JP2002267910A - 光学装置、露光装置、デバイス製造方法、デバイス及びレンズ保持方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 所望の光学的性能をもたらすレンズ保持方法
を使用して被処理体を所望の解像度で露光する露光装置
を提供する。 【解決手段】 所定のパターンを被処理体上に投影する
投影光学系を有する露光装置であって、前記投影光学系
は、３つの凸部を有して前記パターンを投影するするレ
ンズと、当該レンズを前記凸部を介して３点支持するレ
ンズ保持部材とを有する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、一般にはレンズを
搭載する精密機械、特に露光装置等の投影光学系に関
し、更に詳細には、半導体焼き付け装置（マスクアライ
ナ）などで使用される投影光学系において、原版（例え
ば、マスク及びレチクル（なお、本出願ではこれらを交
換可能に使用する。））の像を被処理体（例えば、半導
体ウェハ用の単結晶基板、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）
用のガラス基板）に投影露光する際、より正確な結像関
係を得るためのレンズの保持方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年の電子機器の小型及び薄型化の要請
から、電子機器に搭載される半導体素子の微細化への要
求はますます高くなっている。例えば、マスクパターン
に対するデザインルールはライン・アンド・スペース
（Ｌ＆Ｓ）１３０ｎｍを量産工程で達成しようとし、今
後益々小さくなることが予想される。Ｌ＆Ｓは露光にお
いてラインとスペースの幅が等しい状態でウェハ上に投
影された像であり、露光の解像度を示す尺度である。露
光では、解像度、重ね合わせ精度、スループットの３つ
のパラメータが重要である。解像度は正確に転写できる
最小寸法、重ね合わせ精度は被処理体にパターンを幾つ
か重ね合わせる際の精度、スループットは単位時間当た
り処理される枚数である。

【０００３】露光法は基本的に密着露光法、近接露光法
と投影法を有する。密着法は高解像度が得られるものの
ごみやシリコンのかけらがマスクに圧入されてされてマ
スクの破損や被処理体の傷、欠陥をもたらす。近接法は
かかる問題を改善しているがごみ粒子の最大寸法よりも
マスクと被処理体の間隔が小さくなると同様にマスクの
破損が生じ得る。

【０００４】そこで、マスクと被処理体との距離を更に
離間させる投影法が提案されている。投影法の中でも解
像度の改善と露光領域の拡大のためにマスクを一部ずつ
露光し、マスクとウェハを同期して走査（スキャン）す
ることによってマスクパターン全体をウェハの各被露光
領域に露光する走査型投影露光装置が最近の脚光を浴び
ている。

【０００５】投影露光装置は、一般に、マスクを照明す
る照明光学系と、マスクと被処理体との間に配置されて
照明されたマスク上の回路パターンを被処理体に投影す
る投影光学系とを有する。照明光学系は、一般に、コン
デンサーレンズでマスク面をケーラー照明する。投影光
学系は、投影用のレンズとかかるレンズを保持するレン
ズ保持部材からなる組を複数組、鏡筒内に収納する。近
年の投影露光装置は、照明光の短波長化と投影光学系の
開口数（ＮＡ）の増加により微細化の要求を満足するよ
うになってきている。

