JP2002352484A - 光磁気記録媒体 - Google Patents

光磁気記録媒体

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JP2002352484A JP2001157148A JP2001157148A JP2002352484A JP 2002352484 A JP2002352484 A JP 2002352484A JP 2001157148 A JP2001157148 A JP 2001157148A JP 2001157148 A JP2001157148 A JP 2001157148A JP 2002352484 A JP2002352484 A JP 2002352484A
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magneto
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健 玉野井
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 この発明は、光磁気記録媒体に関し、従来よ
りも狭トラックピッチのランドグルーブ基板を用いて
も、実用上問題とならない程度に隣接トラックからのク
ロストークの発生を抑えることのできる光磁気記録媒体
を提供すること。 【解決手段】 少なくとも3層からなる磁性層を備え、
光ビームの集中照射によって第3磁性層に記録された記
録マークを、その上層の第2磁性層を介してさらにその
上層の第1磁性層に転写して再生する光磁気記録媒体で
あって、第1磁性層が、所定温度以上となった領域に、
自発磁化の存在しない高温マスクを備えてなることを特
徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、光磁気記録媒体
に関し、特に、磁気超解像(Magnetically Induced Sup
er Resolution)再生が可能な光磁気記録媒体に関す
る。
【0002】
【従来の技術】光磁気記録媒体は、記録密度を増大させ
るために、レーザビームのスポット径よりも短いマーク
長を持ち、スポット径よりも短い周期で形成された記録
マークを備えたものが開発されている。特に、ビームの
スポット径よりも小さな記録マークを再生する方法とし
て、磁気超解像(MSR)再生方法が提案されている。
この方法は、記録層と再生層とを含む複数の磁性層を積
層した光磁気ディスクを回転しつつ再生レーザ光を照射
することにより光磁気ディスクの周方向に温度分布を生
ぜしめ、この温度分布を利用して小さな記録マークを読
出すようにしている。これにより、実質的に再生レーザ
光のスポット径よりも小さな光スポットで再生した場合
と同等の分解能が得られる。
【0003】また、磁気超解像を利用して、ビームスポ
ットより短い周期で記録された記録マークを再生するこ
とのできる媒体として、所定の特性を有する3層の磁性
層から構成される磁気超解像媒体が、特開2000−2
00448号公報に記載されている。この媒体は、再生
層、中間層及び記録層の3つの磁性層からなり、ビーム
スポット内に形成される温度分布の低温領域に低温マス
ク(フロントマスクという)を形成すると共に、高温領
域に高温マスク(リアマスクともいう)を形成したダブ
ルマスクの磁気超解像媒体(Double mask Rear Apertur
e Detection:D-RAD媒体)である。この媒体によれば、
トラックピッチが0.9μmのランド基板上に形成され
た長さ0.38μmの記録マークが、300Oe以下の
再生磁界で再生することができる。
【0004】また、さらに記録媒体の高密度化をするた
めには、媒体の半径方向のトラックピッチを詰めて、記
録マークのマーク長を短くする必要がある。トラックピ
ッチを詰めて高密度化する一つの方法として、ランドグ
ルーブ基板を用い、ランドとグルーブの両方に、記録マ
ークを形成する方法がある。前記したD−RAD媒体
に、ランドグルーブ基板を適用したとしても2.3GB
/3.5インチ程度の高密度媒体であれば、隣接トラッ
クからのクロストークがほとんど生じない媒体を形成す
ることが可能である。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかし、さらなる媒体
の大容量化を目指してランドグルーブ基板のトラックピ
