JP2002278046A

JP2002278046A - 基板選択装置および描画用基板の供給方法

Info

Publication number: JP2002278046A
Application number: JP2001079953A
Authority: JP
Inventors: Hideyuki Nara; 秀之奈良
Original assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Current assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date: 2001-03-21
Filing date: 2001-03-21
Publication date: 2002-09-27
Anticipated expiration: 2021-03-21
Also published as: JP4334778B2

Abstract

(57)【要約】（修正有）【課題】フォトマスク作製のためのパタン描画に供用
される基板選択装置で、目的とする製品の品質仕様に見
合う基板を提供でき、且つ、感光材を無駄にせずに、コ
スト面や生産性の面でも対応できる、基板選択装置を提
供する。【解決手段】各遮光膜成膜基板の遮光膜欠陥情報を蓄
積する遮光膜欠陥情報データベースと、該遮光膜欠陥情
報データベースに遮光膜欠陥情報を登録するための遮光
膜欠陥登録部と、描画すべきパタンの描画情報を蓄積す
る描画情報データベースと、該描画情報データベースに
描画すべきパタンの描画情報を登録するための描画情報
登録部と、各データベースに蓄積された描画情報と遮光
膜欠陥情報から、１つ以上の手段で目的とする製品に適
用できる遮光膜成膜基板を選択する遮光膜成膜基板選択
部とを有し、遮光膜成膜基板選択部により、目的とする
製品に適用する遮光膜成膜基板を選択するものであるこ
とを特徴とするものである。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、描画情報に合せ
て、フォトマスク作製のための描画用基板を供給する描
画用基板の供給方法と基板選択装置に関し、特に、遮光
膜をその一面に成膜し、感光材層を未塗布の、フォトマ
スク形成用の遮光膜成膜基板群の中から、遮光膜の欠陥
情報と描画情報より、目的とする製品に合う遮光膜成膜
基板を選択し、選択された遮光膜成膜基板の遮光膜上
に、感光材を塗布して、フォトマスク作製のための描画
に供与する、基板選択装置に関する。

【０００２】

【従来技術】近年、電子機器の高性能化、軽薄短小の傾
向から、ＡＳＩＣに代表される種々のＬＳＩには、ます
ます高集積化、高機能化が求められるようになってきて
おり、半導体集積回路の作製に用いられるフォトマスク
においては、更なる高精度、高品質のパタン形成が求め
られるようになってきた。従来、フォトマスク製造は、
一般には、以下のように行われていた。図８に基いて簡
単に説明する。先ず、石英などの透明基板８１０の上
に、クロムなどの金属薄膜からなる遮光膜あるいはシフ
ター層８２０をスパッタ法などにより成膜した基板（ブ
ランクスとも言う）を用意する。（図８（ａ））そして、ブランクスの遮光膜あるいはシフター層８２０
上に、感光材層（感光性樹脂膜、感光性レジストあるい
は単にレジストとも言う）８３０を塗布した後、加熱乾
燥処理し膜に残留している溶剤の除去や金属薄膜との密
着性向上を図る。（図８（ｂ））次に、感光材層が塗布された感光材層塗布基板の感光材
層８３０に、ＥＢ（ＥｌｅｃｔｏｒｏｎＢｅａｍの略
で電子線のこと）、レーザー光、Ｘ線などの電離放射線
８４０を選択的に照射し、所望のパタン形状に感光す
る。（図８（ｃ））一般にはパタン（絵柄）形成用のパタンデータにしたが
い、電離放射線８４０を所定の装置で選択的に照射する
ため、これをこれを、パタン描画ないし単に描画とも言
う。次に、感光材層８３０を現像してレジストパタン８
３５を形成した（図８（ｄ））後、レジストパタン８３
５の開口８３６から露出した金属薄膜からなる遮光層８
２０をエツチングして、遮光層パタン８２５を形成す
る。（図８（ｅ））最後に、レジストパタン８３５を除去して、遮光層パタ
ン８２５をその一面に配設したフオトマスクが得られ
る。（図８（ｆ））そして、この後、検査、必要に応じて修正が行われ、所
望のフォトマスクを得ていた。

【０００３】上記フォトマスク製造において作製される
フォトマスクの品質は、パタン描画用に供用される感光
材層塗布基板の品質に大きく影響を受けることは言うま
でもないが、従来、パタン描画用に供用される感光材層
塗布基板は、その種類も多く、管理がたいへんで、その
作製過程における検査にて、一定の基準のもとに良品、
不良品の判別が行われ、良品のみが用いられていたのが
実際である。しかし、目的とする製品の品質仕様も多種
あり、検査にて良品になった感光材層塗布基板にも品質
面や感光材層の感度に種々あるため、必ずしも、目的と
する製品の品質仕様に見合った基板を選択していたとは
言えず、使用する基板の選択１つで、検査、修正に及ぼ
す影響は大きかった。

