JP2002323617A - 光ファイバー用フィルターの製造方法 - Google Patents
光ファイバー用フィルターの製造方法Info
- Publication number
- JP2002323617A JP2002323617A JP2001128526A JP2001128526A JP2002323617A JP 2002323617 A JP2002323617 A JP 2002323617A JP 2001128526 A JP2001128526 A JP 2001128526A JP 2001128526 A JP2001128526 A JP 2001128526A JP 2002323617 A JP2002323617 A JP 2002323617A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- filter
- optical fiber
- film
- cuts
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Abstract
(57)【要約】
【課題】高い生産効率により低廉価の光フィルターを製
造することができる光ファイバー用フィルターの製造方
法を提供する。 【解決手段】基板１は、フィルターｂの最終製品に近似
した厚さｄを有するように成形して、この基板１に、フ
ィルターｂの一辺幅となる多数の切り込み２を、該基板
１の厚み方向へ一側面から他側面へ向かって該他側部に
接続部２ａを有するように施し、この基板１の他側面に
バンドパスフィルター膜３をコーティングし、基板１の
一側面に反射防止膜４をコーティングして、多数の切り
込み２において該切り込み２の接続部２ａを切断して略
立方体状のフィルターｂを得る。
造することができる光ファイバー用フィルターの製造方
法を提供する。 【解決手段】基板１は、フィルターｂの最終製品に近似
した厚さｄを有するように成形して、この基板１に、フ
ィルターｂの一辺幅となる多数の切り込み２を、該基板
１の厚み方向へ一側面から他側面へ向かって該他側部に
接続部２ａを有するように施し、この基板１の他側面に
バンドパスフィルター膜３をコーティングし、基板１の
一側面に反射防止膜４をコーティングして、多数の切り
込み２において該切り込み２の接続部２ａを切断して略
立方体状のフィルターｂを得る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、効率がよく低廉価の光
フィルターを製造することができる光ファイバー用フィ
ルターの製造方法に関する。
フィルターを製造することができる光ファイバー用フィ
ルターの製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、光ファイバーの出口用に使用され
る光フィルター６０は、例えば、図７（ｃ）に示すよう
な、２ｍｍ角の立方体状に形成されているもので、本体
６１に対して、光が入射する側の面には特定の波長を透
過させることができるバンドパスフィルター膜６３を多
層にコーティングし、この面の他側面には透過した光が
反射しないように反射防止膜６２が多層にコーティング
されている。
る光フィルター６０は、例えば、図７（ｃ）に示すよう
な、２ｍｍ角の立方体状に形成されているもので、本体
６１に対して、光が入射する側の面には特定の波長を透
過させることができるバンドパスフィルター膜６３を多
層にコーティングし、この面の他側面には透過した光が
反射しないように反射防止膜６２が多層にコーティング
されている。
【０００３】この光フィルター６０の製造にあっては、
図７（ａ）に示すように、例えば、１００φ×１０ｔの
円盤状の基板６４から、多数の賽の目状に切り出される
もので、同図において（ｂ２）に示すように、この基板
６４の一側面には、まず、前記したバンドパスフィルタ
ー膜６３をコーティングするものであるが、このコーテ
ィングに際しては、基板６４が薄厚板であると、図８
（ａ）に示すように、成膜部の収縮や緊張作用などに対
して、基板６４の強度不足等により処理中や処理後に湾
曲した反りなどを生じさせて、図８（ｂ）に示すよう
に、できあがった製品の光フィルター６０の面精度が悪
化して、光透過の不都合等を生ずるものであって、高い
