JP2002287064A

JP2002287064A - 光走査装置

Info

Publication number: JP2002287064A
Application number: JP2001086323A
Authority: JP
Inventors: Toshiro Mukai; 俊郎向井; Kenzo Okubo; 憲造大久保; Tetsuya Nishiguchi; 哲也西口
Original assignee: Sharp Corp
Current assignee: Sharp Corp
Priority date: 2001-03-23
Filing date: 2001-03-23
Publication date: 2002-10-03

Abstract

(57)【要約】【課題】オーバーフィル型光走査装置において、装置
筐体の小型化を実現し得る光走査装置を提供する。【解決手段】光走査装置において、入射折返しミラー
１１７を、出射折返しミラー１２４との最短距離が２０
ｍｍ未満、好ましくは、その最短距離が２ｍｍ以上１５
ｍｍ以下となるように、出射折返しミラー１２４の端部
１２４ａの近傍（エリアＡ内）に配置する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、光走査装置に関す
る。該光走査装置は、例えば、画像情報に応じたレーザ
ビームを被走査体上に照射し、走査露光することによ
り、画像を形成するレーザビームプリンタやデジタル複
写機等の画像形成装置に好適に使用されるものである。

【０００２】

【従来の技術】上記光走査装置として、従来より、オー
バーフィル型光走査装置と呼ばれる方式の光走査装置が
知られている。この種の光走査装置は、例えば、光軸に
交わる方向における断面が細長い形状の光ビームの互い
に異なる領域を反射する回転多面鏡を具備し、該回転多
面鏡により反射された光ビームによって被走査体を走査
するというものであり、詳細には、回転多面鏡の１つの
反射面の回転方向の幅より広く形成されて回転多面鏡の
反射面を照射する光ビーム（以下、適宜「入射ビーム」
という）の一部を、回転多面鏡の反射面により反射し、
該反射により得られた光ビーム（以下、適宜「出射ビー
ム」という）によって被走査体を走査するというもので
ある。

【０００３】上記オーバーフィル型光走査装置には、特
開平１１−２１８７０２号公報に開示される所謂センタ
入射式オーバーフィル型光走査装置と、特開平１０−２
１３７６７号公報に開示される所謂斜め入射式オーバー
フィル型光走査装置との２種類が知られている。

【０００４】センタ入射式オーバーフィル型光走査装置
は、回転多面鏡の回転軸を通って、該回転軸に平行な平
面（以下、「回転軸平面」という）の１つに、入射ビー
ムの光軸センタと出射ビームの被走査体を走査する領域
のセンタ（以下、「走査角センタ」という）とが含まれ
るように構成されると共に、入射ビームおよび出射ビー
ムの両方のビームがｆθレンズを通るように構成されて
いる。

【０００５】一方、斜め入射式オーバーフィル型光走査
装置は、回転多面鏡の異なる回転軸平面に、入射ビーム
の光軸センタと出射ビームの走査角センタとが含まれる
ように構成されると共に、入射ビームはｆθレンズを通
らずに、出射ビームはｆθレンズを通るように構成され
ている。

【０００６】さらに、上記オーバーフィル型光走査装置
とは別に、アンダーフィル型光走査装置と呼ばれる光走
査装置が知られている。このアンダーフィル型光走査装
置は、回転多面鏡に向けて出射された入射ビームを、回
転多面鏡の１つの反射面の一部分のみに照射する方式の
光走査装置である。

【０００７】上記オーバーフィル型光走査装置は、アン
ダーフィル型光走査装置に比べると、光学系の透過光率
の低さを補うために、また、入射ビームの一部を被走査
体側に反射するために、より高出力のレーザダイオード
等の光源を必要とし、より高品質な走査を要するような
場合に、出射ビームが走査する被走査体上の走査方向に
おける光量が不均一である、といったマイナス面を有す
る反面、被走査体上に一定サイズのビームスポットを生
じさせるのに必要な反射面の大きさを非常に小さくでき
るので、同一直径の回転多面鏡に、より多くの反射面を
設けることが可能であり、これにより、回転多面鏡を比
較的低い回転速度で動作させることが可能となり、より
パワーの小さいモータと駆動装置とを回転多面鏡を回転
させる駆動系として利用することができる、といったプ
ラス面を有している。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】しかし、上記オーバー
フィル型光走査装置には、以下のように、光走査装置の
出射ビームによる走査方向に光学部品が配置されるため
に、光走査装置がこの方向に広がり、装置が大型化して
しまう、といった問題が生じている。

【０００９】例えば、特開平１１−２１８７０２号公報
に開示されるセンタ入射式オーバーフィル型光走査装置
では、図３６に示すように、入射ビーム１０３がｆθレ
ンズ１２３に入射する前に、折返しミラー１１７により
入射ビーム１０３の方向を折り曲げている。このため、
入射ビーム１０３の光源１１２、および、入射ビーム１
０３を幅広の断面矩形状のビームに成形する光学部品等
（以下、このように入射ビームの光路に配置された光学
部品を「入射光学系」という）を所定の位置に配置し、
出射ビーム１０４が走査の際に移動する面（以下、「ビ
ーム走査面」という）が広がる方向での光走査装置の寸
法を低減するようにしている。

【００１０】しかし、上記センタ入射式オーバーフィル
型光走査装置における光学系は、回転多面鏡１２０およ
びｆθレンズ１２３が並置される方向に対して略直交す
る方向に並べて配置されており（以下、ｆθレンズ１２
３等の、回転多面鏡１２０からの出射ビーム１０４が被
走査体２００に至る光路に配置された光学部品を「出射
光学系」という）、光走査装置の外形としては、入射光
学系１０１の延びる方向に外形が突出することとなる。
しかしながら、入射光学系１０１が配置される箇所だけ
を突出させると、光走査装置の強度が低下して、装置の
信頼性を低下するので、この場合は、一部だけを突出さ
せずに、他の部分と繋げた状態で装置筐体の外形を描い
ている。このようなことは、装置筐体を設計する上で通
常行われていることであるが、そのため、装置筐体内に
無駄な空間が生ずることとなる。その結果、光走査装置
が備えつけられる画像形成装置等の空間をその分無駄に
占めることになり、光走査装置および画像形成装置等の
大型化を招来し、あるいは、光走査装置および画像形成
装置等の設計の自由度を低下させることになる。

【００１１】また、特開平１０−２１３７６７号公報に
開示される斜め入射式オーバーフィル型光走査装置で
は、図３７に示すように、折返しミラー１１７で折り返
された後の入射ビーム１０３が、ｆθレンズ１２３を通
過しない光路で、回転多面鏡１２０に入射するように構
成されている。そのため、入射光学系１０１が、回転多
面鏡１２０から見て、出射ビーム１０４の反対側に延び
ることになり、光走査装置の外形が一部突出することに
なる。この場合も、装置外形の部分的な突出は、装置の
強度を低下するので、同図に示すように他の部分と繋げ
た状態で装置筐体の外形を描いているが、その結果、上
記センタ入射式オーバーフィル型光走査装置の場合と同
様に、光走査装置筐体に無駄な空間が生じて、光走査装
置および画像形成装置等の大型化を招来し、あるいは、
光走査装置および画像形成装置等の設計の自由度を低下
させることになる。

【００１２】本発明は、上記の問題点に鑑みなされたも
のであり、その目的は、所謂オーバーフィル型光走査装
置において、装置筐体の小型化を実現し得る光走査装置
を提供することにある。

【００１３】

【課題を解決するための手段】本発明に係る光走査装置
は、上記の課題を解決するために、光ビームにより被走
査体上を走査するために、光ビームを出射するビーム出
射手段と、前記ビーム出射手段からの入射ビームを折返
し、該入射ビームを回転多面鏡に導くための入射光学系
の折返し手段と、前記回転多面鏡により反射された出射
ビームを折返し、前記被走査体に導くための出射光学系
の折返し手段とを備えた光走査装置において、前記入射
光学系の折返し手段と前記出射光学系の折返し手段との
最短距離が２０ｍｍ未満となるように、両手段が互いに
近設して配置されていることを特徴としている。

【００１４】上記の構成によれば、光走査装置におい
て、前記回転多面鏡により反射された出射ビームの走査
角センタ方向および主走査方向の長さを短く構成するこ
とができるので、光走査装置筐体の小型化を実現するこ
とができる。

【００１５】上記の構成において、前記入射光学系の折
返し手段と前記出射光学系の折返し手段との最短距離が
２ｍｍ以上１５ｍｍ以下となるように、両手段が配置さ
れている構成とすることは好ましい。

【００１６】また、前記入射光学系の折返し手段が、前
記出射光学系の折返し手段の背面側に配置されている構
成とすることは好ましく、これによって、入射光学系の
折返し手段の位置を調整するとき、出射光学系の折返し
手段が障害とならないため、容易に位置調整することが
できる。尚、出射光学系の折返し手段の背面側とは、回
転多面鏡により反射された出射ビームを折返す側とは反
対側のことをいう。

【００１７】また、前記入射光学系の折返し手段の一部
が、前記出射ビームの副走査方向からみて、前記出射光
学系の折返し手段の一部と重なり合うように、両手段が
配置されている構成とすることは好ましく、これによっ
て、前記出射ビームの主走査方向における光走査装置の
長さを短く構成することができ、光走査装置筐体の小型
化を実現することができる。

【００１８】本発明に係る光走査装置は、上記の課題を
解決するために、光ビームにより被走査体上を走査する
ために、光ビームを出射するビーム出射手段と、前記ビ
ーム出射手段からの入射ビームを折返し、該入射ビーム
を回転多面鏡に導くための入射光学系の折返し手段と、
前記回転多面鏡により反射された出射ビームを折返し、
前記被走査体に導くための出射光学系の折返し手段と、
前記入射ビームおよび出射ビームが通過する収束レンズ
とを備えた光走査装置において、前記ビーム出射手段
が、前記出射ビームの走査角センタ方向においては、前
記回転多面鏡の後端部と前記収束レンズの後端部との間
に配置されており、前記出射ビームの主走査方向におい
ては、前記出射光学系の折返し手段の前記入射光学系が
配置される側の側端部と前記収束レンズの前記入射光学
系が配置される側の側端部との間に配置されていること
を特徴としている。