【０００４】近年では、本願出願人により、感光材塗布
後の、感光材層塗布基板群の中から、遮光膜欠陥情報と
感光材欠陥情報と描画パタン情報より、目的とする製品
に合う感光材層塗布基板を選択し、これを目的とするフ
ォトマスク作成のための描画に供与する方法が採られ、
そのための基板選択装置が提案されている。（特願２０
００−２３２２１５）しかし、この方法においては、予め、遮光膜成膜基板の
状態でなく、感光材塗布基板の状態で、多数用意してお
き、この中から適当な基板を選択することを前提として
おり、実用レベルでは、感光材を塗布後、使用されない
基板も多くなり、高価な感光材を無駄にすることとな
り、コスト面や生産性の面で問題となっていた。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】上記のように、ＬＳｌ
チップなどの半導体製品の回路が、年々、高密度化、微
細化し、この作製に用いられるフォトマスクにおいて
は、更なる高精度、高品質のパタン形成が求められる
中、目的とする製品を作製するための基板を、特に製品
品質の面からうまく選択でき、且つ、コスト面や生産性
の面でも対応できる、基板選択装置が求められていた。
本発明は、これに対応するもので、フォトマスク作製の
ためのパタン描画に供用される基板選択装置で、目的と
する製品の品質仕様に見合う基板を提供でき、且つ、感
光材を無駄にせずに、コスト面や生産性の面でも対応で
きる、基板選択装置を提供しようとするものである。同
時に、作製するフォトマスクの仕様に基づく描画情報に
合せて、フォトマスク作製のための描画用基板を供給す
る、描画用基板の供給方法で、目的とする製品の品質仕
様に見合う基板を供給でき、且つ、感光材を無駄にせず
に、コスト面や生産性の面でも対応できる、描画用基板
の供給方法を提供しようとするものである。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明の基板選択装置
は、遮光膜をその一面に成膜し、感光材層を未塗布の、
フォトマスク形成用の遮光膜成膜基板群の中から、遮光
膜の欠陥情報と描画情報より、目的とする製品に合う遮
光膜成膜基板を選択し、選択された遮光膜成膜基板の遮
光膜上に、感光材を塗布して、フォトマスク作製のため
の描画に供与する、基板選択装置であって、各遮光膜成
膜基板の遮光膜欠陥情報を蓄積する遮光膜欠陥情報デー
タベースと、該遮光膜欠陥情報データベースに遮光膜欠
陥情報を登録するための遮光膜欠陥登録部と、描画すべ
きパタンの描画情報を蓄積する描画情報データベース
と、該描画情報データベースに描画すべきパタンの描画
情報を登録するための描画情報登録部と、各データベー
スに蓄積された描画情報と遮光膜欠陥情報から、１つ以
上の手段で目的とする製品に適用できる遮光膜成膜基板
を選択する遮光膜成膜基板選択部とを有し、遮光膜成膜
基板選択部により、目的とする製品に適用する遮光膜成
膜基板を選択するものであることを特徴とするものであ
る。そして、上記において、選択した遮光膜成膜基板
に、所定の決められた感光材を塗布して作成された感光
材塗布基板に対し、感光材欠陥検査を行ない、得られた
感光材欠陥情報と蓄積する、感光材欠陥情報データベー
スと、該感光材欠陥情報データベースに感光材欠陥情報
を登録するための感光材欠陥登録部と、感光材欠陥情報
データベースに蓄積された感光材欠陥情報と、描画情報
データベースに蓄積された描画情報より、１つ以上の手
段で目的とする製品に適用する感光材塗布基板を判定す
る感光材塗布基板判定部とを有し、感光材塗布基板判定
部により、目的とする製品適用する感光材塗布基板を選
択するものであることを特徴とするものである。そして
また、上記において、遮光膜成膜基板選択部は、遮光膜
欠陥情報から求めたランクと描画パタンのランクとを考
慮して遮光膜成膜基板を選択する基板ランク選択部、遮
光膜欠陥位置と描画パタンエッジを考慮して基板を選択
するパタンエッジ選択部、遮光膜欠陥位置と全描画パタ
ンを考慮して基板を選択する全パタン選択部の１つ以上
を備えていることを特徴とするものである。また、上記
において、感光材塗布基板判定部は、感光材欠陥情報か
ら求めたランクと描画パタンのランクを考慮して感光材
塗布基板を判定する基板ランク判定部、感光材欠陥位置
と描画パタンエッジを考慮して基板を判定するパタンエ
ッジ判定部、感光材欠陥位置と全描画パタンを考慮して
基板を判定する全パタン判定部の１つ以上を備えている
ことを特徴とするものである。

【０００７】本発明の描画用基板の供給方法は、作製す
るフォトマスクの仕様に基づく描画情報に合せて、フォ
トマスク作製のための描画用基板を供給する、描画用基
板の供給方法であって、各基板の遮光膜欠陥情報が、遮
光膜欠陥情報データベースに登録された、遮光膜をその
一面に成膜し、且つ、感光材層を未塗布の、フォトマス
ク形成用の遮光膜成膜基板群の中から、前記遮光膜欠陥
情報データベースに登録された遮光膜の欠陥情報と、描
画情報より、目的とする製品に合う遮光膜成膜基板を選
択する遮光膜成膜基板選択工程と、遮光膜成膜基板選択
工程により選択された遮光膜成膜基板の遮光膜上に、感
光材を塗布して、感光材塗布基板を作成し、更に、感光
材塗布基板の感光材の欠陥検査を行ない、欠陥情報を感
光材欠陥情報データベースに登録した後、前記感光材欠
陥情報データベースに登録された欠陥情報と、描画情報
より、感光材塗布基板が、目的とする製品に合うか否か
を判定する感光材塗布基板判定工程とを行ない、感光
材塗布基板判定工程における判定がＯＫと判定された感
光材塗布基板を供することを特徴とするものである。そ
して、上記において、遮光膜成膜基板選択工程における
目的とする製品に合う遮光膜成膜基板の選択が、遮光膜
欠陥情報から求めたランクと描画パタンのランクとを考
慮して遮光膜成膜基板を選択する基板ランク選択法、遮
光膜欠陥位置と描画パタンエッジを考慮して基板を選択
するパタンエッジ選択法、遮光膜欠陥位置と全描画パタ
ンを考慮して基板を選択する全パタン選択法の１つ以上
の選択方法により選択するものであることを特徴とする
ものである。そしてまた、上記において、感光材塗布基
板判定工程における目的とする製品に合うか否かを判定
する感光材塗布基板判定が、感光材欠陥情報から求めた
ランクと描画パタンのランクを考慮して感光材塗布基板
を判定する基板ランク判定法、感光材欠陥位置と描画パ
タンエッジを考慮して基板を判定するパタンエッジ判定
法、感光材欠陥位置と全描画パタンを考慮して基板を判
定する全パタン判定法の１つ以上の判定方法により判定
するものであることを特徴とするものである。

