)となるように調節す
るためのものである。

【００２６】また、ハウジング６８内には、使用済みの
介護用品や医療用器具等を殺菌するために、ホルムアル
デヒドガスを発生させるホルムアルデヒドガス発生器９
４が設けられている。このホルムアルデヒドガス発生器
９４は、制御器７４の指示に基づきポンプ８４，８６等
と協働して第１閉空間２ａ内のホルムアルデヒドガス濃
度をガス濃度１６０ｐｐｍ以上の状態で、所定時間(５
時間)維持する。なお、上述のホルムアルデヒド濃度
は、ＪＩＳ Ｋ３０３に液体クロノトグラフ分析を組合
わせて測定したホルムアルデヒド自体の濃度である。ま
た、ハウジング内には排ガス処理器９６が設けられてお
り、この排ガス処理器９６は第１閉空間２ａ内のホルム
アルデヒドガスを処理してその濃度を低くする。

【００２７】このホルムアルデヒドガス殺菌装置におい
て、使用済みの介護用品や医療用具等を殺菌する場合に
は、まずこれら介護用品や医療用具等を殺菌室２に搬入
する。第１閉空間２ａ内のホルムアルデヒドガス濃度、
湿度、温度を濃度センサ７６、湿度センサ７８、温度セ
ンサ８０によりモニタし、これから得られた値により制
御器７４で演算を行い、この制御器７４によってホルム
アルデヒドガス発生器９４、温度調節器９２、湿度調節
器９０等を制御し、第１閉空間２ａ内を所望する雰囲気
の状態にする。即ち、室内の温度、湿度、ホルムアルデ
ヒドガスの濃度がそれぞれ温度２０〜４０℃の範囲、湿
度５０〜９０％（相対湿度）の範囲、ホルムアルデヒド
ガス濃度１６０ｐｐｍ以上とし、この状態を所定時間
（５時間）維持している間に、使用済みの介護用品や医
療用具を殺菌する。

【００２８】ここで、第１閉空間２ａを画成している殺
菌室２は密閉された構造になっているが、完全な密閉構
造にすることは難しい。第１閉空間２ａにホルムアルデ
ヒドガスを充満させた場合に、殺菌室２からホルムアル
デヒドガスが洩れ出てしまう虞がある。このとき、第１
閉空間２ａ内の殺菌を完全に行うとともに第１閉空間２
ａからホルムアルデヒドガスが第２閉空間４ａ外の大気
に洩れないようにしなければならず、そのために以下の
処理を行う。

【００２９】即ち、図３のフローチャートに示す処理に
より、第１閉空間２ａ内の圧力を第２閉空間４ａ内の圧
力よりも１０〜２０Ｐａだけ高い圧力に維持する。この
ように第１閉空間２ａの圧力を制御することにより殺菌
されていない空気が第１閉空間２ａ内に侵入するのを防
止することができる。なお、このフローチャートに基づ
く制御は、コントロールユニット１２により微小時間間
隔ごとに繰り返して行われる。

【００３０】まず、コントロールユニット１２は、第１
微差圧検出器３６により検出された第１閉空間２ａと第
２閉空間４ａの圧力差（第１閉空間２ａ内の圧力から第
２閉空間４ａの圧力を引いた圧力差）を取得し(ステッ
プＳ１０)、コントロールユニット１２の記憶部に記憶
する(ステップＳ１１)。次に、第１微差圧検出器３６に
よって検出された圧力差が１０〜２０Ｐａの場合には
(ステップＳ１２)正常な圧力であることから、ステップ
Ｓ１０の処理に戻って、圧力差を検出し(ステップＳ１
０)、検出値を記憶する(ステップＳ１１)などの処理を
続行する。

