JP2002255941A - イミダゾール化合物の製造法 - Google Patents
イミダゾール化合物の製造法Info
- Publication number
- JP2002255941A JP2002255941A JP2001059333A JP2001059333A JP2002255941A JP 2002255941 A JP2002255941 A JP 2002255941A JP 2001059333 A JP2001059333 A JP 2001059333A JP 2001059333 A JP2001059333 A JP 2001059333A JP 2002255941 A JP2002255941 A JP 2002255941A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- catalyst
- group
- general formula
- reaction
- noble metal
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
- Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 酸性物質を用いることなく、一段の反応でイ
ミダゾール化合物を製造する方法の提供。 【解決手段】 一般式（１）： 【化１】 （式中、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は同一でも異なっていてもよ
く、それぞれ水素原子、炭素数１〜８の脂肪族炭化水素
残基、炭素数５〜７のシクロアルキル基又はフェニル基
を示す。）で表される１，２−ジアミン化合物とホルム
アミドとを脱水・脱水素能を有する触媒の存在下で気相
接触反応させて一般式（２）： 【化２】 （式中、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は前記に同じ）で表されるイ
ミダゾール化合物を製法する。
ミダゾール化合物を製造する方法の提供。 【解決手段】 一般式（１）： 【化１】 （式中、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は同一でも異なっていてもよ
く、それぞれ水素原子、炭素数１〜８の脂肪族炭化水素
残基、炭素数５〜７のシクロアルキル基又はフェニル基
を示す。）で表される１，２−ジアミン化合物とホルム
アミドとを脱水・脱水素能を有する触媒の存在下で気相
接触反応させて一般式（２）： 【化２】 （式中、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は前記に同じ）で表されるイ
ミダゾール化合物を製法する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、１，２−ジアミン
化合物とホルムアミドとを、脱水・脱水素能を含有する
触媒存在下で気相反応させることによるイミダゾール化
合物の新規製法に関する。
化合物とホルムアミドとを、脱水・脱水素能を含有する
触媒存在下で気相反応させることによるイミダゾール化
合物の新規製法に関する。
【０００２】イミダゾール化合物は、医薬、機能性材料
の分野で広く用いられており、非常に有用な化合物であ
る。また、イミダゾール化合物の中でＮ−アルキルイミ
ダゾールは、現在、グリーンケミストリーの分野におい
て、リサイクル可能な溶媒としての有機イオン性液体の
原料として注目されている化合物である。
の分野で広く用いられており、非常に有用な化合物であ
る。また、イミダゾール化合物の中でＮ−アルキルイミ
ダゾールは、現在、グリーンケミストリーの分野におい
て、リサイクル可能な溶媒としての有機イオン性液体の
原料として注目されている化合物である。
【０００３】
【従来の技術】イミダゾール化合物の製法としては、特
開昭５４−１６４７２号公報において１，２−ジアミン
化合物とカルボン酸とを酸化亜鉛を含有する触媒の存在
下、３００〜６００℃で気相接触反応させることによる
方法が提案されている。
開昭５４−１６４７２号公報において１，２−ジアミン
化合物とカルボン酸とを酸化亜鉛を含有する触媒の存在
下、３００〜６００℃で気相接触反応させることによる
方法が提案されている。
【０００４】また、米国特許第４９２１９６９号明細書
に１，２−ジアミン化合物とカルボン酸をニッケル触媒
の存在下１８０〜２５０℃で反応させて高収率でイミダ
ゾール化合物を製造する方法を提案している。この方法
は最初に１．０ＭＰａ、１４０〜３００℃液相下で１，
２−ジアミン化合物とカルボン酸をアミド化させて、次
いでニッケル触媒を添加して加圧下１８０〜２５０℃で
