JP2002278021A

JP2002278021A - 光熱写真画像形成材料の製造方法およびその画像記録方法

Info

Publication number: JP2002278021A
Application number: JP2001078475A
Authority: JP
Inventors: Takeshi Haniyu; 武羽生
Original assignee: Konica Minolta Inc
Current assignee: Konica Minolta Inc
Priority date: 2001-03-19
Filing date: 2001-03-19
Publication date: 2002-09-27

Abstract

(57)【要約】【課題】本発明は、下塗り塗布液の安定性、塗布後の
膜強度が高く、且つ、低カブリ、高感度、高濃度が得ら
れ、画像保存性のよい光熱写真画像形成材料の製造方法
を提供することおよびその画像形成において干渉ムラが
生じにくく、均一な現像仕上がりを有し、鮮鋭性の高い
光熱写真画像形成材料の画像記録方法を提供することを
目的とする。【解決手段】本発明の上記課題は、支持体上に、下塗
り層並びに感光性ハロゲン化銀粒子、有機銀塩、還元剤
及び結合剤を含有する感光層を有する光熱写真画像形成
材料の製造方法において、該下塗り層を塗設するに際
し、該層の塗布液が揮発性物質を含有し、塗設した後、
該層にマイクロ波を照射する光熱写真画像形成材料の製
造方法等により、また、光熱写真画像形成材料に画像を
記録する際の走査レーザー光が、同一波長で且つ入射角
の異なる２重ビームである画像記録方法等により達成す
ることができた。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は下塗り塗布液の安定
性、塗布後の膜強度が高く、且つ、低カブリ、高感度、
高濃度が得られ、画像保存性のよい光熱写真画像形成材
料の製造方法を提供することおよびその画像形成におい
て干渉ムラが生じにくく、均一な現像仕上がりを有し、
鮮鋭性の高い光熱写真画像形成材料の画像記録方法に関
する。

【０００２】

【従来の技術】近年、医療分野で環境保護や作業性の面
から湿式処理に伴う廃液の出ない画像を形成する写真材
料が強く望まれており、その結果光と熱を利用した現像
により、高解像度で鮮明な黒色画像を形成することがで
きる光熱写真材料に関する技術が商品化され急速に普及
している。これらの光熱写真材料は通常、８０℃以上の
温度で現像が行われるので、２５℃〜４５℃の範囲で液
現像される従来の湿式感光材料と区別され光熱写真画像
形成材料と呼ばれる。

【０００３】この光熱写真画像形成材料は、一般的に支
持体と感光層の接着性を解決するために支持体上に下塗
り層を設け、更にその上に感光層を塗設して製造され
る。その他に保護層、中間層およびハレーション防止層
（ＡＨ層）等が必要によって塗設される。下塗り層は、
支持体と感光層との接着を強化する目的の他に、静電気
防止のための導電性無機微粒子やポリマーを保持する役
目をも果たすため、これらの素材を添加した塗布液の安
定性、即ち、長時間放置しても凝集物が生じないこと、
あるいは粘度や表面張力の変化のないこと等が要求さ
れ、また、架橋促進剤、ｐＨ調節剤等が使用される。

【０００４】しかし、これらの素材が感光層に悪影響を
与える場合も起こり、このために悪影響が低減された素
材や影響を低下させる添加剤を感光層塗布液に添加して
解決してきた。

【０００５】例えば、下塗り層に高分子結合剤を使用す
る場合、この結合剤を架橋する架橋剤を同時に使用する
方法がある。架橋剤として例えば、エポキシ架橋剤を使
用する場合、その硬化促進剤であるアミン類が有効であ
る。アミン類は写真性能に対して、カブリの増大、保存
性の劣化、感度の低下等の悪影響を与える。この写真性
能の劣化を防ぐには、感光層中にカブリ防止剤としてメ
ルカプト化合物、ヘテロ環を有するイミダゾール類、ト
リアゾール類、テトラゾール類およびインダゾール類等
各種の化合物が使用されるが、抑える効果は充分とはい
えなかった。

【０００６】架橋剤としてシアヌル酸類を使用する場合
は、塗布液停滞性が劣化するために、塗布液のｐＨを８
〜１０に調節しておく必要があった。しかし、塗布後に
は膜面ｐＨを高くしておくと、カブリ易いこと、経時保
存性が劣化するのでｐＨ調節にアンモニア水を使用し、
乾燥時にアンモニアとして揮発させ、膜中のアンモニウ
ムイオン濃度を下げる必要があった。そのため、高温の
熱処理を行っていたが、この熱処理は多大なエネルギー
を消費することと処理する工程が増えるという生産性が
問題であった。

【０００７】エチレンイミン系の架橋剤を使用する場合
は、高いｐＨ状態で架橋反応が進むので酸性にして置く
必要があり、蟻酸や酢酸、蓚酸等で調節しておく必要が
あった。しかし、これらの酸も塗布後に残存しやすく、
写真性能を劣化させる問題があった。また、光熱写真画
像形成材料の結合剤として、塗布後には水分を含みにく
い疎水性の水分散性ポリマー、所謂疎水性ポリマーを使
用する必要があり、そのためにモノマーとしてスチレ
ン、アクリル酸やメタアクリル酸のアルキルエステル類
が使用されてきたが、このモノマー類を使用したポリマ
ーの水中の安定性を確保するために、ポリマーの一部に
アクリル酸、マレイン酸、イタコン酸等のカルボン酸基
を含有させ、そのためにこうしたモノマーを使用した
り、燐酸基やスルホン酸基等の酸基を有するスチレン誘
導体、アクリレート誘導体、酢酸ビニル誘導体、および
ポリエステル誘導体等を使用してきた。

【０００８】この酸基の安定性のために、アンモニウム
イオンをイオン対とする塩基を使用してきたが、これも
前記と同様に写真性能を劣化させる問題を有していた。
また、静電気防止のために、導電性微粒子や導電性ポリ
マーを使用するとこの微粒子やポリマーの安定性のため
に、アンモニウムイオンや前記の酸を使用してきたが、
写真性能に悪影響を及ぼすとの問題を有していた。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、下塗
り層塗布液の安定性が良好であり、塗設された下塗り層
の膜強度が高く、かつ、低カブリ、高感度、高濃度であ
る写真性能を有する光熱写真画像形成材料が得られ、ま
た、形成された画像の保存性にも優れる光熱写真形成材
料の製造方法を提供することにあり、更にまた画像形成
において干渉ムラが生じにくく、均一な現像仕上がりを
有する光熱写真画像形成材料の画像記録方法を提供する
ことにある。

