JP2002319281A - Magnetic memory and drive method therefor - Google Patents

Magnetic memory and drive method therefor

Info

Publication number
JP2002319281A
JP2002319281A JP2001120906A JP2001120906A JP2002319281A JP 2002319281 A JP2002319281 A JP 2002319281A JP 2001120906 A JP2001120906 A JP 2001120906A JP 2001120906 A JP2001120906 A JP 2001120906A JP 2002319281 A JP2002319281 A JP 2002319281A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
memory
address
magnetic
memory cell
data
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2001120906A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP4726169B2 (en
Inventor
Masahiko Hirai
匡彦 平井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Canon Inc filed Critical Canon Inc
Priority to JP2001120906A priority Critical patent/JP4726169B2/en
Publication of JP2002319281A publication Critical patent/JP2002319281A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP4726169B2 publication Critical patent/JP4726169B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Mram Or Spin Memory Techniques (AREA)
  • Semiconductor Memories (AREA)
  • Hall/Mr Elements (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a magnetic memory and its drive method, in which data at the middle of processing can be saved easily and processing which is suspended can be restarted in a short time. SOLUTION: The magnetic memory, in which a magnetic resistance element storing and holding information utilizing variations of an electrical resistance value which depends on the magnetization direction of a magnetic material is included in a memory cell, has an address buffer circuit generating respectively a low address and a column address from an address signal for selecting a memory cell performing write-in or read-out of information, a row address latching circuit a row decoder provided with first non-volatile memory for temporarily holding a row address, and a column address latch circuit or a column decoder provided with second non-volatile memory for temporarily holding a column address.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、情報を記憶保持す
る複数のメモリセルを有する記憶装置に関し、特に強磁
性体の磁化方向により電気抵抗値が変化する磁気抵抗素
子をメモリセルに備えた磁気メモリ及びその駆動方法に
関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a storage device having a plurality of memory cells for storing and holding information, and more particularly to a magnetic storage device having a magnetoresistive element whose electric resistance changes according to the magnetization direction of a ferromagnetic material. The present invention relates to a memory and a driving method thereof.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に、強磁性体は、外部から印加され
る磁界によって磁化され、外部磁界を取り除いた後も磁
化が残留する特性(残留磁化と称す)を備えている。ま
た、強磁性体は磁化の方向や磁化の有無などによってそ
の電気抵抗が変化する。このような特性は磁気抵抗効果
と呼ばれ、このときの電気抵抗値の変化率は磁気抵抗比
(Magneto - Resistance Ratio:MR比)と呼ばれる。
2. Description of the Related Art Generally, a ferromagnetic material is magnetized by a magnetic field applied from the outside, and has a characteristic that magnetization remains even after the external magnetic field is removed (referred to as residual magnetization). The electric resistance of a ferromagnetic material changes depending on the direction of magnetization, the presence or absence of magnetization, and the like. Such a characteristic is called a magnetoresistance effect, and a change rate of the electric resistance value at this time is called a magnetoresistance ratio (Magneto-resistance ratio: MR ratio).

【0003】磁気抵抗比が大きい材料としては金属、合
金、複合酸化物等から成るGMR(Giant Magneto - Re
sistance)素子やCMR(Colossal Magneto - Resista
nce)素子が知られている。具体的には、Fe、Ni、
Co、Gd、Tb、またはこれらの合金や、LaXSr
1-XMnO9、LaXCa1-XMnO9等の複合酸化物が用
いられる。
As a material having a large magnetoresistance ratio, GMR (Giant Magneto-Re
sistance) element and CMR (Colossal Magneto-Resista)
nce) elements are known. Specifically, Fe, Ni,
Co, Gd, Tb, or an alloy thereof, or La X Sr
Complex oxides such as 1-X MnO 9 and La X Ca 1-X MnO 9 are used.

【0004】このような強磁性体の残留磁化を利用すれ
ば、磁化方向や磁化の有無によって情報を記憶する不揮
発性メモリを構成することが可能であり、このような不
揮発性メモリは磁気メモリ(MRAM:Magnetic Rando
m Access Memory)と呼ばれている。
By utilizing the residual magnetization of such a ferromagnetic material, it is possible to configure a nonvolatile memory that stores information depending on the magnetization direction and the presence or absence of magnetization. Such a nonvolatile memory is a magnetic memory ( MRAM: Magnetic Rando
m Access Memory).

【0005】近年、開発が進められている磁気メモリの
多くは、上述した強磁性体の残留磁化を利用して情報を
記憶し、磁化方向の違いによって生じる電気抵抗値の変
化を検出して記憶した情報を読み出す方式を採用してい
る。なお、強磁性体を磁化する方法としては、例えば、
磁界を発生するための書き込み電流を流す書き込み線を
強磁性体の近傍に配置し、書き込み電流の流れる方向に
よって磁化方向を変化させることで情報の記憶及び書き
換えを行う。
In recent years, many magnetic memories that are being developed store information by utilizing the residual magnetization of the above-described ferromagnetic material, and detect and store a change in electric resistance value caused by a difference in magnetization direction. The method of reading the information obtained is adopted. As a method of magnetizing a ferromagnetic material, for example,
A write line through which a write current for generating a magnetic field flows is arranged near the ferromagnetic material, and information is stored and rewritten by changing the magnetization direction according to the direction in which the write current flows.

【0006】また、最近では、トンネル絶縁膜を2つの
強磁性体膜で挟んだ構造のTMR(Tunnel Magneto - R
esistance)素子、あるいはMTJ(Magnetic Tunnel J
unction)素子が高い磁気抵抗変化率(MR比)を備え
ているため、最も実用性の高いデバイスとして期待され
ている。
[0006] Recently, TMR (Tunnel Magneto-R) having a structure in which a tunnel insulating film is sandwiched between two ferromagnetic films is used.
esistance) element or MTJ (Magnetic Tunnel J)
Since the element has a high magnetoresistance ratio (MR ratio), it is expected to be the most practical device.

【0007】このような強磁性体をメモリセルに備えた
磁気メモリは、プログラムが格納されるプログラムメモ
リや、MPU(Micro Processing Unit)との間でデー
タをやりとりするワークメモリとしての利用が有望視さ
れている。
A magnetic memory having such a ferromagnetic material in a memory cell is expected to be used as a program memory for storing a program or a work memory for exchanging data with an MPU (Micro Processing Unit). Have been.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】上記したような従来の
磁気メモリに対して情報の読み書きを行う場合、通常、
DRAM(Dynamic Random Access Memory)に情報を読
み書きする場合と同様に、情報を記憶するメモリセルに
ランダムにアクセスする駆動方法が採用されている。こ
のような駆動方法では、MPU等による演算処理を停止
するときに、メモリセルアレイへ計算途中のデータを一
旦退避させる処理を行なってから作業を終了する。すな
わち、演算処理を停止するときには退避させるデータ及
びそのアドレス情報をメモリセルアレイに格納する必要
があった。
When reading / writing information from / to the conventional magnetic memory as described above, usually,
As in the case of reading / writing information from / to a DRAM (Dynamic Random Access Memory), a driving method of randomly accessing a memory cell for storing information is employed. In such a driving method, when the arithmetic processing by the MPU or the like is stopped, the processing for temporarily saving the data being calculated to the memory cell array is performed, and then the operation is completed. That is, when the arithmetic processing is stopped, it is necessary to store the data to be saved and its address information in the memory cell array.

【0009】したがって、演算処理を再開する際には、
メモリセルアレイに格納されたデータ及びそのアドレス
情報をメモリセルアレイから読み出す必要があるため、
停止した時点から処理を再開させるまでに時間がかかる
という問題があった。
Therefore, when restarting the arithmetic processing,
Since data stored in the memory cell array and its address information need to be read from the memory cell array,
There is a problem that it takes a long time to restart the processing from the time of stopping.

【0010】本発明は上記したような従来の技術が有す
る問題点を解決するためになされたものであり、処理途
中のデータを容易に退避させることが可能であり、停止
させていた処理を短時間で再開することが可能な磁気メ
モリ及びその駆動方法を提供することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-mentioned problems of the prior art, and can easily save data in the middle of processing, and can shorten the stopped processing. It is an object of the present invention to provide a magnetic memory that can be restarted in time and a driving method thereof.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
本発明の磁気メモリは、磁性体の磁化方向による電気抵
抗値の変化を利用して情報を記憶保持する磁気抵抗素子
をメモリセルに備えた磁気メモリであって、情報の書き
込みまたは読み出しを行うメモリセルを選択するための
アドレス信号からロウアドレス及びカラムアドレスをそ
れぞれ生成するアドレスバッファ回路と、前記ロウアド
レスを一時的に保持するための第1の不揮発性メモリを
備えたロウアドレスラッチ回路と、前記カラムアドレス
を一時的に保持するための第2の不揮発性メモリを備え
たカラムアドレスラッチ回路と、を有する構成である。
In order to achieve the above object, a magnetic memory according to the present invention comprises a memory cell having a magnetoresistive element for storing and holding information by utilizing a change in an electric resistance value according to a magnetization direction of a magnetic material. An address buffer circuit for respectively generating a row address and a column address from an address signal for selecting a memory cell for writing or reading information, and a second memory for temporarily holding the row address. The configuration includes a row address latch circuit including one nonvolatile memory and a column address latch circuit including a second nonvolatile memory for temporarily holding the column address.