精度のものを得ることができない。特に、このバンドパ
スフィルター膜６３は、例えば、１５０層とかなり多層
に設けられるため、一層、この反り現象は顕著に表れ
る。
図７（ａ）に示すように、例えば、１００φ×１０ｔの
円盤状の基板６４から、多数の賽の目状に切り出される
もので、同図において（ｂ２）に示すように、この基板
６４の一側面には、まず、前記したバンドパスフィルタ
ー膜６３をコーティングするものであるが、このコーテ
ィングに際しては、基板６４が薄厚板であると、図８
（ａ）に示すように、成膜部の収縮や緊張作用などに対
して、基板６４の強度不足等により処理中や処理後に湾
曲した反りなどを生じさせて、図８（ｂ）に示すよう
に、できあがった製品の光フィルター６０の面精度が悪
化して、光透過の不都合等を生ずるものであって、高い
精度のものを得ることができない。特に、このバンドパ
スフィルター膜６３は、例えば、１５０層とかなり多層
に設けられるため、一層、この反り現象は顕著に表れ
る。
【０００４】したがって、前記コーティングに際して反
りを生じさせない強度を持った厚さｘまで、図７
（ａ），（ｂ１）に示すように、あらかじめ本体６１を
余分に厚く形成しておき、図７（ｂ２）に示すように、
本体６１の一側面にバンドパスフィルター膜６３をコー
ティングする。
りを生じさせない強度を持った厚さｘまで、図７
（ａ），（ｂ１）に示すように、あらかじめ本体６１を
余分に厚く形成しておき、図７（ｂ２）に示すように、
本体６１の一側面にバンドパスフィルター膜６３をコー
ティングする。
【０００５】そして、図７（ｂ３）に示すように、本来
の本体６１の厚さとなるまで所定研磨量６５を削除す
る。更に、図７（ｂ４）に示すように、この本体６１の
一側面に反射防止膜６２をコーティングした後、図７
（ｂ５）に示すように、賽の目状６６に切り出すこと
で、図７（ｃ）に示すような、光フィルター６０ができ
る。
の本体６１の厚さとなるまで所定研磨量６５を削除す
る。更に、図７（ｂ４）に示すように、この本体６１の
一側面に反射防止膜６２をコーティングした後、図７
（ｂ５）に示すように、賽の目状６６に切り出すこと
で、図７（ｃ）に示すような、光フィルター６０ができ
る。
【０００６】しかしながら、前記した製造方法では、そ
の製造過程において、本体６１厚の大部分（所定研磨量
６５）が研磨により失って無駄となってしまうため、甚
だ不経済であると共に、この研磨に多くの加工時間を費
やすため、面倒でかつ生産効率を低下させる上、この基
板６４は、極めて高価なものであるから、製造コストを
高騰させるものであった。等の様々な問題点を有するも
のであった。
の製造過程において、本体６１厚の大部分（所定研磨量
６５）が研磨により失って無駄となってしまうため、甚
だ不経済であると共に、この研磨に多くの加工時間を費
やすため、面倒でかつ生産効率を低下させる上、この基
板６４は、極めて高価なものであるから、製造コストを
高騰させるものであった。等の様々な問題点を有するも
のであった。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、前記した問
題点を解決するためになされたもので、基板は、フィル
ターの最終製品に近似した厚さを有するように成形し
て、この基板に、フィルターの一辺幅となる多数の切り
込みを、該基板の厚み方向へ一側面から他側面へ向かっ
て該他側部に接続部を残すように施し、この基板の他側
面にバンドパスフィルター膜をコーティングし、基板の
一側面に反射防止膜をコーティングして、多数の切り込
みにおいて該切り込みの接続部を切断して略立方体状の
フィルターを得ることにより、高い生産効率により低廉
価の光フィルターを製造することができる光ファイバー
用フィルターの製造方法を提供することを目的としてい
る。
題点を解決するためになされたもので、基板は、フィル
ターの最終製品に近似した厚さを有するように成形し
て、この基板に、フィルターの一辺幅となる多数の切り
込みを、該基板の厚み方向へ一側面から他側面へ向かっ
て該他側部に接続部を残すように施し、この基板の他側
面にバンドパスフィルター膜をコーティングし、基板の
一側面に反射防止膜をコーティングして、多数の切り込
みにおいて該切り込みの接続部を切断して略立方体状の
