JP2002313673A - Method of manufacturing ceramic electronic component - Google Patents

Method of manufacturing ceramic electronic component

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JP2002313673A
JP2002313673A JP2002103299A JP2002103299A JP2002313673A JP 2002313673 A JP2002313673 A JP 2002313673A JP 2002103299 A JP2002103299 A JP 2002103299A JP 2002103299 A JP2002103299 A JP 2002103299A JP 2002313673 A JP2002313673 A JP 2002313673A
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ceramic sheet
conductor layer
ceramic
porosity
laminate
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淳夫 長井
Yoshiya Sakaguchi
佳也 坂口
Hidenori Kuramitsu
秀紀 倉光
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Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method of manufacturing a ceramic electronic component having small probability of generating a short-circuit defect. SOLUTION: This method of manufacturing comprises a 1st step of reducing void fraction by compressing a ceramic sheet 10a containing ceramic powder and organic substances, 2nd step of forming a conductor layer 2 on the compressed ceramic sheet 10b by using a metallic paste, 3rd step of laminating a plurality of the ceramic sheets 10b on which the conductor layers are formed such that each conductor layer 2 mutually faces via the ceramic sheet 10b to obtain a laminate, and 4th step of firing the laminate. Since the conductor layer 2 is formed on the ceramic sheet 10b after reducing the void fraction, invasion of a metal component into the ceramic sheet 10b is suppressed.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は例えば積層セラミッ
クコンデンサ等のセラミック電子部品の製造方法に関す
るものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a ceramic electronic component such as a multilayer ceramic capacitor.

【0002】[0002]

【従来の技術】図7は一般的な積層セラミックコンデン
サの一部断面斜視図であり、1はセラミック誘電体層、
2は導電体層、3は外部電極で、導電体層2はその一端
部がセラミック誘電体層1の端部において外部電極3に
接続されている。
2. Description of the Related Art FIG. 7 is a perspective view, partly in section, of a general multilayer ceramic capacitor, wherein 1 is a ceramic dielectric layer,
2 is a conductor layer, 3 is an external electrode, and one end of the conductor layer 2 is connected to the external electrode 3 at an end of the ceramic dielectric layer 1.

【0003】以下に従来の積層セラミックコンデンサの
製造方法について説明する。
Hereinafter, a method for manufacturing a conventional multilayer ceramic capacitor will be described.

【0004】まず、セラミック誘電体層1となるチタン
酸バリウムを主成分とする誘電体粉末に有機物を添加し
て形成したセラミックシートを作製し、この上に印刷法
により導電体層2となる金属ペーストを所望の形状に印
刷する。次にこの導電体層2を作製したセラミックシー
トを導電体層2がセラミックシートを挟んで交互に対向
するように複数枚積層して積層体を得る。その後、この
積層体を焼成し、導電体層2が露出した両端面に外部電
極3を形成していた。
[0004] First, a ceramic sheet is formed by adding an organic substance to a dielectric powder mainly composed of barium titanate to be a ceramic dielectric layer 1, and a metal sheet to be a conductive layer 2 is formed thereon by a printing method. Print the paste into the desired shape. Next, a plurality of ceramic sheets on which the conductor layer 2 has been formed are laminated such that the conductor layers 2 alternately face each other with the ceramic sheet interposed therebetween to obtain a laminate. Thereafter, the laminate was fired to form external electrodes 3 on both end surfaces where the conductive layer 2 was exposed.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記方法
によると、セラミックシートの空隙率が大きい場合、金
属ペーストを直接セラミックシートに印刷すると、金属
成分がセラミックシートの内部まで侵入することとな
る。
However, according to the above method, when the porosity of the ceramic sheet is large, when the metal paste is directly printed on the ceramic sheet, the metal component penetrates into the inside of the ceramic sheet.

【0006】近年、積層セラミックコンデンサは高容量
化を達成するために、セラミックシートの薄層化が図ら
れており、セラミックシート中に侵入した金属成分によ
って導電体層2間がショートするという問題点を有して
いた。
In recent years, multilayer ceramic capacitors have been made to have a thin ceramic sheet in order to achieve a high capacitance, and there is a problem that a short circuit occurs between the conductor layers 2 due to a metal component penetrating into the ceramic sheet. Had.

【0007】そこで本発明はショート不良の少ないセラ
ミック電子部品を提供することを目的とするものであ
る。
Accordingly, an object of the present invention is to provide a ceramic electronic component with less short-circuit defects.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
に本発明のセラミック電子部品の製造方法は、セラミッ
ク粉末と有機物とを含有するセラミックシートを加圧お
よび前記有機物のガラス転移点以上融点未満に加熱し空
隙率を減少させる第1工程と、次にこのセラミックシー
ト上に金属ペーストを用いて導電体層を形成する第2工
程と、次いでこの導電体層を形成したセラミックシート
を前記導電体層が前記セラミックシートを挟んで対向す
るように複数枚積層して積層体を得る第3の工程と、こ
の積層体を焼成する第4工程とを有するものであり、空
隙率を減少させてからセラミックシート上に導電体層を
形成するため、セラミックシートの内部への金属成分の
侵入を抑制することができ、導電体層間のショートを防
止することができる。
In order to achieve this object, a method of manufacturing a ceramic electronic component according to the present invention comprises: pressing a ceramic sheet containing ceramic powder and an organic substance; A first step of heating the ceramic sheet to reduce the porosity, a second step of forming a conductor layer on the ceramic sheet by using a metal paste; A third step of obtaining a laminate by stacking a plurality of layers so that the layers face each other with the ceramic sheet interposed therebetween, and a fourth step of firing the laminate, and after reducing the porosity, Since the conductor layer is formed on the ceramic sheet, the intrusion of metal components into the ceramic sheet can be suppressed, and a short circuit between the conductor layers can be prevented. .

【0009】[0009]

【発明の実施の形態】本発明の請求項1に記載の発明
は、セラミック粉末と有機物とを含有するセラミックシ
ートを加圧および前記有機物のガラス転移点以上融点未
満に加熱し空隙率を減少させる第1工程と、次にこのセ
ラミックシート上に金属ペーストを用いて導電体層を形
成する第2工程と、次いでこの導電体層を形成したセラ
ミックシートを前記導電体層が前記セラミックシートを
挟んで対向するように複数枚積層して積層体を得る第3
の工程と、この積層体を焼成する第4工程とを有するセ
ラミック電子部品の製造方法であり、ショート不良の少
ないセラミック電子部品を得ることができる。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The invention according to claim 1 of the present invention reduces the porosity by pressing a ceramic sheet containing a ceramic powder and an organic substance and heating the ceramic sheet to a temperature higher than the glass transition point of the organic substance and lower than its melting point. A first step, a second step of forming a conductor layer on the ceramic sheet by using a metal paste, and then separating the ceramic sheet on which the conductor layer is formed with the conductor layer sandwiching the ceramic sheet Third to obtain a laminate by laminating a plurality of sheets so as to face each other
And a fourth step of firing the laminated body. This is a method for manufacturing a ceramic electronic component, and a ceramic electronic component with few short-circuit defects can be obtained.