【0012】または、磁性体の磁化方向による電気抵抗
値の変化を利用して情報を記憶保持する磁気抵抗素子を
メモリセルに備えた磁気メモリであって、情報の書き込
みまたは読み出しを行うメモリセルを選択するためのア
ドレス信号からロウアドレス及びカラムアドレスをそれ
ぞれ生成するアドレスバッファ回路と、前記ロウアドレ
スを一時的に保持するための第1の不揮発性メモリを備
え、前記ロウアドレスをデコードして選択されたメモリ
セルに所定の電圧または電流を供給するための信号を生
成するロウデコーダと、前記カラムアドレスを一時的に
保持するための第2の不揮発性メモリを備え、該カラム
アドレスをデコードして選択されたメモリセルに所定の
電流を供給するための信号を生成するするカラムデコー
ダと、を有する構成である。
[0012] Alternatively, a magnetic memory provided with a magnetoresistive element for storing and holding information by utilizing a change in electric resistance depending on the magnetization direction of a magnetic material, wherein the memory cell for writing or reading information is used. An address buffer circuit for generating a row address and a column address from an address signal for selection, respectively, and a first nonvolatile memory for temporarily holding the row address are provided. A row decoder for generating a signal for supplying a predetermined voltage or current to the memory cell, and a second nonvolatile memory for temporarily holding the column address, and decoding and selecting the column address. And a column decoder for generating a signal for supplying a predetermined current to the selected memory cell. It is.

【0013】このとき、前記第1の不揮発性メモリ及び
第2の不揮発性メモリは、情報を記憶保持するためのメ
モリセルに、磁性体の磁化方向による電気抵抗値の変化
を利用して情報を記憶保持する磁気抵抗素子を備えてい
てもよい。
At this time, the first nonvolatile memory and the second nonvolatile memory store information in a memory cell for storing and holding information by utilizing a change in an electric resistance value according to a magnetization direction of a magnetic material. A magnetoresistive element for storing and holding may be provided.

【0014】また、書き込みまたは読み出しを行う情報
を一時的に保持するための第3の不揮発性メモリを備え
た入出力データラッチ回路を有していてもよく、前記第
3の不揮発性メモリは、情報を記憶保持するためのメモ
リセルに、磁性体の磁化方向による電気抵抗値の変化を
利用して情報を記憶保持する磁気抵抗素子を備えていて
もよい。
[0014] Further, an input / output data latch circuit provided with a third non-volatile memory for temporarily storing information to be written or read may be provided. The memory cell for storing and holding information may include a magnetoresistive element for storing and holding information by utilizing a change in electric resistance depending on the magnetization direction of the magnetic material.

【0015】上記のように構成された磁気メモリでは、
ロウアドレスラッチ回路またはローデコーダにロウアド
レスを一時的に保持する第1の不揮発性メモリを備え、
カラムアドレスラッチ回路またはカラムデコーダにカラ
ムアドレスを一時的に保持する第2の不揮発性メモリを
備えているため、処理途中のデータに対応するアドレス
を磁気メモリに容易に退避させることが可能になる。
In the magnetic memory configured as described above,
A first nonvolatile memory for temporarily storing a row address in a row address latch circuit or a row decoder;
Since the column address latch circuit or the column decoder is provided with the second nonvolatile memory that temporarily holds the column address, it is possible to easily save the address corresponding to the data being processed to the magnetic memory.

【0016】また、入出力データラッチ回路に書き込み
または読み出しを行う情報を一時的に保持する第3の不
揮発性メモリを備えているため、処理途中のデータを磁
気メモリに容易に退避させることが可能になる。
Further, since the third non-volatile memory for temporarily storing information to be written or read to the input / output data latch circuit is provided, it is possible to easily save data in the process of being processed to the magnetic memory. become.

【0017】一方、本発明の磁気メモリの駆動方法は、
上述した磁気メモリに対して情報の書き込みまたは読み
出しを行うための磁気メモリの駆動方法であって、処理
途中のデータを書き込むアドレスから前記ロウアドレス
及びカラムアドレスをそれぞれ生成し、前記第1の不揮
発性メモリに該ロウアドレスを記録すると共に前記第2
の不揮発性メモリに該カラムアドレスを記録して処理作
業を停止し、前記第1の不揮発性メモリ及び前記第2の
不揮発性メモリに記録されたアドレスに対応するデータ
を前記処理作業の再開時に最初に読み出す方法である。
On the other hand, the driving method of the magnetic memory of the present invention is as follows.
A method for driving a magnetic memory for writing or reading information to or from a magnetic memory as described above, wherein the row address and the column address are respectively generated from an address to which data being processed is written, The row address is recorded in a memory and the second
The column work is recorded in the non-volatile memory, the processing operation is stopped, and the data corresponding to the addresses recorded in the first non-volatile memory and the second non-volatile memory are first stored when the processing operation is restarted. This is a method of reading data.

【0018】または、上述した磁気メモリに対して情報
の書き込みまたは読み出しを行うための磁気メモリの駆
動方法であって、処理途中のデータを前記第3の不揮発
性メモリに記録して処理作業を停止し、前記第3の不揮
発性メモリに記録されたデータを前記処理作業の再開時
に最初に読み出す方法である。
Alternatively, there is provided a method for driving a magnetic memory for writing or reading information to or from the above-described magnetic memory, wherein data being processed is recorded in the third nonvolatile memory, and the processing operation is stopped. In this method, data recorded in the third nonvolatile memory is first read out when the processing operation is restarted.

【0019】上記のような磁気メモリの駆動方法では、
第1の不揮発性メモリにロウアドレスを記録すると共に
第2の不揮発性メモリにカラムアドレスを記録して処理
作業を停止し、第1の不揮発性メモリ及び第2の不揮発
性メモリに記録されたアドレスに対応するデータを処理
作業の再開時に最初に読み出すことで、処理再開時に所
望のデータに直ちにアクセスすることができる。
In the method of driving a magnetic memory as described above,
The row address is recorded in the first non-volatile memory and the column address is recorded in the second non-volatile memory to stop the processing operation, and the addresses recorded in the first non-volatile memory and the second non-volatile memory By reading the data corresponding to the first time when the processing operation is restarted, desired data can be immediately accessed when the processing is restarted.

【0020】同様に、処理途中のデータを第3の不揮発
性メモリに記録して処理作業を停止し、第3の不揮発性
メモリに記録されたデータを処理作業の再開時に最初に
読み出すことで、処理再開時に所望のデータに直ちにア
クセスすることができる。
Similarly, the data being processed is recorded in the third non-volatile memory, the processing operation is stopped, and the data recorded in the third non-volatile memory is first read out when the processing operation is resumed. Desired data can be immediately accessed when the processing is restarted.

【0021】[0021]

【発明の実施の形態】次に本発明について図面を参照し
て説明する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Next, the present invention will be described with reference to the drawings.

【0022】図1は本発明の磁気メモリの一構成例を示
すブロック図であり、図2は図1に示したメモリセルア
レイの一構成例を示す回路図である。図3は図2に示し
た磁気抵抗素子の構造を示す図であり、同図(a)は磁
性層面に対して磁化方向が水平方向の例を示す断面図、
同図(b)は磁性層面に対して磁化方向が垂直方向の例
を示す断面図である。図4は図3に示した強磁性体の磁
化特性の一例を示すグラフである。また、図5は図1に
示したロウアドレスラッチ回路及びカラムアドレスラッ
チ回路が有する第1の不揮発性メモリ及び第2の不揮発
性メモリの一構成例を示す回路図であり、図6は図1に
示した入出力データラッチ回路が有する第3の不揮発性
メモリの一構成例を示す回路図である。
FIG. 1 is a block diagram showing one configuration example of the magnetic memory of the present invention, and FIG. 2 is a circuit diagram showing one configuration example of the memory cell array shown in FIG. FIG. 3 is a diagram showing the structure of the magnetoresistive element shown in FIG. 2, and FIG. 3 (a) is a cross-sectional view showing an example in which the magnetization direction is horizontal to the magnetic layer surface.
FIG. 2B is a cross-sectional view showing an example in which the magnetization direction is perpendicular to the magnetic layer surface. FIG. 4 is a graph showing an example of the magnetization characteristics of the ferromagnetic material shown in FIG. FIG. 5 is a circuit diagram showing one configuration example of a first nonvolatile memory and a second nonvolatile memory included in the row address latch circuit and the column address latch circuit shown in FIG. 1. FIG. FIG. 11 is a circuit diagram showing a configuration example of a third nonvolatile memory included in the input / output data latch circuit shown in FIG.

【0023】図1に示すように、本発明の磁気メモリ
は、複数のメモリセルから成るメモリセルアレイ1と、
外部から入力されるアドレス信号に基づいてデータの書
き込み/読み出し対象のメモリセルのカラムアドレス及
びロウアドレスをそれぞれ生成するアドレスバッファ回
路2と、アドレスバッファ回路2から出力されたロウア
ドレスを一時的に保持するロウアドレスラッチ回路3
と、アドレスバッファ回路2から出力されたカラムアド
レスを一時的に保持するカラムアドレスラッチ回路4
と、ロウアドレスラッチ回路3に保持されたロウアドレ
スをデコードし、後述するワード線及び書き込み線に所
定の電圧または電流を供給するための信号を生成するロ
ウデコーダ5と、カラムアドレスラッチ回路4に保持さ
れたカラムアドレスをデコードし、後述するビット線に
所定の電流を供給するための信号を生成するカラムデコ
ーダ6と、外部とデータの書き込み/読み出しを行うた
めのインタフェースであるデータインタフェース回路7
と、データインタフェース回路7、あるいはメモリセル
アレイ1から渡されたデータを一時的に保持する入出力
データラッチ回路8とを有する構成である。
As shown in FIG. 1, the magnetic memory of the present invention comprises a memory cell array 1 comprising a plurality of memory cells,
An address buffer circuit 2 that generates a column address and a row address of a memory cell to which data is written / read based on an externally input address signal, and temporarily holds a row address output from the address buffer circuit 2 Row address latch circuit 3
And a column address latch circuit 4 for temporarily holding a column address output from the address buffer circuit 2.
And a row decoder 5 that decodes a row address held in the row address latch circuit 3 and generates a signal for supplying a predetermined voltage or current to a word line and a write line described later. A column decoder 6 that decodes the held column address and generates a signal for supplying a predetermined current to a bit line described later, and a data interface circuit 7 that is an interface for writing / reading data with the outside.
And a data interface circuit 7 or an input / output data latch circuit 8 for temporarily holding data passed from the memory cell array 1.