反応させるという２段階の工程でイミダゾール化合物を
製造している。
に１，２−ジアミン化合物とカルボン酸をニッケル触媒
の存在下１８０〜２５０℃で反応させて高収率でイミダ
ゾール化合物を製造する方法を提案している。この方法
は最初に１．０ＭＰａ、１４０〜３００℃液相下で１，
２−ジアミン化合物とカルボン酸をアミド化させて、次
いでニッケル触媒を添加して加圧下１８０〜２５０℃で
反応させるという２段階の工程でイミダゾール化合物を
製造している。
【０００５】Ｎ−アルキルイミダゾールの製法として
は、イミダゾールをＮａＨ、ＮａＯＨといったアルカリ
条件下、ヨウ化メチルやジクロロメタンを用いたメチル
化により高収率で製造している。［Ｈｅｌｖ．Ｃｈｅ
ｍ．Ａｃｔａ．，４２，１８４５（１９５９）、ＵＳＳ
Ｒ．Ｄｉｖ．Ｃｈｅｍ．，６，１０７８（１９８３）］
は、イミダゾールをＮａＨ、ＮａＯＨといったアルカリ
条件下、ヨウ化メチルやジクロロメタンを用いたメチル
化により高収率で製造している。［Ｈｅｌｖ．Ｃｈｅ
ｍ．Ａｃｔａ．，４２，１８４５（１９５９）、ＵＳＳ
Ｒ．Ｄｉｖ．Ｃｈｅｍ．，６，１０７８（１９８３）］
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】上記従来法において、
１，２−ジアミン化合物とカルボン酸との酸化亜鉛触媒
存在下での気相接触反応によるイミダゾール化合物の製
法では、３００〜６００℃という高温下の反応で酸性物
質であるカルボン酸を用いるので、高価な耐食性装置が
必要となる。
１，２−ジアミン化合物とカルボン酸との酸化亜鉛触媒
存在下での気相接触反応によるイミダゾール化合物の製
法では、３００〜６００℃という高温下の反応で酸性物
質であるカルボン酸を用いるので、高価な耐食性装置が
必要となる。
【０００７】液相下でのイミダゾール化合物の製法にお
いては、高収率でイミダゾール化合物を生成している
が、一段階として１，２−ジアミン化合物とカルボン酸
を無触媒でアミド化させ、二段階としてアミド化させた
原料にニッケル触媒添加して加圧下で反応するという二
段階の工程での製法であり、工業的に生産性が良好とは
言い難い。
いては、高収率でイミダゾール化合物を生成している
が、一段階として１，２−ジアミン化合物とカルボン酸
を無触媒でアミド化させ、二段階としてアミド化させた
原料にニッケル触媒添加して加圧下で反応するという二
段階の工程での製法であり、工業的に生産性が良好とは
言い難い。
【０００８】またＮ−アルキルイミダゾールの製法にお
いては、ヨウ化メチルやジクロロメタンなど用いたイミ
ダゾールのメチル化により製造している。しかし、ヨウ
化メチルやジクロロメタンは取り扱いが困難であり、高
価である。本発明の目的は、酸性物質を用いることな
く、一段の反応でイミダゾール化合物を製造する方法の
提供にある。
いては、ヨウ化メチルやジクロロメタンなど用いたイミ
ダゾールのメチル化により製造している。しかし、ヨウ
化メチルやジクロロメタンは取り扱いが困難であり、高
価である。本発明の目的は、酸性物質を用いることな
く、一段の反応でイミダゾール化合物を製造する方法の
提供にある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明者は、上記の目的
を達成するために鋭意検討を行った結果、１，２−ジア
ミン化合物とホルムアミドとを脱水・脱水素能を含有す
る触媒存在下で反応させることによる、イミダゾール化
合物の新規な製造法を見いだし、本発明を完成させるに
至った。
を達成するために鋭意検討を行った結果、１，２−ジア
ミン化合物とホルムアミドとを脱水・脱水素能を含有す
る触媒存在下で反応させることによる、イミダゾール化
合物の新規な製造法を見いだし、本発明を完成させるに
至った。
【００１０】すなわち本発明は、一般式（１）：
【００１１】
【化３】 （式中、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は同一でも異なっていてもよ
く、それぞれ水素原子、炭素数１〜８の脂肪族炭化水素
残基、炭素数５〜７のシクロアルキル基又はフェニル基
を示す。）で表される１，２−ジアミン化合物とホルム
アミドとを脱水・脱水素能を有する触媒の存在下で気相
接触反応させることを特徴とする一般式（２）：
く、それぞれ水素原子、炭素数１〜８の脂肪族炭化水素
残基、炭素数５〜７のシクロアルキル基又はフェニル基
を示す。）で表される１，２−ジアミン化合物とホルム
アミドとを脱水・脱水素能を有する触媒の存在下で気相
接触反応させることを特徴とする一般式（２）：
【００１２】
