JP2002267034A - クリーンルーム等の圧力逃し弁 - Google Patents
クリーンルーム等の圧力逃し弁Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 クリーンルーム等の室内圧力を一定の陽圧に
保つための圧力逃し弁の共振を抑えた圧力逃し弁機構を
提供する。 【解決手段】 開口部Ａを有するクリーンルームの壁１
に、回転中心軸４を介して弁板２（フラップ）が回転可
能に設けられ、弁板２にアーム６を介して調節可能に取
り付けられたウェイト５と、壁１と弁板２とにそれぞれ
設けたヒンジ８を介してダシュポット９を備えて、開口
部Ａの実効の開口面積を調節するようにした。ダシュポ
ット９の持つ粘性減衰作用によって、圧力逃し弁を無周
期運動となるように成して共振を抑えた。
保つための圧力逃し弁の共振を抑えた圧力逃し弁機構を
提供する。 【解決手段】 開口部Ａを有するクリーンルームの壁１
に、回転中心軸４を介して弁板２（フラップ）が回転可
能に設けられ、弁板２にアーム６を介して調節可能に取
り付けられたウェイト５と、壁１と弁板２とにそれぞれ
設けたヒンジ８を介してダシュポット９を備えて、開口
部Ａの実効の開口面積を調節するようにした。ダシュポ
ット９の持つ粘性減衰作用によって、圧力逃し弁を無周
期運動となるように成して共振を抑えた。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】 本発明は、クリーンルーム
等の室内圧力を一定の陽圧に保つための圧力逃し弁機構
に関する。特に、低周波の圧力変動による影響を受け易
い荷電粒子ビームを用いた半導体デバイス等の製造等に
関わる検査装置、加工装置あるいは描画装置等を収納す
るクリーンルームに好適に利用できるものである。
等の室内圧力を一定の陽圧に保つための圧力逃し弁機構
に関する。特に、低周波の圧力変動による影響を受け易
い荷電粒子ビームを用いた半導体デバイス等の製造等に
関わる検査装置、加工装置あるいは描画装置等を収納す
るクリーンルームに好適に利用できるものである。
【０００２】
【従来の技術】走査電子顕微鏡（ＳＥＭ）等の荷電粒子
ビームを用いた半導体デバイス等の製造等に関わる検査
装置、加工装置あるいは描画装置等の装置は、室内圧力
を一定の陽圧に保ったクリーンルーム内に設置されて、
陽圧によって室外からの塵などの異物の進入を避けるよ
うにしている。クリーンルームの室内は、人や物の室内
への出入りにも関わらず、その圧力を一定の陽圧に保つ
ために、空気の供給手段と共にクリーンルームの室壁に
は開口部を設け、その開口部には図１に示すようなフラ
ップ（弁板）を備えて所望の陽圧となるようにしてい
る。このような機構を圧力逃し弁機構と呼ぶ。
ビームを用いた半導体デバイス等の製造等に関わる検査
装置、加工装置あるいは描画装置等の装置は、室内圧力
を一定の陽圧に保ったクリーンルーム内に設置されて、
陽圧によって室外からの塵などの異物の進入を避けるよ
うにしている。クリーンルームの室内は、人や物の室内
への出入りにも関わらず、その圧力を一定の陽圧に保つ
ために、空気の供給手段と共にクリーンルームの室壁に
は開口部を設け、その開口部には図１に示すようなフラ
ップ（弁板）を備えて所望の陽圧となるようにしてい
る。このような機構を圧力逃し弁機構と呼ぶ。
【０００３】図１において、１は開口部Ａを有するクリ
ーンルーム等の壁である。開口部Ａ近傍の壁１にはブラ
ケット３を設け、ブラケット３には回転中心軸４を介し
て弁板２（フラップ）が揺動（回転）可能に設けられて
いる。室内は図示しない空気の供給手段によって陽圧に
なるようになされているから、開口部Ａを通って室外へ
と空気の流れ７ができる。空気の流れ７の量は、弁板２
にアーム６を介して調節可能に取り付けられたウェイト
５によって、開口部Ａの実効の開口面積を調節するよう
になっている。即ち、室内の圧が大きくなれば、空気の
流れ７はウェイト５に打ち勝って開口部Ａの実効の開口
面積を大きくして空気の流れ７の量を増やし、室内の圧
が小さくなれば、ウェイト５によって弁板２は閉じる方
向に回転し開口部Ａの開口面積を小さくして空気の流れ
７の量を減らす。このようにして、室内は一定の陽圧と
なるようになっている。
ーンルーム等の壁である。開口部Ａ近傍の壁１にはブラ
ケット３を設け、ブラケット３には回転中心軸４を介し
て弁板２（フラップ）が揺動（回転）可能に設けられて
いる。室内は図示しない空気の供給手段によって陽圧に
なるようになされているから、開口部Ａを通って室外へ
と空気の流れ７ができる。空気の流れ７の量は、弁板２
にアーム６を介して調節可能に取り付けられたウェイト
５によって、開口部Ａの実効の開口面積を調節するよう
になっている。即ち、室内の圧が大きくなれば、空気の
流れ７はウェイト５に打ち勝って開口部Ａの実効の開口
面積を大きくして空気の流れ７の量を増やし、室内の圧
が小さくなれば、ウェイト５によって弁板２は閉じる方
向に回転し開口部Ａの開口面積を小さくして空気の流れ