【００１９】上記の構成によれば、光走査装置におい
て、前記出射ビームの走査角センタ方向および主走査方
向の長さを短く構成することができるので、光走査装置
筐体の小型化を実現することができる。

【００２０】尚、回転多面鏡の後端部とは、反射により
出射ビームを出射する側とは反対側の端部をいい、収束
レンズの後端部とは、回転多面鏡に近い側の端部をい
い、収束レンズが複数のレンズから構成される場合にあ
っては、回転多面鏡に最も近いレンズにおける、該回転
多面鏡に近い側の端部をいう。

【００２１】上記の構成において、前記ビーム出射手段
が、前記出射ビームの走査角センタ方向において、前記
収束レンズよりも前記回転多面鏡に近い側に配置されて
いる構成とすることは好ましい。

【００２２】本発明に係る光走査装置は、上記の課題を
解決するために、光ビームにより被走査体上を走査する
ために、光ビームを出射するビーム出射手段と、前記ビ
ーム出射手段からの入射ビームを折返し、該入射ビーム
を回転多面鏡に導くための入射光学系の折返し手段と、
前記回転多面鏡により反射された出射ビームを折返し、
前記被走査体に導くための出射光学系の折返し手段とを
備えた光走査装置において、前記ビーム出射手段から前
記入射光学系の折返し手段までの光ビームの距離をＰ、
前記入射光学系の折返し手段から前記回転多面鏡までの
光ビームの距離をＱ、前記ビーム出射手段と前記回転多
面鏡との間の最短距離をＲとすると、Ｑ＝０．８〜１．
２Ｐ、かつ、ＰまたはＱ＞２Ｒの関係を満たすように、
前記ビーム出射手段と前記回転多面鏡とが互いに近設し
て配置されていることを特徴としている。

【００２３】上記の構成によれば、入射ビームの折返し
回数を最小限の１回にして、入射光学系の折返し手段の
位置精度および平面度を高めることができるとともに、
ビーム出射手段と回転多面鏡とが互いに近設して配置さ
れているので、光走査装置において、回転多面鏡により
反射された出射ビームの走査角センタ方向および主走査
方向の長さを短く構成することができ、光走査装置筐体
の小型化を実現することができる。

【００２４】本発明に係る光走査装置は、上記の課題を
解決するために、光ビームにより被走査体上を走査する
ために、光ビームを出射するビーム出射手段と、前記ビ
ーム出射手段からの入射ビームを折返し、該入射ビーム
を回転多面鏡に導くための入射光学系の折返し手段と、
前記回転多面鏡により反射された出射ビームを折返し、
前記被走査体に導くための出射光学系の折返し手段と、
前記入射ビームおよび出射ビームが通過する収束レンズ
とを備えた光走査装置において、前記入射光学系の折返
し手段が、前記出射ビームの走査角センタ方向において
は、前記収束レンズの前端部と前記出射光学系の折返し
手段の正面側端部との間に配置されており、前記出射ビ
ームの主走査方向においては、前記出射光学系の折返し
手段の前記入射光学系が配置される側の側端部と前記収
束レンズの前記入射光学系が配置される側の側端部との
間に配置されていることを特徴としている。

【００２５】上記の構成によれば、光走査装置におい
て、前記出射ビームの走査角センタ方向および主走査方
向の長さを短く構成することができるので、光走査装置
筐体の小型化を実現することができる。

【００２６】尚、収束レンズの前端部とは、出射光学系
の折返し手段に近い側の端部をいい、収束レンズが複数
のレンズから構成される場合にあっては、出射光学系の
折返し手段に最も近いレンズにおける、該出射光学系の
折返し手段に近い側の端部をいう。また、出射光学系の
折返し手段の正面側端部とは、回転多面鏡により反射さ
れた出射ビームを折返す側の端部をいう。

【００２７】上記の構成において、前記入射光学系の折
返し手段が、前記出射ビームの走査角センタ方向におい
て、前記収束レンズよりも前記出射光学系の折返し手段
に近い側に配置されている構成とすることは好ましく、
これによって、入射光路長を長くすることができ、収束
レンズの主走査方向の長さを小さくすることができ、光
走査装置において、前記出射ビームの走査角センタ方向
および主走査方向の長さを短く構成することができる。

【００２８】本発明に係る光走査装置は、上記の課題を
解決するために、光ビームにより被走査体上を走査する
ために、光ビームを出射するビーム出射手段と、前記ビ
ーム出射手段からの入射ビームを折返し、該入射ビーム
を回転多面鏡に導くための入射光学系の折返し手段と、
前記回転多面鏡により反射された出射ビームを折返し、
前記被走査体に導くための出射光学系の折返し手段と、
前記入射ビームおよび出射ビームが通過する収束レンズ
とを備えた光走査装置において、前記ビーム出射手段か
ら前記入射光学系の折返し手段に至る光ビームが、前記
出射ビームの走査角センタ方向においては、前記収束レ
ンズの前端部と後端部との間の領域を通過し、前記出射
ビームの主走査方向においては、前記出射光学系の折返
し手段の前記入射光学系が配置される側の側端部と前記
収束レンズの前記入射光学系が配置される側の側端部と
の間の領域を通過するように構成されていることを特徴
としている。

【００２９】上記の構成によれば、光走査装置におい
て、前記出射ビームの走査角センタ方向および主走査方
向の長さを短く構成することができるので、光走査装置
筐体の小型化を実現することができる。

【００３０】上記の構成において、前記ビーム出射手段
および前記入射光学系の折返し手段が、前記出射ビーム
の副走査方向において、前記回転多面鏡の中心部と、該
回転多面鏡を駆動する駆動装置の下端部との間に配置さ
れている構成とすること、および、前記ビーム出射手段
および前記入射光学系の折返し手段が、前記出射ビーム
の副走査方向において、前記回転多面鏡の中心部と、前
記収束レンズの下端部との間に配置されている構成とす
ることは好ましく、これによって、光走査装置におい
て、前記出射ビームの副走査方向の長さを短く構成する
ことができるので、光走査装置筐体の小型化を実現する
ことができる。

【００３１】また、本発明の光走査装置において、画像
信号に対する同期信号を検出するために、前記出射ビー
ムの一部を予め定める方向に折返す同期ビーム折返し手
段と、該同期ビーム折返し手段により折返された光ビー
ムを検出する同期検出センサとを備え、前記出射ビーム
の走査角センタからみて、前記同期ビーム折返し手段が
配置される側とは反対側に、前記ビーム出射手段および
前記入射光学系の折返し手段が配置されている構成とす
ることは好ましい。これによって、同期ビーム折返し手
段を配置するとき、ビーム出射手段から出射される入射
ビームの障害とならないため、同期ビーム折返し手段の
配置レイアウトの自由度を高めることができる。

【００３２】上記の構成において、前記出射ビームの走
査角センタからみて、前記ビーム出射手段および前記同
期検出センサが同じ側の領域内に配置されている構成と
することは好ましく、これによって、同期検出センサの
ハーネス線を入出射光路から隔離して設けることができ
るため、ハーネス線が光路の障害とならず、また、ビー
ム出射手段に接続されるハーネス線と一体的に結線する
ことができるので、ハーネス線を短くすることができ、
組立作業を容易に行うことができる。

【００３３】また、上記の構成において、前記ビーム出
射手段および前記同期検出センサが配置される領域が、
画像形成装置の背面側に位置するように、該画像形成装
置内に配置されている構成とすることは好ましく、これ
によって、画像形成装置側の制御部と、ビーム出射手段
および同期検出センサとを接続するハーネス線を短くす
ることができ、しかも、ビーム出射手段および同期検出
センサが画像形成装置の背面側に位置しているので、画
像形成装置本体との結線を容易に行うことができる。
尚、画像形成装置の背面側とは、オペレータが操作する
側とは反対側のことをいう。

【００３４】また、本発明の光走査装置において、前記
出射ビームの主走査方向からみて、前記出射光学系の折
返し手段によって折返された光ビームが、前記入射ビー
ムと交差するように構成されている構成とすることは好
ましく、これによって、光走査装置において、前記出射
ビームの副走査方向の長さを短く構成することができる
ので、光走査装置筐体の小型化を実現することができ
る。

【００３５】また、本発明の光走査装置において、前記
出射光学系の折返し手段によって折返された光ビームを
さらに折返す第２の折返し手段を備え、該第２の折返し
手段により折返された光ビームによって被走査体上を走
査するように構成されていることは好ましい。これによ
って、被走査体と回転多面鏡とを互いに離隔して配置す
ることができるため、回転多面鏡の回転駆動時に発生す
る熱が、被走査体に悪影響を及ぼすことがなく、また、
被走査体に供給される現像剤（トナー）が飛散して回転
多面鏡に付着し、光走査装置に悪影響を及ぼすといった
ことが防止できる。

【００３６】また、本発明の光走査装置において、前記
入射光学系の折返し手段により反射された光ビームと、
前記回転多面鏡により反射された光ビームとが通過する
第１の収束レンズと、前記第２の折返し手段と前記被走
査体との間に配置され、光ビームを収束するための第２
の収束レンズとを備え、前記ビーム出射手段から前記入
射光学系の折返し手段に至る光ビームと、前記出射光学
系の折返し手段によって折返された光ビームとが、前記
第１の収束レンズと第２の収束レンズとの間を通過する
ように構成されていること、および、前記第２の折返し
手段と前記被走査体との間に配置され、光ビームを収束
するための第２の収束レンズを備え、前記ビーム出射手
段から前記入射光学系の折返し手段に至る光ビームと、
前記出射光学系の折返し手段によって折返された光ビー
ムとが、前記収束レンズと第２の収束レンズとの間を通
過するように構成されていることは、好ましい。これに
よって、出射ビームの主走査方向からみて、ビーム出射
手段から入射光学系の折返し手段に至る光ビームと、出
射光学系の折返し手段によって折返された光ビームとが
交差し、出射ビームの副走査方向の長さを短く構成する
ことができるので、光走査装置筐体の小型化を実現する
ことができる。

【００３７】また、本発明の光走査装置において、前記
ビーム出射手段から前記入射光学系の折返し手段に至る
光ビームの光路が、前記出射ビームの走査角センタ方向
と略平行となるように構成されていることは好ましく、
これによって、光走査装置筐体を略矩形状に構成するこ
とができると共に、光走査装置において、前記出射ビー
ムの走査角センタ方向および主走査方向の長さを短く構
成することができるので、光走査装置筐体の小型化を実
現することができる。