フィルターを得ることにより、高い生産効率により低廉
価の光フィルターを製造することができる光ファイバー
用フィルターの製造方法を提供することを目的としてい
る。
【０００８】
【課題を解決するための手段】前記した目的を達成する
ための本発明の手段は、基板から多数個の略立方体状の
フィルターを、賽の目状に切り出して得る光ファイバー
用フィルターの製造にあって、前記基板は、前記フィル
ターの最終製品に近似した厚さを有するように成形し
て、この基板に、前記フィルターの一辺幅となる多数の
切り込みを、該基板の厚み方向へ一側面から他側面へ向
かって該他側部に接続部を残すように施し、この基板の
他側面にバンドパスフィルター膜をコーティングして、
前記多数の切り込みにおいて該切り込みの接続部を切断
して前記略立方体状のフィルターを得る光ファイバー用
フィルターの製造方法にある。
ための本発明の手段は、基板から多数個の略立方体状の
フィルターを、賽の目状に切り出して得る光ファイバー
用フィルターの製造にあって、前記基板は、前記フィル
ターの最終製品に近似した厚さを有するように成形し
て、この基板に、前記フィルターの一辺幅となる多数の
切り込みを、該基板の厚み方向へ一側面から他側面へ向
かって該他側部に接続部を残すように施し、この基板の
他側面にバンドパスフィルター膜をコーティングして、
前記多数の切り込みにおいて該切り込みの接続部を切断
して前記略立方体状のフィルターを得る光ファイバー用
フィルターの製造方法にある。
【０００９】そして、基板から多数個の略立方体状のフ
ィルターを、賽の目状に切り出して得る光ファイバー用
フィルターの製造にあって、前記基板は、前記フィルタ
ーの最終製品に近似した厚さを有するように成形して、
この基板に、前記フィルターの一辺幅となる多数の切り
込みを、該基板の厚み方向へ一側面から他側面へ向かっ
て該他側部に接続部を残すように施し、この基板の他側
面にバンドパスフィルター膜をコーティングし、前記基
板の一側面に反射防止膜をコーティングして、前記多数
の切り込みにおいて該切り込みの接続部を切断して前記
略立方体状のフィルターを得る光ファイバー用フィルタ
ーの製造方法にある。
ィルターを、賽の目状に切り出して得る光ファイバー用
フィルターの製造にあって、前記基板は、前記フィルタ
ーの最終製品に近似した厚さを有するように成形して、
この基板に、前記フィルターの一辺幅となる多数の切り
込みを、該基板の厚み方向へ一側面から他側面へ向かっ
て該他側部に接続部を残すように施し、この基板の他側
面にバンドパスフィルター膜をコーティングし、前記基
板の一側面に反射防止膜をコーティングして、前記多数
の切り込みにおいて該切り込みの接続部を切断して前記
略立方体状のフィルターを得る光ファイバー用フィルタ
ーの製造方法にある。
【００１０】更に、基板から多数個の略立方体状のフィ
ルターを、賽の目状に切り出して得る光ファイバー用フ
ィルターの製造にあって、前記基板は、前記フィルター
の最終製品に近似した厚さを有するように成形して、こ
の基板の一側面に反射防止膜をコーティングし、該基板
に対して、前記フィルターの一辺幅となる多数の切り込
みを、該基板の厚み方向へ前記一側面から他側面へ向か
って該他側部に接続部を残すように施し、この基板の他
側面にバンドパスフィルター膜をコーティングし、前記
多数の切り込みにおいて該切り込みの接続部を切断して
前記略立方体状のフィルターを得る光ファイバー用フィ
ルターの製造方法にある。
ルターを、賽の目状に切り出して得る光ファイバー用フ
ィルターの製造にあって、前記基板は、前記フィルター
の最終製品に近似した厚さを有するように成形して、こ
の基板の一側面に反射防止膜をコーティングし、該基板
に対して、前記フィルターの一辺幅となる多数の切り込
みを、該基板の厚み方向へ前記一側面から他側面へ向か
って該他側部に接続部を残すように施し、この基板の他
側面にバンドパスフィルター膜をコーティングし、前記
多数の切り込みにおいて該切り込みの接続部を切断して
前記略立方体状のフィルターを得る光ファイバー用フィ
ルターの製造方法にある。
【００１１】
【実施例】次に本発明に関する光ファイバー用フィルタ
ーの製造方法の一実施例を図面に基づいて説明する。本
発明に係る第一の実施例の光ファイバー用フィルターの
製造方法は、図４に示すような、基板１から多数個の略