７の量を減らす。このようにして、室内は一定の陽圧と
なるようになっている。
【０００４】ところが、室内外の圧力差が安定に保たれ
ているときにはよいが、何らかの要因によって、圧力差
に変動が生じたときは、圧力逃し弁機構が数ヘルツ以下
の固有振動数で振動することによって、室内の圧力がこ
の周波数で周期的に変動してしまい超低音を発生するこ
とがある。図７に室内の圧力の測定結果例を示す。図７
において、横軸は一目盛２秒を表す時間軸であり、縦軸
は一目盛50ｍＶを表す測定計器の出力値の軸であり、図
は圧力の変動に比例する量を示している。図７を見ると
約１ヘルツの超低音が発生していることが分かる。この
超低音は図１の弁板２が約１ヘルツで開口部Ａを開閉す
ることによって起こる共振である。
ているときにはよいが、何らかの要因によって、圧力差
に変動が生じたときは、圧力逃し弁機構が数ヘルツ以下
の固有振動数で振動することによって、室内の圧力がこ
の周波数で周期的に変動してしまい超低音を発生するこ
とがある。図７に室内の圧力の測定結果例を示す。図７
において、横軸は一目盛２秒を表す時間軸であり、縦軸
は一目盛50ｍＶを表す測定計器の出力値の軸であり、図
は圧力の変動に比例する量を示している。図７を見ると
約１ヘルツの超低音が発生していることが分かる。この
超低音は図１の弁板２が約１ヘルツで開口部Ａを開閉す
ることによって起こる共振である。
【０００５】図１において、このような共振が起こる原
因を考察いてみると、室内の陽圧によって弁板２が押さ
れ回転中心軸４を支点にして図の時計回りに回転する。
回転に伴ってウェイト５も回転中心軸４を支点にして回
転するが、ウェイト５が空気の流れ７に逆らう力は、弁
板２が閉のとき最小で時計回りに回転する程大きくな
る。これは重力が振り子に働く力関係に類似していて、
ウェイト５および弁板２が固有の振動を持っていること
を示している。
因を考察いてみると、室内の陽圧によって弁板２が押さ
れ回転中心軸４を支点にして図の時計回りに回転する。
回転に伴ってウェイト５も回転中心軸４を支点にして回
転するが、ウェイト５が空気の流れ７に逆らう力は、弁
板２が閉のとき最小で時計回りに回転する程大きくな
る。これは重力が振り子に働く力関係に類似していて、
ウェイト５および弁板２が固有の振動を持っていること
を示している。
【０００６】ところで、走査電子顕微鏡（ＳＥＭ）等の
荷電粒子ビームを用いた半導体デバイス等の製造等に関
わる検査装置、加工装置あるいは描画装置等の装置は、
その試料室や荷電粒子ビーム照射系は真空容器に収めら
れている。このような真空容器には常に大気圧が掛かっ
ていて、容器は形状的に変形を受けている。図６は、そ
の様子を走査電子顕微鏡（ＳＥＭ）を例にして模式的に
説明する図である。
荷電粒子ビームを用いた半導体デバイス等の製造等に関
わる検査装置、加工装置あるいは描画装置等の装置は、
その試料室や荷電粒子ビーム照射系は真空容器に収めら
れている。このような真空容器には常に大気圧が掛かっ
ていて、容器は形状的に変形を受けている。図６は、そ
の様子を走査電子顕微鏡（ＳＥＭ）を例にして模式的に
説明する図である。
【０００７】図６において、電子源２３で発生した電子
ビーム３４は、鏡筒２２（電子ビーム照射系）で、図示
しない走査コイルや電子レンズ等によって、電子ビーム
３４を走査しながら集束して試料２６に照射される。試
料２６は、試料室２１内の試料ステージ２５に載置され
ている。電子ビーム３４を試料２６上の所望の位置に照
射するために、試料ステージ２５には試料２６を任意に
移動させることができるようになっている。更に、図示
しないが、電子ビーム３４の照射によって試料２６から
発生した二次電子などの信号を検出して、この信号を基
にＣＲＴ等に表示して、走査電子顕微鏡像として観察す
る。
ビーム３４は、鏡筒２２（電子ビーム照射系）で、図示
しない走査コイルや電子レンズ等によって、電子ビーム
３４を走査しながら集束して試料２６に照射される。試
料２６は、試料室２１内の試料ステージ２５に載置され
ている。電子ビーム３４を試料２６上の所望の位置に照
射するために、試料ステージ２５には試料２６を任意に
移動させることができるようになっている。更に、図示
しないが、電子ビーム３４の照射によって試料２６から
発生した二次電子などの信号を検出して、この信号を基
にＣＲＴ等に表示して、走査電子顕微鏡像として観察す
る。
【０００８】図６において、実線は装置内外の圧力差が
無い場合の形状を表しており、２点鎖線は装置外は大気
圧で、装置内は真空であるときの形状を表している。こ
のような装置において、大気の圧力が変化すれば、装置
の形状も微妙に変化することになる。そして、この変形
によって、荷電粒子ビームの位置２７と試料室内の試料
上の位置とが相対的にずれることになる。
無い場合の形状を表しており、２点鎖線は装置外は大気
圧で、装置内は真空であるときの形状を表している。こ
のような装置において、大気の圧力が変化すれば、装置
の形状も微妙に変化することになる。そして、この変形