【化４】 （式中、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は前記に同じ）で表されるイ
ミダゾール化合物の製法に関する。本発明によれば、酸
性物質を用いることなく、一段の反応でイミダゾール化
合物が製造できるので、工業的に有利な、イミダゾール
化合物の製法が提供される。
ミダゾール化合物の製法に関する。本発明によれば、酸
性物質を用いることなく、一段の反応でイミダゾール化
合物が製造できるので、工業的に有利な、イミダゾール
化合物の製法が提供される。
【００１３】
【発明の実施の形態】以下、本発明を具体的に説明す
る。一般式（１）及び（２）において、式中、Ｒ1、Ｒ2
及びＲ3で示される炭素数１〜８の脂肪族炭化水素残基
及び炭素数５〜７のシクロアルキル基またフェニル基は
具体的には以下の通りである。炭素数１〜８の脂肪族炭
化水素残基としては、炭素数１〜８の直鎖又は分岐鎖状
アルキル基、炭素数２〜８の直鎖又は分岐鎖状の不飽和
炭化水素類等が挙げられる。炭素数１〜８の直鎖又は分
岐鎖状アルキル基の具体例にはメチル基、エチル基、プ
ロピル基、ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、イソブチル
基、ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基等が
挙げられる。炭素数２〜８の直鎖又は分岐鎖状の不飽和
炭化水素類の具体例にはビニル基、１−プロペニル基、
２−プロペニル基、イソプロペニル基、１−ブテニル
基、２−ブテニル基、エチニル基、１−プロピニル基、
２−プロペニル基等が挙げられる。炭素数１〜８の脂肪
族炭化水素残基としては、炭素数１〜８の直鎖又は分岐
鎖状アルキル基が好ましく、メチル基及びエチル基が特
に好ましい。
る。一般式（１）及び（２）において、式中、Ｒ1、Ｒ2
及びＲ3で示される炭素数１〜８の脂肪族炭化水素残基
及び炭素数５〜７のシクロアルキル基またフェニル基は
具体的には以下の通りである。炭素数１〜８の脂肪族炭
化水素残基としては、炭素数１〜８の直鎖又は分岐鎖状
アルキル基、炭素数２〜８の直鎖又は分岐鎖状の不飽和
炭化水素類等が挙げられる。炭素数１〜８の直鎖又は分
岐鎖状アルキル基の具体例にはメチル基、エチル基、プ
ロピル基、ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、イソブチル
基、ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基等が
挙げられる。炭素数２〜８の直鎖又は分岐鎖状の不飽和
炭化水素類の具体例にはビニル基、１−プロペニル基、
２−プロペニル基、イソプロペニル基、１−ブテニル
基、２−ブテニル基、エチニル基、１−プロピニル基、
２−プロペニル基等が挙げられる。炭素数１〜８の脂肪
族炭化水素残基としては、炭素数１〜８の直鎖又は分岐
鎖状アルキル基が好ましく、メチル基及びエチル基が特
に好ましい。
【００１４】Ｒ、Ｒ1及びＲ2で示される炭素数５〜７の
シクロアルキル基またはフェニル基の具体例にはシクロ
ペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、メ
チルシクロペンチル基、エチルシクロペンチル基、メチ
ルシクロヘキシル基、フェニル基、ベンジル基、トリル
基等が挙げられる。炭素数５〜７のシクロアルキル基ま
たはフェニル基としてはシクロペンチル基、シクロヘキ
シル基、メチルシクロペンチル基、メチルシクロヘキシ
ル基、フェニル基が好ましい。
シクロアルキル基またはフェニル基の具体例にはシクロ
ペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、メ
チルシクロペンチル基、エチルシクロペンチル基、メチ
ルシクロヘキシル基、フェニル基、ベンジル基、トリル
基等が挙げられる。炭素数５〜７のシクロアルキル基ま
たはフェニル基としてはシクロペンチル基、シクロヘキ
シル基、メチルシクロペンチル基、メチルシクロヘキシ
ル基、フェニル基が好ましい。
【００１５】本発明に使用される一般式（１）で表され
る１，２−ジアミン化合物は、具体的には、エチレンジ
アミン、１，２−プロパンジアミン、１，２−ブタンジ
アミン、１，２−ペンタンジアミン、１，２−ヘプタン
ジアミン、１，２−オクタンジアミン、１，２−ｎ−ノ
ニレンジアミン、１，２−ｎ−デシレンジアミン、Ｎ−
メチルエチレンジアミン、Ｎ−エチルエチレンジアミ
ン、Ｎ−プロピルエチレンジアミン、Ｎ−イソプロピル
エチレンジアミン、Ｎ−ブチルエチレンジアミン、Ｎ−
ペンチルエチレンジアミン、Ｎ−フェニルエチレンジア
ミンが例示される。
る１，２−ジアミン化合物は、具体的には、エチレンジ
