JP2002284790A - ルテニウム化合物、ジアミン配位子および光学活性アルコールの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】ルテニウム化合物、そのジアミン配位子及び該
ルテニウム化合物を触媒として用いる光学活性アルコー
ル類の高立体選択的、高収率な製造方法を提供する。 【解決手段】式：Ｒｕ（Ｘ）（Ｙ）（Ｐｘ）ｎ₁[Ｒ¹Ｒ²
Ｃ^*（ＮＲ³Ｒ⁴）−Ａ−Ｒ⁵Ｒ⁶Ｃ^*（ＮＲ⁷Ｒ⁸）] 〔式中、Ｘ及びＹは、それぞれ独立して、水素原子、ハ
ロゲン原子、カルボキシル基、水酸基又はＣ１〜Ｃ２０
アルコキシ基を表し、Ｐｘは、ホスフィン配位子を表
し、Ｒ¹〜Ｒ⁸はそれぞれ独立して、水素原子、置換基を
有してもよいＣ１〜Ｃ２０アルキル基等を表す。Ａは、
置換基を有していてもよくエーテル結合を有していても
よいＣ１〜Ｃ３アルキレン等を表わす。）で表される基
であり、＊は不斉炭素原子であることを示し、ｎ₁は１
または２の整数を表す。〕で表されるルテニウム化合
物、式：Ｒ¹Ｒ²Ｃ^*（ＮＲ³Ｒ⁴）−Ａ−Ｒ⁵Ｒ⁶Ｃ^*（ＮＲ
⁷Ｒ⁸）で表されるジアミン化合物、及び該ルテニウム化
合物を用いて縮合環ケトン類又はα−アミノケトン類を
不斉水素還元する方法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、ルテニウム化合
物、該ルテニウム化合物の配位子として好適に用いられ
るジアミン化合物、及び該ルテニウム化合物を不斉還元
触媒として用いて、縮合環ケトン類又はα−アミノケト
ン類を不斉還元することを特徴とする光学活性アルコー
ル類の製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】光学活性アルコール類は、医薬・農薬の
合成中間体として有用である。従来、縮合環ケトン類を
触媒的不斉還元することによって、対応する光学活性ア
ルコール類を得る方法としては、 イリジウム錯体を触媒に用いる水素化による方法
〔Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，１１５，３３１８
（１９９３）〕、 ルテニウムを触媒に用いる水素移動による方法（特開
平１０−１３０２８９号公報）、 ルテニウムを触媒に用いる水素化による方法（特開平
１１−１８９６００号公報）等が知られている。

【０００３】また、α−アミノケトン類を水素化反応す
ることによって、対応する光学活性アミノアルコールを
得る方法としては、特願２０００−２０８６６４号
や、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，１２２，５１０
（２０００）に報告例がある。

【０００４】しかしながら、の方法は、極めて高価な
イリジウム錯体を用いるため、コスト面から実用化は困
難であり、の方法は、水素源として蟻酸等の有機化合
物を用いなければならず、水素ガス等の安価な水素源を
用いる場合に比べ、操作的・コスト的に不利であり、
の方法は、ケトン類の不斉還元方法として優れたもので
あるが、環状ケトン類の不斉還元についての知見は従来
得られておらず、また、の方法は、α−アミノケトン
類の不斉還元に関するものであるが、触媒としては複数
の置換基を有する高価な２座ホスフィン配位子を用いな
ければ良好な結果が得られない等の問題があった。

【０００５】従って、水素ガス等の安価な水素源を用い
て、縮合環ケトン類やα−アミノケトン類から対応する
光学活性アルコール類を高選択的、高収率に製造できる
不斉還元触媒の開発が望まれている。

【０００６】

【発明の解決しようとする課題】本発明は、かかる実状
に鑑みてなされたものであり、入手容易なルテニウム化
合物、該ルテニウム化合物の配位子として好適に用いる
ことができるジアミン化合物、及び該ルテニウム化合物
を不斉還元触媒として用いて、縮合環ケトン類又はα−
アミノケトン類を不斉還元して、対応する光学活性アル
コール類を高立体選択的、かつ高収率に製造する方法を
提供することを課題とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明は第１に、一般式
（１）： Ｒｕ（Ｘ）（Ｙ）（Ｐｘ）ｎ₁[Ｒ¹Ｒ²Ｃ^*（ＮＲ³Ｒ⁴）
−Ａ−Ｒ⁵Ｒ⁶Ｃ^*（ＮＲ⁷Ｒ⁸）] 〔式中、Ｘ及びＹは、それぞれ独立して、水素原子、ハ
ロゲン原子、カルボキシル基、水酸基又はＣ１〜Ｃ２０
アルコキシ基を表し、Ｐｘは、ホスフィン配位子を表
し、Ｒ¹〜Ｒ⁸はそれぞれ独立して、水素原子、置換基を
有してもよいＣ１〜Ｃ２０アルキル基、置換基を有して
もよいＣ２〜Ｃ２０アルケニル基、置換基を有してもよ
いＣ３〜Ｃ８シクロアルキル基、置換基を有してもよい
アラルキル基又は置換基を有してもよいアリール基を表
す。また、Ｒ¹とＲ²のいずれかがＲ³とＲ⁴のいずれか
と、Ｒ⁵とＲ⁶のいずれかがＲ ⁷とＲ⁸のいずれかとが結合
して環を形成してもよい。Ａは、置換基を有していても
よくエーテル結合を有していてもよいＣ１〜Ｃ３アルキ
レン、置換基を有していてもよいＣ３〜Ｃ８シクロアル
キレン、置換基を有していてもよいアリレンまたは置換
基を有していてもよい２価のヘテロ環を表わす。Ａがア
ルキレンの場合はＲ¹とＲ²のいずれかとＲ⁵とＲ⁶のいず
れかとが結合して環を形成してもよい。）で表される基
であり、＊は不斉炭素原子であることを示し、ｎ₁は１
または２の整数を表す。〕で表されるルテニウム化合物
（請求項１）、一般式（１）中のジアミンが一般式
（２）： [Ｒ¹Ｒ²Ｃ^*（ＮＲ³Ｒ⁴）−Ａ−Ｒ⁵Ｒ⁶Ｃ^*（ＮＲ³Ｒ⁴）] （式中、Ａ、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶は請求項１
と同様である）であることを特徴とする請求項１記載の
ルテニウム化合物（請求項２）、一般式（１）中のジア
ミンが一般式（２’）：[Ｒ¹Ｒ²Ｃ^*（ＮＲ³Ｒ⁴）−Ａ−
Ｒ¹Ｒ²Ｃ^*（ＮＲ³Ｒ⁴）]（式中、Ａ、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、
Ｒ⁴は請求項１と同様である）であることを特徴とする
請求項１記載のルテニウム化合物（請求項３）、ＡがＣ
１〜Ｃ３アルキレンであることを特徴とする請求項１〜
３記載のルテニウム化合物（請求項４）、Ｒ ²、Ｒ³、Ｒ
⁴、Ｒ⁶、Ｒ⁷及びＲ⁸が水素原子である、請求項１、請求
項３または請求項４記載のルテニウム化合物である（請
求項５）。

【０００８】本発明は第２に、一般式（２）：Ｒ¹Ｒ²Ｃ
^*（ＮＲ³Ｒ⁴）−Ａ−Ｒ⁵Ｒ⁶Ｃ^*（ＮＲ³Ｒ⁴）〔式中、Ｒ
¹〜Ｒ⁸、Ａ及び＊は、前記で示したいずれかの意味を表
す。〕で表されるジアミン化合物を提供する（請求項
６）。

【０００９】本発明は第３に、一般式（３）又は
（３’）

【００１０】

【化３】

【００１１】（式中、Ａ環部は置換基を有してもよい３
〜８員環を表し、Ｂ環部は、置換基を有していてもよ
く、ヘテロ原子を含んでもよい、４〜８員環を表す。）
で表される縮合環ケトン類を、本発明のルテニウム化合
物のいずれか１種若しくは２種以上の存在下に、水素ガ
ス又は水素供与体を水素源として用いて不斉水素還元す
る工程を有することを特徴とする一般式（４）又は
（４’）

【００１２】

【化４】

【００１３】（式中、Ａ環部、Ｂ環部及び＊は前記と同
じ意味を表す。）で表される光学活性アルコール類の製
造方法を提供する（請求項７）。

【００１４】本発明は第４に、一般式（５）：Ｒａ−Ｃ
Ｏ−ＣＨ（Ｒｂ）−Ｒｃ〔式中、Ｒａ及びＲｃは、それ
ぞれ独立して、水素原子、置換基を有してもよいＣ１〜
Ｃ２０アルキル基、置換基を有してもよいＣ２〜Ｃ２０
アルケニル基、置換基を有してもよいＣ３〜Ｃ８シクロ
アルキル基、置換基を有してもよいアラルキル基又は置
換基を有してもよいアリール基を表す。

【００１５】Ｒｂは、 一般式（６）：Ｒ⁹ＣＯ（Ｒ¹¹）Ｎ− 一般式（７）：Ｒ⁹ＣＯ（Ｒ¹⁰ＣＯ）Ｎ− 一般式（８）：Ｒ⁹Ｒ¹¹Ｎ− で表されるいずれかの基を表す。（ここで、Ｒ⁹、Ｒ¹⁰
及びＲ¹¹は、それぞれ独立して、水素原子、ホルミル
基、置換基を有してもよいＣ１〜Ｃ２０アルキル基、置
換基を有してもよいＣ２〜Ｃ２０アルケニル基、置換基
を有してもよいＣ１〜Ｃ２０アルコキシ基、置換基を有
してもよいＣ３〜Ｃ８シクロアルキル基、置換基を有し
てもよいＣ３〜Ｃ８シクロアルコキシ基、置換基を有し
てもよいアラルキル基、置換基を有してもよいアラルキ
ルオキシ基、置換基を有してもよいアリール基又は置換
基を有してもよいアリールオキシ基をそれぞれ表し、ま
た、Ｒ⁹とＲ¹¹若しくはＲ⁹とＲ¹⁰は結合して、５〜８員
の含窒素ヘテロ環を形成してもよい。）〕で表されるα
−アミノケトン類を、本発明のルテニウム化合物のいず
れか１種若しくは２種以上の存在下に、水素ガス又は水
素供与体を水素源として用いて不斉水素還元する工程を
有する、一般式（１０）：Ｒａ−Ｃ^*Ｈ（ＯＨ）−ＣＨ
（Ｒｂ）−Ｒｃ〔式中、Ｒａ、Ｒｂ、Ｒｃ及び＊は前記
と同じ意味を表す。〕で表される光学活性β−アミノア
ルコール製造方法を提供する（請求項８）。

【００１６】本発明のルテニウム化合物は、入手容易な
ルテニウム塩（化合物）を出発原料として用いるもので
あって、容易に製造をすることができる。また、本発明
のジアミン化合物は、本発明のルテニウム化合物の配位
子として好適に用いることができる。さらに、本発明の
光学活性アルコール類の製造方法によれば、該ルテニウ
ム化合物を不斉還元触媒として用い、縮合環ケトン類又
はα−アミノケトン類を出発原料として、医薬・農薬の
合成中間体として有用な前記一般式（４）、（４’）及
び（１０）で表される光学活性アルコール類を、水素ガ
ス等の安価な水素源を用いて高立体選択的かつ高収率に
製造することができる。

【００１７】

【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
本発明は、一般式(１)で表されるルテニウム化合物、
該ルテニウム化合物の配位子として好適に用いること
ができる一般式（２）で表されるジアミン化合物、及
び該ルテニウム化合物を不斉還元触媒として用いて、一
般式（３）及び（３’）で表される縮合環ケトン類、又
は一般式（５）で表されるα−アミノケトン類を、不斉
還元して光学活性アルコール類を製造する方法である。

【００１８】本発明は、一般式（１）で表されるルテニ
ウム化合物である。

【００１９】一般式（１）において、Ａは、メチレン、
エチレン、プロピレン等のＣ１〜Ｃ３のアルキレン；シ
クロプロピレン、シクロブチレン、シクロペンチレン、
シクロヘキシレン等のＣ３〜Ｃ８のシクロアルキレン；
フェニレン、ナフチレン等のアリレン；または２価のヘ
テロ環を表し、該へテロ該としては、フラン、ピラン、
ジオキソラン、チオフェン、チオピラン、ピロール、イ
ミダゾール、ピラゾール、オキサゾール、トリアゾー
ル、チアゾール、イソチアゾール、ピリジン、ピリダジ
ン、ピラジン、ベンゾイミダゾール、ベンゾピラゾー
ル、ベンゾチアゾール、キノリン、インドリン、フェナ
ントロリン、ジオキソラン−２−オン、ジオキサン、オ
キサゾリジン、オキサゾリジノン、テトラヒドロフラ
ン、テトラヒドロチオフェン、スルホラン等の飽和又は
不飽和のヘテロ環が挙げられる。また、アルキレン基は
任意の位置にエーテル結合を含んでいても良い。

