JP2002254635A - 静電型インクジェットヘッド - Google Patents

静電型インクジェットヘッド

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JP2002254635A
JP2002254635A JP2001059672A JP2001059672A JP2002254635A JP 2002254635 A JP2002254635 A JP 2002254635A JP 2001059672 A JP2001059672 A JP 2001059672A JP 2001059672 A JP2001059672 A JP 2001059672A JP 2002254635 A JP2002254635 A JP 2002254635A
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jet head
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diaphragm
electrostatic
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Akira Shimizu
明 清水
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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41JTYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
    • B41J2/00Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
    • B41J2/005Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
    • B41J2/01Ink jet
    • B41J2/135Nozzles
    • B41J2/14Structure thereof only for on-demand ink jet heads
    • B41J2002/14411Groove in the nozzle plate

Landscapes

  • Particle Formation And Scattering Control In Inkjet Printers (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ノズル列が3列以上で、ノズルがマトリック
ス状に高密度に配列された静電型インクジェットヘッド
を提供し、高速印刷を可能にする。 【解決手段】 インクジェットヘッドの個々のアクチュ
エータは、ノズル51に連通する液室62の一部を構成
する振動板64と、振動板64とギャップを介して個別
電極74が対向配置された電極基板70を有し、振動板
64を静電力により変形させ記録液をノズル51から吐
出させ記録媒体に記録を行う。インクジェットヘッドを
構成する複数のノズル51は、一体構造で一平面上に配
置され、ある規則をもって配列されたノズル列が3列以
上並列し、マトリックス状に配置される。個別電極74
と外部電極の接続は、シリコン電極基板70のPN分離
によってなされる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、プリンタ、複写
機、ファクシミリ等に用いられる静電型インクジェット
ヘッドに関し、さらに詳しくは、多数ノズルの高集積化
が可能で印刷スピードの高速化が可能な静電型インクジ
ェットヘッドに関する。
【0002】
【従来の技術】静電方式のインクジェットヘッドにおい
て、ノズルをマトリックス配置した構造を有するものは
見当たらない。特開平06−8449号公報(インクジ
ェットヘッド)の発明は、高密度ノズルに関する。マイ
クロマシニング技術により、Si基板の両面にインク吐
出用ノズルをSi基板端面において千鳥状になるように
配置、加工し、ノズル密度の高いインクジェットヘッド
を提供している。
【0003】特開平08−267748号公報(インク
ジェットヘッド及びその製造方法)の発明は、マトリッ
クス状ノズル、高密度ノズルに関する。インクを噴射さ
せるエネルギ発生手段とその駆動手段を夫々基板に少な
くとも1組備え、エネルギ発生手段の駆動で対応するノ
ズル部からインクを噴射するインクジェットヘッド及び
その製造方法を提供している。これによりマトリックス
駆動に適合しており、ノズル密度の高いインクジェット
ヘッドを提供している。
【0004】特開2000−168072号公報(イン
クジェットヘッド)の発明は、本出願人の提案によるも
