JP2002307001A - レジスト塗布方法及び装置 - Google Patents
レジスト塗布方法及び装置Info
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- JP2002307001A JP2002307001A JP2001112092A JP2001112092A JP2002307001A JP 2002307001 A JP2002307001 A JP 2002307001A JP 2001112092 A JP2001112092 A JP 2001112092A JP 2001112092 A JP2001112092 A JP 2001112092A JP 2002307001 A JP2002307001 A JP 2002307001A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 従来のレジスト塗布装置では、レジストを過
剰に供給しなければならずレジストの利用効率が悪かっ
た。また、レジストがウエハ裏面側へ回り込むためリン
ス液による洗浄が不可欠であり廃液処理にかかる費用を
増加させていた。 【解決手段】 本発明のレジスト塗布装置１０１は、ウ
エハ２のレジスト塗布予定面２ａを下向けて保持し、表
面張力により盛り上がった付着用のレジスト６と接触さ
せレジスト塗布予定面２ａに複数の異なる半径の同心状
にレジスト６を付着させ、その後、レジスト塗布予定面
２ａと付着用のレジスト６とを離間させ、ウエハ２を回
転させてレジスト塗布予定面２ａに付着したレジストを
広げる。
剰に供給しなければならずレジストの利用効率が悪かっ
た。また、レジストがウエハ裏面側へ回り込むためリン
ス液による洗浄が不可欠であり廃液処理にかかる費用を
増加させていた。 【解決手段】 本発明のレジスト塗布装置１０１は、ウ
エハ２のレジスト塗布予定面２ａを下向けて保持し、表
面張力により盛り上がった付着用のレジスト６と接触さ
せレジスト塗布予定面２ａに複数の異なる半径の同心状
にレジスト６を付着させ、その後、レジスト塗布予定面
２ａと付着用のレジスト６とを離間させ、ウエハ２を回
転させてレジスト塗布予定面２ａに付着したレジストを
広げる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体装置の製造
工程においてウエハにレジストを回転塗布する方法及び
装置に関する。
工程においてウエハにレジストを回転塗布する方法及び
装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体装置の製造工程においては、ウエ
ハにレジストを塗布し露光、現像してレジストパターン
を得る処理が繰り返される。一般にレジストの塗布には
ウエハの中央部上空からウエハ上にレジストを滴下しつ
つ高速回転させ遠心力を利用した回転塗布方式の塗布装
置が使用される。従来のレジスト塗布装置の一例を断面
図として示す図６を用いて説明する。レジスト塗布装置
１は、主に、ウエハ２のレジスト塗布予定面２ａ（以
降、ウエハ表面２ａと呼ぶ）を上向きにしてウエハ２を
吸着保持するチャック部３と、チャック部３を回転軸４
周りに高速回転させる回転駆動部５と、ウエハ２の中央
部上空に配設されウエハ表面２ａ上にレジスト６を滴下
するレジストノズル７と、ウエハ２周辺を覆いウエハ２
の回転により生じる遠心力で飛散するレジスト６の飛沫
を付着させるカップ８と、ウエハ裏面２ｂ側の下方に配
設されウエハ裏面２ｂ側に回り込んだレジスト６を洗い
流すリンス液９を噴射するリンスノズル１０と、飛散し
たレジスト６やリンス液９を排出する排液口１１とで構
成されている。
ハにレジストを塗布し露光、現像してレジストパターン
を得る処理が繰り返される。一般にレジストの塗布には
ウエハの中央部上空からウエハ上にレジストを滴下しつ
つ高速回転させ遠心力を利用した回転塗布方式の塗布装
置が使用される。従来のレジスト塗布装置の一例を断面
図として示す図６を用いて説明する。レジスト塗布装置
１は、主に、ウエハ２のレジスト塗布予定面２ａ（以
降、ウエハ表面２ａと呼ぶ）を上向きにしてウエハ２を
吸着保持するチャック部３と、チャック部３を回転軸４
周りに高速回転させる回転駆動部５と、ウエハ２の中央
部上空に配設されウエハ表面２ａ上にレジスト６を滴下
するレジストノズル７と、ウエハ２周辺を覆いウエハ２
の回転により生じる遠心力で飛散するレジスト６の飛沫
を付着させるカップ８と、ウエハ裏面２ｂ側の下方に配
設されウエハ裏面２ｂ側に回り込んだレジスト６を洗い
流すリンス液９を噴射するリンスノズル１０と、飛散し
たレジスト６やリンス液９を排出する排液口１１とで構
成されている。
【０００３】このレジスト塗布装置１でウエハ表面２ａ
にレジスト６を塗布する方法は、先ずチャック部３がウ
エハ表面２ａを上向きにしてウエハ２を吸着保持し、レ
ジストノズル７からレジスト６をウエハ表面２ａ上に滴
下しつつ回転駆動部５を作動しチャック部３を回転軸４
周りに高速回転させる。この高速回転によって生じる遠
心力を利用してウエハ２の中央部に滴下されたレジスト
６をウエハ表面２ａ全面に広げるのである。尚、この
際、余分なレジスト６は遠心力で飛沫となってウエハ２