【０００６】従来の投影光学系のレンズ及びレンズ保持
部材の取り付けを図８に示す。同図において、１０は段
付きレンズ（光が透過するレンズ１０の第１面１２及び
第２面１４以外に、第３の面１６としての平面部を持つ
レンズを以下、「段付きレンズ」と呼ぶ。）、２０はレ
ンズ保持部材、３０が押さえ環である。通常、段付きレ
ンズ１０は段付き部の面１６がレンズ保持部材２０の受
け面２２に全周で接触して搭載される。その後、レンズ
保持部材２０の雌ネジ部に押さえ環３０の雄ネジ部をね
じ込んでいき、押さえ環３０が段付きレンズ１０の上面
に接触したところで、所定のトルクで絞め込むことでレ
ンズ１０をレンズ保持部材２０に固定する。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】しかし、従来の露光装
置は、投影光学系に収差が発生して高品位な露光を行う
ことができないという問題があった。かかる問題を図９
及び図１０を参照して説明する。図９は、レンズ１０の
変形を説明するための概略平面図及び概略断面図であ
る。図１０は、レンズ１０の代わりに搭載される凹メニ
スカスレンズ４０の断面図である。即ち、レンズ１０の
段付き面１６はグラインダーでレンズ１０を削ることに
よって形成されるが、加工機の性能上、面精度良く仕上
げることができない。そのため、段付き部１６は微小な
凹凸を有して高精度で仕上げられたレンズ保持部材２０
の平坦な受け面２２に載置されると、段付き面１６の微
小な凸部と受け面２２とが接触して任意の方向にレンズ
１０が撓むことになる。具体的には、図９の上側に示す
ように、段付き面１６のより大きな２箇所の凸部１９で
段付きレンズ１０が受け面２２に支持される。２ヶ所の
凸部１９でレンズ１０が支持されると、図９の下側に１
０’示すように、支持されていない部位においてレンズ
１０は自重により撓んで変形する。特に、近年の投影光
学系の高ＮＡ化によりレンズ１０の口径と自重が増加
し、ますます変形しやすくなっている。また、最初の２
箇所の凸部１９の位置は実際にレンズ１０をレンズ保持
部材２０に搭載するまで分からず、撓みにより面１６と
２２とが接触する凸部の位置も変わる場合がある。

【０００８】かかる問題は図１０に示す凹メニスカスレ
ンズ４０にも当てはまる。凹メニスカスレンズ４０にお
いては、外周面４２を面精度良く仕上げることができず
に凹凸が残る。そのため、エッジ４４にも凹凸が残り、
図１１に示すように、エッジ４４を介して図８に示すレ
ンズ保持部材２０に搭載することはできない。このた
め、凹メニスカスレンズ４０にも図８に示す段付き部１
６と類似のものを形成しなければならず、図９に示すレ
ンズ１０と同様に、レンズ４０も実際には２点で支持さ
れるという状況が起こり得る。

【０００９】このように、レンズ１０や４０をレンズ保
持部材２０に取り付ける際の加工精度やその経時的劣化
が原因でレンズ１０や４０が変形すると、変形の前後で
光路が屈折し、一点に結像すべき光線が一点に収束せず
に収差が生じる。収差は位置ずれを招いてウェハ上の回
路パターンの短絡を招く。一方、短絡を防止するために
パターン寸法を広くすれば微細化の要請に反する。

【００１０】そこで、このような従来の課題を解決する
新規かつ有用な光学装置、露光装置、デバイス製造方
法、デバイス及びレンズ保持方法を提供することを本発
明の概括的目的とする。

【００１１】より特定的には、本発明は、所望の光学的
性能をもたらすレンズ保持方法を使用して高品質の半導
体、ＬＣＤ、ＣＣＤ、薄膜磁気ヘッドなどのデバイスを
所望の解像度で露光する露光装置を提供することを別の
例示的目的とする。

【００１２】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の一側面としての光学装置は、３つの凸部を
有するレンズと、当該レンズを前記凸部を介して３点支
持するレンズ保持部材とを有する。かかる光学装置（例
えば、露光装置の投影光学系又はその鏡筒）は、レンズ
保持部材は面を特定する３点においてレンズ（例えば、
上述の段付きレンズや凹メニスカスレンズ）を支持す
る。レンズが凸部を介して３点支持されるのでレンズに
おいて撓み又は変形する部位は凸部の間の部位に決定さ
れ、レンズの変形位置も決定される。また、凸部はレン
ズに形成されてレンズ保持部材には形成されていない。
レンズ保持部材に３つの凸部を形成してレンズ保持部材
と当接するレンズ面を平坦にすると、レンズの平坦加工
精度が低い場合にレンズを光軸回りに回転することによ
って変形位置が変化して光学装置の光学的性能（即ち、
収差）が変化する。一方、本発明のようにレンズ側に凸
部を形成すると凸部の間に形成される変形位置は常に決
定される、レンズを回転しても光学装置の収差は変化し
ない。前記凸部は、好ましくはピッチ１２０°で同一円
周上に配置される。これにより、凸部はレンズに均一に
配置で形成されてレンズはレンズ保持部材上に安定して
保持される。

【００１３】本発明の別の側面としての露光装置は、所
定のパターンを被処理体上に投影する投影光学系を有
し、前記投影光学系は、３つの凸部を有して前記パター
ンを投影するするレンズと、当該レンズを前記凸部を介
して３点支持するレンズ保持部材とを有する。前記露光
装置も前記光学装置と同様の作用を奏する。