立方体状のフィルターｂを、賽の目状に切り出して得る
もので、後記するバンドパスフィルター膜３と反射防止
膜４とのコーティングにあって、基材１に対してバンド
パスフィルター膜３を先に加工するものである。
ーの製造方法の一実施例を図面に基づいて説明する。本
発明に係る第一の実施例の光ファイバー用フィルターの
製造方法は、図４に示すような、基板１から多数個の略
立方体状のフィルターｂを、賽の目状に切り出して得る
もので、後記するバンドパスフィルター膜３と反射防止
膜４とのコーティングにあって、基材１に対してバンド
パスフィルター膜３を先に加工するものである。
【００１２】前記した基板１は、所定の熱膨張特性やヤ
ング率，ビッカース硬度，光線透過率等を備えたガラス
材により、図１に示すように、例えば、１００φ程度の
外径ｅの円盤状に成形されているもので、前記フィルタ
ーｂの最終製品の厚さｄに近似した厚さｄ１（例えば、
１．４ｍｍ〜３ｍｍ厚等）を有するように成形してあ
る。
ング率，ビッカース硬度，光線透過率等を備えたガラス
材により、図１に示すように、例えば、１００φ程度の
外径ｅの円盤状に成形されているもので、前記フィルタ
ーｂの最終製品の厚さｄに近似した厚さｄ１（例えば、
１．４ｍｍ〜３ｍｍ厚等）を有するように成形してあ
る。
【００１３】図１および図３（ａ）に示す基板１に対し
て、図２に示すように、フィルターｂの一辺幅（例え
ば、１．４ｍｍ〜３ｍｍ×１．４ｍｍ〜３ｍｍ幅）とな
る縦横の多数の方形状の切り込み２を、該基板１の厚み
方向へ一側面から他側面へ向かって該他側部に接続部２
ａ（切り残し）を有するように施す工程が行われる。該
切り込み２にあっては、慣用の切断手段（図示せず）に
より行われる。また、この切り込み２の切り込み幅ｆ
は、できるだけ薄く設けることが歩留まり等において好
ましい。
て、図２に示すように、フィルターｂの一辺幅（例え
ば、１．４ｍｍ〜３ｍｍ×１．４ｍｍ〜３ｍｍ幅）とな
る縦横の多数の方形状の切り込み２を、該基板１の厚み
方向へ一側面から他側面へ向かって該他側部に接続部２
ａ（切り残し）を有するように施す工程が行われる。該
切り込み２にあっては、慣用の切断手段（図示せず）に
より行われる。また、この切り込み２の切り込み幅ｆ
は、できるだけ薄く設けることが歩留まり等において好
ましい。
【００１４】更に、前記した接続部２ａは、基板１の厚
さに対して、１０％〜４０％程度の寸法を有する。この
寸法は、１０％未満であると、後工程において不用意に
バラバラとなりやすく反射防止膜４のコーティングや切
断等の加工がしにくいなどの不都合を起こし、４０％以
上であると、後記するバンドパスフィルター膜３をコー
ティングした際に、基板１の直径方向に対して反りを生
ずるという不都合を起こす。
さに対して、１０％〜４０％程度の寸法を有する。この
寸法は、１０％未満であると、後工程において不用意に
バラバラとなりやすく反射防止膜４のコーティングや切
断等の加工がしにくいなどの不都合を起こし、４０％以
上であると、後記するバンドパスフィルター膜３をコー
ティングした際に、基板１の直径方向に対して反りを生
ずるという不都合を起こす。
【００１５】前記した切り込み工程に続いて、この基板
１の他側面と一側面とに所定のコーティングを施すもの
で、まず、基板１の他側面には、図３（ｃ）に示すよう
に、バンドパスフィルター膜３がコーティングされる。
１の他側面と一側面とに所定のコーティングを施すもの
で、まず、基板１の他側面には、図３（ｃ）に示すよう
に、バンドパスフィルター膜３がコーティングされる。
【００１６】該バンドパスフィルター膜３は、薄膜の界
面で発生する反射の干渉現象を利用して、選択反射によ
る光の濾過を行い、所望の波長のみを濾過させる干渉フ
ィルター層であって、五酸化タンタルや二酸化珪素など
によるコーティングにより成形されるもので、１００層
〜２００層程度の複層に構成される。
面で発生する反射の干渉現象を利用して、選択反射によ
る光の濾過を行い、所望の波長のみを濾過させる干渉フ
ィルター層であって、五酸化タンタルや二酸化珪素など
によるコーティングにより成形されるもので、１００層
〜２００層程度の複層に構成される。
【００１７】また、基板１の一側面には、図３（ｄ）に
示すように、反射防止膜４がコーティングされるもの