アミン、１，２−プロパンジアミン、１，２−ブタンジ
アミン、１，２−ペンタンジアミン、１，２−ヘプタン
ジアミン、１，２−オクタンジアミン、１，２−ｎ−ノ
ニレンジアミン、１，２−ｎ−デシレンジアミン、Ｎ−
メチルエチレンジアミン、Ｎ−エチルエチレンジアミ
ン、Ｎ−プロピルエチレンジアミン、Ｎ−イソプロピル
エチレンジアミン、Ｎ−ブチルエチレンジアミン、Ｎ−
ペンチルエチレンジアミン、Ｎ−フェニルエチレンジア
ミンが例示される。
【００１６】原料のホルムアミドの使用量は、一般式
（１）で表される１，２−ジアミン化合物に対し１〜１
０モル倍が好ましく、２〜５モル倍が更に好ましい。
（１）で表される１，２−ジアミン化合物に対し１〜１
０モル倍が好ましく、２〜５モル倍が更に好ましい。
【００１７】本発明に使用される脱水・脱水素能を有す
る触媒とは、脱水反応及び脱水素反応に触媒として利用
できるものであれば特に制限するものではない。好まし
い触媒としては、貴金属触媒が挙げられる。貴金属とし
てはＰｄ、Ｐｔ、Ｒｈ及びＲｕからなる群から選ばれる
少なくとも一種の貴金属が通常使用される。これらの貴
金属の中で、Ｐｄ、Ｐｔが反応性が高く好ましい。更に
好ましくはＰｄであり、極少量で反応を進行させること
ができる。
る触媒とは、脱水反応及び脱水素反応に触媒として利用
できるものであれば特に制限するものではない。好まし
い触媒としては、貴金属触媒が挙げられる。貴金属とし
てはＰｄ、Ｐｔ、Ｒｈ及びＲｕからなる群から選ばれる
少なくとも一種の貴金属が通常使用される。これらの貴
金属の中で、Ｐｄ、Ｐｔが反応性が高く好ましい。更に
好ましくはＰｄであり、極少量で反応を進行させること
ができる。
【００１８】貴金属触媒としては、貴金属粉末そのもの
でもよいが、担体に担持された貴金属粉末が好ましい。
担体としては、アルミナ、シリカ、炭素等が挙げられ、
アルミナが好ましい。貴金属が担体に担持されてなる貴
金属触媒は、貴金属を好ましくは０．１〜１０．０重量
％、更に好ましくは０．１〜５．０重量％含有する。
でもよいが、担体に担持された貴金属粉末が好ましい。
担体としては、アルミナ、シリカ、炭素等が挙げられ、
アルミナが好ましい。貴金属が担体に担持されてなる貴
金属触媒は、貴金属を好ましくは０．１〜１０．０重量
％、更に好ましくは０．１〜５．０重量％含有する。
【００１９】本発明の貴金属触媒の調製原料としては、
貴金属の錯体、酢酸塩、炭酸塩、ハロゲン化物、水酸化
物、硝酸塩、燐酸塩、硫酸塩、蓚酸塩、乳酸塩及び蟻酸
塩等の様々な貴金属化合物を使用することができる。
貴金属の錯体、酢酸塩、炭酸塩、ハロゲン化物、水酸化
物、硝酸塩、燐酸塩、硫酸塩、蓚酸塩、乳酸塩及び蟻酸
塩等の様々な貴金属化合物を使用することができる。
【００２０】貴金属触媒の調製法は、限定されるもので
はなくイオン交換法、含浸法、共沈法、混練法等のいず
れにおいてもよい。本発明の貴金属触媒調製の具体的な
一例を示すと、例えば、含浸法で調製するときは、担体
が吸収する水分量をあらかじめ測定しておき、水等の適
当な溶媒中で前記原料化合物を溶解、含浸して、濃縮、
乾燥し、空気中又は不活性ガス（窒素等）中にて２００
〜８００℃で焼成することにより本発明の貴金属触媒を
得ることができる。本発明の貴金属触媒は、市販品とし
ても入手することができる。
はなくイオン交換法、含浸法、共沈法、混練法等のいず
れにおいてもよい。本発明の貴金属触媒調製の具体的な
一例を示すと、例えば、含浸法で調製するときは、担体
が吸収する水分量をあらかじめ測定しておき、水等の適
当な溶媒中で前記原料化合物を溶解、含浸して、濃縮、
乾燥し、空気中又は不活性ガス（窒素等）中にて２００
〜８００℃で焼成することにより本発明の貴金属触媒を
得ることができる。本発明の貴金属触媒は、市販品とし
ても入手することができる。
【００２１】本発明の触媒は、粉末状、円柱状、円筒
状、球状、粒状等、所望の形状に成形して、本発明の気
相接触反応に使用される。
状、球状、粒状等、所望の形状に成形して、本発明の気
相接触反応に使用される。
【００２２】本発明のイミダゾール化合物を製造するに
あたっての一般式（１）で表される１，２−ジアミン化
合物とホルムアミドと気相接触反応の実施方法の具体例
について説明する。固定層として反応管に充填された脱
水・脱水素能を有する触媒の充填部を、通常２００〜６
００℃、好ましくは、３００〜４５０℃に保持する。そ
して、該当触媒充填部に原料化合物と所望ならば希釈剤
を供給して反応すればよい。希釈剤としては、例えば水
蒸気、窒素などの不活性ガスや水素が挙げられ、水素を
使用したときには、触媒の活性低下の抑制が期待でき
る。一般式（１）で表される１，２−ジアミン化合物の