【0024】図2に示すように、メモリセルアレイ1
は、MOS型電界効果トランジスタ(以下、単にMOS
トランジスタと称す)T11〜T44と、MOSトラン
ジスタT11〜T44に直列に接続された、例えば、T
MR素子から成る磁気抵抗素子R11〜R44とによっ
てメモリセルが構成され、該メモリセルがマトリクス状
に配列された構成である。なお、図2はメモリセルが4
行4列の構成を例示しているが、実際のメモリセルアレ
イ1はさらに多くのメモリセルを有する構成である。
As shown in FIG. 2, the memory cell array 1
Is a MOS type field effect transistor (hereinafter simply referred to as MOS
For example, the transistors T11 to T44 connected in series to the MOS transistors T11 to T44.
A memory cell is configured by the magnetoresistance elements R11 to R44 formed of MR elements, and the memory cells are arranged in a matrix. Note that FIG.
Although the configuration of the row 4 column is illustrated, the actual memory cell array 1 has a configuration having more memory cells.

【0025】図2に示すように、マトリクス状に配列さ
れた各メモリセルの列毎には、ワード線WL1〜WL
4、及び磁気抵抗素子R11〜R44の強磁性体膜を所
定方向に磁化させるための書き込み電流が流れる書き込
み線WriteL1〜WriteL4がそれぞれ設けら
れている。ワード線WL1〜WL4にはMOSトランジ
スタT11〜T44のゲートがそれぞれ接続される。ま
た、書き込み線WriteL1〜WriteL4はそれ
ぞれ磁気抵抗素子R11〜R44と近接した位置に配置
される。
As shown in FIG. 2, for each column of memory cells arranged in a matrix, word lines WL1 to WL
4, and write lines WriteL1 to WriteL4 through which a write current flows for magnetizing the ferromagnetic films of the magnetoresistive elements R11 to R44 in a predetermined direction. The gates of the MOS transistors T11 to T44 are connected to the word lines WL1 to WL4, respectively. Further, the write lines WriteL1 to WriteL4 are arranged at positions close to the magnetoresistive elements R11 to R44, respectively.

【0026】一方、マトリクス状に配列された各メモリ
セルの行毎にはビット線BL1〜BL4がそれぞれ設け
られている。ビット線BL1〜BL4には各メモリセル
の磁気抵抗素子R11〜R44の一端が接続され、磁気
抵抗素子R11〜R44の他端にはMOSトランジスタ
T11〜T44のドレインがそれぞれ接続されている。
なお、MOSトランジスタT11〜T44のソースはそ
れぞれ接地される。
On the other hand, bit lines BL1 to BL4 are provided for each row of the memory cells arranged in a matrix. One end of each of the magnetoresistance elements R11 to R44 of each memory cell is connected to the bit lines BL1 to BL4, and the other ends of the magnetoresistance elements R11 to R44 are connected to the drains of the MOS transistors T11 to T44, respectively.
The sources of the MOS transistors T11 to T44 are each grounded.

【0027】また、ビット線BL1〜BL4には、デー
タの書き込み時にビット線BL1〜BL4を接地電位に
接続するための第1のスイッチ用トランジスタTb1〜
Tb4と、磁気抵抗素子R11〜R44に保持されたデ
ータを読み出すためのセンスアンプSA1〜SA4と、
データの読み出し時にビット線BL1〜BL4とセンス
アンプSA1〜SA4を接続するための第2のスイッチ
用トランジスタTs1〜Ts4とが接続されている。
The first switching transistors Tb1 to Tb1 for connecting the bit lines BL1 to BL4 to the ground potential at the time of data writing are connected to the bit lines BL1 to BL4.
Tb4, sense amplifiers SA1 to SA4 for reading data held in the magnetoresistive elements R11 to R44,
The second switching transistors Ts1 to Ts4 for connecting the bit lines BL1 to BL4 and the sense amplifiers SA1 to SA4 when reading data are connected.

【0028】このような構成のメモリセルアレイ1に情
報を書き込む場合、書き込み対象のメモリセルの対応す
るビット線の第1のスイッチ用トランジスタをONに
し、該ビット線に対して強磁性体膜の磁化容易軸と平行
な方向に補助電流を供給する。このような状態で、対応
する書き込み線に対して強磁性体膜の磁化容易軸と垂直
な方向に書き込み電流を供給し、磁気抵抗素子の強磁性
体膜を所定方向に磁化させ、異なる2値の抵抗値のいず
れか一方に設定することで情報をバイナリデータとして
記録する。
When writing information into the memory cell array 1 having such a configuration, the first switch transistor of the bit line corresponding to the memory cell to be written is turned on, and the magnetization of the ferromagnetic film is applied to the bit line. An auxiliary current is supplied in a direction parallel to the easy axis. In such a state, a write current is supplied to the corresponding write line in a direction perpendicular to the easy axis of magnetization of the ferromagnetic film, and the ferromagnetic film of the magnetoresistive element is magnetized in a predetermined direction, so that different binary values are obtained. The information is recorded as binary data by setting one of the resistance values.

【0029】一方、メモリセルアレイ1から情報を読み
出す場合は、ワード線に所定のバイアス電圧を印加して
MOSトランジスタをオンさせ、対応するビット線から
磁気抵抗素子に流れる電流を検出して磁気抵抗素子の抵
抗値を求め、その値から記録されていたデータを再生す
る。
On the other hand, when reading information from the memory cell array 1, a predetermined bias voltage is applied to the word line to turn on the MOS transistor, and a current flowing from the corresponding bit line to the magnetoresistive element is detected. Is obtained, and the recorded data is reproduced from that value.

【0030】図3(a)、(b)に示すように、メモリ
セルが有する磁気抵抗素子R11〜R44は、保磁力の
大きい第1の強磁性体膜11と保磁力の小さい第2の強
磁性体膜13とそれらの間に挟まれたトンネル絶縁膜1
2とを有する構造であり、これら2つの強磁性体膜の磁
化方向が同一方向であるか逆方向であるかによって異な
る電気抵抗値を示す素子である。例えば、第1の強磁性
体膜11と第2の強磁性体膜13の磁化方向が同一(平
行)の場合は低抵抗値となり、第1の強磁性体膜11と
第2の強磁性体膜13の磁化方向が反対(反平行)の場
合は高抵抗値となる。
As shown in FIGS. 3A and 3B, the magnetoresistive elements R11 to R44 of the memory cell include a first ferromagnetic film 11 having a large coercive force and a second strong magnetic film having a small coercive force. Magnetic film 13 and tunnel insulating film 1 sandwiched between them
2 and has different electric resistance values depending on whether the magnetization directions of these two ferromagnetic films are the same or opposite. For example, when the magnetization directions of the first ferromagnetic film 11 and the second ferromagnetic film 13 are the same (parallel), the resistance value becomes low, and the first ferromagnetic film 11 and the second ferromagnetic film 13 have the same resistance. When the magnetization direction of the film 13 is opposite (anti-parallel), the resistance value becomes high.

【0031】第1の強磁性体膜11及び第2の強磁性体
膜13は、外部から印加される磁界Hによって磁化さ
れ、その保磁力Mは図4に示すようにヒステリシス特性
を持った曲線となる。このような磁化特性を有すること
から、第1の強磁性体膜11及び第2の強磁性体膜13
は、外部磁界Hがゼロであっても2つの磁化方向のいず
れか一方の状態を維持することができる。
The first ferromagnetic film 11 and the second ferromagnetic film 13 are magnetized by a magnetic field H applied from the outside, and their coercive force M has a hysteresis characteristic curve as shown in FIG. Becomes Because of having such magnetization characteristics, the first ferromagnetic film 11 and the second ferromagnetic film 13
Can maintain one of the two magnetization directions even when the external magnetic field H is zero.

【0032】したがって、図2に示したメモリセルアレ
イ1は、強磁性体膜の2つの磁化方向によって「1」、
「0」のバイナリデータを記録することが可能な不揮発
性メモリに用いることができる。なお、強磁性体膜の磁
化方向は、図3(a)に示すように磁性層面と平行な方
向を向く水平磁化素子と、図3(b)に示すように磁性
層に対して垂直な方向を向く垂直磁化素子とがある。
Therefore, the memory cell array 1 shown in FIG. 2 has "1", depending on the two magnetization directions of the ferromagnetic film.
The present invention can be used for a nonvolatile memory capable of recording binary data “0”. Note that the magnetization direction of the ferromagnetic film is a horizontal magnetization element oriented in a direction parallel to the magnetic layer surface as shown in FIG. 3A and a direction perpendicular to the magnetic layer as shown in FIG. And a perpendicular magnetization element facing the same.