によって、荷電粒子ビームの位置２７と試料室内の試料
上の位置とが相対的にずれることになる。
【０００９】このようなずれは、相対的なものであるか
ら、真空容器の変形が常に一定であれば何ら問題とはな
らない。しかし、大気圧が変動すれば、当然真空容器の
変形量が変化するので、これによる相対的位置ずれによ
って、走査電子顕微鏡像にはノイズが入ったようにな
り、像の分解能を劣化させることになる。
ら、真空容器の変形が常に一定であれば何ら問題とはな
らない。しかし、大気圧が変動すれば、当然真空容器の
変形量が変化するので、これによる相対的位置ずれによ
って、走査電子顕微鏡像にはノイズが入ったようにな
り、像の分解能を劣化させることになる。
【００１０】このような現象は走査電子顕微鏡に限ら
ず、荷電粒子ビームを用いた半導体デバイス等の製造等
に関わる検査装置、加工装置あるいは描画装置等におい
ても、真空容器内に収められた装置において同様であっ
て、微細な加工や描画、観察の障害となる。近年、半導
体デバイス等の加工や描画の微細化が進むにつれて、こ
の種の問題に対する対策が急務となってきた。
ず、荷電粒子ビームを用いた半導体デバイス等の製造等
に関わる検査装置、加工装置あるいは描画装置等におい
ても、真空容器内に収められた装置において同様であっ
て、微細な加工や描画、観察の障害となる。近年、半導
体デバイス等の加工や描画の微細化が進むにつれて、こ
の種の問題に対する対策が急務となってきた。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上述した問
題点を解決すべくなされたものであり、安価で簡単な圧
力逃し弁機構を提供することを目的としている。
題点を解決すべくなされたものであり、安価で簡単な圧
力逃し弁機構を提供することを目的としている。
【００１２】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
本発明は、陽圧に保たれた部屋の開口部に設けられた圧
力逃し機構において、前記開口部の外側に該開口部を封
止するように配置され、かつ部屋の内外の圧力差に応じ
て揺動可能に設けられた弁板（フラップ）と、該弁板が
前記陽圧によって開く力に対抗する力を該弁板に与える
ための重力を利用したウェイトと、前記弁板の運動に対
抗して、所定の抑制力を該弁板に与える粘性抵抗体によ
る抑制部材あるいは磁気ダンパによる抑制部材とを備え
たことを特徴とする。
本発明は、陽圧に保たれた部屋の開口部に設けられた圧
力逃し機構において、前記開口部の外側に該開口部を封
止するように配置され、かつ部屋の内外の圧力差に応じ
て揺動可能に設けられた弁板（フラップ）と、該弁板が
前記陽圧によって開く力に対抗する力を該弁板に与える
ための重力を利用したウェイトと、前記弁板の運動に対
抗して、所定の抑制力を該弁板に与える粘性抵抗体によ
る抑制部材あるいは磁気ダンパによる抑制部材とを備え
たことを特徴とする。
【００１３】あるいは、陽圧に保たれた部屋の開口部に
設けられた圧力逃し機構において、前記開口部の外側に
該開口部を封止するように配置され、かつ部屋の内外の
圧力差に応じて水平軸の回りに揺動可能に設けられた弁
板（フラップ）と、該弁板にかかる重力による力をキャ
ンセルする力を該弁板に与えるためのカウンタウェイト
と、該弁板が前記陽圧によって開く力に対抗するほぼ一
定の力を該弁板に与えるため、前記水平軸とほぼ同等の
高さに取り付けた重力を利用したウェイトとを備えたこ
とを特徴とする。
設けられた圧力逃し機構において、前記開口部の外側に
該開口部を封止するように配置され、かつ部屋の内外の
圧力差に応じて水平軸の回りに揺動可能に設けられた弁
板（フラップ）と、該弁板にかかる重力による力をキャ
ンセルする力を該弁板に与えるためのカウンタウェイト
と、該弁板が前記陽圧によって開く力に対抗するほぼ一
定の力を該弁板に与えるため、前記水平軸とほぼ同等の
高さに取り付けた重力を利用したウェイトとを備えたこ
とを特徴とする。
【００１４】更には、陽圧に保たれた部屋の開口部に設
けられた圧力逃し機構において、前記開口部の外側に該
開口部を封止するように配置され、かつ部屋の内外の圧
力差に応じて揺動可能に設けられた弁板（フラップ）
と、該弁板にかかる重力による力をキャンセルする力を
該弁板に与えるためのカウンタウェイトと、該弁板が前
記陽圧によって開く力に対抗するほぼ一定の力を該弁板
に与えるための定荷重ばね部材とを備えたことを特徴と
する。
けられた圧力逃し機構において、前記開口部の外側に該
開口部を封止するように配置され、かつ部屋の内外の圧
力差に応じて揺動可能に設けられた弁板（フラップ）
と、該弁板にかかる重力による力をキャンセルする力を
該弁板に与えるためのカウンタウェイトと、該弁板が前
記陽圧によって開く力に対抗するほぼ一定の力を該弁板
に与えるための定荷重ばね部材とを備えたことを特徴と
する。
【００１５】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態を詳細に説明する。
