JP2002328295A - 焦点検出装置及びそれを備えた光学顕微鏡又は光学検査装置 - Google Patents
焦点検出装置及びそれを備えた光学顕微鏡又は光学検査装置Info
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Abstract
り、設計時の最適化が容易な焦点検出装置を提供する。 【解決手段】光源3と、入射した光束を反射あるいは透
過させる面を有する光分割部材15と、入射した光束を
集光する集光光学系9と、ピンホール19と、光検出器
21とを備え、光源3は第1の光路に配置され、集光光
学系9とピンホール19と光検出器21は第2の光路に
配置され、光分割部材15は第1の光路の光軸と第2の
光路の光軸とが交わる位置に配置され、ピンホール19
は集光光学系9による集光位置近傍に配置され、光検出
器21はピンホール19を挟んで集光光学系9とは反対
側に配置されている焦点検出装置であって、第2の光路
における集光光学系9とピンホール19との間に可変焦
点素子100を配置している。
Description
象物の観察、測定、検査を行う光学装置に用いられる焦
点検出装置に関する。
査を行う光学装置、例えば光学顕微鏡では、観察者は対
象物の像を鮮明に観察するために、ステージ(あるいは
対物レンズ)を上下に移動させて、対物レンズと対象物
の間隔を調整して焦点合わせをする必要がある。このと
き、対物レンズの倍率が高い場合は焦点深度が浅いた
め、ステージ(あるいは対物レンズ)を大きく移動させ
ると合焦位置を見つけることができない。そこで観察者
は、少しずつステージ(あるいは対物レンズ)を移動さ
せなければならず、合焦位置を見つけるのに時間がかか
る。一方、対物レンズの倍率が低い場合は焦点深度が深
いため、観察者はどのステージ(あるいは対物レンズ)
位置で焦点が合っているのか判断することが困難になる
場合がある。
これらの光学装置は焦点検出装置を組み合わせるように
なってきている。焦点検出装置にはさまざまな方式のも
のがあるが、その1つとして、対象物に向かって光を照
射し、対象物から反射した反射光を光検出器で検出し、
反射光の状態によって合焦状態か非合焦状態かを判断す
るアクティブ方式の焦点検出装置がある。
図13に示す。図13中、3は光源、8はコリメートレ
ンズ、15は偏光ビームスプリッタ、16は1/4波長
板、17はダイクロイックミラー、11は対物レンズ、
Sは対象物である標本、9は結像レンズ、18はハーフ
ミラー、19A、19Bはピンホール、21A、21B
は光検出器である。
長域のレーザ光を射出する。また、偏光状態は直線偏光
である。レーザ光は、コリメートレンズ8で平行光束と
なり、偏光ビームスプリッタ15に入射する。偏光ビー
ムスプリッタ15は、P偏光の直線偏光を反射し、S偏
光の直線偏光を透過する特性を備えている。そこで、射
出されるレーザ光の偏光方向がP偏光方向と一致するよ
うにあらかじめ半導体レーザを配置しておけば、偏光ビ
ームスプリッタ15に入射したレーザ光の全てが偏光ビ
ームスプリッタ15の反射面で反射されるので光強度
(光量)の損失が生じない。
されたレーザ光は、1/4波長板16に入射し、1/4
波長板16を介してP偏光の直線偏光を円偏光にして射
出されダイクロイックミラー17で反射され、対物レン
ズ11を介して標本S上に集光される。標本Sで反射し
たレーザ光は、再び対物レンズ11を通過し、ダイクロ
イックミラー17で反射され1/4波長板16に入射す
る。1/4波長板16に入射した円偏光のレーザ光は、
直線偏光となって射出されるが、今度は直線偏光の方向
がS偏光方向となるので、次いで偏光ビームスプリッタ
15に入射したレーザ光は、全て偏光ビームスプリッタ
15を通過して結像レンズ9に入射し、結像レンズ9を
介して集光される。この途中の光路において、光束はハ