【００２０】これらの基は更に置換基を有していてよ
く、該置換基としては、メチル、エチル、プロピル等の
Ｃ１〜Ｃ６アルキル基；メトキシ、エトキシ、プロポキ
シ等のＣ１〜Ｃ６アルコキシ基；フェニル、ナフチル等
のアリール基；フェノキシ等のアリールオキシ基；ベン
ジルオキシ基等のアラルキルオキシ基が挙げられる。

【００２１】Ａがアルキレンのとき、Ｒ¹とＲ²のいずれ
かとＲ³とＲ⁴のいずれかが結合して環を形成してもよ
い。

【００２２】Ｐｘはホスフィン配位子を表す。Ｐｘとし
ては、例えば、一般式：ＰＲ_AＲ_BＲ _Cで表される単座ホ
スフィン配位子や、一般式：Ｒ_DＲ_EＰ−Ｗ−ＰＲ_FＲ_Gで
表される２座ホスフィン配位子等が挙げられるが、光学
活性であるのが好ましい。

【００２３】一般式：ＰＲ_AＲ_BＲ_Cで表される単座ホス
フィン配位子において、Ｒ_A、Ｒ_B及びＲ_Cは、それぞれ
独立して、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピ
ル、ｎ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔ−ブチル、ペンチ
ル、ヘキシル基等のＣ１〜Ｃ２０アルキル基；置換基を
有してもよいフェニル基；シクロプロピル、シクロペン
チル、シクロヘキシル基等のＣ３〜Ｃ８シクロアルキル
基；等を表す。また、Ｒ_A、Ｒ_B及びＲ_Cのうちの２つが
結合して、置換基を有してもよい炭素環を形成してもよ
い。

【００２４】前記フェニル基及び炭素環の置換基として
は、例えば、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲン
原子；水酸基；アミノ基；メチル、エチル、プロピル、
ブチル基等のＣ１〜Ｃ２０アルキル基；エテニル、プロ
ペニル、ブテニル基等のＣ２〜Ｃ２０アルケニル基；シ
クロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル基等のＣ
３〜Ｃ８シクロアルキル基；ベンジル、α−メチルベン
ジル、α，α−ジメチルベンジル基等のアラルキル基；
フェニル、１−ナフチル、２−ナフチル基等のアリール
基；メトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、イソプロポ
キシ、ブトキシ基等のＣ１〜Ｃ２０アルコキシ基；アシ
ルオキシ基；アシル基；ヘテロ環基；等が挙げられる。

【００２５】一般式：ＰＲ_AＲ_BＲ_Cで表される単座ホス
フィン配位子の具体例としては、トリメチルホスフィ
ン、トリエチルホスフィン、トリブチルホスフィン、ト
リフェニルホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィ
ン、トリ（ｐ−トリル）ホスフィン、ジフェニルメチル
ホスフィン、ジメチルフェニルホスフィン、イソプロピ
ルメチルホスフィン、シクロヘキシル（Ｏ−アニシル）
−メチルホスフィン、１−[２−（ジフェニルホスフィ
ノ）フェロセニル]エチルメチルエーテル、２−（ジフ
ェニルホスフィノ）−２’−メトキシ−１，１’−ビナ
フチル等の３級ホスフィンが好適なものとして挙げるこ
とができる。また、エチルメチルブチルホスフィン、エ
チルメチルフェニルホスフィン、イソプロピルエチルメ
チルホスフィン等のＲ_A、Ｒ_B及びＲ_Cが３種とも異なる
置換基からなるホスフィン配位子を用いることもでき
る。

【００２６】一般式：Ｒ_DＲ_EＰ−Ｗ−ＰＲ_FＲ_Gで表され
る２座ホスフィン配位子において、Ｒ_D、Ｒ_E、Ｒ_F及び
Ｒ_Gは、それぞれ独立して、メチル、エチル、ｎ−プロ
ピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔ
−ブチル、ペンチル、ヘキシル基等のＣ１〜Ｃ２０アル
キル基；置換基を有してもよいフェニル基；又はシクロ
プロピル、シクロペンチル、シクロヘキシル基等のＣ３
〜Ｃ８シクロアルキル基；等を表し、また、Ｒ_DとＲ_Eあ
るいはＲ_FとＲ_Gが結合して置換基を有してもよい炭素環
を形成してもよい。

【００２７】前記フェニル基及び炭素環の置換基として
は、例えば、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲン
原子；水酸基；アミノ基；メチル、エチル、プロピル、
ブチル基等のＣ１〜Ｃ２０アルキル基；エテニル、プロ
ペニル、ブテニル基等のＣ２〜Ｃ２０アルケニル基；シ
クロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル基等のＣ
３〜Ｃ８シクロアルキル基；ベンジル、α−メチルベン
ジル、α，α−ジメチルベンジル基等のアラルキル基；
フェニル、１−ナフチル、２−ナフチル基等のアリール
基；メトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、イソプロポ
キシ、ブトキシ基等のＣ１〜Ｃ２０アルコキシ基；アシ
ルオキシ基；アシル基；ヘテロ環基；等が挙げられる。

【００２８】Ｗは、メチレン、エチレン、トリメチレ
ン、プロピレン基等のＣ１〜Ｃ５アルキレン基；シクロ
プロピレン、シクロブチレン、シクロペンチレン、シク
ロヘキシレン基等のＣ３〜Ｃ６シクロアルキレン基；フ
ェニレン、ナフチレン、１，１’−ビフェニル−２，
２’−ジイル、１，１’−ビナフチル−２，２’−ジイ
ル、１，１’−ビナフチル−７，７’−ジイル基等の置
換基を有してもよいアリレン基；エテニル、プロペニ
ル、イソプロペニル、ブテニル基等のＣ２〜Ｃ２０アル
ケニル基；エチニル、プロピニル基等のＣ２〜Ｃ２０ア
ルキニル基；を表す。

【００２９】前記置換基を有してもよいアリール基の置
換基としては、例えば、メチル、エチル、プロピル、ブ
チル基等のＣ１〜Ｃ２０アルキル基；エテニル、プロペ
ニル、ブテニル等のＣ２〜Ｃ２０アルケニル基；メトキ
シ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、イソプロポキシ、ブト
キシ基等のＣ１〜Ｃ２０アルコキシ基；等が挙げられ
る。

【００３０】一般式：Ｒ_DＲ_EＰ−Ｗ−ＰＲ_FＲ_Gで表され
る２座ホスフィン配位子の具体例としては、ビスジフェ
ニルホスフィノメタン、ビスジフェニルホスフィノエタ
ン、ビスジフェニルホスフィノプロパン、ビスジフェニ
ルホスフィノブタン、ビスジメチルホスフィノエタン、
ビスジメチルホスフィノプロパン等が挙げられる。

【００３１】さらに本発明においては、２，２’−ビス
−（ジフェニルホスフィノ）−１，１’−ビナフチル
（ＢＩＮＡＰ）、及びＢＩＮＡＰのナフチル環にアルキ
ル基やアリール基等の置換基をもつＢＩＮＡＰ誘導体、
フッ素置換基を有するＢＩＮＡＰ誘導体、リン原子上の
同一の２個のベンゼン環にそれぞれアルキルやアルコキ
シ基等の基置換基をそれぞれ１〜５個有するＢＩＮＡＰ
等の誘導体等も好適な２座ホスフィン配位子として例示
できる。

【００３２】これらの具体例としては、２，２’−ビス
−（ジ−ｐ−トリルホスフィノ）−１，１’−ビナフチ
ル（Ｔｏｌ−ＢＩＮＡＰ）、２，２’−ビス[ビス
（３，５−ジメチルフェニル）ホスフィノ]−１，１’
−ビナフチル（Ｘｙｌｙｌ−ＢＩＮＡＰ）、１−
[１’，２−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセニ
ル]エチルジアミン、２，２’−ビス−（ジシクロヘキ
シルホスフィノ）−６，６’−ジメチル−１，１’−ビ
フェニル、２，３−ビス−（ジフェニルホスフィノ）ブ
タン、１−シクロヘキシル−１，２−ビス−（ジフェニ
ルホスフィノ）エタン、１−置換−３，４−ビス−（ジ
フェニルホスフィノ）ピロリジン、２，３−Ｏ−イソプ
ロピリデン−２，３−ジヒドロキシ−１，４−ビス−
（ジフェニルホスフィノ）ブタン、１，２−ビス[（Ｏ
−メトキシフェニル）フェニルホスフィノ]エタン、置
換−１，２−ビス（ホスホラノ）ベンゼン、５，６−ビ
ス−（ジフェニルホスフィノ）−２−ノルボルネン、
Ｎ，Ｎ’−ビス−（ジフェニルホスフィノ）−Ｎ，Ｎ’
−ビス（１−フェニルエチル）エチレンジアミン、１，
２−ビス−（ジフェニルホスフィノ）プロパン、２，４
−ビス−（ジフェニルホスフィノ）ペンタン、［（５，
６），（５’，６’）−ビス（メチレンジオキシ）ビフ
ェニル−２，２’−ジイル］ビス（ジフェニルホスフィ
ン）、１，２−ビス（ｔ−ブチルメチルホスフィノ）エ
タン、２，４−ビス−（ジフェニルホスフィノ）ペンタ
ン等が挙げられる。

【００３３】なお、この発明に用いることのできるホス
フィン配位子は、安定してルテニウム化合物を形成し得
るものであれば、上記のものに限定されるものではな
い。

【００３４】Ｒ¹〜Ｒ⁸は、それぞれ独立して、水素原
子；メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ
−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔ−ブチル、ペンチル、ヘ
キシル基等の置換基を有してもよいＣ１〜Ｃ２０アルキ
ル基（好ましくはＣ１〜Ｃ６のアルキル基）；エテニ
ル、ｎ−プロペニル、イソプロペニル、ｎ−ブテニル、
ｓｅｃ−ブテニル、ｔ−ブテニル、ペンテニル、ヘキセ
ニル基等の置換基を有してもよいＣ２〜Ｃ２０アルケニ
ル基（好ましくはＣ２〜Ｃ６のアルケニル基）；シクロ
プロピル、シクロペンチル、シクロヘキシル基等の置換
基を有してもよいＣ３〜Ｃ８シクロアルキル基；ベンジ
ル、α−メチルベンジル、α，α−ジメチルベンジル、
α−エチルベンジル基等の置換基を有してもよいアラル
キル基；又は、フェニル、１−ナフチル、２−ナフチル
基等の置換基を有してもよいアリール基；を表す。

【００３５】前記Ｃ１〜Ｃ２０アルキル基、Ｃ２〜Ｃ２
０アルケニル基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキル基、アラル
キル基及びアリール基の置換基としては、例えば、フッ
素、塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲン原子；水酸基；置
換若しくは無置換アミノ基；メチル、エチル、ｎ−プロ
ピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔ
−ブチル、ｎ−ペンチル、イソペンチル、ネオペンチ
ル、ｔ−ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノ
ニル、デシル、ドデシル基等のＣ１〜Ｃ２０アルキル
基；エテニル、ｎ−プロペニル、イソプロペニル、ｎ−
ブテニル、ｓｅｃ−ブテニル、ｔ−ブテニル、１，３−
ブタジエニル、ｎ−ペンテニル、２−ペンテニル、３−
ペンテニル、ヘキセニル基等のＣ２〜Ｃ２０アルケニル
基；シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、
シクロヘキシル基等のＣ３〜Ｃ８シクロアルキル基；ベ
ンジル、α−メチルベンジル、α，α−ジメチルベンジ
ル、α−エチルベンジル基等のアラルキル基；フェニ
ル、１−ナフチル、２−ナフチル基等のアリール基；メ
トキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、イソプロポキシ、
ｎ−ブトキシ、ｓｅｃ−ブトキシ、ｔ−ブトキシ基等の
Ｃ１〜Ｃ２０アルコキシ基；アシルオキシ基；アシル
基；又はヘテロ環基；等が挙げられる。

【００３６】前記置換アミノ基としては、例えば、メチ
ルアミノ、ジメチルアミノ、フェニルアミノ、Ｎ−メチ
ル−Ｎ−フェニルアミノ基等の炭化水素基が１又は２個
置換したアミノ基；アセチルアミノ、ベンゾイルアミノ
基等のアシルアミノ基；メタンスルホニルアミノ、トル
エンスルホニルアミノ基等のスルホニルアミノ基；Ｎ−
メチル−Ｎ−アセチルアミノ、Ｎ−エチル−Ｎ−アセチ
ルアミノ、Ｎ−メチル−Ｎ−ベンゾイルアミノ、Ｎ−エ
チル−Ｎ−アシルアミノ基等のＮ−アルキル−Ｎ−アシ
ルアミノ基；Ｎ−メチル−Ｎ−スルホニルアミノ基、Ｎ
−エチル−Ｎ−スルホニルアミノ基等のＮ−アルキル−
Ｎ−スルホニルアミノ基；フタルイミド基等の環状イミ
ド基；等が挙げられる。