ッチを詰めていった場合には、隣接トラックからのクロ
ストークが無視できなくなり、再生パワーマージンが計
設値よりも狭くなるという問題が生じる。たとえば、ト
ラックピッチが0.50μm程度の高密度のD−RAD
媒体に対してLD波長660nm,NA=0.55の光
学系で再生する場合には、隣接トラックからのクロスト
ークが無視できない程度発生し、データの記録再生の実
用レベルでは問題となる。
【0006】図12及び図13に、従来のD−RAD媒
体のクロストークの再生パワー(Pr)依存性を説明す
るグラフを示す。縦軸はクロストークの発生量に相当す
るデシベル値CNR(dB)であり、横軸は再生パワー
(mW)を示している。また、図12は、トラックピッ
チが0.65μmのランドグルーブ基板であり、図13
はトラックピッチが0.50μmのランドグルーブ基板
である。このグラフは、ランドに隣接するグルーブに、
最短マーク長が0.300μmの8Tマークを記憶した
場合に、クロストークによりランドに漏れこむ信号のデ
シベル値を測定したものである。
【0007】図12によれば、再生パワーPrが3.6
mWから5.5mW程度まで上昇しても、クロストーク
は再生の実用上問題とならない20dB以下である。ま
た、再生が可能なCNRの立ち上がり(Prth)であ
るPr=3.8mWから、クロストークが20dB以下
の領域(Pr=5.5mWまで)を再生パワーマージン
と考えると、図12の場合は、±18.3%の再生パワ
ーマージンがある。一方、図13に示したトラックピッ
チが0.50μmのランドグルーブ基板では、再生パワ
ーPrが4.5mW付近でクロストークが20dBを越
える。すなわち、高Pr側で大きくクロストークが観測
されており、より低い再生パワーの領域でもクロストー
クの影響が大きくなる。図13では、再生パワーマージ
ンは、±9.0%程度まで減少している。
【0008】このように、高Pr側で大きなクロストー
クが観測されるのは、次のようなメカニズムによるもの
と考えられる。図14に、従来のD−RAD媒体の再生
時の各層の磁化状態の説明図を示す。図14において、
D−RAD媒体の3つの磁性層である再生層51,中間
層52,及び記録層53の磁化の向きを示している。こ
の磁性層に対して、下方から再生磁場61が印加された
状態で、上方から光ビームが照射される。図14はこの
光ビームが照射されたビームスポットBS近傍の磁化状
態を示しているが、この媒体が図面上右方向に移動した
場合、ビームスポット内の温度分布は3つの領域(低温
領域A,中間温度領域B,高温領域C)に分けられる。
磁化の向きは、上方向が記録方向L1を示し、下方向が
消去方向L2を示している。
【0009】図14に示すように、再生磁場61を記録
方向L1に加えると、ビームスポット内の低温領域Aで
は、中間層52の磁化がすべて、外部磁場方向L1に向
き、中間層52と交換結合した再生層51の磁化が消去
方向L2に向けられて、再生層51内において低温マス
クA1が形成される。このとき、低温領域の記録層53
の磁化の向きとは関係なく中間層52の磁化の向きがそ
ろえられ、記録方向L1の記録層53の磁化と中間層5
2との間に界面磁壁62が生じている。
【0010】一方、ビームスポット内の高温領域Cで
は、中間層52の磁化がキュリー温度に達しているの
で、自発磁化を消失し(空白部で表示)、再生層51と
の交換結合力が切断される。したがってこの高温領域C
では再生層51の磁化はすべて外部磁化方向L1に揃え
られ、すなわち再生層51内において、自発磁化がすべ
て記録方向L1に向いて高温マスクC1が形成される。
【0011】また、中間温度領域Bでは、記録層53に
記録された記録マークが中間層52を介した交換結合に
より再生層51に転写される。ここで、再生層51に転
写された記録マークの磁化方向は、記録方向L1であ
る。すなわち、この場合は、中間温度領域Bの磁化方向
は、高温マスクC1と同じ方向を向いている。
【0012】図15に、D−RAD媒体を上方向から見
た場合に、クロストークの発生する様子を説明する図を
示す。図15(b)は、トラックピッチTPが比較的広
い場合を示しており、ビームスポットBSの中の高温マ
スクC1は、隣接する記録マークM1にはかからないた
め、クロストークは発生していない。
【0013】一方、図15(a)に示すように、トラッ
クピッチTPが図15(b)よりも狭い場合には、記録
