JP2002255973A - トリフェニルボラン・アミン錯体化合物の製造法 - Google Patents
トリフェニルボラン・アミン錯体化合物の製造法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 出発原料が安定で取り扱いが容易であり、経
済的に効率よくトリフェニルボラン・アミン錯体化合物
を製造する方法を提供する。 【解決手段】 一般式（２）： 【化１】 （式中、Ｘはハロゲン原子を示す）で表されるテトラフ
ェニルホウ酸マグネシウムハライドと、一般式（３）： 【化２】 （式中、Ｒは炭素数１〜１８の直鎖または分枝状のアル
キレン基、Ｙは水素原子、ハロゲン原子、または炭素数
１〜１８の直鎖もしくは分枝状のアルコキシル基、Ｚは
ハロゲン原子を示す）で表される第一級アミン塩とを反
応させることを特徴とする一般式（１）： 【化３】 （式中、Ｒ、Ｙは前記と同義である）で表されるトリフ
ェニルボラン・アミン錯体化合物の製造法。
済的に効率よくトリフェニルボラン・アミン錯体化合物
を製造する方法を提供する。 【解決手段】 一般式（２）： 【化１】 （式中、Ｘはハロゲン原子を示す）で表されるテトラフ
ェニルホウ酸マグネシウムハライドと、一般式（３）： 【化２】 （式中、Ｒは炭素数１〜１８の直鎖または分枝状のアル
キレン基、Ｙは水素原子、ハロゲン原子、または炭素数
１〜１８の直鎖もしくは分枝状のアルコキシル基、Ｚは
ハロゲン原子を示す）で表される第一級アミン塩とを反
応させることを特徴とする一般式（１）： 【化３】 （式中、Ｒ、Ｙは前記と同義である）で表されるトリフ
ェニルボラン・アミン錯体化合物の製造法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、漁網防汚剤、船底
塗料、工業用防腐防黴剤または動物忌避剤などの有効成
分として有用なトリフェニルボラン・アミン錯体化合物
の製造法に関する。
塗料、工業用防腐防黴剤または動物忌避剤などの有効成
分として有用なトリフェニルボラン・アミン錯体化合物
の製造法に関する。
【０００２】
【従来の技術】ベリヒテ、第５７巻、８１３頁（１９２
４年）、米国特許第３２１１６７９号明細書には、トリ
フェニルボランの無水エーテル溶液を調製し、窒素気流
下、種々のアミンと反応させることにより、相当するト
リフェニルボラン・アミン錯体化合物を合成する方法が
記載されている。この方法では、高価で非常に引火性の
高いエーテルを使用すること、および原料のトリフェニ
ルボランは不安定で可燃性の固体であるため、工業的ス
ケールでの多量の取り扱いは、危険であるなどの問題が
ある。
４年）、米国特許第３２１１６７９号明細書には、トリ
フェニルボランの無水エーテル溶液を調製し、窒素気流
下、種々のアミンと反応させることにより、相当するト
リフェニルボラン・アミン錯体化合物を合成する方法が
記載されている。この方法では、高価で非常に引火性の
高いエーテルを使用すること、および原料のトリフェニ
ルボランは不安定で可燃性の固体であるため、工業的ス
ケールでの多量の取り扱いは、危険であるなどの問題が
ある。
【０００３】特開平８−３１１０７４号公報には、トリ
フェニルボランの水酸化ナトリウム付加体を水溶液中で
アミンと反応させることにより、トリフェニルボラン・
アミン錯体化合物を製造する方法が記載されているが、
原料となるトリフェニルボランの水酸化ナトリウム付加
体の前駆体として不安定なトリフェニルボランを経由し
なければならないなどの問題がある。
フェニルボランの水酸化ナトリウム付加体を水溶液中で
アミンと反応させることにより、トリフェニルボラン・
アミン錯体化合物を製造する方法が記載されているが、
原料となるトリフェニルボランの水酸化ナトリウム付加
体の前駆体として不安定なトリフェニルボランを経由し
なければならないなどの問題がある。
【０００４】ジャーナル・オブ・オーガノメタリック・
ケミストリー、第８巻、４１１頁（１９６７年）には、
テトラフェニルホウ酸アルカリ金属塩とアミンのハロゲ
ン化水素酸塩を反応させることによりトリフェニルボラ
ン・アミン錯体化合物を製造する方法が記載されてい