【００１４】本発明の更に別の側面としてのデバイス製
造方法は、上述の露光装置を用いて被処理体を露光する
工程と、前記露光された被処理体に所定のプロセスを行
う工程とを有する。上述の露光装置の作用と同様の作用
を奏するデバイス製造方法の請求項は、中間及び最終結
果物であるデバイス自体にもその効力が及ぶ。また、か
かるデバイスは、ＬＳＩやＶＬＳＩなどの半導体チッ
プ、ＣＣＤ、ＬＣＤ、磁気センサー、薄膜磁気ヘッドな
どを含む。

【００１５】本発明の更に別の側面としてのレンズ保持
方法は、所定のパターンを被処理体上に投影するレンズ
を有する投影光学系の前記レンズに３つの凸部を形成す
るステップと、当該レンズが前記凸部を介して保持され
るように前記レンズの前記凸部を平坦な面を有するレン
ズ保持部材上に固定するステップとを有する。かかるレ
ンズ保持方法も上述の光学装置と同様の作用を奏する。
前記投影光学系は、当該投影光学系の光軸上に前記レン
ズ及び前記レンズ保持部材を複数組有し、前記複数のレ
ンズの各々について前記凸部の間の部位の変形を測定す
るステップと、前記レンズ及び前記レンズ保持部材の組
を前記光軸回りに回転することによって、前記投影光学
系が前記部位の前記変形によってもたらされる前記投影
光学系の収差が最小になるように調節するステップとを
更に有することが好ましい。かかる方法によれば、凸部
が決定するので変形位置も決定する。このため変形位置
の変形量を測定して各組のレンズ及び保持部材を回転す
ることによって、投影光学系の収差を最小にすることが
できる。なお、前記固定ステップは、前記レンズを前記
レンズ保持部材に対して固定方向は問わない。例えば、
レンズは投影光学系の光軸に平行又は垂直に固定され
る。

【００１６】本発明の他の目的及び更なる特徴は、以下
添付図面を参照して説明される好ましい実施例によって
明らかにされるであろう。

【００１７】

【発明の実施の形態】図１は、露光装置１００の投影光
学系１３０に適用される本発明のレンズ保持方法を示す
概略平面図及び概略断面図である。図１において、２０
０は段付きレンズ、２０２が上面、２０４が下面、２０
６が段付き面平面部、２０８が段付き面平面部２０６か
ら隆起している凸部３点、２１０がレンズ保持部材、２
１２が凸部３点面２０８の受け面、２２０が押さえ環で
ある。なお、レンズの形状によっては押さえ環２２０の
代わりにカシメが使用される場合もある。

【００１８】段付きレンズ２００は、図８に示す段付き
レンズ１０と同様に、レンズ保持部材２１０に搭載され
るが、段付きレンズ２００の凸部２０８だけでレンズ保
持部材２１０と接触する点が、その円周に亘ってレンズ
保持部材２０と接触する段付きレンズ１０とは異なる。
レンズ保持部材２１０は３点においてレンズ２００を支
持する。「３点」としたのはレンズ２００とレンズ保持
部材２１０との間の保持面を決定するためである。即
ち、凸部２０８が２箇所であれば図９を参照して上述し
たようにレンズ２００は任意の方向に変形してしまう。
一方、凸部２０８が４箇所以上に形成されるとその中の
３点が保持面を決定するのに使用され、他の部位は自重
により撓む。しかも、レンズ２００をレンズ保持部材２
１０に載置するまで、いずれの３点が選択されるか分か
らないため、換言すれば、いずれの部位が変形するのか
分からないことになる。これに対して、本実施例のレン
ズ２００は、保持面を決定するのに十分な高さを有する
３箇所の凸部２０８を有してかかる問題を解決してい
る。

【００１９】凸部３点２０８は１２０°ピッチで配置さ
れている。このように、凸部２０８は、レンズ２００の
円周方向に沿ってほぼ等間隔で分布しているためにレン
ズ２００はレンズ保持部材２１０上で安定する。例え
ば、３つの凸部２０８が一箇所に固まってレンズ２００
に形成されればレンズ２００はレンズ保持部材２１０上
で安定できず、上述のように３点以外の凸部を設けたの
と同様の問題を発生することが理解されるであろう。