方向L1に向いた自発磁化からなる高温マスクC1が隣
接する記録マークM1にかかってくる場合もある。この
とき、本来マスクしなければならない記録マークM1ど
うしがつながって高温マスクC1と同じ磁化方向L1に
揃おうとして転写され、これがクロストーク信号として
隣接トラックの記録マークの再生に影響を及ぼすことが
考えられる。
【0014】一方、高温領域のマスクが隣接トラックの
マークまでかかってこない場合でも、次のような原理で
隣接トラックのマークが転写されると考えられる。図1
6に示すように、再生磁場61によって記録方向L1に
向けられた高温領域Cの再生層51の磁化からは、図中
斜線矢印で示した方向に漏洩磁場63が発生する。これ
は、中間温度領域Bにおける転写状態のときの中間層5
2の磁化方向と同じであり、転写を助ける方向に働く。
この漏洩磁場63は、再生層51の磁化の大きさに比例
して強く発生し、距離の二乗に反比例して弱くなる。
【0015】一般に、D−RAD媒体の再生層51は、
200℃程度まで温度とともに飽和磁化の値が増大する
材料を用いているため、高温領域Cのマスクが形成され
隣接トラックの記録マークM1に近づくほど高温領域C
の再生層51のマスクからの漏洩磁場63が転写を助け
る方向に強く働き、図17に示すように隣接トラックへ
のクロストークとして影響することが考えられる。
【0016】このように、従来のD−RAD媒体におい
ては、トラックピッチを狭めていくと、再生層内の自発
磁化を有する高温マスクに起因したクロストークが発生
するので、トラックピッチを狭めることによる高密度化
には限界がある。
【0017】この発明は、以上のような事情を考慮して
なされたものであり、従来用いられているD−RAD媒
体よりもトラックピッチを狭めた場合でも、隣接トラッ
クに対するクロストークを低減でき、高温で自発磁化が
ないため高温マスク形成に伴う磁気的ノイズの発生を抑
えた光磁気記録媒体を提供することを課題とする。
【0018】
【課題を解決するための手段】この発明は、少なくとも
3層からなる磁性層を備え、光ビームの照射によって第
3磁性層に記録された記録マークを、その上層の第2磁
性層を介してさらにその上層の第1磁性層に転写して再
生する光磁気記録媒体であって、第1磁性層が、所定温
度以上となった領域に、自発磁化の存在しない高温マス
クを備えてなることを特徴とする光磁気記録媒体を提供
するものである。これによれば、隣接トラックからのク
ロストークを低減させることができ、トラックピッチを
従来の媒体よりも狭くしても記録ノイズ及び消去ノイズ
の低減を図ることができる。
【0019】ここで、前記第1磁性層のキュリー温度と
前記第2磁性層のキュリー温度とがほぼ一致するよう
に、所定の金属を第1磁性層に添加すれば、自発磁化の
存在しない高温マスクが形成される。また、添加する金
属は、前記第1磁性層のキュリー温度と補償温度とを調
整することのできる磁性材料を用いる。さらに、前記金
属は、Cr,Mn,MnCrまたはNbのうちいずれか
を用いることができる。
【0020】この発明において、基板はガラス,ポリカ
ーボネート(PC)樹脂などの材料を用いることができ
る。下地層は、カー回転角のエンハンスという性質を備
えた材料からなる誘電体層であるが、特にSiNやAl
Nなどの材料を用いることができる。第1磁性層は、G
dFeCoを主体とし、これに前記したCr,Mnなど
の金属材料を添加したものを用いることができる。第2
磁性層は、GdFeCoやGdFeを主体とし、これに
Si,AlまたはTiなどの金属材料を添加したものを
用いることができる。第3磁性層は、TbFeCoやD
yFeCoを用いることができる。
【0021】この発明において、第1磁性層とは、いわ
ゆる再生層を意味するが、第1磁性層の所定の温度以上
となった領域とは、記録マークの再生時に情報の読み出
しを禁止するマスクが形成される領域である「高温領
域」を意味し、所定の温度とは、一定値として規定する
ことはできないが、たとえば、200℃程度の温度をい
う。この第1磁性層の高温領域に形成されるマスクを、
高温マスクという。
【0022】この発明の光磁気記録媒体は、基板の上
に、高反射率層、前記第1磁性層、第2磁性層および第
3磁性層を、この順に積層して構成することができる。
また、基板と高反射率層との間に、下地層を介在させて
もよい。また、基板の上に、第4磁性層、第1磁性層、