で、二酸化珪素や酸化ジルコニウムなどにより、２層〜
１０層程度の複層に構成される。なお、前記したバンド
パスフィルター膜３および反射防止膜４の成膜にあって
は、蒸着法やイオンプレーティング法，スパッタリング
法等の適宜な方法が採用される。
示すように、反射防止膜４がコーティングされるもの
で、二酸化珪素や酸化ジルコニウムなどにより、２層〜
１０層程度の複層に構成される。なお、前記したバンド
パスフィルター膜３および反射防止膜４の成膜にあって
は、蒸着法やイオンプレーティング法，スパッタリング
法等の適宜な方法が採用される。
【００１８】こうして、基板１の他側面と一側面とに所
定の成膜された後は、前記切り込み工程において多数の
切り込み２が施された該切り込み２の接続部２ａを、図
３（ｅ）に示すように、切り込み２と同様の切断手段に
より切断加工５を行うと、同図および図４に示すよう
な、例えば、２ｍｍ×２ｍｍ×２ｍｍからなる略立方体
状のフィルターｂが製造される。
定の成膜された後は、前記切り込み工程において多数の
切り込み２が施された該切り込み２の接続部２ａを、図
３（ｅ）に示すように、切り込み２と同様の切断手段に
より切断加工５を行うと、同図および図４に示すよう
な、例えば、２ｍｍ×２ｍｍ×２ｍｍからなる略立方体
状のフィルターｂが製造される。
【００１９】したがって、基板１の他側面にバンドパス
フィルター膜３をコーティングする際にあって、基材１
の厚さ方向において、接続部２ａを設けて切り込み２を
施すことで、１００層〜２００層とかなり多層に成膜さ
れても、図５に示すように、基材１の外径ｅ方向（直径
方向）に働こうとする前記成膜時に生ずる収縮や緊張作
用などは、該切り込み２によって分断された製品厚ｄご
とに分散されて掛かるため、または、この切り込み２に
より該力を吸収して、基材１に掛かる湾曲や歪みを全く
生じさせない、あるいは、極めてわずかとなるので、製
造された製品にはほとんど前記悪影響を与えことなく高
い面精度のものが得られる。
フィルター膜３をコーティングする際にあって、基材１
の厚さ方向において、接続部２ａを設けて切り込み２を
施すことで、１００層〜２００層とかなり多層に成膜さ
れても、図５に示すように、基材１の外径ｅ方向（直径
方向）に働こうとする前記成膜時に生ずる収縮や緊張作
用などは、該切り込み２によって分断された製品厚ｄご
とに分散されて掛かるため、または、この切り込み２に
より該力を吸収して、基材１に掛かる湾曲や歪みを全く
生じさせない、あるいは、極めてわずかとなるので、製
造された製品にはほとんど前記悪影響を与えことなく高
い面精度のものが得られる。
【００２０】図６においては、本発明に係る光ファイバ
ー用フィルターの製造方法の第二の実施例を示すもの
で、この第二実施例にあっても第一実施例と同様に、図
４に示すような、基板１から多数個の略立方体状のフィ
ルターｂを、賽の目状に切り出して得るものである。
ー用フィルターの製造方法の第二の実施例を示すもの
で、この第二実施例にあっても第一実施例と同様に、図
４に示すような、基板１から多数個の略立方体状のフィ
ルターｂを、賽の目状に切り出して得るものである。
【００２１】すなわち、基板１から多数個の略立方体状
のフィルターｂを、賽の目状に切り出して得る光ファイ
バー用フィルターの製造にあって、基板１は、図６
（ａ）に示すように、フィルターｂの最終製品に近似し
た厚さｄ１を有するように成形して、図６（ｂ）に示す
ように、この基板１の一側面に反射防止膜４をコーティ
ングし、該基板１に対して、図６（ｃ）に示すように、
フィルターｂの一辺幅となる多数の切り込み２を、該基
板１の厚み方向へ前記一側面から他側面へ向かって該他
側部に接続部２ａを残すように施し、この基板１の他側
面に、図６（ｄ）に示すように、バンドパスフィルター
膜３をコーティングし、図６（ｅ）に示すように、多数
の切り込み２において該切り込み２の接続部２ａを切断
して略立方体状のフィルターｂを得るものである。
のフィルターｂを、賽の目状に切り出して得る光ファイ
バー用フィルターの製造にあって、基板１は、図６
（ａ）に示すように、フィルターｂの最終製品に近似し
た厚さｄ１を有するように成形して、図６（ｂ）に示す
ように、この基板１の一側面に反射防止膜４をコーティ