施の形態を詳細に説明する。
【００１６】図２は、本発明の第１の実施の形態を説明
する図である。図３は、本発明の第２の実施の形態を説
明する図である。図４は、本発明の第３の実施の形態を
説明する図である。図５は、本発明の第４の実施の形態
を説明する図である。
する図である。図３は、本発明の第２の実施の形態を説
明する図である。図４は、本発明の第３の実施の形態を
説明する図である。図５は、本発明の第４の実施の形態
を説明する図である。
【００１７】第１の実施の形態を示す図２において、１
は開口部Ａを有するクリーンルーム等の壁である。開口
部Ａ近傍の壁１の外側（室外）にはブラケット３を設
け、ブラケット３には回転中心軸４を介して弁板２（フ
ラップ）が揺動（回転）可能に設けられている。室内は
図示しない空気の供給手段によって陽圧になるようにな
されているから、開口部Ａを通って室外へと空気の流れ
７（図示せず）ができる。空気の流れ７の量は、弁板２
にアーム６を介して調節可能に取り付けられたウェイト
５によって、開口部Ａの実効の開口面積を調節するよう
になっている。以上は従来技術の図１に同じである。こ
れに加えて、壁１と弁板２とにそれぞれヒンジ８を設
け、これを介してダシュポット９を備えた。ダシュポッ
ト（dashpot）は、油を入れたシリンダー内でピストン
がゆっくりと動くように油の通りぬけるすきま設けたも
ので、急な機械的動作を緩和するための装置である。弁
板２とウェイト５の実効の質量がｍで、ばね定数がｋで
あるとき、この系に粘性による減衰を作用させると、臨
界減衰係数がｍとｋの積の平方根の２倍以上のとき無周
期運動となる。このようなことから、ダシュポット９の
粘性減衰係数を圧力逃し弁の臨界減衰係数以上にすれば
振動は起こらない。ただし、ダシュポット９の粘性減衰
係数をあまり大きくすると、陽圧の変化に対する圧力逃
し弁の追随性が悪くなる。従って、圧力逃し弁の臨界減
衰係数よりやや大きめの粘性減衰を持つダシュポット９
を設定するのがよい。
は開口部Ａを有するクリーンルーム等の壁である。開口
部Ａ近傍の壁１の外側（室外）にはブラケット３を設
け、ブラケット３には回転中心軸４を介して弁板２（フ
ラップ）が揺動（回転）可能に設けられている。室内は
図示しない空気の供給手段によって陽圧になるようにな
されているから、開口部Ａを通って室外へと空気の流れ
７（図示せず）ができる。空気の流れ７の量は、弁板２
にアーム６を介して調節可能に取り付けられたウェイト
５によって、開口部Ａの実効の開口面積を調節するよう
になっている。以上は従来技術の図１に同じである。こ
れに加えて、壁１と弁板２とにそれぞれヒンジ８を設
け、これを介してダシュポット９を備えた。ダシュポッ
ト（dashpot）は、油を入れたシリンダー内でピストン
がゆっくりと動くように油の通りぬけるすきま設けたも
ので、急な機械的動作を緩和するための装置である。弁
板２とウェイト５の実効の質量がｍで、ばね定数がｋで
あるとき、この系に粘性による減衰を作用させると、臨
界減衰係数がｍとｋの積の平方根の２倍以上のとき無周
期運動となる。このようなことから、ダシュポット９の
粘性減衰係数を圧力逃し弁の臨界減衰係数以上にすれば
振動は起こらない。ただし、ダシュポット９の粘性減衰
係数をあまり大きくすると、陽圧の変化に対する圧力逃
し弁の追随性が悪くなる。従って、圧力逃し弁の臨界減
衰係数よりやや大きめの粘性減衰を持つダシュポット９
を設定するのがよい。
【００１８】第２の実施の形態を示す図３において、１
は開口部Ａを有するクリーンルーム等の壁である。開口
部Ａ近傍の壁１の外側（室外）にはブラケット３を設
け、ブラケット３には回転中心軸４を介して弁板２（フ
ラップ）が揺動（回転）可能に設けられている。室内は
図示しない空気の供給手段によって陽圧になるようにな
されているから、開口部Ａを通って室外へと空気の流れ
７（図示せず）ができる。空気の流れ７の量は、弁板２
にアーム６を介して調節可能に取り付けられたウェイト
５によって、開口部Ａの実効の開口面積を調節するよう
になっている。以上は従来技術の図１に同じである。こ
れに加えて、回転中心軸４とブラケット３の間には回転
式の磁気ダンパ１２を備えた。磁気ダンパは、導体が磁
場の中で運動すると導体内に渦電流が流れ、これが磁束
と作用して制動力を生じる（フレミングの法則）。これ
によって、急な機械的動作を緩和することができる。弁
板２とウェイト５の実効の質量がｍで、ばね定数がｋで
あるとき、この系に制動による減衰を作用させると、臨
界減衰係数がｍとｋの積の平方根の２倍以上のとき無周
期運動となる。この実施の形態は、第１の実施の形態の
ダシュポット９を磁気ダンパ１２に代えたものである。
従って、磁気ダンパ１２の減衰係数を圧力逃し弁の臨界
減衰係数以上にすれば振動は起こらない。
は開口部Ａを有するクリーンルーム等の壁である。開口
部Ａ近傍の壁１の外側（室外）にはブラケット３を設
け、ブラケット３には回転中心軸４を介して弁板２（フ