【００３８】また、本発明の光走査装置において、前記
ビーム出射手段から前記入射光学系の折返し手段に至る
光ビームが、前記出射ビームの主走査方向からみて、装
置筐体の下面と略平行となるように構成されていること
は好ましく、これによって、ビーム出射手段や入射光学
系を構成する各光学部品の位置を調整するとき、装置筐
体の下面に沿って平行に移動させることにより、容易に
調整することができる。

【００３９】

【発明の実施の形態】〔実施形態１〕本発明の実施の一
形態について図１〜図１５に基づいて説明すれば、以下
のとおりである。

【００４０】まず、本実施形態の光走査装置を備えた画
像形成システム（画像形成装置）１について、図１およ
び図２を参照しながら説明する。もっとも、本発明の光
走査装置が適用可能な画像形成装置は、以下に説明する
画像形成装置に限定されるものではなく、本発明の光走
査装置は、これ以外の種々の画像形成装置等に適用可能
である。

【００４１】図１は、画像形成システム１を示す断面構
成図であり、図２は、被走査体である感光体２００周囲
を詳細に示す図である。

【００４２】図１に示すように、画像形成システム１
は、プリンタ２、スキャナ３、自動原稿搬送装置４、シ
ート後処理装置５、多段給紙ユニット６および中継搬送
ユニット８を備えて構成されている。スキャナ３は、そ
の上部に配置された自動原稿搬送装置４と共に、システ
ムラック上に支持されることで、プリンタ２およびシー
ト後処理装置５の上方に配置されている。

【００４３】以下に、各装置について、概略説明を行
う。

【００４４】（プリンタ２）プリンタ２は、スキャナ３
にて読み込まれた画像の記録出力はもとより、パーソナ
ルコンピュータなどの画像処理装置が接続されると、こ
の外部接続機器からの画像データを記録出力することも
可能である。

【００４５】プリンタ２の略中央右側には、被走査体と
してのドラム状の感光体２００を中心とする電子写真プ
ロセス部２０が配置されている。図２に示すように、感
光体２００の周囲には、感光体２００の表面を均一に帯
電させる帯電ローラ２０１と、均一に帯電された感光体
２００上に光像を走査して静電潜像を書き込む本実施形
態の光走査装置２２と、光走査装置２２により書き込ま
れた静電潜像を現像剤により顕像化する現像ユニット２
０２と、感光体２００上に記録再現された画像を用紙上
に転写する転写ユニット２０３と、感光体２００上に残
留した現像剤を除去して感光体２００上に新たな画像を
記録することを可能にするクリーニングユニット２０４
と、感光体２００表面の電荷を除去する除電ランプユニ
ット（図示せず）とが順次配置されている。

【００４６】プリンタ２本体の下側には、プリンタ２本
体内に内装された用紙供給部２１が配置されている。用
紙供給部２１は、用紙を収容する用紙収容トレイ２１０
と、用紙収容トレイ２１０に収容された用紙を１枚ずつ
分離供給する分離供給手段２１１とを備えて構成されて
いる。この用紙供給部２１から１枚ずつ分離供給された
用紙は、電子写真プロセス部２０の感光体２００と転写
ユニット２０３との間に順次供給され、感光体２００上
に記録再現された画像が転写される。なお、この用紙供
給部２１への用紙の補給は、プリンタ２本体の正面側
（オペレータが操作する側）に用紙収容トレイ２１０を
引き出して行う。

【００４７】プリンタ２本体の下面には、周辺機器とし
て準備されている多段給紙ユニット６等から送られてく
る用紙を受け入れ、電子写真プロセス部２０の感光体２
００と転写ユニット２０３との間に向かって順次供給す
るための用紙受口２７が設けられている。

【００４８】電子写真プロセス部２０の上方には定着装
置２３が配置されており、画像が転写された用紙を順次
受け入れて、用紙上に転写された現像剤を加熱定着して
定着装置２３外へと用紙を送り出す。画像が記録された
用紙は、プリンタ２の排出ローラ２８からプリンタ２本
体の上面の中継搬送ユニット８に受け渡される。

【００４９】光走査装置２２の上下空間部には、電子写
真プロセス部２０をコントロールするプロセスコントロ
ールユニット（ＰＣＵ）基板および装置外部からの画像
データを受け入れるインターフェイス基板を収容するプ
リンタ制御部２４、インターフェイス基板から受け入れ
られた画像データに対して所定の画像処理を施し、光走
査装置２２により画像として走査記録させるためのイメ
ージコントロールユニット（ＩＣＵ）基板を備えた画像
制御部２５、そして、これら各種基板ならびにユニット
に対して電力を供給する電源ユニット２６が配置されて
いる。

【００５０】（多段給紙ユニット６）多段給紙ユニット
６は、外付けの用紙供給装置であって、用紙収容トレイ
６１０に収容した用紙を、分離給送手段６１１により１
枚ずつ分離して、該ユニット上面に設けられ、プリンタ
２の用紙受口２７に連通している用紙排出口６２に向か
って供給するものである。この例では、用紙供給部６１
が３段積層されている。稼働時、所望する用紙を収容し
た用紙供給部６１が選択的に動作する。

【００５１】用紙供給部６１への用紙の補給は、該ユニ
ット本体の正面側に用紙収容トレイ６１０を引き出して
行う。

【００５２】また、多段給紙ユニット６は、上部にプリ
ンタ２と後処理装置５を載置するように構成されている
が、この状態で移動してシステムラック７の間に固定し
て配置可能なように、下部に移動コロ６３および固定部
６４を備えている。移動時には、固定部６４を回転して
上昇することで固定部６４を床面から離間し、固定時に
は、固定部６４を回転して下降することで固定部６４を
床面に接触させて、多段給紙ユニット６を固定する。

【００５３】なお、この例では３つの用紙供給部６１が
積層された装置として示されているが、少なくとも１つ
もしくはそれ以上の用紙供給部６１から構成される多段
給紙ユニット６等、種々の構成のものがある。

【００５４】（シート後処理装置５）シート後処理装置
５は、該装置の上部において、中継搬送ユニット８から
排出される画像の記録された用紙を搬入ローラで導き入
れて、用紙に対して後処理を施すものである。

【００５５】後処理としては、ステープル処理、ソート
処理等あるが、ここに例示されている装置は、３つの排
紙トレイ５１を備えた構成であって、必要に応じて、ゲ
ート５２・５３により用紙を排出する排紙トレイ５１を
切り替えてシートを排出する。例えば、上段の排出トレ
イ５１ａをコピーモード時の用紙の排出に使用し、中段
の排出トレイ５１ｂをプリントモード時の用紙の排出に
使用し、下段の排出トレイ５１ｃをファクシミリ印字モ
ード時の用紙の排出に使用するといった具合に、用途別
に区分けして排出できるようになっている。

【００５６】（スキャナ３）スキャナ３は、シート物の
原稿を自動原稿搬送装置４により自動的に供給して１枚
ずつ順次露光走査して原稿画像を読み取る自動読み取り
モードと、ブック物の原稿、または自動原稿搬送装置４
により自動供給が不可能なシート物の原稿をマニュアル
操作によりセットして原稿画像を読み取る手動読み取り
モードとを備えている。そして、透明な原稿載置台３０
上にセットされた原稿の画像を、相互に所定の速度関係
で原稿載置台３０に沿って移動する第１走査ユニット３
１および第２走査ユニット３２で露光走査して、ミラー
や結像レンズ３３等の光学部品で導いて光電変換素子３
４上に結像させることで、原稿画像を電気的信号に変換
した上で出力するものである。

【００５７】（自動原稿搬送装置４）自動原稿搬送装置
４は、原稿セットトレイ４０上に載置された原稿を原稿
載置台３０上に向かって搬送し、走査後の原稿を原稿排
出トレイ４２上に排出する原稿搬送手段４１を備えてい
る。また、自動供給が不可能なシート物の原稿を原稿載
置台３０上に載置して走査可能なように、装置奥側を支
点にして上方に回動して、装置の手前側が開放するよう
に構成されている。

【００５８】（中継搬送ユニット８）中継搬送ユニット
８は、プリンタ２の頂部に設けられた排紙トレイ２９の
上部に装着され、プリンタ２から排出される画像が記録
された用紙を、プリンタ２の下流側に位置するシート後
処理装置５に向かって導入するための搬送ユニットであ
る。

【００５９】また、この中継搬送ユニット８の用紙搬送
経路８４の途中で、用紙を該ユニットの上面８２とシー
ト後処理装置５の上面５４とで形成された排出トレイ９
に用紙を導く別の用紙搬送路８３が分岐している。２つ
の排出先は、搬送路の分岐部に配置されたゲート８１の
切り替えにより、変更可能になっている。

【００６０】次に、図３〜図５を参照して、本実施形態
の光走査装置２２について詳細に説明する。

【００６１】図３は、光走査装置２２の外観を示す全体
斜視図であり、図４は、光走査装置２２の主要部品群お
よび光ビームの光路を示す斜視図である。

【００６２】光走査装置２２は、ビーム出射手段として
の半導体レーザ１１２から回転方向に複数の反射面１２
０ａを有する回転多面鏡１２０に向かって照射される光
ビーム（以下、適宜「入射ビーム」という）１０３を、
回転多面鏡１２０の反射面１２０ａで反射し、該反射に
より形成された光ビーム（以下、適宜「出射ビーム」と
いう）１０４によって、被走査体であるドラム状の感光
体２００を走査する装置である。

【００６３】半導体レーザ１１２から回転多面鏡１２０
までの光路（以下、適宜「入射ビーム光路」という）
と、回転多面鏡１２０から感光体２００までの光路（以
下、適宜「出射ビーム光路」という）とには、種々の光
学部品が配置されている。ここで、入射ビーム光路に配
置されている光学部品を入射光学系１０１と呼び、出射
ビーム光路に配置されている光学部品を出射光学系１０
２と呼ぶことにする。

【００６４】入射光学系１０１は、半導体レーザ１１２
から出射された入射ビーム１０３を回転多面鏡１２０に
導くと共に、入射ビーム１０３の断面形状が回転多面鏡
１２０の反射面１２０ａの幅よりも広い幅の矩形状とな
るように、入射ビーム１０３を成形する。