【００１０】

【課題を解決するための手段】本発明の上記課題は、以
下のａ）ないしｍ）に記載された手段により達成され
た。

【００１１】すなわち、ａ）支持体上に、下塗り層並び
に感光性ハロゲン化銀粒子、有機銀塩、還元剤及び結合
剤を含有する感光層を有する光熱写真画像形成材料の製
造方法において、該下塗り層を塗設するに際して、該下
塗り層の塗布液は揮発性物質を含有しており、該塗布液
を塗設した後、該層にマイクロ波を照射することを特徴
とする光熱写真画像形成材料の製造方法。

【００１２】ｂ）前記マイクロ波の波長が１ＧＨｚ〜１
ＴＨｚであることを特徴とする上記ａ）に記載の光熱写
真画像形成材料の製造方法。

【００１３】ｃ）前記マイクロ波照射のエネルギーが１
ミリワット〜１キロワット／分・ｍ ²であることを特徴
とする上記ａ）またはｂ）に記載の光熱写真画像形成材
料の製造方法。

【００１４】ｄ）前記マイクロ波照射される直前の下塗
り層中の揮発性物質の付き量が平米当たり１００ミリモ
ル〜１ピコモルであることを特徴とする上記ａ）ないし
ｃ）に記載の光熱写真画像形成材料の製造方法。

【００１５】ｅ）前記下塗り層の結合剤がゼラチン及び
その誘導体、セルロース誘導体並びにアセタール誘導体
から選ばれることを特徴とする上記ａ）ないしｄ）に記
載の光熱写真画像形成材料の製造方法。

【００１６】ｆ）前記下塗り層の塗布液に含有する揮発
性物質が、塗布液の状態でアンモニウムイオンを解離す
るアンモニウム塩であることを特徴とする上記ａ）ない
しｅ）に記載の光熱写真画像形成材料の製造方法。

【００１７】ｇ）前記下塗り層の塗布液に、更に導電性
酸化錫微粒子を含有することを特徴とする上記ｆ）に記
載の光熱写真画像形成材料の製造方法。

【００１８】ｈ）前記マイクロ波照射により発生する揮
発性物質をとり除く手段を設けたことを特徴とする上記
ａ）ないしｇ）に記載の光熱写真形成材料の製造方法。

【００１９】ｉ）前記下塗り層塗布液にアンモニウムイ
オンをイオン対とするモノマーユニットを有する結合剤
を含むことを特徴とする上記ａ）ないしｈ）光熱写真形
成材料の製造方法。

【００２０】ｊ）前記マイクロ波照射が１０００ｈＰａ
〜０．０１ｈＰａの条件下で行われることを特徴とする
上記ｉ）に記載の光熱写真画像形成材料の製造方法。

【００２１】ｋ）上記ａ）ないしｊ）記載の光熱写真画
像形成材料に画像を記録する際の走査レーザー光が、実
質的に同一の波長であり、且つ入射角の異なる２重ビー
ムであることを特徴とする画像記録方法。

【００２２】ｌ）上記ａ）ないしｊ）に記載の光熱写真
画像形成材料に画像を記録する際の走査レーザー光が、
縦マルチであるレーザー光走査露光機による露光を行う
ことを特徴とする画像記録方法。

【００２３】ｍ）前記揮発性物質が、塗布液の状態でア
ンモニウムイオンを解離するアンモニウム塩並びにそれ
ぞれ分子量１００以下の有機酸およびアルキルアミン類
から選ばれる少なくとも１つであることを特徴とする上
記ａ）に記載の光熱写真画像形成材料の製造方法。によ
り達成できたものである。

【００２４】

【発明の実施の形態】以下に、本発明の説明を行う。

【００２５】（下塗り層）本発明の光熱写真画像形成材
料は、支持体上に、本発明に係る下塗り層を塗布し、そ
の上に感光層を少なくとも１層有する構成を基本的な構
成として有する。感光層の上には、更に非感光性層（保
護層ないし中間層）を１層または２層以上塗設してもよ
いし、感光層の下に、非感光性層（ハレーション防止層
（ＡＨ層）、接着層ないし中間層）を設けてもよい。ま
た、支持体に対して感光層を設けた側の反対側にも、本
発明に係る下塗り層を設け、その外側に非感光性層（バ
ッキング層ないしバッキング保護層等）を塗設してもよ
い。

【００２６】本発明に係る下塗り層は、１層でもよい
が、２層以上から構成されることにより接着性が高まる
ことから２層以上が好ましい。

【００２７】また、本発明に係る下塗り層は、従来公知
の方法を使用して、下塗り層塗布液を塗布することによ
り、支持体上に塗設され下塗り層とされる。

【００２８】感光層側またはバッキング層側に設けた下
塗り層の少なくとも一方に導電性層を設けることによ
り、光熱写真画像形成材料の帯電防止を行うことができ
る。バッキング層側に導電性層を設けることは、写真性
能に敏感な感光層と分離することができるので好まし
い。導電性層を設ける場合に、本発明に係る下塗り層が
２層以上から構成される場合、該導電性層を上層側と下
層側のいずれかの層に設ける２つの方法があり、上層側
に設ける方が帯電防止効果をより得易いことから屡々上
層側に設ける場合が好ましい。もちろん、下層側に設け
てもよい。

【００２９】導電性層に含有される導電性材料は、光の
透過率の高い無機微粒子、例えば、酸化錫、酸化錫にイ
ンジウムや燐等をドープしたもの、酸化バナジウム、酸
化亜鉛、酸化インジウム、フラーレン、カーボンナノチ
ューブ等や導電性ポリマー、例えば、ポリチオフェン、
ポリアニリン、ポリピロール、ポリフラン等からなる微
粒子を挙げることができる。

【００３０】導電性微粒子は、塗布液中に安定に分散さ
れやすいように、界面活性剤やｐＨ調節剤等と共に分散
含有され、分散液として使用されることが好ましい。

【００３１】界面活性剤は、ノニオンやアニオン性活性
剤が使用され、好ましい界面活性剤は、最近の環境に優
しい脂肪族界面活性剤を使用することができる。

【００３２】ｐＨ調節剤は、塗布液としてのｐＨ調節作
用と塗布乾燥後の膜面のｐＨ調節作用という観点から、
揮発性のｐＨ調節剤を使用することが好ましい。

【００３３】塗布液調製時にはアルカリ性で、塗布後に
は塗布液より低い中性や酸性状態にしたい場合には、ア
ンモニア水（水酸化アンモニウム水溶液）等を塗布液に
含有させて調節する方法が好ましい。アンモニア水以外
の例としては、揮発性のアミン類を挙げることができ
る。アミン類としては、トリメチルアミン、トリエチル
アミン、トリプロピルアミンおよびトリブチルアミン等
を挙げることができる。