液空間速度（以下、ＬＨＳＶという）は０．１〜２．０
ｇ／（ｍｌ触媒・ｈｒ）、好ましくは０．２〜１．０ｇ
／（ｍｌ触媒・ｈｒ）である。一般式（１）で表される
１，２−ジアミン化合物とホルムアミド、水素及び／又
は希釈剤との混合ガスの空間速度（以下、ＳＶという）
は０．１〜２０００ｈｒ-1、好ましくは０．１〜１００
０ｈｒ-1である。
あたっての一般式（１）で表される１，２−ジアミン化
合物とホルムアミドと気相接触反応の実施方法の具体例
について説明する。固定層として反応管に充填された脱
水・脱水素能を有する触媒の充填部を、通常２００〜６
００℃、好ましくは、３００〜４５０℃に保持する。そ
して、該当触媒充填部に原料化合物と所望ならば希釈剤
を供給して反応すればよい。希釈剤としては、例えば水
蒸気、窒素などの不活性ガスや水素が挙げられ、水素を
使用したときには、触媒の活性低下の抑制が期待でき
る。一般式（１）で表される１，２−ジアミン化合物の
液空間速度（以下、ＬＨＳＶという）は０．１〜２．０
ｇ／（ｍｌ触媒・ｈｒ）、好ましくは０．２〜１．０ｇ
／（ｍｌ触媒・ｈｒ）である。一般式（１）で表される
１，２−ジアミン化合物とホルムアミド、水素及び／又
は希釈剤との混合ガスの空間速度（以下、ＳＶという）
は０．１〜２０００ｈｒ-1、好ましくは０．１〜１００
０ｈｒ-1である。
【００２３】なお、反応は、上記のような触媒を固定層
として用いる固定床反応器で実施されるほか、流動床反
応器でも実施することができる。また常圧下、減圧下又
は加圧下のいずれでも実施することができる。
として用いる固定床反応器で実施されるほか、流動床反
応器でも実施することができる。また常圧下、減圧下又
は加圧下のいずれでも実施することができる。
【００２４】上記のようにして反応を行い、反応器から
流出する反応生成ガスを、そのまま冷却して凝縮させる
か又は適当な溶媒に通じて捕集し、次いで得られた凝縮
物又は捕集液を、例えば蒸留することによりイミダゾー
ル化合物を単離することができる。
流出する反応生成ガスを、そのまま冷却して凝縮させる
か又は適当な溶媒に通じて捕集し、次いで得られた凝縮
物又は捕集液を、例えば蒸留することによりイミダゾー
ル化合物を単離することができる。
【００２５】
【実施例】以下に実施例により本発明を更に具体的に説
明するが、本発明を実施例に限定するものではない。な
お、転化率、収率及び選択率は以下の定義に従って計算
した。
明するが、本発明を実施例に限定するものではない。な
お、転化率、収率及び選択率は以下の定義に従って計算
した。
【００２６】転化率（％）＝反応した１，２−ジアミン
化合物（モル）×１００／供給した１，２−ジアミン化
合物（モル） 収率（％）＝反応により生成したイミダゾール化合物
（モル）×１００／供給した１，２−ジアミン化合物
（モル） 選択率（％）＝反応により生成したイミダゾール化合物
（モル）×１００／反応した１，２−ジアミン化合物
（モル）
化合物（モル）×１００／供給した１，２−ジアミン化
合物（モル） 収率（％）＝反応により生成したイミダゾール化合物
（モル）×１００／供給した１，２−ジアミン化合物
（モル） 選択率（％）＝反応により生成したイミダゾール化合物
（モル）×１００／反応した１，２−ジアミン化合物
（モル）
【００２７】実施例１ ０．５重量％Ｐｄ／Ａｌ2Ｏ3［０．３ｃｍ×０．３ｃｍ
ペレット：エヌ・イーケムキャット（株）製］触媒を用
いて反応を行った。触媒５．０ｍｌを、内径１５．６ｍ
ｍのパイレックス（登録商標）製反応管に充填し、窒素
を５０ｍｌ／分で供給しながら、反応管の触媒充填部を
３６０℃に昇温した。次いで３６０℃に保った触媒充填
部に、窒素を供給速度を１３ｍｌ／分に変えて供給し、
更にＮ−メチルエチレンジアミン及びホルムアミドを供
給して反応を行った［Ｎ−メチルエチレンジアミン Ｌ
ＨＳＶ＝０．５ｇ／（ｍｌ触媒・ｈｒ）、Ｎ−メチルエ
チレンジアミン：ホルムアミド：窒素＝１：２：１（モ
ル比）］。Ｎ−メチルエチレンジアミン等の供給開始か
ら１時間後、反応管より流出してくる反応ガスをメタノ
ール中に通じて反応ガス中の可溶性成分を溶解させ、得
られた溶液をガスクロマトグラフィーにて分析した。そ
の結果、Ｎ−メチルエチレンジアミンの転化率は９７．
１％、Ｎ−メチルイミダゾールの収率は７３．２％であ
った。
ペレット：エヌ・イーケムキャット（株）製］触媒を用
いて反応を行った。触媒５．０ｍｌを、内径１５．６ｍ
ｍのパイレックス（登録商標）製反応管に充填し、窒素
を５０ｍｌ／分で供給しながら、反応管の触媒充填部を
３６０℃に昇温した。次いで３６０℃に保った触媒充填
部に、窒素を供給速度を１３ｍｌ／分に変えて供給し、
更にＮ−メチルエチレンジアミン及びホルムアミドを供