の外に飛散しウエハ２の周囲を覆うカップ８に付着す
る。また、ウエハ裏面２ｂ側に回り込むレジスト６はリ
ンスノズル１０から吐出されるリンス液９で洗浄され、
レジスト６の飛沫やリンス液９は排液口１１から排出さ
れる。また、レジスト塗布直後の塗布厚の均一性につい
ては遠心力を利用するためウエハ２の同心円上での塗布
厚は均一になりやすいが、レジスト６の供給が中央１点
であるためウエハ２の中央部と周縁部とでは例えば断面
図として示す図７のように塗布厚に差が生じる虞があっ
た。この傾向はウエハサイズ（半径）が大きく成ればな
るほど強くなった。
にレジスト６を塗布する方法は、先ずチャック部３がウ
エハ表面２ａを上向きにしてウエハ２を吸着保持し、レ
ジストノズル７からレジスト６をウエハ表面２ａ上に滴
下しつつ回転駆動部５を作動しチャック部３を回転軸４
周りに高速回転させる。この高速回転によって生じる遠
心力を利用してウエハ２の中央部に滴下されたレジスト
６をウエハ表面２ａ全面に広げるのである。尚、この
際、余分なレジスト６は遠心力で飛沫となってウエハ２
の外に飛散しウエハ２の周囲を覆うカップ８に付着す
る。また、ウエハ裏面２ｂ側に回り込むレジスト６はリ
ンスノズル１０から吐出されるリンス液９で洗浄され、
レジスト６の飛沫やリンス液９は排液口１１から排出さ
れる。また、レジスト塗布直後の塗布厚の均一性につい
ては遠心力を利用するためウエハ２の同心円上での塗布
厚は均一になりやすいが、レジスト６の供給が中央１点
であるためウエハ２の中央部と周縁部とでは例えば断面
図として示す図７のように塗布厚に差が生じる虞があっ
た。この傾向はウエハサイズ（半径）が大きく成ればな
るほど強くなった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】上述したようなレジス
ト塗布装置では、レジストの供給が中央１点であるため
ウエハ中心から最も遠いウエハの周縁部までレジスト不
足やムラが生じないようにしようとすると、ウエハをか
なり高速で回転させたり、実際にウエハ上に塗布される
量より過剰のレジストを供給してやる必要があり、この
結果、レジストの飛沫は多くなった。また、これらの動
作をウエハのレジスト塗布予定面を上向きにしてやるた
めレジストがウエハ裏面側へ回り込みやすくなりリンス
による洗浄が不可欠のものとなっていた。そのため、レ
ジスト飛沫に加えてリンスの廃液も生じ廃液処理にかか
る費用を増加させていた。また、ウエハサイズが大きく
なるとウエハの中央部と周縁部での塗布厚の差が大きく
なる虞があった。
ト塗布装置では、レジストの供給が中央１点であるため
ウエハ中心から最も遠いウエハの周縁部までレジスト不
足やムラが生じないようにしようとすると、ウエハをか
なり高速で回転させたり、実際にウエハ上に塗布される
量より過剰のレジストを供給してやる必要があり、この
結果、レジストの飛沫は多くなった。また、これらの動
作をウエハのレジスト塗布予定面を上向きにしてやるた
めレジストがウエハ裏面側へ回り込みやすくなりリンス
による洗浄が不可欠のものとなっていた。そのため、レ
ジスト飛沫に加えてリンスの廃液も生じ廃液処理にかか
る費用を増加させていた。また、ウエハサイズが大きく
なるとウエハの中央部と周縁部での塗布厚の差が大きく
なる虞があった。
【０００５】本発明の目的は、過剰なレジストの供給を
低減しレジストの利用効率を上げかつ、ウエハ裏面側へ
のレジストの回り込みを少なくすることでリンスの廃液
量を低減すると共に均一な塗布厚を得られるようにする
ことである。
低減しレジストの利用効率を上げかつ、ウエハ裏面側へ
のレジストの回り込みを少なくすることでリンスの廃液
量を低減すると共に均一な塗布厚を得られるようにする
ことである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は上記課題を解決
するために提案されたもので、ウエハのレジスト塗布予
定面にレジストを回転塗布する方法であって、予め、ウ
エハのレジスト塗布予定面と表面張力で盛り上がった付
着用のレジストとを接触させ、ウエハのレジスト塗布予
定面上にレジストを複数の異なる半径の同心状に付着さ
せ、その後、レジスト塗布予定面と付着用のレジストと
を離間しウエハを回転させ付着したレジストを広げるこ
とを特徴とするレジスト塗布方法である。上記塗布方法
において好適するものとして、ウエハのレジスト塗布予
定面にレジストを回転塗布する装置であって、ウエハを
吸着保持するチャック部と、吸着保持されたウエハのレ
ジスト塗布予定面に対向して配設され付着用のレジスト
を表面張力により盛り上がらせる複数の開口部を有する
レジスト塗布部と、ウエハのレジスト塗布予定面と付着
用のレジストとを接触させたり離間させたりする昇降機
構と、チャック部を回転軸周りに回転させる回転数可変
の第１の回転駆動部と、レジスト塗布部に配管で連結さ
れレジスト塗布部にレジストを供給するレジスト供給部
と、レジスト供給部とレジスト塗布部との間に介在して
供給するレジストの量を制御するレジスト量制御部と、
ウエハ周辺を覆い飛散するレジストの飛沫を付着させる
カップと、カップに付着したレジストを排出する排液口
とで構成されたことを特徴とするレジスト塗布装置を提
供する。
するために提案されたもので、ウエハのレジスト塗布予
