JP2002328229A

JP2002328229A - 光学膜形成方法及び選択反射膜

Info

Publication number: JP2002328229A
Application number: JP2001134058A
Authority: JP
Inventors: Mitsuyoshi Ichihashi; 光芳市橋
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 2001-05-01
Filing date: 2001-05-01
Publication date: 2002-11-15

Abstract

(57)【要約】【課題】薄膜で優れた光学特性（固有複屈折Δｎ、選
択反射ピーク）を有する光学膜を簡便かつ低コストに形
成し得る光学膜形成方法を提供する。【解決手段】重合性基を少なくとも１つ有する液晶性
化合物と重合開始剤とを含む液晶性組成物を用いて光学
膜を形成する光学膜形成方法であって、前記液晶性組成
物を液晶相形成温度に保持した後、該液晶性組成物に８
０℃以下の温度条件下で光照射して一部を重合させ、光
照射後さらに加熱し硬化する工程を有することを特徴と
する光学膜形成方法である。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶性組成物によ
り得られ、色再現性、表示画像品質の高い光学膜、例え
ばＬＣＤ等の表示デバイスに用いられる、位相差フィル
ム、カラーフィルタ、円偏光反射板等を形成する光学膜
形成方法、並びに選択反射を示す液晶性組成物よりなる
選択反射膜に関する。

【０００２】

【従来の技術】例えば、カラー液晶ディスプレー等に用
いられるカラーフィルタは、一般に、赤色（Ｒ）、緑色
（Ｇ）、青色（Ｂ）の各画素と、その間隙に表示コント
ラスト向上を目的とするブラックマトリクスとにより構
成される。このようなカラーフィルタの製造方法として
は、近年、材料ロスが少なく高効率に、かつ簡便に高品
質なカラーフィルタを製造しうる製造方法が要望され、
また、カラーフィルタの性能としては、透過率、色純度
が高いことが求められる点から、近年では液晶性材料
（特に、コレステリック液晶）を主成分とするカラーフ
ィルタが広く検討されている。

【０００３】コレステリック液晶を主成分とするカラー
フィルタは、一定波長の光を反射しそれ以外を透過して
画像表示を行う偏光利用型のカラーフィルタであるの
で、光の利用効率が高く、透過率、色純度の点でも優れ
る。そして、製造上、材料ロスが少なく、工程数低減や
低コスト化が図れる点から、特に光反応型のキラル化合
物を用いた製造方法が有用である。光反応型のキラル化
合物を含む液晶組成物を用いた場合、キラル化合物の反
応波長の光をパターン状に照射すると、その照射エネル
ギーの強度に応じてキラル化合物の異性化が進行し、液
晶化合物の螺旋ピッチ（螺旋の捻れ角）が変化する結
果、光量差のあるパターン露光のみにより画素ごとに所
望の選択反射色を簡易に形成することができる。しか
し、近年のカラー画像に求められる画像特性は高く、特
にカラーフィルタでは、選択反射する色相の純度が高い
ことが表示画像の鮮明性等の点で不可欠である。

【０００４】一方、位相差フィルムなどでは、良好な光
学特性を得る観点から膜の固有複屈折（Δｎ）が大きい
ことが要求される。一般に、膜の厚膜化によりその膜の
Δｎを大きくすることができるが、コストの点で不利で
あり、低コスト化の点では薄膜にする必要がある。この
点では、円偏光反射板などの他の光学フィルムについて
も同様である。前記Δｎの大きい膜が薄膜に得ることが
できれば、薄膜であっても膜の厚い位相差フィルムと同
等以上の光学特性を得ることができ、しかも低コスト化
をも図れ、また、Δｎの小さい低コストの汎用材料を用
いて、Δｎの大きい位相差フィルムを得ることも可能と
なる。

【０００５】一方、液晶性組成物を含む膜(層)（例えば
カラーフィルタ膜、位相差膜など）を塗布形成する場
合、特に低分子液晶では、基板側で液晶分子が（基板
と）水平になるように配向処理を施しても、カラーフィ
ルタ形成層の片側が空気界面にあるので空気界面側で液
晶分子が垂直に立ち、層の厚み方向に向かって液晶分子
の傾斜角度（プレチルト角度）が連続的に変化する状態
が生じる。このため通常は、層の両側を配向膜で挟みこ
む必要があるが、液晶性組成物を重合して光学膜として
利用する場合には、軽量化や薄型化のために重合後少な
くとも片側の配向膜を剥がす必要があり、配向膜の設
置、除去といった工程の増大や廃材の増大を伴うという
問題もあった。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】以上のように、液晶性
組成物を用いて光学膜を形成するに際し、薄膜で光学特
性に優れた光学膜を低コストに形成でき、しかも簡便か
つ良好に配向処理を施すことのできる技術は、未だ確立
されていないのが現状である。したがって、本発明は、
前記従来における諸問題を解決し、下記目的を達成する
ことを課題とする。即ち、本発明は、液晶相形成温度に
保持した後（コレステリック液晶の場合には、所望の選
択反射を示す状態とした後）、光照射により液晶相
（層）を固定して光学膜（例えば、位相差フィルム、カ
ラーフィルタなど）を形成する光学膜形成方法におい
て、薄膜で優れた光学特性（固有複屈折Δｎ、選択反射
ピーク）を有する光学膜、例えばコレステリック液晶の
場合には、広範な選択反射色を示し色純度に優れた光学
膜を簡便かつ低コストに形成し得る光学膜形成方法、並
びに該光学膜形成方法により得られ、薄膜で光学特性に
優れ、広範な選択反射色を示し、特に色純度の高い３原
色の表示が可能な選択反射膜を提供することを目的とす
る。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明者等は、従来の光
学膜の光学特性に関する検討を重ねた結果、以下の知見
を得た。即ち、従来、例えば、光反応型キラル化合物を
含むコレステリック液晶組成物を用いたカラーフィルタ
を作製する場合、非液晶状態の液晶性組成物を用いて膜
（層）を形成し、これにパターン状の露光（波長λ¹）
を施し更に加熱することにより、あるいは既に液晶状態
の液晶性組成物を用いて膜（層）を形成し、これにパタ
ーン状の露光（波長λ¹）を施す（必要に応じて加熱す
る）ことにより、所望の選択反射を示す螺旋ピッチに配
向させた後、加熱された保温状態（例えば１００〜１２
０℃程度）で更に光照射（波長λ²）して重合硬化さ
せ、これを更にポストベークする方法が採用されてき
た。しかし、配向完了後、加熱を止めて降温し、過冷却
状態で重合硬化のための光照射を行うと、光学膜の固
有複屈折（Δｎ）を大きくすることができ、カラーフィ
ルタの場合には色純度の高い選択反射色を得ることがで
き、しかも重合硬化のための光照射後、再び昇温する
と、既に前記光照射により重合反応は開始した状態に
あるため、８０℃以下の低温域内で重合を促進でき、更
に高温にまで加熱することにより従来と同等以上の重合
度を得ることもできる。したがって、別途ポストベーク
のための処理を施す必要もない。