第2磁性層および第3磁性層を、この順に積層し、第4
磁性層は、第2磁性層と同じ材料を用いて構成してもよ
い。基板と第4磁性層との間に、下地層を介在させても
よい。さらに、基板の上に、高反射率層、前記第4磁性
層、第1磁性層、第2磁性層および第3磁性層を、この
順に積層して構成してもよい。この場合も、基板と高反
射率層との間に、下地層を介在させてもよい。
【0023】ここで、前記高反射率層は、反射光量の増
加という性質をもつ材料を用いることができるが、たと
えばAgPdCu,Al,AlCrまたはAlTiのい
ずれかを用いることができる。また、前記基板は、ラン
ドのみに記録マークを有するランド基板またはランド及
びグルーブの両方に記録マークを有するランドグルーブ
基板を用いることができる。
【0024】
【発明の実施の形態】以下、図面に示す実施の形態に基
づいてこの発明を詳述する。なお、これによってこの発
明が限定されるものではない。図1に、この発明の光磁
気記録媒体(以下、単にディスクともいう)の一実施例
の断面構成図を示す。ここで、基板1は、トラックピッ
チ0.5μmのランドグルーブ基板とする。
【0025】この発明のディスクは、基板1上に、下地
層2、第1磁性層3、第2磁性層4、第3磁性層5、保
護層6、及び熱伝導層7を、DCスパッタ法により順次
形成することにより作ることができる。このディスクに
対して、光ビームが基板1の上方から照射され、熱伝導
層7側から再生磁場61が加えられる。
【0026】ここでは、基板1は、ガラス材料を用いる
ものとし、下地層2及び保護層6は、SiNを用いるも
のとするが、これに限定されるものではない。第1磁性
層3は前記した従来の再生層51、第2磁性層4は前記
した従来の中間層52、第3磁性層5は前記した従来の
記録層53にそれぞれ相当する。第1磁性層3の材料
は、Gd21.0Fe55.9Co14.4Cr8.7
であり、第2磁性層の材料は、Gd28.5Fe65.
1Co4.3Si2.2であり、第3磁性層の材料は、
Tb22.3Fe61.4Co16.3とする。熱伝導
層7はAlCrを用いるものとする。
【0027】SiN層2および6を形成するためのスパ
ッタ条件は、ArとN2ガス圧0.8Pa、投入電力
0.8kWであり、磁性層3,4,5及び熱伝導層7を
形成するためのスパッタ条件は、Arガス圧0.5〜
1.0Pa、投入電力0.5〜0.8kWとする。な
お、到達真空度は5×10-5Pa以下の真空とした。各
層の膜厚は、基板1側から順に、下地層90nm,第1
磁性層40nm,第2磁性層40nm,第3磁性層50
nm,保護層60nm,熱伝導層15nmとする。
【0028】第1磁性層3は、室温からキュリー温度ま
で垂直磁化を示すGdFeCoCr膜(膜厚40nm)
であるが、その補償温度Tcompは90℃、キュリー温度
c1は210℃程度である。ここで、添加したCrは、
反強磁性金属であり、第1磁性層3のキュリー温度Tc
と補償温度Tcompとを調整するために入れたものであ
る。
【0029】この発明においては、このCrを所定量添
加することにより、第1磁性層(再生層)3と第2磁性
層(中間層)4のキュリー温度Tcとをほぼ一致させる
ようにすることを特徴とする。この第1磁性層3に添加
する材料としては、補償温度Tcompとキュリー温度Tc
を近づける方向に調整できるものであればよいが、Cr
の他に、Mn,MnCr,Nbなど、反強磁性あるいは
酸化抑制という性質を持つ金属を用いることができる。
ただし、SiやAlなどの非磁性金属は、補償温度T
compとキュリー温度Tcとを調整できないので採用でき
ない。また、添加するCrの量は、中間層のキュリー温
度と同程度になる範囲とするのが好ましい。
【0030】第2磁性層4は、単層ではキュリー温度T
cまで補償温度Tcompが見られない希土類磁化優勢(以
下、REリッチという)組成の面内磁化膜(GdFeC
oSi膜:膜厚50nm)であり、そのキュリー温度は
210℃である。この第2磁性層は積層膜では記録層の
情報を再生層に転写するため所定温度以上で垂直磁化と
なる。ここで、Siは、キュリー温度Tcを低く設定す
るために添加したものであり、Si以外にも、非磁性金
属であるAl,Ti等を添加してもよい。添加するSi
の量は、200℃程度に高温のマスクを形成できるよう
にする程度の範囲とするのが好ましい。
【0031】第3磁性層5は、室温(10℃から35℃