る。また、特開平１１−２９２８８３号公報には、テト
ラフェニルホウ酸アルカリ金属塩とアミンを反応させる
ことによりトリフェニルボラン・アミン錯体化合物を製
造する方法が記載されている。これらの製造方法では、
不安定なトリフェニルボランの代わりに、安定なテトラ
フェニルホウ酸アルカリ金属塩を使用するが、いずれの
場合もテトラフェニルホウ酸アルカリ金属塩を製造し、
単離する必要があり、工程が長くなるなど経済的な製造
法ではない。
ケミストリー、第８巻、４１１頁（１９６７年）には、
テトラフェニルホウ酸アルカリ金属塩とアミンのハロゲ
ン化水素酸塩を反応させることによりトリフェニルボラ
ン・アミン錯体化合物を製造する方法が記載されてい
る。また、特開平１１−２９２８８３号公報には、テト
ラフェニルホウ酸アルカリ金属塩とアミンを反応させる
ことによりトリフェニルボラン・アミン錯体化合物を製
造する方法が記載されている。これらの製造方法では、
不安定なトリフェニルボランの代わりに、安定なテトラ
フェニルホウ酸アルカリ金属塩を使用するが、いずれの
場合もテトラフェニルホウ酸アルカリ金属塩を製造し、
単離する必要があり、工程が長くなるなど経済的な製造
法ではない。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】従来技術におけるトリ
フェニルボラン・アミン錯体化合物の製造法は上記のよ
うな問題点を有するため、火災などの危険性がなく安全
に取り扱え、しかも簡単な工程で経済的、且つ工業的に
有利な製造法が切望されている。本発明の目的は、出発
原料が安定で取り扱いが容易であり、経済的に効率よく
トリフェニルボラン・アミン錯体化合物を製造する方法
を提供することにある。
フェニルボラン・アミン錯体化合物の製造法は上記のよ
うな問題点を有するため、火災などの危険性がなく安全
に取り扱え、しかも簡単な工程で経済的、且つ工業的に
有利な製造法が切望されている。本発明の目的は、出発
原料が安定で取り扱いが容易であり、経済的に効率よく
トリフェニルボラン・アミン錯体化合物を製造する方法
を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記した
従来のトリフェニルボラン・アミン錯体化合物の製造上
の諸欠点を克服するために鋭意研究に努力した結果、反
応中間体であるテトラフェニルホウ酸マグネシウムハラ
イドを単離することなく、直接反応に用いることによ
り、トリフェニルボラン・アミン錯体化合物をワンポッ
トで合成できる工業的に有利な方法を見いだし、本発明
を完成させるに至った。
従来のトリフェニルボラン・アミン錯体化合物の製造上
の諸欠点を克服するために鋭意研究に努力した結果、反
応中間体であるテトラフェニルホウ酸マグネシウムハラ
イドを単離することなく、直接反応に用いることによ
り、トリフェニルボラン・アミン錯体化合物をワンポッ
トで合成できる工業的に有利な方法を見いだし、本発明
を完成させるに至った。
【０００７】すなわち本発明は、つぎのトリフェニルボ
ラン・アミン錯体化合物の製造法を提供する。 （１）一般式（２）：
ラン・アミン錯体化合物の製造法を提供する。 （１）一般式（２）：
【０００８】
【化４】
【０００９】（式中、Ｘはハロゲン原子を示す）で表さ
れるテトラフェニルホウ酸マグネシウムハライドと、一
般式（３）：
れるテトラフェニルホウ酸マグネシウムハライドと、一
般式（３）：
【００１０】
【化５】
【００１１】（式中、Ｒは炭素数１〜１８の直鎖または
分枝状のアルキレン基、Ｙは水素原子、ハロゲン原子、
または炭素数１〜１８の直鎖もしくは分枝状のアルコキ
シル基、Ｚはハロゲン原子を示す）で表される第一級ア
ミン塩とを反応させることを特徴とする一般式（１）：
分枝状のアルキレン基、Ｙは水素原子、ハロゲン原子、
または炭素数１〜１８の直鎖もしくは分枝状のアルコキ
シル基、Ｚはハロゲン原子を示す）で表される第一級ア
ミン塩とを反応させることを特徴とする一般式（１）：
【００１２】
【化６】
【００１３】（式中、Ｒ、Ｙは前記と同義である）で表
されるトリフェニルボラン・アミン錯体化合物の製造
