JP2002349874A - 高周波加熱装置 - Google Patents

高周波加熱装置

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JP2002349874A
JP2002349874A JP2001162246A JP2001162246A JP2002349874A JP 2002349874 A JP2002349874 A JP 2002349874A JP 2001162246 A JP2001162246 A JP 2001162246A JP 2001162246 A JP2001162246 A JP 2001162246A JP 2002349874 A JP2002349874 A JP 2002349874A
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frequency heating
sub
heating device
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JP2001162246A
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Hideki Yamaguchi
英樹 山口
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Panasonic Holdings Corp
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Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 表示手段部をSTN液晶表示管とし、温度上
昇を低減すること。 【解決手段】 外装ベース12と、表面に設けた表示手
段14と、外装ベースに平行に設けた制御基板A20
と、制御基板A20と表示手段14との間に副制御基板
として制御基板Bと、冷却風を発生する送風手段18と
を備え、表示手段14と制御基板B19、制御基板A2
0と制御基板B19のそれぞれの間に冷却用風路の隙間
を設けることにより、冷却風が表示手段背面を流れるこ
とになる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、表示手段部分およ
び可動メモリ搭載機種の冷却性能改善を行なった高周波
加熱装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来、この種の高周波加熱装置を図面を
参照して説明する。例えば、図9は、従来の高周波加熱
装置の外装ベース部の側面図を示したものである。
【0003】図9において、1は本体キャビネット、4
は表示手段、5は高周波加熱装置の機械室、6は吸気
口、7は排気口、9は副制御基板であるところの制御基
板B、10は制御基板Aである。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記従
来の構成では、吸気口6から機械室5内に流入した冷却
風で制御基板A10、制御基板B9、表示手段4の各部
品を自然対流で冷やした後、排気口7から排出している
ので、表示手段4に表示情報量が多く耐熱温度が低いS
TN液晶表示管やTFT液晶表示管が使用できない。ま
た、制御基板9に表示手段4が取付けられているため、
ほとんど表示手段4部分に流れる冷却風が無いという課
題を有していた。
【0005】本発明は、前記従来の課題を解決するもの
で、表示手段部の冷却効果を高め、STN液晶表示管や
TFT液晶表示管が使用可能な温度を実現すると共に、
制御基板や副制御基板の冷却効果を高めて信頼性をこう
じょうさせ、更に、可動メモリを搭載可能とした高周波
加熱装置を提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】前記従来の課題を解決す
るために、本発明の高周波加熱装置は、外装ベースの表
面に設けた表示手段と平行に制御基板と副制御基板を配
し、それぞれの間に風路としての隙間を設け、送風手段
によってこれらの風路に冷却風を送り込むものである。
【0007】これによって、表示手段に耐熱温度の低い
STN液晶表示管やTFT液晶表示管などが使用可能と
なり、多くの情報提供をお客様に提供することが可能と
なる。
【0008】
【発明の実施の形態】請求項1に記載の発明は、外装ベ
ースと、前記外装ベース表面に設けた表示手段と、前記
表示手段と前記外装ベースに平行に設けた制御基板と、
前記制御基板と前記表示手段との間に副制御基板と、前
記表示手段と前記制御基板と前記副制御基板を冷却する
送風手段とを備え、前記表示手段と前記副制御基板、前
記制御基板と前記副制御基板のそれぞれの間に冷却用風
路の隙間を設けることにより、冷却風が表示手段背面を
流れることになり、耐熱温度の低い表示手段を採用する
ことができる。
【0009】請求項2に記載の発明は、特に、請求項1
に記載の高周波加熱装置を副制御基板と表示手段の隙間
の距離を10mm以上の寸法を確保することにより、表示
手段部背面の冷却風の風速が上がり、表示手段を効率良
く冷却することができる。
【0010】請求項3に記載の発明は、特に、請求項1
に記載の高周波加熱装置を副制御基板は表示手段の下端
面部で上下部分に分割し、前記副制御基板の分割した上