【００３７】前記アシルオキシ基としては、例えば、ア
セトキシ、エチルカルボニルオキシ、イソプロピルカル
ボニルオキシ基等のＣ１〜Ｃ１２のアルキルカルボニル
オキシ基；ベンゾイルオキシ基等のアリールカルボニル
オキシ基；フェニルメチルカルボニルオキシ基等のアラ
ルキルカルボニルオキシ基；等が挙げられ、前記アシル
基としては、例えば、プロパノイル、イソプロピルカル
ボニル基等のＣ１〜Ｃ１２のアルキルカルボニル基、メ
トキシカルボニル、エトキシカルボニル、イソプロポキ
シカルボニル、ｔ−ブトキシカルボニル基等のアルコキ
シカルボニル基；ベンゾイル基等のアリールカルボニル
基；フェニルメチルカルボニル基等のアラルキルカルボ
ニル基；等が挙げられる。

【００３８】前記ヘテロ環基としては、例えば、フラニ
ル、ピラニル、ジオキソラニル基等の含酸素ヘテロ環
基；チエニル基等の含イオウヘテロ環基；ピロリル、イ
ミダゾリル、ピラゾリル、オキサゾリル、イソオキサゾ
リル、トリアゾリル、チアゾリル、イソチアゾリル、ピ
リジル、ピラダジル、ピラジニル、ベンゾイミダゾリ
ル、ベンゾピラゾリル、ペンゾチアゾリル、キノリル、
アントラニル、インドリル、フェナントロニリル基等の
飽和若しくは不飽和の含窒素ヘテロ環基；等が挙げられ
る。

【００３９】これらの置換基は、その置換位置、置換基
の種類、置換基の数等に特に制限はない。これらの中で
も、合成及び入手容易性の観点から、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、
Ｒ⁶、Ｒ⁷及びＲ⁸が全て水素原子であるジアミン化合物
が好ましい。

【００４０】また、本発明においては、Ｒ¹とＲ²のいず
れかがＲ³とＲ⁴のいずれかと、あるいはＲ⁵とＲ⁶のいず
れかがＲ⁷とＲ⁸のいずれかと、あるいはＲ¹とＲ²のいず
れかとＲ⁵とＲ⁶のいずれかとが結合して炭素環を形成し
たジアミン化合物を用いることもできる。

【００４１】一般式（１）中、一般式：Ｒ¹Ｒ²Ｃ^*（Ｎ
Ｒ³Ｒ⁴）−Ａ−Ｒ⁵Ｒ⁶Ｃ^*（ＮＲ⁷Ｒ⁸）で表されるジア
ミン配位子の好ましい具体例としては、光学活性２，４
−ジアミノペンタン、光学活性２，５−ジアミノヘキサ
ン、光学活性ビス（２−アミノプロピル）エーテル、光
学活性ビス（２−アミノ−２−フェニルエチル）エーテ
ル、光学活性１，３−ジアミノ−１，３−ジフェニルプ
ロパン、光学活性１，４−ジアミノ−１，４−ジフェニ
ルブタン、光学活性１，２−ビス（１−アミノエチル）
ベンゼン、光学活性１，２−ビス（１−アミノエチル）
シクロヘキサン、光学活性１，１−ビス（１−アミノエ
チル）シクロペンタン、３，４−Ｏ−イソプロピリデン
−（３Ｒ，４Ｒ）−ジヒドロキシ−（２Ｒ，５Ｒ）−ジ
アミノヘキサン等が挙げられる。

【００４２】次に、本発明のルテニウム化合物の製造方
法について説明する。ルテニウム化合物の製造方法に用
いられる出発原料としては、０価、１価、２価、３価及
び、さらに高原子価のルテニウムを用いることができ
る。これらの中でも、Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．Ｉｎｔ．
Ｅｄ．，３７，１７０３（１９９８）に記載の２価ルテ
ニウム錯体を用いる方法が簡便である。すなわち、２価
のルテニウム−ハライド錯体と２座ホスフィン配位子の
溶媒溶液を加熱後、ジアミン化合物を加えることで一般
式（１）で表されるルテニウム化合物を製造することが
できる。

【００４３】以下、出発原料として２価のルテニウム−
ハライド錯体を用いた場合のルテニウム化合物の製造方
法についてより詳細に説明する。まず、出発原料の２価
のルテニウム−ハライド錯体とホスフィン配位子とを、
溶媒中、加熱し反応させ、対応するホスフィン−ルテニ
ウム−ハライド錯体を得る。

【００４４】出発原料の２価のルテニウム−ハライド錯
体としては、ホスフィン配位子及びアミン配位子と置換
可能な配位子を有するルテニウム錯体であれば、特に制
限されるものではない。その具体例としては、[２塩化
ルテニウム（ノルボルナジエン）]多核体、[２塩化ルテ
ニウム（シクロオクタジエン）]多核体、[ビス（メチル
アリル）ルテニウム（シクロオクタジエン）]等のジエ
ンが配位したハロゲン化ルテニウム化合物；[２塩化ル
テニウム（ベンゼン）]二核体、[２塩化ルテニウム（ｐ
−シメン）]二核体、[２塩化ルテニウム（トリメチルベ
ンゼン）]二核体、[２塩化ルテニウム（ヘキサメチルベ
ンゼン）]二核体等の芳香族化合物が配位したハロゲン
化ルテニウム；等が挙げられる。

【００４５】ホスフィン配位子の使用量は、ルテニウム
−ハライド錯体１モルに対して、単座の場合は、通常２
〜３倍モル、好ましくは２倍モルであり、２座の場合
は、通常１〜２倍モル、好ましくは等モルである。

【００４６】この反応に用いられる溶媒としては、例え
ば、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；ペンタ
ン、ヘキサン等の脂肪族炭化水素類；ジクロロメタン、
クロロホルム、トリクロロメタン、四塩化炭素、１，２
−ジクロロエタン等のハロゲン炭化水素類；ジエチルエ
ーテル、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、１，２−ジメ
トキシエタン、１，４−ジオキサン等のエーテル類；メ
タノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパ
ノール、ブタノール、ベンジルアルコール等のアルコー
ル類；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ，
Ｎ−ジメチルアセタミド、１，３−ジメチルイミダゾリ
ジン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、Ｎ−
メチルピロリドン、ヘキサメチルリン酸トリアミド（Ｈ
ＭＰＴ）等のアミド類；アセトニトリル、ベンゾニトリ
ル等のニトリル類；ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）
等が挙げられる。これらの溶媒は単独で、あるいは２種
以上を混合して使用することもできる。

【００４７】溶媒の使用量は、基質１ｇに対して１ｍｌ
〜１００ｍｌ、好ましくは、基質１ｇに対し、１ｍｌ〜
１０ｍｌの範囲である。反応温度は、通常、０〜２００
℃、好ましくは、室温〜１００℃の範囲である。

【００４８】次に、得られたホスフィン−ルテニウム−
ハライド錯体とジアミン化合物とを反応させて、対応す
るアミン−ホスフィン−ルテニウム−ハライド錯体を得
ることができる。この反応に用いられるジアミン化合物
の使用量は、ホスフィン−ルテニウム−ハライド錯体に
対して、通常１〜２倍モル、好ましくは等モルである。
反応温度は、通常、−１００〜２００℃、好ましくは−
１０〜５０℃の範囲である。また、あらかじめ単離した
ホスフィン−ルテニウム−ハライド錯体に、前記と同様
の条件下にジアミン化合物を作用させることによって
も、アミン−ホスフィン−ルテニウム−ハライド錯体を
得ることができる。

【００４９】次いで、得られたアミン−ホスフィン−ル
テニウム−ハライド錯体を、溶媒中、塩基と反応させる
ことによって一般式（１）で表される（ｎ₁＝１、Ｘ＝
Ｙ＝Ｈ）アミン−ホスフィン−ルテニウムヒドリド錯体
を得ることができる。

【００５０】用いられる塩基としては、例えば、トリエ
チルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、
１，４−ジアザビシクロ[２，２，２]オクタン（ＤＡＢ
ＣＯ）、１，４−ジアザビシクロ[５，４，０]ウンデ−
７−エン（ＤＢＵ）等の有機塩基；ナトリウムメトキシ
ド、ナトリウムエトキシド、カリウム ｔ−ブトキシ
ド、マグネシウムエトキシド等の金属アルコキシド類；
ｎ−ブチルリチウム、リチウムジイソプロピルアミド
（ＬＤＡ）等の有機リチウム化合物；水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物；炭酸カ
リウム、炭酸ナトリウム等の炭酸塩；水素化ナトリウム
等の金属水素化物；等が挙げられる。塩基の使用量はア
ミン−ホスフィン−ルテニウム−ハライド錯体に対し
て、通常、２〜１０，０００倍モル、好ましくは、２〜
４０倍モルの範囲である。

【００５１】この反応に用いる溶媒としては、例えば、
トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ベンゼン、
トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；ペンタン、
ヘキサン等の脂肪族炭化水素類；ジクロロメタン、クロ
ロホルム、トリクロロメタン、四塩化炭素、１，２−ジ
クロロエタン等のハロゲン炭化水素類；ジエチルエーテ
ル、ＴＨＦ、１，２−ジメトキシエタン、１，４−ジオ
キサン等のエーテル類；メタノール、エタノール、ｎ−
プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、ベンジ
ルアルコール等のアルコール類；アセトニトリル、ベン
ゾニトリル等のニトリル類；ＤＭＦ、Ｎ，Ｎ−ジメチル
アセタミド、１，３−ジメチルイミダゾリジン、１，３
−ジメチル−２−イミダゾリジノン、Ｎ−メチルピロリ
ドン等のアミド類；ＤＭＳＯ等が挙げられる。これらの
溶媒は単独で、あるいは２種以上を混合して使用するこ
とができる

【００５２】溶媒の使用量は、アミン−ホスフィン−ル
テニウム−ハライド錯体１ｇに対して、１ｍｌ〜１００
ｍｌ、好ましくは１ｍｌ〜１０ｍｌの範囲である。ま
た、反応温度は、通常、−１００〜２００℃、好ましく
は、−１０〜５０℃の範囲である。

【００５３】一般式（１）中、Ｘ又はＹがカルボキシ
基、水酸基、アルコキシ基等であるルテニウム化合物
は、上記の方法等で有られるアミン−ホスフィン−ルテ
ニウム−ハライド錯体にＲＣＯＯＮａやＲＯＮａ（Ｒは
アルキル基等を表す。）等を反応させて得ることができ
る。

【００５４】以上のようにして製造される一般式（１）
で表されるルテニウム化合物は、一般式（３）、
（３’）で表される縮合環ケトン類及び一般式（５）で
表されるα−アミノケトン類の不斉水素化触媒として有
用である。

【００５５】次に本発明のジアミン化合物について説明
する。本発明のジアミン化合物は、一般式（２）：Ｒ¹
Ｒ²Ｃ^*（ＮＲ³Ｒ⁴）−Ａ−Ｒ⁵Ｒ⁶Ｃ^*（ＮＲ⁷Ｒ⁸）で表
されるものである。一般式（２）中、Ｒ¹〜Ｒ⁸、Ａ及び
＊は前記と同じ意味を表す。かかるジアミン化合物は、
例えば、一般式（２ａ）で表されるジケトンを出発原料
として、下記に示す反応スキームにしたがって製造する
ことができる。

【００５６】

【化５】

【００５７】すなわち、ジケトン（２ａ）を不斉還元し
て光学活性ジオール（２ｂ）とし（工程I）、該光学活
性ジオール（２ｂ）を光学活性アジド（２ｃ）に誘導し
（工程ＩＩ）、光学活性アジド（２ｃ）を還元すること
により（工程ＩＩＩ）、容易にジアミン化合物（２）を
製造するこができる。また、ジケトン（２ａ）をジオキ
シム（２ｄ）に変換し（工程ＩＶ）、このものを不斉還
元してジアミン化合物（２）を製造することもできる
（工程Ｖ）。

【００５８】出発原料として用いられるジケトン（２
ａ）としては、例えば、２，４−ペンタンジオン、２，
５−ヘキサンジオン、１，３−ジフェニル−１，３−プ
ロパンジオン、１，４−ジフェニル−１，４−ブタンジ
オン、１，２−ジ（アセチル）ベンゼン等が挙げられ
る。

【００５９】工程Ｉのジケトン（２ａ）の不斉還元反応
は、例えば、特開平１１−１８９６００号公報の記載と
同様にして行うことができる。すなわち、ジケトン（２
ａ）と不斉還元触媒とを有機溶媒中に混合し、さらに所
望により塩基を添加して、所定圧力の水素ガス又は水素
供与体の存在下に不斉還元する方法によって光学活性ジ
オール（２ｂ）を得ることができる。

【００６０】不斉還元触媒としては、例えば、本発明化
合物である光学活性アミン−ホスフィン−ルテニウム−
ハライド錯体を使用することができる。不斉還元触媒の
使用量は、ジケトン（２ａ）に対して１／５０〜１／
２，０００，０００倍モル、好ましくは１／１００〜１
／１，０００，０００倍モルの範囲である。