【００３４】上記とは逆に、塗布液状態では酸性で、塗
布後には中性またはアルカリ性側に設定したい時には、
揮発性の酸を同様にして使用することができる。

【００３５】揮発性の酸としては、蟻酸、酢酸、蓚酸、
プロパン酸、ブタン酸、ペンタン酸等を挙げることがで
きる。

【００３６】これらのｐＨ調節剤は、光熱写真画像形成
材料の平米当たり、１００ミリモル〜１ピコモルの範囲
で使用することが、経時でのカブリ上昇や感度の低下を
防ぐためにまたは塗布液の分散安定性を維持するために
好ましい。

【００３７】（下塗り層の結合剤）本発明に係る下塗り
層の結合剤は、支持体との接着性と下塗り層の上の層
（感光層やＡＨ層）との接着性の観点から適宜選択され
る。また、水分の影響を遮断するために、水分透過率や
水分の含有率が少ない素材から選択することが好まし
い。

【００３８】代表的な素材としては、塩化ビニリデンと
その共重合体、スチレンとアクリレート類やメタクリレ
ート類の共重合体、複数のアクリレート類の共重合体お
よびスチレンとブタジエンの共重合体等が挙げられる。
これらは、水分散体とするために、アニオン解離性の親
水性基を有するモノマー成分を少量組み込むことが好ま
しく、この例としては、アクリル酸、メタクリル酸、イ
タコン酸、マレイン酸、２−アクリルアミド−２−メチ
ルプロパンスルホン酸（ＡＭＰＳ）、ポリスチレンスル
ホン酸等が挙げられる。また、これらのモノマーを上記
共重合体中に組み込み、アニオン基をアンモニウムイオ
ンで安定化することが好ましい。

【００３９】本発明に係る下塗り層の結合剤は、水分散
した疎水性のポリマーの微粒子として使用することがで
き、該水分散した疎水性のポリマー微粒子は、造膜性と
透明性を確保するために、ガラス転移点が−６０℃〜６
０℃の範囲にあるポリマーが好ましく、更には−２０℃
〜４０℃の範囲にある場合が好ましい。

【００４０】また上述した共重合体中の組み込まれたア
ニオン解離性のモノマーは、当該共重合体の０．１モル
％〜２０モル％が好ましく、更には０．５モル％〜６モ
ル％が好ましい。

【００４１】上記以外の結合剤としてアミノ基を有する
ゼラチンおよびビニルポリマー（例えば、２−ビニル−
４，６−ジアミノ−ｓ−トリアジン、アリルアミンおよ
びｐ−アミノスチレン等）を使用することもできる。ア
ミノ基の存在量は、上記のアニオン基モノマーの場合の
組み込み量と同様とすることができる。

【００４２】本発明に係る下塗り層の結合剤の使用量
は、光熱写真画像形成材料の平米当たり０．０１ｇ〜１
０ｇの範囲が好ましく、更には０．１ｇ〜３が好まし
い。

【００４３】結合剤を架橋する架橋剤は使用してもよい
し、使用しなくてもよい。使用する場合は、市販のエポ
キシ架橋剤、シアヌル酸誘導体、ビニルスルホン酸誘導
体、イソシアナトート誘導体、シランカップリング剤お
よびアルデヒド誘導体等を使用することができる。架橋
剤の使用量は結合剤の使用質量に対して１０００分の１
から１０分の１が好ましい。添加する方法は、水に溶解
して添加する方法、アルコール類（メタノール、エタノ
ール等）やケトン類（メチルエチルケトン、アセトン、
メチルイソブチルケトン）等の有機溶媒に溶解して添加
することができる。

【００４４】（マイクロ波）マイクロ波発生装置はマグ
ネトロンと呼ばれ、現在２．４５ＧＨｚの周波数のもの
が普及している。波長として１２．２ｃｍである（波長
λ＝Ｃ／ｆ：光の速度Ｃ＝３×１０⁸ｍ／ｓをマイクロ
波の周波数ｆで除する）。本発明に使用するマグネトロ
ンは、市販品を使用してもよいが、クライストロン（速
度変調管）や逆行波管を作成し、倍周によって短波長化
することができる。波長が０．１ｍｍから５ｍｍでは、
ＩｎＳｂ型半導体を使用して得ることができる。

【００４５】本発明においては倍周により、より短い
０．３ｍｍ（１ＴＨｚ）までのものを使用するのが好ま
しい。通常は２．４５ＧＨｚであるが、１０ＧＨｚ〜１
ＴＨｚにすると本発明の目的を達成し易くなる。

【００４６】照射の仕方は、反射による放散を抑制し、
照射効率の低下を防ぐために閉鎖系にして分子の振動エ
ネルギーに９０％〜１００％まで変換させるようにする
のが好ましい。

【００４７】照射エネルギーは、光熱写真画像形成材料
の平米当たり１ミリワット（ｍＷ）〜１キロワット（ｋ
Ｗ）／分の範囲である場合が好ましい。例えば、本発明
に係る下塗り層の塗布速度が１分間に３００ｍの塗布速
度の場合、３００ｍＷ〜３００ｋＷのマイクロ波を取り
付けることが好ましく、この場合に３００ｋＷを１台の
マグネトロン装置で達成する必要がなく、２ｋＷレベル
のものを複数並べて照射してもよい。

【００４８】マイクロ波を照射する時間は、特に制限は
ないが、好ましくは、１ミリ秒から２００秒の範囲が好
ましい。

【００４９】照射するときに、揮発性物質を取り除く手
段として、減圧機を備えるのが好ましい。減圧機による
照射部分での条件は、１０００ｈＰａ〜０．０１ｈＰａ
の範囲であることが生産性や揮発性物質の取り除く効率
の観点で好ましい。

【００５０】（揮発性物質）本発明に係る揮発性物質
は、導電性無機微粒子や導電性ポリマーの安定化剤とし
て、または架橋剤の架橋促進物質として、更には結合剤
の安定化化物質として使用されるものが挙げられる。