【0033】また、本発明の磁気メモリは、図1に示す
ように、ロウアドレスラッチ回路3及びカラムアドレス
ラッチ回路4に、カラムアドレスあるいはロウアドレス
のビット数分の不揮発性のメモリセルから成る第1の不
揮発性メモリ91、第2の不揮発性メモリ92を有する構
成である。また、入出力データラッチ回路8に、書き込
み/読み出しするデータのビット数分の不揮発性のメモ
リセルから成る第3の不揮発性メモリ10を有する構成
である。なお、第1の不揮発性メモリ91及び第2の不
揮発性メモリ92は、ロウアドレスラッチ回路3及びカ
ラムアドレスラッチ回路4ではなく、ロウデコーダ5及
びカラムデコーダ6に有していてもよい。
Further, in the magnetic memory of the present invention, as shown in FIG. 1, the row address latch circuit 3 and the column address latch circuit 4 include a nonvolatile memory cell having the number of bits of the column address or the row address. 1 of the non-volatile memory 9 1, a configuration having a second non-volatile memory 9 2. Further, the input / output data latch circuit 8 includes a third nonvolatile memory 10 composed of nonvolatile memory cells for the number of bits of data to be written / read. The first nonvolatile memory 9 1 and the second non-volatile memory 9 2, the row address latch circuit 3 and the column address latch circuit rather than 4, may have a row decoder 5 and the column decoder 6.

【0034】図5に示すように、ロウアドレスラッチ回
路3及びカラムアドレスラッチ回路4が有する第1の不
揮発性メモリ91及び第2の不揮発性メモリ92は、例え
ば、図2に示したメモリセルアレイ1と同様に磁気抵抗
素子を利用した構成であり、MOSトランジスタT1〜
T4、及びMOSトランジスタT1〜T4に直列に接続
された磁気抵抗素子R1〜R4を備えたメモリセルと、
図5に示すメモリセルの列方向に設けられた、データの
読み出し時に所定の電圧が印加されるワード線WL10
と、磁気抵抗素子R1〜R4の強磁性体膜を所定方向に
磁化させるための書き込み電流が流れる書き込み線Wr
iteL10と、図5に示すメモリセルの行方向に設け
られた、アドレス信号が流れるアドレス線ADD1〜A
DD4と、データの書き込み時にアドレス線ADD1〜
ADD4を接地電位に接続するための第1のスイッチ用
トランジスタTb11〜Tb14と、磁気抵抗素子R1
〜R4で記憶したデータを読み出すためのセンスアンプ
SA11〜SA14と、データの読み出し時にアドレス
線ADD1〜ADD4とセンスアンプSA11〜SA1
4を接続する第2のスイッチ用トランジスタTs11〜
Ts14とを有する構成である。
As shown in FIG. 5, the row address latch circuit 3 and the column address latch circuit 4 first non-volatile memory 9 1 and the second non-volatile memory 9 2 included in, for example, shown in FIG. 2 memory This is a configuration using a magnetoresistive element as in the cell array 1, and has MOS transistors T1 to T1.
A memory cell including T4 and magnetoresistive elements R1 to R4 connected in series to the MOS transistors T1 to T4;
A word line WL10 provided in the column direction of the memory cell shown in FIG.
And a write line Wr through which a write current flows for magnetizing the ferromagnetic films of the magnetoresistive elements R1 to R4 in a predetermined direction.
itemL10 and address lines ADD1 to ADD1A provided in the row direction of the memory cell shown in FIG.
DD4 and address lines ADD1 to ADD1 during data writing.
A first switching transistor Tb11 to Tb14 for connecting ADD4 to the ground potential;
To R4, the sense amplifiers SA11 to SA14 for reading the data stored in the address lines ADD1 to ADD4 and the sense amplifiers SA11 to SA1 for reading the data.
4 is connected to the second switching transistor Ts11-Ts11.
Ts14.

【0035】また、図6に示した入出力データラッチ回
路8が有する第3の不揮発性メモリ10は、図2に示し
たメモリセルアレイ1と同様に磁気抵抗素子を利用した
構成であり、MOSトランジスタT20、及びMOSト
ランジスタT20に直列に接続された磁気抵抗素子R2
0を備えたメモリセルと、図6に示すメモリセルの列方
向に設けられた、データの読み出し時に所定の電圧が印
加されるワード線WL20と、磁気抵抗素子R20の強
磁性体膜を所定方向に磁化させるための書き込み電流が
流れる書き込み線WriteL20と、図6に示すメモ
リセルの行方向に設けられた、データ信号が流れるデー
タ線DT1と、データの書き込み時にデータ線DT1を
接地電位に接続するための第1のスイッチ用トランジス
タTb20と、磁気抵抗素子R20で記憶したデータを
読み出すためのセンスアンプSA20と、データの読み
出し時にデータ線DT1とセンスアンプSA20を接続
する第2のスイッチ用トランジスタTs20とを有する
構成である。
The third non-volatile memory 10 included in the input / output data latch circuit 8 shown in FIG. 6 has a configuration using a magnetoresistive element similarly to the memory cell array 1 shown in FIG. T20 and a magnetoresistive element R2 connected in series to the MOS transistor T20
0, a word line WL20 provided in the column direction of the memory cell shown in FIG. 6, to which a predetermined voltage is applied when reading data, and a ferromagnetic film of the magneto-resistance element R20 in a predetermined direction. A write line WriteL20 through which a write current for magnetizing the memory cell flows, a data line DT1 provided in the row direction of the memory cell shown in FIG. 6 through which a data signal flows, and the data line DT1 are connected to the ground potential at the time of data writing. A switching transistor Tb20 for reading the data stored in the magnetoresistive element R20, a second switching transistor Ts20 for connecting the data line DT1 and the sense amplifier SA20 when reading data. It is a structure which has.

【0036】なお、図5及び図6に示した第1の不揮発
性メモリ91〜第3の不揮発性メモリ10は、図2に示
した4行4列のメモリセルから成るメモリセルアレイ1
に対応する構成を示しているが、実際の不揮発性メモリ
はさらに多くのメモリセルを有する構成である。
The first to third nonvolatile memories 9 1 to 10 shown in FIGS. 5 and 6 correspond to the memory cell array 1 composed of the memory cells of four rows and four columns shown in FIG.
Is shown, the actual nonvolatile memory has a configuration having more memory cells.

【0037】以上説明したように、本発明の磁気メモリ
では、ロウアドレスラッチ回路3またはローデコーダ5
にロウアドレスを一時的に保持する第1の不揮発性メモ
リ9 1を備え、カラムアドレスラッチ回路4またはカラ
ムデコーダ6にカラムアドレスを一時的に保持する第2
の不揮発性メモリ92を備えているため、処理途中のデ
ータに対応するアドレスを磁気メモリに容易に退避させ
ることが可能になる。
As described above, the magnetic memory of the present invention
Then, the row address latch circuit 3 or the row decoder 5
Non-volatile memo that temporarily holds the row address
Re 9 1And the column address latch circuit 4 or the color
A second temporarily storing the column address in the memory decoder 6.
Non-volatile memory 9TwoData, the data being processed is
Address corresponding to data is easily saved to magnetic memory.
It becomes possible.

【0038】同様に、入出力データラッチ回路8に書き
込みまたは読み出しを行う情報を一時的に保持する第3
の不揮発性メモリ10を備えているため、処理途中のデ
ータを磁気メモリに容易に退避させることが可能にな
る。
Similarly, a third memory for temporarily storing information to be written to or read from the input / output data latch circuit 8
, It is possible to easily save data in the process of being processed to the magnetic memory.

【0039】したがって、処理作業を再開するときに所
望のデータの読み出し、書き込みが直ちに行われ、処理
作業を短時間で再開することができる。
Therefore, when the processing operation is restarted, desired data is read and written immediately, and the processing operation can be restarted in a short time.

【0040】次に、本発明の磁気メモリに対する情報の
書き込み/読み出し手順について、図1〜図6を参照し
つつ、図7、図8を用いて説明する。
Next, a procedure for writing / reading information to / from the magnetic memory according to the present invention will be described with reference to FIGS.

【0041】図7は図2に示したメモリセルアレイにデ
ータを書き込む様子を示す回路図であり、図8は図2に
示したメモリセルアレイからデータを読み出す様子を示
す回路図である。
FIG. 7 is a circuit diagram showing how data is written into the memory cell array shown in FIG. 2, and FIG. 8 is a circuit diagram showing how data is read from the memory cell array shown in FIG.