ングし、該基板１に対して、図６（ｃ）に示すように、
フィルターｂの一辺幅となる多数の切り込み２を、該基
板１の厚み方向へ前記一側面から他側面へ向かって該他
側部に接続部２ａを残すように施し、この基板１の他側
面に、図６（ｄ）に示すように、バンドパスフィルター
膜３をコーティングし、図６（ｅ）に示すように、多数
の切り込み２において該切り込み２の接続部２ａを切断
して略立方体状のフィルターｂを得るものである。
【００２２】この例にあって、特徴的な点は、基材１の
一側面へ、先に反射防止膜４をコーティングを施した
後、前記第一実施例と同様に、多数の切り込み２を形成
し、更に、基板１の他側面にバンドパスフィルター膜３
をコーティングする製造方法である。
一側面へ、先に反射防止膜４をコーティングを施した
後、前記第一実施例と同様に、多数の切り込み２を形成
し、更に、基板１の他側面にバンドパスフィルター膜３
をコーティングする製造方法である。
【００２３】なお、基材１の構成や多数の切り込み２の
加工方法やその形態、および該切り込み２における接続
部２ａの切断加工等については、前記した第一実施例と
同様に構成されるため同一部材に対しては同一符号を付
して、詳細な説明は第一実施例を援用する。
加工方法やその形態、および該切り込み２における接続
部２ａの切断加工等については、前記した第一実施例と
同様に構成されるため同一部材に対しては同一符号を付
して、詳細な説明は第一実施例を援用する。
【００２４】基板１に対して、切り込み２を形成する前
に、その一側面へ反射防止膜４をコーティングする工程
は、反射防止膜４が第一実施例において述べたように、
２層〜１０層と比較的に少ない層から構成されるため、
該膜４による引っ張りに起因する反りの発生がほとんど
なく、製品の平面精度には影響与えないため、該反射防
止膜４を事前に成膜処理することができる。
に、その一側面へ反射防止膜４をコーティングする工程
は、反射防止膜４が第一実施例において述べたように、
２層〜１０層と比較的に少ない層から構成されるため、
該膜４による引っ張りに起因する反りの発生がほとんど
なく、製品の平面精度には影響与えないため、該反射防
止膜４を事前に成膜処理することができる。
【００２５】
【発明の効果】前述のように構成される本発明は、基板
の一側面や他側面に対して成膜する際にあって、基材の
厚み方向へ一側面から他側面へ向かって、接続部を設け
て切り込みを施すことで、該成膜時に生ずる収縮や緊張
作用など消失あるいは減衰させて、基材に与える湾曲や
歪みの発生を解消させることができるため、できあがっ
たフィルターの完成精度を可及的に向上させることがで
きると共に、フィルターの生産効率を高めることができ
る上、該フィルターを安価に製造することができる。等
格別な効果を奏するものである。
の一側面や他側面に対して成膜する際にあって、基材の
厚み方向へ一側面から他側面へ向かって、接続部を設け
て切り込みを施すことで、該成膜時に生ずる収縮や緊張
作用など消失あるいは減衰させて、基材に与える湾曲や
歪みの発生を解消させることができるため、できあがっ
たフィルターの完成精度を可及的に向上させることがで
きると共に、フィルターの生産効率を高めることができ
る上、該フィルターを安価に製造することができる。等
格別な効果を奏するものである。
【図１】本発明に関する光ファイバー用フィルターの製
造方法の第一実施例に用いる基材を示す斜視図である。
造方法の第一実施例に用いる基材を示す斜視図である。
【図２】図１における基材に切り込みを施した状態を示
す斜視図である。
す斜視図である。
【図３】本発明に関する光ファイバー用フィルターの製
造方法の製造工程を示す説明図である。
造方法の製造工程を示す説明図である。
【図４】図３による工程によって製造されたフィルター
を示す斜視図である。
を示す斜視図である。
【図５】図２における切り込み部を示す要部の拡大説明
図である。
図である。
【図６】本発明に関する光ファイバー用フィルターの製
造方法の第二実施例に係る製造工程を示す説明図であ
る。
造方法の第二実施例に係る製造工程を示す説明図であ
る。
【図７】従来のフィルターの製造工程を示す説明図であ
る。
る。
【図８】従来のフィルターの製造工程によって生ずる不
都合を示す説明図である。
都合を示す説明図である。