【0010】請求項2に記載の発明は、セラミック粉末
と有機物とを含有するセラミックシートを加圧および前
記有機物のガラス転移点以上融点未満に加熱し空隙率を
減少させる第1工程と、また支持体上に金属ペーストを
用いて導電体層を作製する第2工程と、次に前記セラミ
ックシートと前記導電体層とが交互に積層された積層体
を作製する第3工程と、この積層体を焼成する第4工程
とを有するセラミック電子部品の製造方法であり、ショ
ート不良の少ないセラミック電子部品を得ることができ
る。
According to a second aspect of the present invention, there is provided a first step in which a ceramic sheet containing a ceramic powder and an organic substance is pressed and heated to a temperature equal to or higher than the glass transition point of the organic substance and lower than its melting point to reduce the porosity. A second step of forming a conductor layer on the body using a metal paste, a third step of forming a laminate in which the ceramic sheets and the conductor layers are alternately laminated, and This is a method for manufacturing a ceramic electronic component having a fourth step of firing, and a ceramic electronic component with few short-circuit defects can be obtained.

【0011】以下本発明の実施の形態について積層セラ
ミックコンデンサを例に図面を参照しながら説明する。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings, taking a multilayer ceramic capacitor as an example.

【0012】図1,図2は本発明の一実施の形態におけ
るセラミックシートの一部拡大断面図、図3は図2に示
すセラミックシートを得るための工程を説明する断面図
であり10aは空隙率を減少させる前のセラミックシー
ト、10bは空隙率を減少させた後のセラミックシー
ト、11はセラミック粒子、12はポリエチレン、13
は空隙、14a,14bはロールである。
1 and 2 are partially enlarged cross-sectional views of a ceramic sheet according to an embodiment of the present invention. FIG. 3 is a cross-sectional view for explaining a process for obtaining the ceramic sheet shown in FIG. Ceramic sheet before decreasing the porosity, 10b ceramic sheet after decreasing the porosity, 11 ceramic particles, 12 polyethylene, 13
Is a gap, and 14a and 14b are rolls.

【0013】また図4,図5は本発明の一実施の形態に
おける導電体層の断面図であり、2は導電体層、15は
ベースフィルムである。
FIGS. 4 and 5 are cross-sectional views of a conductor layer according to an embodiment of the present invention. Reference numeral 2 denotes a conductor layer, and reference numeral 15 denotes a base film.

【0014】さらに図6は、図5に示す導電体層2を得
るための製造工程を説明するための断面図であり、16
a,16bはロールである。
FIG. 6 is a cross-sectional view for explaining a manufacturing process for obtaining the conductor layer 2 shown in FIG.
a and 16b are rolls.

【0015】さらにまた図7は一般的な積層セラミック
コンデンサの断面図で、1はセラミック誘電体層、2は
導電体層、3は外部電極である。
FIG. 7 is a sectional view of a general multilayer ceramic capacitor, wherein 1 is a ceramic dielectric layer, 2 is a conductor layer, and 3 is an external electrode.

【0016】(実施の形態1)まず重量平均分子量が4
00,000のポリエチレンとチタン酸バリウムを主成
分とするセラミック原料粉末とを用いて厚み10μmの
セラミックシート10aを準備する。このセラミックシ
ート10aの空隙率は65%程度となる。図1はこのセ
ラミックシート10aの様子を示す一部拡大断面図であ
り、ポリエチレン12の繊維間にセラミック粒子11が
点在しており非常に空隙13が多いものである。
(Embodiment 1) First, the weight average molecular weight is 4
A ceramic sheet 10a having a thickness of 10 μm is prepared using 00000 polyethylene and a ceramic raw material powder containing barium titanate as a main component. The porosity of the ceramic sheet 10a is about 65%. FIG. 1 is a partially enlarged cross-sectional view showing the appearance of the ceramic sheet 10a, in which ceramic particles 11 are interspersed between fibers of polyethylene 12, and there are very many voids 13.

【0017】次に図3に示すようにセラミックシート1
0aを表面が平滑なロール14a,14b間を通過させ
る。この時ロール14a,14bはそれぞれ反対方向に
回転していると共にセラミックシート10aを厚み方向
に加圧、加熱している。加圧に加えて加熱を行うことに
より、容易にセラミックシート10aの空隙率を減少さ
せることができる。すなわち加熱することで加圧時にポ
リエチレン12の流動性が増加し、セラミックシート1
0a内部の空気がセラミックシート10a内部から外部
に除去されると同時にセラミック粒子11の充填性が増
加するためである。加熱温度は、ポリエチレン12のガ
ラス転移点以上融点未満とすることが望ましい。具体的
には60℃〜150℃の範囲で行うことが最も適してい
る。ここでロール14a,14bの代わりに、プレス板
を用いて厚み方向の一軸プレスによりセラミックシート
10aの空隙率を向上させても構わない。本実施の形態
においては、連続的に処理することができるためロール
14a,14bを用いた。
Next, as shown in FIG.
0a is passed between the rolls 14a and 14b having a smooth surface. At this time, the rolls 14a and 14b are rotating in opposite directions, and pressurize and heat the ceramic sheet 10a in the thickness direction. By performing heating in addition to pressurizing, the porosity of the ceramic sheet 10a can be easily reduced. That is, the heating increases the fluidity of the polyethylene 12 during pressurization, and the ceramic sheet 1
This is because the air inside the ceramic sheet 10a is removed from the inside of the ceramic sheet 10a to the outside, and at the same time, the filling property of the ceramic particles 11 increases. The heating temperature is desirably not less than the glass transition point of the polyethylene 12 and less than the melting point. Specifically, it is most suitable to carry out in the range of 60 ° C to 150 ° C. Here, the porosity of the ceramic sheet 10a may be improved by a uniaxial press in the thickness direction using a press plate instead of the rolls 14a and 14b. In the present embodiment, rolls 14a and 14b are used because they can be continuously processed.

【0018】本実施の形態においては、40%、30
%、20%、10%の四種類の空隙率を有するセラミッ
クシート10bを準備した。図2に加圧、加熱後のセラ
ミックシート10bの一部拡大断面図を示す。この図を
見るとわかるように空隙13が減少している。
In this embodiment, 40%, 30%
%, 20%, and 10% of the ceramic sheet 10b having four types of porosity. FIG. 2 shows a partially enlarged cross-sectional view of the ceramic sheet 10b after pressing and heating. As can be seen from this figure, the gap 13 is reduced.

【0019】次いで、金属成分としてニッケルを、バイ
ンダとしてエチルセルロース、アクリル樹脂、ブチラー
ル樹脂、可塑剤としてベンジルブチルフタレート、溶剤
として脂肪族または芳香族系溶剤を含有する金属ペース
トを準備し、空隙率を減少させたセラミックシート10
b上に金属ペーストを所望の形状に印刷、乾燥し、厚み
2.5μmの導電体層2を複数形成する。
Next, a metal paste containing nickel as a metal component, ethyl cellulose, an acrylic resin, a butyral resin as a binder, benzyl butyl phthalate as a plasticizer, and an aliphatic or aromatic solvent as a solvent is prepared to reduce the porosity. Ceramic sheet 10
On b, a metal paste is printed in a desired shape and dried to form a plurality of conductor layers 2 having a thickness of 2.5 μm.