【００６５】入射ビーム光路においては、半導体レーザ
１１２から回転多面鏡１２０に向かって、出射された光
ビームを平行ビームに変換するコリメータレンズ１１
３、入射された光ビームを走査方向に拡大する凹レンズ
１１４、略中央部に矩形状の開口１１５ａが設けられた
板状部材により構成された開口板１１５、シリンドリカ
ルレンズ１１６、入射光学系の折返し手段としての入射
折返しミラー１１７、および、収束レンズとしてのｆθ
レンズ１２３が順番に配設されている。

【００６６】尚、ｆθレンズ１２３は、レンズ１２１お
よびレンズ１２２の一対のレンズで構成されている。ま
た、半導体レーザ１１２、コリメータレンズ１１３、凹
レンズ１１４および開口板１１５は、ビームユニット１
１１を構成している。

【００６７】次いで、出射光学系１０２は、回転多面鏡
１２０の反射面１２０ａにより反射された出射ビーム１
０４を回転多面鏡１２０から感光体２００に導くと共
に、出射ビーム１０４が感光体２００上を照射した際の
ビームスポット１０８が、所定の大きさとなり、感光体
２００上を等速度で走査するように作用する。

【００６８】出射ビーム光路においては、回転多面鏡１
２０から感光体２００に向かって、収束レンズとしてレ
ンズ１２１およびレンズ１２２の一対のレンズで構成さ
れたｆθレンズ１２３、出射光学系の折返し手段として
の出射折返しミラー１２４、および、回転多面鏡１２０
の面倒れ補正を行う第２の折返し手段としてのシリンド
リカルミラー１２５がこの順番に配設されている。

【００６９】入射ビーム１０３は、入射折返しミラー１
１７により進行方向を変えられて、ｆθレンズ１２３の
端部に、斜め下方から上方に向かって通過し、回転多面
鏡１２０の反射面１２０ａの高さ方向中央域に照射され
る。

【００７０】出射ビーム１０４は、ｆθレンズ１２３に
斜め下方から上方に向かって通過し、出射折返しミラー
１２４とシリンドリカルミラー１２５とを介して、感光
体２００に導かれる。出射ビーム１０４は、回転多面鏡
１２０の反射面１２０ａの回転方向の位置により、異な
る光路を通って感光体２００に至る。

【００７１】ここで、出射ビーム１０４のうち、感光体
２００の画像形成に使用される幅、すなわち、主走査ラ
イン１０７を走査するための出射ビーム１０４（以下、
「主走査ビーム１０５」ともいう）が走査する際に通過
する空間領域を主走査ビーム域と呼ぶことにする。この
出射ビーム１０４が感光体２００を走査する際には、該
出射ビーム１０４は主走査ライン１０７を定期的に走査
する一方で、感光体２００が回転するので、一定期間毎
に感光体２００上の異なる場所を走査することになる。

【００７２】また、出射ビーム１０４が感光体２００を
走査する毎に、主走査ライン１０７の書きはじめ点１０
７ａが同一となるように、各走査毎に同期させるための
同期検出装置１２９が設けられている。

【００７３】同期検出装置１２９には、同期をとるため
の信号として、主走査ビーム域以外の出射ビーム１０４
（以下、「同期検出ビーム１０６」ともいう）を検出す
るための同期検出センサ１２７が設けられている。

【００７４】同期検出センサ１２７は、同期検出ビーム
１０６が、ｆθレンズ１２３を通過した後に、出射光学
系１０２の出射折返しミラー１２４の端部１２４ａによ
り折返され、さらに、同期ビーム折返し手段としての折
返しミラー１２６により折り返された同期ビームを検出
するようになっている。

【００７５】図５は、入射ビーム１０３および出射ビー
ム１０４の光軸（ビームの中心）を直線上に展開して表
した場合の図３および図４に示した入射光学系と出射光
学系との作用を示す図である。ここで、図５（ａ）は、
出射ビーム１０４の光軸が走査の際に形成する平面（以
下、走査平面という）に垂直な方向から見た平面図であ
り、図５（ｂ）は、走査平面に平行な方向から見た側面
図である。

【００７６】尚、出射ビーム１０４は、回転多面鏡１２
０の反射面１２０ａの回転方向の位置により反射方向が
異なるので、その光軸も反射面１２０ａの回転に伴って
変わるが、同図における出射ビーム１０４（主走査ビー
ム１０５）の光軸は、ｆθレンズ１２３の中央を通って
感光体２００の主走査ライン１０７のセンタに至る主走
査ビーム１０５の光軸（以下、この光軸に沿った方向を
「走査角センタ方向」という）を表現している。

【００７７】図５（ａ）および図５（ｂ）に示すよう
に、半導体レーザ１１２から略円錐状に出射された入射
ビーム１０３は、コリメータレンズ１１３により平行ビ
ームに変換される。平行ビームとなった入射ビーム１０
３の光軸に垂直な方向の断面は、略円形である。この
後、入射ビーム１０３は、凹レンズ１１４を通過し、凹
レンズ１１４によって拡散されて、光軸に垂直な方向の
断面が略円形状の拡散ビームになる。次に、凹レンズ１
１４を通過した入射ビーム１０３は、開口板１１５に設
けた開口１１５ａを通過し、光軸に垂直な方向の断面が
矩形状の拡散ビームになる。

【００７８】この後、入射ビーム１０３は、シリンドリ
カルレンズ１１６に入射する。シリンドリカルレンズ１
１６により、図５（ａ）に示すように、入射ビーム１０
３のシリンドリカルレンズ１１６の母線に平行な方向
は、そのまま拡散を続け、入射ビーム１０３のシリンド
リカルレンズ１１６の母線に垂直な方向は、収束するよ
うに変えられる。

【００７９】その後、図５（ａ）に示すように、入射ビ
ーム１０３は、ｆθレンズ１２３の端部を通過して、該
ｆθレンズ１２３により走査平面に平行なビームとされ
て、回転多面鏡１２０の反射面１２０ａに、走査平面に
平行なビームとして入射する。

【００８０】また、図５（ｂ）に示すように、入射ビー
ム１０３は、ｆθレンズ１２３に斜め下方から斜め上方
に向かって入射して、回転多面鏡１２０の反射面１２０
ａに、収束ビームのままで入射する。入射ビーム１０３
が収束する収束線は、回転多面鏡１２０の反射面１２０
ａの高さ方向中央の近傍となる。入射ビーム１０３は、
その光軸に垂直な形状が、回転多面鏡１２０の反射面１
２０ａの回転方向の幅よりも大きく、細長い矩形状に成
形されたビームとなっており、反射面１２０ａの１つが
回転するにつれて、入射ビーム１０３の異なる部分を反
射して、異なる方向に向かう出射ビーム１０４を形成す
る。

【００８１】回転多面鏡１２０の反射面１２０ａにより
反射されて形成された出射ビーム１０４は、走査平面に
平行な方向では平行ビームのままで、走査平面に垂直な
方向では収束線を通過後に拡散ビームとなって、ｆθレ
ンズ１２３に向かう。出射ビーム１０４は、斜め下方か
ら斜め上方に向かってｆθレンズ１２３を通過し、走査
平面に平行な方向では感光体２００表面で収束するよう
に収束ビームとされ、走査平面に垂直な方向では拡散ビ
ームのままである。

【００８２】その後、出射ビーム１０４のうちの主走査
ビームに当たるビームは、出射折返しミラー１２４によ
り折返されて、シリンドリカルミラー１２５に反射され
て、感光体２００に向かう。

【００８３】シリンドリカルミラー１２５により反射後
の出射ビーム１０４は、走査平面に平行な方向では収束
ビームのままであり、走査平面に垂直な方向では感光体
２００上で収束するような収束ビームに変えられる。

【００８４】以上のようにして、出射ビーム１０４は、
感光体２００上に、所定の大きさのビームスポット１０
８を結ぶことになる。

【００８５】尚、ｆθレンズ１２３は、上述した役割の
ほかに、回転多面鏡１２０の等角速度運動により等角速
度で移動する出射ビーム１０４が、感光体２００上に照
射された際に、ビームスポット１０８が主走査ライン上
で等線速度で移動するように変換する役割をも担ってい
る。

【００８６】図６は、本実施形態の光走査装置２２を上
方から見た平面図であり、図７は、該光走査装置２２を
主走査方向から見た断面図であり、図８は、該光走査装
置２２の要部を説明するための概略図である。

【００８７】本光走査装置２２においては、図６および
図７に示すように、入射光学系１０１に配置される入射
折返しミラー１１７は、出射光学系１０２に設けられた
出射折返しミラー１２４の近傍に配置されている。

【００８８】すなわち、図８に示すように、入射折返し
ミラー１１７は、出射折返しミラー１２４との最短距離
が２０ｍｍ未満、好ましくは、その最短距離が２ｍｍ以
上１５ｍｍ以下となるように、出射折返しミラー１２４
の端部１２４ａの近傍（エリアＡ内）に配置されてい
る。また、この場合に、出射ビーム１０４の走査角セン
タ方向（以下、この方向を「Ｘ方向」ともいう）におけ
る光走査装置筐体の長さをＸ１とする。

【００８９】これに対し、比較例が図９に示される。同
図に示すように、この比較例では、入射折返しミラー１
１７が、出射折返しミラー１２４の端部１２４ａの近傍
（エリアＡ）から離れ、Ｘ方向に、ｆθレンズ１２３か
ら遠ざかる位置に配置されており、この場合、入射折返
しミラー１１７が、Ｘ方向において、出射折返しミラー
１２４の外方に突出することになる。

【００９０】すなわち、図９に示される比較例におい
て、Ｘ方向における光走査装置筐体の長さをＸ２とする
と、本実施形態の光走査装置筐体の長さＸ１よりも、
（Ｘ２−Ｘ１）分だけ大きくなり、この突出分だけ光走
査装置筐体が大きくなる。

【００９１】また、他の比較例が図１０に示される。同
図に示すように、この比較例では、入射折返しミラー１
１７が、出射折返しミラー１２４の端部１２４ａの近傍
（エリアＡ）から離れ、Ｘ方向に、ｆθレンズ１２３に
近い位置に配置されている。この場合、半導体レーザ１
１２から回転多面鏡１２０までの光路長（Ｌ１''＋Ｌ
２''）を本実施形態と等しくすると、半導体レーザ１１
２が、Ｘ方向において、回転多面鏡１２０より外方に突
出することになる。