【０００８】

【作用】本発明の基板選択装置は、このような構成にす
ることにより、フォトマスク作製のためのパタン描画に
供用される基板選択装置で、目的とする製品の品質仕様
に見合う基板を提供でき、且つ、感光材を無駄にせず
に、コスト面や生産性の面でも対応できる、基板選択装
置の提供を可能としている。具体的には、各遮光膜成膜
基板の遮光膜欠陥情報を蓄積する遮光膜欠陥情報データ
ベースと、該遮光膜欠陥情報データベースに遮光膜欠陥
情報を登録するための遮光膜欠陥登録部と、描画すべき
パタンの描画情報を蓄積する描画情報データベースと、
該描画情報データベースに描画すべきパタンの描画情報
を登録するための描画情報登録部と、各データベースに
蓄積された描画情報と遮光膜欠陥情報から、１つ以上の
手段で目的とする製品に適用できる遮光膜成膜基板を選
択する遮光膜成膜基板選択部とを有し、遮光膜成膜基板
選択部により、目的とする製品適用する遮光膜成膜基板
を選択するものであることにより、更には、選択した遮
光膜成膜基板に、所定の決められた感光材を塗布して作
成された感光材塗布基板に対し、感光材欠陥検査を行な
い、得られた感光材欠陥情報と蓄積する、感光材欠陥情
報データベースと、該感光材欠陥情報データベースに感
光材欠陥情報を登録するための感光材欠陥登録部と、感
光材欠陥情報データベースに蓄積された感光材欠陥情報
と、描画情報データベースに蓄積された描画情報より、
１つ以上の手段で目的とする製品に適用する感光材塗布
基板を判定する感光材塗布基板判定部とを有し、感光材
塗布基板判定部により、目的とする製品適用する感光材
塗布基板を選択するものであることにより、これを達成
している。

【０００９】遮光膜成膜基板選択部、感光材塗布基板判
定部には、それぞれ、欠陥情報から求めたランクと描画
パタンのランクとを考慮して各基板を選択する基板ラン
ク選択部、欠陥位置と描画パタンエッジを考慮して基板
を選択するパタンエッジ選択部、欠陥位置と全描画パタ
ンを考慮して基板を選択する全パタン選択部の１つ以上
を備えていることにより、目的とする製品作製に使用す
る基板を選択することができる。

【００１０】本発明の描画用基板の供給方法は、このよ
うな構成にすることにより、作製するフォトマスクの仕
様に基づく描画情報に合せて、フォトマスク作製のため
の描画用基板を供給する、描画用基板の供給方法で、目
的とする製品の品質仕様に見合う基板を供給でき、且
つ、感光材を無駄にせずに、コスト面や生産性の面でも
対応できる、描画用基板の供給方法の提供を可能として
いる。

【００１１】

【発明の実施の形態】本発明の実施の形態例を図に基づ
いて説明する。図１は本発明の基板選択装置の実施の形
態の１例の概略構成と基板供給処理のフローを示した概
略図で、図２はピンホール欠陥検査結果データの１例を
示した図で、図３は感光材ロットチェック結果データの
１例を示した図で、図４は基板の品質基準の１例を示し
た図で、図５は、基板選択の入力方法の１例を示した図
で、図６は基板選択部のランク判定部による遮光膜成膜
基板選択手順の１例を示したフロー図で、図７は基板選
択部のエッジ選択部による遮光膜成膜基板選択を説明す
るための図である。また、図１中、Ｓ１１〜Ｓ２１、図
６中、Ｓ５１０〜Ｓ５４０は処理ステップである。図
１、図６、図７中、１１０は遮光膜成膜、１１５は感光
材塗布基板、１２０は遮光膜欠陥登録部、１２５は遮光
膜欠陥情報データベース、１３０は基板選択部（遮光膜
基板選択部とも言う）、１３１は基板ランク選択部、１
３２はパタンエッジ選択部、１３３は全パタン選択部、
１４０は感光材塗布基板欠陥登録部、１４５は感光材欠
陥情報データベース、１５０は基板判定部（感光材塗布
基板判定部とも言う）、１５１は基板ランク判定部、１
５２はパタンエッジ判定部、１５３は全パタン判定部、
１７０はフォトマスク仕様、１８０は描画情報登録部、
１９０は描画情報データベース、５１１は遮光膜基板
群、５１２は使用条件（フォトマスク仕様）、５２１は
対象基板、５２２はピンホール欠陥データ、５２３はパ
タンエリア、５３１は品質基準、５４１はランク付き対
象基板、６０１は基板エリア、６０５はパタンエリア
（描画エリア）、６１１、６１２、６１３は欠陥、６２
１、６２２、６２３は欠陥領域、６３１、６３２、６３
３はパタンデータエリア、６５１、６５２は絵柄（パタ
ンとも言う）である。