【0042】例えば、図2に示した4行4列のメモリセ
ルから成るメモリセルアレイ1にデータを記憶させる場
合、メモリセルを選択するためのアドレスは4桁の2進
数で表すことができる。すなわち、図2に示したメモリ
セルアレイ1の場合、MOSトランジスタT11及び磁
気抵抗素子R11から成るメモリセルC11(以下、同
様にMOSトランジスタ及び磁気抵抗素子に付与された
符号に一致させて各メモリセルをC11〜C44と称
す)のアドレスは(0000)となる。同様に、メモリ
セルC12、C13、C14、C21、C22、C2
3、C24、C31、C32、C33、C34、C4
1、C42、C43、C44のアドレスは、(000
0)、(0001)、(0010)、(0011)、
(0100)、(0101)、(0110)、(011
1)、(1000)、(1001)、(1010)、
(1011)、(1100)、(1101)、(111
0)、(1111)となる。
For example, when data is stored in the memory cell array 1 composed of memory cells of four rows and four columns shown in FIG. 2, an address for selecting a memory cell can be represented by a 4-digit binary number. That is, in the case of the memory cell array 1 shown in FIG. 2, a memory cell C11 composed of a MOS transistor T11 and a magnetoresistive element R11 (hereinafter, each memory cell is similarly matched to the reference numerals assigned to the MOS transistor and the magnetoresistive element). C11 to C44) are (0000). Similarly, memory cells C12, C13, C14, C21, C22, C2
3, C24, C31, C32, C33, C34, C4
The addresses of 1, C42, C43, and C44 are (000
0), (0001), (0010), (0011),
(0100), (0101), (0110), (011)
1), (1000), (1001), (1010),
(1011), (1100), (1101), (111)
0) and (1111).

【0043】まず、図1に示した磁気メモリにデータを
入力する(メモリセルに書き込む)場合の動作について
説明する。なお、以下では複数のメモリセルのうち、メ
モリセルC23にデータ「1」を書き込む場合を例にし
て説明する。
First, the operation when data is input to the magnetic memory shown in FIG. 1 (writing to a memory cell) will be described. In the following, a case where data “1” is written to the memory cell C23 among a plurality of memory cells will be described as an example.

【0044】上述したように、メモリセルC23のアド
レスは(0101)である。
As described above, the address of the memory cell C23 is (0101).

【0045】図2に示したメモリセルアレイ1を有する
磁気メモリは、4桁のアドレスに対応した4本のアドレ
ス端子を備えている。したがって、この例では、4本の
アドレス端子にアドレス(0101)に対応する電圧
(0、Vdd、0、Vdd)が供給される。また、アド
レス信号の入力に同期してデータ端子に書き込みデータ
「1」に対応するVddの電圧が供給される。
The magnetic memory having the memory cell array 1 shown in FIG. 2 has four address terminals corresponding to four-digit addresses. Therefore, in this example, voltages (0, Vdd, 0, Vdd) corresponding to the address (0101) are supplied to the four address terminals. Further, a voltage of Vdd corresponding to the write data “1” is supplied to the data terminal in synchronization with the input of the address signal.

【0046】アドレス端子から入力されたアドレス信号
は、アドレスバッファ回路2に入力され、アドレスバッ
ファ回路2によりロウアドレス及びカラムアドレスがそ
れぞれ生成される。アドレスバッファ回路2から出力さ
れたロウアドレスはロウアドレスラッチ回路3で保持さ
れ、アドレスバッファ回路2から出力されたカラムアド
レスはカラムアドレスラッチ回路4で保持される。ま
た、データ端子から入力された書き込みデータは、デー
タインタフェース回路7を介して入出力データラッチ回
路8に転送され、入出力データラッチ回路8にて保持さ
れる。
The address signal input from the address terminal is input to the address buffer circuit 2, and the address buffer circuit 2 generates a row address and a column address. The row address output from the address buffer circuit 2 is held by a row address latch circuit 3, and the column address output from the address buffer circuit 2 is held by a column address latch circuit 4. The write data input from the data terminal is transferred to the input / output data latch circuit 8 via the data interface circuit 7 and is held by the input / output data latch circuit 8.

【0047】アドレスバッファ回路2から出力されるロ
ウアドレス及びカラムアドレスはデータを書き込むメモ
リセルを指定するための情報であり、この場合、ロウア
ドレスは書き込み線WriteL3を選択する4桁の2
進数(0010)となり、カラムアドレスはビット線B
L2を選択する4桁の2進数(0100)となる。
The row address and the column address output from the address buffer circuit 2 are information for designating a memory cell into which data is to be written. In this case, the row address is a four-digit two-digit number for selecting the write line WriteL3.
Base number (0010) and the column address is bit line B
It is a 4-digit binary number (0100) for selecting L2.

【0048】ロウアドレスラッチ回路3及びカラムアド
レスラッチ回路4は、図5に示した第1の不揮発性メモ
リ91及び第2の不揮発性メモリ92を備え、上記ロウア
ドレス及びカラムアドレスは第1の不揮発性メモリ91
及び第2の不揮発性メモリ92でそれぞれ保持される。
また、入出力データラッチ回路8は、図6に示した第3
の不揮発性メモリ10を備え、データインタフェース回
路7から転送された書き込みデータは第3の不揮発性メ
モリ10で保持される。
The row address latch circuit 3 and the column address latch circuit 4 includes a first nonvolatile memory 9 1 and the second non-volatile memory 9 2 shown in FIG. 5, the row address and the column address is first Non-volatile memory 9 1
And they are respectively held in the second non-volatile memory 9 2.
Further, the input / output data latch circuit 8 is provided with the third
The write data transferred from the data interface circuit 7 is held in the third nonvolatile memory 10.

【0049】ロウアドレスラッチ回路3及び入出力デー
タラッチ回路8に保持されたロウアドレス及び書き込み
データはそれぞれロウデコーダ5に転送される。また、
それに同期してカラムアドレスラッチ回路4に保持され
たカラムアドレスはカラムデコーダ6に転送される。
The row address and the write data held in the row address latch circuit 3 and the input / output data latch circuit 8 are transferred to the row decoder 5, respectively. Also,
In synchronization with this, the column address held in the column address latch circuit 4 is transferred to the column decoder 6.

【0050】図7に示すように、ロウデコーダ5は、書
き込み対象であるメモリセルC23に繋がる書き込み線
WriteL3を選択し、書き込み線WriteL3に
不図示のバッファ回路を介して書き込みデータに対応す
る極性の書き込み電流を供給する。また、カラムデコー
ダ6は、書き込み対象であるメモリセルC23に繋がる
ビット線BL2を選択し、ビット線BL2の一端から不
図示のバッファ回路を介して情報を書き込むための所定
の補助電流を供給する。なお、このとき、第1のスイッ
チ用トランジスタTb2がオンしてビット線BL2の他
端は接地される。
As shown in FIG. 7, the row decoder 5 selects a write line WriteL3 connected to the memory cell C23 to be written, and supplies the write line WriteL3 with a polarity corresponding to the write data via a buffer circuit (not shown). Supply write current. The column decoder 6 selects the bit line BL2 connected to the memory cell C23 to be written, and supplies a predetermined auxiliary current for writing information from one end of the bit line BL2 via a buffer circuit (not shown). At this time, the first switching transistor Tb2 is turned on, and the other end of the bit line BL2 is grounded.

【0051】以上説明した一連の動作によってメモリセ
ルC23にデータ「1」が書き込まれる。また、ロウア
ドレスラッチ回路3、カラムアドレスラッチ回路4、及
び入出力データラッチ回路8に保持されたアドレス及び
書き込みデータは、電源供給が停止しても消去されない
ため、書き込み作業の途中で動作を停止させても、アク
セス途中の情報は保持される。
Data "1" is written to memory cell C23 by a series of operations described above. The addresses and write data held in the row address latch circuit 3, the column address latch circuit 4, and the input / output data latch circuit 8 are not erased even when the power supply is stopped. Even if this is done, the information being accessed is retained.

【0052】次に、図1に示した磁気メモリからデータ
を出力する(メモリセルから読み出す)場合の動作につ
いて説明する。なお、以下では複数のメモリセルのう
ち、メモリセルC23からデータを読み出す場合を例に
して説明する。
Next, the operation when data is output from the magnetic memory shown in FIG. 1 (read from the memory cell) will be described. Hereinafter, a case where data is read from the memory cell C23 among a plurality of memory cells will be described as an example.

【0053】上述したように、メモリセルC23のアド
レスは(0101)である。
As described above, the address of the memory cell C23 is (0101).

【0054】図2に示したメモリセルアレイ1を有する
磁気メモリは、4桁のアドレスに対応した4本のアドレ
ス端子を備えている。したがって、この例では、4本の
アドレス端子にアドレス(0101)に対応する電圧
(0、Vdd、0、Vdd)が供給される。
The magnetic memory having the memory cell array 1 shown in FIG. 2 has four address terminals corresponding to four-digit addresses. Therefore, in this example, voltages (0, Vdd, 0, Vdd) corresponding to the address (0101) are supplied to the four address terminals.

【0055】アドレス端子から入力されたアドレス信号
は、アドレスバッファ回路2に入力され、アドレスバッ
ファ回路2によりロウアドレス及びカラムアドレスがそ
れぞれ生成される。アドレスバッファ回路2から出力さ
れたロウアドレスはロウアドレスラッチ回路3で保持さ
れ、アドレスバッファ回路2から出力されたカラムアド
レスはカラムアドレスラッチ回路4で保持される。
The address signal input from the address terminal is input to the address buffer circuit 2, and the address buffer circuit 2 generates a row address and a column address. The row address output from the address buffer circuit 2 is held by a row address latch circuit 3, and the column address output from the address buffer circuit 2 is held by a column address latch circuit 4.

【0056】アドレスバッファ回路2から出力されるロ
ウアドレス及びカラムアドレスはデータを読み出すメモ
リセルを指定するための情報であり、この場合、ロウア
ドレスはワード線WL3を選択する4桁の2進数(00
10)となり、カラムアドレスはビット線BL2を選択
する4桁の2進数(0100)となる。
The row address and the column address output from the address buffer circuit 2 are information for specifying a memory cell from which data is read. In this case, the row address is a 4-digit binary number (00) for selecting the word line WL3.
10), and the column address is a 4-digit binary number (0100) for selecting the bit line BL2.