【００９２】すなわち、図１０に示される比較例におい
て、Ｘ方向における光走査装置筐体の長さをＸ３とする
と、本実施形態の光走査装置筐体の長さＸ１よりも、
（Ｘ３−Ｘ１）分だけ大きくなり、この突出分だけ光走
査装置筐体が大きくなる。

【００９３】さらに、図１１に示される、本実施形態の
光走査装置２２においては、出射折返しミラー１２４の
端部１２４ａの近傍に配置されている入射折返しミラー
１１７によって、半導体レーザ１１２から出射された入
射ビーム１０３は、角度α１で折り曲げられ、回転多面
鏡１２０に導かれている。このときの出射ビーム１０４
の副走査方向、すなわち、光走査装置筐体の高さ方向
（以下、この方向を「Ｚ方向」ともいう）における高さ
をＺ１とする。

【００９４】これに対する比較例が図１２に示される。
同図に示すように、この比較例では、入射折返しミラー
１１７が、出射折返しミラー１２４の近傍（エリアＡ）
から、光走査装置筐体の高さ方向（Ｚ方向）に離れた位
置に配置されている。この場合、入射折返しミラー１１
７が、高さ方向（Ｚ方向）において、より筐体下側に突
出することになる。

【００９５】すなわち、図１２に示される比較例におい
て、Ｚ方向における光走査装置筐体の高さをＺ２とする
と、本実施形態の光走査装置筐体の高さＺ１よりも、
（Ｚ２−Ｚ１）分だけ大きくなり、この突出分だけ光走
査装置筐体が大きくなる。

【００９６】以上のように、入射折返しミラー１１７
を、出射折返しミラー１２４の近傍に配置することによ
って、光走査装置２２を、Ｘ方向およびＺ方向において
小さくすることができ、光走査装置筐体の小型化を図る
ことができる。

【００９７】さらに、他の実施形態として、図１３に示
すように、入射折返しミラー１１７の一部を、出射ビー
ム１０４の主走査方向（以下、この方向を「Ｙ方向」と
もいう）からみて、出射折返しミラー１２４とオーバー
ラップする位置に配置してもよい。

【００９８】すなわち、図６に示される構成のＹ方向に
おける長さをＹ２とすると、図１３に示される構成で
は、入射折返しミラー１１７の一部を、出射折返しミラ
ー１２４とオーバーラップする位置に配置することによ
って、入射折返しミラー１１７が出射折返しミラー１２
４からＹ方向に突出しないために、Ｙ方向における長さ
をＹ２よりも小さな値Ｙ１にすることができ、これによ
って、光走査装置筐体の小型化を図ることができる。

【００９９】つまり、図１３に示される構成では、光走
査装置筐体の主走査方向（Ｙ方向）の長さをＹ１とする
と、入射折返しミラー１１７の一部を、出射折返しミラ
ー１２４に重畳させることにより、（Ｙ２−Ｙ１）分だ
け主走査方向（Ｙ方向）に短く構成することができ、こ
れによって、光走査装置筐体の小型化を図ることができ
る。

【０１００】また、他の実施形態として、図１４に示す
ように、入射折返しミラー１１７を、出射折返しミラー
１２４の背面Ｂ側に配置する構成としてもよい。これに
より、光走査装置筐体の外方から入射折返しミラー１１
７の位置を調整する場合、ドライバなどの工具を挿入し
たりする際に、出射折返しミラー１２４が障害とならな
いため、入射折返しミラー１１７の位置調整を容易に行
うことができる。

【０１０１】また、前述したように、出射ビーム１０４
が感光体２００を走査する毎に、主走査ライン１０７の
書き始め点１０７ａを同一とするための同期ビーム折返
しミラー１２６および同期検出センサ１２７を含む同期
検出装置１２９を備えた場合には、図１５に示すよう
に、回転多面鏡１２０により反射された出射ビーム１０
４の走査角センタＸ０を中心として、同期ビーム折返し
ミラー１２６が配置された第１のエリアＥ１に対して、
対応する第２のエリアＥ２側に、半導体レーザ１１２、
入射折返しミラー１１７、同期検出センサ１２７を配置
する構成とすることが好ましい。

【０１０２】これにより、同期ビーム折返しミラー１２
６を配置する際、半導体レーザ１１２から出射され、入
射折返しミラー１１７により折返され、回転多面鏡１２
０に至る入射ビーム１０３の障害とならないため、同期
ビーム折返しミラー１２６の配置レイアウトにおける自
由度を向上できる。

【０１０３】〔実施形態２〕本発明の他の実施形態につ
いて図１６〜図２２に基づいて説明すれば、以下のとお
りである。尚、説明の便宜上、前記実施形態にて示した
部材と同一の機能を有する部材には、同一の符号を付記
し、その説明を省略する。

【０１０４】本実施形態においては、図１６および図１
７に示すように、ビーム出射手段である半導体レーザ１
１２が、Ｘ方向において、回転多面鏡１２０とｆθレン
ズ１２３との間であって、Ｙ方向において、出射折返し
ミラー１２４とｆθレンズ１２３とによって規定される
領域内に配置されている。

【０１０５】すなわち、図１６に示すように、半導体レ
ーザ１１２は、Ｘ方向における、回転多面鏡１２０の外
側端部１２０ｂに対応する境界線Ｘａと、１組のｆθレ
ンズ１２３のうち、回転多面鏡１２０側に近いレンズ１
２１の端部１２１ａに対応する境界線Ｘｂとの間（Ｘａ
−Ｘｂ間）の領域であって、Ｘ方向と直交する方向、す
なわち、出射ビーム１０４の主走査方向（Ｙ方向）にお
ける、出射折返しミラー１２４の端部１２４ｂに対応す
る境界線Ｙａと、ｆθレンズ１２３のうち、回転多面鏡
１２０側に近いレンズ１２１の端部１２１ｂに対応する
境界線Ｙｂとの領域（Ａ）内に配置されている。尚、半
導体レーザ１１２は、Ｘ方向において、レンズ１２１よ
りも回転多面鏡１２０に近い側に配置されていることが
好ましい。

【０１０６】上記構成により、Ｘ方向およびＹ方向にお
ける長さを短く構成することができ、光走査装置筐体の
小型化を図ることができる。

【０１０７】例えば、半導体レーザ１１２を、前記領域
（Ａ）から外れた位置、例えば、図１８に示すように、
半導体レーザ１１２を境界線Ｘａより外側に設けると、
回転多面鏡１２０の端部１２０ｂに対応した境界線Ｘａ
より外側に突出することになり、その分だけ、光走査装
置筐体が大きくなってしまう。

【０１０８】また、図１９に示すように、半導体レーザ
１１２を境界線Ｘｂより内側に設けると、ｆθレンズ１
２３の端部が障害となって、入射光学系１０１（コリメ
ータレンズ１１３、凹レンズ１１４、開口板１１５、シ
リンドリカルレンズ１１６）を配置することが困難とな
る。

【０１０９】また、図２０に示すように、半導体レーザ
１１２を、出射折返しミラー１２４の端部１２４ｂに対
応する境界線Ｙａより外側に設けると、Ｙ方向におい
て、半導体レーザ１１２および入射光学系１０１（コリ
メータレンズ１１３、凹レンズ１１４、開口板１１５、
シリンドリカルレンズ１１６）が、境界線Ｙａより外側
に突出することになり、その分だけ、光走査装置筐体が
大きくなってしまう。

【０１１０】また、図２１に示すように、半導体レーザ
１１２を、レンズ１２１の端部１２１ｂに対応する境界
線Ｙｂより内側に設けると、半導体レーザ１１２からの
光ビーム１０３がｆθレンズ１２３により遮られること
になる。

【０１１１】以上のように、半導体レーザ１１２を、前
記領域（Ａ）内に配置することによって、光走査装置筐
体の小型化を図ることができる。

【０１１２】さらに、本実施形態の光走査装置には、実
施形態１と同様に、画像信号と主走査ライン１０７との
同期をとるために、同期ビーム折返しミラー１２６およ
び同期検出センサ１２７を含む同期検出装置１２９が設
けられている。

【０１１３】これによって、出射ビーム１０４の一部１
０６を出射折返しミラー１２４の端部１２４ａによって
反射し、そのビーム１０６を同期ビーム折返しミラー１
２６にて折り返した後、同期検出センサ１２７に導き、
同期検出センサ１２７が検出することにより、画像信号
と主走査ライン１０７との同期をとることができる。

【０１１４】本実施形態においては、同期ビーム折返し
ミラー１２６と、半導体レーザ１１２および同期検出セ
ンサ１２７とを、走査角センタＸ０（図２２参照）を中
心として、対向する位置に配置する。

【０１１５】例えば、図２２に示すように、光走査装置
２２を、走査角センタＸ０を中心として、第１の領域
（Ｅ１）と第２の領域（Ｅ２）とに分けた場合、同期ビ
ーム折返しミラー１２６を第１の領域（Ｅ１）に、半導
体レーザ１１２および同期検出センサ１２７を第２の領
域（Ｅ２）にそれぞれ配置する。

【０１１６】これにより、同期ビーム折返しミラー１２
６を配置する際、入射光路および出射光路の邪魔になら
ない位置に配置することができるため、レイアウト上の
自由度を向上できる。

【０１１７】さらに、図２２に示すように、半導体レー
ザ１１２および同期検出センサ１２７を配置した第２の
領域（Ｅ２）が、画像形成装置本体の背面（Ｂ）側に位
置するように配置される。

【０１１８】これにより、同期検出センサ１２７が、入
射光路および出射光路から退避した位置にあるので、同
期検出センサ１２７に接続されるハーネス線（Ｌ）が入
出射光路の障害とならず、また、同期検出センサ１２７
と半導体レーザ１１２とを、装置本体の背面（Ｂ）側に
配置することにより、装置本体の制御部（Ｃ）と接続す
るとき、それぞれのハーネス線（Ｌ）を一体に結線する
ことができ、組立時における作業を容易にすることがで
きる。