【００１２】本発明の基板選択装置の実施の形態例を図
１に基づいて説明する。本例は、遮光膜をその一面に成
膜し、感光材層を未塗布の、フォトマスク形成用の遮光
膜成膜基板群の中から、遮光膜の欠陥情報と描画情報よ
り、目的とする製品に合う遮光膜成膜基板を選択し、選
択された遮光膜成膜基板の遮光膜上に、感光材を塗布し
て、フォトマスク作製のための描画に供与する基板選択
装置である。そして、図１に示すように、本例の基板選
択装置は、各遮光膜成膜基板１１０の遮光膜欠陥情報を
蓄積する遮光膜欠陥情報データベース１２５と、該遮光
膜欠陥情報データベース１２５に遮光膜欠陥情報を登録
するための遮光膜欠陥登録部１２０と、描画すべきパタ
ンの描画情報を蓄積する描画情報データベース１９０
と、該描画情報データベースに描画すべきパタンの描画
情報を登録するための描画情報登録部１８０と、各デー
タベースに蓄積された描画情報と遮光膜欠陥情報から、
１つ以上の手段で目的とする製品に適用できる遮光膜成
膜基板１１０を選択する遮光膜成膜基板選択部１３０
と、更に、遮光膜成膜基板選択部１３０により、選択し
た遮光膜成膜基板１１０に、所定の決められた感光材を
塗布して作成された感光材塗布基板１１５に対し、感光
材欠陥検査を行ない、得られた感光材欠陥情報を蓄積す
る感光材欠陥情報データベース１４５と、感光材欠陥情
報データベース１４５に感光材欠陥情報を登録するため
の感光材欠陥登録部１４０と、感光材欠陥情報データベ
ース１４５に蓄積された感光材欠陥情報と、描画情報デ
ータベース１９０に蓄積された描画情報より、１つ以上
の手段で目的とする製品に適用する感光材塗布基板を判
定する感光材塗布基板判定部１５０とを備えている。

【００１３】はじめに、本例の基板選択装置の各部とそ
の処理、および基板選択装置の各部と基板供給処理のフ
ローとの関係を、図１に基づいて簡単に説明しておく。
尚、これを以って、本発明の基板供給方法の実施の形態
例の説明に代える。先ず、石英などの透明基板の上に、
クロムなどの金属薄膜からなる遮光膜あるいはシフター
層をスパッタ法などにより成膜した遮光膜成膜基板（ブ
ランクスとも言う）１１０（Ｓ１１）に対し、所定の欠
陥検査を行い（Ｓ１２）、遮光膜欠陥登録部１２０に
て、この結果を遮光膜欠陥情報として、遮光膜欠陥情報
データベース１２５に保管する。欠陥検査としては、通
常、所定のピンホール欠陥検査機により、図２に示すよ
うに、欠陥のサイズとその欠陥座標（Ｘ，Ｙ）を得るこ
とができる。次いで、基板選択部１３０により、描画情
報データベース１９０に蓄積された描画情報と、遮光膜
欠陥データベース１２５に蓄積された遮光膜欠陥情報か
ら、１つ以上の手段で目的とする製品に適用できる遮光
膜成膜基板を選択する。（Ｓ１３）描画情報は、フォトマスク仕様１７０に基づき描画情報
データベース１９０に登録されるが、描画パタン情報、
配置情報、描画パタンのランク付け情報等を含み、更
に、細かくは、描画機、基板サイズ、遮光膜種類、等の
基板条件、および、設計ルール、ピンホール欠陥検査結
果ランク、異物欠陥検査結果ランク等の品質条件を含
む。基板選択部１３０としては、遮光膜欠陥情報から求
めたランクと描画パタンのランクとを考慮して遮光膜成
膜基板を選択する基板ランク選択部１３１、遮光膜欠陥
位置と描画パタンエッジを考慮して基板を選択するパタ
ンエッジ選択部１３２、遮光膜欠陥位置と全描画パタン
を考慮して基板を選択する全パタン選択部１３３の１つ
以上を基板選択手段として備えているものが挙げられ
る。これらによる、基板選択については、説明を後述す
る。尚、基板ランク選択部１３１、パタンエッジ選択部
１３２、全パタン選択部１３３により実施される遮光膜
成膜基板の選択方法を、ここでは、基板ランク選択法、
パタンエッジ選択法、全パタン選択法と呼ぶ。基板選択
部１３０による、目的とする製品に見合った基板を選択
する際の入力（選択指示入力に相当）は、例えば、図５
に示すように表示する（コンピュータ端末の表示部の）
入力画面において、描画機、基板サイズ、遮光膜種類、
等の基板条件、および、設計ルール、ピンホール欠陥検
査結果ランク等の品質条件を、それぞれ選択して用い、
各選択部にて遮光膜成膜基板選択行なう。

【００１４】次いで、基板選択部１３０により選択され
た遮光膜成膜基板に対し、遮光膜上に目的とする感光材
を塗布形成し（Ｓ１４）、得られた感光材塗布基板１１
５（Ｓ１５）に対し、感光材の欠陥検査を行ない（Ｓ１
６）、結果を感光材欠陥登録部１４０により、感光材欠
陥データベース１４５に蓄積する。感光材の欠陥検査
は、通常、所定の検査機で異物欠陥の検査を行うもの
で、欠陥のサイズと、その欠陥座標（Ｘ，Ｙ）を、図２
に示すピンホール欠陥のように、得ることができる。