【００６１】添加する塩基としては、例えば、トリエチ
ルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、Ｄ
ＡＢＣＯ、ＤＢＵ等の有機塩基；ナトリウムメトキシ
ド、ナトリウムエトキシド、カリウム ｔ−ブトキシ
ド、マグネシウムエトキシド等の金属アルコキシド類；
水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水
酸化物；水酸化マグネシウム等のアルカリ土類金属水酸
化物；炭酸ナトリウム、炭酸カルシウム等の炭酸塩；水
素化ナトリウム、水素化カルシウム等の金属水素化物；
等が挙げられる。これら塩基の使用量は、不斉還元触媒
の１モルに対し、２〜１０，０００倍モル、好ましく
は、２〜４０倍モルの範囲である。

【００６２】有機溶媒としては、例えば、メタノール、
エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ブ
タノール、ベンジルアルコール等のアルコール類；ベン
ゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；ペン
タン、ヘキサン等の脂肪族炭化水素類；ジクロロメタ
ン、クロロホルム、トリクロロメタン、四塩化炭素、
１，２−ジクロロエタン等のハロゲン炭化水素類；ジエ
チルエーテル、ＴＨＦ、１，２−ジメトキシエタン、
１，４−ジオキサン等のエーテル類；ＤＭＦ、Ｎ，Ｎ−
ジメチルアセタミド、１，３−ジメチルイミダゾリジ
ン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、Ｎ−メ
チルピロリドン、ＨＭＰＴ等のアミド類；アセトニトリ
ル、ベンゾニトリル等のニトリル類；ＤＭＳＯ等を用い
ることができ、これらの溶媒は単独で、あるいは２種以
上を混合して使用することもできる。これらの中でも、
反応生成物がアルコール化合物であることからアルコー
ル類の使用が好ましい。

【００６３】水素の圧力は、通常、１〜２００気圧、好
ましくは３〜５０気圧の範囲である。また、水素供与体
としては、例えば、水素貯蔵合金やジイミド等を用いる
ことができ、その使用量は、一般式（３）、（３’）又
は（５）で表されるケトン類に対して、通常、１〜１０
０倍モルの範囲である。反応は１５〜１００℃、好まし
くは２５〜４０℃の温度範囲で円滑に進行する。反応時
間は、ジケトン（２ａ）濃度、温度、圧力等の反応条件
に依存するが、通常、数分〜１日である。

【００６４】なお、本工程Iのジケトン（２ａ）の不斉
還元反応は、オキサザボロジンを触媒として不斉ホウ素
還元反応（Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔ．，３
１，６０１（１９９０））等の公知の方法に準じて行う
こともできる。

【００６５】工程ＩＩの光学活性ジオール（２ｂ）のア
ジド化反応としては、溶媒中、アジド化剤及び塩基の
存在下に室温あるいは加熱下に反応させる方法や、ジ
オール（２ｂ）とトシルクロリド、トリフルオロメチル
スルホニルクロリド等とを塩基存在下に反応させること
によりジスルホン酸エステルとした後、これとアジド化
剤を反応させる方法、ジオール（２ｂ）と塩化チオニ
ル等のハロゲン化剤と反応させることによりジハライド
とした後、これとアジド化剤を反応させる方法等が挙げ
られる。

【００６６】アジド化剤としては、ジフェニルホスホリ
ルアジド等の有機アジド化剤、アジ化ナトリウム等無機
アジド化剤等の一般式的に購入できるものを使用するこ
とができる。アジド化剤の使用量は、光学活性ジオール
（２ｂ）に対して、通常２〜１０倍モルの範囲である。

【００６７】アジド化反応に添加する塩基としては、例
えば、トリエチルアミン、ピリジン、ＤＡＢＣＯ、ＤＢ
Ｕ等の有機塩基；ナトリウムメトキシド、ナトリウムエ
トキシド、カリウム ｔ−ブトキシド、マグネシウムエ
トキシド等の金属アルコキシド類；水酸化ナトリウム、
水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物；水酸化マグ
ネシウム等のアルカリ土類金属水酸化物；炭酸ナトリウ
ム、炭酸カルシウム等の炭酸塩；水素化ナトリウム、水
素化カルシウム等の金属水素化物；等が挙げられる。こ
れらの中でも、ＤＢＵ等の有機塩基が好ましい。

【００６８】アジド化反応に用いられる溶媒としては、
例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化
水素類；ペンタン、ヘキサン等の脂肪族炭化水素類；ジ
クロロメタン、クロロホルム、トリクロロメタン、四塩
化炭素、１，２−ジクロロエタン等のハロゲン炭化水素
類；ジエチルエーテル、ＴＨＦ、１，２−ジメトキシエ
タン、１，４−ジオキサン等のエーテル類；ＤＭＦ、
Ｎ，Ｎ−ジメチルアセタミド、１，３−ジメチルイミダ
ゾリジン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、
Ｎ−メチルピロリドン、ＨＭＰＴ等のアミド類；アセト
ニトリル、ベンゾニトリル等のニトリル類；等を用いる
ことができる。これらの溶媒は単独で、あるいは２種以
上を混合して使用することもできる

【００６９】反応は、通常−７８℃〜溶媒の沸点、好ま
しくは−３０℃〜室温の範囲で円滑に進行する。反応時
間は、通常、数分〜１日、好ましくは３〜１８時間であ
る。

【００７０】工程ＩＩＩの光学活性アジド（２ｃ）の還
元反応は、溶媒中、還元剤の存在下に室温又は加熱下に
反応させて行う。還元剤としては、一般的に使用される
還元剤を用いることができるが、その具体例としては、
水素化リチウムアルミニウム、水素化ホウ素ナトリウ
ム、三水素化シアノホウ素ナトリウム、トリエチル水素
化ホウ素リチウム、ジボラン等を挙げることができる。
また、パラジウムや白金の炭素担持体を触媒として水添
条件下で反応を行うこともできる。

【００７１】還元反応に用いられる溶媒としては、例え
ば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソ
プロパノール、ブタノール、ベンジルアルコール等のア
ルコール類；ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族
炭化水素類；ペンタン、ヘキサン等の脂肪族炭化水素
類；ジエチルエーテル、ＴＨＦ、１，２−ジメトキシエ
タン、１，４−ジオキサン等のエーテル類；ＤＭＦ、
Ｎ，Ｎ−ジメチルアセタミド、１，３−ジメチルイミダ
ゾリジン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、
Ｎ−メチルピロリドン、ＨＭＰＴ等のアミド類；ＤＭＳ
Ｏ等を用いることができる。これらの溶媒は単独で、あ
るいは２種以上を混合して使用することもできる。

【００７２】反応は、通常−７８℃〜溶媒の沸点、好ま
しくは−３０℃〜室温の温度範囲で円滑に進行する。反
応時間は、通常、数分〜１日、好ましくは、３〜１８時
間である。

【００７３】工程ＩＶのジケトン（２ａ）のオキシム化
は、溶媒中、ジケトン（２ａ）と一般式：Ｒ¹²ＯＮＨ₂
（Ｒ¹²は、アルキル基等を表す。）で表されるアルコキ
シアミンとを室温又は加熱下に反応させて行う。なお、
アルコキシアミンは塩の形で用い、塩基で中和させなが
ら反応させることもできる。かかるアルコキシアミンの
塩としては、例えば、メトキシアミン塩酸塩、エトキシ
アミン塩酸塩、ベンジルオキシアミン塩酸塩等が挙げら
れる。その使用量は、ジケトン（２ａ）に対して、１〜
１００倍モル、好ましくは２〜２０倍モルの範囲であ
る。

【００７４】この反応に用いられる溶媒としては、不活
性なものであればよく、工業的に使用できる一般的なも
のを用いることができる。その具体例としては、メタノ
ール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノー
ル、ブタノール、ベンジルアルコール等のアルコール
類；ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素
類；ペンタン、ヘキサン等の脂肪族炭化水素類；ジクロ
ロメタン、クロロホルム、トリクロロメタン、四塩化炭
素、１，２−ジクロロエタン等のハロゲン炭化水素類；
ジエチルエーテル、ＴＨＦ、１，２−ジメトキシエタ
ン、１，４−ジオキサン等のエーテル類；ＤＭＦ、Ｎ，
Ｎ−ジメチルアセタミド、１，３−ジメチルイミダゾリ
ジン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、Ｎ−
メチルピロリドン、ＨＭＰＴ等のアミド類；アセトニト
リル、ベンゾニトリル等のニトリル類；ＤＭＳＯ、水等
が挙げられる。これらの溶媒は単独で、あるいは２種以
上を混合して使用することもできる。

【００７５】反応は、通常−５０℃〜溶媒の沸点、好ま
しくは、室温〜溶媒の沸点の温度範囲で円滑に進行す
る。反応時間は、通常、数分〜１日、好ましくは、８〜
１８時間である。

【００７６】工程Ｖのジオキシム光学活性（２ｄ）の不
斉還元反応は、例えば、オキサザボロリジンによる不斉
ホウ素還元反応（Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，６５（１
８），５８７９（２０００）参照。）等の公知の方法に
準じて行うことができる。

【００７７】光学活性アルコールの製造方法 次に、本発明のルテニウム化合物を用いた光学活性アル
コール類の製造方法について説明する。

【００７８】

【化６】

【００７９】

【化７】

【００８０】縮合ケトン類（３）、（３’）又はα−ア
ミノケトン類（５）を出発原料として、ルテニウム化合
物を触媒として不斉水素化還元反応により、それぞれに
対応する光学活性アルコール（４）、（４’）又は（１
０）を製造することができる。

【００８１】まず、基質となる縮合ケトン類（３）及び
（３’）について説明する。 一般式（３）及び
（３’）において、Ａ環部は置換基を有してもよい３〜
８員環を表し、Ｂ環部は、置換されていてもよく、ヘテ
ロ原子を含んでもよい、４〜８員環を表す。前記置換基
を有してもよい３〜８員環もしくは４〜８員環として
は、例えば、シクロプロパン、シクロブタン、シクロペ
ンタン、シクロヘキサン環等の飽和炭化水素環；シクロ
プロペン、シクロブテン、シクロブタジエン、シクロペ
ンテン、シクロペンタジエン、シクロヘキセン、シクロ
ヘキサジエン、ベンゼン環等の不飽和炭化水素環；等が
挙げられる。

【００８２】前記ヘテロ原子を含んでもよい４〜８員ヘ
テロ環としては、例えば、フラン、ピラン、ジオキソラ
ン等の含酸素ヘテロ環；チオフェン等の含イオウヘテロ
環；ピロール、イミダゾール、ピラゾール、オキサゾー
ル、イソオキサゾール、トリアゾール、チアゾール、イ
ソチアゾール、ピリジン、ピラダジン、ピラジン、ベン
ゾイミダゾール、ベンゾピラゾール、ペンゾチアゾー
ル、キノリン、インドリン、フェナントロニリン等の飽
和若しくは不飽和の含窒素ヘテロ環；等が挙げられる。

【００８３】縮合環ケトン類の具体例としては、置換基
を有してもよいα−テトラロン類、置換基を有してもよ
いβ−テトラロン類、置換基を有してもよいクロモン
類、置換基を有してもよい４−クロマノン類、置換基を
有してもよいチオクロマン−４−オン類、置換基を有し
てもよい２，３−ジヒドロ−１Ｈ−キノリン−４−オン
類、置換基を有してもよい２−イソチオクロマン−４−
オン類、置換基を有してもよい２，３−ジヒドロ−１Ｈ
−イソキノリン−４−オン類、置換基を有してもよい１
−インダノン類、置換基を有してもよい２Ｈ−ベンゾフ
ラン−３−オン類、置換基を有してもよい２Ｈ−ベンゾ
チオピラン−３−オン類、置換基を有してもよいインド
リン−３−オン類、置換基を有していてもよい４−ケト
−４，５，６，７−テトラヒドロチアナフテン類等が挙
げられる。

【００８４】前記縮合環ケトン類の置換基としては、例
えば、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲン原子；
水酸基；アミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、アセ
チルアミノ等の置換されていてもよいアミノ基；メチ
ル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチ
ル、ｓｅｃ−ブチル、ｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、イソ
ペンチル、ネオペンチル、ｔ−ペンチル、ヘキシル、ヘ
プチル、オクチル、ノニル、デシル、ドデシル基等のＣ
１〜Ｃ２０アルキル基；エテニル、ｎ−プロペニル、イ
ソプロペニル、ｎ−ブテニル、ｓｅｃ−ブテニル、ｔ−
ブテニル、１，３−ブタジエニル、ｎ−ペンテニル、２
−ペンテニル、３−ペンテニル、ヘキセニル基等のＣ２
〜Ｃ２０アルケニル基；シクロプロピル、シクロブチ
ル、シクロペンチル、シクロヘキシル基等のＣ３〜Ｃ８
シクロアルキル基；ベンジル、α−メチルベンジル、
α，α−ジメチルベンジル、α−エチルベンジル基等の
アラルキル基；フェニル、１−ナフチル、２−ナフチル
基等のアリール基；メトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキ
シ、イソプロポキシ、ｎ−ブトキシ、ｓｅｃ−ブトキ
シ、ｔ−ブトキシ基等のＣ１〜Ｃ２０アルコキシ基；ア
シルオキシ基；アシル基；ヘテロ環基；等が挙げられ
る。