【０１１９】〔実施形態３〕本発明のさらに他の実施形
態について図２３〜図２５に基づいて説明すれば、以下
のとおりである。尚、説明の便宜上、前記実施形態にて
示した部材と同一の機能を有する部材には、同一の符号
を付記し、その説明を省略する。

【０１２０】本実施形態においては、半導体レーザ１１
２と回転多面鏡１２０とを近設して配置し、入射折返し
ミラー１１７によって、半導体レーザ１１２から出射さ
れた光ビーム１０３を、半導体レーザ１１２の近傍に設
けられた回転多面鏡１２０に向けて折返すように構成す
る。

【０１２１】すなわち、図２３乃至図２５に示すよう
に、光走査装置２２のＸ方向において、回転多面鏡１２
０を、半導体レーザ１１２の近傍、すなわち、Ｘ方向の
後端部に並設して配置し、半導体レーザ１１２から出射
された光ビーム１０３が、入射折返しミラー１１７によ
って折り返され、半導体レーザ１１２に並設して配置さ
れた回転多面鏡１２０に入射するように構成する。

【０１２２】より具体的には、半導体レーザ１１２から
入射折返しミラー１１７までの光ビームの距離をＰ、入
射折返しミラー１１７から回転多面鏡１２０までの光ビ
ームの距離をＱ、半導体レーザ１１２と回転多面鏡１２
０との間の最短距離をＲとすると、Ｑ＝０．８〜１．２
Ｐ、かつ、ＰまたはＱ＞２Ｒの関係を満たすように、半
導体レーザ１１２と回転多面鏡１２０とが互いに近設し
て配置されている。

【０１２３】図２５においては、主走査方向（Ｙ方向）
からみて、半導体レーザ１１２から出射された光ビーム
１０３をＬａ、入射折返しミラー１１７によって折り返
された光ビーム１０３をＬｂとして示されている。

【０１２４】半導体レーザ１１２から出射された光ビー
ムＬａは、入射折返しミラー１１７によって折り返さ
れ、その光ビームＬｂは、光ビームＬａの近傍に沿って
送られ、回転多面鏡１２０の反射面１２０ａに入射す
る。光ビームＬａと光ビームＬｂとは、Ｖ字状を形成す
る。

【０１２５】このように、入射ビーム１０３の折り返し
回数を最小限（１回）にして、かつ、入射折返しミラー
１１７の位置設定によって入射ビーム光路が形成される
ため、入射折返しミラー１１７の位置精度を高めること
ができると共に、入射折返しミラー１１７による平面度
を高めることができる。

【０１２６】また、半導体レーザ１１２から回転多面鏡
１２０までの入射ビーム１０３の光路長（Ｌａ＋Ｌｂ）
を、入射折返しミラー１１７によって折り返すことによ
り、光路長（Ｌａ＋Ｌｂ）よりも短いスペース内に配置
できる。これにより、光走査装置２２のＸ方向およびＹ
方向における光ビームの拡がりを規制して、光走査装置
筐体の小型化を図ることができる。

【０１２７】また、本実施形態においては、主走査方向
（Ｙ方向）から見て、出射折返しミラー１２４によって
折り返された出射ビーム１０５が、入射ビーム１０３と
交差するように構成されるとともに、第２の出射折返し
ミラー１２５によって折り返された光ビーム１０５が、
シリンドリカルレンズ（第２の収束レンズ）１３０を介
して感光体２００上に収束するように構成されている。

【０１２８】すなわち、図２３乃至図２５に示すよう
に、主走査方向（Ｙ方向）から見て、回転多面鏡１２０
により反射された出射ビーム１０４が、出射折返しミラ
ー１２４および第２の出射折返しミラー１２５によって
折り返され、シリンドリカルレンズ１３０を通過し、感
光体２００上に収束される。

【０１２９】ここで、図２５に示されるように、回転多
面鏡１２０によって反射され、出射折返しミラー１２４
に至る光ビームをＬｃ、出射折返しミラー１２４により
折り返され、第２の出射折返しミラー１２５に至る光ビ
ームをＬｄ、第２の出射折返しミラー１２５により折り
返され、感光体２００上に収束される光ビームをＬｅ、
とする。同図に示されるように、出射折返しミラー１２
４によって折り返され、第２の出射折返しミラー１２５
に至る光ビームＬｄは、入射ビーム１０３の光ビームＬ
ａおよび光ビームＬｂと交差し、さらに、第２の出射折
返しミラー１２５によって折り返され、感光体２００に
至る光ビームＬｅは、シリンドリカルレンズ１３０を通
過して、感光体２００上を走査する。すなわち、出射ビ
ーム光路Ｌｃ〜Ｌｅは、Ｚ字状に形成される。

【０１３０】これによって、感光体２００と回転多面鏡
１２０とは、互いに離隔された位置、すなわち、出射光
路Ｌｃ〜Ｌｅによって形成されるＺ字の両端部に配置す
ることができるため、回転多面鏡１２０を高速回転させ
るときに発生する熱が、感光体２００に悪影響を及ぼす
ことがなく、また、画像形成時、感光体２００に供給さ
れる現像剤（トナー）が飛散して、回転多面鏡１２０の
反射面１２０ａに付着するといったことを防止できる。

【０１３１】さらに、半導体レーザ１１２から入射折返
しミラー１１７に至る光ビームＬａと、出射折返しミラ
ー１２４によって折り返され、第２の出射折返しミラー
１２５に至る光ビームＬｄとが、ｆθレンズ１２３のう
ち、出射折返しミラー１２４に近い側のレンズ１２２と
シリンドリカルレンズ１３０との間を通過するように構
成することができるため、主走査方向（Ｙ方向）から見
て、光ビームＬａと光ビームＬｄとが交差するため、光
走査装置２２の副走査方向（Ｚ方向）における拡がりを
防止することができ、よって、光走査装置筐体の小型化
を図ることができる。

【０１３２】〔実施形態４〕本発明のさらに他の実施形
態について図２６〜図２８に基づいて説明すれば、以下
のとおりである。尚、説明の便宜上、前記実施形態にて
示した部材と同一の機能を有する部材には、同一の符号
を付記し、その説明を省略する。

【０１３３】本実施形態においては、入射折返しミラー
１１７が、Ｘ方向において、ｆθレンズ１２３と出射折
返しミラー１２４との間であって、Ｙ方向において、ｆ
θレンズ１２３の側端部と出射折返しミラー１２４の側
端部とによって規定されるエリア（Ｅ）内に配置されて
いる。

【０１３４】すなわち、図２６および図２７に示すよう
に、Ｘ方向において、ｆθレンズ１２３のうち、出射折
返しミラー１２４に近い側のレンズ１２２の前端部１２
２ａに対応する境界線をＸａ、出射折返しミラー１２４
の反射面１２４ｃに対応する境界線をＸｂ、Ｙ方向にお
いて、ｆθレンズ１２３のＹ方向における側端部、すな
わち、ｆθレンズ１２３のうち、出射折返しミラー１２
４に近い側のレンズ１２２の側端部１２２ｂに対応する
境界線をＹａ、出射折返しミラー１２４の側端部１２４
ｂに対応する境界線をＹｂ、とすると、前記Ｘａ、Ｘ
ｂ、Ｙａ、Ｙｂによって規定されるエリア（Ｅ）内に、
入射折返しミラー１１７が配置されている。

【０１３５】これにより、半導体レーザ１１２から出射
される光ビーム１０３を、入射折返しミラー１１７によ
って折曲し、ｆθレンズ１２３を通過した後、回転多面
鏡１２０に入射させることによって、光走査装置２２の
Ｘ方向およびＹ方向における光ビーム１０３の拡がりを
規制し、これによって、光走査装置筐体の小型化を図る
ことができる。

【０１３６】さらに、図２８に示すように、入射折返し
ミラー１１７を、前記エリア（Ｅ）内のＸ方向におけ
る、レンズ１２２の前端部１２２ａと、出射折返しミラ
ー１２４の反射面１２４ｃとの間の中間位置Ｘ０より
も、出射折返しミラー１２４に近い方のエリア（Ｅ２）
内に配置してもよい。

【０１３７】これによって、入射光路長を長くすること
ができ、ｆθレンズ１２３の主走査方向（Ｙ方向）にお
ける長さを小さくすることができ、光走査装置筐体の小
型化を図ることができる。

【０１３８】また、半導体レーザ１１２から入射折返し
ミラー１１７までの光ビーム１０３が、回転多面鏡１２
０によって反射された光ビーム１０４の走査角センタ
（Ｙ０）と略平行となるように配置されている。

【０１３９】これによって、光走査装置２２のＸ方向お
よびＹ方向における光ビーム１０３の拡がりを規制し
て、光走査装置筐体を略矩形状に構成することができ、
光走査装置筐体の小型化を図ることができる。

【０１４０】また、前記実施形態と同様に、半導体レー
ザ１１２、入射光学系１０１、入射折返しミラー１１７
を、主走査方向（Ｙ方向）における走査終端側（図８に
おける下側）に配置し、一方、画像信号と走査ビームと
の同期をとるため、回転多面鏡１２０により反射された
光ビーム１０４の一部１０６を、出射折返しミラー１２
４の走査開始側の端部１２４ａにより折り返すととも
に、該折り返された光ビーム１０６を所定の方向に折り
返すための同期ビーム折返しミラー１２６を走査開始側
（図８における上側）に配置し、該同期ビーム折返しミ
ラー１２６によって折り返された光ビーム１０６を検出
する同期検出センサ１２７を走査終端側に配置してもよ
い。

【０１４１】すなわち、回転多面鏡１２０により反射さ
れた光ビーム１０４の一部１０６を、出射折返しミラー
１２４の端部１２４ａによりＸ方向に折り返し、同期ビ
ーム折返しミラー１２６により主走査方向（Ｙ方向）に
折り返し、その折り返された光ビーム１０６を同期検出
センサ１２７により検出するように構成する。

【０１４２】これによって、同期ビーム折返しミラー１
２６を配置するとき、半導体レーザ１１２から出射され
る光ビーム１０３を遮ったり、入射光学系１０１に制限
されたりすることがなく、レイアウトを自由に決めるこ
とができる。

【０１４３】〔実施形態５〕本発明のさらに他の実施形
態について図２９〜図３５に基づいて説明すれば、以下
のとおりである。尚、説明の便宜上、前記実施形態にて
示した部材と同一の機能を有する部材には、同一の符号
を付記し、その説明を省略する。