給して反応を行った［Ｎ−メチルエチレンジアミン Ｌ
ＨＳＶ＝０．５ｇ／（ｍｌ触媒・ｈｒ）、Ｎ−メチルエ
チレンジアミン：ホルムアミド：窒素＝１：２：１（モ
ル比）］。Ｎ−メチルエチレンジアミン等の供給開始か
ら１時間後、反応管より流出してくる反応ガスをメタノ
ール中に通じて反応ガス中の可溶性成分を溶解させ、得
られた溶液をガスクロマトグラフィーにて分析した。そ
の結果、Ｎ−メチルエチレンジアミンの転化率は９７．
１％、Ｎ−メチルイミダゾールの収率は７３．２％であ
った。
【００２８】実施例２ ２重量％Ｐｄ／Ａｌ2Ｏ3［０．３ｃｍ×０．３ｃｍペレ
ット：エヌ・イー ケムキャット社製］触媒を用いて反
応を行った。触媒５．０ｍｌを、内径１５．６ｍｍのパ
イレックス製反応管に充填し、窒素を５０ｍｌ／分で供
給しながら、反応管の触媒充填部を３６０℃に昇温し
た。次いで３６０℃に保った触媒充填部に、窒素に代え
て水素を２６ｍｌ／分で供給し、発熱がなくなりしだい
１，２−プロパンジアミン及びホルムアミドを供給して
反応を行った［１，２−プロパンジアミン ＬＨＳＶ＝
０．５ｇ／（ｍｌ触媒・ｈｒ）、１，２−プロパンジア
ミン：ホルムアミド：水素＝１：２：２（モル比）］。
１，２−プロパンジアミン等の供給開始から１時間後、
反応管より流出してくる反応ガスをメタノール中に通じ
て反応ガス中の可溶性成分を溶解させ、得られた溶液を
ガスクロマトグラフィーにて分析した。その結果、１，
２−プロパンジアミンの転化率は９２．４％、４−メチ
ルイミダゾールの収率は６９．５％であった。
ット：エヌ・イー ケムキャット社製］触媒を用いて反
応を行った。触媒５．０ｍｌを、内径１５．６ｍｍのパ
イレックス製反応管に充填し、窒素を５０ｍｌ／分で供
給しながら、反応管の触媒充填部を３６０℃に昇温し
た。次いで３６０℃に保った触媒充填部に、窒素に代え
て水素を２６ｍｌ／分で供給し、発熱がなくなりしだい
１，２−プロパンジアミン及びホルムアミドを供給して
反応を行った［１，２−プロパンジアミン ＬＨＳＶ＝
０．５ｇ／（ｍｌ触媒・ｈｒ）、１，２−プロパンジア
ミン：ホルムアミド：水素＝１：２：２（モル比）］。
１，２−プロパンジアミン等の供給開始から１時間後、
反応管より流出してくる反応ガスをメタノール中に通じ
て反応ガス中の可溶性成分を溶解させ、得られた溶液を
ガスクロマトグラフィーにて分析した。その結果、１，
２−プロパンジアミンの転化率は９２．４％、４−メチ
ルイミダゾールの収率は６９．５％であった。
Claims (4)
- 【請求項１】 一般式（１）： 【化１】 （式中、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は同一でも異なっていてもよ
く、それぞれ水素原子、炭素数１〜８の脂肪族炭化水素
残基、炭素数５〜７のシクロアルキル基又はフェニル基
を示す。）で表される１，２−ジアミン化合物とホルム
アミドとを脱水・脱水素能を有する触媒の存在下で気相
接触反応させることを特徴とする一般式（２）： 【化２】 （式中、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は前記に同じ）で表されるイ
ミダゾール化合物の製法。 - 【請求項２】 一般式（１）で表される１，２−ジアミ
ン化合物がＮ−アルキルエチレンジアミンであって、一
般式（２）で表されるイミダゾール化合物がイミダゾー
ルである請求項１記載の製法。 - 【請求項３】 脱水・脱水素能を有する触媒が、貴金属
触媒である請求項１又は２記載の製法。 - 【請求項４】 貴金属が、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｒｈ及びＲｕか
らなる群から選ばれる貴金属である請求項３記載の製
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001059333A JP2002255941A (ja) | 2001-03-02 | 2001-03-02 | イミダゾール化合物の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001059333A JP2002255941A (ja) | 2001-03-02 | 2001-03-02 | イミダゾール化合物の製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002255941A true JP2002255941A (ja) | 2002-09-11 |
Family
ID=18918907