【００３１】一方、第１微差圧検出器３６によって検出
された圧力差が１０Ｐａ以下の場合には(ステップＳ１
２)、第１閉空間２ａ内の圧力が低すぎることからこの
第１閉空間２ａへの給気を行う(ステップＳ１４)。即
ち、給気量調整電磁弁１６及び送風機１８に制御信号を
送り給気量調整電磁弁１６を所定時間開くと共に送風機
１８の運転を行う。これにより第２閉空間４ａ外の空気
が給気量調整電磁弁１６、ＨＥＰＡフィルタ２０を介し
て給気口８ａから第１閉空間２ａ内に供給され、第１閉
空間２ａ内の圧力が給気量調整電磁弁１６の開時間に対
応する値だけ上昇する。なお、第１閉空間２ａ内への給
気終了後、第１微差圧検出器３６により検出された第１
閉空間２ａと第２閉空間４ａとの圧力差が、まだ１０Ｐ
ａ以下の場合には、更に給気処理を行う (ステップＳ１
０〜ステップＳ１２、ステップＳ１４）。

【００３２】また、第１微差圧検出器３６により検出さ
れた第１閉空間２ａと第２閉空間４ａとの圧力差が２０
Ｐａ以上の場合には（ステップＳ１２）、第１閉空間２
ａの圧が高すぎることから第２閉空間４ａ外への排気を
行う（ステップＳ１３）。即ち、排気量調整電磁弁２４
及び送風機３２に制御信号を送り排気量調整電磁弁２４
を所定時間開くと共に送風機３２の運転を行う。これに
より第１閉空間２ａ内の空気が排気口１０ａからＨＥＰ
Ａフィルタ２２、排気量調整電磁弁２４、エアー処理装
置２６を通じて第２閉空間４ａ外に排気され、第１閉空
間２ａ内の圧力が排気量調整電磁弁２４の開時間に対応
する値だけ降下する。なお、第２閉空間４ａ外への排気
終了後、第１微差圧検出器３６により検出された第１閉
空間２ａと第２閉空間４ａとの圧力差が、まだ２０Ｐａ
以上の場合には、更に排気処理を行う（ステップＳ１０
〜ステップＳ１３）。

【００３３】排気を行う際に、排気ガス中に存在する細
菌はＨＥＰＡフィルタ２２によって除去し、排気ガス中
のウィルスはエアー処理装置２６によって焼き殺して殺
菌している。また、排気ガス中のホルムアルデヒドガス
は第１排ガス処理器３４によってその濃度を所望する程
度に低くしている。

【００３４】また、図４のフローチャートに示す処理に
より、第２閉空間４ａ内の圧力を第２閉空間４ａ外の大
気圧に対して−１０〜−２０Ｐａに維持する。なお、こ
のフローチャートに基づく制御は、前記同様コントロー
ルユニット１２により微小時間間隔ごとに繰り返して行
われる。

【００３５】また、第２閉空間４ａには、常に少量の空
気が給気ユニット４０から供給されると共に、排気ユニ
ット４２から排気されることにより、第２閉空間４ａ内
の空気を循環させている。即ち、給気ユニット４０の給
気量調整電磁弁４４及び送風機４６に制御信号を送り給
気量調整電磁弁４４及び送風機４６の制御を行うと共
に、排気ユニット４２の排気量調整電磁弁５２及び送風
機５８に制御信号を送り排気量調整電磁弁５２及び送風
機５８の制御を行うことにより、第２閉空間４ａ内の空
気を循環させている。

【００３６】まず、コントロールユニット１２は、第２
微差圧検出器６４により検出された圧力差（第２閉空間
２ａ内の圧力から大気圧を引いた圧力差）を取得し(ス
テップＳ２０)、コントロールユニット１２の記憶部に
記憶する(ステップＳ２１)。次に、圧力差が−２０〜−
１０Ｐａの場合には(ステップＳ２２)正常な圧力である
ことから、ステップＳ２０の処理に戻って、圧力差を検
出し(ステップＳ２０)、検出値を記憶する(ステップＳ
２１)などの処理を続行する。