法。 （２）テトラフェニルホウ酸マグネシウムハライドがテ
トラフェニルホウ酸マグネシウムクロライドである前記
（１）記載の製造法。 （３）一般式（３）において、Ｒが炭素数１〜８の直鎖
または分枝状のアルキレン基、Ｙが炭素数１〜１８の直
鎖または分枝状のアルコキシル基である第一級アミン塩
を用いる前記（１）または（２）記載の製造法。 （４）一般式（３）において、Ｒがトリメチレン基、Ｙ
がブトキシ基、２−エチルヘキシルオキシ基またはラウ
リルオキシ基である第一級アミン塩を用いる前記（１）
〜（３）のいずれかに記載の製造法。
されるトリフェニルボラン・アミン錯体化合物の製造
法。 （２）テトラフェニルホウ酸マグネシウムハライドがテ
トラフェニルホウ酸マグネシウムクロライドである前記
（１）記載の製造法。 （３）一般式（３）において、Ｒが炭素数１〜８の直鎖
または分枝状のアルキレン基、Ｙが炭素数１〜１８の直
鎖または分枝状のアルコキシル基である第一級アミン塩
を用いる前記（１）または（２）記載の製造法。 （４）一般式（３）において、Ｒがトリメチレン基、Ｙ
がブトキシ基、２−エチルヘキシルオキシ基またはラウ
リルオキシ基である第一級アミン塩を用いる前記（１）
〜（３）のいずれかに記載の製造法。
【００１４】
【発明の実施の形態】本発明においては、一般式（２）
で表されるテトラフェニルホウ酸マグネシウムハライド
と、一般式（３）で表される第一級アミン塩とを反応さ
せて、一般式（１）で表されるトリフェニルボラン・ア
ミン錯体化合物を製造する。
で表されるテトラフェニルホウ酸マグネシウムハライド
と、一般式（３）で表される第一級アミン塩とを反応さ
せて、一般式（１）で表されるトリフェニルボラン・ア
ミン錯体化合物を製造する。
【００１５】本発明で用いられるテトラフェニルホウ酸
マグネシウムハライドは一般式（２）：
マグネシウムハライドは一般式（２）：
【００１６】
【化７】
【００１７】（式中、Ｘはハロゲン原子を示す。）で表
されるものである。Ｘで表されるハロゲン原子として
は、塩素原子、臭素原子などがあげられる。一般式
（２）で表されるテトラフェニルホウ酸マグネシウムハ
ライドの具体例としては、テトラフェニルホウ酸マグネ
シウムクロライド、テトラフェニルホウ酸マグネシウム
ブロマイドなどがあげられる。
されるものである。Ｘで表されるハロゲン原子として
は、塩素原子、臭素原子などがあげられる。一般式
（２）で表されるテトラフェニルホウ酸マグネシウムハ
ライドの具体例としては、テトラフェニルホウ酸マグネ
シウムクロライド、テトラフェニルホウ酸マグネシウム
ブロマイドなどがあげられる。
【００１８】一般式（２）で表されるテトラフェニルホ
ウ酸マグネシウムハライドは、三フッ化ホウ素のエーテ
ル錯体とフェニルマグネシウムクロライドやフェニルマ
グネシウムブロマイドなどのフェニルマグネシウムハラ
イドとをテトラヒドロフランなどの不活性溶媒中で反応
させることにより容易に製造できる。この反応により得
られたテトラフェニルホウ酸マグネシウムハライドを含
有する反応混合液は、テトラフェニルホウ酸マグネシウ
ムハライドを単離することなく、そのままつぎの工程で
使用できる。前記反応で使用される溶媒としては、テト
ラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、１，４−ジオキ
サンなどが単独でまたは２種以上を混合して使用できる
が、これらに炭化水素系溶媒、例えばベンゼン、トルエ
ン、キシレンなどを加えて混合溶媒として用いてもよ
い。
ウ酸マグネシウムハライドは、三フッ化ホウ素のエーテ
ル錯体とフェニルマグネシウムクロライドやフェニルマ
グネシウムブロマイドなどのフェニルマグネシウムハラ
イドとをテトラヒドロフランなどの不活性溶媒中で反応
させることにより容易に製造できる。この反応により得
られたテトラフェニルホウ酸マグネシウムハライドを含
有する反応混合液は、テトラフェニルホウ酸マグネシウ
ムハライドを単離することなく、そのままつぎの工程で
使用できる。前記反応で使用される溶媒としては、テト
ラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、１，４−ジオキ