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001059333A Pending JP2002255941A (ja) | 2001-03-02 | 2001-03-02 | イミダゾール化合物の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002255941A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005006352A1 (ja) * | 2003-07-11 | 2005-01-20 | Ube Industries, Ltd. | 酸・塩基混合物および該混合物からなるイオン伝導体 |
| WO2005113547A1 (ja) * | 2004-05-24 | 2005-12-01 | Wako Pure Chemical Industries, Ltd. | イオン性液体担持クラウン化合物 |
| CN102247843A (zh) * | 2010-05-19 | 2011-11-23 | 中国科学院大连化学物理研究所 | 一种用于环烷烃脱氢铂基催化剂稳定性的改进方法 |
| JP2013119524A (ja) * | 2011-12-06 | 2013-06-17 | Koei Chem Co Ltd | １−アルキルイミダゾール化合物の製造方法 |
| JP2013119522A (ja) * | 2011-12-06 | 2013-06-17 | Koei Chem Co Ltd | １−メチルイミダゾール化合物の製造方法 |
| JP2013155134A (ja) * | 2012-01-30 | 2013-08-15 | Koei Chem Co Ltd | １−アルキルイミダゾール化合物の製造法 |
| WO2015015804A1 (ja) * | 2013-08-01 | 2015-02-05 | 広栄化学工業株式会社 | １－アルキルイミダゾール化合物の製法 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3255200A (en) * | 1963-05-29 | 1966-06-07 | Air Prod & Chem | Manufacture of imidazole |
| JPS5416472A (en) * | 1977-06-28 | 1979-02-07 | Basf Ag | Production of imidazole compound |
-
2001
- 2001-03-02 JP JP2001059333A patent/JP2002255941A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3255200A (en) * | 1963-05-29 | 1966-06-07 | Air Prod & Chem | Manufacture of imidazole |
| JPS5416472A (en) * | 1977-06-28 | 1979-02-07 | Basf Ag | Production of imidazole compound |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005006352A1 (ja) * | 2003-07-11 | 2005-01-20 | Ube Industries, Ltd. | 酸・塩基混合物および該混合物からなるイオン伝導体 |
| US8308970B2 (en) | 2003-07-11 | 2012-11-13 | Ube Industries, Ltd. | Acid-base mixture and ion conductor comprising the same |
| WO2005113547A1 (ja) * | 2004-05-24 | 2005-12-01 | Wako Pure Chemical Industries, Ltd. | イオン性液体担持クラウン化合物 |
| CN102247843A (zh) * | 2010-05-19 | 2011-11-23 | 中国科学院大连化学物理研究所 | 一种用于环烷烃脱氢铂基催化剂稳定性的改进方法 |
| JP2013119524A (ja) * | 2011-12-06 | 2013-06-17 | Koei Chem Co Ltd | １−アルキルイミダゾール化合物の製造方法 |
| JP2013119522A (ja) * | 2011-12-06 | 2013-06-17 | Koei Chem Co Ltd | １−メチルイミダゾール化合物の製造方法 |