【００３７】一方、第２微差圧検出器６４によって検出
された第２閉空間４ａと第２閉空間４ａ外との圧力差が
−２０Ｐａ以下の場合には(ステップＳ２２)、第２閉空
間４ａ内の圧力が低すぎることからこの第２閉空間４ａ
への給気量を増大する(ステップＳ２４)。即ち、給気ユ
ニット４０の給気量調整電磁弁４４に制御信号を送り給
気量調整電磁弁４４を開く所定時間を長くする。これに
より第２閉空間４ａ外から供給される空気量が増大し、
第２閉空間４ａ内の圧力が上昇する。なお、第２閉空間
４ａ内への給気量を増大した後、第２微差圧検出器６４
により検出された第２閉空間４ａ内と大気圧の圧力差
が、まだ−２０Ｐａ以下の場合には、更に給気量の増大
を続行する (ステップＳ２０〜ステップＳ２２、ステッ
プＳ２４）。

【００３８】また、第２微差圧検出器６４により検出さ
れた圧力差が−１０Ｐａ以上の場合には（ステップＳ２
２）、第２閉空間４ａの圧力が高すぎることから第２閉
空間４ａ外への排気量を増大する（ステップＳ２３）。
即ち、排気ユニット４２の排気量調整電磁弁５２に制御
信号を送り排気量調整電磁弁５２を開く所定時間を長く
する。これにより第２閉空間４ａ内から排気される空気
量が増大し第２閉空間４ａ内の圧力が降下する。なお、
第２閉空間４ａ外への排気量を増大した後、第２微差圧
検出器５２により検出された第２閉空間４ａ内と第２閉
空間４ａ外の大気圧との圧力差が、まだ−１０Ｐａ以上
の場合には、更に排気量の増大を続行する（ステップＳ
２０〜ステップＳ２３）。

【００３９】第２閉空間４ａ外から給気口４０ａを通し
て給気される空気は、給気口４０ａと排気口４２ａとの
間には隔壁４１が設けられているので、第２閉空間４ａ
内において矢印方向へ圧送され、第２閉空間４ａ内を循
環して排気口４２ａを通して第２閉空間４ａ外へ排気さ
れる。

【００４０】ここで、殺菌室２に充満させられているホ
ルムアルデヒドガスがこの殺菌室２から洩れた場合であ
っても、殺菌室２の外側には第１閉空間２ａ内の圧力よ
りも低く設定されている第２閉空間４ａが位置している
ために、洩れたホルムアルデヒドガスはこの第２閉空間
４ａ内に流れ込む。囲いシート４によって画成される第
２閉空間４ａは囲いシート４の外の大気圧よりも少し低
く設定されており、また第２閉空間４ａ内が循環させら
れる構造とあいまって、第２閉空間４ａ内のホルムアル
デヒドガスまたは細菌やウィルス等は圧力に抗して外に
洩れ出すようなことはない。

【００４１】第２閉空間４ａに洩れ出たホルムアルデヒ
ドガスまたは細菌やウィルス等は、第２閉空間内を循環
して排気口４２ａへ流れ込む。排気口４２ａへ流れ込ん
だホルムアルデヒドガスまたは細菌やウィルス等は、空
気とともにＨＥＰＡフィルタ５０、排気量調整電磁弁５
２、エアー処理装置５４、第２排ガス処理器６０を介し
て第２閉空間４ａ外の大気に排気される。このとき、ホ
ルムアルデヒドガスは、第２排ガス処理器６０によって
所望する濃度に処理されて第２閉空間４ａ外の大気に排
気される。また、排気ガス中に存在する細菌はＨＥＰＡ
フィルタ５０によって除去し、排気ガス中のウィルスは
エアー処理装置５４によって焼き殺して殺菌する。

【００４２】このホルムアルデヒドガス殺菌装置におい
ては、第１閉空間２ａ内の温度、湿度、ホルムアルデヒ
ドガスの濃度をそれぞれ温度２０〜４０℃の範囲、湿度
５０〜９０％（相対湿度）の範囲、ホルムアルデヒドガ
ス濃度１６０ｐｐｍ以上で、かつ第１閉空間２ａを第２
閉空間４ａよりも１０〜２０Ｐａだけ高い圧力に所定時
間維持して、使用済みの介護用品や医療用具等の殺菌が
終了すると、ホルムアルデヒドガス発生器９４の作動を
停止させる。次に、ハウジング６８内の排ガス処理器９
６によって第１閉空間２ａ内のホルムアルデヒドガス濃
度が所定の値よりも低くなるようにする。即ち、ポンプ
８６から出た排ガスを還流通路８８を通じて再びポンプ
８４に導入して、第１閉空間２ａ内のホルムアルデヒド
ガスを循環させることにより、このガス濃度を徐々に低
下させ、所定の濃度よりも低くする。