【０００８】以上の知見から、前記課題は、パターン状
に配向された液晶性組成物を固定化（重合硬化）する際
の光照射を所定の温度域で行うことに基づき達成され、
その具体的手段は以下の通りである。＜１＞重合性基を少なくとも１つ有する液晶性化合物
と重合開始剤とを含む液晶性組成物を用いて光学膜を形
成する光学膜形成方法であって、前記液晶性組成物を液
晶相形成温度に保持した後、該液晶性組成物に８０℃以
下の温度条件下で光照射して一部を重合させ、光照射後
さらに加熱し硬化する工程を有することを特徴とする光
学膜形成方法である。

【０００９】＜２＞液晶性化合物が棒状のネマチック
液晶化合物であって、液晶性組成物がキラル化合物を含
む前記＜１＞に記載の光学膜形成方法である。以下、棒
状のネマチック液晶化合物とキラル化合物とを含む液晶
性組成物を、単に「コレステリック液晶組成物」とい
う。＜３＞キラル化合物が光反応型キラル化合物である前
記＜２＞に記載の光学膜形成方法である。以下、棒状の
ネマチック液晶化合物と光反応型キラル化合物とを含む
液晶性組成物を、「光反応型コレステリック液晶組成
物」という。

【００１０】＜４＞液晶性組成物が空気界面配向剤を
含む前記＜１＞〜＜３＞のいずれかに記載の光学膜形成
方法である。＜５＞液晶相形成温度に保持するごとに前記工程を複
数回繰り返し、選択反射波長の異なる２種以上の領域か
らなる光学膜を形成する前記＜１＞〜＜４＞のいずれか
に記載の光学膜形成方法である。＜６＞前記＜２＞〜＜５＞のいずれかに記載の光学膜
形成方法により得られることを特徴とする選択反射膜で
ある。

【００１１】

【発明の実施の形態】本発明の光学膜形成方法において
は、液晶相形成温度にまで加熱して所望の分子配列に配
向（パターニング）した後の液晶性組成物の固定化を、
８０℃以下に降温した温度条件下で光照射して一部光重
合させ、該光照射後更に加熱することにより行う。本発
明の選択反射膜は、本発明の光学膜形成方法により得ら
れる。以下、本発明の光学膜形成方法及び選択反射膜に
ついて詳細に説明する。

【００１２】＜光学膜形成方法＞本発明の光学膜形成方
法は、重合性基を少なくとも１つ有する液晶性化合物と
重合開始剤とを含む液晶性組成物を用い、該液晶性組成
物を、液晶相形成温度に保持（以下、この操作を「配向
工程」ということがある。）した後、８０℃以下の温度
条件下で光照射して一部を重合させ、光照射後さらに加
熱し硬化する工程（以下、「硬化工程」ということがあ
る。）の一工程を少なくとも有してなり、必要に応じて
他の工程を有していてもよい。本発明においては、ネマ
チック液晶化合物と光反応型キラル化合物とを含む光反
応型コレステリック液晶組成物を用いる態様が好まし
い。

【００１３】例えば、液晶性組成物を光反応型コレステ
リック液晶組成物とした場合、波長λ¹の光がコレステ
リック液晶組成物に照射されると、その照度に応じて光
反応型キラル化合物が感光してネマチック液晶化合物の
螺旋構造を変化させ、この構造変化により異なる選択反
射色を示す（配向工程）。この時、所望の領域ごとに照
射強度を変えることにより所望の色相を呈する。この状
態で波長λ²（≠λ¹）の光を照射して重合硬化（固定
化）する（硬化工程）ことで、選択反射像が得られる。
多色のカラーフィルタを作製するには、該配向工程及び
硬化工程を色相分だけ繰り返す。

【００１４】ここで、波長λ¹の光の照射は、コレステ
リック液晶組成物（以下、これを「コレステリック液晶
相」ともいう。）の任意の領域に行えばよく、コレステ
リック液晶相の全面に行ってもよいし、着色する所望の
対象領域を含む部分のみに行ってもよいし、画像様に行
ってもよく、製造上の制約がなく工程の簡易化が図れる
観点からは、照射領域に制限のない態様で行うことが好
ましい。また、硬化工程により、波長λ¹の光の照射
後、更に波長λ²の光を照射して液晶分子の配向を固定
化することにより選択反射波長を不変に保持できる。波
長λ²の光の照射は、照射により画像様に重合硬化可能
な態様で行えばよく、必ずしもλ²の光の照射を画像様
に行う必要はなく、例えば、カラーフィルタの作製にお
ける最後の色相形成（ＲＧＢ３色からなる場合の３色目
の形成）を、固定化されていない全領域に形成すればよ
い場合には全面照射すればよく、全面照射により画像様
に重合硬化され最終パターンが形成される。以上のよう
に、コレステリック液晶組成物では、コレステリック液
晶相を所望の選択反射を示す状態とする色相調整（選択
反射による発色）及びパターニングと、コレステリック
液晶相の重合硬化による選択反射波長の固定化とのいず
れをも光の照射によって行うことができる。

【００１５】（配向工程）まず、液晶性組成物を固定化
（重合硬化）する硬化工程前に設けられる配向工程につ
いて詳述する。配向工程においては、非液晶状態の液晶
性組成物（液晶状態であってもよい）を液晶相形成温度
に保持する。好ましくは、液晶性組成物に対して波長λ
¹の光を画像様に照射した後、液晶相形成温度に保持す
る。即ち、例えば非液晶状態の液晶性組成物を、（光反
応型コレステリック液晶組成物の場合は第一の光照射と
して波長λ¹の光を所望の画像様に照射してパターニン
グした後に）加熱して液晶相形成温度に保持することに
より、所望の液晶状態（コレステリック液晶の場合は、
選択反射を示す状態）を形成する。本発明において、
「液晶相形成温度に保持する」とは、液晶性組成物が所
望の液晶状態（コレステリック液晶では選択反射を示す
状態）を示すことをいい、この段階では、液晶性組成物
は実質的に未硬化の状態にある。ここで、液晶相形成温
度とは、結晶状態若しくはアモルファス状態で構成され
る液晶性組成物が液晶状態を示す温度をいう。

【００１６】液晶性組成物として光反応型コレステリッ
ク液晶組成物を用いた場合には、着色を得ようとする所
望の領域を含む全体若しくは一部に波長λ¹の光を照射
すると、該光に光反応性キラル化合物が反応してトラン
ス−シス異性化し液晶の螺旋ピッチが変化することで所
望の選択反射を示す状態、即ち所望の色相を呈する。

