JP2002353286A - 電子デバイス製造装置及びその搬送制御方法 - Google Patents

電子デバイス製造装置及びその搬送制御方法

Info

Publication number
JP2002353286A
JP2002353286A JP2001152054A JP2001152054A JP2002353286A JP 2002353286 A JP2002353286 A JP 2002353286A JP 2001152054 A JP2001152054 A JP 2001152054A JP 2001152054 A JP2001152054 A JP 2001152054A JP 2002353286 A JP2002353286 A JP 2002353286A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
processing
chamber
substrate
cassette
electronic device
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2001152054A
Other languages
English (en)
Inventor
Shojiro Satake
象二郎 佐竹
Kunio Yoshihara
国雄 吉原
Makoto Kiyohara
誠 清原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP2001152054A priority Critical patent/JP2002353286A/ja
Publication of JP2002353286A publication Critical patent/JP2002353286A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Drying Of Semiconductors (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 トラブル発生による基板回収時に、カセット
にある加工処理可能な基板をもらす事なく継続して処理
でき、歩留まりを向上することができる電子デバイス製
造装置及びその搬送制御方法を提供する。 【解決手段】 カセット4から予備室3と移載室2を経
由して所定の処理室1a〜1cに搬入され、加工処理さ
れた基板を移載室2を経由して別の処理室1a〜1c
へ、または予備室3を経由してカセット4へ搬出する電
子デバイス装置製造装置のトラブル発生時に装置内に残
留する基板を回収後、カセット4の中にある加工未処理
の基板を特定し、処理順番を再設定して、特定された基
板から生産処理を継続させることにより歩留まり向上が
可能となる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体製造装置や
液晶製造装置などの電子デバイス製造装置とその搬送制
御方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来より、半導体や液晶などの電子デバ
イスを製造するための電子デバイス製造工程においては
複数の処理室を持つ電子デバイス製造装置が広く利用さ
れている。
【0003】この種の電子デバイス製造装置は、図1に
示すように移載室2を中央にして予備室3と処理室1a
〜1cが設けられている。移載室2には処理室1a〜1
cと予備室3との基板の出し入れを実行するロボットハ
ンドであるアーム7が設置されている。
【0004】電子デバイス製造装置の外部には基板収納
用カセット4と予備室3との間の基板の出し入れ及び移
載をおこなう大気ハンドラ用アーム8が設置されてい
る。
【0005】カセット4には基板が複数毎挿入されてお
り、その基板を大気ハンドラ用アーム8により順番に出
し入れする。
【0006】以下、電子デバイス製造装置における従来
の搬送制御方法を具体的に説明する。
【0007】図1に示すように、基板をカセット4から
搬入搬出する大気ハンドラ用アーム8、各部屋へ基板を
搬送する移載室2を中央にして、その周囲には基板を移
載室2へ出し入れする予備室3と基板にエッチングやス
パッタリングなどの加工処理を施す処理室1a〜1cが
設置されている。
【0008】処理室1a〜1cの運転及び基板搬送に関
してはマイクロコンピュータを主要部とする制御処理部
5と基板の状態や基板の処理順番を記憶する制御記憶部
6によって管理されている。
【0009】ここでは、処理室1a〜1cでは加工処理
をしており移載室2及び予備室3に処理前の基板がある
ものとする。
【0010】そして、この運転中に処理室1aでトラブ
ルが発生し装置内の基板を全て回収する必要がおこった
場合の処理手順を図3のフローチャートを用い説明す
る。
【0011】ステップS1で基板回収を実行している事
を制御処理部5が認識し、基板をすべてカセット4に回
収する。
【0012】ステップS2において生産開始後、回収し
てきた基板は除外してそのままにし、カセット4から装
置に一度も搬入していない基板から生産処理を継続す
る。
【0013】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うに装置のメンテナンス終了後に生産処理中のカセット
4を継続して生産処理を行う際に一旦処理室と移載室及
び予備室の基板を回収した場合、それらの基板は生産処