サンなどが単独でまたは２種以上を混合して使用できる
が、これらに炭化水素系溶媒、例えばベンゼン、トルエ
ン、キシレンなどを加えて混合溶媒として用いてもよ
い。
【００１９】本発明の方法では、つぎに前記テトラフェ
ニルホウ酸マグネシウムハライド（該化合物を含有する
反応混合物）と、一般式（３）で表される第一級アミン
塩の水溶液との反応により、目的とする一般式（１）で
表されるトリフェニルボラン・アミン錯体化合物を得
る。
ニルホウ酸マグネシウムハライド（該化合物を含有する
反応混合物）と、一般式（３）で表される第一級アミン
塩の水溶液との反応により、目的とする一般式（１）で
表されるトリフェニルボラン・アミン錯体化合物を得
る。
【００２０】一般式（３）で表される第一級アミン塩
は、水と第一級アミンの混合物に、化学量論的にほぼ等
量の塩酸水、臭化水素酸水などのハロゲン化水素酸水を
徐々に加えることにより、容易に合成できる。また、ア
ミンが固体の場合は溶融温度まで加熱後、ハロゲン化水
素酸水を滴下するのが好ましい。
は、水と第一級アミンの混合物に、化学量論的にほぼ等
量の塩酸水、臭化水素酸水などのハロゲン化水素酸水を
徐々に加えることにより、容易に合成できる。また、ア
ミンが固体の場合は溶融温度まで加熱後、ハロゲン化水
素酸水を滴下するのが好ましい。
【００２１】テトラフェニルホウ酸マグネシウムハライ
ドに対する一般式（３）で表されるアミン塩の使用量
は、テトラフェニルホウ酸マグネシウムハライドの使用
量に対して８０〜１２０モル％の範囲が好ましく、より
好ましくは８５〜９０モル％である。
ドに対する一般式（３）で表されるアミン塩の使用量
は、テトラフェニルホウ酸マグネシウムハライドの使用
量に対して８０〜１２０モル％の範囲が好ましく、より
好ましくは８５〜９０モル％である。
【００２２】テトラフェニルホウ酸マグネシウムハライ
ドと一般式（３）で表されるアミン塩との反応は、テト
ラフェニルホウ酸マグネシウムハライド（該化合物を含
有する反応混合液）に、一般式（３）で表されるアミン
塩の水溶液を、４０℃以下を保ちながら徐々に加え、添
加終了後、４０℃以下でさらに反応させることによって
行うことができる。反応時間は、３０分間から２４時間
程度である。得られた反応混合物の後処理は適宜の方法
で行うことができるが、たとえば、反応混合物から有機
層をデカンテーションにより分離、採取し、溶媒を留去
後キシレンに置き換え、水洗し、脱水した後にキシレン
を減圧で留去することにより、目的とする一般式（１）
で表されるトリフェニルボラン・アミン錯体化合物を得
ることができる。
ドと一般式（３）で表されるアミン塩との反応は、テト
ラフェニルホウ酸マグネシウムハライド（該化合物を含
有する反応混合液）に、一般式（３）で表されるアミン
塩の水溶液を、４０℃以下を保ちながら徐々に加え、添
加終了後、４０℃以下でさらに反応させることによって
行うことができる。反応時間は、３０分間から２４時間
程度である。得られた反応混合物の後処理は適宜の方法
で行うことができるが、たとえば、反応混合物から有機
層をデカンテーションにより分離、採取し、溶媒を留去
後キシレンに置き換え、水洗し、脱水した後にキシレン
を減圧で留去することにより、目的とする一般式（１）
で表されるトリフェニルボラン・アミン錯体化合物を得
ることができる。
【００２３】つぎに、本発明に用いる第一級アミン塩に
ついて詳しく説明する。本発明に用いる第一級アミン塩
は一般式（３）：
ついて詳しく説明する。本発明に用いる第一級アミン塩
は一般式（３）：
【００２４】
【化８】
【００２５】（式中、Ｒは炭素数１〜１８の直鎖または
分枝状のアルキレン基、Ｙは水素原子、ハロゲン原子、
または炭素数１〜１８の直鎖もしくは分枝状のアルコキ
シル基、Ｚはハロゲン原子を示す）で表されるものであ
る。
分枝状のアルキレン基、Ｙは水素原子、ハロゲン原子、
または炭素数１〜１８の直鎖もしくは分枝状のアルコキ
シル基、Ｚはハロゲン原子を示す）で表されるものであ
る。
【００２６】一般式（３）において、Ｒで表される炭素