ラップ）が揺動（回転）可能に設けられている。室内は
図示しない空気の供給手段によって陽圧になるようにな
されているから、開口部Ａを通って室外へと空気の流れ
７（図示せず）ができる。空気の流れ７の量は、弁板２
にアーム６を介して調節可能に取り付けられたウェイト
５によって、開口部Ａの実効の開口面積を調節するよう
になっている。以上は従来技術の図１に同じである。こ
れに加えて、回転中心軸４とブラケット３の間には回転
式の磁気ダンパ１２を備えた。磁気ダンパは、導体が磁
場の中で運動すると導体内に渦電流が流れ、これが磁束
と作用して制動力を生じる（フレミングの法則）。これ
によって、急な機械的動作を緩和することができる。弁
板２とウェイト５の実効の質量がｍで、ばね定数がｋで
あるとき、この系に制動による減衰を作用させると、臨
界減衰係数がｍとｋの積の平方根の２倍以上のとき無周
期運動となる。この実施の形態は、第１の実施の形態の
ダシュポット９を磁気ダンパ１２に代えたものである。
従って、磁気ダンパ１２の減衰係数を圧力逃し弁の臨界
減衰係数以上にすれば振動は起こらない。
【００１９】第３の実施の形態を示す図４において、１
は開口部Ａを有するクリーンルーム等の壁である。開口
部Ａ近傍の壁１の外側（室外）にはブラケット３を設
け、ブラケット３には回転中心軸４を介して弁板２（フ
ラップ）が揺動（回転）可能に設けられている。室内は
図示しない空気の供給手段によって陽圧になるようにな
されているから、開口部Ａを通って室外へと空気の流れ
７ができる。空気の流れ７の量は、弁板２にアーム６を
介して調節可能に取り付けられたウェイト５によって、
開口部Ａの実効の開口面積を調節するようになってい
る。以上は従来技術の図１に同じである。ただし、弁板
２（フラップ）には重力によって回転する力が働かない
ようにカウンターウェイトを設け、更に、空気の流れ７
の量がある値のときに、ウェイト５は回転中心軸４とほ
ぼ同じ高さとなるようにヒンジ８を設けて調整できるよ
うにしておく。従来の図１におけるウェイト５は回転中
心軸４よりかなり下方に位置しているため、空気の流れ
７の量の変化に対して弁板２（フラップ）に働く回転力
は大幅に変化するが、本発明の図４のように成せば、空
気の流れ７の量がある所定の値の近傍のときには、ウェ
イト５と回転中心軸４とはほぼ同じ高さとなるように、
ヒンジ８でウェイト５の高さを実験的に調節しておける
から、空気の流れ７の量の変化に対するウェイト５の重
力による弁板２（フラップ）に働く回転力はほぼ一定と
なるようにできる。このように成せば、この系のばね定
数は殆どゼロであるから、系と空気との間の小さな粘性
減衰係数でもほぼ無周期運動となる。従って、図４のウ
ェイト５と弁板２は図１のような振り子の如くの動作に
はならず、圧力逃し弁の共振を抑えることができる。
は開口部Ａを有するクリーンルーム等の壁である。開口
部Ａ近傍の壁１の外側（室外）にはブラケット３を設
け、ブラケット３には回転中心軸４を介して弁板２（フ
ラップ）が揺動（回転）可能に設けられている。室内は
図示しない空気の供給手段によって陽圧になるようにな
されているから、開口部Ａを通って室外へと空気の流れ
７ができる。空気の流れ７の量は、弁板２にアーム６を
介して調節可能に取り付けられたウェイト５によって、
開口部Ａの実効の開口面積を調節するようになってい
る。以上は従来技術の図１に同じである。ただし、弁板
２（フラップ）には重力によって回転する力が働かない
ようにカウンターウェイトを設け、更に、空気の流れ７
の量がある値のときに、ウェイト５は回転中心軸４とほ
ぼ同じ高さとなるようにヒンジ８を設けて調整できるよ
うにしておく。従来の図１におけるウェイト５は回転中
心軸４よりかなり下方に位置しているため、空気の流れ
７の量の変化に対して弁板２（フラップ）に働く回転力
は大幅に変化するが、本発明の図４のように成せば、空
気の流れ７の量がある所定の値の近傍のときには、ウェ
イト５と回転中心軸４とはほぼ同じ高さとなるように、
ヒンジ８でウェイト５の高さを実験的に調節しておける
から、空気の流れ７の量の変化に対するウェイト５の重
力による弁板２（フラップ）に働く回転力はほぼ一定と
なるようにできる。このように成せば、この系のばね定
数は殆どゼロであるから、系と空気との間の小さな粘性
減衰係数でもほぼ無周期運動となる。従って、図４のウ
ェイト５と弁板２は図１のような振り子の如くの動作に
はならず、圧力逃し弁の共振を抑えることができる。
【００２０】第４の実施の形態を示す図５において、１
は開口部Ａを有するクリーンルーム等の壁である。開口
部Ａ近傍の壁１の外側（室外）にはブラケット３を設
け、ブラケット３には回転中心軸４を介して弁板２（フ
ラップ）が揺動（回転）可能に設けられている。室内は
図示しない空気の供給手段によって陽圧になるようにな
されているから、開口部Ａを通って室外へと空気の流れ
７（図示せず）ができる。以上は従来技術の図１に同じ
である。ただし、空気の流れ７の量を調節するためにア