程度)付近に補償温度Tcompがあり、キュリー温度まで
垂直磁化を示す遷移金属磁化優勢(以下、TMリッチと
いう)組成のTbFeCo膜(膜厚60nm)である。
図2に、各磁性層の組成、キュリー温度Tc、補償温度
compを示す。
【0032】図3に、再生層3及び中間層4の飽和磁化
Msと温度との関係グラフを示す。ここで、横軸は温度
(℃)、縦軸は飽和磁化(emu/cc)を示してい
る。この発明の再生層3の特性曲線G1によれば、その
キュリー温度Tcは210℃、補償温度Tcompは90℃
であることがわかる。図3において、Crを含まない従
来の再生層(GdFeCo)の特性曲線G3によれば、
その補償温度Tcompは20℃、キュリー温度Tcは32
0℃であり、この発明の再生層(GdFeCoCr)の
特性曲線G1と比べて、補償温度Tco mpは低く、キュリ
ー温度は高いが、飽和磁化Msの大きさは全体的に大き
い。
【0033】また、この発明の再生層の特性曲線G1と
中間層の特性曲線G2のキュリー温度Tcはどちらも2
10℃程度であり、ほぼ一致している。また、この発明
の再生層3の特性曲線G1の飽和磁化Msの大きさは従
来の再生層の特性曲線G3に比べて小さいので、再生層
からの漏洩磁場が小さいという効果がある。
【0034】図3には、比較のために、Siを添加した
再生層であるGdFeCoSi層の特性曲線G4も示し
たが、Crの替わりにSiを用いているため、補償温度
co mpは約20℃と低い。Si添加量を増やしてキュリ
ー温度をもっと下げることはできるが、Tcompを上げる
ことはできない。この特性曲線G4によれば、従来の再
生層の特性曲線G3と同じように変化しているので、S
iを添加しても、キュリー温度Tcとを下げ補償温度T
compを上げる調整ができないことを示している。
【0035】次に、図1に示したこの発明のディスクの
クロストークの評価について説明する。図4に、この発
明の光磁気記録媒体のクロストークの再生パワー依存性
のグラフを示す。これは、LD波長660nm、NA=
0.55のテスタを用いてランドに隣接するグルーブに
8Tマークを記録した場合に、ランドに漏れ込むCNR
を測定したものである。
【0036】図4によれば、再生パワーPrが5.7m
w程度で20dBのクロストークが発生している。すな
わち、トラックピッチが従来用いられていたものよりも
小さい0.5μmのランドグルーブ基板を用いたにもか
かわらず、再生パワーマージンは±27.3%程度とな
り、隣接マークに対するクロストークの影響を、図13
に示した従来のD−RAD媒体の特性よりもはるかに抑
えることができることがわかる。
【0037】以上のように、この発明の光磁気記録媒体
は、クロストークの低減を達成するために、再生層3と
中間層4とのキュリー温度をほぼ一致させるように再生
層を構成する組成材料としてCrを添加したものである
が、クロストークが低減すること、言いかえれば再生パ
ワーマージンが増加するのは、再生層3の高温領域Cに
形成される高温マスクに、自発磁化が存在していないこ
とが原因と考えられる。
【0038】図5に、この発明の光磁気記録媒体の再生
時の磁化状態の説明図を示す。図14に示した従来のD
−RAD媒体と比べると、低温領域Aは従来と同様に再
生磁場61により、再生層に低温マスクができ、中間温
度領域Bで記録層の磁化が再生層に転写されるが、この
発明の図5の磁化状態では、高温領域Cの再生層3と中
間層4に、自発磁化が存在していない(空白部で表示)
点で異なる。したがって、高温領域Cに形成された高温
マスクは、自発磁化の存在しないマスクであると言うこ
とができる。
【0039】この高温マスクは、自発磁化のないマスク
であるので、図16、図17で説明したような漏洩磁場
63を生じることがなく、隣接トラックの記録マークの
転写を誘発することがない。すなわち、隣接トラックへ
のクロストークが発生しないと言える。また、図5の再
生層3の高温領域Cには自発磁化がないので何も記入し
ていないが、ここには情報の読み出しを禁止する高温マ
スクが形成されている。これは、次のような再生波形に
より確認できる。
【0040】図6に、光変調記録で2T及び8Tの記録
マークが連続したパターンを、この発明の光磁気記録媒
体に記録した場合の再生波形を観測した結果を示す。ま
た、図7に、従来のディスクで、低温マスクのみ存在
し、高温領域に高温マスクが形成されていない媒体の2