【００１５】次いで、基板判定部１５０により、描画情
報データベース１９０に蓄積された描画情報と、感光材
欠陥情報データベース１２５に蓄積された感光材欠陥情
報から、１つ以上の手段で目的とする製品に適用できる
感光材塗布基板を選択する。（Ｓ１７）基板判定部１５０としては、感光材欠陥情報から求めた
ランクと描画パタンのランクとを考慮して感光材塗布基
板を判定する基板ランク判定部１５１、感光材欠陥位置
と描画パタンエッジを考慮して基板を判定するパタンエ
ッジ判定部１５２、感光材欠陥位置と全描画パタンを考
慮して基板を判定する全パタン判定部１５３の１つ以上
を基板選択手段として備えているものが挙げられる。こ
れらによる、基板判定についても、説明を後述する。
尚、基板ランク判定部１５１、パタンエッジ判定部１５
２、全パタン判定部１５３により実施される感光材塗布
基板の判定方法を、ここでは、基板ランク判定法、パタ
ンエッジ判定法、全パタン判定法と呼ぶ。基板判定部１
３０による、目的とする製品に見合った基板を判定する
際の入力（判定指示入力に相当）は、例えば、図５に示
にて、ピンホール欠陥検査結果ランクを異物欠陥検査結
果ランクに代えて、表示する（コンピュータ端末の表示
部の）入力画面において、描画機、基板サイズ、遮光膜
種類、等の基板条件、および、設計ルール、異物欠陥検
査結果ランク等の品質条件を、それぞれ選択して用い、
各判定部にて感光材塗布基板の判定を行なう。

【００１６】基板判定部１５０にて、ＯＫと判断された
（Ｓ１９）感光材塗布基板は、感光材のロットチェック
を行ない（Ｓ２０）、感度に問題がなければ、パタン描
画に供与される。（Ｓ２１）また、基板判定部１５０にて、ＯＫでないと判断された
（Ｓ１９）感光材塗布基板は使用せず、再度、目的とす
る製品に適用できる遮光膜成膜基板を、基板選択部１３
０により選択し（Ｓ１３）、上記と同様に、再度、Ｓ１
４〜Ｓ１７までの処理ステップを行ない、基板判定部１
５０にて、ＯＫと判断されるまで繰り返し行なう。そし
て、ＯＫと判断された（Ｓ１９）感光材塗布基板は、先
と同様に、感光材のロットチェックを行ない（Ｓ２
０）、感度に問題がなければ、パタン描画に供与され
る。（Ｓ２１）

【００１７】ロットチェックとしては、例えば、感光材
のロット毎に、テストピース（テスト用基板）を用い
て、感度チエックを行い、この結果を感光材層感度ロッ
トチェックデータとして保管して、これを元に判断して
も良い。感光材感度ロットチェックデータとしては、各
基板毎に、感光材の塗布ロット（ここでは、塗布日によ
りロットが異なるとする）毎に、テストピース等により
その感度を調べ、対応する描画機毎にこれに合った露光
量（照射量）を決め、各基板毎に、基板サイズ、遮光膜
種類、感光材層種類、塗布日、描画機、露光量を対応さ
せておくもので、例えば、図３に示すように、表され
る。尚、図３中、＋ａは、＋ａだけ露光量を多くして、
感光材層のロット間の感度のバラツキの補正を行ってい
るものである。

【００１８】次に、基板選択部１３０による、基板選択
を説明する。先ず、基板ランク選択部１３１により、目
的とする製品に品質的に見合ったランクの遮光成膜基板
を選択する第１の例のフロー（アルゴリズム）の例を図
６に基づいて説明する。図６に示す例は、基板選択の基
準となるフォトマスク仕様からの基板の品質基準から、
基板ランクを指定し、対応するランク付けされた遮光膜
成膜基板を選択するもので、基板ランク選択部により以
下のように基板選択を行なう。遮光膜成膜基板のランク
付けは、対象基板について、データベースに登録された
遮光膜欠陥情報に基づき、それぞれ、作製するフォトマ
スクのパタンエリア（これを、描画エリアとも言う）に
対応する領域内の欠陥数を抽出し、抽出された欠陥の数
により、ランク付けするものである。先ず、遮光膜成膜
基板５１１の中から、選択指示入力により指定された、
指定の描画機、基板サイズ、遮光膜種類等の使用条件５
１２に対応する対象基板５２１を選択する、対象基板選
択を行なう。（Ｓ５１０）次いで、この対象基板５２１の中から、ピンホール欠陥
検査結果データ５２２を参照にして、パタンエリアを所
定のものとし、０°状態と９０°回転した状態とで、パ
タンエリア内の欠陥数を把握しておく。（Ｓ５２０）９０°回転することにより、所定のパタンエリア内にお
いても、その中に占める欠陥の数が異なることがある。
対象基板５３１の中から、品質基準（基板ランク）５３
２と照らし、所望の基板ランクのものを選び、優先順位
を付けたランク分けを行ない（Ｓ５３０）、優先順位が
付けられたランク付き対象基板５４１を得る。これによ
り、所望の遮光膜成膜基板が選択されたこととなる。こ
のようにして、目的とする製品の対象基板５４１が、ラ
ンク分けされ、更に優先順位が付けられるが、この対象
基板５４１の中より、目的とする製品の品質仕様（品質
基準）に見合った、所望の基板が選択され（Ｓ５５
０）、感光材塗布される。（図１のＳ１４に相当）尚、フォトマスク仕様１７０から決められる基板選択の
基準となる品質基準は、設計ルール、パタンエリア
（Ｘ、Ｙサイズ）、ピンホール欠陥検査結果等によりラ
ンクを対応させたもので、例えば、図４に示すように表
される。尚、図４はラスター型のＥＢ機（電子線描画
機）による描画に供せられる基板の品質基準の例で、表
の１段目は０. ２５μｍアドレスユニット描画で、パタ
ンエリアが１００００μｍ、１００００μｍ範囲で、ピ
ンホール欠陥検査結果ランクがＡ、異物欠陥検査結果ラ
ンクがＢであることを意味している。