ーフミラー18を介して2方向に分割される。分割され
た一方の光束の光路上には、レーザ光の集光位置よりも
後側の位置にピンホール19Aと光検出器21Aを配置
し、分割されたもう一方の光束の光路上には、レーザ光
の集光位置の前側にピンホール19Bと光検出器21B
が配置されている。光検出器21Aと光検出器21Bに
は、フォトダイオードが用いられており、光検出器21
Aと21Bは、それぞれレーザ光の光強度に応じた電気
信号を発生するようになっている。
状態では、光検出器21Aと光検出器21Bの夫々で発
生する電気信号はほぼ同程度であるが、後ピン状態(標
本Sが焦点位置よりも対物レンズ11から離れた位置に
ある非合焦状態)では、光検出器21Bで発生する電気
信号のほうが光検出器21Aの電気信号より大きくな
り、前ピン状態(標本Sが焦点位置よりも対物レンズ1
1に近い位置にある非合焦状態)では光検出器21Aで
発生する電気信号のほうが光検出器21Bの電気信号よ
り大きくなる。
隔によって光検出器21Aと光検出器21Bで発生する
電気信号の大小関係が変化するので、その差をとった信
号(フォーカスエラー信号)の値によって、合焦状態か
非合焦状態か、更には、前ピン状態か後ピン状態か、を
判断することができる。したがって、このような焦点検
出装置を光学顕微鏡や光学検査装置などの光学装置に組
み合わせて、フォーカスエラー信号がゼロになるように
ステージ(あるいは対物レンズ)を上下に移動させれ
ば、自動的に標本に合焦することができる。
径や位置によって、焦点検出精度、焦点検出捕捉範囲
(焦点検出可能なステージの上下範囲)が大きく左右さ
れる。これらの径や位置を最適化することで、非常に精
度の高い焦点検出が可能である。
からのフォーカスエラー信号に基づいて、ステージ(あ
るいは対物レンズ)を上下に移動し、自動合焦を行う機
構のことを自動合焦手段と呼ぶことにする。図14は自
動合焦手段を備えた光学顕微鏡の概略図である。
し、上述の焦点検出装置を用いた焦点検出方法では、前
ピン状態と後ピン状態の判断を行うために、2個のピン
ホールと光検出器が必要となり、部品点数が多いという
問題があった。また、2個の光検出器の光路のスペース
を確保する必要があり、装置の小型化に限界があった。
さらに、それぞれの光路を個別に調整する必要があるた
め、組立の手間がかかるという問題があった。さらに、
ピンホールの径と配置位置によって、測定精度が大きく
左右されるため、設計時にそれぞれのパラメータ(径や
位置)を最適化するのに手間がかかるという問題があっ
た。
型で、調整が容易であり、設計時の最適化が容易な焦点
検出装置を提供することを目的とする。
成するため、本第1の発明の焦点検出装置は、光源と、
入射した光束を反射あるいは透過させる面を有する光分
割部材と、入射した光束を集光する集光光学系と、ピン
ホールと、光検出器とを備え、前記光源は第1の光路に
配置され、前記集光光学系と前記ピンホールと前記光検
出器は第2の光路に配置され、前記光分割部材は前記第
1の光路の光軸と前記第2の光路の光軸とが交わる位置
に配置され、前記ピンホールは前記集光光学系による集
光位置近傍に配置され、前記光検出器は前記ピンホール
を挟んで前記集光光学系とは反対側に配置されている焦
点検出装置であって、前記第2の光路における前記集光
光学系と前記ピンホールとの間に可変焦点素子を配置し
たことを特徴とする。
源と、入射した光束を反射あるいは透過させる面を有す
る光分割部材と、入射した光束を集光する集光光学系
と、ピンホールと、光検出器とを備え、前記光源は第1
の光路に配置され、前記集光光学系と前記ピンホールと
前記光検出器は第2の光路に配置され、前記光分割部材
は前記第1の光路の光軸と前記第2の光路の光軸が交わ
る位置に配置され、前記ピンホールは前記集光光学系の