T8T連続マークの再生波形を観測した結果を示す。横
方向は時間軸であり、縦方向は上がマークを再生したこ
と、下がスペースを再生したことを示す。
【0041】図7では、8Tスペースを再生した後の2
Tマークの再生信号の振幅が小さくなっているのに対し
て、図6によれば、8Tスペースを再生した後でも、2
Tマークの振幅が劣化していないことがわかる。図7の
従来のディスクでは、円周方向のクロストークのために
2Tマーク再生時に波形干渉が生じているので振幅が小
さくなっていると考えられる。一方、図6に示したこの
発明のディスクでは、再生信号の波形干渉はほとんどな
く、分解能が高いと言えるので、この振幅の劣化のない
波形が得られ、高温領域Cには、いわゆるマスクが形成
されているということがわかる。
【0042】すなわち、以上の結果から、図1に示した
この発明のディスクでは、再生層3の高温領域Cにおい
て自発磁化のない高温マスクが形成されているので、再
生パワーマージンの十分な再生信号が得られクロストー
クの低減を図ることができる。
【0043】次に、高温マスクの形成に伴うノイズにつ
いて説明する。一般に、高温マスクを形成すると、その
自発磁化のゆらぎのために、ノイズ成分が発生する。こ
のノイズ成分が大きいと、信号品質(SNR)に影響を
及ぼすので、できるだけ小さいことが望ましい。
【0044】光磁気記録再生装置(MOテスタ)を用い
て、0.300μmの記録マークを記録層5に記録した
場合のノイズ成分を測定すると、図1のこの発明のディ
スクでは、記録ノイズが5.64mV、消去ノイズが
5.08mVであった。一方、従来のD−RAD媒体で
は、記録ノイズが9.04mV、消去ノイズが6.35
mVであった。
【0045】すなわち、この発明の媒体では、従来に比
べて、記録ノイズが1/2.6倍(8.4dB)に低減
している。したがって、記録ノイズ、消去ノイズとも従
来の媒体に比べて大幅に低減ができたと言える。これ
は、再生層3の高温領域に、自発磁化のない高温マスク
が形成されているので、再生層3の磁化が外部磁場方向
に向けられたときに発生する磁化回転に伴うマスクノイ
ズが発生しないことに起因するものと考えられる。
【0046】以上、第1実施例として、第1磁性層(再
生層3)にCrを添加した層を形成して、自発磁化の存
在しない高温マスクを再生層の高温領域Cに形成してク
ロストークの低減を図る実施例を示したが、Crに代え
て、前記したようなMn,MnCr,Nbのいずれかの
金属を含むようなディスクでも、同じような効果を得る
ことができた。また、第1実施例では、Crの添加量に
ついては、8.7%としたがこれに限るものではなく、
中間層のキュリー温度に近くなる程度の組成範囲であれ
ば、同じようなクロストーク低減の効果が得られた。
【0047】(第2実施例)図8に、第1実施例で作成
したディスクに対して、下地層2と、第1磁性層3との
間に高反射率層11を設けたディスクの構成図を示す。
この高反射率層11を付加すれば、キャリア(信号品質
SNRのS)に影響を与えるMO振幅を増大させること
ができる。
【0048】高反射率層11としては、AgPdCuを
用いることができる。高反射率層11以外の膜の膜厚構
成及び製膜条件は第1実施例と同じでよいが、AgPd
Cu層も第1実施例の熱伝導層と同じ条件により形成し
た。また、高反射率層11は、AgPdCuの他に、反
射率の高いAl,AlCr,AlTi等を用いてもよ
い。
【0049】また、高反射率層11は、あまり厚すぎる
と第1磁性層3の磁化情報を再生できなくなるので、光
ビームが所定量透過できる程度の厚さにする必要があ
る。ここでは、AgPdCu層を2nm程度形成するも
のとする。
【0050】第1実施例のディスクでは、第1磁性層の
キュリー温度を従来のものよりも低く設定しているの
で、多少カー回転角θkが低下している。そこでAgP
dCu層11のような反射率Rの高い層を付加すれば、
R×θkに比例した量として観測されるMO振幅を回復
させることができ、その結果カー回転角も上昇させるこ
とができる。
【0051】図9に、各光磁気記録媒体のMO振幅と再
生パワーとの関係のグラフを示す。ここで、グラフa1
は、図1に示したこの発明の第1実施例の光磁気記録媒
体のものであり、グラフa2は、図8に示したこの発明
の第2実施例の光磁気記録媒体のものであり、グラフb
1は、図14に示した従来のD−RAD媒体のものであ