部と下部を前記表示手段方向に対して段差を設け、前記
副制御基板下部部分側が前記表示手段側に配することに
より、冷却風を効率良く表示手段部背面に流すことを可
能にし、表示手段部の温度を効率良く低減することがで
きる。
【0011】請求項4に記載の発明は、特に、請求項1
に記載の高周波加熱装置を送風手段としてのDCファ
ン、本体キャビネットに設けた吸気口と、前記送風手段
と前記吸気口の間にエアーガイドを設け、前記吸気口の
本体キャビネット面と前記エアーガイドとのなす角度を
30度に設けることにより、送風圧力の低いDCファン
を使用した場合、最も効率良く吸気口からの冷気を吸込
むことが可能になり、表示手段を効果的に冷却すること
ができる。
【0012】請求項5に記載の発明は、特に、請求項3
に記載の高周波加熱装置を分割した副制御基板と可動メ
モリを備え、前記分割した副制御基板の間に可動メモリ
設けることにより、可動メモリの接続部、可動メモリ自
身の温度を低減でき、信頼性の高い高周波加熱装置を提
供することができる。
【0013】請求項6に記載の発明は、特に、請求項3
に記載の高周波加熱装置を可動メモリを備え、可動メモ
リの情報により送風手段の制御を行なうことにより、可
動メモリによって追加された調理レシピに対応した送風
手段の制御を行い、調理性能を改善することができる送
風機の制御が可能となる。
【0014】
【実施例】以下本発明の実施例について、図面を参照し
ながら説明する。
【0015】(実施例1)図1は、本発明の実施例1に
おける高周波加熱装置の図を示すものである。
【0016】図1において、11は本体キャビネット、
14は表示手段であり12の外装ベース表面に設け、2
0は制御基板であり外装ベースのほぼ全高さに渡って外
装ベース表面と平行に設けている。19、21は副制御
基板であり、上下に分割をして19の制御基板B、21
の制御基板Cとして20の制御基板Aと表示手段14の
間に風路を確保して保持されている。18は送風手段で
ある送風機で、DCファンを採用したもので、本体キャ
ビネットの吸気口16との間にはエアーガイド22によ
ってい機械室との仕切を形成し、吸気口16からの冷気
を効率良く送風機18に導き込む働きをしている。制御
基板B19と制御基板C21は制御基板A20との外装
ベース12の間で段違いの状態で配置している。
【0017】図2は、図1の高周波加熱装置の外観斜視
図である。
【0018】以上のように構成された高周波加熱装置に
ついて、以下にその動作、作用を説明する。
【0019】まず、加熱室13に被加熱物を入れ、加熱
を開始すると機械室15内部の温度が上昇してくるた
め、送風機18を作動させる。冷却風aは送風機18を
経て、制御基板A20と制御基板B19を冷やす冷却風
bとなる。表示手段14の下端面部で表示手段14と制
御基板A20の間で風路を2分する制御基板C21によ
り、冷却風cと冷却風dに分かれ、それぞれ、冷却風c
は冷却風eとなって表示手段14の表面と制御基板B1
9の表面を冷やし、冷却風dは冷却風fとなって制御基
板B19の反対面と制御基板A20を冷やした後、排気
口17を通って排出される。
【0020】以上のように、本実施例において表示手段
14から制御基板B19までの距離Aを図5に示すよう
に変化させることにより、表示手段14部表面の温度上
昇値が変化をする。図5のグラフからわかるように、表
示手段14から制御基板B19を離していくと表示手段
14部の温度上昇値は低くなっていくが、あるポイント
を境に温度上昇値の低下率が変わるポイントが現れる。
逆に云えば、このポイントを境に制御基板B19と表示
手段14の距離を離していっても効果が少なくなるポイ
ントである。このポイントが今回の実施例では12mmの
ポイントに現れる結果となり、表示手段14と制御基板
B19の距離を12mmに下場合が最も冷却効果の高い構
成にすることができる。
【0021】また、本実施例では、本体キャビネット1
1の底部に設けた吸気口16と送風機18として風圧の
低いDCファンを用い、このDCファンとを結ぶエアー
ガイド22の構成する角度Bを変化させることで、図6
に示すような特性曲線が得られ、角度Bを小さく(吸気
口16の開口を大きく)していくことにより、表示手段
14部分の温度を下げていくことができるが、小さくし
すぎると逆効果にもなるという結果となった。本体キャ
ビネット11底面後方の温度が上場するため、この熱気
を吸込むためと送風機18であるDCファンの冷却風a
と吸気口16のバランスが取れるポイントが図6で云う
ところの30度に当たるポイントとなっている。
【0022】(実施例2)図3は、本発明の実施例2の
高周波加熱装置の側断面図である。図3において、20
は制御基板A、19は制御基板B、21は制御基板C
で、実施例1の構成と異なるところは可動メモリ23を
設けた点である。なお、実施例1と同一符号のものは同
一構造を有し、説明は省略する。
【0023】また、図4は図3の要部斜視断面図であ
る。
【0024】まず、制御基板A20で仕切られた風路内
で、制御基板B19と制御基板21の隙間部分を設け、
この前記隙間部分に可動メモリ23を配している。
【0025】以上のように、本実施例においては可動メ
モリ23を冷却風路の中に配することにより、可動メモ
リ23の冷却効果を高め、信頼性の高い情報データの読
み込みができる。