集光位置近傍に配置され、前記光検出器は前記ピンホー
ルを挟んで前記集光光学系の反対側に配置されている焦
点検出装置であって、前記集光光学系が可変焦点素子で
あることを特徴とする。
前記可変焦点素子を、反射面を持つ可変焦点ミラーで構
成するのが好ましい。
点検出装置では、前記可変焦点素子を、可変焦点レンズ
で構成するのが好ましい。
点検出装置では、前記光検出器からの出力される信号強
度が一定となる前記可変焦点素子の焦点変化量を検出す
るように構成するのが好ましい。
置は、前記本第1の発明又は本第2の発明の焦点検出装
置を備え、可変焦点素子の焦点変化量に基づいて、自動
合焦を行う自動合焦手段を備えたことを特徴とする。
焦点検出装置の概略構成図である。図1中、3は光源、
8はコリメートレンズ、15は偏光ビームスプリッタ、
16は1/4波長板、17はダイクロイックミラー、1
1は対物レンズ、Sは対象物である標本、9は結像レン
ズ、100は可変焦点ミラー、19はピンホール、21
は光検出器である。
赤外波長域(例えば780nm)のレーザ光を射出す
る。また、偏光状態は直線偏光である。レーザ光は、コ
リメートレンズ8で平行光束となり、偏光ビームスプリ
ッタ15に入射する。偏光ビームスプリッタ15は、P
偏光の直線偏光を反射し、S偏光の直線偏光を透過する
特性を備えている。そこで、射出されるレーザ光の偏光
方向がP偏光方向と一致するようにあらかじめ半導体レ
ーザを配置しておけば、偏光ビームスプリッタ15に入
射したレーザ光の全てが偏光ビームスプリッタ15の反
射面で反射されるので光強度(光量)の損失が生じな
い。
されたレーザ光は、1/4波長板16に入射し、1/4
波長板16を介してP偏光の直線偏光を円偏光にして射
出されダイクロイックミラー17で反射され、対物レン
ズ11を介して標本S上に集光される。標本Sで反射し
たレーザ光は、再び対物レンズ11を通過し、ダイクロ
イックミラー17で反射され1/4波長板16に入射す
る。1/4波長板16に入射した円偏光のレーザ光は、
直線偏光となって射出されるが、今度は直線偏光の方向
がS偏光方向となるので、次いで偏光ビームスプリッタ
15に入射したレーザ光は、全て偏光ビームスプリッタ
15を通過して結像レンズ9に入射し、結像レンズ9を
介して集光される。
ミラー100が配置され、光束の方向を偏向している。
集光位置近傍にはピンホール19が配置され、その後方
に光検出器21が配置されている。光検出器21には、
フォトダイオードが用いられており、レーザ光の光強度
に応じた電気信号を発生するようになっている。
に、アルミコーティングされた薄膜(反射面)100a
と複数の電極100bからなる光学特性可変形状鏡(以
下、単に可変焦点ミラーと言う。)であり、101は各
電極100bにそれぞれ接続された複数の可変抵抗器、
102は可変抵抗器101と電源スイッチ103を介し
て薄膜100aと電極100b間に接続された電源、1
04は複数の可変抵抗器101の抵抗値を制御するため
の演算装置、105,106及び107はそれぞれ演算
装置104に接続された温度センサー、湿度センサー及
び距離センサーで、これらは図示のように配設されて1
つの光学装置を構成している。
oudhury編、Handbook of Michrolithography, Michroma
chining and Michrofabrication, Volume 2:Michromach
ining and Michrofabrication,P495,Fig.8.58, SPIE PR
ESS刊やOptics Communication, 140巻(1997年)P187〜
190に記載されているメンブレインミラーのように、複
数の電極100bとの間に電圧が印加されると、静電気
力により薄膜100aが変形してその面形状が変化する