定面にレジストを回転塗布する方法であって、予め、ウ
エハのレジスト塗布予定面と表面張力で盛り上がった付
着用のレジストとを接触させ、ウエハのレジスト塗布予
定面上にレジストを複数の異なる半径の同心状に付着さ
せ、その後、レジスト塗布予定面と付着用のレジストと
を離間しウエハを回転させ付着したレジストを広げるこ
とを特徴とするレジスト塗布方法である。上記塗布方法
において好適するものとして、ウエハのレジスト塗布予
定面にレジストを回転塗布する装置であって、ウエハを
吸着保持するチャック部と、吸着保持されたウエハのレ
ジスト塗布予定面に対向して配設され付着用のレジスト
を表面張力により盛り上がらせる複数の開口部を有する
レジスト塗布部と、ウエハのレジスト塗布予定面と付着
用のレジストとを接触させたり離間させたりする昇降機
構と、チャック部を回転軸周りに回転させる回転数可変
の第１の回転駆動部と、レジスト塗布部に配管で連結さ
れレジスト塗布部にレジストを供給するレジスト供給部
と、レジスト供給部とレジスト塗布部との間に介在して
供給するレジストの量を制御するレジスト量制御部と、
ウエハ周辺を覆い飛散するレジストの飛沫を付着させる
カップと、カップに付着したレジストを排出する排液口
とで構成されたことを特徴とするレジスト塗布装置を提
供する。
【０００７】
【発明の実施の形態】本発明のレジスト塗布装置は、ウ
エハのレジスト塗布予定面にレジストを回転塗布する装
置であって、ウエハを吸着保持するチャック部と、吸着
保持されたウエハのレジスト塗布予定面に対向して配設
され付着用のレジストを表面張力により盛り上がらせる
複数の開口部を有するレジスト塗布部と、ウエハのレジ
スト塗布予定面と付着用のレジストとを接触させたり離
間させたりする昇降機構と、チャック部を回転軸周りに
回転させる回転数可変の第１の回転駆動部と、レジスト
塗布部に配管で連結されレジスト塗布部にレジストを供
給するレジスト供給部と、レジスト供給部とレジスト塗
布部との間に介在して供給するレジストの量を制御する
レジスト量制御部と、ウエハ周辺を覆い飛散するレジス
トの飛沫を付着させるカップと、カップに付着したレジ
ストを排出する排液口とを備える。
エハのレジスト塗布予定面にレジストを回転塗布する装
置であって、ウエハを吸着保持するチャック部と、吸着
保持されたウエハのレジスト塗布予定面に対向して配設
され付着用のレジストを表面張力により盛り上がらせる
複数の開口部を有するレジスト塗布部と、ウエハのレジ
スト塗布予定面と付着用のレジストとを接触させたり離
間させたりする昇降機構と、チャック部を回転軸周りに
回転させる回転数可変の第１の回転駆動部と、レジスト
塗布部に配管で連結されレジスト塗布部にレジストを供
給するレジスト供給部と、レジスト供給部とレジスト塗
布部との間に介在して供給するレジストの量を制御する
レジスト量制御部と、ウエハ周辺を覆い飛散するレジス
トの飛沫を付着させるカップと、カップに付着したレジ
ストを排出する排液口とを備える。
【０００８】ウエハをチャック部で吸着保持するときの
上下向きとしては次の２通りがあり、いずれでもよい。
チャック部がウエハのレジスト塗布予定面（以降、単に
ウエハ表面と呼ぶ）を上向けて吸着保持する構成の場合
は、対向するレジスト塗布部は開口部を下方に向けてレ
ジストを下向けに盛り上がらせるレジスト塗布部とし、
反対にチャック部がウエハ表面を下向けて吸着保持する
構成の場合は、対向するレジスト塗布部は開口部を上方
に向けてレジストを上向けに盛り上がらせるレジスト塗
布部とする。ウエハ表面と付着用のレジストとを接触さ
せたり離間させたりする昇降機構としては、ウエハのチ
ャック部側を固定とし、レジスト塗布部側を昇降可能と
してもよく、反対にウエハのチャック部側を昇降可能と
してレジスト塗布部側を固定としてもよい。また、レジ
スト塗布部が有する複数の開口部の形状や個数は特に限
定するものではないが、例えば開口部の形状を複数の異
なる半径の同心状としておくと昇降機構を用いてウエハ
表面と開口部から盛り上がったレジストとを接触させる
ことで所望の形状のレジスト付着部分が得られる。ま
た、他の例として、開口部の形状をウエハの半径方向に
並べた複数の小穴とし、昇降機構を用いてウエハ表面と
小穴から盛り上がったレジストとを接触させ、両者を接
触させた状態で一方を他方に対して低速で回転運動させ
る第２の回転駆動部を配設することで、同様の複数の異
なる半径の同心状のレジスト付着部分を得られる。第２
の回転駆動部はレジスト塗布部側に連結しレジスト塗布
部側を回転可能としてもよいし、チャック部側に連結し
チャック部側を回転可能としてもよい。また、この第２
の回転駆動部は回転数可変とした第１の回転駆動部に兼
ねさせることも可能である。また、複数の各開口部は末
端で連通し共通のレジスト量制御部を介して共通のレジ
スト供給部に連結する構成としてもよいが、それぞれ別
々のレジスト量制御部に連結し個別にレジストの供給量
を制御可能とする構成とする方が望ましい。第１の駆動
部によりウエハを高速回転させウエハ表面に付着したレ
ジストを遠心力を利用してウエハ表面の全面に広げると
き、ウエハ表面を下向けて高速回転させるとウエハ裏面
側へのレジストの回り込みがなくリンス液による洗浄が