ｂ フィルター ｄ 厚さ １ 基板 ２ 切り込み ２ａ 接続部 ３ 反射防止膜 ４ バンドパスフィルター
Claims (3)
- 【請求項１】 基板から多数個の略立方体状のフィルタ
ーを、賽の目状に切り出して得る光ファイバー用フィル
ターの製造にあって、 前記基板は、前記フィルターの最終製品に近似した厚さ
を有するように成形して、この基板に、前記フィルター
の一辺幅となる多数の切り込みを、該基板の厚み方向へ
一側面から他側面へ向かって該他側部に接続部を残すよ
うに施し、この基板の他側面にバンドパスフィルター膜
をコーティングして、前記多数の切り込みにおいて該切
り込みの接続部を切断して前記略立方体状のフィルター
を得ることを特徴とする光ファイバー用フィルターの製
造方法。 - 【請求項２】 基板から多数個の略立方体状のフィルタ
ーを、賽の目状に切り出して得る光ファイバー用フィル
ターの製造にあって、 前記基板は、前記フィルターの最終製品に近似した厚さ
を有するように成形して、この基板に、前記フィルター
の一辺幅となる多数の切り込みを、該基板の厚み方向へ
一側面から他側面へ向かって該他側部に接続部を残すよ
うに施し、この基板の他側面にバンドパスフィルター膜
をコーティングし、前記基板の一側面に反射防止膜をコ
ーティングして、前記多数の切り込みにおいて該切り込
みの接続部を切断して前記略立方体状のフィルターを得
ることを特徴とする光ファイバー用フィルターの製造方
法。 - 【請求項３】 基板から多数個の略立方体状のフィルタ
ーを、賽の目状に切り出して得る光ファイバー用フィル
ターの製造にあって、 前記基板は、前記フィルターの最終製品に近似した厚さ
を有するように成形して、この基板の一側面に反射防止
膜をコーティングし、該基板に対して、前記フィルター
の一辺幅となる多数の切り込みを、該基板の厚み方向へ
前記一側面から他側面へ向かって該他側部に接続部を残
すように施し、この基板の他側面にバンドパスフィルタ
ー膜をコーティングし、前記多数の切り込みにおいて該
切り込みの接続部を切断して前記略立方体状のフィルタ
ーを得ることを特徴とする光ファイバー用フィルターの
製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001128526A JP2002323617A (ja) | 2001-04-26 | 2001-04-26 | 光ファイバー用フィルターの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001128526A JP2002323617A (ja) | 2001-04-26 | 2001-04-26 | 光ファイバー用フィルターの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002323617A true JP2002323617A (ja) | 2002-11-08 |
Family
ID=18977200
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001128526A Pending JP2002323617A (ja) | 2001-04-26 | 2001-04-26 | 光ファイバー用フィルターの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002323617A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004109347A1 (ja) * | 2003-06-09 | 2004-12-16 | Fujinon Sano Corporation | チップ状成膜部品の製造方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000047027A (ja) * | 1998-07-28 | 2000-02-18 | Fujitsu Ltd | 光フィルタの製造方法 |
-
2001