数１〜１８の直鎖または分枝状アルキレン基としては、
例えば、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、プ
ロピレン基、テトラメチレン基、２−メチルトリメチレ
ン基、１，１−ジメチルエチレン基、１，２−ジメチル
エチレン基、１−エチルエチレン基、ペンタメチレン
基、ヘキサメチレン基、１−ブチルエチレン基、オクタ
メチレン基、２−エチルヘキサメチレン基、デカメチレ
ン基、ドデカメチレン基、テトラデカメチレン基、ヘキ
サデカメチレン基、オクタデカメチレン基などがあげら
れる。アミン塩の溶剤への溶解性、性状などの点から、
炭素数１〜８の直鎖または分枝状アルキレン基が好まし
い。Ｙで表される官能基のうちハロゲン原子としては、
塩素、臭素、ヨウ素などがあげられる。炭素数１〜１８
の直鎖もしくは分枝状のアルコキシル基としては、メト
キシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピル
オキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ―ブト
キシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘ
キシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ
基、２−エチルヘキシルオキシ基、ノニルオキシ基、デ
シルオキシ基、ウンデシルオキシ基、ラウリルオキシ
基、トリデシルオキシ基、テトラデシルオキシ基、ペン
タデシルオキシ基、ヘキサデシルオキシ基、ヘプタデシ
ルオキシ基、ステアリルオキシ基などがあげられる。Ｙ
で表される官能基としては、アミン塩の溶剤への溶解
性、性状などの点から、炭素数１〜１８の直鎖または分
枝状のアルコキシル基が好ましく、とくに好ましくは炭
素数４〜１２の直鎖または分枝状のアルコキシル基であ
る。Ｚで表されるハロゲン原子としては、塩素、臭素な
どがあげられる。
数１〜１８の直鎖または分枝状アルキレン基としては、
例えば、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、プ
ロピレン基、テトラメチレン基、２−メチルトリメチレ
ン基、１，１−ジメチルエチレン基、１，２−ジメチル
エチレン基、１−エチルエチレン基、ペンタメチレン
基、ヘキサメチレン基、１−ブチルエチレン基、オクタ
メチレン基、２−エチルヘキサメチレン基、デカメチレ
ン基、ドデカメチレン基、テトラデカメチレン基、ヘキ
サデカメチレン基、オクタデカメチレン基などがあげら
れる。アミン塩の溶剤への溶解性、性状などの点から、
炭素数１〜８の直鎖または分枝状アルキレン基が好まし
い。Ｙで表される官能基のうちハロゲン原子としては、
塩素、臭素、ヨウ素などがあげられる。炭素数１〜１８
の直鎖もしくは分枝状のアルコキシル基としては、メト
キシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピル
オキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ―ブト
キシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘ
キシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ
基、２−エチルヘキシルオキシ基、ノニルオキシ基、デ
シルオキシ基、ウンデシルオキシ基、ラウリルオキシ
基、トリデシルオキシ基、テトラデシルオキシ基、ペン
タデシルオキシ基、ヘキサデシルオキシ基、ヘプタデシ
ルオキシ基、ステアリルオキシ基などがあげられる。Ｙ
で表される官能基としては、アミン塩の溶剤への溶解
性、性状などの点から、炭素数１〜１８の直鎖または分
枝状のアルコキシル基が好ましく、とくに好ましくは炭
素数４〜１２の直鎖または分枝状のアルコキシル基であ
る。Ｚで表されるハロゲン原子としては、塩素、臭素な
どがあげられる。
【００２７】本発明で用いる一般式（３）で表されるア
ミン塩のうち好ましいものとしては、３−ブトキシプロ