【００２０】凸部２０８は約１〜２ｍｍ角の広さを有し
て受け面２１２に載置される。なお、押さえ環２２０が
レンズ２００をレンズ保持部材２１０に対して固定する
が、必要があれば、レンズ２００はレンズ保持部材２１
０の側面２０３に接着される。段付きレンズ２００は、
レンズ保持部材２１０の図示しない雌ネジ部に押さえ環
２２０の図示しない雄ネジ部をねじ込んでいき、押さえ
環２２０が段付きレンズ２００の上面２０２に接触した
ところで、所定のトルクで絞め込むことでレンズ２００
を固定する。

【００２１】３箇所の凸部２０８で段付きレンズ２００
はレンズ保持部材２１０に接着されるので、変形位置
は、レンズ保持部材２１０に接触していないレンズ２０
０の平面部２０６に限定される。従って、従来のよう
に、どの方向に段付きレンズ２００の変形が起こり、光
学性能の劣化が発生するかわからない、という問題が無
くなる。なぜならば、レンズ保持部材２１０と接してい
ない部分（即ち、平面部２０６の部位）の段付きレンズ
２００の縁は自重で下に垂れるが、収差の量と方向はレ
ンズ２００の各面（即ち、面２０２及び２０４）の形状
を面形状測定器などで測定又はコンピュータシミュレー
ションを行うことによって予測することができるからで
ある。レンズの収差を予測することができれば、投影光
学系１３０全体で収差が最小になるように、各レンズを
光軸回りに回転して光学的性能の劣化を防止することが
できる。しかも、垂れによる光学性能の劣化は、従来例
で示した円周で段付きレンズ１０を保持していた場合よ
りも比較にならないほど小さいので投影光学系１３０全
体について収差を補正すれば十分となる。

【００２２】一方、凸部２０８はレンズ２００に形成さ
れてレンズ保持部材２１０には形成されていない。レン
ズ保持部材２１０に３つの凸部を形成してレンズ保持部
材２１０と当接するレンズ２１０の面を図８に示す面１
６のように平坦にすると、レンズ２００の平坦加工精度
が低いためにレンズ２００を光軸Ｏ回りに回転すること
によって変形位置が変化して光学装置の光学的性能（即
ち、収差）が変化する。本実施例はレンズ２００に３箇
所の凸部２０８を設けてレンズ２００の変形位置を決定
することによって、かかる事態を防止している。

【００２３】次に、段付きレンズ２００の凸部２０８の
加工方法を、図２を参照して説明する。ここで、図２
は、段付きレンズ２００の製造方法を説明するための概
略底面図及び概略断面図である。段付きレンズ２００
は、レンズ２００表面を覆う覆い２４０及び２４２を使
用して加工される。覆い２４０はレンズの光透過部の覆
いであり、覆い２４２は平面部２０６に３箇所の凸部２
０８を作るための覆いである。このように覆い２４０及
び２４２を段付きレンズ２００に貼り付けた後、サンド
ブラスト処理を段付きレンズ下面２０４に行う。２５０
はサンドブラスト処理に使用される砂粒を表す。この加
工を行うことにより、覆い２４０及び２４２以外の部分
は削り取られることになり、平面部２０６に３箇所の凸
部２０８が形成される。

【００２４】図３は、本発明が適用される投影光学系１
３０内の別のレンズ保持方法を示す概略平面図及び断面
図である。図３において、２６０は凹メニスカスレン
ズ、２１０ａがレンズ保持部材、２７２がガラスででき
ている足、２７０が凹メニスカスレンズ２６０に足２７
２を付けている融着層、２７４が足２７２とレンズ保持
部材２１０ａとの接着層である。足２７２は、凹メニス
カスレンズ２６０に対して１２０°ピッチ３箇所で取り
付けられている。図３においては、押さえ環は省略され
ている。