【0020】次に、導電体層2が形成されていないセラ
ミックシート10bを複数枚積み重ねて無効層を形成し
た後に、この無効層の上に導電体層2を形成したセラミ
ックシート10bを所望の枚数積層し、さらにその上に
無効層を形成することで仮積層体を得る。このとき、導
電体層2が形成されていないセラミックシートは、空隙
率を減少させていないセラミックシート10a、空隙率
を減少させたセラミックシート10bのどちらを用いて
も構わないが、導電体層2を100層以上積層する場合
や、セラミックシートの空隙率が20%より低い場合に
は、空隙率を減少させていないセラミックシート10a
を用いる方が良好な積層体を得ることができる。その理
由は加圧の際、仮積層体中の導電体層2が形成されてい
る部分と形成されていない部分での加圧力が不均一とな
るのをセラミックシート10aで緩和するからである。
本実施の形態においては、導電体層2が形成されている
セラミックシート10bの積層体は150層であり、無
効層には空隙率を減少させたセラミックシート10aを
用いた。
Next, after stacking a plurality of ceramic sheets 10b on which the conductor layer 2 is not formed to form an ineffective layer, a desired number of ceramic sheets 10b having the conductor layer 2 formed on the ineffective layer are formed. The temporary laminated body is obtained by laminating and further forming an invalid layer thereon. At this time, as the ceramic sheet on which the conductor layer 2 is not formed, either the ceramic sheet 10a whose porosity is not reduced or the ceramic sheet 10b whose porosity is reduced may be used. When the porosity of the ceramic sheet is less than 20%, or when the porosity of the ceramic sheet is
A better laminate can be obtained by using. The reason is that the ceramic sheet 10a alleviates the uneven pressing force between the portion where the conductive layer 2 is formed and the portion where the conductive layer 2 is not formed in the temporary laminate during pressing.
In the present embodiment, the laminated body of the ceramic sheet 10b on which the conductor layer 2 is formed is 150 layers, and the ineffective layer is a ceramic sheet 10a with reduced porosity.

【0021】次いで仮積層体全体を加圧後、所望の形状
の積層体に切断し、脱脂、続いて焼成を行う。脱脂は大
気中で積層体を昇温させながらまず積層体中の可塑剤の
除去を行い、さらに昇温させてバインダの除去の順に行
うことが望ましい。その理由は、可塑剤とバインダとを
一度に除去するために一気に加熱すると、可塑剤とバイ
ンダとで新たな化合物が生成し脱脂後も積層体中に残留
することとなり、焼成時にこの化合物が燃焼して積層体
から除去されることによりデラミネーションなどの構造
欠陥が発生し、ショート不良の発生率が高くなるからで
ある。さらに脱脂とこれに続いて行う焼成は導電体層2
となるニッケルが過度に酸化されないように条件設定を
行う。焼成により、チタン酸バリウムを主成分とするセ
ラミック積層体層1とニッケルを主成分とする導電体層
2が焼結した焼結体を得る。次いでこの焼結体の導電体
層2の露出した両端面に銅などの外部電極3を焼き付
け、メッキ(図示せず)を施した後に図7に示す積層セ
ラミックコンデンサを得る。
Next, the entire temporary laminate is pressed, cut into a laminate of a desired shape, degreased, and then fired. It is desirable that the degreasing be performed in the order of removing the plasticizer from the laminate while raising the temperature of the laminate in the air, and further increasing the temperature to remove the binder. The reason is that when heated at once to remove the plasticizer and the binder at once, a new compound is generated by the plasticizer and the binder and remains in the laminate even after degreasing, and this compound burns during firing. This is because structural defects such as delamination occur by being removed from the laminate, and the occurrence rate of short-circuit defects increases. Further degreasing and subsequent firing are performed on the conductive layer 2.
The conditions are set so that the nickel is not excessively oxidized. By sintering, a sintered body is obtained in which the ceramic laminate layer 1 mainly containing barium titanate and the conductor layer 2 mainly containing nickel are sintered. Next, external electrodes 3 made of copper or the like are baked on the exposed both end surfaces of the conductor layer 2 of the sintered body, and after plating (not shown), a multilayer ceramic capacitor shown in FIG. 7 is obtained.

【0022】(表1)は、有効層数(導電体層2間に挟
まれたセラミック誘電体層1の数)が150層の積層セ
ラミックコンデンサのショート率について、本実施の形
態品と従来品1と比較して示しているものである。
Table 1 shows the short-circuit rate of the multilayer ceramic capacitor in which the number of effective layers (the number of ceramic dielectric layers 1 sandwiched between the conductor layers 2) is 150, in this embodiment and the conventional product. 1 is shown in comparison with FIG.

【0023】[0023]

【表1】 [Table 1]

【0024】従来品1とは、導電体層2を形成するセラ
ミックシート10aの空隙率を減少させていないセラミ
ックシート10aを用いて上記方法で作製したものであ
る。(表1)から明らかなように、従来品1と比較する
と本実施の形態品はショート率が減少していることがわ
かる。また、ショート不良発生品に対して内部断面を解
析した結果、ショート箇所は導電体層2間のショートで
あることが明確になった。
The conventional product 1 is manufactured by the above method using the ceramic sheet 10a in which the porosity of the ceramic sheet 10a forming the conductor layer 2 is not reduced. As is clear from Table 1, the short-circuit rate of the product of the present embodiment is smaller than that of the conventional product 1. In addition, as a result of analyzing the internal cross section of the product in which the short-circuit failure occurred, it was clarified that the short-circuit location was a short-circuit between the conductor layers 2.

【0025】このことから、本実施の形態によれば導電
体層2中の金属成分のセラミックシート10bへの侵入
を抑制し、導電体層2間のショートを激減させ、歩留ま
りを大幅に改善することができる。
From the above, according to the present embodiment, the penetration of the metal component in the conductor layer 2 into the ceramic sheet 10b is suppressed, the short circuit between the conductor layers 2 is drastically reduced, and the yield is largely improved. be able to.

【0026】特に本実施の形態のようにバインダとして
用いた高分子ポリエチレンは、ポリビニルブチラール樹
脂やアクリル樹脂と比較すると嵩高く、空隙率の高いセ
ラミックシート10aとなりやすい。従って本発明のよ
うに導電体層2の形成前に空隙率を減少させることはシ
ョート不良の削減に対して非常に効果がある。
In particular, the high-molecular polyethylene used as a binder as in the present embodiment tends to be bulky and have a high porosity as compared with a polyvinyl butyral resin or an acrylic resin. Therefore, reducing the porosity before forming the conductor layer 2 as in the present invention is very effective in reducing short-circuit defects.

【0027】(実施の形態2)実施の形態1では、空隙
率を減少させたセラミックシート10a上に直接金属ペ
ーストを印刷して導電体層2を形成したが、本実施の形
態では導電体層2をポリエチレンテレフタレートフィル
ム等のベースフィルム15上に形成する場合について説
明する。
(Embodiment 2) In Embodiment 1, the conductor layer 2 is formed by printing a metal paste directly on the ceramic sheet 10a having a reduced porosity. However, in this embodiment, the conductor layer is formed. 2 is formed on a base film 15 such as a polyethylene terephthalate film.

【0028】まず、実施の形態1と同様にしてセラミッ
クシート10aの空隙率を減少させて、40%、30
%、20%、10%の四種類の空隙率を有するセラミッ
クシート10bを準備する。
First, the porosity of the ceramic sheet 10a is reduced to 40% and 30% in the same manner as in the first embodiment.
The ceramic sheet 10b having four types of porosity of%, 20%, and 10% is prepared.

【0029】また、図4に示すように実施の形態1と同
様の金属ペーストを用いて導電体層2をベースフィルム
15上に所望の形状に印刷、乾燥し、大部分の溶剤を飛
散させて表面を硬化し、ほとんど金属成分と可塑剤及び
バインダ成分のみとなるようにする。具体的には導電体
層2中の有機成分が金属成分100wt%に対して5〜
15wt%、好ましくは8〜12wt%となるようにす
る。その理由は5wt%よりも少ないとセラミックシー
ト10bとの接着性が悪くなり、15wt%を超えると
導電体層2の粘着性が過多となり、所望の形状の導電体
層2を作製することができないからである。
Also, as shown in FIG. 4, the conductor layer 2 is printed on the base film 15 in a desired shape using the same metal paste as in the first embodiment, dried, and most of the solvent is scattered. The surface is hardened so that it is almost exclusively the metal component and the plasticizer and binder components. Specifically, the organic component in the conductor layer 2 is 5 to 100% by weight of the metal component.
The content is 15 wt%, preferably 8 to 12 wt%. The reason is that if it is less than 5 wt%, the adhesion to the ceramic sheet 10 b will be poor, and if it exceeds 15 wt%, the stickiness of the conductor layer 2 will be excessive, and the conductor layer 2 having a desired shape cannot be produced. Because.