不要となり好適である。ウエハをチャック部で吸着保持
するときの上下向きとして上述した２通りの内、チャッ
ク部がウエハ表面を上向けて吸着保持する構成の場合
は、チャック部に表裏反転機能を備えさせてレジストの
付着が完了した時点で表裏反転し高速回転するようにす
ればよい。尚、ウエハ表面を下向けて回転させる方が望
ましいが、ウエハ表面を上向けたまま高速回転させた場
合でも、従来の中央１点供給式に比較して複数の付着部
分を有しかつ、各付着部分ごとに付着量が制御可能であ
るためレジストの供給量は必要最小限に減らすことがで
きるし、また、従来のレジストの中央１点供給式では中
央部に供給したレジストをウエハ周縁部（ウエハ半径の
距離）に広げる必要があったため高い回転数を必要とし
たが、複数の異なる半径位置からレジストを広げるため
レジストがウエハ上を流れる距離は短くて済みその分、
回転数を下げることも可能となり飛沫の発生を減らせ
る。
上下向きとしては次の２通りがあり、いずれでもよい。
チャック部がウエハのレジスト塗布予定面（以降、単に
ウエハ表面と呼ぶ）を上向けて吸着保持する構成の場合
は、対向するレジスト塗布部は開口部を下方に向けてレ
ジストを下向けに盛り上がらせるレジスト塗布部とし、
反対にチャック部がウエハ表面を下向けて吸着保持する
構成の場合は、対向するレジスト塗布部は開口部を上方
に向けてレジストを上向けに盛り上がらせるレジスト塗
布部とする。ウエハ表面と付着用のレジストとを接触さ
せたり離間させたりする昇降機構としては、ウエハのチ
ャック部側を固定とし、レジスト塗布部側を昇降可能と
してもよく、反対にウエハのチャック部側を昇降可能と
してレジスト塗布部側を固定としてもよい。また、レジ
スト塗布部が有する複数の開口部の形状や個数は特に限
定するものではないが、例えば開口部の形状を複数の異
なる半径の同心状としておくと昇降機構を用いてウエハ
表面と開口部から盛り上がったレジストとを接触させる
ことで所望の形状のレジスト付着部分が得られる。ま
た、他の例として、開口部の形状をウエハの半径方向に
並べた複数の小穴とし、昇降機構を用いてウエハ表面と
小穴から盛り上がったレジストとを接触させ、両者を接
触させた状態で一方を他方に対して低速で回転運動させ
る第２の回転駆動部を配設することで、同様の複数の異
なる半径の同心状のレジスト付着部分を得られる。第２
の回転駆動部はレジスト塗布部側に連結しレジスト塗布
部側を回転可能としてもよいし、チャック部側に連結し
チャック部側を回転可能としてもよい。また、この第２
の回転駆動部は回転数可変とした第１の回転駆動部に兼
ねさせることも可能である。また、複数の各開口部は末
端で連通し共通のレジスト量制御部を介して共通のレジ
スト供給部に連結する構成としてもよいが、それぞれ別
々のレジスト量制御部に連結し個別にレジストの供給量
を制御可能とする構成とする方が望ましい。第１の駆動
部によりウエハを高速回転させウエハ表面に付着したレ
ジストを遠心力を利用してウエハ表面の全面に広げると
き、ウエハ表面を下向けて高速回転させるとウエハ裏面
側へのレジストの回り込みがなくリンス液による洗浄が
不要となり好適である。ウエハをチャック部で吸着保持
するときの上下向きとして上述した２通りの内、チャッ
ク部がウエハ表面を上向けて吸着保持する構成の場合
は、チャック部に表裏反転機能を備えさせてレジストの
付着が完了した時点で表裏反転し高速回転するようにす
ればよい。尚、ウエハ表面を下向けて回転させる方が望
ましいが、ウエハ表面を上向けたまま高速回転させた場
合でも、従来の中央１点供給式に比較して複数の付着部
分を有しかつ、各付着部分ごとに付着量が制御可能であ
るためレジストの供給量は必要最小限に減らすことがで
きるし、また、従来のレジストの中央１点供給式では中
央部に供給したレジストをウエハ周縁部（ウエハ半径の
距離）に広げる必要があったため高い回転数を必要とし
たが、複数の異なる半径位置からレジストを広げるため
レジストがウエハ上を流れる距離は短くて済みその分、
回転数を下げることも可能となり飛沫の発生を減らせ
る。
【０００９】
【実施例１】本発明のレジスト塗布装置の一実施例の構
成を斜視図として示す図１を用いて説明する。図６と同
一部分には同一符号を用いて説明を省略する。レジスト
塗布装置１０１は、ウエハ２をウエハ２のレジスト塗布
予定面２ａ（以降ウエハ表面２ａと呼ぶ）を下向きにし
て吸着保持するチャック部１０２と、吸着保持されたウ
エハ表面２ａに対向して配設され付着用のレジスト６を
表面張力により上向きに盛り上がらせる複数の異なる半
径の同心状の開口部１０３を有するレジスト塗布部１０
４と、ウエハ表面２ａと付着用のレジスト６とを接触さ
せたり離間させたりしてウエハ表面２ａにレジスト６を
付着させる昇降機構１０５と、チャック部１０２を回転
軸１０６周りに回転させる回転数可変の第１の回転駆動
部１０７と、レジスト塗布部１０４に配管系１０８で連
結されレジスト塗布部１０４にレジスト６を供給するレ
ジスト供給部１０９と、レジスト供給部１０９とレジス
ト塗布部１０４との間に介在して供給するレジスト６の
量を所定の圧力を加えて制御するレジスト量制御部１１
０と、ウエハ２周辺を覆い飛散するレジスト６の飛沫を
付着させるカップ１１１と、カップ１１１に付着したレ