【００４３】ところで、第１閉空間２ａと第２閉空間４
ａとの圧力差及び第２閉空間４ａとの圧力差と大気圧と
の圧力差は時系列的にコントロールユニット１２の記憶
部に記憶されていることから、この記憶部に記憶されて
いる検出値を出力部により出力することができる。この
出力結果に基づいて第１閉空間２ａ、第２閉空間４ａ内
の圧力が常に所定の圧力に維持できていたことを保証す
ることができる。従って、ホルムアルデヒドガスが未処
理のまま外に漏れ出していないことの保証を行うことが
可能になる。

【００４４】次に、本発明をバイオクリーンルームに適
用する場合、即ち殺菌室２としてバイオクリーンルーム
を用いる場合にについて説明する。

【００４５】このバイオクリ−ンルーム２においては、
細菌を扱った実験等が行われるため、細菌がバイオクリ
−ンルーム２から第２閉空間４ａ外に洩れないようにす
る必要がある。そのために、例えば、第２閉空間４ａ内
の圧力を第２閉空間４ａ外の大気圧よりも４０〜３０Ｐ
ａだけ低く制御し、第１閉空間２ａ内の圧力を第２閉空
間４ａよりも１０〜２０Ｐａだけ高い圧力、即ち第２閉
空間４ａ外の大気圧よりも１０〜２０Ｐａだけ低い圧力
に制御する。

【００４６】この場合には、第１閉空間２ａ内の圧力が
第２閉空間４ａ外の大気圧よりも低い圧力に制御されて
いるため、第１閉空間２ａ内の細菌等が第２閉空間４ａ
外に漏れ出すことを防止することができる。また、第２
閉空間４ａには給気口４０ａから給気された空気を循環
させ、細菌の除去、排気処理を行った後に、第２閉空間
４ａ外に排出させているため、細菌等が第２閉空間４ａ
外に漏れ出すことを防止することができる。

【００４７】なお、上述の実施の形態においては、ホル
ムアルデヒドガス濃度１６０ ｐｐｍ以上の状態を５時
間維持することにより第１閉空間２(被殺菌空間)内の殺
菌を行っているが、この条件が最も実用的な条件であ
る。しかしながらホルムアルデヒドガス濃度３００ｐｐ
ｍ以上の状態を２時間維持することによっても、またホ
ルムアルデヒドガス濃度６０ｐｐｍ以上の状態を１２時
間維持することによっても被殺菌空間２ａ内を殺菌する
ことができる。

【００４８】この実施形態にかかるホルムアルデヒドガ
ス殺菌装置６６のホルムアルデヒドガス発生器９４には
特に限定はないが、湿度、温度の制御の下で高い濃度の
ホルムアルデヒドガスを発生可能であればよい。

【００４９】ホルムアルデヒドガスによる殺菌効果は、
湿度の上昇に相関していることが知られていることか
ら、最適な湿度を保持しつつホルムアルデヒドを発生さ
せることが好ましい。具体的には、メタノールから、
(１)触媒を用いて発生させる手段、(２)超音波処理して
発生させる手段、(３)紫外線照射して発生させる手段等
が挙げられる。このホルムアルデヒドガス殺菌装置６６
においては、特に(１)が好ましい。この際、同時に水が
副生成するが極めて少量である。

【００５０】上述の触媒を用いて発生させる手段で用い
られる具体的な触媒として、白金、銅、アルミニウム、
又は炭素等、又それらの混合物が挙げられる。この触媒
を円筒状の容器に充填し、円筒状容器を温度調節して該
触媒を所定の温度に加熱、冷却する。所定の量のメタノ
ールをまず気化させ、触媒部分へ送り、触媒反応を開始
する。