【０１４４】本実施形態においては、半導体レーザ１１
２から出射され、入射折返しミラー１１７に照射される
光ビーム１０３が、Ｘ方向におけるｆθレンズ１２３の
前端部Ｘａと後端部Ｘｂとの間（Ｘａ−Ｘｂ間）におい
て、Ｙ方向におけるｆθレンズ１２３の側端部（Ｙａ）
と出射折返しミラー１２４の側端部（Ｙｂ）とによって
規定されるエリア（Ｅ）内を通過するように構成されて
いる。

【０１４５】すなわち、図２９に示すように、Ｘ方向に
おいて、ｆθレンズ１２３の前端部、すなわち、レンズ
１２２の前端部１２２ａに対応する境界線をＸａ、ｆθ
レンズ１２３の後端部、すなわち、レンズ１２１の後端
部１２１ａに対応する境界線をＸｂ、とし、Ｙ方向にお
いて、ｆθレンズ１２３の側端部、すなわち、出射折返
しミラー１２４に近い側のレンズ１２２の側端部１２２
ｂに対応する境界線をＹａ、出射折返しミラー１２４の
側端部１２４ｂに対応する境界線をＹｂ、とすると、半
導体レーザ１１２から出射され、入射折返しミラー１１
７に至る光ビーム１０３が、前記境界線Ｘａ、Ｘｂ、Ｙ
ａ、Ｙｂによって規定されるエリア（Ｅ）の範囲内を通
過するように、半導体レーザ１１２および入射光学系が
配置されている。

【０１４６】これにより、光ビームのＸ方向およびＹ方
向への拡がりを防止することができ、光走査装置筐体の
小型化を図ることができる。

【０１４７】尚、図２９のＡ−Ａ線における断面図が、
図３０に示される。

【０１４８】本実施形態の構成に対する比較例の構成が
図３１に示される。同図に示すように、半導体レーザ１
１２から出射され、入射折返しミラー１１７に至る光ビ
ーム１０３が、前記境界線Ｘａ、Ｘｂ、Ｙａ、Ｙｂによ
って規定されるエリア（Ｅ）から外れた場合には、主走
査方向（Ｙ方向）において、半導体レーザ１１２、入射
光学系１０１を構成するコリメータレンズ１１３、凹レ
ンズ１１４、開口板１１５、シリンドリカルレンズ１１
６、入射折返しミラー１１７が、出射折返しミラー１２
４の側端部１２４ｂに対応する境界線ＹｂからＴ１分、
主走査方向（Ｙ方向）に突出することになり、その分、
光走査装置筐体が大きくなってしまう。

【０１４９】また、別の比較例の構成が図３２に示され
る。同図に示すように、半導体レーザ１１２を回転多面
鏡１２０に近設して配置し、半導体レーザ１１２から出
射される光ビーム１０３を主走査方向（Ｙ方向）に傾け
た場合であって、ＸｂからＸａに至る部分の光ビーム１
０３が、前記境界線Ｘａ、Ｘｂ、Ｙａ、Ｙｂによって規
定されるエリア（Ｅ）から一部外れた場合には、入射折
返しミラー１１７が、出射折返しミラー１２４の側端部
１２４ｂに対応する境界線ＹｂからＴ２分、主走査方向
（Ｙ方向）に大きく突出することになり、その分、光走
査装置筐体が大きくなってしまう。

【０１５０】これに対して、本実施形態の構成によれ
ば、光走査装置２２のＸ方向およびＹ方向への拡がりを
防止することによって、光走査装置筐体の小型化を図る
ことができる。

【０１５１】また、本実施形態の他の構成として、図３
３に示すように、光走査装置２２の副走査方向（Ｚ方
向）、すなわち、回転多面鏡１２０により反射された光
ビーム１０４の走査面に垂直な方向において、回転多面
鏡１２０の反射面１２０ａの中心部１２０ｃによって規
定される境界線Ｚｃと、該回転多面鏡１２０を高速回転
させるために設けられたモータなどを備えた駆動装置１
３１の下端部１３１ａによって規定される境界線Ｚａと
の間（Ｚｃ−Ｚａ間）に、半導体レーザ１１２および入
射折返しミラー１１７を配置してもよい。

【０１５２】これにより、半導体レーザ１１２および入
射光学系１０１を構成するコリメータレンズ１１３、凹
レンズ１１４、開口板１１５、シリンドリカルレンズ１
１６、入射折返しミラー１１７が、駆動装置１３１の下
端部１３１ａから副走査方向（Ｚ方向）に突出すること
がないため、光走査装置２２の副走査方向（Ｚ方向）へ
の拡がりを防止することができ、光走査装置筐体の小型
化を図ることができる。

【０１５３】また、本実施形態の他の構成として、図３
４に示すように、光走査装置２２の副走査方向（Ｚ方
向）において、回転多面鏡１２０の反射面１２０ａの中
心部１２０ｃによって規定される境界線Ｚｃと、ｆθレ
ンズ１２３の下端部、すなわち、出射折返しミラー１２
４に近い側のレンズ１２２の下端部１２２ｄによって規
定される境界線Ｚｂとの間（Ｚｂ−Ｚｃ間）に、半導体
レーザ１１２および入射光学系１０１の入射折返しミラ
ー１１７を配置してもよい。

【０１５４】これにより、半導体レーザ１１２および入
射光学系１０１を構成するコリメータレンズ１１３、凹
レンズ１１４、開口板１１５、シリンドリカルレンズ１
１６、入射折返しミラー１１７が、レンズ１２２の下端
部１２２ｄから副走査方向（Ｚ方向）に突出することが
ないため、光走査装置２２の副走査方向（Ｚ方向）への
拡がりを防止することができ、光走査装置筐体の小型化
を図ることができる。

【０１５５】また、本実施形態の他の構成として、半導
体レーザ１１２から出射される光ビーム１０３、あるい
は入射光学系１０１の光軸が、光走査装置２２本体の下
面と平行となるように配置してもよい。

【０１５６】すなわち、図３５に示すように、半導体レ
ーザ１１２から出射される光ビーム１０３、あるいは入
射光学系１０１のコリメータレンズ１１３、凹レンズ１
１４、開口板１１５、シリンドリカルレンズ１１６の光
軸１０３ａが、光走査装置２２本体を構成する下フレー
ム２２ａと平行となるように配置する。

【０１５７】これにより、半導体レーザ１１２および入
射光学系１０１を構成するコリメータレンズ１１３、凹
レンズ１１４、開口板１１５、シリンドリカルレンズ１
１６、入射折返しミラー１１７を、光走査装置２２本体
の下フレーム２２ａに支持した場合、半導体レーザ１１
２、コリメータレンズ１１３、凹レンズ１１４、開口板
１１５、シリンドリカルレンズ１１６、入射折返しミラ
ー１１７を、下フレーム２２ａに沿って移動させること
によって、位置調整を容易に行うことができる。

【０１５８】

【発明の効果】本発明の光走査装置によれば、回転多面
鏡により反射された出射ビームの走査角センタ方向およ
び主走査方向の長さを短く構成することができるので、
光走査装置筐体の小型化を実現することができる、とい
う効果を奏する。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施の一形態に係る光走査装置が設け
られる画像形成装置の構成を示す断面構成図である。

【図２】上記画像形成装置における、感光体の周囲を詳
細に示す図である。

【図３】本発明の実施形態の光走査装置の外観を示す全
体斜視図である。

【図４】上記光走査装置の主要部品群および光ビームの
光路を示す斜視図である。

【図５】上記光走査装置において、入射ビームおよび出
射ビームの光軸を直線上に展開して表した図であり、
（ａ）は、走査平面に垂直な方向から見た平面図であ
り、（ｂ）は、走査平面に平行な方向から見た側面図で
ある。

【図６】上記光走査装置を上方から見た平面図である。

【図７】上記光走査装置を主走査方向から見た断面図で
ある。

【図８】上記光走査装置の要部を説明するための概略図
である。

【図９】上記光走査装置に対する比較例の構成を示す図
である。

【図１０】上記光走査装置に対する他の比較例の構成を
示す図である。

【図１１】本発明の実施形態の光走査装置を主走査方向
から示す図である。

【図１２】上記光走査装置に対する比較例の構成を示す
図である。

【図１３】本発明の実施形態の光走査装置を副走査方向
から示す平面図である。

【図１４】本発明の実施形態の光走査装置における入射
折返しミラーおよび出射折返しミラーの配置関係を示す
図である。

【図１５】本発明の実施形態の光走査装置を副走査方向
から示す平面図である。

【図１６】本発明の他の実施形態の光走査装置を上方か
ら見た平面図である。

【図１７】上記光走査装置を主走査方向から見た図であ
る。

【図１８】上記光走査装置に対する比較例の構成を示す
図である。

【図１９】上記光走査装置に対する他の比較例の構成を
示す図である。

【図２０】上記光走査装置に対するさらに他の比較例の
構成を示す図である。

【図２１】上記光走査装置に対するさらに他の比較例の
構成を示す図である。

【図２２】本発明の実施形態の光走査装置を上方から見
た平面図である。

【図２３】本発明のさらに他の実施形態の光走査装置を
上方から見た平面図である。

【図２４】上記光走査装置を主走査方向から見た図であ
る。

【図２５】光ビームの光路を示すため、上記光走査装置
を主走査方向から見た図である。

【図２６】本発明のさらに他の実施形態の光走査装置を
上方から見た平面図である。

【図２７】上記光走査装置を主走査方向から見た図であ
る。

【図２８】上記光走査装置の他の構成を示す平面図であ
る。

【図２９】本発明のさらに他の実施形態の光走査装置を
上方から見た平面図である。

【図３０】図２９のＡ−Ａ線における断面図である。

【図３１】上記光走査装置に対する比較例の構成を示す
図である。

【図３２】上記光走査装置に対する他の比較例の構成を
示す図である。

【図３３】本発明の実施形態の光走査装置を主走査方向
から見た図である。

【図３４】本発明の実施形態の光走査装置を主走査方向
から見た図である。

【図３５】本発明の実施形態の光走査装置において、入
射ビームと装置本体の下フレームとの関係を示す図であ
る。

【図３６】従来のセンタ入射式オーバーフィル型光走査
装置を示す斜視図である。

【図３７】従来の斜め入射式オーバーフィル型光走査装
置を示す斜視図である。

【符号の説明】

１画像形成システム（画像形成装置）２２光走査装置１１２半導体レーザ（ビーム出射手段）１１７入射折返しミラー（入射光学系の折返し手段）１２０回転多面鏡１２３ｆθレンズ（収束レンズ）１２４出射折返しミラー（出射光学系の折返し手段）１２５第２の出射折返しミラー（第２の折返し手段）１２６同期ビーム折返し手段１２７同期検出センサ１３０シリンドリカルレンズ（第２の収束レンズ）２００感光体（被走査体）