【００５１】好ましい化合物は、アミン類、酸類、酸無
水物、アンモニウム塩（塗布液の状態でアンモニウムイ
オンを解離しうる化合物が好ましい。）およびヒドラジ
ン類がある。

【００５２】アミン類としては、アルキルアミン類（分
子量１００以下のアルキルアミン類は特に好まし
い。）、ヘテロ環基を有するアミン類、芳香族アミン類
が好ましい。

【００５３】酸類としては、分子量が１００以下の有機
酸が好ましい。有機酸としては、芳香族および脂肪族カ
ルボン酸が好ましく、酸無水物としては、芳香族または
脂肪族カルボン酸から誘導されるものが好ましい。

【００５４】これらの中で、特に、上記アンモニウム塩
は好ましく、更には、塗布液において導電性微粒子と併
用する場合が好ましい。

【００５５】架橋促進剤の例としては、マイクロ波照射
により揮発する低分子化合物であることが好ましく、分
子量２００以下、または沸点１６０℃以下を示す化合物
が好ましい。

【００５６】好ましい上記架橋促進剤などの例を下記に
示す。化合物名の後の（）内は沸点（ｂｐ．）または
分子量（ｍｗ．）を表す。

【００５７】ＫＳ−１：トリエチルアミン（ｂｐ．８９
℃−９０℃）ＫＳ−２：トリメチルアミン（常温は気体で１０％水溶
液として使用）ＫＳ−３：トリプロピルアミン（ｂｐ．１５６℃）（ｍ
ｗ．１４３．２７）ＫＳ−５：水酸化アンモニウム（２０％水溶液として使
用）ＫＳ−６：ジエチルアミン（ｂｐ．５５．５℃）ＫＳ−７：ジブチルアミン（ｂｐ．１５９℃ー１６０
℃），（ｍｗ．１２９．２４）ＫＳ−８：ジプロピルアミン（１１０℃）ＫＳ−９：ピリジン（１１６℃−１１７℃）ＫＳ−１０：エチレンジアミン（１１６℃ー１１７℃）
（ｍｗ．６０．１０）ＫＳ−１１：α−ピコリン（１２８℃−１２９℃）（ｍ
ｗ．９３．１３）ＫＳ−１２：蟻酸（１００．５℃）ＫＳ−１３：酢酸（１１８℃）ＫＳ−１４：無水酢酸（１３９℃）上記揮発性物質は、水、アルコール類、ケトン類、非極
性の有機溶媒類に溶解して添加しても良いし、常温で固
体状のものは塗布液中に固体のまま粉砕などを経て分散
添加してもよい。

【００５８】上記揮発性物質の塗布液への添加量は、塗
布液が架橋剤を使用する場合は、架橋剤の架橋する基と
当量が好ましいが１０倍まで増量しても良いし、１０分
の１以下まで減量してもよい。少なすぎると架橋反応が
進みにくく多すぎると未反応の架橋剤が写真性を劣化さ
せる場合もあるので、上記の範囲が好ましく。また、架
橋剤を使用しない場合は、本発明に係る光熱写真画像形
成材料の平米当たり１マイクログラム〜１グラムを添加
すればよい。

【００５９】（有機銀塩）本発明の光熱写真画像形成材
料に含有される有機銀塩は還元可能な銀源であり、還元
可能な銀イオン源を含有する有機酸、ヘテロ有機酸及び
酸ポリマーの銀塩などが用いられる。銀塩の例は、Ｒｅ
ｓｅａｒｃｈＤｉｓｃｌｏｓｕｒｅ（リサーチディス
クロージャー）第１７０２９及び第２９９６３に記載さ
れており、例えば次のものを挙げることができる：没食
子酸銀、シュウ酸銀、ベヘン酸銀、ステアリン酸銀、パ
ルミチン酸銀、ラウリン酸銀等。

【００６０】（還元剤）本発明の光熱写真画像形成材料
に含有される好ましい還元剤の例は、米国特許第３，７
７０，４４８号、同３，７７３，５１２号、同３，５９
３，８６３号等の各明細書、及びＲｅｓｅａｒｃｈＤ
ｉｓｃｌｏｓｕｒｅ第１７０２９及び第２９９６３記載
されており、次のものが挙げられる。（Ｋ１）１，１−ビス（２−ヒドロキシ−３，５−ジメ
チルフェニル）−３，５，５−トリメチルヘキサン（Ｋ２）ビス（２−ヒドロキシ−３−ｔ−ブチル−５−
メチルフェニル）メタン（Ｋ３）２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフ
ェニル）プロパン（Ｋ４）４，４−エチリデン−ビス（２−ｔ−ブチル−
６−メチルフェノール）（Ｋ５）２，２−ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロ
キシフェニル）プロパン前記に示される化合物は、水に
分散したり、有機溶媒に溶解して使用する。有機溶媒
は、メタノールやエタノール等のアルコール類やアセト
ンやメチルエチルケトン等のケトン類、トルエンやキシ
レン等の芳香族系を任意に選択することができる。還元
剤の使用量は、銀１モル当り１×１０^-2〜１０モル、好
ましくは１×１０^-2〜１．５モルである。

【００６１】（感光性ハロゲン化銀粒子）本発明の光熱
写真画像形成材料の感光層中に含有される感光性ハロゲ
ン化銀は、シングルジェット若しくはダブルジェット法
などの写真技術の分野で公知の任意の方法により、例え
ばアンモニア法乳剤、中性法、酸性法等のいずれかの方
法で予め調製できる。感光性ハロゲン化銀は、画像形成
後の白濁を低く抑えるために、また良好な画質を得るた
めに粒子サイズが小さいものが好ましい。平均粒子サイ
ズで０．１μｍ以下、好ましくは０．０１〜０．１μ
ｍ、特に０．０２〜０．０８μｍが好ましい。又、ハロ
ゲン化銀の形状としては特に制限はなく、立方体、八面
体の所謂正常晶や正常晶でない球状、棒状、平板状等の
粒子がある。又ハロゲン化銀組成としても特に制限はな
く、塩化銀、塩臭化銀、塩沃臭化銀、臭化銀、沃臭化
銀、沃化銀のいずれであってもよい。