【0057】ロウアドレスラッチ回路3及びカラムアド
レスラッチ回路4は、図5に示す第1の不揮発性メモリ
1及び第2の不揮発性メモリ92を備え、上記ロウアド
レス及びカラムアドレスは第1の不揮発性メモリ91
び第2の不揮発性メモリ92でそれぞれ保持される。
[0057] The row address latch circuit 3 and the column address latch circuit 4 includes a first nonvolatile memory 9 1 and the second non-volatile memory 9 2 shown in FIG. 5, the row address and the column address is first They are respectively held in the nonvolatile memory 9 1 and the second non-volatile memory 9 2.

【0058】ロウアドレスラッチ回路3に保持されたロ
ウアドレスはロウデコーダ5に転送される。また、それ
に同期してカラムアドレスラッチ回路4に保持されたカ
ラムアドレスはカラムデコーダ6に転送される。
The row address held in the row address latch circuit 3 is transferred to the row decoder 5. In addition, the column address held in the column address latch circuit 4 is transferred to the column decoder 6 in synchronism therewith.

【0059】図8に示すように、ロウデコーダ5は、読
み出し対象であるメモリセルC23に繋がるワード線W
L3を選択し、ワード線WL3に不図示のバッファ回路
を介して所定のバイアス電圧を供給し、MOSトランジ
スタT23をONさせる。また、カラムデコーダ6は、
読み出し対象であるメモリセルC23に繋がるビット線
BL2を選択し、ビット線BL2の一端から不図示のバ
ッファ回路を介して情報を読み出すための所定の読み出
し電流を供給する。なお、このとき、ビット線BL2に
接続された第2のスイッチ用トランジスタTs2をON
させる。センスアンプSA2は、ビット線BL2の電位
と参照電圧VRefと比較し、例えば、ビット線BL2の
電位が参照電圧VRefよりも高いときにはVdd(電源
電圧)を出力し、ビット線BL2の電位が電位が参照電
圧VRefよりも低いときには0[V](接地電位)を出
力する。この出力電圧Vdd、0[V]がバイナリデー
タの「1」、「0」に相当する。
As shown in FIG. 8, the row decoder 5 includes a word line W connected to a memory cell C23 to be read.
L3 is selected, a predetermined bias voltage is supplied to the word line WL3 via a buffer circuit (not shown), and the MOS transistor T23 is turned on. Further, the column decoder 6
A bit line BL2 connected to the memory cell C23 to be read is selected, and a predetermined read current for reading information is supplied from one end of the bit line BL2 via a buffer circuit (not shown). At this time, the second switching transistor Ts2 connected to the bit line BL2 is turned on.
Let it. The sense amplifier SA2 compares the potential of the bit line BL2 with the reference voltage V Ref . For example, when the potential of the bit line BL2 is higher than the reference voltage V Ref , the sense amplifier SA2 outputs Vdd (power supply voltage). When the potential is lower than the reference voltage VRef , 0 [V] (ground potential) is output. The output voltages Vdd and 0 [V] correspond to “1” and “0” of the binary data.

【0060】センスアンプSA2から出力された電圧は
入出力データラッチ回路8で一時的に保持された後、デ
ータインタフェース回路7を介して外部に出力される。
The voltage output from the sense amplifier SA2 is temporarily held by the input / output data latch circuit 8, and then output to the outside via the data interface circuit 7.

【0061】以上説明した一連の動作によってメモリセ
ルC23で保持されたデータが読み出される。また、ロ
ウアドレスラッチ回路3、カラムアドレスラッチ回路
4、及び入出力データラッチ回路8に保持されたアドレ
ス及び書き込みデータは、電源供給が停止しても消去さ
れないため、読み出し作業の途中で動作を停止させて
も、アクセス途中の情報は保持される。
The data held in the memory cell C23 is read out by a series of operations described above. Further, since the addresses and write data held in the row address latch circuit 3, the column address latch circuit 4, and the input / output data latch circuit 8 are not erased even when the power supply is stopped, the operation is stopped during the read operation. Even if this is done, the information being accessed is retained.

【0062】次に、本発明の磁気メモリの実施例につい
て説明する。 (第1実施例)図9は本発明の磁気メモリの第1実施例
が有するメモリセルの構造を示す側断面図である。
Next, an embodiment of the magnetic memory of the present invention will be described. (First Embodiment) FIG. 9 is a side sectional view showing the structure of a memory cell of a first embodiment of the magnetic memory according to the present invention.

【0063】第1実施例の磁気メモリは、メモリセルが
有する磁気抵抗素子として、トンネル絶縁膜を2つの強
磁性体膜で挟んだ構造のTMR素子を用いたものであ
る。また、このTMR素子には、図3(a)で示した磁
化方向が磁性層面と平行な方向を向く水平磁化素子を用
いている。
The magnetic memory of the first embodiment uses a TMR element having a structure in which a tunnel insulating film is sandwiched between two ferromagnetic films as a magnetoresistive element included in a memory cell. The TMR element uses a horizontal magnetization element in which the magnetization direction shown in FIG. 3A is parallel to the surface of the magnetic layer.

【0064】図9に示すように、第1実施例のメモリセ
ルは、p型半導体基板19の表面にSiO2からなる埋
め込み型の素子分離領域20が形成され、素子分離領域
20間にスイッチング素子であるMOSトランジスタが
形成された構造である。
As shown in FIG. 9, in the memory cell of the first embodiment, a buried type element isolation region 20 made of SiO 2 is formed on the surface of a p-type semiconductor substrate 19, and a switching element is provided between the element isolation regions 20. Is a structure in which a MOS transistor is formed.

【0065】MOSトランジスタは、p型半導体基板1
9の表面に形成されたn型拡散層であるソース21及び
ドレイン22と、ソース21とドレイン22間に成膜さ
れたSiO2から成るゲート絶縁膜23と、ゲート絶縁
膜23上に形成されたポリシリコンから成るゲート電極
24とによって構成される。なお、ゲート電極24には
不図示のワード線が接続される。
The MOS transistor is a p-type semiconductor substrate 1
9, a source 21 and a drain 22, which are n-type diffusion layers, a gate insulating film 23 made of SiO 2 formed between the source 21 and the drain 22, and a gate insulating film 23 formed on the gate insulating film 23. And a gate electrode 24 made of polysilicon. Note that a word line (not shown) is connected to the gate electrode 24.

【0066】MOSトランジスタのソース21には、タ
ングステンが埋め込まれたコンタクトプラグ26を介し
てAlSiCuから成る接地線27に接続されている。
また、MOSトランジスタのドレイン22には、タング
ステンが埋め込まれたコンタクトプラグ25を介してT
iNから成るローカル配線29に接続され、ローカル配
線29上には、AlSiCuから成る下部電極30を介
してCo/Al23/NiFeの積層構造から成るTM
R素子31が形成されている。TMR素子31の上には
Ti/AlSiCu/Tiから成るビット線32が図の
左右方向に形成され、ビット線32上にはSiN/Si
2から成る保護層33が成膜されている。また、TM
R素子31の下部には、TMR素子31を水平磁化させ
るための書き込み電流が流れる書き込み線28がビット
線32と直交する方向に設けられている。
The source 21 of the MOS transistor is connected to a ground line 27 made of AlSiCu via a contact plug 26 in which tungsten is embedded.
In addition, the drain 22 of the MOS transistor is connected to the drain transistor 22 through a contact plug 25 in which tungsten is embedded.
TM, which is connected to a local wiring 29 made of iN and has a laminated structure of Co / Al 2 O 3 / NiFe on the local wiring 29 via a lower electrode 30 made of AlSiCu.
An R element 31 is formed. A bit line 32 made of Ti / AlSiCu / Ti is formed on the TMR element 31 in the horizontal direction of FIG.
A protective layer 33 made of O 2 is formed. Also, TM
Below the R element 31, a write line 28 through which a write current for horizontally magnetizing the TMR element 31 flows is provided in a direction orthogonal to the bit line 32.

【0067】このような構造のメモリセルが4行4列に
形成されたメモリセルアレイ1と、周辺回路として、ア
ドレスバッファ回路2、ロウアドレスラッチ回路3、カ
ラムアドレスラッチ回路4、ロウデコーダ5、カラムデ
コーダ6、データインタフェース回路7、及び入出力デ
ータラッチ回路8を有する磁気メモリを、0.5μmル
ール(最小可能寸法が0.5μm)に基づいて設計し、
テストチップを作製した。
A memory cell array 1 in which memory cells having such a structure are formed in 4 rows and 4 columns, and as peripheral circuits, an address buffer circuit 2, a row address latch circuit 3, a column address latch circuit 4, a row decoder 5, a column A magnetic memory having a decoder 6, a data interface circuit 7, and an input / output data latch circuit 8 is designed based on the 0.5 μm rule (the minimum possible dimension is 0.5 μm);
A test chip was prepared.

【0068】作製したテストチップに対して、外部から
0V(接地電位)、3.3V(電源電圧Vdd)を印加
し、1MHzのクロック信号を入力して動作させた結
果、1ビットのデータを入出力することが確認できた。
また、電源を遮断した後、再起動した場合に直ちにデー
タの入出力が可能であることが確認できた。
As a result of applying 0 V (ground potential) and 3.3 V (power supply voltage Vdd) from the outside to the fabricated test chip and inputting a 1 MHz clock signal to operate, 1-bit data is input. Output was confirmed.
In addition, it was confirmed that data input / output was possible immediately when the power was turned off and then restarted.