【００１７】前記波長λ¹の光の波長としては、光反応
型キラル化合物の感光波長域、特に感光ピーク波長に近
接する波長に設定することが、十分なパターニング感度
が得られる点で好ましい。また、波長λ¹の光の照射
量、照度（照射強度）には特に制限はなく、光感度が十
分得られるように使用する材料に応じて適宜選択でき
る。用いる光源としては、エネルギーが高く、液晶化合
物の構造変化及び重合反応が迅速に行える点で、紫外線
を発する光源が好ましく、例えば、高圧水銀ランプ、メ
タルハライドランプ、Ｈｇ−Ｘｅランプ等が挙げられ
る。また、光量可変機能を備えることが好ましい。

【００１８】λ¹の光を照射する場合に用いられるマス
クとしては、パターン状に開口が設けられているもの、
パターン状に光透過率が決まっているものなど、公知の
ものの中から適宜選択できる。

【００１９】（硬化工程）次に、本発明に係る硬化工程
について詳述する。前記配向工程後、重合硬化反応によ
り液晶の配向構造（コレステリック液晶の場合は液晶の
螺旋ピッチ）が固定化されるように光照射（波長λ
²（≠λ¹））するが、本発明に係る硬化工程において
は、波長λ²の光を照射するに当って、液晶性組成物の
温度を８０℃以下の温度条件まで降下させ、該温度条件
下で波長λ ²の光を照射して一部を重合させ、該光照射
後さらに加熱することにより重合促進し硬化する。

【００２０】本工程においては、前記配向工程で一旦加
熱した後、加熱後の温度を維持する必要がなく、加熱を
止めて降温し過冷却の効いた８０℃以下の低温域で光照
射することにより、光学膜の固有複屈折（Δｎ）を大き
くでき、コレステリック液晶相の場合には、選択反射ピ
ークが拡く広範な選択反射波長を示し、色純度の高い表
示が可能となる。即ち、薄膜にしても、またΔｎの小さ
い汎用材料を用いた場合でも、光学特性の良好な光学膜
を形成できる。しかも、配向工程で開始された重合反応
を更に促進させ得るので、硬化度を損なうことなく、従
来処理（１００〜１２０℃付近）と同等以上の重合度を
も得ることができる。

【００２１】配向工程後の重合硬化のための光（波長λ
²）照射は、既述の通り、８０℃以下の低温域で行う
が、好ましくは６０℃以下である。上記温度範囲内とす
ることにより、得られる光学膜の光学特性（固有複屈折
Δｎ、選択反射ピーク）を向上させることができる。下
限温度には特に制限はないが、液晶性組成物の析出等の
観点から、室温以上が好適である。ここで、室温とは２
０±５℃をいう。

【００２２】光（λ²）照射後の加熱温度としては、重
合反応が促進される温度であればよく、１２０℃以下で
あっても好適に行え、好ましくは１００℃以下であって
もよく、特に硬化度をより高めるためには、継続して高
温に加熱してもよい。この場合の加熱温度としては、１
５０℃以上が好ましく、２００℃以上がより好ましく、
２５０℃以上が最も好ましい。

【００２３】前記波長λ²の光の波長としては、重合開
始剤の感光波長域、特に感光ピーク波長に近接する波長
に設定することが、十分な光重合感度が得られる点で好
ましい。また、波長λ²の光の照射量、照度（照射強
度）には特に制限はなく、光感度が十分得られるように
使用する材料に応じて適宜選択できる。前記波長λ²の
光の照射に用いる光源としては、前記波長λ¹の光の照
射に用いるものと同様の光源が挙げられる。また、光量
可変機能を備えることが好ましい。

【００２４】本発明においては、前記配向工程により液
晶性組成物が液晶相を示す状態を形成するごとに硬化工
程を繰り返し行うことによって選択反射波長の異なる２
種以上の領域からなり、複数色の選択反射を示す光学膜
（例えばカラーフィルタ）を得ることができる。

【００２５】以下、本発明の光学膜形成方法の一例とし
て、光反応型コレステリック液晶組成物を用いて得られ
るカラーフィルタの製造方法について詳述する。尚、本
発明の光学膜形成方法によるカラーフィルタの製造にお
いて、前記配向工程、硬化工程のほか、選択する製造態
様に応じて、適宜、コレステリック液晶組成物との接触
面に配向処理を施す工程（配向処理工程）、液晶層を有
する転写材料との密着（ラミネート）・剥離により液晶
層を転写する工程（転写工程）、コレステリック液晶組
成物を塗布等して液晶層を形成する工程（塗布工程）な
どを経て形成されてもよい。

【００２６】例えば、下記態様ａ又はｂの製造方法であ
ってもよく、これら２態様によってより好適に作製する
ことができる。〈態様ａ〉（工程１）仮支持体上に塗布液状の液晶性組成物晶相
（コレステリック液）を設け、コレステリック液晶層を
少なくとも有してなる転写材料を形成する工程。前記塗布液状の液晶性組成物は、各成分を適当な溶媒に
溶解、分散して調製でき、該溶媒としては、例えば、２
−ブタノン、シクロヘキサノン、塩化メチレン、クロロ
ホルム等が挙げられる。前記液晶層と仮支持体との間に
は、被転写体上に異物等がある場合など、転写時におけ
る密着性を確保する観点から、熱可塑性樹脂等を含んで
なるクッション層を設けることもでき、該クッション層
等の表面には、ラビング処理等の配向処理を施すこと
〔配向処理工程〕も好ましい。（工程２）前記転写材料を光透過性の基材上にラミネー
トする工程。前記光透過性の基材のほか、基材上に受像層を有する受
像材料を用いてもよい。後述の態様ｂのように液晶層を
塗布形成してもよいが、材料ロス及びコストの点で転写
による方法が好ましい。（工程３）光透過性の基材から転写材料を剥離して、前
記基材上にコレステリック液晶層を形成する工程〔転写
工程〕。該液晶層は、下記工程４及び５を経た後、更に
積層して複数層より構成することもできる。

【００２７】続いて、下記工程４及び５を含む工程を少
なくとも一工程行う。（工程４）上述の本発明に係る配向工程。基材上のコレステリック液晶層に対して、波長λ¹の光
を照射し、加熱して液晶相形成温度に保持することによ
り、その照射光量に応じて光反応型キラル化合物が異性
化し、所望の選択反射波長（選択反射色）を示す領域を
形成する。（工程５）上述の本発明に係る硬化工程。所望の選択反射色を示す状態で加熱を止めて降温し、８
０℃以下の任意の温度で前記領域に更に波長λ²の光を
照射して前記工程４で形成された選択反射色及びパター
ンに重合させる。この時、重合反応は遅いため、一部分
が重合硬化される。光照射を終了した後、再度加熱する
ことにより既に開始されている重合反応を促進し、液晶
分子が固定化されるように硬化する。尚、上記工程１〜
３及び使用する転写材料、基材等の材料については、本
発明者等が先に提出した特願平１１−３４２８９６号及
び特願平１１−３４３６６５号の各明細書に詳細に記載
されている。