【００２５】このように足２７２が凹メニスカスレンズ
２６０から３箇所横方向（即ち、径方向）に隆起し、足
の面でレンズ保持部材２１０ａと接することで、凹メニ
スカスレンズ２６０のレンズ保持部材２１０ａに対する
位置が決まり、従来の問題点を解決することが可能とな
る。その理由も上述の実施形態と同様である。即ち、レ
ンズ保持部材２１０ａと接していない部分の凹メニスカ
スレンズ２６０の縁は自重で垂れるが、その量と方向は
予測することができるからである。また、垂れによる光
学性能の劣化は、レンズ４０を円周で保持する場合より
も比較にならないほど小さい。

【００２６】本実施例では、凹メニスカスレンズ２６０
に対して、横方向に足２７２を融着することによって３
箇所の凸部分を作ったが、凹メニスカスレンズ２６０を
直径方向に予め大き目に作っておき、外周部分をグライ
ンダー等で削り取ることで、横方向への３箇所の凸部分
を作ってもよい。

【００２７】図４に、図３に示す保持方法の変形例を示
す。図４において、２６０ａは凹メニスカスレンズ、２
６６ａが段付き面平面部、２６８ａが段付き面平面部２
６６ａから隆起している凸部３点、２１０ｂがレンズ保
持部材、２１２ｂが凸部３点面２６８ａの受け面であ
る。図４においては、押さえ環は省略されている。凹メ
ニスカスレンズ２６０ａは、図１の下側に示すように、
３点支持され、凸部３点２６８ａは１２０°ピッチで配
置されている。凸部２６８ａは約１〜２ｍｍ角の広さを
有して受け面２１２ｂに接地される。

【００２８】凸部３点２６８ａでレンズ２６０ａはレン
ズ保持部材２１０ｂに接地されるので、変形位置はレン
ズ２６０ａの凸部２６８ａの間に限定される。従って、
従来のように、どの方向に段付きレンズ２６０ａの変形
が起こり、光学性能の劣化が発生するかわからない、と
いう問題が無くなる。なぜならば、レンズ保持部材２１
０ｂと接していない部分（即ち、平面部２６６ａの部
位）のレンズ２６０ａの縁は自重で下に垂れるが、収差
の量と方向は予測することができるからである。そこ
で、レンズの各面（即ち、面２６２ａ及び２６４ａ）の
形状を面形状測定器などで測定して収差を計算し、投影
光学系１３０全体で収差が最小になるように、各レンズ
を光軸回りに回転して光学的性能の劣化を防止すること
ができる。しかも、垂れによる光学性能の劣化は、レン
ズ４０を円周で保持する場合よりも比較にならないほど
小さいので投影光学系１３０全体について収差を補正す
れば十分となる。

【００２９】以下、図５を参照して、本発明のレンズ保
持方法を適用した例示的な投影光学系１３０及び当該投
影光学系１３０を有する露光装置１００について説明す
る。ここで、図５は、本発明の例示的な露光装置１００
の概略断面図である。図５は、レンズ２００のみを示し
ているが、レンズ２００はレンズ２６０や２６０ａに置
換されてもよい。露光装置１００は、コンデンサーレン
ズ１１０と、レチクル１２０と、レチクルステージ１２
２と、投影光学系１３０と、ウェハ１４０と、ウェハス
テージ１４５とを有する。

【００３０】露光装置１００は、ステップアンドリピー
ト方式でレチクル１２０に形成された回路パターンをウ
ェハ１４０に露光する投影露光装置である。ここで、
「ステップアンドリピート方式」はウェハのショットの
一括露光ごとにウェハをステップ移動させて次のショッ
トを露光領域に移動させる露光方法をいう。もちろん本
発明は、ステップアンドスキャン方式にも使用すること
ができる。ここで、「ステップアンドスキャン方式」
は、マスクに対してウェハを連続的にスキャンさせてマ
スクのパターンをウェハに露光すると共に、１ショット
の露光終了後ウェハをステップ移動させて、次のショッ
トの露光領域に移動させる露光法をいう。

【００３１】投影露光装置１３０は、鏡筒１３２と、ス
ペーサ１３４及び１３６と、板ばね１３８とを有する。
レンズ保持部材２１０は鏡筒１３２に挿入され、その上
にスペーサ１３４を乗せた後、別のレンズ保持部材２１
０が鏡筒１３２に挿入される。

【００３２】レンズ保持部材群は、鏡筒１３２にネジ止
めされた板ばね１３８にて所定の力で押さえられ、鏡筒
１３８内部でレンズ保持部材群が固定される。また、鏡
筒１３２同士も、スペーサ１３６を介して積み上げら
れ、投影光学系１３０が構成される。