- 2001-04-26 JP JP2001128526A patent/JP2002323617A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000047027A (ja) * | 1998-07-28 | 2000-02-18 | Fujitsu Ltd | 光フィルタの製造方法 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004109347A1 (ja) * | 2003-06-09 | 2004-12-16 | Fujinon Sano Corporation | チップ状成膜部品の製造方法 |
| CN100356206C (zh) * | 2003-06-09 | 2007-12-19 | 富士能佐野株式会社 | 片状成膜部件的制造方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2000304933A (ja) | 偏光フィルタおよびその製造方法 | |
| US7488237B2 (en) | Optical filter, production method for this optical filter and optical device using this optical filter and housing structure for this optical filter | |
| US20100128347A1 (en) | Polarizing cube and method of fabricating the same | |
| JP2002323617A (ja) | 光ファイバー用フィルターの製造方法 | |
| JP2007503607A (ja) | レーザーシステムにおける偏向装置のためのミラー、その製造方法およびレーザーシステムのための偏向装置 | |
| US20030099038A1 (en) | Thin film filter for optical multiplexer/demultiplexer | |
| JPH07209516A (ja) | 光学多層膜フィルタ | |
| JPH02440Y2 (ja) | ||
| JP2005150716A (ja) | 半導体レーザダイオードおよびその製造方法 | |
| JP2003195031A (ja) | エアギャップ型エタロンフィルタとその製造方法 | |
| TW200419864A (en) | Multi-wavelength semiconductor laser device and manufacturing method thereof | |
| JP2003015111A (ja) | 平面表示装置の製造方法 | |
| JPS63266402A (ja) | 反射防止膜 | |
| WO2004109347A1 (ja) | チップ状成膜部品の製造方法 | |
| JP2004077717A (ja) | 誘電体多層膜フィルタ素子の製造方法及び誘電体多層膜フィルタ素子を有する光部品 | |
| JP2003315535A (ja) | 光学素子、光学素子の製造方法及び光学装置 | |
| JPH1123845A (ja) | 積層型偏光子 | |
| JPS6349704A (ja) | ダイクロイツクミラ− | |
| JPH0743531A (ja) | 分波部品の製造方法 | |
| JP2002328221A (ja) | 薄膜付き基板の形成方法 | |
| JP3340022B2 (ja) | 光学多層膜フィルタ及びその製造方法 | |
| JP2003294965A (ja) | 光導波路デバイス、その製造方法及び基板 | |
| JP2002169010A (ja) | 回折光学素子 | |
| JP2004118002A (ja) | チップ状成膜部品の製造方法 | |
| JPS60171281A (ja) | グレ−ズドセラミツク基板 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080215 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100629 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100706 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20101109 |