【0026】また、本実施例では、可動メモリ23を制
御基板B19と制御基板C21の間に配置することによ
り、外装ベース12のほぼ中央部に配置することがで
き、静電気ノイズの飛び込みに対しても外周部分からの
距離が確保できるため、優位にすることもできる。
【0027】また、図7は、可動メモリ23の情報デー
タの流れを示すフローチャートで、25の読込手段およ
び26の管理手段は制御基板A20上に設けられたマイ
クロコンピュータによりそれぞれの手段が実現され、可
動メモリ23の情報データによって、送風手段である送
風機18の制御も調理レシピ毎に制御が可能となり、新
たな調理レシピが増えるたびに可動メモリ23を介し
て、調理に適切な送風機18の制御を提供することがで
きる。24の書き込み手段としては、外部のパーソナル
コンピューターや専用のデータ書き込み装置などを利用
することができ、書き込むデータに関しては、インター
ネットなどの通信手段を経由して情報を提供することも
可能となり、他の機器との情報共有が図ることができる
ようになり、より発展性のある高周波加熱装置を提供す
ることができる。
【0028】また、図8は、可動メモリ23の一つの具
体例であるSDメモリの外観図を示したものである。
【0029】
【発明の効果】以上のように、請求項1、2および3に
記載の発明によれば、表示手段部分の温度上昇を低減で
き、表示手段として表示情報が多いが、耐熱温度的には
高くないSTN液晶表示管やTFT液晶表示管を採用す
ることが可能である。また、可動メモリの温度上昇も抑
えることができ、信頼性の高い情報家電機器の提供を可
能にすることができる。
【0030】また、情報データの読取手段や可動メモリ
などの部分を効率良く冷却できるので、情報の信頼性を
高め、高付加価値の高周波加熱装置を提供することがで
きる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例1における高周波加熱装置の側
断面図
【図2】本発明の実施例1における高周波加熱装置の外
観斜視図
【図3】本発明の実施例2における高周波加熱装置の側
断面図
【図4】本発明の実施例2における高周波加熱装置の要
部斜視図
【図5】本発明の実施例1におけるA寸法と表示手段部
表面温度グラフ
【図6】本発明の実施例1におけるB角度と表示手段部
温度グラフ
【図7】本発明の実施例2における可動メモリと情報デ
ータのブロック図
【図8】本発明の実施例2における可動メモリの外観図
【図9】従来の高周波加熱装置の側断面図
【符号の説明】
1 本体キャビネット 4 表示手段 5 機械室 6 吸気口 7 排気口 9 制御基板B 10 制御基板A 11 本体キャビネット 12 外装ベース 14 表示手段 15 機械室 16 吸気口 17 排気口 18 送風機(DCファン) 19 制御基板B(副制御基板) 20 制御基板A 21 制御基板C(副制御基板) 22 エアーガイド 23 可動メモリ

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 外装ベースと、前記外装ベース表面に設
    けた表示手段と、前記表示手段と前記外装ベースに平行
    に設けた制御基板と、前記制御基板と前記表示手段との
    間に副制御基板と、前記表示手段と前記制御基板と前記
    副制御基板を冷却する送風手段とを備え、前記表示手段
    と前記副制御基板、前記制御基板と前記副制御基板のそ
    れぞれの間に冷却用風路の隙間を設けた高周波加熱装
    置。
  2. 【請求項2】 副制御基板と表示手段の隙間の距離は1
    0mm以上の寸法を確保してなる請求項1に記載の高周波
    加熱装置。
  3. 【請求項3】 副制御基板は表示手段の下端面部で上下
    部分に分割し、前記副制御基板の分割した上部と下部を
    前記表示手段方向に対して段差を設け、前記副制御基板
    下部部分側が前記表示手段側に配する請求項1に記載の
    高周波加熱装置。
  4. 【請求項4】 送風手段としてのDCファンと、本体キ
    ャビネットに設けた吸気口と、前記送風手段と前記吸気
    口の間にエアーガイドを設け、前記吸気口の本体キャビ
    ネット面と前記エアーガイドとのなす角度を30度に設
    ける請求項1に記載の高周波加熱装置。
  5. 【請求項5】 分割した副制御基板と可動メモリを備
    え、前記分割した副制御基板の間に可動メモリ設ける請
    求項3に記載の高周波加熱装置。
  6. 【請求項6】 可動メモリを備え、前記可動メモリの情
    報により送風手段の制御を行なう請求項3に記載の高周
    波加熱装置。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2008059985A (ja) * 2006-09-01 2008-03-13 Matsushita Electric Ind Co Ltd 誘導加熱調理器
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WO2016051852A1 (ja) * 2014-09-29 2016-04-07 シャープ株式会社 イオン発生機

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