【００５１】ホルムアルデヒドガスの発生量の制御につ
いては、触媒の温度の制御、及び供給するメタノールの
量、又は気化量に依存する。反応条件の最適化は、実際
にホルムアルデヒドガスを発生させ、かつ適当なホルム
アルデヒド濃度測定を行うことにより可能である。具体
的には、所定のメタノール供給量に対し、触媒反応温度
と、ホルムアルデヒドガスの発生量の測定データから検
量線を作成することが可能である。例えば触媒として銅
を用いメタノール１０００ｇ使用した場合、ホルムアル
デヒドガス７５０ｇを約３０分間で発生させることが可
能である。なお、メタノールを気化させるために加熱冷
却装置のみならず超音波処理等による気化方法を用いる
ことも可能である。

【００５２】さらに、ホルムアルデヒドガスを発生させ
る手段として、メタノールに超音波照射処理、又は紫外
線照射処理をする手段がある。この場合には、メタノー
ルを適当な反応容器に入れ反応容器の外周又は内部に超
音波照射処理装置又は紫外線照射処理装置を設けること
により可能である。また、このホルムアルデヒドガス殺
菌装置６６におけるホルムアルデヒドガスを発生させる
方法として、パラホルムアルデヒドを加熱して発生させ
る方法も好ましい。この場合加熱手段は特に制限はな
い。また、発生ガスの量は、加熱時間、加熱温度を制御
することで容易に制御可能となる。パラホルムアルデヒ
ドは通常市販品として入手可能である。発生したホルム
アルデヒドガスはそのまま若しくは外部からの適当なキ
ャリアガス（空気、不活性ガス）で希釈して用いること
も可能である。

【００５３】ホルムアルでヒドガス殺菌装置６６におい
て発生させるホルムアルデヒドガスの濃度は、このホル
ムアルでヒドガス殺菌装置６６の発生器９４を使用する
ことで容易に１６０ｐｐｍ以上に維持することが可能で
ある。さらに、以下に説明する殺菌効果（若しくは滅菌
効果）を得るためにはより高濃度で発生させることも可
能である。

【００５４】ホルムアルデヒドガス殺菌装置６６におい
て、適当な濃度のホルムアルデヒドガス濃度を、適当な
温度の範囲内で長時間維持するために、被殺菌空間２ａ
内の温度を調節することが好ましい。この目的で設けら
れる温度調節手段は特には、制限はなく、通常公知の加
熱、または冷却装置が使用可能である。この際空間の容
積及びその形状にも依存するが、十分な熱交換容量を有
する装置を用いることにより実質的に温度のバラツキを
無視できる程度に調節可能である。ホルムアルデヒドガ
ス殺菌装置６６の殺菌方法において好ましい温度範囲は
２０〜４０℃であり、より好ましくは常温である２５〜
３５℃の範囲である。しかしながら、この温度以外の温
度でも被殺菌空間２ａ内の殺菌は可能である。

【００５５】ホルムアルデヒドガス殺菌装置６６におい
て、適当な濃度のホルムアルデヒドガス濃度を、適当な
湿度の範囲内で長時間維持するために、この第１閉空間
２ａ内の湿度を調節することが好ましい。この目的で設
けられる湿度調節手段は特に制限はなく、通常公知の加
湿、または除湿装置が使用可能である。この際空間の容
積及びその形状にも依存するが、十分な加湿、または除
湿容量を有する装置を用いることにより実質的に湿度の
バラツキを無視できる程度に調節可能である。

【００５６】ホルムアルデヒドガスによる殺菌効果が湿
度に依存することが知られているが、相対湿度が有る程
度以上高くなると、露結現象により結露が発生し、被殺
菌空間内に凝集することによりホルムアルデヒド、又は
その酸化物であるギ酸等が壁等に付着することとなる。
この場合、被殺菌空間内を汚染することとなる。