ピルアミン塩酸塩、３−（２−エチルヘキシルオキシ）
プロピルアミン塩酸塩、３−ラウリルオキシプロピルア
ミン塩酸塩、３−ステアリルオキシプロピルアミン塩酸
塩、３−ブトキシプロピルアミン臭化水素酸塩、３−
（２−エチルヘキシルオキシ）プロピルアミン臭化水素
酸塩、３−ラウリルオキシプロピルアミン臭化水素酸
塩、３−ステアリルオキシプロピルアミン臭化水素酸塩
などがあげられる。
ミン塩のうち好ましいものとしては、３−ブトキシプロ
ピルアミン塩酸塩、３−（２−エチルヘキシルオキシ）
プロピルアミン塩酸塩、３−ラウリルオキシプロピルア
ミン塩酸塩、３−ステアリルオキシプロピルアミン塩酸
塩、３−ブトキシプロピルアミン臭化水素酸塩、３−
（２−エチルヘキシルオキシ）プロピルアミン臭化水素
酸塩、３−ラウリルオキシプロピルアミン臭化水素酸
塩、３−ステアリルオキシプロピルアミン臭化水素酸塩
などがあげられる。
【００２８】本発明の目的化合物であるトリフェニルボ
ラン・アミン錯体化合物は一般式（１）：
ラン・アミン錯体化合物は一般式（１）：
【００２９】
【化９】
【００３０】で表されるものである。一般式（１）にお
けるＲおよびＹは、一般式（３）と同じものである。一
般式（１）で表される目的化合物のうち好ましいものと
しては、トリフェニルボラン・３−ブトキシプロピルア
ミン錯体化合物、トリフェニルボラン・３−（２−エチ
ルヘキシルオキシ）プロピルアミン錯体化合物、トリフ
ェニルボラン・３−ラウリルオキシプロピルアミン錯体
化合物、トリフェニルボラン・３−ステアリルオキシプ
ロピルアミン錯体化合物などがあげられる。
けるＲおよびＹは、一般式（３）と同じものである。一
般式（１）で表される目的化合物のうち好ましいものと
しては、トリフェニルボラン・３−ブトキシプロピルア
ミン錯体化合物、トリフェニルボラン・３−（２−エチ
ルヘキシルオキシ）プロピルアミン錯体化合物、トリフ
ェニルボラン・３−ラウリルオキシプロピルアミン錯体
化合物、トリフェニルボラン・３−ステアリルオキシプ
ロピルアミン錯体化合物などがあげられる。
【００３１】
【実施例】以下、本発明を実施例により詳述するが、本
発明はこれにより何ら限定されるものではない。
発明はこれにより何ら限定されるものではない。
【００３２】実施例１ （トリフェニルボラン・３−（２−エチルヘキシルオキ
シ）プロピルアミン錯体化合物の製造）還流冷却器、温
度計、窒素導入管および攪拌機を取り付けた１リットル
の四ツ口フラスコに切片状マグネシウム１６．８ｇ
（０．６９ｍｏｌ）を仕込み、窒素導入管より窒素を導
入しながら加熱し、マグネシウムを活性化した。冷却
後、滴下ロートよりクロロベンゼン７４．３ｇ（０．６
６ｍｏｌ）を脱水テトラヒドロフラン１４２．８ｇ、ベ
ンゼン６１．２ｇに溶解した溶液を、少量滴下し加熱し
た。反応の開始を確認後、おだやかに還流する速度で、
滴下を続けた。滴下終了後、２時間加熱還流を行った。
このようにして製造したフェニルマグネシウムクロライ
ドのグリニヤール試薬を室温まで冷却し、ついで滴下ロ
ートより、三フッ化ホウ素のエーテル錯体２０．７ｇ
（０．１５ｍｏｌ）を、４０℃以下に保ちながら滴下し
た。滴下終了後、３０〜４０℃で２時間反応を行った。
反応終了後室温まで冷却し、別途調製した３−（２−エ
チルヘキシルオキシ）プロピルアミン（広栄化学工業
（株）製）２４．６ｇ（０．１３ｍｏｌ）、水３００ｇ
および濃塩酸１３．３ｇ（０．１３ｍｏｌ）の溶液を４
０℃以下で滴下した。滴下終了後３０分間撹拌した後、
有機層と水層に分離させ、有機層をデカンテーションに
より採取した。残りの水層にテトラヒドロフラン１２８
ｇ、ベンゼン５５ｇを加え撹拌して静置し、有機層をデ
カンテーションにより採取した。この有機層を先の有機
層と合わせ、溶媒を減圧留去した。濃縮物にキシレン１
９０ｇを加え、７０ｇの水で３回洗浄した。このキシレ
ン溶液を共沸脱水後、ろ過、濃縮して茶色アメ状固化物
５７．６ｇを得た。これをメタノールから再結晶して精
製品４３．０ｇ（収率７７％、第一級アミンの仕込み量
に基づく値、以下同様）を得た。精製品のＩＲ（赤外吸
収スペクトル）分析により、トリフェニルボラン・３−