ジスト６を排出する排液口１１２とで構成されている。
成を斜視図として示す図１を用いて説明する。図６と同
一部分には同一符号を用いて説明を省略する。レジスト
塗布装置１０１は、ウエハ２をウエハ２のレジスト塗布
予定面２ａ（以降ウエハ表面２ａと呼ぶ）を下向きにし
て吸着保持するチャック部１０２と、吸着保持されたウ
エハ表面２ａに対向して配設され付着用のレジスト６を
表面張力により上向きに盛り上がらせる複数の異なる半
径の同心状の開口部１０３を有するレジスト塗布部１０
４と、ウエハ表面２ａと付着用のレジスト６とを接触さ
せたり離間させたりしてウエハ表面２ａにレジスト６を
付着させる昇降機構１０５と、チャック部１０２を回転
軸１０６周りに回転させる回転数可変の第１の回転駆動
部１０７と、レジスト塗布部１０４に配管系１０８で連
結されレジスト塗布部１０４にレジスト６を供給するレ
ジスト供給部１０９と、レジスト供給部１０９とレジス
ト塗布部１０４との間に介在して供給するレジスト６の
量を所定の圧力を加えて制御するレジスト量制御部１１
０と、ウエハ２周辺を覆い飛散するレジスト６の飛沫を
付着させるカップ１１１と、カップ１１１に付着したレ
ジスト６を排出する排液口１１２とで構成されている。
【００１０】次に、レジスト塗布装置１０１の動作につ
いて説明する。先ずウエハ表面２ａを下向きにしてチャ
ック部１０２でウエハ２を吸着保持する。このとき、下
方に配設したレジスト塗布部１０４の開口部１０３には
レジスト６が表面張力により上向きに盛り上がった状態
になっている。次に、昇降機構１０５を作動させウエハ
表面２ａを開口部１０３から盛り上がったレジスト６に
接触する高さまで降下させる。ウエハ表面２ａがレジス
ト６面と接触したら、レジスト量制御部１１０は所定の
圧力を加え開口部１０３に所望量のレジスト６を供給す
る。この場合、各開口部１０３は、それぞれ個別のレジ
スト量制御部１１０に連結されており個別に制御可能と
なっている。このようにしてウエハ表面２ａに図２
（ａ）に示すような異なる半径の同心状のレジスト付着
部分が得られたら、昇降機構１０５を作動させウエハ２
とレジスト塗布部１０４とを離間する。レジスト量制御
部１１０は常にレジスト供給部１０９からレジスト塗布
部１０４にレジスト６を供給し、開口部１０３から一定
量のレジスト６が盛り上がる状態を維持する。ウエハ２
とレジスト塗布部１０４とが離間しウエハ２が所定の高
さに達したら第１の回転駆動部１０７を作動させウエハ
表面２ａを下向きにした状態でウエハ２を回転軸１０６
周りに高速回転させる。この高速回転により異なる半径
の同心状に付着したレジスト６がウエハ表面２ａ全面に
広げられ塗布が完了する。この際、余分なレジスト６は
飛沫となって飛散しカップ１１１に付着し排液口１１２
から排出されるが、この量はレジスト６の付着量を制御
することで非常に少なくできる。また、ウエハ表面２ａ
を下向けた状態で高速回転させるためウエハ裏面２ｂ側
へのレジスト６の回り込みを防止できリンス液９による
洗浄の必要がなく廃液の量を大幅に低減できる。図２
（ａ）で示したレジスト６が遠心力によりウエハ表面２
ａに広がりつつある状態を図２（ｂ）に示し、図２
（ｂ）のＸ−Ｘ断面図を図２（ｃ）に示す。複数の異な
る半径上に同心状に付着したレジスト６が広がるため、
レジスト付着部からレジスト６が広がる終端までの距離
は短くて済みその分、塗布厚の差を減少させることがで
きる。
いて説明する。先ずウエハ表面２ａを下向きにしてチャ
ック部１０２でウエハ２を吸着保持する。このとき、下
方に配設したレジスト塗布部１０４の開口部１０３には
レジスト６が表面張力により上向きに盛り上がった状態
になっている。次に、昇降機構１０５を作動させウエハ
表面２ａを開口部１０３から盛り上がったレジスト６に
接触する高さまで降下させる。ウエハ表面２ａがレジス
ト６面と接触したら、レジスト量制御部１１０は所定の
圧力を加え開口部１０３に所望量のレジスト６を供給す
る。この場合、各開口部１０３は、それぞれ個別のレジ
スト量制御部１１０に連結されており個別に制御可能と
なっている。このようにしてウエハ表面２ａに図２
（ａ）に示すような異なる半径の同心状のレジスト付着
部分が得られたら、昇降機構１０５を作動させウエハ２
とレジスト塗布部１０４とを離間する。レジスト量制御
部１１０は常にレジスト供給部１０９からレジスト塗布
部１０４にレジスト６を供給し、開口部１０３から一定
量のレジスト６が盛り上がる状態を維持する。ウエハ２
とレジスト塗布部１０４とが離間しウエハ２が所定の高
さに達したら第１の回転駆動部１０７を作動させウエハ
表面２ａを下向きにした状態でウエハ２を回転軸１０６
周りに高速回転させる。この高速回転により異なる半径
の同心状に付着したレジスト６がウエハ表面２ａ全面に
広げられ塗布が完了する。この際、余分なレジスト６は
飛沫となって飛散しカップ１１１に付着し排液口１１２
から排出されるが、この量はレジスト６の付着量を制御
することで非常に少なくできる。また、ウエハ表面２ａ
を下向けた状態で高速回転させるためウエハ裏面２ｂ側
へのレジスト６の回り込みを防止できリンス液９による
洗浄の必要がなく廃液の量を大幅に低減できる。図２
（ａ）で示したレジスト６が遠心力によりウエハ表面２