理されず不良基板となるため、装置の歩留まりが低下す
るという問題がある。
【0014】本発明は、前記問題点を解決し、回収した
基板の中で未処理の基板がある場合、装置の再スタート
した時その未処理基板から搬送開始し生産処理を継続さ
せる電子デバイス製造装置及びその搬送制御方法を提供
することを目的とする。
【0015】
【課題を解決するための手段】本発明の電子デバイス製
造装置はカセットから予備室と移載室を経由してアーム
により搬入される基板に対して加工処理を施す処理室
と、前記処理室において、処理された前記基板を前記ア
ームにより前記移載室を経由して別の処理室へ、または
前記予備室を経由してカセットへ搬出する電子デバイス
装置製造装置であって、トラブル発生時に装置内に残留
する基板を回収する大気ハンドラ用アームと、前記カセ
ットの中にある加工未処理の基板を比較判断して特定す
るとともに、前記加工未処理の基板から生産処理を継続
させるための処理順番を設定する制御記憶部とを備えた
ことを特徴とするものである。
【0016】また、本発明の電子デバイス製造装置の搬
送制御方法は、カセットから予備室と移載室を経由して
所定の処理室に搬入される基板に対して加工処理を施
し、処理された基板を前記移載室を経由して別の処理室
へ、または前記予備室を経由してカセットへ搬出する電
子デバイス装置製造装置による加工処理において、トラ
ブル発生時に、装置内に残留する基板を回収後、前記カ
セットの中にある加工未処理の基板を比較判断して特定
するとともに、前記加工未処理基板から生産処理を継続
させるための処理順番を設定することを特徴とするもの
である。
【0017】この発明によると、基板回収後の未処理基
板を漏らすことなく生産処理できるため歩留まりを向上
させることができる。
【0018】
【発明の実施の形態】請求項1記載の電子デバイス製造
装置は、カセットから予備室と移載室を経由してアーム
により搬入される基板に対して加工処理を施す処理室
と、前記処理室において、処理された前記基板を前記ア
ームにより前記移載室を経由して別の処理室へ、または
前記予備室を経由してカセットへ搬出する電子デバイス
装置製造装置であって、トラブル発生時に装置内に残留
する基板を回収する大気ハンドラ用アームと、前記カセ
ットの中にある加工未処理の基板を比較判断して特定す
るとともに、前記加工未処理の基板から生産処理を継続
させるための処理順番を設定する制御記憶部とを備えた
ことを特徴とするものである。
【0019】以下、本発明の一実施形態における電子デ
バイス製造装置及びその搬送制御方法について説明す
る。
【0020】図1に示すように、基板(図示せず)をカ
セット4に対し搬入搬出する大気ハンドラ用アーム8が
設けられ、また各部屋へ基板を搬送する移載室2を中央
にして、移載室2の周囲には基板を外部に出し入れする
際の出入口となる予備室3と基板にエッチングやスパッ
タリングなどの加工処理を施す処理室1a〜1cが設置
されている。
【0021】処理室1a〜1cの運転及び基板搬送に関
してはマイクロコンピュータを主要部とする制御処理部
5と基板の状態や基板の処理順番を記憶する制御記憶部
6によって管理されている。
【0022】ここでは、処理室1a〜1cでは加工処理
をしており移載室2及び予備室3に処理前の基板がある
ものとする。
【0023】そして、この運転中に処理室1aでトラブ
ルが発生し装置内の基板を全て回収することが必要とな
った場合を図2のフローチャートを用い説明する。
【0024】ステップS1で基板回収を実行している事
を制御処理部5が認識し、ステップS2において回収し
てきた基板が加工処理前であるか加工処理済みであるか
を制御記憶部6が持っている情報である基板の状態に関
する情報を用い比較判断しステップ3において、次に処
理するべき基板の処理順番を再設定し制御記憶部6で保
持する。
【0025】ステップS4において生産処理を実行する
際には、ステップS3において再設定された基板から生
産処理を継続実行できる。
【0026】
【発明の効果】以上のように本発明の電子デバイス製造
装置の搬送制御方法によれば、カセットから予備室と移
載室を経由して所定の処理室に搬入される基板に対して
加工処理を施し、処理された基板を前記移載室を経由し
て別の処理室または前記予備室を経由してカセットへ搬
出する構成を有しており、トラブル発生で装置内の基板
を回収後、カセットの中にある未処理の基板を検出し未
処理基板から生産処理を継続させる事ができるため歩留
まりを向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施形態による電子デバイス製造装
置の概略構成図
【図2】図1に示す電子デバイス製造装置の搬送制御方
法を示すフロー図
【図3】電子デバイス製造装置の従来の搬送制御方法を
示すフロー図
【符号の説明】
1a〜1c 処理室 2 移載室 3 予備室 4 カセット 5 制御処理部 6 制御記憶部 7 アーム 8 大気ハンドラ用アーム
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 清原 誠 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 Fターム(参考) 5F004 BC05 BC06 BD05 CA08 5F031 CA02 FA01 FA07 FA12 FA15 MA01 MA06 MA29 MA30 PA02 PA10 PA30