ようになっている。なお、電極100bの形は、例えば
図4に示すように、薄膜100aの変形のさせ方に応じ
て選べばよい。
ーの他の構成例を示す概略構成図である。図3の可変焦
点ミラー100は、薄膜100aと電極100bとの間
に圧電素子100cが介装されていて、これらが支持台
108上に設けられている。そして、圧電素子100c
に加わる電圧を各電極100b毎に変えることにより、
圧電素子100cに部分的に異なる伸縮を生じさせて、
薄膜100aの形状を変えることができるようになって
いる。電極100bの形は、図4に示すように、同心分
割であってもよいし、図5に示すように、矩形分割であ
ってもよく、その他、適宜の形のものを選択することが
できる。
まず、可変焦点ミラー100がパワーを持たない場合を
考える。合焦状態では、レーザー光はピンホール19の
穴を全て通りその外周部で遮られないので光検出器21
に全て入射し、光検出器21からの信号強度が最大とな
る。後ピン状態および前ピン状態では、標本Sが合焦位
置から離れれば離れるほど、レーザー光はピンホール1
9の穴の外周部で遮られ、光検出器21からの信号強度
は減少する。図6は可変焦点ミラーがパワーを持たない
場合における、ピント位置と光検出器21からの信号強
度との関係を示すグラフである。しかし、この場合に
は、前ピン位置でも後ピン位置でも同じような信号強度
が得られるため、光検出器21からの信号強度だけで
は、後ピン状態なのか前ピン状態なのかを判別すること
ができない。
00の焦点位置を変化させることで、後ピン状態なのか
前ピン状態なのかを判断する。前ピン状態では、光束は
ピンホール19よりも後側に集光するので、可変焦点ミ
ラー100の反射面を凹面に変形させて、最適な曲率と
すれば、ピンホール19の位置に集光させることができ
る。一方、後ピン状態では、光束はピンホール19より
も前側に集光するので、可変焦点ミラー100の反射面
を凸面に変形させて、最適な曲率とすれば、ピンホール
19の位置に集光させることができる。ここで、標本面
での合焦位置からのずれ量と可変焦点ミラー100の焦
点位置変化量との相関関係を予め測定しておけば、ピン
トずれの量を算出することができる。図7は常に信号強
度が最大となるように、ピント位置のずれに合せて可変
焦点ミラーの焦点位置を変化させた場合の相関関係を示
すグラフである。この図では、焦点位置変化量をミラー
のパワーとして表している。なお、ミラーのパワーと
は、曲率Rから求めた焦点距離の逆数である。
置の動作を開始した時に、前ピン状態なのか後ピン状態
なのか判別が付けられない。そこで、可変焦点ミラー1
00を一定の周期で常に焦点位置が変化するように変形
させて、光検出器21から出力される信号強度が最も大
きくなるときの可変焦点ミラー100の焦点位置変化量
からピントのずれ量を算出する。
学検査装置などの光学装置に組み合わせて、焦点変化量
がゼロになるようにステージ(あるいは対物レンズ)を
上下に移動させれば、自動的に標本に合焦することがで
きる。
3に780nmの半導体レーザーを使用する場合には、
400nmから700nmで透過し780nmで反射す
る特性のものを使用する。これにより、対物レンズを透
過する観察光束には影響を及ぼさない。
の半導体レーザーを用いることも可能である。670n
mの半導体レーザーを光源3として使用する場合は、4
00nmから600nmで透過し、670nmで反射す
る特性のダイクロイックミラーを用いる。また、光源3
として、赤色LEDあるいは赤外LEDを用いることも
可能である。ただし、その場合は、LEDから射出され
た光線のうち一部の偏光状態の光線しか利用できないた
め、半導体レーザーよりも照明の効率が落ちる。また、
偏光ビームスプリッタ15の代りに、ハーフミラーを使
用することも可能である。その場合は、1/4波長板1