【0030】またこの時、後工程で導電体層2とベース
フィルム15を離型させやすくするために、あらかじめ
ベースフィルム15上にアクリル樹脂、メラミン樹脂、
エポキシ樹脂、シリコン樹脂のうち、少なくとも一種類
以上からなる離型層(図示せず)を形成してから導電体
層2を印刷することが望ましい。特にアクリル樹脂とメ
ラミン樹脂混合系においては所望の離型性が得られる。
またシリコン樹脂においては所望の離型性が得られる
他、耐溶剤性、耐湿性などに優れるために有効である。
At this time, an acrylic resin, a melamine resin, or the like is previously placed on the base film 15 so that the conductive layer 2 and the base film 15 can be easily released from the mold in a later step.
It is desirable to print the conductor layer 2 after forming a release layer (not shown) made of at least one of epoxy resin and silicon resin. In particular, a desired release property can be obtained in a mixed system of an acrylic resin and a melamine resin.
In addition, silicone resin is effective in that desired release properties can be obtained and solvent resistance and moisture resistance are excellent.

【0031】次に、支持体上に導電体層2を形成してい
ないセラミックシート10aを複数枚積層して無効層を
形成した後、この上に導電体層2をベースフィルム15
ごと導電体層2がセラミックシート10bと直接接触す
るように積層後、上下方向から加圧し、導電体層2とセ
ラミックシート10bとを接着させる。この加圧は室温
から導電体層2中の可塑剤が飛散しすぎないような温度
(本実施の形態においては150℃)までの温度範囲で
行うことが望ましい。その理由は、可塑剤が飛散しすぎ
ると導電体層2が硬く、脆くなり、セラミックシート1
0bと導電体層2間の接着力が低下し、積層時や焼成時
に構造欠陥が発生するからである。従って上記温度範囲
で行うことにより、導電体層2に含まれるバインダ成分
や可塑剤成分を軟化させ、導電体層2とセラミックシー
ト10bとの接着性を向上させることができる。
Next, a plurality of ceramic sheets 10a on which the conductor layer 2 is not formed are laminated on the support to form an ineffective layer.
After lamination such that the conductor layer 2 is in direct contact with the ceramic sheet 10b, pressure is applied from above and below to bond the conductor layer 2 and the ceramic sheet 10b. This pressurization is desirably performed in a temperature range from room temperature to a temperature (150 ° C. in the present embodiment) at which the plasticizer in the conductor layer 2 does not scatter too much. The reason is that if the plasticizer is scattered too much, the conductor layer 2 becomes hard and brittle, and the ceramic sheet 1
This is because the adhesive force between Ob and the conductive layer 2 decreases, and structural defects occur during lamination or firing. Therefore, by performing in the above temperature range, the binder component and the plasticizer component contained in the conductor layer 2 can be softened, and the adhesiveness between the conductor layer 2 and the ceramic sheet 10b can be improved.

【0032】また導電体層2中の可塑剤及びバインダの
含有率が低い場合には加圧時に温度を上げることによ
り、可塑剤及びバインダを活性化させて導電体層2とセ
ラミックシート10bとの接着性を向上させる。一方含
有率が高い場合には室温でも導電体層2とセラミックシ
ート10bの接着性は十分得ることができるので加熱す
る必要はない。つまり導電体層2中の有機成分の種類と
その含有率に応じて加熱温度を調整することが好まし
い。
When the contents of the plasticizer and the binder in the conductor layer 2 are low, the plasticizer and the binder are activated by increasing the temperature at the time of pressurization so that the conductor layer 2 and the ceramic sheet 10b can be activated. Improves adhesion. On the other hand, when the content is high, the adhesiveness between the conductor layer 2 and the ceramic sheet 10b can be sufficiently obtained even at room temperature, so that it is not necessary to heat. That is, it is preferable to adjust the heating temperature in accordance with the type of the organic component in the conductor layer 2 and the content thereof.

【0033】次いで、ベースフィルム15を離型し、セ
ラミックシート10bを導電体層2の上に積層する。そ
の後、再びベースフィルム15ごと導電体層2をセラミ
ックシート10b上に積層して上記条件で加圧する。こ
のセラミックシート10bと導電体層2との積層を所望
の回数を繰り返し、その上にセラミックシート10aを
用いて無効層を形成し、仮積層体を得る。
Next, the base film 15 is released, and the ceramic sheet 10b is laminated on the conductor layer 2. Thereafter, the conductor layer 2 together with the base film 15 is again laminated on the ceramic sheet 10b and pressed under the above conditions. The lamination of the ceramic sheet 10b and the conductor layer 2 is repeated a desired number of times, and an ineffective layer is formed thereon using the ceramic sheet 10a to obtain a temporary laminate.

【0034】この後実施の形態1と同様にして有効層が
150層の積層セラミックコンデンサを作製する。
Thereafter, a multilayer ceramic capacitor having 150 effective layers is manufactured in the same manner as in the first embodiment.

【0035】(表2)は、積層セラミックコンデンサの
ショート率について、本実施の形態品と従来品2と比較
して示しているものである。
Table 2 shows the short-circuit rate of the multilayer ceramic capacitor in comparison with the product of the present embodiment and the conventional product 2.

【0036】[0036]

【表2】 [Table 2]

【0037】従来品2とは、空隙率を減少させていない
セラミックシート10aを用いて上記方法で作製したも
のである。(表2)から明らかなように、従来品2と比
較すると本実施の形態品はショート率が減少しているこ
とがわかる。さらには、実施の形態1と比較してもショ
ート率が低いことがわかる。これは空隙率を減少させた
上に、セラミックシート10b上に乾燥後の導電体層2
が転写されるためにセラミックシート10b中への金属
成分の侵入がさらに抑制されるためである。
The conventional product 2 is manufactured by the above method using the ceramic sheet 10a whose porosity is not reduced. As is clear from (Table 2), it can be seen that the product of the present embodiment has a reduced short-circuit rate as compared with Conventional Product 2. Further, it can be seen that the short-circuit rate is lower than that of the first embodiment. This is because the porosity is reduced and the dried conductor layer 2 is placed on the ceramic sheet 10b.
Is transferred, so that the penetration of the metal component into the ceramic sheet 10b is further suppressed.

【0038】このことから、本実施の形態によれば金属
成分のセラミックシート10bへの侵入を実施の形態1
よりもさらに抑制し、導電体層2間のショートを激減さ
せ、歩留まりを大幅に改善することができる。
Therefore, according to the present embodiment, the penetration of the metal component into the ceramic sheet 10b is prevented in the first embodiment.
It is possible to further reduce the short-circuit between the conductor layers 2 and significantly improve the yield.