ーム６を介して弁板２に設けたウェイト５は無い。これ
に代えて、弁板２（フラップ）には重力によって回転す
る力が働かないようにカウンターウェイトを設け、更
に、弁板２（フラップ）と壁１の間には、弁板２（フラ
ップ）が閉じるように働くコプリング１１等の定荷重ば
ね部材が設けられている。コプリング（商品名）等の定
荷重ばね部材は、容器内の軸に一端を取り付けたゼンマ
イを巻きつけ、他端を容器外に伸長できるようにしたば
ね装置であって、容器からゼンマイの他端を引き出す
と、他端を容器側に戻そうとするばね力が働く。ストロ
ークが大きく、かつばね力がほぼ一定である特徴があ
る。このように一定のばね力が働くコプリング１１の如
き定荷重ばね部材を備えたことによって、空気の流れ７
の量の変化に対する弁板２（フラップ）に働く回転力は
ほぼ一定となるようにできる。このように成せば、この
系のばね定数は殆どゼロであるから、系と空気との間の
小さな粘性減衰係数でもほぼ無周期運動となる。従っ
て、図５の弁板２は図１のような振り子の如くの動作に
はならず、圧力逃し弁の共振を抑えることができる。
は開口部Ａを有するクリーンルーム等の壁である。開口
部Ａ近傍の壁１の外側（室外）にはブラケット３を設
け、ブラケット３には回転中心軸４を介して弁板２（フ
ラップ）が揺動（回転）可能に設けられている。室内は
図示しない空気の供給手段によって陽圧になるようにな
されているから、開口部Ａを通って室外へと空気の流れ
７（図示せず）ができる。以上は従来技術の図１に同じ
である。ただし、空気の流れ７の量を調節するためにア
ーム６を介して弁板２に設けたウェイト５は無い。これ
に代えて、弁板２（フラップ）には重力によって回転す
る力が働かないようにカウンターウェイトを設け、更
に、弁板２（フラップ）と壁１の間には、弁板２（フラ
ップ）が閉じるように働くコプリング１１等の定荷重ば
ね部材が設けられている。コプリング（商品名）等の定
荷重ばね部材は、容器内の軸に一端を取り付けたゼンマ
イを巻きつけ、他端を容器外に伸長できるようにしたば
ね装置であって、容器からゼンマイの他端を引き出す
と、他端を容器側に戻そうとするばね力が働く。ストロ
ークが大きく、かつばね力がほぼ一定である特徴があ
る。このように一定のばね力が働くコプリング１１の如
き定荷重ばね部材を備えたことによって、空気の流れ７
の量の変化に対する弁板２（フラップ）に働く回転力は
ほぼ一定となるようにできる。このように成せば、この
系のばね定数は殆どゼロであるから、系と空気との間の
小さな粘性減衰係数でもほぼ無周期運動となる。従っ
て、図５の弁板２は図１のような振り子の如くの動作に
はならず、圧力逃し弁の共振を抑えることができる。
【００２１】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の第１の実
施の形態においては、弁板２（フラップ）の急激な動き
を抑えるようにダシュポット９を備えて圧力逃し弁の共
振を抑えた。第２の実施の形態においては、弁板２（フ
ラップ）の急激な動きを抑えるように磁気ダンパ１２を
備えて圧力逃し弁の共振を抑えた。第３実施の形態にお
いては、弁板２（フラップ）には重力によって回転する
力が働かないようにカウンターウェイトを設け、かつウ
ェイト５は弁板２（フラップ）の揺動（回転）中心軸４
と同じ高さにして、弁板２（フラップ）を閉じようとす
る力が常にほぼ一定になるようにして圧力逃し弁の共振
を抑えた。第４実施の形態においては、弁板２（フラッ
プ）には重力によって回転する力が働かないようにカウ
ンターウェイトを設け、かつ弁板２（フラップ）を閉じ
る力としてコプリング１１等の定荷重ばね部材を備え
て、弁板２（フラップ）を閉じようとする力が常にほぼ
一定になるようにして、振り子現象を防止して圧力逃し
弁の共振を抑えた。
施の形態においては、弁板２（フラップ）の急激な動き
を抑えるようにダシュポット９を備えて圧力逃し弁の共
振を抑えた。第２の実施の形態においては、弁板２（フ
ラップ）の急激な動きを抑えるように磁気ダンパ１２を
備えて圧力逃し弁の共振を抑えた。第３実施の形態にお
いては、弁板２（フラップ）には重力によって回転する
力が働かないようにカウンターウェイトを設け、かつウ
ェイト５は弁板２（フラップ）の揺動（回転）中心軸４
と同じ高さにして、弁板２（フラップ）を閉じようとす
る力が常にほぼ一定になるようにして圧力逃し弁の共振
を抑えた。第４実施の形態においては、弁板２（フラッ
プ）には重力によって回転する力が働かないようにカウ
ンターウェイトを設け、かつ弁板２（フラップ）を閉じ
る力としてコプリング１１等の定荷重ばね部材を備え
て、弁板２（フラップ）を閉じようとする力が常にほぼ
一定になるようにして、振り子現象を防止して圧力逃し
弁の共振を抑えた。
【００２２】このように成した圧力逃し弁機構のクリー
ンルーム内に荷電粒子ビーム装置を設置することによっ
て、荷電粒子ビーム装置本来の性能を発揮できるように
なった。
ンルーム内に荷電粒子ビーム装置を設置することによっ