6が不要となるため部品点数は少なくなるが、偏光ビー
ムスプリッタよりも照明の効率が大きく落ちる。
焦点検出装置の概略構成図である。第2実施例では、第
1実施例の可変焦点ミラー100(図1参照)の代わり
に可変焦点レンズ200を配置し、偏光ビームスプリッ
タ15、集光レンズ9を経たレーザー光を透過させて光
束の方向を偏向しない光路を形成している。なお、集光
位置近傍には、ピンホール19が配置され、その後方に
光検出器21が配置されている。
に、第1,第2の面としてのレンズ面202a,202
bを有する第1のレンズ204aと、第3,第4の面と
してのレンズ面203a,203bを有する第2のレン
ズ204bと、これらレンズ間に透明電極205a,2
05bを介して設けた高分子分散液晶層206とを有
し、入射光を第1,第2のレンズ204a,204bを
経て収束させるものである。透明電極205a,205
bは、スイッチ207を介して交流電源208に接続し
て、高分子分散液晶層206に交流電界を選択的に印加
するようにする。なお、高分子分散液晶層206は、そ
れぞれ液晶分子209を含む球状、多面体等の任意の形
状の多数の微小な高分子セル210を有して構成し、そ
の体積は、高分子セル210を構成する高分子および液
晶分子209がそれぞれ占める体積の和に一致させる。
7をオフ、すなわち高分子分散液晶層206に電界を印
加しない状態では、液晶分子209が様々な方向を向い
ているので、入射光に対する高分子分散液晶層206の
屈折率は高く、屈折力の強いレンズとなる。これに対
し、図10に示すように、スイッチ207をオンとして
高分子分散液晶層206に交流電界を印加すると、液晶
分子209は、屈折率楕円体の長軸方向が可変焦点レン
ズ200の光軸と平行となるように配向するので、屈折
率が低くなり、屈折力の弱いレンズとなる。
電圧は、例えば、図11に示すように、可変抵抗器21
1により段階的あるいは連続的に変化させることもでき
る。このようにすれば、印加電圧が高くなるにつれて、
液晶分子209は、その楕円長軸が徐々に可変焦点レン
ズ200の光軸と平行となるように配向するので、屈折
力を段階的あるいは連続的に変えることができる。
0がある一定のパワーを持つ場合(パワーを持たない場
合もパワーがゼロで一定になっているといえる)につい
て考えると第1実施例と同様に、合焦状態では、レーザ
ー光はピンホール19の穴を全て通りその外周部で遮ら
れないので光検出器21に全て入射し、光検出器21か
らの信号強度が最大となる。後ピン状態および前ピン状
態では、標本Sが合焦位置から離れれば離れるほど、レ
ーザー光はピンホール19の穴の外周部で遮られ、光検
出器21からの信号強度は減少する。そして、本実施例
では、可変焦点レンズ200の焦点位置を変化させるこ
とで、後ピン状態なのか前ピン状態なのかを判断する。
前ピン状態では、光束はピンホール19よりも後側に集
光するので、可変焦点レンズ200を正のパワーが強く
なるように変形させて、最適な曲率とすれば、ピンホー
ル19の位置に集光させることができる。一方、後ピン
状態では、光束はピンホール19よりも前側に集光する
ので、可変焦点レンズ200を正のパワーが弱くなるよ
うに変形させて、最適な曲率とすれば、ピンホール19
の位置に集光させることができる。さらに、可変焦点レ
ンズ200を一定の周期で常に焦点位置が変化するよう
に変形させて、光検出器21から出力される信号強度が
最も大きくなるときの可変焦点レンズ200の焦点位置
変化量からピントのずれ量を算出すればよい。
学検査装置などの光学装置に組み合わせて、焦点変化量
がゼロになるようにステージ(あるいは対物レンズ)を
上下に移動させれば、自動的に標本に合焦することがで
きる。その他の光学要素の配置構成、及び動作原理は第
1実施例と同様である。
例の焦点検出装置の概略構成図である。第3実施例で