【００３３】図５において、不図示の露光光源から射出
された照明光ＩＬは整形光学系、コンデンサーレンズ、
視野絞り等を経た後、照明光学系を構成するコンデンサ
ーレンズ１１０を介してレチクル１２０のパターン面を
均一な照度分布で照射する。照明光ＩＬとしては、水銀
ランプのｉ線、ＫｒＦもしくはＡｒＦ等のエキシマレー
ザ光、Ｆ₂レーザ光等が使用できる。照明光ＩＬのもと
でレチクル１２０のパターンの像が投影光学系１３０を
介して投影倍率β（例えば、１／４、１／５）で基板と
してのレジストが塗布されたウェハ１４０の表面に投影
露光される。レチクル１２０及びウェハ１４０はそれぞ
れレチクルステージ１２２及びウェハステージ１４５上
に保持されている。レチクルステージ１２２は、図示し
ないレチクルチャックを介してレチクル１２０を吸着保
持し、投影光学系１３０の光軸ＡＸに垂直な平面内でレ
チクル１２０の位置決めを行う。ウェハステージ１４５
は、図示しないウェハチャックを介してウェハ１４０を
吸着保持している。ウェハステージ１４５は、光軸ＡＸ
に垂直な平面内でウェハ１４０のステップ移動及び位置
決めを行うと共に、ウェハ１４０の表面が投影光学系１
３０の像面に合致した状態で露光が行われるように、オ
ートフォーカス方式でウェハ１４０の光軸ＡＸに平行な
方向の位置（フォーカス位置）の制御を行う。

【００３４】露光時には、レチクル１２０とウェハ１４
０は所定の位置関係にされ、レチクル１２０上のパター
ンをウェハ１４０上に投影露光する。ウェハ１４０上の
一つのショット領域への露光が終わると、ウェハステー
ジ１４５のステップ移動によって次のショット領域が投
影光学系１３０の露光領域に移動して、レチクル１２０
のパターン像の露光を行うという動作をステップアンド
リピート方式で繰り返す。

【００３５】図６及び図７を参照して、上述の露光装置
１００を利用したデバイスの製造方法の実施例を説明す
る。図６は、デバイス（ＩＣやＬＳＩなどの半導体チッ
プ、ＬＣＤ、ＣＣＤ等）の製造を説明するためのフロー
チャートである。ここでは、半導体チップの製造を例に
説明する。ステップ１（回路設計）ではデバイスの回路
設計を行う。ステップ２（マスク製作）では、設計した
回路パターンを形成したマスクを製作する。ステップ３
（ウェハ製造）ではシリコンなどの材料を用いてウェハ
を製造する。ステップ４（ウェハプロセス）は前工程と
呼ばれ、マスクとウェハを用いてリソグラフィ技術によ
ってウェハ上に実際の回路を形成する。ステップ５（組
み立て）は後工程と呼ばれ、ステップ４によって作成さ
れたウェハを用いて半導体チップ化する工程であり、ア
ッセンブリ工程（ダイシング、ボンディング）、パッケ
ージング工程（チップ封入）等の工程を含む。ステップ
６（検査）では、ステップ５で作成された半導体デバイ
スの動作確認テスト、耐久性テストなどの検査を行う。
こうした工程を経て半導体デバイスが完成し、これが出
荷（ステップ７）される。

【００３６】図７は、ステップ４のウェハプロセスの詳
細なフローチャートである。ステップ１１（酸化）では
ウェハの表面を酸化させる。ステップ１２（ＣＶＤ）で
は、ウェハの表面に絶縁膜を形成する。ステップ１３
（電極形成）では、ウェハ上に電極を蒸着などによって
形成する。ステップ１４（イオン打ち込み）ではウェハ
にイオンを打ち込む。ステップ１５（レジスト処理）で
はウェハに感光剤を塗布する。ステップ１６（露光）で
は、露光装置１００によってマスクの回路パターンをウ
ェハに露光する。ステップ１７（現像）では、露光した
ウェハを現像する。ステップ１８（エッチング）では、
現像したレジスト像以外の部分を削り取る。ステップ１
９（レジスト剥離）では、エッチングが済んで不要とな
ったレジストを取り除く。これらのステップを繰り返し
行うことによってウェハ上に多重に回路パターンが形成
される。本実施例の製造方法によれば、従来は製造が難
しかった高品位のデバイスを製造することができる。特
に、露光装置１００は、所望の解像度で近年の微細化の
要求を満足するウェハの露光を行うことができる。