【0069】(第2実施例)図10は本発明の磁気メモ
リの第2実施例が有するメモリセルの構造を示す側断面
図である。
(Second Embodiment) FIG. 10 is a side sectional view showing the structure of a memory cell of a magnetic memory according to a second embodiment of the present invention.

【0070】図10に示すように、第2実施例の磁気メ
モリが有するメモリセルは、GdFe/Al23/Gd
Fe積層膜から成り、図3(b)で示したような垂直磁
化素子であるTMR素子34を備えた構成である。ま
た、書き込み線28がTMR素子34の横方向に設けら
れ、TMR素子34に対して垂直方向に磁界を印加する
構造である。その他の構成は第1実施例と同様であるた
め、その説明は省略する。
As shown in FIG. 10, the memory cell of the magnetic memory of the second embodiment is GdFe / Al 2 O 3 / Gd
This is a configuration including a TMR element 34 which is made of a Fe laminated film and is a perpendicular magnetization element as shown in FIG. Further, the write line 28 is provided in the lateral direction of the TMR element 34, and has a structure in which a magnetic field is applied to the TMR element 34 in a vertical direction. The other configuration is the same as that of the first embodiment, and a description thereof will be omitted.

【0071】図10に示したメモリセルを有する第2実
施例の磁気メモリについて、第1実施例と同様の動作試
験を行った結果、読み出し動作及び書き込み動作とも正
常に動作することが確認できた。
An operation test similar to that of the first embodiment was performed on the magnetic memory of the second embodiment having the memory cells shown in FIG. 10, and it was confirmed that both the read operation and the write operation were normal. .

【0072】[0072]

【発明の効果】本発明は以上説明したように構成されて
いるので、以下に記載する効果を奏する。
Since the present invention is configured as described above, the following effects can be obtained.

【0073】ロウアドレスラッチ回路またはローデコー
ダにロウアドレスを一時的に保持する第1の不揮発性メ
モリを備え、カラムアドレスラッチ回路またはカラムデ
コーダにカラムアドレスを一時的に保持する第2の不揮
発性メモリを備えているため、処理途中のデータに対応
するアドレスを磁気メモリに容易に退避させることが可
能になる。
A second nonvolatile memory for temporarily holding a row address in a row address latch circuit or a row decoder and a second nonvolatile memory for temporarily holding a column address in a column address latch circuit or a column decoder , It is possible to easily save the address corresponding to the data being processed in the magnetic memory.

【0074】また、入出力データラッチ回路に書き込み
または読み出しを行う情報を一時的に保持する第3の不
揮発性メモリを備えているため、処理途中のデータを磁
気メモリに容易に退避させることが可能になる。
Further, since the third nonvolatile memory for temporarily storing information to be written or read to the input / output data latch circuit is provided, data in the middle of processing can be easily saved to the magnetic memory. become.

【0075】したがって、処理作業を再開するときに所
望のデータの読み出し、書き込みが直ちに行われ、処理
作業を短時間で再開することができる。
Therefore, when the processing operation is resumed, desired data is read and written immediately, and the processing operation can be resumed in a short time.

【0076】また、第1の不揮発性メモリにロウアドレ
スを記録すると共に第2の不揮発性メモリにカラムアド
レスを記録して処理作業を停止し、第1の不揮発性メモ
リ及び第2の不揮発性メモリに記録されたアドレスに対
応するデータを処理作業の再開時に最初に読み出すこと
で、処理再開時に所望のデータに直ちにアクセスするこ
とができる。
The row address is recorded in the first non-volatile memory and the column address is recorded in the second non-volatile memory to stop the processing, and the first non-volatile memory and the second non-volatile memory By reading out the data corresponding to the address recorded in the first time when the processing operation is restarted, desired data can be immediately accessed when the processing is restarted.

【0077】同様に、処理途中のデータを第3の不揮発
性メモリに記録して処理作業を停止し、第3の不揮発性
メモリに記録されたデータを処理作業の再開時に最初に
読み出すことで、処理再開時に所望のデータに直ちにア
クセスすることができる。
Similarly, the data being processed is recorded in the third non-volatile memory, the processing operation is stopped, and the data recorded in the third non-volatile memory is read out first when the processing operation is resumed. Desired data can be immediately accessed when the processing is restarted.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の磁気メモリの一構成例を示すブロック
図である。
FIG. 1 is a block diagram illustrating a configuration example of a magnetic memory according to the present invention.

【図2】図1に示したメモリセルアレイの一構成例を示
す回路図である。
FIG. 2 is a circuit diagram illustrating a configuration example of a memory cell array illustrated in FIG. 1;

【図3】図2に示した磁気抵抗素子の構造を示す図であ
り、同図(a)は磁性層面に対して磁化方向が水平方向
の例を示す断面図、同図(b)は磁性層面に対して磁化
方向が垂直方向の例を示す断面図である。
3A and 3B are diagrams showing the structure of the magnetoresistive element shown in FIG. 2, wherein FIG. 3A is a cross-sectional view showing an example in which the magnetization direction is horizontal to the surface of a magnetic layer, and FIG. FIG. 4 is a cross-sectional view illustrating an example in which a magnetization direction is perpendicular to a layer surface.

【図4】図3に示した強磁性体の磁化特性の一例を示す
グラフである。
FIG. 4 is a graph showing an example of the magnetization characteristics of the ferromagnetic material shown in FIG.

【図5】図1に示したロウアドレスラッチ回路及びカラ
ムアドレスラッチ回路が有する第1の不揮発性メモリ及
び第2の不揮発性メモリの一構成例を示す回路図であ
る。
FIG. 5 is a circuit diagram illustrating a configuration example of a first nonvolatile memory and a second nonvolatile memory included in the row address latch circuit and the column address latch circuit illustrated in FIG. 1;

【図6】図1に示した入出力データラッチ回路が有する
第3の不揮発性メモリの一構成例を示す回路図である。
FIG. 6 is a circuit diagram showing a configuration example of a third nonvolatile memory included in the input / output data latch circuit shown in FIG. 1;

【図7】図2に示したメモリセルアレイにデータを書き
込む様子を示す回路図である。
FIG. 7 is a circuit diagram showing how data is written in the memory cell array shown in FIG. 2;

【図8】図2に示したメモリセルアレイからデータを読
み出す様子を示す回路図である。
FIG. 8 is a circuit diagram showing how data is read from the memory cell array shown in FIG. 2;

【図9】本発明の磁気メモリの第1実施例が有するメモ
リセルの構造を示す側断面図である。
FIG. 9 is a side sectional view showing the structure of a memory cell included in the first embodiment of the magnetic memory of the present invention.

【図10】本発明の磁気メモリの第2実施例が有するメ
モリセルの構造を示す側断面図である。
FIG. 10 is a side sectional view showing a structure of a memory cell included in a magnetic memory according to a second embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 メモリセルアレイ 2 アドレスバッファ回路 3 ロウアドレスラッチ回路 4 カラムアドレスラッチ回路 5 ロウデコーダ 6 カラムデコーダ 7 データインタフェース回路 8 入出力データラッチ回路 91 第1の不揮発性メモリ 92 第2の不揮発性メモリ 10 第3の不揮発性メモリ 11 第1の強磁性体膜 12 トンネル絶縁膜 13 第2の強磁性体膜 19 p型半導体基板 20 素子分離領域 21 ソース 22 ドレイン 23 ゲート絶縁膜 24 ゲート電極 25、26 コンタクトプラグ 27 接地線 28、WriteL1〜WriteL4 書き込み線 29 ローカル配線 30 下部電極 31、34 TMR素子 32、BL1〜BL4 ビット線 33 保護層 ADD1〜ADD4 アドレス線 DT1 データ線 R1〜R4、R11〜R44、R20 磁気抵抗素子 SA1〜SA4、SA11〜SA14、SA20 セ
ンスアンプ T1〜T4、T11〜T44、T20 MOSトラン
ジスタ Tb1〜Tb4、Tb11〜Tb14、Tb20 第
1のスイッチ用トランジスタ Ts1〜Ts4、Ts11〜Ts14、Ts20 第
2のスイッチ用トランジスタ WL1〜WL4 ワード線
REFERENCE SIGNS LIST 1 memory cell array 2 address buffer circuit 3 row address latch circuit 4 column address latch circuit 5 row decoder 6 column decoder 7 data interface circuit 8 input / output data latch circuit 9 1 first nonvolatile memory 9 2 second nonvolatile memory 10 Third non-volatile memory 11 First ferromagnetic film 12 Tunnel insulating film 13 Second ferromagnetic film 19 P-type semiconductor substrate 20 Element isolation region 21 Source 22 Drain 23 Gate insulating film 24 Gate electrode 25, 26 Contact Plug 27 Ground line 28, WriteL1 to WriteL4 Write line 29 Local wiring 30 Lower electrode 31, 34 TMR element 32, BL1 to BL4 Bit line 33 Protective layer ADD1 to ADD4 Address line DT1 Data line R1 to R4, R11 to R44, R2 Magnetoresistance element SA1 to SA4, SA11 to SA14, SA20 Sense amplifier T1 to T4, T11 to T44, T20 MOS transistor Tb1 to Tb4, Tb11 to Tb14, Tb20 First switching transistor Ts1 to Ts4, Ts11 to Ts14, Ts20 2 switching transistors WL1 to WL4 Word line