（２−エチルヘキシルオキシ）プロピルアミン錯体化合
物であることを確認した。
シ）プロピルアミン錯体化合物の製造）還流冷却器、温
度計、窒素導入管および攪拌機を取り付けた１リットル
の四ツ口フラスコに切片状マグネシウム１６．８ｇ
（０．６９ｍｏｌ）を仕込み、窒素導入管より窒素を導
入しながら加熱し、マグネシウムを活性化した。冷却
後、滴下ロートよりクロロベンゼン７４．３ｇ（０．６
６ｍｏｌ）を脱水テトラヒドロフラン１４２．８ｇ、ベ
ンゼン６１．２ｇに溶解した溶液を、少量滴下し加熱し
た。反応の開始を確認後、おだやかに還流する速度で、
滴下を続けた。滴下終了後、２時間加熱還流を行った。
このようにして製造したフェニルマグネシウムクロライ
ドのグリニヤール試薬を室温まで冷却し、ついで滴下ロ
ートより、三フッ化ホウ素のエーテル錯体２０．７ｇ
（０．１５ｍｏｌ）を、４０℃以下に保ちながら滴下し
た。滴下終了後、３０〜４０℃で２時間反応を行った。
反応終了後室温まで冷却し、別途調製した３−（２−エ
チルヘキシルオキシ）プロピルアミン（広栄化学工業
（株）製）２４．６ｇ（０．１３ｍｏｌ）、水３００ｇ
および濃塩酸１３．３ｇ（０．１３ｍｏｌ）の溶液を４
０℃以下で滴下した。滴下終了後３０分間撹拌した後、
有機層と水層に分離させ、有機層をデカンテーションに
より採取した。残りの水層にテトラヒドロフラン１２８
ｇ、ベンゼン５５ｇを加え撹拌して静置し、有機層をデ
カンテーションにより採取した。この有機層を先の有機
層と合わせ、溶媒を減圧留去した。濃縮物にキシレン１
９０ｇを加え、７０ｇの水で３回洗浄した。このキシレ
ン溶液を共沸脱水後、ろ過、濃縮して茶色アメ状固化物
５７．６ｇを得た。これをメタノールから再結晶して精
製品４３．０ｇ（収率７７％、第一級アミンの仕込み量
に基づく値、以下同様）を得た。精製品のＩＲ（赤外吸
収スペクトル）分析により、トリフェニルボラン・３−
（２−エチルヘキシルオキシ）プロピルアミン錯体化合
物であることを確認した。
【００３３】実施例２ （トリフェニルボラン・３−ブトキシプロピルアミン錯
体化合物の製造）実施例１において、クロロベンゼンに
代えてブロモベンゼン１０３．６ｇ（０．６６ｍｏ
ｌ）、ベンゼンに代えてトルエン６１．２ｇ、３−（２
−エチルヘキシルオキシ）プロピルアミンに代えて３−
ブトキシプロピルアミン（広栄化学工業（株）製）１
７．１ｇ（０．１３ｍｏｌ）を用いた以外は実施例１と
同様に反応、処理して、茶色固形物４９．９ｇを得た。
これをメタノールから再結晶して精製品３６．９ｇ（収
率７６％）を得た。精製品のＩＲ（赤外吸収スペクト
ル）分析により、トリフェニルボラン・３−ブトキシプ
ロピルアミン錯体化合物であることを確認した。
体化合物の製造）実施例１において、クロロベンゼンに
代えてブロモベンゼン１０３．６ｇ（０．６６ｍｏ
ｌ）、ベンゼンに代えてトルエン６１．２ｇ、３−（２
−エチルヘキシルオキシ）プロピルアミンに代えて３−
ブトキシプロピルアミン（広栄化学工業（株）製）１
７．１ｇ（０．１３ｍｏｌ）を用いた以外は実施例１と
同様に反応、処理して、茶色固形物４９．９ｇを得た。
これをメタノールから再結晶して精製品３６．９ｇ（収
率７６％）を得た。精製品のＩＲ（赤外吸収スペクト
ル）分析により、トリフェニルボラン・３−ブトキシプ
ロピルアミン錯体化合物であることを確認した。
【００３４】実施例３ （トリフェニルボラン・３−ラウリルオキシプロピルア
ミン錯体化合物の製造）実施例１において、３−（２−
エチルヘキシルオキシ）プロピルアミンに代えて３−ラ
ウリルオキシプロピルアミン（広栄化学工業（株）製）
３１．６ｇ（０．１３ｍｏｌ）を用いた以外は実施例１
と同様に反応、処理して、茶色アメ状固化物６５．１ｇ
を得た。これをメタノールから再結晶して精製品４６．
１ｇ（収率７３％）を得た。精製品のＩＲ（赤外吸収ス
ペクトル）分析により、トリフェニルボラン・３−ラウ
リルオキシプロピルアミン錯体化合物であることを確認
した。
ミン錯体化合物の製造）実施例１において、３−（２−
エチルヘキシルオキシ）プロピルアミンに代えて３−ラ
ウリルオキシプロピルアミン（広栄化学工業（株）製）