【００２８】〈態様ｂ〉（工程１）カラーフィルタを構成する基材（支持体）上
に直接液晶性組成物（コレステリック液晶相）を設けて
コレステリック液晶層を形成する工程。前記液晶層は、上記同様に塗布液状の液晶性組成物を調
製した後、これをバーコーターやスピンコーター等を用
いた公知の塗布方法により塗布形成することができる。
また、前記コレステリック液晶層と基材との間には、上
記同様の配向膜が形成されていてもよい。該配向膜等の
表面には、ラビング処理等の配向処理を施すこと〔配向
処理工程〕も好ましい。（工程２）前記態様ａの工程４及び工程５と同様の本発
明に係る工程。

【００２９】以下、さらに図１〜３を参照して具体的に
説明する。図１〜３は、本発明の光学膜形成方法により
カラーフィルタを作製する工程の一部を示す概略図であ
る。まず、少なくとも液晶性化合物及び重合開始剤を適
当な溶媒に溶解し、塗布液状の液晶性組成物（コレステ
リック液晶組成物）を調製する。図１−(Ａ)のように、
仮支持体１０を準備し、該仮支持体１０の表面に、例え
ばアクリル樹脂、ポリエステル、ポリウレタン等を塗布
形成してクッション層（熱可塑性樹脂層）１２を設け、
更にポリビニルアルコール等よりなる配向膜１４を積層
する。この配向膜には、図１−(Ｂ)に示すようにしてラ
ビング処理が施される（配向処理工程）。このラビング
処理は必ずしも必要ではないが、ラビング処理した方が
より配向性を向上させることができる。次に、図１−
(Ｃ)に示すように、前記配向膜１４上に、塗布液状の液
晶性組成物を塗布、乾燥しコレステリック液晶層１６を
形成した後、このコレステリック液晶層１６上にカバー
フィルム１８を設けて、転写材料を作製する。以下、該
転写材料を転写シート２０と称する。

【００３０】一方、図１−(Ｄ)に示すように、別の基材
２２を準備し、該基材２２上に上記と同様にして配向膜
２４を形成し、その表面にラビング処理を施す（配向処
理工程）。以下、これをカラーフィルタ用基板２６と称
する。続いて、転写シート２０のカバーフィルム１８を
剥がした後、図２−(Ｅ)に示すように、該転写シート２
０のコレステリック液晶層１６の表面と、カラーフィル
タ用基板２６の配向膜２４の表面とが接触するように重
ね合わせ、図中の矢印方向に回転するロールを通してラ
ミネートする。その後、図２−(Ｆ)に示すように、転写
シート２０の配向膜１４とクッション層１２との間で剥
離すると、カラーフィルタ用基板上に、コレステリック
液晶層が配向膜１４と共に転写される（転写工程）。こ
の場合、クッション層１２は、必ずしも仮支持体１０と
共に剥離されなくてもよい。

【００３１】転写後、カラーフィルタ基板２６側から７
０〜１２０℃の温度に加熱し発色させる。配向膜１４の
上方には、図３−(Ｇ)に示すように、光の透過率の異な
る領域を複数有する露光マスク２８が配置され、このマ
スク２８を介して第一の光をコレステリック液晶層１６
にパターン状に照射される。照射の後、光照射量に応じ
て異性化した光反応型キラル化合物に対応して選択反射
波長を示す液晶状態を形成し得る温度に加熱する。コレ
ステリック液晶層１６には、光照射量によって螺旋ピッ
チが異なる領域が、例えば、緑色（Ｇ）を反射し、青色
（Ｂ）及び赤色（Ｒ）を透過させる領域、青色（Ｂ）を
反射し、緑色（Ｇ）及び赤色（Ｒ）を透過させる領域、
赤色（Ｒ）を反射し、緑色（Ｇ）及び青色（Ｂ）を透過
させる領域を形成するように形成される。

【００３２】加熱によって、コレステリック液晶層１６
が、図３−(Ｈ)に示すように選択反射色を示した後、加
熱を止めて降温させ８０℃以下（好ましくは６０℃以
下）となった状態で、図３−(Ｇ)での光照射とは波長の
異なる紫外線（ＵＶ）を照射し、コレステリック液晶層
１６内において重合反応を起こさせ、ここから更に加熱
して開始した重合反応を促進する。コレステリック液晶
層１６は、図３−(Ｈ)に示す選択反射波長を示すパター
ンに硬化される。このとき、更に加熱を継続してより重
合度を向上するための処理を行ってもよい。その後、２
−ブタノン、クロロホルム等を用いて、コレステリック
液晶層１６上の不要部分（例えば、クッション層、中間
層等の残存部、未露光部）をアルカリ現像処理して除去
することにより、図３−(Ｉ)に示すように、ＢＧＲの反
射領域を有するコレステリック液晶層を形成できる。

【００３３】図１〜３に示す方法は、ラミネート方式に
よるカラーフィルタの製造方法の一形態であるが、カラ
ーフィルタ用基板上に直接液晶層を塗布形成する塗布方
式による製造方法であってもよい。この場合、上記態様
に当てはめると、図１−（Ｄ）に示すカラーフィルタ用
基板２６の配向膜２４上にコレステリック液晶組成物を
塗布、乾燥した後、上記同様の図３−(Ｇ)〜(Ｉ)に示す
工程が順次実施される。

【００３４】これらの工程及び使用する転写材料、支持
体等の材料については、本発明者らが先に提出した特願
平１１−３４２８９６号及び特願平１１−３４３６６５
号の各明細書に詳細に記載されている。

【００３５】（液晶性組成物）本発明において用いる液
晶性組成物は、重合性基を少なくとも１つ有する液晶性
化合物と重合開始剤とを含んでなり、好ましくはキラル
化合物、空気界面配向剤を含んでなる。液晶性組成物の
中でも、棒状のネマチック液晶化合物と光反応性キラル
化合物とをそれぞれ少なくとも一種含有してなるコレス
テリック組成物が好ましい。また、必要に応じて、重合
性モノマーや、バインダ樹脂、溶媒、重合禁止剤、増粘
剤、色素、顔料、紫外線吸収剤、ゲル化剤等の他の成分
を含んでいてもよく、重合性モノマーを併用する態様が
好ましい。