【００６２】上記ハロゲン化銀の量はハロゲン化銀及び
後述の有機銀塩の総量に対し５０質量％以下好ましくは
２５〜０．１質量％、更に好ましくは１５〜０．１質量
％の間であることが好ましい。上記のハロゲン化銀形成
成分を用いて有機銀塩の一部をハロゲン化銀に変換させ
る工程の反応温度、反応時間、反応圧力等の諸条件は作
製の目的にあわせ適宜設定することができるが、通常、
反応温度は−２３℃乃至７４℃、その反応時間は０．１
秒乃至７２時間であり、その反応圧力は大気圧に設定さ
れることが好ましい。

【００６３】上記した各種の方法によって調製される感
光性ハロゲン化銀は、例えば含硫黄化合物、金化合物、
白金化合物、パラジウム化合物、銀化合物、錫化合物、
クロム化合物又はこれらの組み合わせによって化学増感
することができる。この化学増感の方法及び手順につい
ては、例えば米国特許第４，０３６，６５０号、英国特
許第１，５１８，８５０号等の各明細書、特開昭５１−
２２４３０号、同５１−７８３１９号、同５１−８１１
２４号等の各公報に記載されている。

【００６４】本発明に使用するハロゲン化銀は、必要に
より分光増感色素で増感することができ、例えば特開昭
６３−１５９８４１号、同６０−１４０３３５号、同６
３−２３１４３７号、同６３−２５９６５１号、同６３
−３０４２４２号、同６３−１５２４５号等の各公報、
米国特許第４，６３９，４１４号、同第４，７４０，４
５５号、同第４，７４１，９６６号、同第４，７５１，
１７５号、同第４，８３５，０９６号等の各明細書に記
載された増感色素を使用することができる。本発明に使
用される有用な増感色素は例えば、特開平９−３４０７
８号、同９−５４４０９号、同９−８０６７９号記載の
化合物が好ましく用いられる。

【００６５】（結合剤）本発明の光熱写真画像形成材料
の感光層、ＡＨ層、保護層、バッキング層およびバッキ
ング保護層等に用いられる結合剤としては、ポリビニル
ブチラール、ポリアクリルアミド、ポリスチレン、ポリ
酢酸ビニル、ポリウレタン、ポリアクリル酸エステル、
スチレン−ブタジエン共重合体、アクリロニトリル−ブ
タジエン共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、
スチレン−ブタジエン−アクリル共重合体などが挙げら
れる。更に乾燥後、膜を形成したのち、その塗膜の平衡
含水率の低いものが好ましく、特に含水率の低いものと
して、例えば、有機溶媒系のセルロースアセテート、セ
ルロースアセテートブチレートおよびポリアセタールを
挙げることができる。ポリアセタールは、ポリ酢酸ビニ
ルを鹸化することによりポリビニルアルコールを製造
し、このポリビニルアルコールをアルデヒド化合物で反
応させて得られるポリマーを意味するが、本発明に好ま
しいポリアセタールは、ブチルアルデヒドでアセタール
化をしたポリブチラール、アセトアルデヒドでアセター
ル化したポリアセタール（狭義でのポリアセタール）が
好ましい。アセタール化は、１％〜１００％まで理論的
には存在するが、実用的には２０％〜９５％が好まし
い。アセタール化度が低いと水酸基が多くなり、写真性
能において湿度に弱い特性を示し、アセタール化度が高
いと反応温度や時間が過酷になり、コストや生産性が低
下する。水系塗布用には、水分散系ポリマーのスチレン
とブタジエンの共重合体、スチレンとアクリル酸アルキ
ルエステルまたはメタクリル酸アルキルエステル類の共
重合体、アクリル酸アルキルエステル類とメタクリル酸
アルキルエステルの共重合体を挙げることができる。共
重合体の重合度は、１０程度から１万程度まで自由に選
択することができるが、１００〜６０００が塗布性や合
成するときの生産性から好ましい。（架橋剤）結合剤は、単独で造膜することにより、下層
や上層との接着を保持し、傷の付きにくい膜強度を得る
ことができるが、架橋剤を使用することにより更に膜接
着や膜強度を高めることができる。架橋剤の使用方法
は、下塗り層中に添加する方法、ＡＨ層、感光層、保護
層、バッキング層、バッキング保護層等に添加してこれ
を下塗り層へ作用させ使用する方法等がある。塗布液の
安定性の観点から、塗布直前にスタチックミキサーを使
用して添加することが好ましいが、塗布液の調製時に添
加してもよい。好ましい架橋剤剤は、イソシアナート
基、ビニルスルホニル基またはエポキシ基を有する架橋
剤が好ましい。特に好ましい架橋剤はイソシアナート基
を少なくとも２個有する多官能型架橋剤を挙げることが
できる。好ましい架橋剤としてＨ１〜Ｈ１３を下記に示
す。

【００６６】（Ｈ１）ヘキサメチレンジイソシアナー
ト（Ｈ２）ヘキサメチレンジイソシアナートの３量体（Ｈ３）トリレンジイソシアナート（Ｈ４）フェニレンジイソシアナート（Ｈ５）キシリレンジイソシアナート

【００６７】

【化１】

【００６８】（ＡＨ層又はＢＣ層等に使用される染料）
本発明の光熱写真画像形成材料は、必要により該光熱写
真画像形成材料のハレーション防止用又はハレーション
防止用のＡＨ層又はＢＣ層等が設けられ、該ＡＨ層又は
ＢＣ層に用いられる染料としては画像露光光を吸収する
染料であればよく、好ましい例として特開平２−２１６
１４０号、同７−１３２９５号、同７−１１４３２号、
米国特許第５，３８０，３８０，６３５号明細書等に記
載される染料を挙げることができる。

【００６９】（支持体）支持体としては、一般に使用さ
れる支持体なら特に制限なく使用でき、中でも、ポリエ
チレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートまた
はシンジオタクチックポリスチレン等の支持体が好まし
く、２軸延伸や熱固定した光学的に等方性が高く、寸法
安定性のよい５０μｍ〜４００μｍ厚のものがよい。

【００７０】（画像露光）露光方法としては、特開平９
−３０４８６９号明細書、同９−３１１４０３号および
特開２０００−１０２３０号明細書記載の方法によりレ
ーザー露光することができる。本発明の光熱写真画像形
成材料の露光は、当該感材に付与した感色性に対し適切
な光源を用いることが望ましい。例えば、当該感材を赤
外光に感じ得るものとした場合は、赤外光域ならば如何
なる光源にも適用可能であるが、レーザーパワーがハイ
パワーである事や、低価格で入手し易いこと等の点か
ら、赤外半導体レーザー（７８０ｎｍ、８１０ｎｍ）が
より好ましく用いられる。