| JP2013155134A (ja) * | 2012-01-30 | 2013-08-15 | Koei Chem Co Ltd | １−アルキルイミダゾール化合物の製造法 |
| WO2015015804A1 (ja) * | 2013-08-01 | 2015-02-05 | 広栄化学工業株式会社 | １－アルキルイミダゾール化合物の製法 |
| JPWO2015015804A1 (ja) * | 2013-08-01 | 2017-03-02 | 広栄化学工業株式会社 | １−アルキルイミダゾール化合物の製法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4094737B2 (ja) | 酢酸からのアセトアルデヒドの製造方法およびこの製造方法に用いる触媒 | |
| US4083809A (en) | Hydrogenation catalyst and method of producing same | |
| JPS6337772B2 (ja) | ||
| JP2002255941A (ja) | イミダゾール化合物の製造法 | |
| EP1174414B1 (en) | Process for producing hydrogenated ester | |
| EP0023751B1 (en) | Process for producing five, six or seven membered saturated nitrogen containing heterocyclic compounds | |
| JP5152895B2 (ja) | 環状アルキレンイミンの製造方法 | |
| JPH0987217A (ja) | エタノールの製造方法 | |
| US7230141B2 (en) | Method for producing toluol derivatives | |
| JPH08165256A (ja) | １，１，１，２，３，３−ヘキサフルオロプロパンの製造方法 | |
| JP2000080053A (ja) | シクロアルキルジメタノ―ルの製造方法 | |
| JP4198234B2 (ja) | アルデヒド及びケトン又はそれらの誘導体の製造方法、ｘ線非晶質珪酸亜鉛又は珪酸カドミウムの製造方法及びｘ線非晶質珪酸亜鉛又は珪酸カドミウム触媒 | |
| JPH05995A (ja) | 酢酸製造方法 | |
| JPH0250088B2 (ja) | ||
| KR870000522B1 (ko) | 연속공정에 의한 인돌의 공업적 제조방법 | |
| KR101555649B1 (ko) | 사이클로헥산온의 제조방법 | |
| JP4359447B2 (ja) | モノヒドロキシアセトンの製造方法 | |
| JPH062702B2 (ja) | メチルイソブチルケトンの製造法 | |
| JPH08151346A (ja) | ケトマロン酸の製造方法 | |
| JP3804697B2 (ja) | ギ酸メチルの製造方法 | |
| JP3058512B2 (ja) | 酢酸製造方法 | |
| JPH04364136A (ja) | クロロホルムの製造方法 | |
| JPH0321012B2 (ja) | ||
| CA1088097A (en) | Process for preparing n'-methyl acethydrazide | |
| JP2000167400A (ja) | カルボニル化触媒およびぎ酸エステルの製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080229 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20101027 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20101102 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110104 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110104 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110816 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20111017 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20111122 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20120327 |