【００８５】前記アシルオキシ基としては、例えば、ア
セトキシ、エチルカルボニルオキシ、イソプロピルカル
ボニルオキシ基等のＣ１〜Ｃ１２のアルキルカルボニル
オキシ基；ベンゾイルオキシ基等のアリールカルボニル
オキシ基；フェニルメチルカルボニルオキシ基等のアラ
ルキルカルボニルオキシ基；等が挙げられ、前記アシル
基としては、例えば、プロパノイル、イソプロピルカル
ボニル基等のＣ１〜Ｃ１２のアルキルカルボニル基、メ
トキシカルボニル、エトキシカルボニル、イソプロポキ
シカルボニル、ｔ−ブトキシカルボニル基等のアルコキ
シカルボニル基；ベンゾイル基等のアリールカルボニル
基；フェニルメチルカルボニル基等のアラルキルカルボ
ニル基；等が挙げられる。

【００８６】前記ヘテロ環基としては、例えば、フラニ
ル、ピラニル、ジオキソラニル基等の含酸素ヘテロ環
基；チエニル基等の含イオウヘテロ環基；ピロリル、イ
ミダゾリル、ピラゾリル、オキサゾリル、イソオキサゾ
リル、トリアゾリル、チアゾリル、イソチアゾリル、ピ
リジル、ピラダジル、ピラジニル、ベンゾイミダゾリ
ル、ベンゾピラゾリル、ペンゾチアゾリル、キノリル、
アントラニル、インドリル、フェナントロニリル基等の
飽和若しくは不飽和の含窒素ヘテロ環基；等が挙げられ
る。

【００８７】これらの置換基は、その置換位置、置換基
の種類、置換基の数等に特に制限はない。また、例示し
た縮合環ケトン類のベンゼン環がこれらの置換基を有し
てもよい他の縮合環に置き換わってもよい。

【００８８】さらに、前記した置換基は反応を阻害しな
い範囲において置換基をさらに有してもよい。かかる置
換基としては、例えば、フッ素、塩素、臭素等のハロゲ
ン原子；水酸基；カルボキシル基；アミノ基；メチル、
エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、ｓｅｃ−ブ
チル、ｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシル基等のＣ１〜Ｃ
６アルキル基；メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソ
プロポキシ、ブトキシ、ｔ−ブトキシ基等のＣ１〜Ｃ６
アルコキシ基；メトキシカルボニル、エトキシカルボニ
ル、プロポキシカルボニル、イソプロポキシカルボニ
ル、ブトキシカルボニル、ｔ−ブトキシカルボニル基等
のＣ１〜Ｃ６アルコキシカルボニル基；ベンゼン環の任
意の位置に置換基を有してもよいフェニル基；ナフタレ
ン環の任意の位置に置換基を有してもよい、１−ナフチ
ル、２−ナフチル基等のナフチル基；環の任意の位置に
置換基を有してもよい、フラン、ピラン、ジオキソラ
ン、ジオキサン、ピロール、チオフェン、イミダゾー
ル、ピラゾール、オキサゾール、イソオキサゾール、ト
リアゾール、チアゾール、イソチアゾール、ピリジン、
ピリダジン、ピラジン、ベンゾイミダゾール、ベンゾピ
ラゾール、ベンゾチアゾール、キノリン等のヘテロ環
基；等が挙げられる。

【００８９】次に、α−アミノケトン類（５）について
説明する。式中、Ｒａ及びＲｃは、それぞれ独立して、
水素原子；メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、
ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔ−ブチル、ペンチル、イソ
ペンチル、ネオペンチル、ｔ−ペンチル、ヘキシル、ヘ
プチル、オクチル、ノニル、デシル、ドデシル基等の置
換基を有してもよいＣ１〜Ｃ２０アルキル基；ビニル、
１−プロペニル、２−プロペニル、１−イソプロペニ
ル、１−ブテニル、１−イソプロペニル、２−ブテニ
ル、３−ブテニル、１，３−ブタジエニル、１−ペンテ
ニル、２−ペンテニル、３−ペンテニル基等の置換基を
有してもよいＣ２〜Ｃ２０アルケニル基；シクロプロピ
ル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル基
等の置換基を有してもよいＣ３〜Ｃ８シクロアルキル
基；ベンジル、α−メチルベンジル、α，α−ジメチル
ベンジル、α−エチルベンジル基等の置換基を有しても
よいＣ７〜Ｃ２０アラルキル基；フェニル、１−ナフチ
ル、２−ナフチル基等の置換基を有してもよいアリール
基；置換基を有してもよいヘテロ環基等を表す。

【００９０】かかる、置換基を有してもよいヘテロ環基
としては、例えば、フラニル、ピラニル、ジオキソラニ
ル基等の含酸素ヘテロ環基；チエニル基等の含イオウヘ
テロ環基；ピロリル、イミダゾリル、ピラゾリル、オキ
サゾリル、イソオキサゾリル、トリアゾリル、チアゾリ
ル、イソチアゾリル、ピリジル、ピラダジル、ピラジニ
ル、ベンゾイミダゾリル、ベンゾピラゾリル、ペンゾチ
アゾリル、キノリル、アントラニル、インドリル、フェ
ナントロニリル基等の飽和若しくは不飽和の含窒素ヘテ
ロ環基；等が挙げられる。

【００９１】前記アルキル基、アルケニル基、シクロア
ルキル基、アラルキル基、アリール基及びヘテロ環基の
置換基としては、本反応を阻害することのない置換基で
あれば、その置換位置、置換基の種類、置換基の数等に
特に制限はない。その具体例としては、フッ素、塩素、
臭素等のハロゲン原子；水酸基；カルボキシル基；アミ
ノ基；メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチ
ル、ｓｅｃ−ブチル、ｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシル
基等のＣ１〜Ｃ６アルキル基；メトキシ、エトキシ、プ
ロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、ｔ−ブトキシ基
等のＣ１〜Ｃ６アルコキシ基；メトキシカルボニル、エ
トキシカルボニル、プロポキシカルボニル、イソプロポ
キシカルボニル、ブトキシカルボニル、ｔ−ブトキシカ
ルボニル基等のＣ１〜Ｃ６アルコキシカルボニル基；ベ
ンゼン環の任意の位置に置換基を有してもよいフェニル
基；ナフタレン環の任意の位置に置換基を有してもよい
（１−ナフチル、２−ナフチル基等の）ナフチル基；環
の任意の位置に置換基を有してもよい（フラン、ピラ
ン、ジオキソラン、ジオキサン、ピロール、チオフェ
ン、イミダゾール、ピラゾール、オキサゾール、イソオ
キサゾール、トリアゾール、チアゾール、イソチアゾー
ル、ピリジン、ピリダジン、ピラジン、ベンゾイミダゾ
ール、ベンゾピラゾール、ベンゾチアゾール、キノリン
等の）ヘテロ環基；等が挙げられる。

【００９２】Ｒｂは、一般式（６）：Ｒ⁹ＣＯ（Ｒ¹¹）
Ｎ−、一般式（７）：Ｒ⁹ＣＯ（Ｒ¹⁰ＣＯ）Ｎ−、一般
式（８）：Ｒ⁹Ｒ¹¹Ｎ−、のいずれかの基を表す。

【００９３】ここで、Ｒ⁹、Ｒ¹⁰及びＲ¹¹はそれぞれ独
立して、水素原子；ホルミル基；メチル、エチル、プロ
ピル、イソプロピル、ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔ−ブ
チル、ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、ｔ−ペ
ンチル、ヘキシル、ヘプチル基等のＣ１〜Ｃ２０アルキ
ル基；メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキ
シ、ブトキシ、イソブトキシ、ｔ−ブトキシ、ペンチル
オキシ、イソペンチルオキシ、ネオペンチルオキシ、ｔ
−ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ基等の置換基を有し
てもよいＣ１〜Ｃ２０アルコキシ基；シクロプロピル、
シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル基等の
Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキル基；シクロペンチルオキシ、
シクロヘキシルオキシ、ヘプチルオキシ基等のＣ３〜Ｃ
８シクロアルコキシ基；置換基を有してもよいＣ１〜Ｃ
２０アルケニル基；ベンジル、４−クロロベンジル、α
−メチルベンジル基等の置換基を有してもよいアラルキ
ル基；ベンジルオキシ、４−クロロベンジルオキシ、４
−メチルベンジルオキシ基等の置換基を有してもよいＣ
７〜Ｃ２０アラルキルオキシ基；フェニル、１−ナフチ
ル、２−ナフチル基等の置換基を有してもよいアリール
基；ベンゾイルオキシ、１−ナフチルオキシ、２−ナフ
チルオキシ基等の置換基を有してもよいアリールオキシ
基；等を表す。

【００９４】本発明において、Ｒｃが水素原子以外の場
合には、Ｒ¹¹が水素原子で、かつ、Ｒ⁹がアルコキシ
基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基及びアラル
キルオキシ基の何れかであると、アンチ立体配置の光学
活性アミノアルコールが優先的に得られる。このためシ
ン立体配置の光学活性アミノアルコールを得る場合には
それ以外の置換基の組み合わせを選択する必要がある。
ここで、シン立体配置とは炭素鎖を主鎖としてジグザグ
に左右方向に置いた場合に、その上下方向にそれぞれ置
換するアミノ基とヒドロキシルが同じ面を向くような立
体配置のことをいい、アンチ立体配置とはアミノ基とヒ
ドロキシル基が逆の面を向くような立体配置のことをい
う。

【００９５】前記アルコキシ基、アルケニル基、アラル
キル基、アラルキルオキシ基、アリール基及びアリール
オキシ基の置換基としては、本反応を阻害することのな
い置換基であれば、その置換位置、置換基の種類、置換
基の数等に特に制限はない。その具体例としては、フッ
素、塩素、臭素等のハロゲン原子；水酸基；カルボキシ
ル基；アミノ、メチルアミノ、アセチルアミノ等の置換
基を有していてもよいアミノ基；メチル、エチル、プロ
ピル、イソプロピル、ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔ−ブ
チル、ペンチル、ヘキシル基等のＣ１〜Ｃ２０アルキル
基；メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキ
シ、ブトキシ、ｔ−ブトキシ基等のＣ１〜Ｃ２０アルコ
キシ基；メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プ
ロポキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、ブト
キシカルボニル、ｔ−ブトキシカルボニル基等のＣ１〜
Ｃ２０アルコキシカルボニル基；ベンゼン環の任意の位
置に置換基を有してもよいフェニル基；ナフタレン環の
任意の位置に置換基を有してもよい（１−ナフチル、２
−ナフチル基等の）ナフチル基；環の任意の位置に置換
基を有してもよい（フラン、ピラン、ジオキソラン、ジ
オキサン、ピロール、チオフェン、イミダゾール、ピラ
ゾール、オキサゾール、イソオキサゾール、トリアゾー
ル、チアゾール、イソチアゾール、ピリジン、ピリダジ
ン、ピラジン、ベンゾイミダゾール、ベンゾピラゾー
ル、ベンゾチアゾール、キノリン等の）ヘテロ環基；等
が挙げられる

【００９６】また、Ｒ⁹とＲ¹⁰とが又はＲ⁹とＲ¹¹とが結
合して、５〜８員の含窒素ヘテロ環を形成してもよい。
かかるヘテロ環のとしては、例えば、スクシンイミド、
マレイミド、フタルイミド、１，２−シクロヘキサンカ
ルボキサミド、２，４，６−トリオキソピペリジン、α
−ピリドン等のイミド類等が挙げられる。