て、荷電粒子ビーム装置本来の性能を発揮できるように
なった。
【００２３】
【図１】従来技術における圧力逃し弁の構成と動作を説
明するための図である。
明するための図である。
【図２】本発明に係る圧力逃し弁の第１の実施の形態の
構成と動作を説明するための図である。
構成と動作を説明するための図である。
【図３】本発明に係る圧力逃し弁の第２の実施の形態の
構成と動作を説明するための図である。
構成と動作を説明するための図である。
【図４】本発明に係る圧力逃し弁の第３の実施の形態の
構成と動作を説明するための図である。
構成と動作を説明するための図である。
【図５】本発明に係る圧力逃し弁の第４の実施の形態の
構成と動作を説明するための図である。
構成と動作を説明するための図である。
【図６】圧力変動による装置に与える影響を説明するた
めの模式図である。
めの模式図である。
【図７】圧力変動の測定例を説明するための図である。
１…壁、Ａ…開口部、２…弁板（フラップ）、３…ブラ
ケット、４…回転中心軸、５…ウェイト、６…アーム、
７…空気の流れ、８…ヒンジ、９…ダシュポット、１０
…カウンターウェイト、１１…コプリング、１２…磁気
ダンパ、２１…試料室、２２…鏡筒（電子ビーム照射
系）、２３…電子減、２４…電子ビーム、２５…試料ス
テージ、２６…試料、２７…ビーム照射位置
ケット、４…回転中心軸、５…ウェイト、６…アーム、
７…空気の流れ、８…ヒンジ、９…ダシュポット、１０
…カウンターウェイト、１１…コプリング、１２…磁気
ダンパ、２１…試料室、２２…鏡筒（電子ビーム照射
系）、２３…電子減、２４…電子ビーム、２５…試料ス
テージ、２６…試料、２７…ビーム照射位置
Claims (5)
- 【請求項１】陽圧に保たれた部屋の開口部に設けられた
圧力逃し機構において、前記開口部の外側に該開口部を
封止するように配置され、かつ部屋の内外の圧力差に応
じて揺動可能に設けられた弁板（フラップ）と、該弁板
が前記陽圧によって開く力に対抗する力を該弁板に与え
るための重力を利用したウェイトと、前記弁板の運動に
対抗して、所定の抑制力を該弁板に与える抑制部材とを
備えたことを特徴とする圧力逃し弁機構。 - 【請求項２】前記抑制部材は、粘性抵抗体による抑制部
材であることを特徴とする請求項１記載の圧力逃し弁機
構。 - 【請求項３】前記抑制部材は、磁気ダンパによる抑制部
材であることを特徴とする請求項１記載の圧力逃し弁機
構。 - 【請求項４】陽圧に保たれた部屋の開口部に設けられた
圧力逃し機構において、前記開口部の外側に該開口部を
封止するように配置され、かつ部屋の内外の圧力差に応
じて水平軸の回りに揺動可能に設けられた弁板（フラッ
プ）と、該弁板にかかる重力による力をキャンセルする
力を該弁板に与えるためのカウンタウェイトと、該弁板
が前記陽圧によって開く力に対抗するほぼ一定の力を該
弁板に与えるため、前記水平軸とほぼ同等の高さに取り
付けた重力を利用したウェイトとを備えたことを特徴と
する圧力逃し弁機構。 - 【請求項５】陽圧に保たれた部屋の開口部に設けられた
圧力逃し機構において、前記開口部の外側に該開口部を
封止するように配置され、かつ部屋の内外の圧力差に応
じて揺動可能に設けられた弁板（フラップ）と、該弁板
にかかる重力による力をキャンセルする力を該弁板に与
えるためのカウンタウェイトと、該弁板が前記陽圧によ
って開く力に対抗するほぼ一定の力を該弁板に与えるた
めの定荷重ばね部材とを備えたことを特徴とする圧力逃
し弁機構。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001061623A JP2002267034A (ja) | 2001-03-06 | 2001-03-06 | クリーンルーム等の圧力逃し弁 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001061623A JP2002267034A (ja) | 2001-03-06 | 2001-03-06 | クリーンルーム等の圧力逃し弁 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002267034A true JP2002267034A (ja) | 2002-09-18 |
Family
ID=18920887
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001061623A Withdrawn JP2002267034A (ja) | 2001-03-06 | 2001-03-06 | クリーンルーム等の圧力逃し弁 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002267034A (ja) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100765949B1 (ko) * | 2006-12-08 | 2007-10-15 | 주식회사현대밸브 | 역수 방지밸브 |