り、グラフb2は、従来のD−RAD媒体に、高反射率
層を付加した媒体のものである。
【0052】横軸が、再生パワーPrであり、縦軸がM
O振幅である。このグラフによれば、グラフa1に対し
てグラフa2ディスクが、グラフb1に対してグラフb
2のディスクが、いずれも高反射率層を付加しているの
で、MO振幅が増加していることがわかる。すなわち、
高反射率層11を付加することで、従来のD−RAD媒
体も、この発明の第2実施例のディスクもMO振幅が増
大している。
【0053】さらにグラフa2とグラフb2とを比較す
れば、第2実施例のディスクでは、従来のディスクとほ
ぼ同程度にまでMO振幅を回復させることができるとい
える。また、第2実施例のディスクでは、クロストーク
に対する再生パワーマージンは±28.2%程度とな
り、第1実施例と同程度のクロストークの低減を図るこ
とができる。
【0054】(第3実施例)図10に、この発明の第3
実施例の光磁気記録媒体の構成図を示す。これは、図1
に示した第1実施例のディスクに対して、下地層2と第
1磁性層3との間に、第2磁性層4と同じ組成の第4磁
性層12を付加したものである。ここで第4磁性層12
は、第2磁性層と同じ条件でGdFeCoSiを膜厚3
0nm程度形成したものとする。その他の膜の膜厚構成
及び製膜条件は第1実施例と同じとする。
【0055】ここで第4磁性層12は、第1磁性層3よ
りも、高温(150℃から200℃程度)において、カ
ー回転角θkが約0.05°大きい。このために、ディ
スクのMO振幅を増大させることができる。MOテスタ
を用いた観測によれば、第1実施例よりも、約1割程度
MO振幅が増大していた。また、クロストークに対する
再生パワーマージンは、第2実施例とほぼ同じ±28.
0%程度であった。したがって、この第3実施例の媒体
においても、同様に、クロストークの低減、再生パワー
マージンの確保、MO振幅の増大という効果を得ること
ができる。
【0056】(第4実施例)図11に、この発明の光磁
気記録媒体の第4実施例の構成図を示す。この媒体は、
第3実施例の光磁気記録媒体に対して、さらに、下地層
2と第4磁性層12との間に、高反射率層13を付加し
たものである。ここで、高反射率層13は、第2実施例
で示したものと同じAgPdCu層等を用いることがで
きる。各層の膜厚及び製膜条件は前記した実施例と同じ
ものとする。
【0057】ここで、高反射率層13としてAgPdC
u層を2nm程度形成した場合、MO振幅は第3実施例
よりもさらに2割程度増加した。またクロストークに対
する再生パワーマージンは、±28.5%であった。し
たがって、この第4実施例の媒体でも、トラックピッチ
の狭い高密度基板に対しクロストークの低減、十分な再
生パワーマージンの確保、MO振幅の改善を図ることが
できることがわかる。また、第1実施例に示したのと同
様に、この第4実施例でもマスクノイズに起因していた
ノイズが低減できた。なお、本実施例では基板を第1磁
性層側に設けたが、フロントイルミネーションできるよ
う基板を熱伝導層側に設けてもよい。
【0058】
【発明の効果】この発明によれば、記録マークの再生の
ための情報を保持する第1磁性層(再生層)の高温領域
に、自発磁化の存在しない高温マスクを形成しているの
で、従来よりも狭トラックピッチのランドグルーブ基板
を用いた光磁気記録媒体でも、隣接トラックからのクロ
ストークの発生の低減、記録ノイズ及び消去ノイズの低
減を図ることができる。
【0059】また、記録マークの再生を行う第1磁性層
と記録マークの交換結合を行う第2磁性層(中間層)の
キュリー温度をほぼ一致するようにしているので、従来
よりも狭トラックピッチのランドグルーブ基板を用いた
光磁気記録媒体でも、隣接トラックからのクロストーク
の発生の低減、記録ノイズ及び消去ノイズの低減を図る
ことができる。
【0060】さらに、第1磁性層にCrを含んだ磁性材
料を用いているので、従来よりも狭トラックピッチのラ
ンドグルーブ基板を用いた光磁気記録媒体でも、隣接ト
ラックからのクロストークの発生の低減、記録ノイズ及
び消去ノイズの低減を図ることができる。
【0061】また、基板に密接配置された下地層に密接
させて、高反射率層を備えた場合には、狭トラックピッ
チのランドグルーブ基板において、クロストークの発生
の低減に加えて、MO振幅の改善を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の第1実施例の光磁気記録媒体の構成