【００９７】Ｒｂの具体例としては、アセチルアミノ、
プロピオニルアミノ、プロピルカルボニルアミノ、ベン
ゾイルアミノ、４−メチルベンゾイルアミノ、２−クロ
ロベンゾイルアミノ、３−メトキシベンゾイルアミノ、
２−クロロ−４−メトキシベンゾイルアミノ基等のアシ
ルアミノ基；ジアセチルアミノ、ジベンゾイルアミノ基
等のジアシルアミノ基；Ｎ−アセチル−Ｎ−メチルアミ
ノ、Ｎ−ベンゾイル−Ｎ−メチルアミノ、Ｎ−アセチル
−Ｎ−エチルアミノ、Ｎ−ベンゾイル−Ｎ−エチルアミ
ノ、Ｎ−アセチル−Ｎ−ベンジルアミノ、Ｎ−ベンゾイ
ル−Ｎ−ベンジルアミノ、４−メチルベンゾイルメチル
アミノ基等のＮ−アルキル−Ｎ−アシルアミノ基；Ｎ−
アセチル−Ｎ−フェニルアミノ、Ｎ−アセチル−Ｎ−４
−メチルファニルアミノ、Ｎ−アセチル−Ｎ−２−クロ
ロフェニルアミノ、Ｎ−アセチル−Ｎ−２，４−ジクロ
ロフェニルアミノ、Ｎ−ベンジル−Ｎ−フェニルアミ
ノ、Ｎ−ベンジル−Ｎ−４−メチルフェニルアミノ、Ｎ
−ベンジル−Ｎ−２−クロロフェニルアミノ、Ｎ−ベン
ジル−Ｎ−２，４−ジクロロフェニルアミノ基等のＮ−
アリール−Ｎ−アシルアミノ基；Ｎ−メトキシカルボニ
ル−Ｎ−メチルアミノ、Ｎ−エトキシカルボニル−Ｎ−
メチルアミノ、Ｎ−メトキシカルボニル−Ｎ−エチルア
ミノ、Ｎ−エトキシカルボニル−Ｎ−エチルアミノ、Ｎ
−プロポキシカルボニル−Ｎ−プロピルアミノ、Ｎ−イ
ソプロポキシカルボニル−Ｎ−メチルアミノ、Ｎ−ブト
キシカルボニル−Ｎ−エチルアミノ、Ｎ−ｔ−ブトキシ
カルボニル−Ｎ−ブトキシアミノ基等のＮ−アルコキシ
カルボニル−Ｎ−アルキルアミノ基；

【００９８】Ｎ−メトキシカルボニル−Ｎ−メチルアミ
ノ、Ｎ−エトキシカルボニル−Ｎ−メチルアミノ、Ｎ−
メトキシカルボニル−Ｎ−エチルアミノ、Ｎ−エトキシ
カルボニル−Ｎ−エチルアミノ、Ｎ−プロポキシカルボ
ニル−Ｎ−プロピルアミノ、Ｎ−イソプロポキシカルボ
ニル−Ｎ−メチルアミノ、Ｎ−ブトキシカルボニル−Ｎ
−エチルアミノ、Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−Ｎ−メ
チルアミノ基、Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−Ｎ−ブト
キシアミノ基等のＮ−アルコキシカルボニル−Ｎ−アル
キルアミノ基；Ｎ−メトキシカルボニル−Ｎ−フェニル
アミノ、Ｎ−エトキシカルボニル−Ｎ−フェニルアミ
ノ、Ｎ−プロポキシカルボニル−Ｎ−フェニルアミノ、
Ｎ−イソプロポキシカルボニル−Ｎ−フェニルアミノ、
Ｎ−ブトキシカルボニル−Ｎ−フェニルアミノ、Ｎ−ｔ
−ブトキシカルボニル−Ｎ−フェニルアミノ基等のＮ−
アルコキシカルボニル−Ｎ−アリールアミノ基；

【００９９】Ｎ−メチル−メチルスルホニルアミノ、Ｎ
−エチル−メチルスルホニルアミノ、Ｎ−プロピル−メ
チルスルホニルアミノ、Ｎ−イソプロピル−メチルスル
ホニルアミノ、Ｎ−ベンジル−メチルスルホニルアミ
ノ、Ｎ−ブチル−メチルスルホニルアミノ、Ｎ−メチル
−エチルスルホニルアミノ、Ｎ−エチル−エチルスルホ
ニルアミノ、Ｎ−メチル−プロピルスルホニルアミノ、
Ｎ−エチル−プロピルスルホニルアミノ、Ｎ−メチル−
イソプロピルスルホニルアミノ、Ｎ−エチル−イソプロ
ピルスルホニルアミノ、Ｎ−メチル−ブチルスルホニル
アミノ、Ｎ−エチル−ブチルスルホニルアミノ、Ｎ−メ
チル−ｔ−ブチルスルホニルアミノ、Ｎ−エチル−ｔ−
ブチルスルホニルアミノ等のＮ−アルキル−アルキルス
ルホニルアミノ基；Ｎ−メチル−フェニルスルホニルア
ミノ、Ｎ−エチル−フェニルスルホニルアミノ、Ｎ−ベ
ンジル−フェニルスルホニルアミノ、Ｎ−メチル−４−
メチルフェニルスルホニルアミノ、Ｎ−ベンジル−４−
メチルフェニルスルホニルアミノ、Ｎ−エチル−２−ク
ロロフェニルスルホニルアミノ、Ｎ−メチル−２，４−
ジクロロフェニルスルホニルアミノ基等のＮ−アルキル
−置換フェニルスルホニルアミノ基；

【０１００】Ｎ−フェニル−メチルスルホニルアミノ、
Ｎ−フェニル−エチルスルホニルアミノ、Ｎ−フェニル
−プロピルスルホニルアミノ、Ｎ−フェニル−イソプロ
ピルスルホニルアミノ、Ｎ−フェニル−ブチルスルホニ
ルアミノ、Ｎ−フェニル−ｔ−ブチルスルホニルアミノ
等のＮ−アリール−アルキルスルホニルアミノ基；Ｎ−
フェニル−フェニルスルホニルアミノ、Ｎ−フェニル−
４−メチルフェニルスルホニルアミノ、Ｎ−フェニル−
２−クロロフェニルスルホニルアミノ、Ｎ−フェニル−
２，４−ジクロロフェニルスルホニルアミノ基等のＮ−
アリール−置換フェニルスルホニルアミノ基；スクシン
イミドイル基、マレイミドイル基、フタルイミドイル
基、３−メチルフタルイミドイル基、４−メチルフタル
イミドイル基、４−ｎ−ブチルフタルイミドイル基、４
−クロロフタルイミドイル基、テトラメチルフタルイミ
ドイル基、１，２−シクロヘキサンカルボキサミドイル
基、２，４，６−トリオキソピペリジン−１−イル基、
α−ピリドン−１−イル基等のイミド基等を挙げること
ができる。

【０１０１】以上説明したような縮合ケトン類及びα−
アミノケトン類は、公知の方法で製造し、入手すること
ができる。

【０１０２】次に不斉水素化反応について説明する。不
斉水素化反応は、基質となる上記した縮合ケトン類
（３）、（３’）又はα−アミノケトン類（５）を、一
般式（１）で表されるルテニウム化合物の存在下に、所
望により塩基を添加して、所定圧力の水素ガス又は水素
供与体の存在下に不斉還元することにより行う。

【０１０３】また、本発明においては、ルテニウム化合
物の原料となるルテニウム錯体（又はルテニウム
塩）、リン化合物及びジアミン化合物とを別々に反応系
に添加、又はホスフィン配位子を有するルテニウム錯
体（又はルテニウム塩）及びジアミン化合物とを別々に
反応系に添加して、必要に応じて塩基を添加してルテニ
ウム化合物を生成させた後、該ルテニウム化合物を反応
系から取り出すことなく、そこへ基質を添加することに
より、ｉｎ ｓｉｔｕで不斉水素化反応を行わせること
もできる。

【０１０４】触媒として使用する一般式（１）で表され
るルテニウム化合物の使用量は、反応容器の大きさや触
媒活性によって異なるが、反応基質である縮合ケトン類
又はα−ジアミノケトン類に対して、通常１／５０〜１
／２，０００，０００倍モル、好ましくは１／５００〜
１／５００，０００倍モルの範囲である。

【０１０５】用いられる塩基としては、例えば、トリエ
チルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、
ＤＡＢＣＯ、ＤＢＵ等の有機塩基；ナトリウムメトキシ
ド、ナトリウムエトキシド、カリウム ｔ−ブトキシ
ド、マグネシウムメトキシド、マグネシウムエトキシド
等の金属アルコキシド類；ｎ−ブチルリチウム等の有機
リチウム化合物；ＬＤＡ、リチウムビストリメチルシリ
ルアミド等のリチウムアミド類；水酸化リチウム、水酸
化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化
物；水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム等のアルカ
リ土類金属水酸化物；炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等
のアルカリ金属炭酸塩；炭酸水素ナトリウム、炭酸水素
カリウム等のアルカリ金属炭酸水素塩；炭酸マグネシウ
ム、炭酸カルシウム等のアルカリ土類金属炭酸塩；水素
化ナトリウム、水素化カルシウム等の金属水素化物；が
挙げられる。

【０１０６】添加する塩基の量は、ルテニウム化合物に
対し、通常２〜５００，０００倍モル、好ましくは、２
〜５，０００倍モルの範囲である。

【０１０７】溶媒としては、基質及び触媒を可溶化する
ものであれば特に制限ない。その具体例としては、メタ
ノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノ
ール、ブタノール、ベンジルアルコール等のアルコール
類；ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素
類；ペンタン、ヘキサン等の脂肪族炭化水素類；ジクロ
ロメタン、クロロホルム、トリクロロメタン、四塩化炭
素、１，２−ジクロロエタン等のハロゲン炭化水素類；
ジエチルエーテル、ＴＨＦ、１，２−ジメトキシエタ
ン、１，４−ジオキサン等のエーテル類；ＤＭＦ、Ｎ，
Ｎ−ジメチルアセタミド、１，３−ジメチルイミダゾリ
ジン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、Ｎ−
メチルピロリドン、ＨＭＰＴ等のアミド類；アセトニト
リル、ベンゾニトリル等のニトリル類；ＤＭＳＯ等を用
いることができる。これらの溶媒は単独で、あるいは２
種以上を混合して使用することもできる。これらの溶媒
の中でも、反応生成物がアルコール化合物であることか
ら、アルコール類の使用が好ましい。

【０１０８】溶媒の使用量は、一般式（３）、（３’）
又は（５）で表されるケトン類の溶解度及び経済性に依
存し、場合によっては無溶媒又は高希釈条件に近い状態
でも反応は進行するが、通常、該ケトン類１００重量部
に対して０．１〜１０，０００重量部、好ましくは２０
〜１，０００重量部の範囲である。

【０１０９】水素の圧力は、通常、１〜２００気圧、好
ましくは３〜５０気圧の範囲であり、水素供与体として
は、例えば、水素貯蔵合金やジイミド等を用いることが
でき、その使用量は、一般式（３）、（３’）又は
（５）で表されるケトン類に対して、通常、１〜１００
倍当量の範囲である。反応温度は、通常−５０〜１００
℃、好ましくは２５〜４０℃の温度範囲である。また、
反応時間は、反応基質濃度や温度、圧力等の反応条件に
依存するが、通常、数分〜数日である。反応形式として
は特に制限はないが、例えば、バッチ式においても連続
式においても実施することができる。

【０１１０】反応終了後は、通常の有機合成化学的手法
により、単離・精製を行い目的物を得ることができる。
目的物の構造は、¹Ｈ−ＮＭＲ、旋光度測定、液体クロ
マトグラフィー、ガスクロマトグラフィー等の公知の分
析手段によって決定することができる。

【０１１１】以上のようにして製造された光学活性アミ
ノアルコール（１０）において、Ｒｃが水素原子でない
ものはシン（ｓｙｎ）立体配置を有する。ここでシン立
体配置とは、炭素鎖を主鎖としてジグザグに左右方向に
置いた場合に、その上下方向にそれぞれ置換するアミノ
基とヒドロキシル基が同じ面を向くような立体配置をい
う。

【０１１２】

【実施例】次に、実施例で本発明を詳しく説明するが、
本発明はこれらのみに限定されるものではない。尚、各
実施例における物性の測定に用いた装置は次の通りであ
る。 ＮＭＲスペクトル：Ｖａｒｉａｎ ＧＥＭＩＮＩ−３０
０（３００ＭＨｚ）、バリアン社製 旋光度：ＪＡＳＣＯ ＤＩＰ−３６０、日本分光（株）
製 高速液体クロマトグラフィー：ＬＣ−１０Ａｄｖｐ、Ｓ
ＰＤ−１０Ａｖｐ、島津製作所（株）製 ガスクロマトグラフィー：ＧＣ−１７Ａ、Ｃ−Ｒ７Ａ
Ｐｌｕｓ、島津製作所（株）製

【０１１３】（参考例１）（Ｓ，Ｓ）−１，４−ジヒド
ロキシ−１，４−ジフェニルブタンの合成

【０１１４】

【化８】

【０１１５】１，４−ジオキソ−１，４−ジフェニルブ
タン０．４７７ｇ（２ｍｍｏｌ）のイソプロパノール３
ｍｌ溶液、トルエン５ｍｌ及び水酸化カリウムイソプロ
パノール溶液（１Ｍ）０．２ｍｌを混合し脱気し、
[（Ｒ）−Ｘｙｌｙｌ−ＢＩＮＡＰ]ＲｕＣｌ₂[（Ｒ）−
１，１’−ジアニシル−２−イソプロピル−１，２−エ
チレンジアミン[（Ｒ）−ＤＡＩＰＥＮと略す：Ｊ．Ａ
ｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，１２０、１３５２９（１９９
８）]]１２ｍｇ（０．０１ｍｍｏｌ）を加えた。その
後、水素を８気圧まで圧入し、室温で１８時間攪拌し
た。反応液をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘ
キサン／酢酸エチル＝１／１）で精製して、目的の
（Ｓ，Ｓ）−１，４−ジヒドロキシ−１，４−ジフェニ
ルブタン０．４３ｇを得た。収率９０％