| WO2009119392A1 (ja) * | 2008-03-28 | 2009-10-01 | 三菱重工業株式会社 | 排気制御バルブを備えた排気タービン |
| KR101037156B1 (ko) * | 2008-11-17 | 2011-05-26 | 엘지전자 주식회사 | 세탁물 처리기기 |
| JP2012149817A (ja) * | 2011-01-19 | 2012-08-09 | Nippon Spindle Mfg Co Ltd | 温調装置 |
| KR101363994B1 (ko) | 2012-05-24 | 2014-02-17 | 주식회사 포스코 | 저압 가스 안전변 시스템 |
| JP2014227325A (ja) * | 2013-05-24 | 2014-12-08 | 住友電気工業株式会社 | 光ファイバの製造方法 |
| CN108775427A (zh) * | 2018-07-23 | 2018-11-09 | 南京西普水泥工程集团有限公司 | 一种微动式重力翻板阀组件、重力翻板阀及进料管 |
| JP2020020486A (ja) * | 2018-07-30 | 2020-02-06 | クリフ株式会社 | 圧力調整ダンパーと圧力調整ダンパーを用いた空調機の排気装置 |
| KR102394505B1 (ko) * | 2021-12-02 | 2022-05-04 | 김슬기 | 릴리프 댐퍼용 블레이드 안정화 장치 |
-
2001
- 2001-03-06 JP JP2001061623A patent/JP2002267034A/ja not_active Withdrawn
Cited By (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100765949B1 (ko) * | 2006-12-08 | 2007-10-15 | 주식회사현대밸브 | 역수 방지밸브 |
| WO2009119392A1 (ja) * | 2008-03-28 | 2009-10-01 | 三菱重工業株式会社 | 排気制御バルブを備えた排気タービン |
| JP2009236088A (ja) * | 2008-03-28 | 2009-10-15 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 排気制御バルブを備えた排気タービン |
| US8474257B2 (en) | 2008-03-28 | 2013-07-02 | Mitsubishi Heavy Industries, Ltd. | Exhaust turbine equipped with exhaust control valve |
| US9206541B2 (en) | 2008-11-17 | 2015-12-08 | Lg Electronics Inc. | Laundry processing device |
| KR101037156B1 (ko) * | 2008-11-17 | 2011-05-26 | 엘지전자 주식회사 | 세탁물 처리기기 |
| JP2012149817A (ja) * | 2011-01-19 | 2012-08-09 | Nippon Spindle Mfg Co Ltd | 温調装置 |
| KR101363994B1 (ko) | 2012-05-24 | 2014-02-17 | 주식회사 포스코 | 저압 가스 안전변 시스템 |
| JP2014227325A (ja) * | 2013-05-24 | 2014-12-08 | 住友電気工業株式会社 | 光ファイバの製造方法 |
| CN108775427A (zh) * | 2018-07-23 | 2018-11-09 | 南京西普水泥工程集团有限公司 | 一种微动式重力翻板阀组件、重力翻板阀及进料管 |
| CN108775427B (zh) * | 2018-07-23 | 2023-12-01 | 南京西普国际工程有限公司 | 一种微动式重力翻板阀组件、重力翻板阀及进料管 |
| JP2020020486A (ja) * | 2018-07-30 | 2020-02-06 | クリフ株式会社 | 圧力調整ダンパーと圧力調整ダンパーを用いた空調機の排気装置 |
| JP7153263B2 (ja) | 2018-07-30 | 2022-10-14 | クリフ株式会社 | 圧力調整ダンパー |
| KR102394505B1 (ko) * | 2021-12-02 | 2022-05-04 | 김슬기 | 릴리프 댐퍼용 블레이드 안정화 장치 |
| WO2023101388A1 (ko) * | 2021-12-02 | 2023-06-08 | 김슬기 | 릴리프 댐퍼용 블레이드 안정화 장치 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20080513 |