【００５７】従って、このホルムアルデヒドガス殺菌装
置６６においては、ホルムアルデヒドの殺菌効果を十分
発揮させ、かつ上記結露の現象が起こらない程度の湿度
を維持することが重要となる。この湿度の範囲は、温度
に依存するが、温度範囲が２０〜４０℃の範囲におい
て、相対湿度５０〜９０％の範囲（より好ましくは８０
〜９０％）である。この範囲より低い湿度では十分な殺
菌効果がえられず、また、この範囲より高い場合（９０
％以上）は結露の発生により汚染が生じる可能性があ
る。

【００５８】被殺菌空間２ａの室内温度をモニタする方
法には特に制限はなく、通常の温度計を用いることが可
能である。また、モニタされた温度を制御器７４に入力
するためには、手動で入力、又は自動で入力することが
可能である。従って、この制御器７４において、特定の
時間における被殺菌空間２ａ内の温度が記憶されること
となる。

【００５９】モニタされる温度の精度についても特に制
限はないが、約±１℃の測定精度があればよい。さら
に、複数のモニタ手段を設けることも可能である。この
場合は、室内での温度のバラツキがモニタ可能であり、
より正確な温度調節が可能となる。

【００６０】被殺菌空間２ａの室内湿度をモニタする方
法には特に制限はなく、通常の湿度計を用いることが可
能である。また、モニタされた湿度を制御器７４に入力
するためには、手動で入力、又は自動で入力することが
可能である。従って、制御器７４において、特定の時間
における被殺菌空間２ａ内の湿度が記憶されることとな
る。

【００６１】モニタされる測定精度についても特に制限
はないが、２０〜４０℃の温度囲で、約±１％の測定精
度があればよい。さらに、複数のモニタ手段を設けるこ
とも可能である。この場合は、被殺菌空間２ａ内での湿
度のバラツキがモニタ可能であり、より正確な湿度調節
が可能となる。

【００６２】被殺菌空間２ａ内のホルムアルデヒド濃度
をモニタする方法には特に制限はなく、通常の分析手段
を用いることが可能である。具体的には、ホルムアルデ
ヒド用センサを用いる方法や、空気サンプリングによる
ガスクロマトグラフ、イオンクロマトグラフによる方法
が挙げられる。モニタされた濃度を制御器７４に入力す
るためには、手動で入力、又は自動で入力することが可
能である。従って、この制御器７４において、特定の時
間における被殺菌空間２ａ内の濃度が記憶されることと
なる。

【００６３】モニタされる測定精度についても特に制限
はないが、上記使用濃度範囲で、約±１０ｐｐｍの測定
精度があればよい。さらに、複数のモニタ手段を設ける
ことも可能である。この場合は、被殺菌空間２ａ内での
濃度のバラツキがモニタ可能であり、より正確な濃度調
節が可能となる。

【００６４】ホルムアルデヒドガス殺菌装置６６におい
ては、被殺菌空間２ａ内の温度、湿度及びホルムアルデ
ヒド濃度を所定の範囲で、所定の時間維持する必要があ
る。被殺菌空間２ａ内のホルムアルデヒドガスの濃度
は、第１閉空間２ａ内で殺菌反応などの種々の反応によ
り減少する。従って、ホルムアルデヒドガスの濃度を一
定に維持するためには、設定時間内において、温度、湿
度、ホルムアルデヒド濃度データを取込み、かつ特定範
囲になるように、ホルムアルデヒドガス発生器９４を制
御する必要がある。この目的のための制御方法、制御器
７４については特に制限はないが、手動による方法、又
はコンピュータプログラムを用いた制御器が挙げられ
る。ホルムアルデヒドガス殺菌装置６６においては、高
いホルムアルデヒド濃度を長時間維持する必要があるこ
とから、オンタイムに最適化しつつホルムアルデヒドガ
ス発生器９４、ポンプ４０，４１、温度調節器９２、湿
度調節器９０に信号を送り、制御する機能を有するもの
が好ましい。