ａに広がりつつある状態を図２（ｂ）に示し、図２
（ｂ）のＸ−Ｘ断面図を図２（ｃ）に示す。複数の異な
る半径上に同心状に付着したレジスト６が広がるため、
レジスト付着部からレジスト６が広がる終端までの距離
は短くて済みその分、塗布厚の差を減少させることがで
きる。
【００１１】
【実施例２】本発明のレジスト塗布装置の他の実施例の
構成を斜視図として示す図３を用いて説明する。図１と
同一部分には同一符号を用いて説明を省略する。レジス
ト塗布装置２０１は、ウエハ２をウエハ２のレジスト塗
布予定面２ａ（以降ウエハ表面２ａと呼ぶ）を下向きに
して吸着保持するチャック部１０２と、吸着保持された
ウエハ表面２ａに対向して配設され付着用のレジスト６
を表面張力により上向きに盛り上がらせるウエハ２の半
径方向に並んだ複数の小穴状の開口部２０２を有するレ
ジスト塗布部２０３と、ウエハ表面２ａと付着用のレジ
スト６とを接触させたり離間させたりしてウエハ表面２
ａにレジスト６を付着させる昇降機構１０５と、ウエハ
表面２ａが付着用のレジスト６と接触している状態でウ
エハ表面２ａをレジスト塗布部２０３に対して低速で回
転運動させかつ、ウエハ表面２ａが付着用のレジスト６
とが離間した状態でチャック部１０２を回転軸１０６周
りに高速で回転させる回転数可変の第１の回転駆動部１
０７と、レジスト塗布部２０３に配管系１０８で連結さ
れレジスト塗布部２０３にレジスト６を供給するレジス
ト供給部１０９と、レジスト供給部１０９とレジスト塗
布部２０３との間に介在して供給するレジスト６の量を
所定の圧力を加えて制御するレジスト量制御部１１０
と、ウエハ２周辺を覆い飛散するレジスト６の飛沫を付
着させるカップ１１１と、カップ１１１に付着したレジ
スト６を排出する排液口１１２とで構成されている。
構成を斜視図として示す図３を用いて説明する。図１と
同一部分には同一符号を用いて説明を省略する。レジス
ト塗布装置２０１は、ウエハ２をウエハ２のレジスト塗
布予定面２ａ（以降ウエハ表面２ａと呼ぶ）を下向きに
して吸着保持するチャック部１０２と、吸着保持された
ウエハ表面２ａに対向して配設され付着用のレジスト６
を表面張力により上向きに盛り上がらせるウエハ２の半
径方向に並んだ複数の小穴状の開口部２０２を有するレ
ジスト塗布部２０３と、ウエハ表面２ａと付着用のレジ
スト６とを接触させたり離間させたりしてウエハ表面２
ａにレジスト６を付着させる昇降機構１０５と、ウエハ
表面２ａが付着用のレジスト６と接触している状態でウ
エハ表面２ａをレジスト塗布部２０３に対して低速で回
転運動させかつ、ウエハ表面２ａが付着用のレジスト６
とが離間した状態でチャック部１０２を回転軸１０６周
りに高速で回転させる回転数可変の第１の回転駆動部１
０７と、レジスト塗布部２０３に配管系１０８で連結さ
れレジスト塗布部２０３にレジスト６を供給するレジス
ト供給部１０９と、レジスト供給部１０９とレジスト塗
布部２０３との間に介在して供給するレジスト６の量を
所定の圧力を加えて制御するレジスト量制御部１１０
と、ウエハ２周辺を覆い飛散するレジスト６の飛沫を付
着させるカップ１１１と、カップ１１１に付着したレジ
スト６を排出する排液口１１２とで構成されている。
【００１２】次に、レジスト塗布装置２０１の動作につ
いて説明する。先ずウエハ表面２ａを下向きにしてチャ
ック部１０２でウエハ２を吸着保持する。このとき、下
方に配設したレジスト塗布部２０３の開口部２０２には
レジスト６が表面張力により上向きに盛り上がった状態
になっている。次に、昇降機構１０５を作動させウエハ
表面２ａを開口部２０２から盛り上がったレジスト６に
接触する高さまで降下させる。ウエハ表面２ａがレジス
ト６面と接触したら、レジスト量制御部１１０は所定の
圧力を加え開口部２０２に所望量のレジスト６を供給し
つつ、両者が接触した状態で第１の回転駆動部１０７を
作動し低速でウエハ２を回転させる。この場合、各開口
部２０２は、断面図として示す図４のようにそれぞれ個
別のレジスト量制御部１１０に連結されており個別に制
御可能となっている。このようにしてウエハ表面２ａに
図２（ａ）に示すような異なる半径の同心状のレジスト
付着部分が得られたら、昇降機構１０５を作動させウエ
ハ２とレジスト塗布部２０３とを離間する。レジスト量
制御部１１０は常にレジスト供給部１０９からレジスト
塗布部２０３にレジスト６を供給し、開口部２０２から
一定量のレジスト６が盛り上がる状態を維持する。ウエ
ハ２とレジスト塗布部２０３とが離間しウエハ２が所定
の高さに達したら第１の回転駆動部１０７を作動させウ
エハ表面２ａを下向きにした状態でウエハ２を回転軸１
０６周りに高速回転させる。この高速回転により異なる
半径の同心状に付着したレジスト６がウエハ表面２ａ全
面に広げられ塗布が完了する。この際、余分なレジスト
６は飛沫となって飛散しカップ１１１に付着し排液口１
１２から排出されるが、この量はレジスト６の付着量を
制御することで非常に少なくできる。また、ウエハ表面
２ａを下向けた状態で高速回転させるためウエハ裏面２
ｂ側へのレジスト６の回り込みを防止できリンス液９に
よる洗浄の必要がなく廃液の量を大幅に低減できる。
いて説明する。先ずウエハ表面２ａを下向きにしてチャ
ック部１０２でウエハ２を吸着保持する。このとき、下