【０１１６】（参考例２）（Ｒ，Ｒ）−１，４−ジアジ
ド−１，４−ジフェニルブタンの合成

【０１１７】

【化９】

【０１１８】（Ｓ，Ｓ）−１，４−ジヒドロキシ−１，
４−ジフェニルブタン０．５５ｇ（２．２７ｍｍｏｌ）
とＤＢＵ０．７ｍｌ（２．７２ｍｍｏｌ）のトルエン６
ｍｌ溶液にジフェニルホスホリルアジド１．７８ｇ
（２．７２ｍｍｏｌ）を攪拌しながら０℃で添加した。
室温で１８時間攪拌した後、反応液を希塩酸にあけ酢酸
エチルで抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾
燥し、濃縮して得られた残留物をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝１０／１）で
精製することにより、目的の（Ｒ，Ｒ）−１，４−ジア
ジド−１，４−ジフェニルブタン０．２１ｇを得た。収
率３２％

【０１１９】¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，δｐｐｍ）：
７．５−７．３（ｍ，１０Ｈ）、４．４（ｔ，２Ｈ）、
１．９（ｍ，２Ｈ）、１．７（ｍ，２Ｈ）

【０１２０】（実施例１）（Ｒ，Ｒ）−１，４−ジアミ
ノ−１，４−ジフェニルブタン塩酸塩の合成

【０１２１】

【化１０】

【０１２２】（Ｒ，Ｒ）−１，４−ジアジド−１，４−
ジフェニルブタン０．２１ｇ（０．８３ｍｍｏｌ）のエ
タノール６ｍｌ溶液に、５％パラジウムカーボン０．１
ｇを加え、反応系を水素置換して、常温、常圧下に４８
時間攪拌した。反応終了後、反応溶液から不溶物を濾別
し、濾液に濃塩酸を加えて濃縮し、析出した結晶を濾取
した。得られた結晶を酢酸エチルで洗浄し、乾燥するこ
とにより、目的とする（Ｒ，Ｒ）−１，４−ジアミノ−
１，４−ジフェニルブタン塩酸塩０．１ｇを得た。収率
３７％

【０１２３】¹Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ⁶，δｐｐ
ｍ）：８．６（ｓ，６Ｈ）、７．４（ｓ，１０Ｈ）、
４．２（ｍ，２Ｈ）、２．０（ｍ，２Ｈ）、１．５
（ｍ，２Ｈ） ［α］_D ²⁴＝−１０．１°（ｃ＝１．０，ＭｅＯＨ）

【０１２４】（実施例２）ＲｕＣｌ₂[（Ｓ）−Ｔｏｌ−
ＢＩＮＡＰ][（２Ｒ，５Ｒ）−２，５−ジアミノヘキサ
ン]の合成

【０１２５】

【化１１】

【０１２６】シュレンクチューブ中にイソプロパノール
２ｍｌ、（２Ｒ，５Ｒ）−２，５−ジアミノヘキサン５
ｍｇ（０．０２５ｍｍｏｌ）を加え、脱気した後、Ｒｕ
Ｃｌ ₂[（Ｓ）−Ｔｏｌ−ＢＩＮＡＰ]のＤＭＦ付加物２
５ｍｇ（０．０２５ｍｍｏｌ）を加えて溶解させた。溶
媒を減圧留去することにより目的物を得た。この化合物
の³¹Ｐ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）を測定した結果、４３．
９ｐｐｍにシングレットピークが観測された。

【０１２７】（実施例３）ＲｕＣｌ₂[（Ｒ）−Ｔｏｌ−
ＢＩＮＡＰ][（１Ｒ，４Ｒ）−１，４−ジアミノ−１，
４−ジフェニルブタン]の合成

【０１２８】

【化１２】

【０１２９】シュレンクチューブ中にイソプロパノール
２ｍｌ、（１Ｒ，４Ｒ）−１，４−ジアミノ−１，４−
ジフェニルブタン８ｍｇ（０．０２５ｍｍｏｌ）を加
え、脱気した後、ＲｕＣｌ₂[（Ｒ）−Ｔｏｌ−ＢＩＮＡ
Ｐ]のＤＭＦ付加物２５ｍｇ（０．０２５ｍｍｏｌ）を
加えて溶解させた。溶媒を減圧留去することにより目的
物を得た。この化合物の³¹Ｐ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）を
測定した結果、４４．６ｐｐｍにシングレットピークが
観測された。

【０１３０】(参考例３) ３，４−Ｏ−イソプロピリデ
ン−（３Ｒ，４Ｒ）−ジヒドロキシ−（２Ｒ，５Ｒ）−
ジアジドヘキサンの合成 ３，４−Ｏ−イソプロピリデン−（３Ｒ，４Ｒ）−ジヒ
ドロキシ−（２Ｓ，５Ｓ）−ヘキサンジオール ビスメ
タンスルホナート１．５２ｇ（４．４ｍｍｏｌ）をＤＭ
ＳＯ１５ｍｌに溶解し、アジ化ナトリウム１．２７ｇ
（１７．５ｍｍｏｌ）を加えて５０度で２４時間撹拌し
た。反応終了後、反応溶液に水を加え酢酸エチルで抽出
した。有機相を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮し
て得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー(ヘキサン／酢酸エチル＝１０／１）で精製すること
によりジアジド体０．７１ｇを得た。収率６７％。

【０１３１】(実施例４) ３，４−Ｏ−イソプロピリデ
ン−（３Ｒ，４Ｒ）−ジヒドロキシ−（２Ｒ，５Ｒ）−
ジアミノヘキサンの合成 ３，４−Ｏ−イソプロピリデン−（３Ｒ，４Ｒ）−ジヒ
ドロキシ−（２Ｒ，５Ｒ）−ジアジドヘキサン０．７１
ｇをメタノール５ｍｌに溶解し、５％パラジウムカーボ
ン０．１ｇを加え反応系を水素置換して常温、常圧下２
４時間撹拌した。反応終了後反応溶液から不溶物を濾別
し、濾液を濃縮して得られた残留物をクーゲルロールで
蒸留（１６０度／５ｍｍＨｇ）して目的物０．４９ｇを
得た。収率８８％ １Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃， δｐｐｍ）：３．６８
（ｍ， ２Ｈ）、３．０（ｍ， ２Ｈ）、１．４６（ｂ
ｓ， ４Ｈ）、１．３９（ｓ， ６Ｈ）、１．１６（ｄ，
Ｊ＝６．４Ｈｚ，６Ｈ） 〔α〕_D ²³＝２８．９゜ (ｃ＝１．４， ＭｅＯＨ）

【０１３２】(実施例５) ＲｕＣｌ₂［（Ｓ）−ｂｉｎａ
ｐ］［３，４−Ｏ−イソプロピリデン−（３Ｒ，４Ｒ）
−ジヒドロキシ−（２Ｒ，５Ｒ）−ジアミノヘキサン］
の合成 シュレンクチューブ中に脱気したイソプロパノール５ｍ
ｌ、３，４−O−イソプロピリデン−（３Ｒ，４Ｒ）−
ジヒドロキシ−（２Ｒ，５Ｒ）−ジアミノヘキサン５０
ｍｇ（０．２６６ｍｍｏｌ）、［ＲｕＣｌ２(シメン)］
2 ８２ｍｇ（０．１３４ｍｍｏｌ）を加え、還流下３０
分撹拌した。続いて（Ｓ）−ＢＩＮＡＰ１６６ｍｇ
（０．２６６ｍｍｏｌ）を加えて還流下４５分撹拌し
た。冷却した後ヘキサンを加えて析出した結晶を濾別し
て目的物を得た。この化合物の³¹Ｐ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ
３）を測定した結果、４５．４ｐｐｍにシングレットピ
ークが観測された。

【０１３３】（実施例６）（Ｒ）−１，２，３，４−テ
トラヒドロ−１−ナフトールの合成

【０１３４】

【化１３】

【０１３５】アルゴン雰囲気下、簡易型オートクレーブ
（容量１００ｍｌ）中に、（２Ｒ，５Ｒ）−２，５−ジ
アミノヘキサン塩酸塩１ｍｇ（０．００５ｍｍｏｌ）、
テトラロン０．３７ｇ（２．５ｍｍｏｌ）、水酸化カリ
ウムイソプロパノール溶液（１Ｍ）７５μｌ及びイソプ
ロパノール１．５ｍｌを室温で添加し、脱気した後、Ｒ
ｕＣｌ₂［（Ｓ）−Ｔｏｌ−ＢＩＮＡＰ］のＤＭＦ付加
物５ｍｇ（０．００５ｍｍｏｌ）を加えた。反応系内に
水素を８気圧まで圧入し、室温にて１．５時間攪拌し
た。反応混合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
（溶離液：ジエチルエーテル）で精製して光学異性体混
合物を得た。転化率６４％ このものの光学純度をガスクロマトグラフィー（移動
相：ヘリウム、カラム：ＣＰ−Ｃｈｉｒａｌｃｅｌ−Ｄ
ｅｘ ＣＢ、クロムパック(株)製）で測定したところ、
９１％ｅｅであった。

【０１３６】実施例６と同様の条件で、原料のテトラロ
ンを変えた場合の反応生成物の光学純度（％ｅｅ）を第
１表に示した。

【０１３７】

【表１】

【０１３８】（実施例７）（Ｓ）−１，２，３，４−テ
トラヒドロ−１−ナフトールの合成

【０１３９】

【化１４】

【０１４０】アルゴン雰囲気下、簡易型オートクレーブ
（容量１００ｍｌ）中に、（Ｓ，Ｓ）−２，４−ジアミ
ノペンタン塩酸塩１．ｍｇ（０．００５ｍｍｏｌ）、テ
トラロン０．３７ｇ（２．５ｍｍｏｌ）、水酸化カリウ
ムイソプロパノール（１Ｍ）７５μｌ及びイソプロパノ
ール３ｍｌを室温で添加し、脱気した後、ＲｕＣｌ
₂［（Ｒ）−Ｔｏｌ−ＢＩＮＡＰ］のＤＭＦ付加物５ｍ
ｇ（０．００５ｍｍｏｌ）を加えた。反応系内に水素ガ
スを８気圧まで圧入し、室温にて１．５時間攪拌した
後、反応混合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
（溶離液：ジエチルエーテル）で精製して光学異性体混
合物を得た。転化率８３％。このものの光学純度を高速
液体クロマトグラフィー（移動相：ヘキサン／イソプロ
パノール＝９／１、カラム：Ｃｈｉｒａｌｃｅｌ Ｏ
Ｂ、ダイセル化学工業（株）製）で測定したところ７５
％ｅｅであった。

【０１４１】実施例７と同様の条件で、ジアミンを変え
て反応を行い、得られた（Ｓ）−１，２，３，４−テト
ラヒドロ−１−ナフトールの転化率％、光学純度％ｅｅ
を第２表に示した。

【０１４２】

【表２】

【０１４３】(実施例８) 光学活性７−メトキシ−１，
２，３，４−テトラヒドロ−１−ナフトールの合成 簡易型オートクレーブ(容量１００ｍｌ)中に、７−メト
キシ−１−テトラロン０．１９ｇ（１ｍｍｏｌ）、Ｒｕ
Ｃｌ２［（Ｒ）−ｂｉｎａｐ］［（１Ｒ，４Ｒ）−１，
４−ジフェニルブタン−１，４−ジアミン］５ｍｇ
（０．００５ｍｍｏｌ）を加えアルゴン置換した後に、
脱気したイソプロパノール２．５ｍｌおよび水酸化カリ
ウムイソプロパノール溶液（１Ｍ）１００μｌを加え
た。反応系内に水素を８気圧まで圧入し、室温にて１．
５時間撹拌した。反応混合物をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー(ヘキサン／酢酸エチル＝２／１)で精製し
光学異性体混合物を定量的に得た。このものの光学純度
を高速液体クロマトグラフィー(移動相：ヘキサン／イ
ソプロパノール＝９２／８、カラム：Ｃｈｉｒａｌｃｅ
ｌ ＯＤ−Ｈ、ダイセル化学工業（株）製）で測定した
ところ、９２％ｅｅであった。

【０１４４】(実施例９) 光学活性５−メトキシ−１，
２，３，４−テトラヒドロ−１−ナフトールの合成 簡易型オートクレーブ(容量１００ｍｌ)中に、５−メト
キシ−１−テトラロン０．４１ｇ（２．５ｍｍｏｌ）、
ＲｕＣｌ２［（Ｓ）−ｂｉｎａｐ］［（２Ｒ，５Ｒ）−
ジアミノヘキサン］５ｍｇ（０．００５ｍｍｏｌ）を加
えアルゴン置換した後に、脱気したイソプロパノール２
ｍｌおよび水酸化カリウムイソプロパノール溶液（１
Ｍ）１００μｌを加えた。反応系内に水素を８気圧まで
圧入し、室温にて２時間撹拌した。反応混合物をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン／酢酸エチル
＝２／１)で精製し光学異性体混合物０．３６ｇを得
た。収率８７％ このものの光学純度を高速液体クロマトグラフィー(移
動相：ヘキサン／イソプロパノール＝９／１、カラム：
Ｃｈｉｒａｌｃｅｌ ＯＢ、ダイセル化学工業(株）製）
で測定したところ、９５％ｅｅであった。