【００１９】次に、基板選択部１３０により、目的とす
る製品に品質的に見合ったランクの遮光成膜基板を選択
する第２の例のを図７に基づいて説明する。図７に示す
例は、遮光膜欠陥位置と描画パタンエッジを考慮して基
板を選択するもので、基板選択部１３０内のパタンエッ
ジ選択部１３２により、以下のように基板選択を行な
う。第２の例は、遮光膜欠陥データベース１２５に登録
された遮光膜欠陥検情報、と描画情報とから、基板を選
択するもので、基板選択部１３０では、欠陥確率計算部
（図示していない）にて、対象基板について、データベ
ースに登録された欠陥検情報に基づき、それぞれ、フォ
トマスク上で欠陥が発生しない確率Ｐ０を求めるもの
で、この確率Ｐ０より、対象基板の中でランク付けを行
い、所望の基板ランクのものを選ぶものである。選ばれ
た遮光膜成膜基板は、感光材塗布処理（図１のＳ１４に
相当）に供される。Ｐ０を求める際、対象基板に対し、
対象基板とパタンエリアを相対的に９０度ずつ回転させ
て、０°の場合と同様の計算を行い、それぞれの相対的
な角度におけるＰ０を求め、それぞれの相対的な角度に
おけるＰ０を含め、対象基板の中でランク付けを行い、
所望のランクのものを選ぶ。この場合、第１の例に比
べ、対象基板をさらに有効的に使用することができる。
尚、第２の例におけるＰ０計算方法は、欠陥が絵柄の内
部に含まれる場合には、後で欠陥修正が比較的容易に行
なうことができるため、これを、実作業上、後の修正作
業を前提として、欠陥発生としない計算方法で、パタエ
ッジ部のみが確立Ｐ０に関係しているので、ここではこ
の第２の例の基板選択処理をパタンエッジ選択処理と言
い、これを行なう処理部をパタンエッジ選択部と言って
いる。

【００２０】以下、対象基板とパタンエリアとがある所
定の相対位置関係にある場合の、フォトマスク上で欠陥
が発生しない確率Ｐ０の求め方の１例を図７に基づいて
説明する。説明を分かり易くするため、具体的な例とし
て、基板エリア６０１の描画エリア（パタンエリア）６
０５内に、欠陥が 3個（欠陥６１１、６１２、６１３）
あり、パタンデータエリア６３１、６３２、６３３が３
つある場合の、フォトマスク上で欠陥が発生しない確率
Ｐ０の求め方を説明する。先ず、欠陥６１１、６１２、
６１３について、それぞれ、パタンデータエリア内の絵
柄（パタンとも言う）の周辺部に跨る確率を計算し、こ
れより、パタンデータエリア内の絵柄（パタンとも言
う）の周辺部に跨がらない確率Ｐ１，Ｐ２、Ｐ３をそれ
ぞれ計算し、Ｐ０＝Ｐ１×Ｐ２×Ｐ３としてフォトマス
ク上で欠陥が発生しない確率Ｐ０を求める。尚、対象基
板と、パタンエリア、パタンデータエリア、パタンデー
タエリア内の絵柄（パタンとも言う）との位置関係は、
描画パタン１７１、配置情報１７２とから決定する。欠
陥６１１がパタンデータエリア内の絵柄（パタンとも言
う）の周辺部に跨がらない確率Ｐ１は、作製されるフォ
トマスク上での、欠陥６１１の位置に対応する、誤差を
考慮した欠陥より大サイズの、欠陥領域６２１を求め、
求められた欠陥領域６２１内の絵柄の周辺部に欠陥が発
生しない確率である非発生確率を求める。図７（ａ）の
場合の、誤差を考慮した、欠陥６１１がこの中に入る欠
陥より大サイズの、欠陥領域６２１（サイズＬ×Ｌ）内
の絵柄が、図７（ｂ）に拡大して示すように、絵柄６５
１、６５２で、欠陥領域６２１は一辺の長さをＬとする
矩形領域である。この場合、欠陥をサイズｄφの円形の
ものとし、絵柄６５１、６５２の周辺長さの総和をＳ１
とすると、欠陥６１１がパタンデータエリア内の絵柄
（パタンとも言う）の周辺部に跨る確率は、近似的に
（Ｓ１×ｄ）／（Ｌ×Ｌ）として計算される。（図７
（ｃ）参照）よって、欠陥６１１がパタンデータエリア内の絵柄（パ
タンとも言う）の周辺部に跨がらない確率Ｐ１を、近似
的に、Ｐ１＝１−［（Ｓ１×ｄ）／（Ｌ×Ｌ）］として
求めることができる。同様にして、欠陥６１２、６１３
がパタンデータエリア内の絵柄（パタンとも言う）の周
辺部に跨がらない確率Ｐ２、Ｐ３をそれぞれ求める。求
められた、Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３より、フォトマスク上で欠
陥が発生しない確率Ｐ０が求められる。パタンデータエ
リア（６３１、６３２、６３３に相当）が３つ以上ある
場合についても、基本的には同様に計算できる。