方に配設したレジスト塗布部２０３の開口部２０２には
レジスト６が表面張力により上向きに盛り上がった状態
になっている。次に、昇降機構１０５を作動させウエハ
表面２ａを開口部２０２から盛り上がったレジスト６に
接触する高さまで降下させる。ウエハ表面２ａがレジス
ト６面と接触したら、レジスト量制御部１１０は所定の
圧力を加え開口部２０２に所望量のレジスト６を供給し
つつ、両者が接触した状態で第１の回転駆動部１０７を
作動し低速でウエハ２を回転させる。この場合、各開口
部２０２は、断面図として示す図４のようにそれぞれ個
別のレジスト量制御部１１０に連結されており個別に制
御可能となっている。このようにしてウエハ表面２ａに
図２（ａ）に示すような異なる半径の同心状のレジスト
付着部分が得られたら、昇降機構１０５を作動させウエ
ハ２とレジスト塗布部２０３とを離間する。レジスト量
制御部１１０は常にレジスト供給部１０９からレジスト
塗布部２０３にレジスト６を供給し、開口部２０２から
一定量のレジスト６が盛り上がる状態を維持する。ウエ
ハ２とレジスト塗布部２０３とが離間しウエハ２が所定
の高さに達したら第１の回転駆動部１０７を作動させウ
エハ表面２ａを下向きにした状態でウエハ２を回転軸１
０６周りに高速回転させる。この高速回転により異なる
半径の同心状に付着したレジスト６がウエハ表面２ａ全
面に広げられ塗布が完了する。この際、余分なレジスト
６は飛沫となって飛散しカップ１１１に付着し排液口１
１２から排出されるが、この量はレジスト６の付着量を
制御することで非常に少なくできる。また、ウエハ表面
２ａを下向けた状態で高速回転させるためウエハ裏面２
ｂ側へのレジスト６の回り込みを防止できリンス液９に
よる洗浄の必要がなく廃液の量を大幅に低減できる。
【００１３】尚、上記ではレジスト塗布部２０３の開口
部２０２が、それぞれ異なるレジスト量制御部１１０に
連結されている構成で説明したが、図５に示すように各
開口部２０２をレジスト塗布部２０３の内部で連通させ
共通のレジスト量制御部１１０に連結する構成としても
よい。
部２０２が、それぞれ異なるレジスト量制御部１１０に
連結されている構成で説明したが、図５に示すように各
開口部２０２をレジスト塗布部２０３の内部で連通させ
共通のレジスト量制御部１１０に連結する構成としても
よい。
【発明の効果】本発明のレジスト塗布装置によれば、過
剰なレジストの供給を低減しレジストの利用効率を上げ
かつ、ウエハ裏面へのレジストの回り込みをなくしリン
ス液による洗浄を不要とし均一な塗布厚を得られるよう
にすることができる。また、レジスト塗布部の各開口部
をそれぞれ異なる制御部に連結しておくと、さらに付着
させるレジスト量の微調整が可能になる。
剰なレジストの供給を低減しレジストの利用効率を上げ
かつ、ウエハ裏面へのレジストの回り込みをなくしリン
ス液による洗浄を不要とし均一な塗布厚を得られるよう
にすることができる。また、レジスト塗布部の各開口部
をそれぞれ異なる制御部に連結しておくと、さらに付着
させるレジスト量の微調整が可能になる。
【図１】 本発明に係わるレジスト塗布装置の第１の実
施例の概略構成図
施例の概略構成図
【図２】 レジストの付着状態の説明図
【図３】 本発明に係わるレジスト塗布装置の第２の実
施例の概略構成図
施例の概略構成図
【図４】 本発明に係わるレジスト塗布装置のレジスト
塗布部の断面図
塗布部の断面図
【図５】 本発明に係わるレジスト塗布装置のレジスト
塗布部の断面図
塗布部の断面図
【図６】 従来のレジスト塗布装置の概略構成を示す断
面図
面図
【図７】 塗布厚の差の説明図
２ ウエハ ２ａ レジスト塗布予定面 ６ レジスト １０１ レジスト塗布装置 １０２ チャック部 １０３ 開口部 １０４ レジスト塗布部 １０５ 昇降機構 １０６ 回転軸 １０７ 第１の回転駆動部 １０９ レジスト供給部 １１０ レジスト量制御部 １１１ カップ １１２ 排液口
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｂ０５Ｄ 1/40 Ｂ０５Ｄ 1/40 Ａ 7/00 7/00 Ｈ 7/24 ３０１ 7/24 ３０１Ｚ Ｇ０３Ｆ 7/16 ５０２ Ｇ０３Ｆ 7/16 ５０２ Ｈ０１Ｌ 21/027 Ｈ０１Ｌ 21/30 ５６４Ｚ ５６４Ｄ Ｆターム(参考） 2H025 AB16 EA05 4D075 AC01 AC41 AC64 AC79 AC82 AC84 BB05X BB14X DA08 DB11 DC22 EA45 4F040 AA12 AB04 AB06 AC01 AC08 BA01 BA07 BA35 CA09 CA10 CA15 CA18 DA02 DB18 DB22 4F042 AA07 CB11 CC09 DF09 DF28 DF32 DF34 EB05 EB09 ED05 ED06 ED12 5F046 JA01 JA14
Claims (11)
- 【請求項１】ウエハのレジスト塗布予定面にレジストを
回転塗布する方法であって、予め、ウエハのレジスト塗
布予定面と表面張力で盛り上がった付着用のレジストと
を接触させ、ウエハのレジスト塗布予定面上にレジスト
を複数の異なる半径の同心状に付着させ、その後、レジ
スト塗布予定面と付着用のレジストとを離間しウエハを