【００７１】本発明において、露光はレーザー走査露光
により行うことが好ましいが、その露光方法には種々の
方法が採用できる。例えば、第１の好ましい方法とし
て、本発明の光熱写真画像形成材料の露光面と走査レー
ザー光のなす角が実質的に垂直になることがないレーザ
ー走査露光機を用いる方法が挙げられる。

【００７２】ここで、「実質的に垂直になることがな
い」とはレーザー走査中に最も垂直に近い角度として好
ましくは５５度以上８８度以下、より好ましくは６０度
以上８６度以下、更に好ましくは６５度以上８４度以
下、最も好ましくは７０度以上８２度以下であることを
いう。

【００７３】レーザー光が光熱写真画像形成材料に走査
されるときの該材料の露光面でのビームスポット直径
は、好ましくは２００μｍ以下、より好ましくは１００
μｍ以下である。これは、スポット径が小さい方がレー
ザー入射角度の垂直からのずらし角度を減らせる点で好
ましい。なお、ビームスポット直径の下限は１０μｍで
ある。このようなレーザー走査露光を行うことにより干
渉縞様のムラの発生等のような反射光に係る画質劣化を
減じることが出来る。

【００７４】また、別の方法として、本発明における露
光は縦マルチである走査レーザー光を発するレーザー走
査露光機を用いて行うことも好ましい。縦単一モードの
走査レーザー光に比べて干渉縞様のムラの発生等の画質
劣化が減少する。

【００７５】縦マルチ化するには、合波による、戻り光
を利用する、高周波重畳をかける、などの方法がよい。
なお、縦マルチとは、露光波長が単一でないことを意味
し、通常露光波長の分布が５ｎｍ以上、好ましくは１０
ｎｍ以上になるとよい。露光波長の分布の上限には特に
制限はないが、通常６０ｎｍ程度である。

【００７６】このような複数のレーザーを利用した画像
記録方法としては、高解像度化、高速化の要求から１回
の走査で複数ラインずつ画像を書き込むレーザープリン
タやデジタル複写機の画像書込み手段で使用されている
技術であり、例えば特開昭６０−１６６９１６号公報等
により知られている。これは、光源ユニットから放射さ
れたレーザー光をポリゴンミラーで偏向走査し、ｆθレ
ンズ等を介して感光体上に結像する方法であり、これは
レーザーイメ−ジャなどと原理的に同じレーザー走査光
学装置である。

【００７７】（熱現像装置）光熱写真画像形成材料を現
像する装置は、特に限定されないが、特開平１１−６５
０６７号明細書、同１１−７２８９７号および同８４６
１９号明細書記載の装置を使用することができ、好まし
い。

【００７８】（光熱写真画像形成材料）本発明に係る光
熱写真画像形成材料は、その用途として特に制限はない
が、医療用途、グラフィックス用途、マイクロ写真用途
など種々の用途に使用でき、中でも、医療用途として好
ましく使用することができる。

【００７９】

【実施例】以下、実施例を挙げて本発明を詳細に説明す
るが、本発明はこれらに限定されない。

【００８０】実施例１＜下塗り済み支持体の作製＞厚さ１７５μｍのポリエチ
レンテレフタレート支持体の両面に１２Ｗ／ｍ²・分の
コロナ放電処理を施し、一方の面に下記下塗り塗布液ａ
−１を乾燥膜厚０．６μｍになるように塗設し乾燥させ
て下塗り層Ａ−１を設け、また反対側の面に下記下塗り
塗布液ｂ−１を乾燥膜厚０．６μｍになるように塗設し
乾燥させて下塗り層Ｂ−１を設けた。

【００８１】《下塗り塗布液ａ−１》ブチルアクリレート（３０質量％）ｔ−ブチルアクリレート（２０質量％）スチレン（２５質量％）２−ヒドロキシエチルアクリレート（５質量％）グリシジルメタクリレート（１７質量％）２−ビニルー４，６−ジアミノ−ｓ−トリアジン（３質
量％）の共重合体ラテックス液（固形分３０％）を表１に示す
架橋剤および揮発性物質を添加し固形分濃度を１５質量
％にした。

【００８２】《下塗り塗布液ｂ−１》ブチルアクリレート（４０質量％）スチレン（２０質量％）グリシジルアクリレート（３７質量％）２−ビニルー４，６−ジアミノ−ｓ−トリアジン（３質
量％）の共重合体ラテックス液（固形分３０％）を表１記載の
架橋剤および揮発性物質を添加して固形分濃度を１５質
量％にした。

【００８３】引き続き、下塗り層Ａ−１及び下塗り層Ｂ
−１の上表面に、１２Ｗ／ｍ²・分のコロナ放電を施
し、下塗り層Ａ−１の上には、下記下塗り上層塗布液ａ
−２を塗布乾燥して下塗り層Ａ−２（感光層側用）を設
け、下塗り層Ｂ−１の上には下記下塗り上層塗布液ｂ−
２を塗布乾燥して帯電防止機能をもつ下塗り上層Ｂ−２
（ＢＣ層用）を設けた。それぞれの塗布液は、１５％固
形分濃度の水溶液で下記表１に示すｐＨ調節剤を添加し
た。