【００２１】次に、基板ランク選択部１３０により、目
的とする製品に品質的に見合ったランクの遮光成膜基板
を選択する第３の例を簡単に説明する。第３の例は、遮
光膜欠陥位置と全描画パタン領域とを考慮して基板を選
択するもので、基板選択部１３０内の全パタン選択部
（図示していない）により、以下のように基板選択を行
なう。第３の例も、遮光膜欠陥データベース１２５に登
録された遮光膜欠陥検情報、と描画情報とから、基板を
選択するもので、第２の例と同様、基板選択部１３０で
は、欠陥確率計算部（図示していない）にて、対象基板
について、データベースに登録された欠陥検情報に基づ
き、それぞれ、フォトマスク上で欠陥が発生しない確率
Ｐ０１を求めるもので、この確率Ｐ０１より、対象基板
の中でランク付けを行い、所望の基板ランクのものを選
ぶものであるが、第３の例の場合は、第２の例のように
パタンエッジのみを対象とせず、全パタン領域について
かっ間が発生する確率を求める。例えば、図７（ｂ）の
ような欠陥領域６２１において、サイズｄφの円形の欠
陥６１１がパタンデータエリア内の絵柄（パタンとも言
う）に跨る確率は、Ｓｄ／（Ｌ×Ｌ）として計算され
る。但し、Ｓｄは絵柄６５１、６５２を、それぞれ外側
にｄ／２だけ太らせた場合の面積の和である。これよ
り、欠陥６１１がパタンデータエリア内の絵柄（パタン
とも言う）に跨がらない確率Ｐ１１は、Ｐ１１＝１−
［Ｓｄ／（Ｌ×Ｌ）］として求められる。同様に、欠陥
６１２、６１３がパタンデータエリア内の絵柄（パタン
とも言う）に跨がらない確率Ｐ１２、Ｐ１３を求めるこ
とができ、求められた、Ｐ１１，Ｐ２１，Ｐ３１より、
絵柄の内部にある場合も含め、フォトマスク上で欠陥が
発生しない確率Ｐ０１を求めることができる。

【００２２】次いで、基板判定部１５０による、基板判
定を説明する。先にも述べたように、基板判定部１５０
としては、感光材欠陥情報から求めたランクと描画パタ
ンのランクとを考慮して感光材塗布基板を判定する基板
ランク判定部、感光材欠陥位置と描画パタンエッジを考
慮して基板を判定するパタンエッジ判定部、感光材欠陥
位置と全描画パタンを考慮して基板を判定する全パタン
判定部の１つ以上を基板選択手段として備えているもの
が挙げられる。基板ランク判定部１５０は、感光材塗布
基板１１５に対し、基板選択部１３０の基板ランク選択
部の処理の欠陥算出と同様にして、欠陥数を算出し、ラ
ンク付けし、これとフォトマスク仕様からの品質基準と
比較し、目的とする製品の描画に適用できるか否かを判
断するものである。また、パタンエッジ判定部は、感光
材塗布基板１１５に対し、基板選択部１３０のパタンエ
ッジ選択部の処理の確立算出と同様にして、確立Ｐ０を
算出し、これより、目的とする製品の描画に適用できる
か否かを判断するものである。また、全パタン判定部
は、感光材塗布基板１１５に対し、基板選択部１３０の
全パタン選択部の処理の確立算出と同様にして、確立Ｐ
０１を算出し、これより、目的とする製品の描画に適用
できるか否かを判断するものである。

【００２３】

【発明の効果】本発明は、上記のように、フォトマスク
作製のためのパタン描画に供用される基板選択装置で、
目的とする製品の品質仕様に見合う基板を提供でき、且
つ、感光材を無駄にせずに、コスト面や生産性の面でも
対応できる、基板選択装置の提供を可能とした。同時
に、作製するフォトマスクの仕様に基づく描画情報に合
せて、フォトマスク作製のための描画用基板を供給す
る、描画用基板の供給方法で、目的とする製品の品質仕
様に見合う基板を供給でき、且つ、感光材を無駄にせず
に、コスト面や生産性の面でも対応できる、描画用基板
の供給方法の提供を可能とした。これにより、従来に比
べ、フォトマスク製造のトータル的な生産性を向上さ
せ、フォトマスクの更なる高精度化、高品質化、低コス
ト化にも対応できるものとした。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の基板選択装置の実施の形態の１例の概
略構成と基板選択処理のフローを示した概略図

【図２】ピンホール欠陥検査結果データの１例を示した
図

【図３】感光材ロットチェック結果データの１例を示し
た図

【図４】品質基準の１例を示した図

【図５】基板選択の入力方法の１例を示した図

【図６】基板選択部のランク判定部による遮光膜成膜基
板選択手順の１例を示したフロー図

【図７】基板選択部のエッジ選択部による遮光膜成膜基
板選択を説明するための図

【図８】フォトマスクの製造方法を説明するための図

【符号の説明】

１１０遮光膜成膜１１５感光材塗布基板１２０遮光膜欠陥登録部１２５遮光膜欠陥情報データベース１３０基板選択部（遮光膜基板選択
部とも言う）１３１基板ランク選択部１３２パタンエッジ選択部１３３全パタン選択部１４０感光材塗布基板欠陥登録部１４５感光材欠陥情報データベース１５０基板判定部（感光材塗布基板
判定部とも言う）１５１基板ランク判定部１５２パタンエッジ判定部１５３全パタン判定部１７０フォトマスク仕様１８０描画情報登録部１９０描画情報データベース５１１遮光膜基板群５１２使用条件（フォトマスク仕
様）５２１対象基板５２２ピンホール欠陥データ５２３パタンエリア５３１品質基準５４１ランク付き対象基板６０１基板エリア６０５パタンエリア（描画エリア）６１１、６１２、６１３欠陥６２１、６２２、６２３欠陥領域６３１、６３２、６３３パタンデータエリア６５１、６５２絵柄（パタンとも言う）８１０透明基板８２０遮光膜あるいはシフター層８２５遮光層パタン８３０感光材層（感光性樹脂膜、
感光性レジストあるいは単にレジストとも言う）８３５レジストパタン８４０電離放射線