【００３６】−重合性基を少なくとも１つ有する液晶性
化合物− 重合性基を少なくとも１つ有する液晶性化合物（以下、
単に「液晶性化合物」ということがある。）としては、
重合性基を有する公知の液晶性化合物から適宜選択する
ことができ、中でも、棒状のネマチック液晶化合物（以
下、単に「ネマチック液晶化合物」という。）が好まし
い。

【００３７】前記ネマチック液晶化合物としては、その
屈折率異方性Δｎが、０．１０〜０．４０の液晶化合
物、高分子液晶化合物、重合性液晶化合物の中から適宜
選択することができる。ネマチック液晶化合物に（光反
応型）キラル化合物を併用することによって、コレステ
リック液晶組成物（コレステリック液晶相）とすること
ができる。また、前記ネマチック液晶化合物は、溶融時
の液晶状態にある間に、例えばラビング処理等の配向処
理を施した配向基板を用いる等により配向させることが
できる。また、液晶状態を固相にして固定化する場合に
は、冷却、重合等の手段を用いることができる。即ち、
液晶性化合物は重合性基を有し、かつその反応性が極め
て高いため、配向状態で効率よく重合させると強靭な膜
を形成することができる。

【００３８】前記ネマチック液晶化合物の中でも、例え
ば、紫外線に感応して重合硬化するＵＶ硬化型の官能基
（例えば、アクリレート基等）が同一分子内に導入され
た液晶化合物などが好適に挙げられる。これに紫外線照
射して固めれば、１２０℃以下の低温で膜強度の高いカ
ラーフィルタの作製が可能である。

【００３９】前記ネマチック液晶化合物の具体例として
は、下記化合物を挙げることができる。但し、本発明に
おいては、これらに制限されるものではない。

【００４０】

【化１】

【００４１】

【化２】

【００４２】

【化３】

【００４３】前記式中、ｎは、１〜１０００の整数を表
す。前記各例示化合物においては、芳香環の側鎖連結基
が以下の構造に変わったものも同様に好適なものとして
挙げることができる。

【００４４】

【化４】

【００４５】上記のうち、ネマチック液晶化合物として
は、硬化性に優れ、層の耐熱性を確保しうる観点から
は、分子内に重合性基あるいは架橋性基を有する化合物
が好ましい。

【００４６】前記液晶性化合物は、一種単独で用いても
よいし二種以上を併用してもよい。また、「重合性基を
少なくとも１つ有する液晶性化合物」と共に、重合性基
を有しない液晶性化合物を併用してもよい。前記「重合
性基を少なくとも１つ有する液晶性化合物」の含有量と
しては、液晶性組成物（コレステリック液晶組成物）の
全固形分（質量）に対して、３０〜９８質量％が好まし
く、５０〜９５質量％がより好ましい。前記含有量が３
０質量％未満であると、配向が不十分となり所望の選択
反射色が得られないことがある。

【００４７】−重合開始剤− 前記重合開始剤は、不飽和結合に基づく重合反応を促進
し、液晶性組成物を重合硬化して固定化すると共に、固
定化後の液晶性組成物の強度をより向上させる。重合開
始剤としては、光反応性、熱反応性等の公知の化合物か
ら適宜選択でき、中でも、光照射によって反応を促進し
得る光重合開始剤が好適である。例えばコレステリック
液晶組成物などの重合硬化反応を迅速に行うことがで
き、大きい固有複屈折（Δｎ）や、色純度の高い選択反
射色を安定的に得ることができる。

【００４８】前記光重合開始剤としては、公知のものの
中から適宜選択することができ、例えば、ｐ−メトキシ
フェニル−２，４−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−ト
リアジン、２−（ｐ−ブトキシスチリル）−５−トリク
ロロメチル１，３，４−オキサジアゾール、９−フェニ
ルアクリジン、９，１０−ジメチルベンズフェナジン、
ベンゾフェノン／ミヒラーズケトン、ヘキサアリールビ
イミダゾール／メルカプトベンズイミダゾール、ベンジ
ルジメチルケタール、チオキサントン／アミン等が挙げ
られる。

【００４９】前記重合開始剤の添加量としては、液晶性
組成物の固形分（質量）の０．１〜２０質量％が好まし
く、０．５〜５質量％がより好ましい。前記添加量が、
０．１質量％未満であると、硬化効率が低いため長時間
を要することがあり、２０質量％を越えると、例えば光
重合開始剤の場合に紫外線領域から可視光領域での光透
過率が劣ることがある。

【００５０】−キラル化合物− 本発明に係る液晶性組成物が棒状のネマチック液晶化合
物を含む場合には、キラル化合物を含有することが好ま
しい。即ち、本発明に用いる液晶性組成物としては、棒
状のネマチック液晶化合物とキラル化合物とをそれぞれ
少なくとも一種含有するコレステリック液晶組成物が好
ましい。

【００５１】前記キラル化合物としては、コレステリッ
ク液晶組成物に誘起する螺旋ピッチを変化させうる化合
物であり、目的等に応じて、光による捻れ性の大きいキ
ラル化合物や、捻れ性の温度依存が大きく光反応しない
キラル化合物など、公知のものの中から適宜選択でき
る。中でも特に、光照射（紫外線〜可視光線〜赤外線）
によって螺旋ピッチを変化させうる光反応型キラル化合
物が好ましく、該化合物は、必要な部位（分子構造単
位）として、キラル部位と光の照射によって構造変化を
生じる部位とを有する。これらの部位は、１分子中に含
有されているものが好ましい。本発明においては、光反
応型キラル化合物と、捻れ性の温度依存が大きく光反応
しないキラル化合物などとを併用することもできる。

【００５２】前記光反応型キラル化合物は、パターニン
グ感度を向上させるためにその光感応ピーク波長が重合
開始剤の光感応ピーク波長よりも長波長側にあるものが
好ましい。また、光反応型キラル化合物は、コレステリ
ック液晶組成物の螺旋構造を誘起する力が大きいものが
好ましく、このためにはキラル部位を分子の中心に位置
させ、その周囲をリジットな構造とすることが好まし
く、分子量は３００以上が好ましい。光照射による螺旋
構造の誘起力を大きくするためには、光照射による構造
変化の度合いの大きいものを使用し、キラル部位と光照
射による構造変化を生じる部位を近接させることが好ま
しい。

【００５３】更に、ネマチック液晶化合物への溶解性の
高いものが好ましく、その溶解度パラメータＳＰ値が、
液晶性の重合性モノマーに近似するものがより好まし
い。また、キラル化合物の構造を重合性の結合基が１以
上導入された構造にすると、形成された光学膜（選択反
射膜）の耐熱性をより向上させることができる。