【0039】なお、本実施の形態においてセラミックシ
ート10bを導電体層2と交互に積層する際、セラミッ
クシート10bを一層積層する毎に加圧しても構わない
し、セラミックシート10bは圧力をかけずに単に積層
するだけであり、その上にベースフィルム15上に形成
された導電体層2を積層後加圧する際に、セラミックシ
ート10b間およびセラミックシート10bと導電体層
2間の接着性を同時に確保しても構わない。しかしなが
ら後者の方が前者と比較すると加圧回数が半減すること
となる。この加圧過程は約1〜30秒/回の時間を必要
とし、積層数が多くなるほど多くの時間を要するため
に、積層セラミックコンデンサのコスト高の一因とな
る。特に、導電体層2を卑金属で形成する場合は、積層
工程の製品価格に占める割合が大きいので、仮積層体を
作製する際はセラミックシート10bは単に積層するだ
けであり、その上にベースフィルム15上に形成された
導電体層2を積層後加圧する際に、セラミックシート1
0b間およびセラミックシート10bと導電体層2間の
接着性を同時に確保することにより、低コスト化に寄与
することができる。
In the present embodiment, when the ceramic sheets 10b are alternately laminated with the conductor layers 2, the ceramic sheets 10b may be pressurized each time one layer is laminated. The layers are simply laminated, and when the conductor layer 2 formed on the base film 15 is laminated thereon and then pressed, the adhesion between the ceramic sheets 10b and between the ceramic sheet 10b and the conductor layer 2 is simultaneously secured. It does not matter. However, in the latter case, the number of times of pressurization is halved compared to the former. This pressurizing process requires a time of about 1 to 30 seconds / time, and the longer the number of laminations, the more time it takes. This contributes to the increase in cost of the multilayer ceramic capacitor. In particular, when the conductor layer 2 is formed of a base metal, the ratio of the lamination process to the product price is large. Therefore, when the temporary laminate is manufactured, the ceramic sheet 10b is simply laminated, and the base film is formed thereon. When the conductor layer 2 formed on the ceramic sheet 15 is pressed after lamination, the ceramic sheet 1
By simultaneously securing the adhesiveness between 0b and between the ceramic sheet 10b and the conductor layer 2, it is possible to contribute to cost reduction.

【0040】なお本実施の形態においても、導電体層2
の積層数が100層以上であるので、無効層は空隙率を
減少させていないセラミックシート10aを用いた。
In this embodiment, the conductive layer 2
Since the number of stacked layers is 100 or more, the ineffective layer used was a ceramic sheet 10a whose porosity was not reduced.

【0041】(実施の形態3)実施の形態3において
は、図4に示すようなベースフィルム15上に形成した
導電体層2をセラミックシート10bと接触するように
ベースフィルム15ごと重ね合わせて導電体層2付きセ
ラミックシート10bを作製し、これを積層して積層体
を作製するものである。
(Embodiment 3) In Embodiment 3, the conductor layer 2 formed on the base film 15 as shown in FIG. 4 is superposed together with the base film 15 so as to be in contact with the ceramic sheet 10b. A ceramic sheet 10b with a body layer 2 is prepared, and this is laminated to produce a laminated body.

【0042】具体的には、実施の形態1,2と同様にし
て作製した空隙率を減少させたセラミックシート10b
とベースフィルム15上に形成した導電体層2とをベー
スフィルム15ごとローラー間に挟み込んで加圧するこ
とにより、セラミックシート10bと導電体層2とを密
着させる。この加圧時の温度は実施の形態2,3と同様
に室温から導電体層2中の可塑剤が飛散しすぎないよう
な温度範囲とする。
More specifically, a ceramic sheet 10b having a reduced porosity manufactured in the same manner as in the first and second embodiments.
The ceramic sheet 10b and the conductor layer 2 are brought into close contact with each other by sandwiching the base film 15 and the conductor layer 2 formed on the base film 15 together with the base film 15 between rollers. The temperature at the time of pressurization is set in a range from room temperature to a temperature at which the plasticizer in the conductor layer 2 does not scatter too much, similarly to the second and third embodiments.

【0043】このようにして、ベースフィルム15上に
導電体層2およびセラミックシート10bを形成し、こ
れを所望の形状に切断した後、順次積層して加圧するこ
とにより所望の枚数積層し、仮積層体を得る。
In this manner, the conductor layer 2 and the ceramic sheet 10b are formed on the base film 15, cut into a desired shape, and then sequentially laminated and pressed to laminate a desired number of sheets. Obtain a laminate.

【0044】なお仮積層体の形成は、実施の形態1,2
と同様の無効層の上に、ベースフィルム15が上にくる
ように積層、加圧後ベースフィルム15を剥離すること
を繰返すことにより行っても、ベースフィルム15を除
去した後に導電体層2付きセラミックシート10bの積
層、加圧を繰返すことにより行っても構わない。
The formation of the temporary laminate is described in the first and second embodiments.
On the same ineffective layer as described above, lamination is performed so that the base film 15 is on the upper side, and peeling of the base film 15 after pressing is repeated. It may be performed by repeating lamination and pressurization of the ceramic sheet 10b.

【0045】しかしながらベースフィルム15の除去
後、導電体層2が上にくるように積層する場合、導電体
層2がプレス板などの加圧機具に付着しないように、例
えば導電体層2とプレス板の間に導電体層2が付着しな
いようなシートを設けるなど配慮することが大切であ
る。従ってベースフィルム15を剥離した後積層する場
合は、セラミックシート16が上にくるようにすること
が望ましい。
However, when the base layer 15 is removed and the conductive layer 2 is laminated so as to be on top of the base film 15, the conductive layer 2 may be pressed with a pressing device such as a press plate. It is important to provide a sheet so that the conductive layer 2 does not adhere between the plates. Therefore, when laminating after peeling off the base film 15, it is desirable that the ceramic sheet 16 be on top.

【0046】その後、実施の形態1と同様にして積層セ
ラミックコンデンサを得る。また、上記のようにローラ
ーを用いて導電体層2付きセラミックシート10bを作
製する場合、比較的速いスピードで行うことができる。
すなわち、実施の形態3においては、実施の形態2で示
したようにセラミックシート10b、導電体層2をそれ
ぞれ積層する度に加圧していた場合と比較すると積層時
の加圧回数を半減させることができるために低コスト化
に寄与することができる。
Thereafter, a multilayer ceramic capacitor is obtained in the same manner as in the first embodiment. In addition, when the ceramic sheet 10b with the conductor layer 2 is manufactured using the roller as described above, it can be performed at a relatively high speed.
That is, in the third embodiment, the number of times of pressing at the time of lamination is reduced by half as compared with the case where the pressing is performed each time the ceramic sheet 10b and the conductor layer 2 are stacked as described in the second embodiment. Can contribute to cost reduction.

【0047】(表3)は、有効層数(導電体層2間に挟
まれたセラミック誘電体層1の数)が150層の積層セ
ラミックコンデンサのショート率について、本実施の形
態品と従来品3と比較して示しているものである。
Table 3 shows the short-circuit rate of the multilayer ceramic capacitor in which the number of effective layers (the number of ceramic dielectric layers 1 sandwiched between the conductor layers 2) is 150, in this embodiment and the conventional product. 3 is shown in comparison with FIG.

【0048】[0048]

【表3】 [Table 3]

【0049】従来品3とは空隙率を減少させる前のセラ
ミックシート10aを用いて上記方法で製造したもので
ある。(表3)から明らかなように、従来品3と比較す
ると本実施の形態品においてはショート率が激減してい
ることがわかる。また、ショート品に対して内部断面を
解析した結果、ショート箇所は導電体層2間のショート
であった。
The conventional product 3 is manufactured by the above method using the ceramic sheet 10a before the porosity is reduced. As is clear from Table 3, the short-circuit rate of the product of the present embodiment is drastically reduced as compared with the conventional product 3. Further, as a result of analyzing the internal cross section of the short-circuited product, the short-circuited portion was a short-circuit between the conductor layers 2.