図である。
【図2】この発明の各磁性層の組成,キュリー温度,補
償温度を示した図である。
【図3】再生層及び中間層の飽和磁化と温度との関係グ
ラフである。
【図4】この発明のディスクのクロストークの再生パワ
ー依存性(トラックピッチ0.50μm基板)のグラフ
である。
【図5】この発明のディスクの再生時の磁化状態の説明
図である。
【図6】この発明のディスクにおいて、2T8Tパター
ンの信号の再生波形を示した図である。
【図7】高温領域にマスクがない従来のディスクの2T
8Tパターンの信号の再生波形を示した図である。
【図8】この発明の第2実施例の光磁気記録媒体の構成
図である。
【図9】各光磁気記録媒体のMO振幅と再生パワーとの
関係グラフである。
【図10】この発明の第3実施例の光磁気記録媒体の構
成図である。
【図11】この発明の第4実施例の光磁気記録媒体の構
成図である。
【図12】従来のD−RAD媒体のクロストークの再生
パワー依存性(トラックピッチ0.65μm基板)のグ
ラフである。
【図13】従来のD−RAD媒体のクロストークの再生
パワー依存性(トラックピッチ0.50μm基板)のグ
ラフである。
【図14】従来のD−RAD媒体の再生時の磁化状態の
説明図である。
【図15】従来のD−RAD媒体において、クロストー
クの発生する様子の説明図である。
【図16】従来のD−RAD媒体において、再生時に発
生する漏洩磁場の説明図である。
【図17】従来のD−RAD媒体において、隣接トラッ
クへの漏洩磁場の影響を説明した図である。
【符号の説明】
1 基板 2 下地層 3 第1磁性層 4 第2磁性層 5 第3磁性層 6 保護層 7 熱伝導層 11 高反射率層 12 第2磁性層 13 高反射率層 A 低温領域 B 中間温度領域 C 高温領域

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 少なくとも3層からなる磁性層を備え、
    光ビームの照射によって第3磁性層に記録された記録マ
    ークを、その上層の第2磁性層を介してさらにその上層
    の第1磁性層に転写して再生する光磁気記録媒体であっ
    て、第1磁性層が、所定温度以上となった領域に、自発
    磁化の存在しない高温マスクを備えてなることを特徴と
    する光磁気記録媒体。
  2. 【請求項2】 前記第1磁性層が、前記第1磁性層のキ
    ュリー温度と前記第2磁性層のキュリー温度とがほぼ一
    致するように、所定の金属が添加された磁性材料からな
    ることを特徴とする請求項1の光磁気記録媒体。
  3. 【請求項3】 前記金属が、前記第1磁性層のキュリー
    温度と補償温度とを調整することのできる磁性材料であ
    ることを特徴とする請求項2の光磁気記録媒体。
  4. 【請求項4】 前記金属が、Cr,Mn,MnCrまた
    はNbのうちいずれかであることを特徴とする請求項2
    の光磁気記録媒体。
  5. 【請求項5】 高反射率層、前記第1磁性層、第2磁性
    層および第3磁性層が、この順に積層されたことを特徴
    とする請求項1乃至4のいずれかに記載の光磁気記録媒
    体。
  6. 【請求項6】 第4磁性層、前記第1磁性層、第2磁性
    層および第3磁性層が、この順に積層され、第4磁性層
    が第2磁性層と同じ材料からなることを特徴とする請求
    項1乃至4のいずれかに記載の光磁気記録媒体。
  7. 【請求項7】 高反射率層、第4磁性層、前記第1磁性
    層、第2磁性層および第3磁性層が、この順に積層さ
    れ、第4磁性層が第2磁性層と同じ材料からなることを
    特徴とする請求項1乃至4のいずれかに記載の光磁気記
    録媒体。
  8. 【請求項8】 前記高反射率層が、AgPdCu,A
    l,AlCrまたはAlTiのいずれかであることを特
    徴とする請求項5または7の光磁気記録媒体。
  9. 【請求項9】 前記基板が、ランドのみに記録マークを
    有するランド基板またはランド及びグルーブの両方に記
    録マークを有するランドグルーブ基板であることを特徴
    とする請求項5乃至8のいずれかに記載の光磁気記録媒
    体。
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