【００６５】この制御器７４の構成についても特に制限
はないが、好ましくは、(１)設定温度、設定湿度、設定
ホルムアルデヒド濃度等の入力手段（キーボード等）、
(２)温度、湿度、ホルムアルデヒド濃度モニタからの測
定データを記憶する手段（メモリ等）、(３)それらの値
の出力手段（表示又は印刷）、(４)測定データと設定値
の差を判別する手段、（５）温度調節系、湿度調節系、
及びホルムアルデヒドガス発生系への制御信号出力を有
するものである。ここで、上記(４)の手段により、ホル
ムアルデヒド濃度が設定値より低い場合には、上記(５)
の手段によりホルムアルデヒド発生装置に制御信号を送
り、原料メタノールを供給し、又は触媒反応温度を上昇
させてホルムアルデヒドガス発生量を増加させることを
可能とする。

【００６６】ホルムアルデヒドガス殺菌装置６６による
殺菌効果の測定方法、さらに対象となる細菌も特に制限
はなく、種々の公知の方法が適用可能である。具体的に
はＩＳＯ規格のものが挙げられる。このホルムアルデヒ
ドガス殺菌装置６６においては、特に市販の種々の形状
のバイオロジカルインジケータが、簡便でありかつ再現
性良く使用可能である。具体的にはストリップス型（試
験紙タイプ）のものや、プルーフ型のものが使用可能で
あり、使用可能な細菌としては、Bacillus subtilis, v
ar. niger（ATCC No.9372）や、Bacillus stearothemop
hilus（ATCC No.7953）が好ましく使用可能である。

【００６７】また、殺菌効果を判定するために、通常
は、(１)上記試験紙等を被殺菌空間２ａ内の複数の選択
された場所に設置し、(２)本発明に係る方法を用いてホ
ルムアルデヒドガス殺菌処理した後に、(３)該試験紙を
適当な培地を用いて培養し、その生存細菌の有無で、陰
性（生存細菌なし）又は陽性（生存細菌あり）を判別す
る。従って、係る判別方法は殺菌効果を示すと同時に滅
菌効果をも示すものである。

【００６８】この培養条件は、具体的には、細菌Bacill
us subtilis, var.niger（ATCC No.9372）の場合は、ト
リプソウヤブイオン培地（30〜35℃±１.0℃）で７日間
の培養、また細菌 Bacillus stearothemophilus (ATCC
No.7953)の場合は、トリプソウヤブイオン培地（55〜60
℃±１.0℃）で７日間以上の培養が好ましく使用可能で
ある。

【００６９】ホルムアルデヒドガス発生装置６６に係る
方法を用いた場合の上記判別方法による殺菌効果は、具
体的には、Bacillus subtilis, var.niger（ATCC No.93
72)１０⁶オーダーのものを使用し、またBacillus stear
othemophilus (ATCC No.7953) １０⁶オーダーのものを
使用した場合に陰性（すなわち滅菌を意味する）を示す
ものである。

【００７０】また、ホルムアルデヒドガス発生装置６６
において使用可能なホルムアルデヒドガスを含む排ガス
の処理方法、処理器についても特に制限はない。通常公
知の処理方法である、スクラバによる洗浄方法、吸収剤
による吸収方法、適当な触媒を用いた分解反応による除
去方法、若しくはそれらの組み合わせ方法が挙げられ
る。処理の程度、処理の容量については、処理するホル
ムアルデヒドガスの濃度、混在する不純物、被殺菌空間
２ａの容量、排出基準値を考慮して適当に選択すること
は容易である。

【００７１】ホルムアルデヒドガス殺菌装置６６のハウ
ジング６８は特に制限はなく、この装置を設置し、また
は取り外し、搬送する際に容易に一体して取り扱うこと
が可能である。また移動手段を備えているものも含まれ
る。

【００７２】

【発明の効果】請求項１記載の発明によれば、第１閉空
間内にガス等を充満させた場合に、この第１閉空間から
ガスが洩れるようなことがあっても、このガスは第１閉
空間よりも圧力が低い第２閉空間に流れ込み、この流れ
込んだガスは第２閉空間内の圧力が第２閉空間外の大気
圧よりも低く設定されているので、圧力に抗して第２閉
空間外に洩れるようなことはない。したがって、第１閉
空間にガスを充満させても、このガスが第１閉空間から
第２閉空間外の大気に洩れるようなことはない。