【００５４】光照射により、構造変化する光反応部分の
構造例としては、フォトクロミック化合物（内田欣吾、
入江正浩著、化学工業、ｖｏｌ．６４，ｐ.６４０，１
９９９、内田欣吾、入江正浩著、ファインケミカル、ｖ
ｏｌ．２８（９），ｐ.１５，１９９９）等に記載のも
のが挙げられる。以下、具体例を示すが、本発明におい
てはこれらに限定されるものではない。

【００５５】

【化５】

【００５６】式中、Ｒ¹、Ｒ²は、アルキル基、アルコキ
シ基、アニケニル基、アクリロイルオキシ基を表す。

【００５７】キラル部位としては、光照射によって、分
解や付加反応、異性化、２量化反応等が起こり、不可逆
的に構造変化をするものであってもよい。さらに、キラ
ル部位としては、例えば、以下に例示する化合物の＊印
を付した炭素原子のような、４つの結合にそれぞれ異な
った基が結合した不斉炭素等が相当する（液晶の化学、
Ｎｏ.２２、野平博之、化学総説、ｐ.７３、１９９
４）。

【００５８】

【化６】

【００５９】また、キラル部位と光異性化部を併せ持つ
光反応性キラル化合物としては、下記化合物を一例とし
て挙げることができる。

【００６０】

【化７】

【００６１】また、下記一般式（Ｉ）又は（II）で表さ
れる光反応型キラル化合物も好適に挙げられる。

【００６２】

【化８】

【００６３】前記一般式（Ｉ）及び（II）中、Ｒは、水
素原子、炭素数１〜１５のアルコキシ基、総炭素数３〜
１５のアクリロイルオキシアルキルオキシ基、総炭素数
４〜１５のメタクリロイルオキシアルキルオキシ基を表
す。

【００６４】以下、前記一般式（Ｉ）で表される化合物
の具体例として、Ｒ基の例示（例示化合物（１）〜（１
５））を示すが、本発明においてはこれらに制限される
ものではない。

【００６５】

【化９】

【００６６】液晶性組成物（コレステリック液晶組成
物）中における（光反応型）キラル化合物の含有量とし
ては、特に制限はなく適宜選択できるが、２〜３０質量
％程度が好ましい。

【００６７】−重合性モノマー− 液晶性組成物には、重合性モノマーを併用してもよい。
該重合性モノマーを併用すると、パターニング（コレス
テリック液晶の場合は、光照射による液晶の捻れ力を変
化させて選択反射波長の分布を形成）した後、その螺旋
構造（選択反射性）を固定化し、固定化後の液晶層（液
晶組成物）の強度をより向上させることができる。但
し、前記ネマチック液晶化合物が同一分子内に不飽和結
合を有する場合には、必ずしも添加する必要はない。

【００６８】前記重合性モノマーとしては、例えば、エ
チレン性不飽和結合を持つモノマー等が挙げられ、具体
的には、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジ
ペンタエリスリトールヘキサアクリレート等の多官能モ
ノマーが挙げられる。前記エチレン性不飽和結合を持つ
モノマーの具体例としては、以下に示す化合物を挙げる
ことができる、但し、本発明においては、これらに限定
されるものではない。

【００６９】

【化１０】

【００７０】前記重合性モノマーの添加量としては、液
晶性組成物の全固形分（質量）の０．５〜５０質量％が
好ましい。該添加量が、０．５質量％未満であると、十
分な硬化性を得ることができないことがあり、５０質量
％を越えると、液晶分子の配向を阻害し、十分な発色が
得られないことがある。

【００７１】−空気界面配向剤− 空気界面配向剤とは、排除体積効果を有する界面活性剤
である。ここで、排除体積効果を有するとは、液晶（分
子）の空気界面側の配向制御、即ち、例えば塗布により
液晶性組成物を含む層を形成した際の、該層表面の空気
界面での液晶の空間的な配向状態を立体的に制御するこ
とをいう。具体的には、空気界面側の液晶分子のプレチ
ルト角を制御することをいう。

【００７２】好ましい空気界面配向剤の分子構造的な要
件としては、フレキシブルな疎水性部位と環状ユニット
を１つ以上備えた分子的にみて剛性を有するユニット
（以下、剛直部位という。）とを有することである。な
お、用いる液晶性化合物の種類によって、フレキシブル
な疎水性部位をパーフルオロ鎖とすることもでき、長い
アルキル鎖とすることもできる。疎水性部位がフレキシ
ブルであることにより、効果的に疎水性部位を空気側に
配置することができる。また、空気界面配向剤は、分子
数が数百程度の短分子であってもよく、それらが連結し
たポリマーやオリゴマーであってもよい。また、目的に
よって重合性の官能基を付与することも可能である。

【００７３】このような空気界面配向剤を含有する場合
には、空気界面配向剤のフレキシブルな疎水的部位が空
気界面方向に存在し、かつ剛直部位が液晶分子方向に存
在し、更に、剛直部位が平面的でそれが空気界面と平行
に配列していることにより、液晶分子を空気界面に平行
に配列させることが可能となる。一方、剛直部位が空気
界面と垂直に配列していれば、液晶分子を空気界面に垂
直に配列させることが可能となる。具体的には、ノニオ
ン系の界面活性剤が好ましく、例えば下記化合物が好適
に挙げられる。

【００７４】

【化１１】

【００７５】

【化１２】

【００７６】前記空気界面配向剤の添加量としては、液
晶性組成物を含む層の空気界面側の表面を一分子ほど覆
う程度が好ましく、液晶性組成物の全固形分（質量）に
対して、０．０５〜５質量％が好ましく、０．１〜１．
０質量％がより好ましい。前記添加量が、０．０５質量
％未満であると、その効果を発揮しないことがあり、５
質量％を越えると、空気界面配向剤自体が会合を起こし
て液晶と相分離を起こすことがある。なお、空気界面配
向剤を含有することにより表面張力の低下が図られる
が、さらに表面張力を低下させ、塗布性の向上を図る目
的で、前記空気界面配向剤以外の界面活性剤を併用する
こともできる。

【００７７】また、前記界面活性剤は、例えば、塗布液
状の液晶性組成物を塗布し層形成する場合など、層表面
の空気界面における液晶分子の配向状態を立体的に制御
でき、特にコレステリック液晶の場合には、より色純度
の高い選択反射波長を得ることができる。

【００７８】−他の成分− 更に、他の成分として、バインダー樹脂、重合禁止剤、
溶媒、増粘剤、色素、顔料、紫外線吸収剤、ゲル化剤等
を添加することもできる。該他の成分としては、紫外線
硬化により硬化したカラーフィルタ膜の強度に影響する
ので、ネマチック液晶化合物との相溶性に優れるものが
好ましい。