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 磁性体の磁化方向による電気抵抗値の変
化を利用して情報を記憶保持する磁気抵抗素子をメモリ
セルに備えた磁気メモリであって、 情報の書き込みまたは読み出しを行うメモリセルを選択
するためのアドレス信号からロウアドレス及びカラムア
ドレスをそれぞれ生成するアドレスバッファ回路と、 前記ロウアドレスを一時的に保持するための第1の不揮
発性メモリを備えたロウアドレスラッチ回路と、 前記カラムアドレスを一時的に保持するための第2の不
揮発性メモリを備えたカラムアドレスラッチ回路と、を
有する磁気メモリ。
1. A magnetic memory having a magnetoresistive element in a memory cell for storing and holding information by utilizing a change in an electric resistance value according to a magnetization direction of a magnetic body, wherein the memory cell for writing or reading information is provided. An address buffer circuit for respectively generating a row address and a column address from an address signal for selection; a row address latch circuit including a first nonvolatile memory for temporarily holding the row address; And a column address latch circuit including a second non-volatile memory for temporarily storing data.
【請求項2】 磁性体の磁化方向による電気抵抗値の変
化を利用して情報を記憶保持する磁気抵抗素子をメモリ
セルに備えた磁気メモリであって、 情報の書き込みまたは読み出しを行うメモリセルを選択
するためのアドレス信号からロウアドレス及びカラムア
ドレスをそれぞれ生成するアドレスバッファ回路と、 前記ロウアドレスを一時的に保持するための第1の不揮
発性メモリを備え、前記ロウアドレスをデコードして選
択されたメモリセルに所定の電圧または電流を供給する
ための信号を生成するロウデコーダと、 前記カラムアドレスを一時的に保持するための第2の不
揮発性メモリを備え、該カラムアドレスをデコードして
選択されたメモリセルに所定の電流を供給するための信
号を生成するするカラムデコーダと、を有する磁気メモ
リ。
2. A magnetic memory comprising: a memory cell having a magnetoresistive element for storing and holding information by utilizing a change in an electric resistance value according to a magnetization direction of a magnetic material, wherein the memory cell for writing or reading information is provided. An address buffer circuit for respectively generating a row address and a column address from an address signal for selection; and a first nonvolatile memory for temporarily holding the row address. A row decoder for generating a signal for supplying a predetermined voltage or current to the memory cell, and a second nonvolatile memory for temporarily holding the column address, and decoding and selecting the column address. And a column decoder for generating a signal for supplying a predetermined current to the selected memory cell. Ri.
【請求項3】 前記第1の不揮発性メモリ及び第2の不
揮発性メモリは、 情報を記憶保持するためのメモリセルに、磁性体の磁化
方向による電気抵抗値の変化を利用して情報を記憶保持
する磁気抵抗素子を備えた請求項1または2記載の磁気
メモリ。
3. The first non-volatile memory and the second non-volatile memory store information in a memory cell for storing and holding information by using a change in an electric resistance value according to a magnetization direction of a magnetic material. 3. The magnetic memory according to claim 1, further comprising a holding magnetoresistive element.
【請求項4】 書き込みまたは読み出しを行う情報を一
時的に保持するための第3の不揮発性メモリを備えた入
出力データラッチ回路を有する請求項1乃至3のいずれ
か1項記載の磁気メモリ。
4. The magnetic memory according to claim 1, further comprising an input / output data latch circuit including a third nonvolatile memory for temporarily storing information to be written or read.
【請求項5】 前記第3の不揮発性メモリは、 情報を記憶保持するためのメモリセルに、磁性体の磁化
方向による電気抵抗値の変化を利用して情報を記憶保持
する磁気抵抗素子を備えた請求項4記載の磁気メモリ。
5. The memory according to claim 3, wherein the memory cell for storing and holding information includes a magnetoresistive element for storing and holding information by using a change in an electric resistance value according to a magnetization direction of a magnetic material. The magnetic memory according to claim 4.
【請求項6】 請求項1乃至3のいずれか1項記載の磁
気メモリに対して情報の書き込みまたは読み出しを行う
ための磁気メモリの駆動方法であって、 処理途中のデータを書き込むアドレスから前記ロウアド
レス及びカラムアドレスをそれぞれ生成し、 前記第1の不揮発性メモリに該ロウアドレスを記録する
と共に前記第2の不揮発性メモリに該カラムアドレスを
記録して処理作業を停止し、 前記第1の不揮発性メモリ及び前記第2の不揮発性メモ
リに記録されたアドレスに対応するデータを前記処理作
業の再開時に最初に読み出す磁気メモリの駆動方法。
6. A method of driving a magnetic memory for writing or reading information to or from a magnetic memory according to claim 1, wherein the method comprises: Generating an address and a column address, recording the row address in the first non-volatile memory, and recording the column address in the second non-volatile memory, and stopping the processing operation; A method for driving a magnetic memory in which data corresponding to an address recorded in the volatile memory and the second nonvolatile memory is first read out when the processing operation is restarted.
【請求項7】 請求項4または5記載の磁気メモリに対
して情報の書き込みまたは読み出しを行うための磁気メ
モリの駆動方法であって、 処理途中のデータを前記第3の不揮発性メモリに記録し
て処理作業を停止し、 前記第3の不揮発性メモリに記録されたデータを前記処
理作業の再開時に最初に読み出す磁気メモリの駆動方
法。
7. A method for driving a magnetic memory for writing or reading information to or from a magnetic memory according to claim 4, wherein data being processed is recorded in the third nonvolatile memory. A method of driving a magnetic memory in which the processing operation is stopped to read the data recorded in the third nonvolatile memory first when the processing operation is restarted.
JP2001120906A 2001-04-19 2001-04-19 Magnetic memory and driving method thereof Expired - Lifetime JP4726169B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001120906A JP4726169B2 (en) 2001-04-19 2001-04-19 Magnetic memory and driving method thereof

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001120906A JP4726169B2 (en) 2001-04-19 2001-04-19 Magnetic memory and driving method thereof

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2002319281A true JP2002319281A (en) 2002-10-31
JP4726169B2 JP4726169B2 (en) 2011-07-20

Family

ID=18970873

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001120906A Expired - Lifetime JP4726169B2 (en) 2001-04-19 2001-04-19 Magnetic memory and driving method thereof

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4726169B2 (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100575439B1 (en) * 2002-11-06 2006-05-03 샤프 가부시키가이샤 Nonvolatile semiconductor storage apparatus
KR100809333B1 (en) * 2006-09-04 2008-03-05 삼성전자주식회사 Write verify method of phase change random access memory device and phase change random access memory device using the same

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63117396A (en) * 1986-11-05 1988-05-21 Mitsubishi Electric Corp Non-volatile semiconductor memory device
JPH0261896A (en) * 1988-08-25 1990-03-01 Nec Corp Electrically erasable programmable read only memory
JPH06266606A (en) * 1993-03-15 1994-09-22 Hitachi Ltd Memory

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63117396A (en) * 1986-11-05 1988-05-21 Mitsubishi Electric Corp Non-volatile semiconductor memory device
JPH0261896A (en) * 1988-08-25 1990-03-01 Nec Corp Electrically erasable programmable read only memory
JPH06266606A (en) * 1993-03-15 1994-09-22 Hitachi Ltd Memory

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100575439B1 (en) * 2002-11-06 2006-05-03 샤프 가부시키가이샤 Nonvolatile semiconductor storage apparatus
KR100809333B1 (en) * 2006-09-04 2008-03-05 삼성전자주식회사 Write verify method of phase change random access memory device and phase change random access memory device using the same
US7535747B2 (en) 2006-09-04 2009-05-19 Samsung Electronics Co., Ltd. Phase change random access memory and related methods of operation

Also Published As

Publication number Publication date
JP4726169B2 (en) 2011-07-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI445000B (en) Semiconductor device
JP2017112351A (en) Magnetic memory
US20040233709A1 (en) MRAM having memory cell array in which cross-point memory cells are arranged by hierarchical bit line scheme and data read method thereof
JP2011501342A (en) Read operation in spin transfer torque magnetic random access memory configured to precharge bit line to ground level
JP2005064050A (en) Semiconductor memory device and method of writing data therein
JP2004288311A (en) Semiconductor storage device and control method therefor
JP2002334972A (en) Magnetic random access memory (mram) device
US6724651B2 (en) Nonvolatile solid-state memory and method of driving the same
KR20080109651A (en) Semiconductor memory device and its data reading method
US6614682B2 (en) Magnetic material memory and information reproducing method of the same
CN107808680A (en) Storage device
JP3788964B2 (en) Magnetic random access memory
TW201110119A (en) Memory and write control method
JP2008300863A (en) Magnetic resistance ram
US10020040B2 (en) Semiconductor memory device
JP2002367364A (en) Magnetic memory device
WO2003079364A1 (en) Magnetic storage device using ferromagnetic tunnel junction element
JP2002140889A (en) Ferromagnetic memory and its information reproducing method
JP2011204287A (en) Storage device
US7154775B2 (en) Magnetic random access memory
TW559810B (en) Method for operating an MRAM semiconductor memory arrangement
JP2003109374A (en) Write-in circuit for magnetic memory device
JP4726169B2 (en) Magnetic memory and driving method thereof
JP2006294178A (en) Nonvolatile memory device
JP2003109375A (en) Read-out circuit for magnetic memory device

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20080409

RD03 Notification of appointment of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423

Effective date: 20080409

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20101227

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20110112

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20110314

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20110406

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20110411

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140422

Year of fee payment: 3