【０１４５】(実施例１０) 光学活性シス−２−メチル
−１，２，３，４−テトラヒドロ−１−ナフトールの合
成 簡易型オートクレーブ(容量１００ｍｌ)中に、ＲｕＣｌ
₂［（Ｓ）−ｂｉｎａｐ］［３，４−Ｏ−イソプロピリ
デン−（３Ｒ，４Ｒ）−ジヒドロキシ−（２Ｒ，５Ｒ）
−ジアミノヘキサン］５ｍｇ（０．００５ｍｍｏｌ）を
加えアルゴン置換した後に、イソプロパノール２．５ｍ
ｌ中に水酸化カリウムイソプロパノール溶液（１Ｍ）１
００μｌおよび２−メチル−１−テトラロン０．１６ｇ
（１ｍｍｏｌ）を溶解したものを脱気した後に加えた。
反応系内に水素を８気圧まで圧入し、室温にて２時間撹
拌した。このものをガスクロマトグラフィー(移動相：
ヘリウム、カラム：βＤＥＸ３２５、スペルコ製）で測
定したところ、転換率＞９９％、９８％ｄｅ、８８％ｅ
ｅであった。

【０１４６】（比較例１）ホスフィン配位子として
（Ｒ）−Ｘｙｌｙｌ−ＢＩＮＡＰを用い、ジアミンとし
て（１Ｒ，２Ｒ）−ジフェニルエチレンジアミンを用い
た以外は実施例１０と同様の条件で実験を行った。転化
率２６％、２６％ｄｅ、８４％ｅｅ（cis体）、３３％
ｅｅ（trans体）であった。

【０１４７】（実施例１１）光学活性−１−フェニル−
２−（Ｎ−メチル−Ｎ−ベンゾイルアミノ）−１−プロ
パノールの合成

【０１４８】

【化１５】

【０１４９】アルゴン雰囲気下、簡易型オートクレーブ
（容量１００ｍｌ）中に、（２Ｒ，５Ｒ）−２，５−ジ
アミノヘキサン塩酸塩２．２ｍｇ（０．０１２５ｍｍｏ
ｌ）、１−フェニル−２−（Ｎ−メチル−Ｎ−ベンゾイ
ル）アミノプロパン−１−オン０．６７ｇ（２．５ｍｍ
ｏｌ）、０．１Ｎのｔ−ブトキシカリウムのイソプロパ
ノール１．５ｍｌ溶液及びイソプロパノール５ｍｌを室
温で添加し、脱気した後、ＲｕＣｌ₂[（Ｓ）−Ｔｏｌ−
ＢＩＮＡＰ]のＤＭＦ付加物１２．５ｍｇ（０．０１２
５ｍｍｏｌ）を加えた。反応系内に水素を１２気圧まで
圧入し、２５℃にて１時間攪拌した後、反応混合物をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー（溶離液：ジエチル
エーテル）で精製して、光学活性−１−フェニル−２−
（Ｎ−メチル−Ｎ−ベンゾイルアミノ）−１−プロパノ
ール０．６５ｇを得た。収率９７％

【０１５０】このものの光学純度及びジアステレオマー
純度を高速液体クロマトグラフィー（移動相：ヘキサン
／エタノール＝１５／１、カラム：Ｃｈｉｒａｌｃｅｌ
ＯＪ、ダイセル化学工業（株）製）で測定したとこ
ろ、光学純度は８９％ｅｅであり、ジアステレオマー純
度は９９％ｄｅ以上であった。

【０１５１】（実施例１２）光学活性−１−フェニル−
２−（Ｎ−メチル−Ｎ−ベンゾイルアミノ）−１−プロ
パノールの合成

【０１５２】

【化１６】

【０１５３】アルゴン雰囲気下、簡易型オートクレーブ
（容量１００ｍｌ）中に、（１Ｒ，４Ｒ）−１，４−ジ
フェニルブタン−１，４−ジアミン３．６ｍｇ（０．０
１ｍｍｏｌ）、１−フェニル−２−（Ｎ−メチル−Ｎ−
ベンゾイル）アミノプロパン−１−オン０．５３ｇ（２
ｍｍｏｌ）、水酸化カリウムイソプロパノール（１Ｍ）
１００μｌ及びイソプロパノール５ｍｌを室温で添加
し、脱気した後、ＲｕＣｌ₂［（Ｒ）−Ｔｏｌ−ＢＩＮ
ＡＰ］のＤＭＦ付加物の１０ｍｇ（０．０１ｍｍｏｌ）
を加えた。反応系内に水素ガスを１２気圧まで圧入し、
２５℃にて１時間攪拌した後、反応混合物をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー（溶離液：ジエチルエーテ
ル）で精製して、光学活性−１−フェニル−２−（Ｎ−
メチル−Ｎ−ベンゾイルアミノ）−１−プロパノール
０．５ｇを得た。収率９４％

【０１５４】このものの光学純度及びジアステレオマー
純度を高速液体クロマトグラフィー（移動相：ヘキサン
／エタノール＝１５／１、カラム：Ｃｈｉｒａｌｃｅｌ
ＯＪ、ダイセル化学工業（株）製）で測定したとこ
ろ、光学純度９４％ｅｅであり、ジアステレオマー純度
９９％ｄｅ以上であった。

【０１５５】

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
入手容易なルテニウム化合物、該ルテニウム化合物の配
位子として好適に用いることができるジアミン化合物を
提供できる。また、該ルテニウム化合物を触媒として用
いて、縮合環ケトン類やα−アミノケトン類を不斉還元
することにより、対応する光学活性アルコール類を、高
立体選択的かつ高収率で製造することができる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ０７Ｃ 35/27 Ｃ０７Ｃ 35/27 211/27 211/27 231/12 231/12 233/73 233/73 // Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ Ｃ０７Ｍ 7:00 Ｃ０７Ｍ 7:00 Ｆターム(参考） 4G069 AA06 BA27A BA27B BC70A BC70B BE08A BE15A BE15B BE26A BE26B BE36A BE37A BE37B BE45A BE46A BE46B CB02 CB57 CB70 4H006 AA01 AA02 AB40 AC41 AC81 BA23 BA46 BA48 BA61 BA81 BB11 BB12 BB14 BB20 BB21 BB22 BC10 BC11 BC34 BE10 BE20 BJ50 BN10 BV72 FC32 FE11 FE12 4H039 CA60 CB20 4H050 AA01 AB40 WB14 WB16

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】一般式（１）： Ｒｕ（Ｘ）（Ｙ）（Ｐｘ）ｎ₁[Ｒ¹Ｒ²Ｃ^*（ＮＲ³Ｒ⁴）
   −Ａ−Ｒ⁵Ｒ⁶Ｃ^*（ＮＲ⁷Ｒ⁸）] 〔式中、Ｘ及びＹは、それぞれ独立して、水素原子、ハ
   ロゲン原子、カルボキシル基、水酸基又はＣ１〜Ｃ２０
   アルコキシ基を表し、Ｐｘは、ホスフィン配位子を表
   し、Ｒ¹〜Ｒ⁸はそれぞれ独立して、水素原子、置換基を
   有してもよいＣ１〜Ｃ２０アルキル基、置換基を有して
   もよいＣ２〜Ｃ２０アルケニル基、置換基を有してもよ
   いＣ３〜Ｃ８シクロアルキル基、置換基を有してもよい
   アラルキル基又は置換基を有してもよいアリール基を表
   す。また、Ｒ¹とＲ²のいずれかがＲ³とＲ⁴のいずれか
   と、Ｒ⁵とＲ⁶のいずれかがＲ ⁷とＲ⁸のいずれかとが結合
   して環を形成してもよい。Ａは、置換基を有していても
   よくエーテル結合を有していてもよいＣ１〜Ｃ３アルキ
   レン、置換基を有していてもよいＣ３〜Ｃ８シクロアル
   キレン、置換基を有していてもよいアリレンまたは置換
   基を有していてもよい２価のヘテロ環を表わす。Ａがア
   ルキレンの場合はＲ¹とＲ²のいずれかとＲ⁵とＲ⁶のいず
   れかとが結合して環を形成してもよい。）で表される基
   であり、＊は不斉炭素原子であることを示し、ｎ₁は１
   または２の整数を表す。〕で表されるルテニウム化合
   物。
2. 【請求項２】請求項１記載の一般式（１）中のジアミン
   が一般式（２）： [Ｒ¹Ｒ²Ｃ^*（ＮＲ³Ｒ⁴）−Ａ−Ｒ⁵Ｒ⁶Ｃ^*（ＮＲ³Ｒ⁴）] （式中、Ａ、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶は請求項１
   と同様である）であることを特徴とする請求項１記載の
   ルテニウム化合物。
3. 【請求項３】請求項１記載の一般式（１）中のジアミン
   が一般式（２’）： [Ｒ¹Ｒ²Ｃ^*（ＮＲ³Ｒ⁴）−Ａ−Ｒ¹Ｒ²Ｃ^*（ＮＲ³Ｒ⁴）] （式中、Ａ、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴は請求項１と同様であ
   る）であることを特徴とする請求項１記載のルテニウム
   化合物。
4. 【請求項４】請求項１記載の一般式（１）におけるＡが
   Ｃ１〜Ｃ３アルキレンであることを特徴とする請求項１
   記載のルテニウム化合物。
5. 【請求項５】請求項１記載の一般式（１）における
   Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁶、Ｒ⁷及びＲ⁸が水素原子である、請
   求項１、請求項３、請求項４記載のルテニウム化合物。
6. 【請求項６】一般式（２）： [Ｒ¹Ｒ²Ｃ^*（ＮＲ³Ｒ⁴）−Ａ−Ｒ⁵Ｒ⁶Ｃ^*（ＮＲ³Ｒ⁴）] （式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶は請求項１と同
   様である）で表わされるジアミン化合物。
7. 【請求項７】一般式（３）又は（３’） 【化１】 （式中、Ａ環部は置換基を有してもよい３〜８員環を表
   し、Ｂ環部は、置換基を有していてもよく、ヘテロ原子
   を含んでもよい、４〜８員環を表す。）で表される縮合
   環ケトン類を、請求項１〜４のいずれかに記載のルテニ
   ウム化合物の存在下に、水素ガス又は水素供与体を水素
   源として不斉水素還元する工程を有する、一般式（４）
   又は（４’） 【化２】 （式中、Ａ環部、Ｂ環部及び＊は前記と同じ意味を表
   す。）で表される光学活性アルコール類の製造方法。
8. 【請求項８】 一般式（５）：Ｒａ−ＣＯ−ＣＨ（Ｒｂ）−Ｒｃ 〔式中、Ｒａ及びＲｃは、それぞれ独立して、水素原
   子、置換基を有してもよいＣ１〜Ｃ２０アルキル基、置
   換基を有してもよいＣ２〜Ｃ２０アルケニル基、置換基
   を有してもよいＣ３〜Ｃ８シクロアルキル基、置換基を
   有してもよいアラルキル基又は置換基を有してもよいア
   リール基を表す。Ｒｂは、 一般式（６）：Ｒ⁹ＣＯ（Ｒ¹¹）Ｎ− 一般式（７）：Ｒ⁹ＣＯ（Ｒ¹⁰ＣＯ）Ｎ− 一般式（８）：Ｒ⁹Ｒ¹¹Ｎ− で表されるいずれかの基を表す。（ここで、Ｒ⁹、Ｒ¹⁰
   及びＲ¹¹は、それぞれ独立して、水素原子、ホルミル
   基、置換基を有してもよいＣ１〜Ｃ２０アルキル基、置
   換基を有してもよいＣ２〜Ｃ２０アルケニル基、置換基
   を有してもよいＣ１〜Ｃ２０アルコキシ基、置換基を有
   してもよいＣ３〜Ｃ８シクロアルキル基、置換基を有し
   てもよいＣ３〜Ｃ８シクロアルコキシ基、置換基を有し
   てもよいアラルキル基、置換基を有してもよいアラルキ
   ルオキシ基、置換基を有してもよいアリール基又は置換
   基を有してもよいアリールオキシ基を表す。また、Ｒ⁹
   とＲ¹¹又はＲ⁹とＲ¹⁰は結合して、５〜８員の含窒素ヘ
   テロ環を形成してもよい。）〕で表されるα−アミノケ
   トン類を、請求項１〜４記載のいずれかのルテニウム化
   合物の存在下に、水素ガス又は水素供与体を水素源とし
   て不斉水素還元する工程を有する、 一般式（１０）：Ｒａ−Ｃ^*Ｈ（ＯＨ）−ＣＨ（Ｒｂ）−Ｒｃ 〔式中、Ｒａ、Ｒｂ、Ｒｃ及び＊は前記と同じ意味を表
   す。〕で表される光学活性β−アミノアルコール類の製
   造方法。