【００７９】また、これらの成分が硬化されたカラーフ
ィルタ膜中で移動可能であると、遊離した成分が膜強度
を低下させ、カラーフィルタの諸特性にも変化を生じさ
せる。したがって、添加する他の成分としては、ネマチ
ック液晶化合物に導入された重合性の官能基と同系統の
官能基を持つ成分を使用することが好ましい。即ち、他
の成分が膜中で遊離せずに重合硬化により液晶性化合物
中に固定化されるので、膜強度、諸特性が阻害されるこ
ともないのである。また、バインダー樹脂及び界面活性
剤を除く前記他の成分の含有量は、液晶性組成物の全固
形分（質量）の１０質量％以下が好ましい。該含有量が
１０質量％を超えると、光学膜（選択反射膜）の強度を
低下させることがある。

【００８０】前記バインダー樹脂としては、例えば、ポ
リスチレン、ポリ−α−メチルスチレン等のポリスチレ
ン化合物、メチルセルロース、エチルセルロース、アセ
チルセルロース等のセルロース樹脂、側鎖にカルボキシ
ル基を有する酸性セルロース誘導体、ポリビニルフォル
マール、ポリビニルブチラール等のアセタール樹脂、特
開昭５９−４４６１５号、特公昭５４−３４３２７号、
特公昭５８−１２５７７号、特公昭５４−２５９５７
号、特開昭５９−５３８３６号、特開昭５９−７１０４
８号に記載のメタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合
体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイ
ン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体等が
挙げられる。また、アクリル酸アルキルエステルのホモ
ポリマー及びメタアクリル酸アルキルエステルのホモポ
リマーも挙げられ、これらについては、特にアルキル基
がメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル
基、ｉｓｏ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシ
ル基、２−エチルヘキシル基等のものが好適である。そ
の他、水酸基を有するポリマーに酸無水物を添加させた
もの、ベンジル（メタ）アクリレート／（メタアクリル
酸のホモポリマータ）アクリル酸共重合体やベンジル
（メタ）アクリレート／（メタ）アクリル酸／他のモノ
マーの多元共重合体等が挙げられる。

【００８１】上記の中でも、パターニング後のアルカリ
現像性、及び量産性の観点からは、カルボキシル基を含
むバインダー樹脂が好ましい。プラスチック基板上に液
晶層を形成（塗布、転写等）する場合、塗布液状に調製
するコレステリック液晶組成物にバインダー成分とし
て、カルボキシル基を含むバインダー樹脂を用いると、
アルカリ現像が可能であり、光照射後にアルカリ現像す
ることによって簡易にパターニングを行うことができ
る。

【００８２】液晶性組成物中におけるバインダー樹脂の
含有量としては、０〜５０質量％が好ましく、０〜３０
質量％がより好ましい。前記含有量が５０質量％を超え
ると、ネマチック液晶化合物の配向が不十分となること
がある。

【００８３】前記重合禁止剤は、保存性の向上の目的で
添加され得る。例えば、ハイドロキノン、ハイドロキノ
ンモノメチルエーテル、フェノチアジン、ベンゾキノ
ン、及びこれらの誘導体等が挙げられる。該重合禁止剤
の添加量としては、前記重合性モノマーに対して０〜１
０質量％が好ましく、０〜５質量％がより好ましい。

【００８４】液晶性組成物は、前記各成分を適当な溶媒
に溶解、分散して調製でき、これを任意の形状に成形
し、あるいは支持体等の上に形成して用いることができ
る。ここで、前記溶媒としては、例えば、２−ブタノ
ン、シクロヘキサノン、塩化メチレン、クロロホルム等
が挙げられる。

【００８５】＜選択反射膜＞本発明の選択反射膜は、既
述の本発明の光学膜形成方法により得られ、コレステリ
ック液晶を含んで構成される。選択反射膜の形態として
は、特に制限はなく、前記液晶性組成物のみから構成さ
れたシート形態、所望の支持体や仮支持体上に液晶性組
成物を含む層（液晶層）を設けた形態等のいずれであっ
てもよく、更に配向膜や保護膜等の他の層（膜）が設け
られていてもよい。

【００８６】上記より、コレステリック液晶組成物を用
いて、非光吸収型の選択反射膜を得ることができ、液晶
の選択反射する色幅が拡く、多彩な選択反射色よりなる
選択反射膜、色純度に優れた原色（Ｂ,Ｇ,Ｒ)の選択反
射膜等を得ることができる。本発明の選択反射膜は、Ｌ
ＣＤ等の表示デバイスに用いられる、位相差フィルム、
カラーフィルタ、積層カラーフィルタ、円偏光反射板、
透過型ＬＣＤ用の輝度向上フィルム等に好適に用いるこ
とができる。

【００８７】

【実施例】以下、実施例により本発明を説明するが、本
発明はこれらの実施例に限定されるものではない。

【００８８】（実施例１）：位相差フィルムの作製 (1) 基板の準備ガラス基板上に、ポリイミド配向膜（ＬＸ−１４００，
日立化成デュポン（株）製）塗布液をスピンコーターに
より塗布し、１００℃のオーブンで５分間乾燥した後、
２５０℃のオーブンで１時間焼成して配向膜を形成し
た。更に、該膜の表面をラビング処理により配向処理し
て配向膜付ガラス基板を作製した。

【００８９】(2) 作製上記より得た配向膜付ガラス基板の該配向膜上に、下記
処方にて調製した液晶層用塗布液（１）をスピンコータ
ーにより塗布し、その塗布膜を１００℃のオーブンで５
分間静置した（配向工程）。静置乾燥した塗布膜の膜厚
を共焦点顕微鏡により測定したところ、２．１μｍであ
った。続いて、これを室温付近まで急速冷却し、２５℃
の窒素雰囲気下で超高圧水銀灯を用いて４０ｍＷ／ｃｍ
²で１０秒間光照射を行い、その後更に２５０℃で１０
分間加熱した（硬化工程）。得られた塗布膜のΔｎをセ
ナルモン法で測定したところ、０．２０であった。得ら
れた塗布膜は、４２０ｎｍのレターデーション（Ｒｅ）
を持つ位相差フィルムとして機能できる。

【００９０】ここで、本実施例で用いたガラス基板をシ
リコーン基板に代えて、上記と同様に、基板の配向膜上
に液晶層用塗布液（１）を塗布形成し、かつ２５℃で窒
素雰囲気下で超高圧水銀灯により照射した段階で該塗布
膜の重合度を測定したところ、６０％であった。そし
て、更に２５０℃で１０分間加熱した後の重合度を測定
したところ、９５％であった。