【0050】このことから、本実施の形態によれば導電
体層2間のショートを激減させ、歩留まりを大幅に改善
し、かつ低コスト化に寄与することができるものであ
る。
Thus, according to the present embodiment, the short circuit between the conductor layers 2 can be drastically reduced, the yield can be greatly improved, and the cost can be reduced.

【0051】(実施の形態4)本実施の形態4において
も導電体層2を直接セラミックシート10bに形成する
のではなく、ポリエチレンテレフタレートフィルム等の
ベースフィルム15上に形成するものである。
(Embodiment 4) In Embodiment 4, too, the conductor layer 2 is not formed directly on the ceramic sheet 10b, but is formed on a base film 15 such as a polyethylene terephthalate film.

【0052】まず、実施の形態1と同様にしてセラミッ
クシート10aの空隙率を減少させて、40%、30
%、20%、10%の四種類の空隙率を有するセラミッ
クシート10bを準備する。
First, the porosity of the ceramic sheet 10a is reduced to 40% and 30% in the same manner as in the first embodiment.
The ceramic sheet 10b having four types of porosity of%, 20%, and 10% is prepared.

【0053】また、実施の形態1と同様金属ペーストを
用いて導電体層2をベースフィルム15上に所望の形状
を印刷、乾燥し、大部分の溶剤を飛散させて表面を硬化
し、ほとんど金属成分と可塑剤及びバインダ成分のみと
なるようにする。具体的には導電体層2中の有機成分が
金属成分100wt%に対して5〜15wt%、好まし
くは8〜12wt%となるようにする。その理由は5w
t%よりも少ないとセラミックシート10bとの接着性
が悪くなり、15wt%を超えると導電体層2の粘着性
が過多となり、所望の形状の導電体層2を作製すること
ができないからである。
The conductive layer 2 is printed in a desired shape on the base film 15 using a metal paste and dried in the same manner as in the first embodiment, and most of the solvent is scattered to harden the surface. Components and only plasticizer and binder components. Specifically, the organic component in the conductor layer 2 is set to 5 to 15 wt%, preferably 8 to 12 wt% with respect to 100 wt% of the metal component. The reason is 5w
If the amount is less than t%, the adhesion to the ceramic sheet 10b will be poor, and if it exceeds 15% by weight, the stickiness of the conductor layer 2 will be excessive, and the conductor layer 2 having a desired shape cannot be produced. .

【0054】またこの時、後工程で導電体層2とベース
フィルム15を離型させやすくするために、あらかじめ
ベースフィルム15上にアクリル樹脂、メラミン樹脂、
エポキシ樹脂、シリコン樹脂のうち、少なくとも一種類
以上からなる離型層(図示せず)を形成してから導電体
層2を印刷することが望ましい。特にアクリル樹脂とメ
ラミン樹脂の混合系においては所望の離型性が得られ
る。またシリコン樹脂においては所望の離型性が得られ
る他、耐溶剤性、耐湿性などに優れるために有効であ
る。この時導電体層2の表面は図4に示すように表面に
凹凸を有した状態である。
At this time, in order to easily release the conductive layer 2 and the base film 15 in a later step, an acrylic resin, a melamine resin,
It is desirable to print the conductor layer 2 after forming a release layer (not shown) made of at least one of epoxy resin and silicon resin. Particularly, in a mixed system of an acrylic resin and a melamine resin, a desired release property can be obtained. In addition, silicone resin is effective in that desired release properties can be obtained and solvent resistance and moisture resistance are excellent. At this time, the surface of the conductor layer 2 is in a state of having irregularities on the surface as shown in FIG.

【0055】次に導電体層2を乾燥後、図6に示すよう
に表面が平滑なロール16a,16b間をベースフィル
ム15ごと導電体層2を通過させて、ロール16a,1
6bで導電体層2を厚み方向に加圧することにより、導
電体層2の表面の凹凸を低減させる。図5に表面を平滑
にした導電体層2の断面図を示す。
Next, after the conductive layer 2 is dried, the base film 15 and the conductive layer 2 are passed between the rolls 16a and 16b having a smooth surface as shown in FIG.
By pressing the conductor layer 2 in the thickness direction at 6b, the irregularities on the surface of the conductor layer 2 are reduced. FIG. 5 is a sectional view of the conductor layer 2 having a smooth surface.

【0056】次いで、支持体上に導電体層2を形成して
いないセラミックシート10aを複数枚積層して無効層
を形成した後、この上に導電体層2をベースフィルム1
5ごと導電体層2がセラミックシート10bと直接接触
するように積層後、厚み方向から加圧し、導電体層2と
セラミックシート10bとを接着させる。この加圧は室
温から導電体層2中の可塑剤が飛散しすぎないような温
度(本実施の形態においては150℃)までの温度範囲
で行うことが望ましい。その理由は、可塑剤が飛散しす
ぎると導電体層2が硬く、脆くなり、セラミックシート
10bと導電体層2間の接着力が低下し、積層時や焼成
時に構造欠陥が発生するからである。従って上記温度範
囲で行うことにより、導電体層2に含まれるバインダ成
分や可塑剤成分を軟化させ、導電体層2とセラミックシ
ート10bとの接着性を向上させることができる。
Next, a plurality of ceramic sheets 10a on which the conductor layer 2 is not formed are laminated on the support to form an ineffective layer.
After laminating the conductor layer 2 so as to make direct contact with the ceramic sheet 10b, pressure is applied from the thickness direction to adhere the conductor layer 2 and the ceramic sheet 10b. This pressurization is desirably performed in a temperature range from room temperature to a temperature (150 ° C. in the present embodiment) at which the plasticizer in the conductor layer 2 does not scatter too much. The reason is that if the plasticizer is scattered too much, the conductor layer 2 becomes hard and brittle, the adhesive force between the ceramic sheet 10b and the conductor layer 2 decreases, and structural defects occur during lamination or firing. . Therefore, by performing the heat treatment in the above temperature range, the binder component and the plasticizer component contained in the conductor layer 2 can be softened, and the adhesion between the conductor layer 2 and the ceramic sheet 10b can be improved.

【0057】また、導電体層2中の可塑剤及びバインダ
の含有率が低い場合には加圧時に温度を上げることによ
り、可塑剤及びバインダを活性化させて導電体層2とセ
ラミックシート10bとの接着性を向上させる。一方含
有率が高い場合には室温でも導電体層2とセラミックシ
ート10bの接着性は十分得ることができるので加熱す
る必要はない。つまり導電体層2中の有機成分の種類と
含有率に応じて加熱温度を調整することが好ましい。
When the contents of the plasticizer and the binder in the conductive layer 2 are low, the plasticizer and the binder are activated by increasing the temperature at the time of pressurization, so that the conductive layer 2 and the ceramic sheet 10b are joined together. Improve the adhesiveness of On the other hand, when the content is high, the adhesiveness between the conductor layer 2 and the ceramic sheet 10b can be sufficiently obtained even at room temperature, so that it is not necessary to heat. That is, it is preferable to adjust the heating temperature according to the type and content of the organic component in the conductor layer 2.