３１．６ｇ（０．１３ｍｏｌ）を用いた以外は実施例１
と同様に反応、処理して、茶色アメ状固化物６５．１ｇ
を得た。これをメタノールから再結晶して精製品４６．
１ｇ（収率７３％）を得た。精製品のＩＲ（赤外吸収ス
ペクトル）分析により、トリフェニルボラン・３−ラウ
リルオキシプロピルアミン錯体化合物であることを確認
した。
【００３５】
【発明の効果】漁網防汚剤、船底塗料、工業用防腐防黴
剤または動物忌避剤などの有効成分として有用な化合物
であるトリフェニルボラン・アミン錯体化合物の製造に
おいて、一方の出発物質としてテトラフェニルホウ酸マ
グネシウムハライドを用いることにより、不安定である
トリフェニルボランを原料として用いることなく、ま
た、テトラフェニルホウ酸アルカリ金属塩を製造するこ
となく、経済的、且つ工業的に容易に目的物を製造でき
る。
剤または動物忌避剤などの有効成分として有用な化合物
であるトリフェニルボラン・アミン錯体化合物の製造に
おいて、一方の出発物質としてテトラフェニルホウ酸マ
グネシウムハライドを用いることにより、不安定である
トリフェニルボランを原料として用いることなく、ま
た、テトラフェニルホウ酸アルカリ金属塩を製造するこ
となく、経済的、且つ工業的に容易に目的物を製造でき
る。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 田淵 均 大阪府大阪市東淀川区西淡路３丁目17番14 号 日東化成株式会社内 Ｆターム(参考） 4H006 AA02 AC90 4H048 AA02 AC90 VA30 VA75 VB10
Claims (4)
- 【請求項１】 一般式（２）： 【化１】 （式中、Ｘはハロゲン原子を示す）で表されるテトラフ
ェニルホウ酸マグネシウムハライドと、一般式（３）： 【化２】 （式中、Ｒは炭素数１〜１８の直鎖または分枝状のアル
キレン基、Ｙは水素原子、ハロゲン原子、または炭素数
１〜１８の直鎖もしくは分枝状のアルコキシル基、Ｚは
ハロゲン原子を示す）で表される第一級アミン塩とを反
応させることを特徴とする一般式（１）： 【化３】 （式中、Ｒ、Ｙは前記と同義である）で表されるトリフ
ェニルボラン・アミン錯体化合物の製造法。 - 【請求項２】 テトラフェニルホウ酸マグネシウムハラ
イドがテトラフェニルホウ酸マグネシウムクロライドで
ある請求項１記載の製造法。 - 【請求項３】 一般式（３）において、Ｒが炭素数１〜
８の直鎖または分枝状のアルキレン基、Ｙが炭素数１〜
１８の直鎖または分枝状のアルコキシル基である第一級
アミン塩を用いる請求項１または２記載の製造法。 - 【請求項４】 一般式（３）において、Ｒがトリメチレ
ン基、Ｙがブトキシ基、２−エチルヘキシルオキシ基ま
たはラウリルオキシ基である第一級アミン塩を用いる請
求項１〜３のいずれかに記載の製造法。
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|---|---|---|---|
| JP2001048856A JP3892237B2 (ja) | 2001-02-23 | 2001-02-23 | トリフェニルボラン・アミン錯体化合物の製造法 |
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|---|---|---|---|
| JP2001048856A JP3892237B2 (ja) | 2001-02-23 | 2001-02-23 | トリフェニルボラン・アミン錯体化合物の製造法 |
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|---|---|
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2001
- 2001-02-23 JP JP2001048856A patent/JP3892237B2/ja not_active Expired - Fee Related
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