【００８４】《下塗り上層塗布液ａ−２》スチレンとブタジエンの１：２共重合体０．４ｇ／ｍ² ブチルアクリレート（３０質量％）ｔ−ブチルアクリレート（２０質量％）スチレン（２５質量％）２−ヒドロキシエチルアクリレート（２０質量％）２−ビニルー４，６−ジアミノ−ｓ−トリアジン（３質量％）メタクリル酸（３質量％））の共重合体ラテックス液（固形分３０％）０．３ｇ／ｍ² 架橋剤：表１記載１×１０^-5モル／ｍ² 揮発性物質：表１記載１×１０^-5モル／ｍ² 《下塗り上層塗布液ｂ−２》スチレンとブタジエンの１：２共重合体０．４ｇ／ｍ² 導電性酸化錫微粒子（平均粒子径６８ｎｍ）０．０２３ｇ／ｍ² ブチルアクリレート（３０質量％）ｔ−ブチルアクリレート（２０質量％）スチレン（２５質量％）２−ヒドロキシエチルアクリレート（２０質量％）２−ビニルー４，６−ジアミノ−ｓ−トリアジン（３質量％）メタクリル酸（３質量％））架橋剤：表１記載１×１０^-5モル／ｍ² 揮発性物質：表１記載１×１０^-5モル／ｍ² 下塗り層を塗布した後、感光層用にハロゲン化銀を調製
し、次いで作成したハロゲン銀を使用して有機銀塩を調
製した。〈ハロゲン化銀粒子乳剤Ａの調製〉水９００ｍｌ中にイ
ナートゼラチン７．５ｇ及び臭化カリウム１０ｍｇを溶
解して温度２８℃、ｐＨを３．０に合わせた後、硝酸銀
７４ｇを含む水溶液３７０ｍｌと（９８／２）のモル比
の臭化カリウムと沃化カリウムを含む水溶液をｐＡｇ
７．７に保ちながらコントロールドダブルジェット法で
１０分間かけて添加した。硝酸銀の添加と同期してヘキ
サクロロイリジウムのナトリウム塩を１×１０ ^-6モル／
銀１モル添加した。その後４−ヒドロキシ−６−メチル
−１，３，３ａ，７−テトラザインデン０．３ｇを添加
しＮａＯＨでｐＨを５に調整して平均粒子サイズ０．０
３６μｍ、投影直径面積の変動係数８％、〔１００〕面
比率８７％の立方体沃臭化銀粒子を得た。この乳剤にゼ
ラチン凝集剤を用いて凝集沈降させ脱塩処理後、乾燥し
て５６ｇのフレークを得た。

【００８５】〈有機銀塩の調製〉３９８０ｍｌの純水に
ベヘン酸１１１．４ｇ、アラキジン酸８３．８ｇ、ステ
アリン酸５４．９ｇを８０℃で溶解した。次に高速で攪
拌しながら１．５モルの水酸化ナトリウム水溶液５４
０．２ｍｌを添加し濃硝酸６．９ｍｌを加えた後、５５
℃に冷却して有機酸ナトリウム溶液を得た。上記の有機
酸ナトリウム溶液の温度を５５℃に保ったまま、前記ハ
ロゲン化銀粒子乳剤Ａ（銀０．０３８モルを含む）と純
水４２０ｍｌを添加し５分間攪拌した。次に１モルの硝
酸銀溶液７６０．６ｍｌを２分間かけて添加し、さらに
２０分攪拌し、濾過により水溶性塩類を除去した。その
後、濾液の電導度が２μＳ／ｃｍになるまで脱イオン水
による水洗、濾過を繰り返し、最後に円心脱水後乾燥し
て３５８ｇのフレークを得た。

【００８６】〈感光層及びＢＣ層の塗布〉前記下塗り層
を施した支持体上に表１記載の条件のマイクロ波処理を
行い以下の感光層側およびＢＣ側の各層を塗布した。
尚、乾燥は感光層側およびＢＣ側とも各々４５℃，１分
間で行った。

【００８７】《ＢＣ層側塗布》バック面側には以下の組
成物を調製した塗布液を以下の付き量なるように同時重
層塗布乾燥してＢＣ層を形成した。

【００８８】《ＢＣ層塗布》結合剤：ＰＶＢ−１１．８ｇ／ｍ²

【００８９】

【化２】

【００９０】ヘキサメチレンジイソシアナート１×１０^-4モル／ｍ² 染料：Ｃ１２．２×１０^-5モル／ｍ²

【００９１】

【化３】

【００９２】《ＢＣ保護層の塗布》結合剤：セルロースアセテートブチレート１．１ｇ／ｍ² マット剤：ポリメタクリル酸メチル（平均粒子径４μｍ）０．０２１ｇ／ｍ² ＜感光層側の塗布＞《ＡＨ層の塗布》結合剤：ＰＶＢ−１０．４ｇ／ｍ² 染料：Ｃ１（ＢＣ層と同種）１．３×１０^-5モル／ｍ² 《感光層の塗布》感光層形成のため以下の組成物のメチ
ルエチルケトン塗布液（固形分２３％）を調製し、以下
の付き量になるように塗布乾燥した。銀量として１．３
６ｇ／ｍ ²になる量の前記有機銀塩の調製液をポリマー
結合剤と混合した。

【００９３】結合剤：ＰＶＢ−１２．６ｇ／ｍ² 分光増感色素Ａ１２×１０^-5モル／ｍ²

【００９４】

【化４】

【００９５】カブリ防止剤−１：ピリジニウムヒドロブロミドペルブロミド０．３ｍｇ／ｍ² カブリ防止剤−２：イソチアゾロン１．２ｍｇ／ｍ² 還元剤：Ｋ１３×１０^-4モル／ｍ² 《表面保護層》以下の組成物を加えて調製したメチルエ
チルケトン塗布液（固形分２３％）を、以下の付き量に
なるように感光層上に塗布乾燥して表面保護層を形成し
た。

【００９６】結合剤：セルロースアセテートブチレート１．２ｇ／ｍ² フタラジン０．２ｇ／ｍ² ４−メチルフタル酸０．７ｇ／ｍ² テトラクロロフタル酸０．２ｇ／ｍ² テトラクロロフタル酸無水物０．５ｇ／ｍ² マット剤：ポリメタクリル酸メチル（平均粒子径６μｍ）０．０２１ｇ／ｍ² ＰＶＢー１は、重合度５００のポリ酢酸ビニルを９８％
鹸化後、残存水酸基の８６％をブチラール化して使用し
た。ＰＶＢ−１はＢＣ層の結合剤としても使用した。

【００９７】（写真性能の評価）上記剥落耐性試験を暗
室で行った試料を２５℃で４８％相対湿度の雰囲気下に
３日間保存した後、８１０ｎｍの半導体レーザー露光用
の感光計で露光し、露光後１２０℃で８秒間加熱後、得
られた試料のカブリと感度を求めた。レーザー露光は入
射角を９０度のシングルモードに設定した。

【００９８】（保存性の評価）上記未露光試料を５２
℃、相対湿度４８％の雰囲気下に４日間保存した後、８
１０ｎｍの半導体レーザー露光用の感光計で露光し、露
光後１２０℃で８秒間加熱後、得られた試料のカブリを
求めた。

【００９９】（下塗り塗布液の安定の評価）下塗り塗布
液の濃度を２倍に濃縮して、２５時間放置したときの塗
布液の粘度の変化を調べた。粘度の測定は、（株）エー
・アンド・デイ社製振動式粘度計ＣＪＶ２００１を使用
し、調製した塗布液の温度を３６℃±１℃にし、２５時
間放置したときの粘度差をみた。０．０１ｍＰａ・Ｓ以
内のときをランク５、０．０３ｍＰａ・Ｓ以内をランク
４、０．２ｍＰａ・以内をランク３、０．５ｍＰａ・Ｓ
以内をランク４、それ以上の変化の場合はランク１とし
て評価した。