【００３７】以上、本発明の好ましい実施例を説明した
が、本発明はこれらに限定されずその要旨の範囲内で種
々の変形及び変更が可能である。

【００３８】

【発明の効果】本発明の光学装置及びレンズ保持方法に
よれば、レンズを３点の凸部を介してレンズ保持部材上
で支持することによって、レンズが変形する位置を凸部
の間に限定する。そうすることで、結像性能の劣化とな
る収差を低減することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 投影光学系に適用される本発明のレンズ保持
方法を示す概略平面図及び概略断面図である。

【図２】 図１に示すレンズの加工方法を示す平面図及
び断面図である。

【図３】 図１に示すレンズ保持方法の変形例を示す概
略平面図及び断面図である。

【図４】 図３に示すレンズ保持方法の変形例を示す概
略断面図である。

【図５】 図１に示すレンズ保持方法を適用した投影光
学系及び露光装置を示す概略断面図である。

【図６】 本発明の露光工程を有するデバイス製造方法
を説明するためのフローチャートである。

【図７】 図６に示すステップ４の詳細なフローチャー
トである。

【図８】 従来の露光装置の投影光学系のレンズ及びレ
ンズ保持部材の取り付けを説明する概略平面図及び概略
断面図である。

【図９】 図８に示すレンズの変形を説明するための概
略平面図及び概略断面図である。

【図１０】 図８に示すレンズの代わりに搭載される凹
メニスカスレンズの断面図である。

【図１１】 図１０に示すレンズの搭載の問題を説明す
る断面図である。

【符号の説明】

１００ 露光装置 １３０ 投影光学系 ２００ 段付きレンズ ２０６ 段付き平面部 ２０８ 凸部 ２１０ レンズ保持部材 ２１２ 受け面 ２２０ 押さえ環 ２４０ 覆い ２４２ 覆い ２５０ 砂粒 ２６０ 凹メニスカスレンズ ２７０ 融着層 ２７２ 足 ２７４ 接着層

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ３つの凸部を有するレンズと、 当該レンズを前記凸部を介して３点支持するレンズ保持
   部材とを有する光学装置。
2. 【請求項２】 前記凸部はピッチ１２０°で同一円周上
   に配置される請求項１記載の光学装置。
3. 【請求項３】 所定のパターンを被処理体上に投影する
   投影光学系を有する露光装置であって、 前記投影光学系は、 ３つの凸部を有して前記パターンを投影するするレンズ
   と、 当該レンズを前記凸部を介して３点支持するレンズ保持
   部材とを有する露光装置。
4. 【請求項４】 請求項３記載の露光装置を用いて前記被
   処理体を投影露光する工程と、 前記投影露光された被処理体に所定のプロセスを行う工
   程とを有するデバイス製造方法。
5. 【請求項５】 請求項３記載の露光装置を用いて投影露
   光された前記被処理体より製造されるデバイス。
6. 【請求項６】 所定のパターンを被処理体上に投影する
   レンズを有する投影光学系の前記レンズに３つの凸部を
   形成するステップと、 当該レンズが前記凸部を介して保持されるように前記レ
   ンズの前記凸部を、平坦な面を有するレンズ保持部材上
   に固定するステップとを有するレンズ保持方法。
7. 【請求項７】 前記投影光学系は、当該投影光学系の光
   軸上に前記レンズ及び前記レンズ保持部材を複数組有
   し、 前記複数のレンズの各々について前記凸部の間の部位の
   変形を測定するステップと、 前記レンズ及び前記レンズ保持部材の組を前記光軸回り
   に回転することによって、前記投影光学系が前記部位の
   前記変形によってもたらされる前記投影光学系の収差が
   最小になるように調節するステップとを更に有する請求
   項６記載の方法。
8. 【請求項８】 前記固定ステップは、前記投影光学系の
   光軸と垂直に前記レンズを前記レンズ保持部材に対して
   固定する請求項６記載の方法。