【００９１】

【化１３】

【００９２】（比較例１）まず、実施例１と同様にし
て、配向膜付ガラス基板上に塗布膜を形成した。そし
て、これを室温付近まで急速冷却し、１００℃の窒素雰
囲気下で超高圧水銀灯により光照射（４０ｍＷ／ｃ
ｍ²、１０秒間）したこと以外、実施例１と同様にし
て、配向工程及び硬化工程を完了した。実施例１と同様
にしてΔｎを測定したところ、０．１３であった。

【００９３】（実施例２）：カラーフィルタの作製 (1) フィルタ基板の準備ガラス基板上にポリイミド配向膜（ＬＸ−１４００，日
立化成デュポン（株）製）塗布液をスピンコーターによ
り塗布し、１００℃のオーブンで５分間乾燥した後、２
５０℃のオーブンで１時間焼成して配向膜を形成した。
更に、該膜の表面をラビング処理により配向処理して配
向膜付ガラス基板を作製した。

【００９４】（２）フィルタ層の形成上記より得た配向膜付ガラス基板の該配向膜上に、下記
処方にて調製した感光性液晶層用塗布液（２）をスピン
コーターにより塗布し、これを１００℃のオーブンで２
分間乾燥して感光性液晶層を形成した。層厚を共焦点顕
微鏡により測定したところ、２．１μｍであった。

【００９５】

【化１４】

【００９６】次いで、ガラス基板の表面で接触するよう
に８０℃のホットプレート上に３分間保持し、感光性液
晶層を配向（発色）させた。このとき、感光性液晶層は
液晶相となり、中心波長４６５ｎｍの選択反射を示し
た。続いて、該感光性液晶層上に、開口部が線幅８０μ
ｍ、開口ピッチ２７０μｍのストライプ状のフォトマス
クと、３６５ｎｍに透過中心波長を持つ干渉フィルタと
を介して超高圧水銀灯を配置し、このフォトマスク及び
干渉フィルタを通して超高圧水銀灯により１秒間照射
（照射強度３０ｍＷ／ｃｍ²）しパターニングした。こ
の時（８０℃）、感光性液晶層の光照射部は緑色の選択
反射を示した。続いて、前記フォトマスクを線幅方向に
９０μｍステップ移動させて、上記同様（前記干渉フィ
ルタ及び超高圧水銀灯を使用）に３秒間照射した。する
と、感光性液晶層の光照射部は赤色の選択反射を示し
た。尚、感光性液晶層の未照射部は青色の選択反射を示
していた（配向工程）。以上より、感光性液晶層に緑
色、赤色、青色に選択反射を示すパターンを形成した。

【００９７】次に、これを室温付近まで急速冷却し、２
５℃の窒素雰囲気下で超高圧水銀灯を用いて４０ｍＷ／
ｃｍ²で１０秒間光照射を行い、その後更に２５０℃で
１０分間加熱して（硬化工程）、赤色画素、緑色画素、
青色画素パターンが形成されたカラーフィルタを得た。

【００９８】得られたカラーフィルタの、緑色の選択反
射を示す波長ピークの半値幅は６８ｎｍであり、色純度
の高い緑色の画素パターンを形成することができた。

【００９９】（比較例２）まず、実施例２と同様にし
て、配向膜付ガラス基板上に感光性液晶層を形成し、緑
色、赤色、青色に選択反射を示すパターンを形成した。
そして、これを室温付近まで急速冷却し、１００℃の窒
素雰囲気下で超高圧水銀灯により光照射（４０ｍＷ／ｃ
ｍ²、１０秒間）したこと以外、実施例２と同様にし
て、カラーフィルタを得た。得られたカラーフィルタ
の、緑色の選択反射を示す波長ピークの半値幅は４９ｎ
ｍであり、実施例２におけるカラーフィルタと同等の選
択反射ピークを得ることはできなかった。

【０１００】

【発明の効果】本発明によれば、液晶相形成温度に保持
した後（コレステリック液晶の場合には、所望の選択反
射を示す状態とした後）、光照射により液晶相（層）を
固定して光学膜（例えば、位相差フィルム、カラーフィ
ルタなど）を形成する光学膜形成方法において、薄膜で
優れた光学特性（固有複屈折Δｎ、選択反射ピーク）を
有する光学膜、コレステリック液晶の場合には、広範な
選択反射色を示し色純度に優れた光学膜を簡便かつ低コ
ストに形成し得る光学膜形成方法を提供することができ
る。また、前記光学膜形成方法により得られ、薄膜で光
学特性に優れ、広範な選択反射色を示し、特に色純度の
高い表示が可能な選択反射膜を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の光学膜形成方法によりカラーフィル
タを作製する工程の一部を示す概略図である。

【図２】本発明の光学膜形成方法によりカラーフィル
タを作製する工程の一部を示す概略図である。

【図３】本発明の光学膜形成方法によりカラーフィル
タを作製する工程の一部を示す概略図である。

【符号の説明】１０支持体（仮支持体）１２クッション層（熱可塑性樹脂層）１４，２４配向膜１６コレステリック液晶層（液晶性組成物）２０転写シート２２基板２６カラーフィルタ用基板２８露光マスク

フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｇ０２Ｆ 1/1335 ５０５Ｇ０２Ｆ 1/1335 ５０５ 1/13363 1/13363 Ｆターム(参考） 2H048 AA06 AA24 AA25 BA43 BA47 BB02 BB42 FA01 FA04 FA09 FA15 FA22 2H049 BA03 BA05 BA06 BA42 BA43 BC01 BC04 BC05 BC22 2H088 EA45 EA47 GA02 GA06 GA17 HA11 HA15 HA18 KA06 MA18 2H091 FA08 FA11 FA14 FB02 FD07 FD10 HA11

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】重合性基を少なくとも１つ有する液晶性
化合物と重合開始剤とを含む液晶性組成物を用いて光学
膜を形成する光学膜形成方法であって、前記液晶性組成物を液晶相形成温度に保持した後、該液
晶性組成物に８０℃以下の温度条件下で光照射して一部
を重合させ、光照射後さらに加熱し硬化する工程を有す
ることを特徴とする光学膜形成方法。
【請求項２】液晶性化合物が棒状のネマチック液晶化
合物であって、液晶性組成物がキラル化合物を含む請求
項１に記載の光学膜形成方法。
【請求項３】キラル化合物が光反応型キラル化合物で
ある請求項２に記載の光学膜形成方法。
【請求項４】液晶性組成物が空気界面配向剤を含む請
求項１から３のいずれかに記載の光学膜形成方法。
【請求項５】液晶相形成温度に保持するごとに前記工
程を複数回繰り返し、選択反射波長の異なる２種以上の
領域からなる光学膜を形成する請求項１から４のいずれ
かに記載の光学膜形成方法。
【請求項６】請求項２から５のいずれかに記載の光学
膜形成方法により得られることを特徴とする選択反射
膜。