【０１００】（下塗り層の膜強度の評価）微小振動型引
っ掻き試験器（島津製作所スクラッチテスタＳＳＴ−１
０１）で測定した。ダイヤモンド短針の振動巾１０μ
ｍ、振動周波数３０Ｈｚ、負荷速度１０μｍ／秒で行
い、同時に５００倍の倍率で観察し、表面に剥落現象を
認識し（表１）及び（表２）に示す。

【表１】

【０１０１】

【表２】

【０１０２】表１より本発明のマイクロ波処理により、
カブリが低く、保存性のよい光熱写真画像形成材料が得
られることがわかる。また、下塗り塗布液の安定性、下
塗り層の膜強度に優れることがわかる。

【０１０３】実施例２実施例１と同様に試料を作成し画像を評価しが、ここで
はレーザー露光の入射角を変化させて露光する実験、レ
ーザー光を２分して行路長を２０ｎｍから１００ｎｍ±
３ｎｍの差をつけて、再び合成して露光する２重ビーム
露光、表１記載の高周波を重畳した波長の露光を実施し
た。結果を表２に示す。尚、鮮鋭性の評価は、ＭＴＦ
（ＭｏｄｕｌａｔｉｏｎＴｒａｎｓｆｅｒＦｕｎｃ
ｔｉｏｎ）チャートを使用し、１０サイクル／ｍｍの周
波数における光学濃度０．５〜２．５の伝達度（係数）
を求めた。

【０１０４】

【表３】

【０１０５】本発明の光熱写真画像形成材料を露光する
際に、入射角を変化させ、その角度が５５度から８８度
の間であることが好ましいことがわかる。また、２重ビ
ーム露光や高周波重畳の露光により微粒子の光散乱が少
なくなり、鮮鋭性が向上していることがわかる。

【０１０６】

【発明の効果】本発明の光熱写真画像形成材料の製造方
法及びその画像記録方法により、下塗り塗布液の安定
性、塗布後の膜強度が高く、且つ、低カブリ、高感度、
高濃度が得られ、画像保存性のよい光熱写真画像形成材
料の製造方法を提供することおよびその画像形成におい
て干渉ムラが生じにくく、均一な現像仕上がりを有し、
鮮鋭性の高い光熱写真画像形成材料の画像記録方法を提
供することができる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｇ０３Ｃ 1/76 ３５１Ｇ０３Ｃ 1/76 ３５１ 5/08 ３５１ 5/08 ３５１Ｆターム(参考） 2H123 AB00 AB03 AB23 AB28 BA00 BA45 BB00 BB02 BB03 BB04 BB08 BB20 BC00 BC08 BC16 CA00 CA22 CB00 CB03 4D075 AE03 AE08 BB47Y BB91Y BB94Y CA48 CA50 DB48 DC27 DC30 DC38 EA05 EA21 EA45 EB12 EB14 EB15 EB22 EB53

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】支持体上に、下塗り層並びに感光性ハロ
ゲン化銀粒子、有機銀塩化合物、還元剤及び結合剤から
なる感光層を有する光熱写真画像形成材料の製造方法に
おいて、該下塗り層を塗設するに際して、該下塗り層の
塗布液は揮発性物質を含有しており、該塗布液を塗設し
た後、該層にマイクロ波を照射することを特徴とする光
熱写真画像形成材料の製造方法。
【請求項２】前記マイクロ波の波長が１ＧＨｚ〜１Ｔ
Ｈｚであることを特徴とする請求項１に記載の光熱写真
画像形成材料の製造方法。
【請求項３】前記マイクロ波照射のエネルギーが１ミ
リワット〜１キロワット／分・ｍ²であることを特徴と
する請求項１または請求項２に記載の光熱写真画像形成
材料の製造方法。
【請求項４】前記マイクロ波照射される直前の下塗り
層中の揮発性物質の付き量が平米当たり１００ミリモル
〜１ピコモルであることを特徴とする請求項１ないし請
求項３に記載の光熱写真画像形成材料の製造方法。
【請求項５】前記下塗り層の結合剤がゼラチン及びそ
の誘導体、セルロース誘導体並びにアセタール誘導体か
ら選ばれることを特徴とする請求項１ないし請求項４に
記載の光熱写真画像形成材料の製造方法。
【請求項６】前記下塗り層の塗布液に含有する揮発性
物質が、塗布液の状態でアンモニウムイオンを解離する
アンモニウム塩であることを特徴とする請求項１ないし
請求項５に記載の光熱写真画像形成材料の製造方法。
【請求項７】前記下塗り層の塗布液に、更に導電性酸
化錫微粒子を含有することを特徴とする請求項６に記載
の光熱写真画像形成材料の製造方法。
【請求項８】前記マイクロ波照射により発生する揮発
性物質をとり除く手段を設けたことを特徴とする請求項
１ないし請求項７に記載の光熱写真形成材料の製造方
法。
【請求項９】前記下塗り層塗布液にアンモニウムイオ
ンをイオン対とするモノマーユニットを有する結合剤を
含むことを特徴とする請求項１ないし請求項８に記載の
光熱写真形成材料の製造方法。
【請求項１０】前記マイクロ波照射が１０００ｈＰａ
〜０．０１ｈＰａの条件下で行われることを特徴とする
請求項９に記載の光熱写真画像形成材料の製造方法。
【請求項１１】請求項１ないし請求項１０記載の光熱
写真画像形成材料に画像を記録する際の走査レーザー光
が、同一波長であり、且つ入射角の異なる２重ビームで
あることを特徴とする画像記録方法。
【請求項１２】請求項１ないし請求項１０に記載の光
熱写真画像形成材料に画像を記録する際の走査レーザー
光が、縦マルチであるレーザー光走査露光機による露光
を行うことを特徴とする画像記録方法。
【請求項１３】前記揮発性物質が、塗布液の状態でア
ンモニウムイオンを解離するアンモニウム塩並びにそれ
ぞれ分子量１００以下の有機酸およびアルキルアミン類
から選ばれる少なくとも１つであることを特徴とする請
求項１に記載の光熱写真画像形成材料の製造方法。