ので、裏面電極に関する。振動板と対向する個別電極を
不純物を含むシリコンで構成にして、個別電極をシリコ
ン島状に裏面側からKOHでエッチング分離し電気的に
アイソレートし、機械的強度を保つために樹脂等で溝を
て裏面電極構造を提供している。
【0005】また、本出願人により、電極基板の個別電
極が形成されている面とは反対の面から個別電極に達す
るようなスルーホールを開口し、電極基板の電極が形成
されている面とは反対の面から電極を取り出すことを特
徴とするインクジェットヘッド、及び個別電極直下に直
接金属バンプを形成することを特徴とするインクジェッ
トヘッドついても提案されている。また、不純物拡散法
とエピ成長を組み合わせてPN分離で支持基板と裏面電
極の電気的な分離を図ること、及びその形成方法につい
ても提案されている。
【0006】次に、一般的な従来の静電型インクジェッ
トヘッドの構成を図9(A),(B)に示す。図9
(A)は、静電型インクジェットヘッドの外観を示す斜
視図(ただし、ノズル基板の一部は切り欠かれてい
る)、図9(B)は、図9(A)のB−B断面図であ
る。静電型インクジェットヘッドは、ノズル基板11
0、振動板基板120、電極基板130から構成されて
いる。ノズル基板110にはインクを吐出するノズル1
11、流体抵抗112が形成されている。振動板基板1
20には隔壁123によって、共通液室121、液室1
22が形成され、共通液室121は裏面流路131に連
通し、液室122の底部は振動板124に形成されてい
る。電極基板130には振動室132が形成され、その
底部であって振動板124と対向する位置に個別電極1
32が形成され、個別電極132の外方はFPC等と接
続するための電極パッド134となっている。特徴的に
は次のようになる。 (1)インクジェットヘッド上面両端から電極パッドを
取り出す構成。 (2)個別電極/液室は平面長方形(短辺長:長辺長=
1:10)。 (3)ノズル列は2列で千鳥配列。 (4)共通液室から流体抵抗を通って各液室へインクが
流れ込む。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】前記特開平06−84
49号公報のインクジェットヘッドでは、インク噴射方
向がヘッドエッジ方向(シリコン基板端面側)であり3
列以上のノズル列を設計するにあたってはそのノズルを
2本以上貼り合わせて構成する必要があり、ノズル間隔
精度を保つにはアライメント精度、接着寸法精度が要求
され製造的に難しい。また、そのノズルへインクを供給
する液室、エネルギー発生手段、駆動手段に付いては具
体的な記述はない。
【0008】特開平08−267748号公報のインク
ジェットヘッド及びその製造方法では、主にバブル型方
式を想定して記述されており、エネルギー発生手段を駆
動させる駆動手段をノズル板及び支持基板の対向面のい
づれか一方に設けた構成となっている。この構成では駆
動手段はノズル1列ごとにノズルへの吐出信号を送るた
め厳密にはノズル1列毎の印字となる。マトリックス状
の全ノズルが同時噴射はできないため高速印刷には適さ
ない。また1ノズル当たりの印刷スピードが臨めない。
【0009】本発明の第1の目的は、ノズル列が3列以
上あるマトリックス状ノズルを有する静電型インクジェ
ットヘッドを提供し、全ノズルを同時噴射させることで
高速印刷を可能にすることである。また、見方を変えれ
ば同速印刷であればその分ノズル数、ヘッドサイズを小
さくでき低コスト化が図れる。
【0010】本発明の第2の目的は、マトリックス状ノ
ズルを全ノズル同時噴射を可能とするのに不可欠なヘッ
ド構造として、各個別電極の配線と配線取りだしパッド
及びインク供給孔をノズル面の反対側(裏面側)から取
り出す構造を提供し、またその製造方法を提供すること
にある。その構造を取ることで、マトリックス状の多数
ノズルヘッドのノズル密度を向上させることである。
【0011】本発明の第3の目的は、高密度ノズルヘッ
ドの構成を単純化、一体加工で製造工程を簡略化、また
冗長ビットを設け数ビット不良ヘッドの救済を可能とす
ることで歩留まり向上、信頼性向上を図ることである。
【0012】
【課題を解決するための手段】本発明は、前記目的を達
成するためになされたものであって、その第1の技術手
段は、記録液を吐出するノズルに連通する液室の一部を
構成する振動板と、該振動板に対してギャップを介して
個別電極が対向配置された電極基板を有し、前記振動板
を静電力により変形させ記録液を前記ノズルから吐出す
るアクチュエータを備えた静電型インクジェットヘッド
において、前記ノズルが複数一体構造で平面上に配置さ
れ、その配置はある規則をもって配列されたノズル列が
3列以上並列したマトリックス状であることを特徴とす
る。
【0013】第2の技術手段は、第1の技術手段の静電
型インクジェットヘッドにおいて、前記各アクチュエー