【0058】次いで、ベースフィルム15を離型し、セ
ラミックシート10bを導電体層2の上に積層する。そ
の後、再びベースフィルム15ごと導電体層2をセラミ
ックシート10b上に積層して上記条件が加圧する。こ
のセラミックシート10bと導電体層2との積層を所望
の回数繰り返し行い、仮積層体を得る。この後実施の形
態1と同様にして有効層が150層の積層セラミックコ
ンデンサを作製する。
Next, the base film 15 is released, and the ceramic sheet 10 b is laminated on the conductor layer 2. Thereafter, the conductor layer 2 together with the base film 15 is again laminated on the ceramic sheet 10b, and the above conditions are applied. The lamination of the ceramic sheet 10b and the conductor layer 2 is repeated a desired number of times to obtain a temporary laminate. Thereafter, a multilayer ceramic capacitor having 150 effective layers is manufactured in the same manner as in the first embodiment.

【0059】(表4)は、積層セラミックコンデンサの
ショート率について、本実施の形態品と従来品4と比較
して示しているものてある。
Table 4 shows the short-circuit rate of the multilayer ceramic capacitor in comparison with the product of the present embodiment and the conventional product 4.

【0060】[0060]

【表4】 [Table 4]

【0061】従来品4とは、空隙率を減少させていない
セラミックシート10aを用いて実施の形態2に示す用
法で作製したものである。(表4)から明らかなよう
に、従来品4と比較すると本実施の形態品はショート率
が減少していることがわかる。さらには、実施の形態2
と比較してもショート率が低いことがわかる。これは空
隙率を減少させた上に、セラミックシート10b上に乾
燥後に導電体層2が転写されただけでなく導電体層2の
表面の凹凸を低減させてから転写するため、セラミック
シート10bの導電体層2の凸部が突き刺さることによ
るセラミックシート10b中への金属成分の侵入をさら
に抑制することができるためである。
The conventional product 4 is manufactured by using the ceramic sheet 10a whose porosity is not reduced by the method described in the second embodiment. As is clear from Table 4, the short-circuit rate of the product of the present embodiment is smaller than that of the conventional product 4. Further, Embodiment 2
It can be seen that the short-circuit rate is low even when compared with. This is because not only the porosity is reduced, but also the conductor layer 2 is transferred after drying on the ceramic sheet 10b as well as the surface of the conductor layer 2 is transferred after reducing the unevenness. This is because the penetration of the metal component into the ceramic sheet 10b due to the protrusion of the conductor layer 2 piercing can be further suppressed.

【0062】このことから、本実施の形態によれば金属
成分のセラミックシート10bへの侵入を実施の形態2
よりもさらに抑制し、導電体層2間のショートを激減さ
せ、歩留まりを大幅に改善することができる。
From this, according to the present embodiment, the penetration of the metal component into the ceramic sheet 10b is prevented according to the second embodiment.
It is possible to further reduce the short-circuit between the conductor layers 2 and significantly improve the yield.

【0063】なお、積層体の形成方法は本実施の形態2
に示したようにセラミックシート10bと導電体層2と
交互に積層することにより行っても構わないし、実施の
形態3のように導電体層2付きセラミックシート10b
を作製し、これを積層することにより行っても構わな
い。いずれの場合もそれぞれ実施の形態2,3の効果は
もちろんのこと、さらにショート不良を低減することが
できる。
The method of forming the laminate is described in the second embodiment.
May be performed by alternately laminating the ceramic sheet 10b and the conductor layer 2 as shown in FIG. 7, or the ceramic sheet 10b with the conductor layer 2 as in the third embodiment.
May be formed and laminated. In any case, not only the effects of the second and third embodiments but also the short-circuit failure can be reduced.

【0064】以下、本発明のポイントについて記載す
る。
Hereinafter, the points of the present invention will be described.

【0065】(1)本発明は空隙率を減少させる前のセ
ラミックシート10aの空隙率が50%以上のものにつ
いて特に顕著な効果を有するものである。
(1) The present invention has a particularly remarkable effect when the porosity of the ceramic sheet 10a before the porosity reduction is 50% or more.

【0066】(2)上記各実施の形態のようにセラミッ
クシート10a,10b中にポリエチレンを含む場合、
加熱せずに空隙率を減少させた後長時間放置すると、空
気がセラミックシート10b中に入り込み空隙率が高く
なってくるので、加熱せずに空隙率を減少させた場合
は、積層体の製造を速やかに行うことが好ましい。また
加熱する場合は、ポリエチレンが塑性変形するため長時
間放置したとしても、空隙率が大きく変化することはな
い。
(2) When polyethylene is contained in the ceramic sheets 10a and 10b as in the above embodiments,
If the porosity is reduced without heating, if the porosity is reduced without heating, if the porosity is reduced without heating, the air enters into the ceramic sheet 10b and increases the porosity. It is preferred to carry out immediately. When heating, the porosity does not change significantly even if the polyethylene is left for a long time because the polyethylene is plastically deformed.

【0067】(3)セラミックシート10aの空隙率を
減少させることにより弾性率が向上し、製造工程におい
てセラミックシート10bの伸びを防止することができ
る。
(3) The elasticity is improved by reducing the porosity of the ceramic sheet 10a, and the elongation of the ceramic sheet 10b can be prevented in the manufacturing process.

【0068】(4)セラミックシート10aの空隙率を
減少させるためにセラミックシート10aの厚み方向に
加圧すると、セラミックシート10bの導電体層2の形
成面の凹凸を低減することができる。したがって、セラ
ミックシート10b上への導電体層2の形成を容易に行
うことができる。
(4) When pressure is applied in the thickness direction of the ceramic sheet 10a in order to reduce the porosity of the ceramic sheet 10a, the unevenness of the surface of the ceramic sheet 10b on which the conductor layer 2 is formed can be reduced. Therefore, it is possible to easily form the conductor layer 2 on the ceramic sheet 10b.

【0069】(5)セラミックシート10aの空隙率を
減少させるときに加圧と有機物のガラス転移点以上融点
未満での加熱とを行う場合は、同時か加圧を先に行うこ
とが望ましい。特にポリエチレンを用いたセラミックシ
ート10aの空隙率を減少させる場合、加圧と加熱とは
同時あるいは加圧を先に行う必要がある。その理由は、
無加圧の状態でポリエチレンのガラス転移点以上融点未
満の温度で加熱すると、ポリエチレンが収縮し、セラミ
ックシート10a,10bの幅方向に収縮するため、し
わが発生したりして均一な厚みセラミックシート10b
を得ることができないからである。
(5) When pressurization and heating at a temperature equal to or higher than the glass transition point of the organic substance and lower than the melting point are performed when reducing the porosity of the ceramic sheet 10a, it is desirable to perform the pressurization simultaneously or first. In particular, when reducing the porosity of the ceramic sheet 10a using polyethylene, it is necessary to perform the pressing and the heating simultaneously or first. The reason is,
When heated at a temperature higher than the glass transition point of the polyethylene and less than the melting point in the absence of pressure, the polyethylene shrinks and shrinks in the width direction of the ceramic sheets 10a and 10b, so that wrinkles are generated and the ceramic sheet having a uniform thickness. 10b
Because you cannot get

【0070】(6)空隙率を減少させたセラミックシー
ト10bの空隙率50%未満となるようにすることによ
り、導電体層2中の金属成分がセラミックシート10b
内部への侵入抑制効果が顕著である。しかしながら空隙
率が低すぎても仮積層体、積層体形成時に導電体層2の
形成部分と非形成部分との段差を吸収することができず
構造欠陥を発生するので、セラミックシート10bの空
隙率は10%〜40%とすることが望ましい。
(6) By setting the porosity of the ceramic sheet 10b having a reduced porosity to be less than 50%, the metal component in the conductor layer 2 is reduced to a value less than 50%.
The effect of suppressing intrusion into the inside is remarkable. However, even if the porosity is too low, it is not possible to absorb the step between the portion where the conductor layer 2 is formed and the portion where the conductor layer 2 is not formed when forming the temporary laminate and the laminate, and a structural defect is generated. Is desirably 10% to 40%.