回転させ付着したレジストを広げることを特徴とするレ
ジスト塗布方法。 - 【請求項２】ウエハのレジスト塗布予定面を下向きにし
てウエハへのレジスト付着とウエハの回転とをすること
を特徴とする請求項１に記載のレジスト塗布方法。 - 【請求項３】ウエハに付着させる複数の異なる半径の同
心状の各レジストの量がそれぞれ個別に制御可能である
ことを特徴とする請求項１に記載のレジスト塗布方法。 - 【請求項４】ウエハへのレジストの付着方法は、異なる
半径の同心状を成した付着用のレジストとウエハのレジ
スト塗布予定面とを接触させる方法であることを特徴と
する請求項１に記載のレジスト塗布方法。 - 【請求項５】ウエハへのレジストの付着方法は、ウエハ
の半径方向に並んだ複数点のレジストとウエハのレジス
ト塗布予定面とを接触させ、両者を接触させた状態で一
方が他方に対して回転運動をする方法であることを特徴
とする請求項１に記載のレジスト塗布方法。 - 【請求項６】ウエハのレジスト塗布予定面にレジストを
回転塗布する装置であって、ウエハを吸着保持するチャ
ック部と、吸着保持されたウエハのレジスト塗布予定面
に対向して配設され付着用のレジストを表面張力により
盛り上がらせる複数の開口部を有するレジスト塗布部
と、ウエハのレジスト塗布予定面と付着用のレジストと
を接触させたり離間させたりする昇降機構と、チャック
部を回転軸周りに回転させる回転数可変の第１の回転駆
動部と、レジスト塗布部に配管で連結されレジスト塗布
部にレジストを供給するレジスト供給部と、レジスト供
給部とレジスト塗布部との間に介在して供給するレジス
トの量を制御するレジスト量制御部と、ウエハ周辺を覆
い飛散するレジストの飛沫を付着させるカップと、カッ
プに付着したレジストを排出する排液口とで構成された
ことを特徴とするレジスト塗布装置。 - 【請求項７】前記チャック部がウエハのレジスト塗布予
定面を下向きにして吸着保持するチャック部であり、前
記レジスト塗布部が開口部を上向きにしたレジスト塗布
部であることを特徴とする請求項６に記載のレジスト塗
布装置。 - 【請求項８】前記各開口部は、それぞれ別々のレジスト
量制御部に連結していることを特徴とする請求項６に記
載のレジスト塗布装置。 - 【請求項９】前記開口部が複数の異なる半径の同心状を
成す開口部であることを特徴とする請求項６に記載のレ
ジスト塗布装置。 - 【請求項１０】前記開口部がウエハの半径方向に並んだ
複数の小穴状の開口部であり、昇降機構により接触した
ウエハのレジスト塗布予定面とレジスト塗布部との一方
を他方に対して回転運動させる第２の回転駆動部とを有
することを特徴とする請求項６に記載のレジスト塗布装
置。 - 【請求項１１】第２の回転駆動部を第１の回転駆動部が
兼ねることを特徴とする請求項１０に記載のレジスト塗
布装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001112092A JP2002307001A (ja) | 2001-04-11 | 2001-04-11 | レジスト塗布方法及び装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001112092A JP2002307001A (ja) | 2001-04-11 | 2001-04-11 | レジスト塗布方法及び装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002307001A true JP2002307001A (ja) | 2002-10-22 |
Family
ID=18963561
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001112092A Pending JP2002307001A (ja) | 2001-04-11 | 2001-04-11 | レジスト塗布方法及び装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002307001A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009021268A (ja) * | 2007-07-10 | 2009-01-29 | Tokyo Electron Ltd | 基板処理装置 |
| JP2010253341A (ja) * | 2009-04-22 | 2010-11-11 | Toppan Printing Co Ltd | 塗布装置 |
-
2001
- 2001-04-11 JP JP2001112092A patent/JP2002307001A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009021268A (ja) * | 2007-07-10 | 2009-01-29 | Tokyo Electron Ltd | 基板処理装置 |
| JP2010253341A (ja) * | 2009-04-22 | 2010-11-11 | Toppan Printing Co Ltd | 塗布装置 |
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