は、第2実施例の、集光レンズ9、可変焦点レンズ20
0(図8参照)の代わりに結像レンズとしての機能を兼
ね備えた可変焦点レンズ201を配置しており、可変焦
点レンズ201は、偏光ビームスプリッタ15からの平
行光束を結像する作用を有するとともに、変形すること
でピンホール19の位置に集光させることができるよう
になっている。なお、可変焦点レンズ201の基本的な
動作原理は図9〜11で説明した可変焦点レンズ200
と同様である。その他の構成及び作用効果については、
実施例2とほぼ同様である。
置及びそれを備えた光学顕微鏡又は光学検査装置は、特
許請求の範囲に記載された発明の他に、次に示すような
特徴も備えている。
可変焦点ミラーであることを特徴とする請求項1に記載
の焦点検出装置。
ズであることを特徴とする請求項1又は2に記載の焦点
検出装置。
度が一定となる前記可変焦点素子の焦点変化量を検出す
ることを特徴とする請求項1、2、上記(1)、(2)
のいずれかに記載の焦点検出装置。
いずれかに記載の焦点検出装置を備え、可変焦点素子の
焦点変化量に基づいて、自動合焦を行う自動合焦手段を
備えた光学顕微鏡又は光学検査装置。
数が少なく、小型で、調整が容易となり、設計時の最適
化が容易となる。
図である。
成例を示す概略構成図である。
構成例を示す概略構成図である。
説明図である。
す説明図である。
る、ピント位置と光検出器21からの信号強度との関係
を示すグラフである。
のずれに合せて可変焦点ミラーの焦点位置を変化させた
場合の相関関係を示すグラフである。
る。
的構成を示す図である。
態を示す図である。
可変にする場合の一例の構成を示す図である。
る。
す概略構成図である。
ある。
Claims (3)
- 【請求項1】 光源と、 入射した光束を反射あるいは透過させる面を有する光分
割部材と、 入射した光束を集光する集光光学系と、 ピンホールと、 光検出器とを備え、 前記光源は第1の光路に配置され、 前記集光光学系と前記ピンホールと前記光検出器は第2
の光路に配置され、 前記光分割部材は前記第1の光路の光軸と前記第2の光
路の光軸とが交わる位置に配置され、 前記ピンホールは前記集光光学系による集光位置近傍に
配置され、前記光検出器は前記ピンホールを挟んで前記
集光光学系とは反対側に配置されている焦点検出装置で
あって、 前記第2の光路における前記集光光学系と前記ピンホー
ルとの間に可変焦点素子を配置したことを特徴とする焦
点検出装置。 - 【請求項2】 光源と、 入射した光束を反射あるいは透過させる面を有する光分
割部材と、 入射した光束を集光する集光光学系と、 ピンホールと、 光検出器とを備え、 前記光源は第1の光路に配置され、 前記集光光学系と前記ピンホールと前記光検出器は第2
の光路に配置され、 前記光分割部材は前記第1の光路の光軸と前記第2の光
路の光軸とが交わる位置に配置され、 前記ピンホールは前記集光光学系による集光位置近傍に
配置され、 前記光検出器は前記ピンホールを挟んで前記集光光学系
とは反対側に配置されている焦点検出装置であって、 前記集光光学系が可変焦点素子であることを特徴とする
焦点検出装置。 - 【請求項3】 請求項1又は2に記載の焦点検出装置を
備え、可変焦点素子の焦点変化量に基づいて、自動合焦
を行う自動合焦手段を備えた光学顕微鏡又は光学検査装
置。
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---|---|---|---|
JP2001132188A JP2002328295A (ja) | 2001-04-27 | 2001-04-27 | 焦点検出装置及びそれを備えた光学顕微鏡又は光学検査装置 |
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