【００７３】請求項２記載の発明によれば、第１閉空間
内に使用済みの介護用品や医療用具などを搬入し、これ
ら介護用品や医療用具等を第１閉空間内に殺菌ガスを供
給して殺菌することができ、このとき殺菌ガスは第２閉
空間外の大気に洩れるようなことはない。

【００７４】請求項３記載の発明によれば、第１閉空間
に充満させたガスは排ガス処理を施してから第２閉空間
外の大気に排気され、またこの第１閉空間内のガスが第
２閉空間に洩れ出たとしても、このガスは排ガス処理を
施してから第２閉空間外の大気に排気される。

【００７５】請求項４記載の発明によれば、第２閉空間
外から給気ユニットによって給気される空気は、給気ユ
ニットと排気ユニットとの間には隔壁が設けられている
ために、第２閉空間内を循環する。このため、第１閉空
間内にガス等を充満させた場合に、この第１閉空間から
第２閉空間内にガスが洩れるようなことがあっても、こ
のガスは第２閉空間内を循環しながら排気ユニットによ
って排気される。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施の形態にかかる閉空間内雰囲気保
持装置の概略全体図である。

【図２】ホルムアルデヒドガス殺菌装置のブロック図で
ある。

【図３】この閉空間内雰囲気保持装置の作動を示すフロ
ーチャートである。

【図４】この閉空間内雰囲気保持装置の作動を示すフロ
ーチャートである。

【符号の説明】

２…殺菌室、２ａ…第１閉空間、４…囲いシート、４ａ
…第２閉空間、６…第１室圧調整装置、１２…コントロ
ールユニット、３４…第１排ガス処理器、３６…第１微
差圧検出器、３８…第２室圧調整装置、６０…第２排ガ
ス処理器、６４…第２微差圧検出器、６６…ホルムアル
デヒドガス殺菌装置。

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 第１閉空間を画成する閉空間画成手段
   と、前記閉空間画成手段を外側から囲んで前記第１閉空
   間の外側に第２閉空間を画成し、前記第２閉空間の外側
   には大気が存在する囲み手段と、前記第１閉空間と前記
   第２閉空間との第１圧力差を検出する第１差圧検出器
   と、前記第１差圧検出器によって検出された前記第１圧
   力差に基づいて前記第１閉空間の第１圧力を調整する第
   １圧力調整手段と、前記第２閉空間と大気との第２圧力
   差を検出する第２差圧検出器と、前記第２差圧検出器に
   よって検出された前記第２圧力差に基づいて前記第２閉
   空間の第２圧力を調整する第２圧力調整手段と、前記第
   ２圧力調整手段により前記第２閉空間の前記第２圧力を
   大気圧よりも低く制御すると共に、前記第１圧力調整手
   段により前記第１閉空間の前記第１圧力を前記第２圧力
   よりも高く制御する制御手段とを備えることを特徴とす
   る閉空間内雰囲気保持装置。
2. 【請求項２】 前記第１閉空間内に搬入された物体を殺
   菌するために、前記第１閉空間に殺菌ガスを供給する殺
   菌ガス供給手段を更に備えることを特徴とする請求項１
   記載の閉空間内雰囲気保持装置。
3. 【請求項３】 前記第１閉空間からの排ガスを処理する
   第１排ガス処理器と、前記第２閉空間からの排ガスを処
   理する第２排ガス処理器を更に備えることを特徴とする
   請求項１又は請求項２記載の閉空間内雰囲気保持装置。
4. 【請求項４】 前記第２圧力調整手段を、前記第２閉空
   間内の空気を前記第２閉空間外に排気する排気ユニット
   および前記第２閉空間外の空気を前記第２閉空間内に給
   気する給気ユニットとで構成し、前記排気ユニットと前
   記給気ユニットの間の個所に隔壁を設け、前記給気ユニ
   ットから前記第２閉空間に給気された空気を、前記第２
   閉空間内を循環させて前記排気ユニットから前記第２閉
   空間外に排気させることを特徴とする請求項１〜請求項
   ３の何れか１項に記載の閉空間内雰囲気保持装置。