【0071】(7)空隙率を減少させたセラミックシー
ト10bを作製するときの加圧力は、仮積層体全体を加
圧する時の加圧力以下、好ましくは仮積層体の加圧力よ
り小さくすることが望ましい。その理由は、仮積層体を
作製する前のセラミックシート10bの空隙率が低くな
りすぎると、導電体層2の形成部分の非形成部分との段
差を吸収することかできず、構造欠陥を発生するからで
ある。
(7) The pressing force for producing the ceramic sheet 10b with reduced porosity is not more than the pressing force for pressing the entire temporary laminate, preferably smaller than the pressing force for the temporary laminate. desirable. The reason is that if the porosity of the ceramic sheet 10b before producing the temporary laminate becomes too low, it is not possible to absorb the step between the portion where the conductor layer 2 is formed and the portion where the conductor layer 2 is not formed, and a structural defect occurs. Because you do.

【0072】(8)有機物バインダを含んだセラミック
シート10a,10bを用いて仮積層体を得るまでの工
程で加熱処理をする場合、有機物バインダのガラス転移
点以上融点未満の温度範囲で熱処理することにより、ポ
リエチレンの流動性が向上し、熱処理効果が顕著にな
る。
(8) In the case where heat treatment is performed in a process until a temporary laminate is obtained using the ceramic sheets 10a and 10b containing an organic binder, heat treatment is performed in a temperature range from the glass transition point of the organic binder to the melting point. Thereby, the fluidity of the polyethylene is improved, and the heat treatment effect becomes remarkable.

【0073】(9)上記格実施の形態においては積層セ
ラミックコンデンサについて説明したが、積層バリス
タ、積層サーミスタ、積層コイル、セラミック多層基板
などセラミックシートと導電体層とを積層して形成する
セラミック電子部品においては同様の効果が得られるも
のである。
(9) In the above embodiments, the multilayer ceramic capacitor has been described, but a ceramic electronic component formed by laminating a ceramic sheet and a conductor layer such as a multilayer varistor, a multilayer thermistor, a multilayer coil, and a ceramic multilayer substrate. Has the same effect.

【0074】[0074]

【発明の効果】以上本発明によると、セラミックシート
の空隙率を予め減少させることでセラミックシート中へ
の導電体層中の金属成分の侵入を最小限に抑制すること
ができるので、セラミック電子部品のショート不良の発
生を極端に抑え、歩留まりを向上させることができる。
特にセラミックシートが薄く、高積層が要求される積層
チップコンデンサの歩留まりの向上に対して絶大な効果
がある。
As described above, according to the present invention, the penetration of metal components in the conductor layer into the ceramic sheet can be suppressed to a minimum by previously reducing the porosity of the ceramic sheet. Is extremely suppressed, and the yield can be improved.
In particular, the ceramic sheet is thin, and has a great effect on the improvement of the yield of the multilayer chip capacitor which requires high lamination.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施の形態における空隙率を減少さ
せる前のセラミックシートの一部拡大断面図
FIG. 1 is a partially enlarged cross-sectional view of a ceramic sheet before a porosity is reduced according to an embodiment of the present invention.

【図2】本発明の一実施の形態における空隙率を減少さ
せた後のセラミックシートの一部拡大断面図
FIG. 2 is a partially enlarged cross-sectional view of a ceramic sheet after a porosity is reduced in one embodiment of the present invention.

【図3】図2に示すセラミックシートを得るための製造
工程を説明する断面図
FIG. 3 is a sectional view illustrating a manufacturing process for obtaining the ceramic sheet shown in FIG. 2;

【図4】本発明の一実施の形態における平滑処理前の導
電体層の断面図
FIG. 4 is a cross-sectional view of a conductor layer before a smoothing process according to one embodiment of the present invention.

【図5】本発明の一実施の形態における平滑処理後の導
電体層の断面図
FIG. 5 is a cross-sectional view of a conductor layer after a smoothing process according to one embodiment of the present invention.

【図6】図5に示す導電体層を得るための製造工程を説
明するための断面図
6 is a cross-sectional view for explaining a manufacturing process for obtaining the conductor layer shown in FIG.

【図7】一般的な積層セラミックコンデンサの一部断面
斜視図
FIG. 7 is a partial cross-sectional perspective view of a general multilayer ceramic capacitor.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 セラミック誘電体層 2 導電体層 3 外部電極 10a セラミックシート 10b セラミックシート 11 セラミック粒子 12 ポリエチレン 13 空隙 14a ロール 14b ロール 15 ベースフィルム 16a ロール 16b ロール DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Ceramic dielectric layer 2 Conductive layer 3 External electrode 10a Ceramic sheet 10b Ceramic sheet 11 Ceramic particles 12 Polyethylene 13 Void 14a Roll 14b Roll 15 Base film 16a Roll 16b Roll

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 倉光 秀紀 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 Fターム(参考) 5E082 AB03 BC36 EE04 EE35 FG06 FG26 FG54 LL01 MM22 PP06 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuing on the front page (72) Inventor Hideki Kuramitsu 1006 Kazuma Kadoma, Kadoma City, Osaka Prefecture Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. F term (reference) 5E082 AB03 BC36 EE04 EE35 FG06 FG26 FG54 LL01 MM22 PP06

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 セラミック粉末と有機物とを含有するセ
ラミックシートを加圧および前記有機物のガラス転移点
以上融点未満に加熱し空隙率を減少させる第1工程と、
次にこのセラミックシート上に金属ペーストを用いて導
電体層を形成する第2工程と、次いでこの導電体層を形
成したセラミックシートを前記導電体層が前記セラミッ
クシートを挟んで対向するように複数枚積層して積層体
を得る第3の工程と、この積層体を焼成する第4工程と
を有するセラミック電子部品の製造方法。
A first step of pressing a ceramic sheet containing a ceramic powder and an organic substance and heating the ceramic sheet to a temperature equal to or higher than the glass transition point of the organic substance and lower than its melting point to reduce the porosity;
Next, a second step of forming a conductor layer on the ceramic sheet using a metal paste, and then forming a plurality of ceramic sheets on which the conductor layer is formed so that the conductor layers face each other with the ceramic sheet interposed therebetween. A method for manufacturing a ceramic electronic component, comprising: a third step of obtaining a laminate by stacking a plurality of sheets; and a fourth step of firing the laminate.
【請求項2】 セラミック粉末と有機物とを含有するセ
ラミックシートを加圧および前記有機物のガラス転移点
以上融点未満に加熱し空隙率を減少させる第1工程と、
また支持体上に金属ペーストを用いて導電体層を作製す
る第2工程と、次に前記セラミックシートと前記導電体
層とが交互に積層された積層体を作製する第3工程と、
この積層体を焼成する第4工程とを有するセラミック電
子部品の製造方法。
2. A first step of pressing a ceramic sheet containing a ceramic powder and an organic substance and heating the ceramic sheet to a temperature equal to or higher than the glass transition point of the organic substance and lower than its melting point to reduce the porosity;
A second step of forming a conductor layer using a metal paste on the support; and a third step of forming a laminate in which the ceramic sheet and the conductor layer are alternately laminated, and
And a fourth step of firing the laminated body.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN100351208C (en) * 2005-09-01 2007-11-28 陕西科技大学 Ceramic parts quick making method

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