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】遮光膜をその一面に成膜し、感光材層を
未塗布の、フォトマスク形成用の遮光膜成膜基板群の中
から、遮光膜の欠陥情報と描画情報より、目的とする製
品に合う遮光膜成膜基板を選択し、選択された遮光膜成
膜基板の遮光膜上に、感光材を塗布して、フォトマスク
作製のための描画に供与する、基板選択装置であって、
各遮光膜成膜基板の遮光膜欠陥情報を蓄積する遮光膜欠
陥情報データベースと、該遮光膜欠陥情報データベース
に遮光膜欠陥情報を登録するための遮光膜欠陥登録部
と、描画すべきパタンの描画情報を蓄積する描画情報デ
ータベースと、該描画情報データベースに描画すべきパ
タンの描画情報を登録するための描画情報登録部と、各
データベースに蓄積された描画情報と遮光膜欠陥情報か
ら、１つ以上の手段で目的とする製品に適用できる遮光
膜成膜基板を選択する遮光膜成膜基板選択部とを有し、
遮光膜成膜基板選択部により、目的とする製品に適用す
る遮光膜成膜基板を選択するものであることを特徴とす
る基板選択装置。
【請求項２】請求項１において、選択した遮光膜成膜
基板に、所定の決められた感光材を塗布して作成された
感光材塗布基板に対し、感光材欠陥検査を行ない、得ら
れた感光材欠陥情報と蓄積する、感光材欠陥情報データ
ベースと、該感光材欠陥情報データベースに感光材欠陥
情報を登録するための感光材欠陥登録部と、感光材欠陥
情報データベースに蓄積された感光材欠陥情報と、描画
情報データベースに蓄積された描画情報より、１つ以上
の手段で目的とする製品に適用する感光材塗布基板を判
定する感光材塗布基板判定部とを有し、感光材塗布基板
判定部により、目的とする製品に適用する感光材塗布基
板を選択するものであることを特徴とする基板選択装
置。
【請求項３】請求項１ないし２において、遮光膜成膜
基板選択部は、遮光膜欠陥情報から求めたランクと描画
パタンのランクとを考慮して遮光膜成膜基板を選択する
基板ランク選択部、遮光膜欠陥位置と描画パタンエッジ
を考慮して基板を選択するパタンエッジ選択部、遮光膜
欠陥位置と全描画パタンを考慮して基板を選択する全パ
タン選択部の１つ以上を備えていることを特徴とする基
板選択装置。
【請求項４】請求項１ないし３において、感光材塗布
基板判定部は、感光材欠陥情報から求めたランクと描画
パタンのランクを考慮して感光材塗布基板を判定する基
板ランク判定部、感光材欠陥位置と描画パタンエッジを
考慮して基板を判定するパタンエッジ判定部、感光材欠
陥位置と全描画パタンを考慮して基板を判定する全パタ
ン判定部の１つ以上を備えていることを特徴とする基板
選択装置。
【請求項５】作製するフォトマスクの仕様に基づく描
画情報に合せて、フォトマスク作製のための描画用基板
を供給する、描画用基板の供給方法であって、各基板の
遮光膜欠陥情報が、遮光膜欠陥情報データベースに登録
された、遮光膜をその一面に成膜し、且つ、感光材層を
未塗布の、フォトマスク形成用の遮光膜成膜基板群の中
から、前記遮光膜欠陥情報データベースに登録された遮
光膜の欠陥情報と、描画情報より、目的とする製品に合
う遮光膜成膜基板を選択する遮光膜成膜基板選択工程
と、遮光膜成膜基板選択工程により選択された遮光膜成
膜基板の遮光膜上に、感光材を塗布して、感光材塗布基
板を作成し、更に、感光材塗布基板の感光材の欠陥検査
を行ない、欠陥情報を感光材欠陥情報データベースに登
録した後、前記感光材欠陥情報データベースに登録され
た欠陥情報と、描画情報より、感光材塗布基板が、目的
とする製品に合うか否かを判定する感光材塗布基板判定
工程とを行ない、感光材塗布基板判定工程における判
定がＯＫと判定された感光材塗布基板を供することを特
徴とする描画用基板の供給方法。
【請求項６】請求項５において、遮光膜成膜基板選択
工程における目的とする製品に合う遮光膜成膜基板の選
択が、遮光膜欠陥情報から求めたランクと描画パタンの
ランクとを考慮して遮光膜成膜基板を選択する基板ラン
ク選択法、遮光膜欠陥位置と描画パタンエッジを考慮し
て基板を選択するパタンエッジ選択法、遮光膜欠陥位置
と全描画パタンを考慮して基板を選択する全パタン選択
法の１つ以上の選択方法により選択するものであること
を特徴とする描画用基板の供給方法。
【請求項７】請求項５ないし６において、感光材塗布
基板判定工程における目的とする製品に合うか否かを判
定する感光材塗布基板判定が、感光材欠陥情報から求め
たランクと描画パタンのランクを考慮して感光材塗布基
板を判定する基板ランク判定法、感光材欠陥位置と描画
パタンエッジを考慮して基板を判定するパタンエッジ判
定法、感光材欠陥位置と全描画パタンを考慮して基板を
判定する全パタン判定法の１つ以上の判定方法により判
定するものであることを特徴とする描画用基板の供給方
法。