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 カセットから予備室と移載室を経由して
    アームにより搬入される基板に対して加工処理を施す処
    理室と、前記処理室において、処理された前記基板を前
    記アームにより前記移載室を経由して別の処理室へ、ま
    たは前記予備室を経由してカセットへ搬出する電子デバ
    イス装置製造装置であって、トラブル発生時に装置内に
    残留する基板を回収する大気ハンドラ用アームと、前記
    カセットの中にある加工未処理の基板を比較判断して特
    定するとともに、前記加工未処理の基板から生産処理を
    継続させるための処理順番を設定する制御記憶部とを備
    えたことを特徴とする電子デバイス製造装置の搬送制御
    方法。
  2. 【請求項2】 カセットから予備室と移載室を経由して
    所定の処理室に搬入される基板に対して加工処理を施
    し、処理された基板を前記移載室を経由して別の処理室
    へ、または前記予備室を経由してカセットへ搬出する電
    子デバイス装置製造装置による加工処理において、トラ
    ブル発生時に、装置内に残留する基板を回収後、前記カ
    セットの中にある加工未処理の基板を比較判断して特定
    するとともに、前記加工未処理基板から生産処理を継続
    させるための処理順番を設定することを特徴とする電子
    デバイス製造装置の搬送制御方法。
JP2001152054A 2001-05-22 2001-05-22 電子デバイス製造装置及びその搬送制御方法 Pending JP2002353286A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001152054A JP2002353286A (ja) 2001-05-22 2001-05-22 電子デバイス製造装置及びその搬送制御方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001152054A JP2002353286A (ja) 2001-05-22 2001-05-22 電子デバイス製造装置及びその搬送制御方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2002353286A true JP2002353286A (ja) 2002-12-06

Family

ID=18996786

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001152054A Pending JP2002353286A (ja) 2001-05-22 2001-05-22 電子デバイス製造装置及びその搬送制御方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2002353286A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8571703B2 (en) * 2007-09-18 2013-10-29 Tokyo Electron Limited System, method and storage medium for controlling a processing system

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8571703B2 (en) * 2007-09-18 2013-10-29 Tokyo Electron Limited System, method and storage medium for controlling a processing system

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US8055378B2 (en) Device for controlling processing system, method for controlling processing system and computer-readable storage medium stored processing program
US8571703B2 (en) System, method and storage medium for controlling a processing system
JP2006024684A (ja) 基板の回収方法及び基板処理装置
US9818629B2 (en) Substrate processing apparatus and non-transitory computer-readable recording medium
JP6842828B2 (ja) 処理システム及び処理プログラム
JP2002353286A (ja) 電子デバイス製造装置及びその搬送制御方法
JP2002260995A (ja) 基板処理装置及び基板処理装置における基板回収方法
TWI408727B (zh) 基板處理裝置之排程作成方法及資訊記錄媒體
JP5981307B2 (ja) 処理方法及び処理装置
US10553468B2 (en) Substrate storing method and substrate processing apparatus
JP2011054679A (ja) 基板処理装置
JP2005129868A (ja) 搬送制御方法
US20230093324A1 (en) Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device and non-transitory computer-readable recording medium
JPH0252449A (ja) 基板のロード・アンロード方法
JPH09159981A (ja) 成膜装置
JP2001135703A (ja) 搬送制御方法と電子デバイス製造装置
JP7303678B2 (ja) 基板処理システム及び基板処理方法
JP4549942B2 (ja) 基板処理装置,基板処理方法及びコンピュータプログラム
JP4184018B2 (ja) 半導体製造装置、半導体製造システムおよび半導体製造方法
JP2000252335A (ja) 半導体製造装置
JP3220716B2 (ja) 製造処理装置の制御システム
JPH10177981A (ja) 基板処理装置及び方法
JP3145359B2 (ja) 真空処理装置及び基板の真空処理方法
JP2000144453A (ja) エッチングシステム及びエッチング方法
JP3295442B2 (ja) ドライエッチング方法