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者西口哲也大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号シャープ株式会社内Ｆターム(参考） 2C362 AA42 AA48 BA83 BA84 BA86 BA87 BA90 DA03 DA06 2H045 AA01 BA41 CA03 CB42 DA02 DA04 5C051 AA02 CA07 DB02 DB22 DB24 DB30 DC04 DC07 FA01 5C072 AA03 BA01 DA02 DA04 DA21 HA02 HA09 HA13 XA01 XA05

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】光ビームにより被走査体上を走査するため
に、光ビームを出射するビーム出射手段と、前記ビーム
出射手段からの入射ビームを折返し、該入射ビームを回
転多面鏡に導くための入射光学系の折返し手段と、前記
回転多面鏡により反射された出射ビームを折返し、前記
被走査体に導くための出射光学系の折返し手段とを備え
た光走査装置において、前記入射光学系の折返し手段と前記出射光学系の折返し
手段との最短距離が２０ｍｍ未満となるように、両手段
が互いに近設して配置されていることを特徴とする光走
査装置。
【請求項２】前記入射光学系の折返し手段と前記出射光
学系の折返し手段との最短距離が２ｍｍ以上１５ｍｍ以
下となるように、両手段が配置されていることを特徴と
する請求項１記載の光走査装置。
【請求項３】前記入射光学系の折返し手段が、前記出射
光学系の折返し手段の背面側に配置されていることを特
徴とする請求項１または２記載の光走査装置。
【請求項４】前記入射光学系の折返し手段の一部が、前
記出射ビームの副走査方向からみて、前記出射光学系の
折返し手段の一部と重なり合うように、両手段が配置さ
れていることを特徴とする請求項１または２記載の光走
査装置。
【請求項５】光ビームにより被走査体上を走査するため
に、光ビームを出射するビーム出射手段と、前記ビーム
出射手段からの入射ビームを折返し、該入射ビームを回
転多面鏡に導くための入射光学系の折返し手段と、前記
回転多面鏡により反射された出射ビームを折返し、前記
被走査体に導くための出射光学系の折返し手段と、前記
入射ビームおよび出射ビームが通過する収束レンズとを
備えた光走査装置において、前記ビーム出射手段が、前記出射ビームの走査角センタ
方向においては、前記回転多面鏡の後端部と前記収束レ
ンズの後端部との間に配置されており、前記出射ビーム
の主走査方向においては、前記出射光学系の折返し手段
の前記入射光学系が配置される側の側端部と前記収束レ
ンズの前記入射光学系が配置される側の側端部との間に
配置されていることを特徴とする光走査装置。
【請求項６】前記ビーム出射手段が、前記出射ビームの
走査角センタ方向において、前記収束レンズよりも前記
回転多面鏡に近い側に配置されていることを特徴とする
請求項５記載の光走査装置。
【請求項７】光ビームにより被走査体上を走査するため
に、光ビームを出射するビーム出射手段と、前記ビーム
出射手段からの入射ビームを折返し、該入射ビームを回
転多面鏡に導くための入射光学系の折返し手段と、前記
回転多面鏡により反射された出射ビームを折返し、前記
被走査体に導くための出射光学系の折返し手段とを備え
た光走査装置において、前記ビーム出射手段から前記入射光学系の折返し手段ま
での光ビームの距離をＰ、前記入射光学系の折返し手段
から前記回転多面鏡までの光ビームの距離をＱ、前記ビ
ーム出射手段と前記回転多面鏡との間の最短距離をＲと
すると、Ｑ＝０．８〜１．２Ｐ、かつ、ＰまたはＱ＞２Ｒの関係を満たすように、前記ビーム出射手段と前記回転
多面鏡とが互いに近設して配置されていることを特徴と
する光走査装置。
【請求項８】光ビームにより被走査体上を走査するため
に、光ビームを出射するビーム出射手段と、前記ビーム
出射手段からの入射ビームを折返し、該入射ビームを回
転多面鏡に導くための入射光学系の折返し手段と、前記
回転多面鏡により反射された出射ビームを折返し、前記
被走査体に導くための出射光学系の折返し手段と、前記
入射ビームおよび出射ビームが通過する収束レンズとを
備えた光走査装置において、前記入射光学系の折返し手段が、前記出射ビームの走査
角センタ方向においては、前記収束レンズの前端部と前
記出射光学系の折返し手段の正面側端部との間に配置さ
れており、前記出射ビームの主走査方向においては、前
記出射光学系の折返し手段の前記入射光学系が配置され
る側の側端部と前記収束レンズの前記入射光学系が配置
される側の側端部との間に配置されていることを特徴と
する光走査装置。
【請求項９】前記入射光学系の折返し手段が、前記出射
ビームの走査角センタ方向において、前記収束レンズよ
りも前記出射光学系の折返し手段に近い側に配置されて
いることを特徴とする請求項８記載の光走査装置。
【請求項１０】光ビームにより被走査体上を走査するた
めに、光ビームを出射するビーム出射手段と、前記ビー
ム出射手段からの入射ビームを折返し、該入射ビームを
回転多面鏡に導くための入射光学系の折返し手段と、前
記回転多面鏡により反射された出射ビームを折返し、前
記被走査体に導くための出射光学系の折返し手段と、前
記入射ビームおよび出射ビームが通過する収束レンズと
を備えた光走査装置において、前記ビーム出射手段から前記入射光学系の折返し手段に
至る光ビームが、前記出射ビームの走査角センタ方向に
おいては、前記収束レンズの前端部と後端部との間の領
域を通過し、前記出射ビームの主走査方向においては、
前記出射光学系の折返し手段の前記入射光学系が配置さ
れる側の側端部と前記収束レンズの前記入射光学系が配
置される側の側端部との間の領域を通過するように構成
されていることを特徴とする光走査装置。
【請求項１１】前記ビーム出射手段および前記入射光学
系の折返し手段が、前記出射ビームの副走査方向におい
て、前記回転多面鏡の中心部と、該回転多面鏡を駆動す
る駆動装置の下端部との間に配置されていることを特徴
とする請求項１０記載の光走査装置。
【請求項１２】前記ビーム出射手段および前記入射光学
系の折返し手段が、前記出射ビームの副走査方向におい
て、前記回転多面鏡の中心部と、前記収束レンズの下端
部との間に配置されていることを特徴とする請求項１０
記載の光走査装置。
【請求項１３】画像信号に対する同期信号を検出するた
めに、前記出射ビームの一部を予め定める方向に折返す
同期ビーム折返し手段と、該同期ビーム折返し手段によ
り折返された光ビームを検出する同期検出センサとを備
え、前記出射ビームの走査角センタからみて、前記同期ビー
ム折返し手段が配置される側とは反対側に、前記ビーム
出射手段および前記入射光学系の折返し手段が配置され
ていることを特徴とする請求項１、５、７、８、１０の
いずれか１項に記載の光走査装置。
【請求項１４】前記出射ビームの走査角センタからみ
て、前記ビーム出射手段および前記同期検出センサが同
じ側の領域内に配置されていることを特徴とする請求項
１３記載の光走査装置。
【請求項１５】前記ビーム出射手段および前記同期検出
センサが配置される領域が、画像形成装置の背面側に位
置するように、該画像形成装置内に配置されていること
を特徴とする請求項１４記載の光走査装置。
【請求項１６】前記出射ビームの主走査方向からみて、
前記出射光学系の折返し手段によって折返された光ビー
ムが、前記入射ビームと交差するように構成されている
ことを特徴とする請求項１、５、７、８、１０のいずれ
か１項に記載の光走査装置。
【請求項１７】前記出射光学系の折返し手段によって折
返された光ビームをさらに折返す第２の折返し手段を備
え、該第２の折返し手段により折返された光ビームによ
って被走査体上を走査するように構成されていることを
特徴とする請求項１または７に記載の光走査装置。
【請求項１８】前記入射光学系の折返し手段により反射
された光ビームと、前記回転多面鏡により反射された光
ビームとが通過する第１の収束レンズと、前記第２の折
返し手段と前記被走査体との間に配置され、光ビームを
収束するための第２の収束レンズとを備え、前記ビーム出射手段から前記入射光学系の折返し手段に
至る光ビームと、前記出射光学系の折返し手段によって
折返された光ビームとが、前記第１の収束レンズと第２
の収束レンズとの間を通過するように構成されているこ
とを特徴とする請求項１７記載の光走査装置。
【請求項１９】前記出射光学系の折返し手段によって折
返された光ビームをさらに折返す第２の折返し手段を備
え、該第２の折返し手段により折返された光ビームによ
って被走査体上を走査するように構成されていることを
特徴とする請求項５、８、１０のいずれか１項に記載の
光走査装置。
【請求項２０】前記第２の折返し手段と前記被走査体と
の間に配置され、光ビームを収束するための第２の収束
レンズを備え、前記ビーム出射手段から前記入射光学系の折返し手段に
至る光ビームと、前記出射光学系の折返し手段によって
折返された光ビームとが、前記収束レンズと第２の収束
レンズとの間を通過するように構成されていることを特
徴とする請求項１９記載の光走査装置。
【請求項２１】前記ビーム出射手段から前記入射光学系
の折返し手段に至る光ビームの光路が、前記出射ビーム
の走査角センタ方向と略平行となるように構成されてい
ることを特徴とする請求項１、５、７、８、１０のいず
れか１項に記載の光走査装置。
【請求項２２】前記ビーム出射手段から前記入射光学系
の折返し手段に至る光ビームが、前記出射ビームの主走
査方向からみて、装置筐体の下面と略平行となるように
構成されていることを特徴とする請求項１、５、７、
８、１０のいずれか１項に記載の光走査装置。