タの個別電極上に形成された振動板と液室の形状がX方
向の有効寸法とY方向の有効寸法比が1〜3倍であり、
前記ノズルに対応してそれぞれが一平面上に配置されて
いることを特徴とする。
【0014】第3の技術手段は、第1の技術手段の静電
型インクジェットヘッドにおいて、前記個別電極の外部
電極への接続構造がシリコン電極基板のPN分離によっ
てなされるとともに、ヘッド裏面から連通する前記液室
へインク供給が可能な貫通流路を有することを特徴とす
る。
【0015】第4の技術手段は、第3の技術手段の静電
型インクジェットヘッドにおいて、前記個別電極の外部
電極への接続構造がシリコン電極基板のPN分離を使っ
た構造が、裏面側の電極部のシリコンを一部掘り下げて
からP型またはN型不純物をドープすることによって形
成されることを特徴とする。
【0016】第5の技術手段は、第3の技術手段の静電
型インクジェットヘッドにおいて、前記振動板共通電極
の外部電極への接続構造がシリコン電極基板のPN分離
によってなされることを特徴とする。
【0017】第6の技術手段は、第5の技術手段の静電
型インクジェットヘッドにおいて、ギャップスペーサが
シリコン振動板の不純物、シリコン支持基板の不純物と
同型の不純物を含むポリシリコンで構成されていること
を特徴とする。
【0018】第7の技術手段は、第3または5の技術手
段の静電型インクジェットヘッドにおいて、裏面配列の
電極パッドに対応してFPCが接続されているととも
に、該FPCが裏面流路の開口部に対応してインク供給
管への貫通口を有することを特徴とする。
【0019】第8の技術手段は、第3の技術手段の静電
型インクジェットヘッドにおいて、複数本の共通液室間
に運河流路を設け、該運河流路から前記各液室へインク
を供給するインク流路と液室配置を有することを特徴と
する。
【0020】第9の技術手段は、第1〜8の技術手段の
静電型インクジェットヘッドにおいて、前記ノズル列に
は冗長ノズル列が付加されていることを特徴とする。
【0021】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図1
〜図8に示す実施例に基づいて説明する。図1(A)は
本発明の静電型インクジェットヘッドを使用したインク
ジェット記録装置の要部構成を示す斜視図、図1(B)
は同構成の側断面図である。このインクジェット記録装
置は、記録装置本体1の内部に主走査方向に移動可能な
キャリッジ13、キャリッジに搭載したインクジェット
ヘッド14からなる記録ヘッド、記録ヘッドへインクを
供給するインクカートリッジ15等で構成される印字機
構部2等を収納し、装置本体1の下方部には前方側から
多数枚の用紙3を積載可能な給紙カセット(或いは給紙
トレイ)4を抜き差し自在に装着することができ、また
用紙3を手差しで給紙するための手差しトレイ5を開倒
することができ、給紙カセット4或いは手差しトレイ5
から給送される用紙3を取り込み、印字機構部2によっ
て所要の画像を記録した後、後面側に装着された排紙ト
レイ6に排紙する。
【0022】印字機構部2は、図示しない左右の側板に
横架したガイド部材である主ガイドロッド11と従ガイ
ドロッド12とでキャリッジ13を主走査方向(図1
(b)で紙面垂直方向)に摺動自在に保持し、このキャ
リッジ13にはイエロー(Y)、シアン(C)、マゼン
タ(M)、ブラック(Bk)の各色のインク滴を吐出す
るインクジェットヘッドからなるヘッド14を複数のイ
ンク吐出口を主走査方向と交叉する方向に配列し、イン
ク滴吐出方向を下方に向けて装着している。またキャリ
ッジ13にはヘッド14に各色のインクを供給するため
の各インクカートリッジ15を交換可能に装着してい
る。
【0023】インクカートリッジ15は上方に大気と連
通する大気口、下方にはインクジェットヘッドへインク
を供給する供給口を、内部にはインクが充填された多孔
質体を有しており、多孔質体の毛管力によりインクジェ
ットヘッドへ供給されるインクをわずかな負圧に維持し
ている。
【0024】また、記録ヘッドとしてここでは各色のヘ
ッド14を用いているが、各色のインク滴を吐出するノ
ズルを有する1個のヘッドでもよい。さらに、ヘッド1
4として用いるインクジェットヘッドは、圧電素子など
の電気機械変換素子で液室壁面を形成する振動板を介し
てインクを加圧するピエゾ型、或いは発熱抵抗体により
気泡を生じさせてインクを加圧するバブル型、若しくは
インク流路壁面を形成する振動板とこれに対向する電極
との間の静電力で振動板を変位させてインクを加圧する
静電型などを使用することができるが、本実施形態では
静電型インクジェットヘッドを用いている。
【0025】ここで、キャリッジ13は後方側(用紙搬
送方向下流側)を主ガイドロッド11に摺動自在に嵌装
し、前方側(用紙搬送方向下流側)を従ガイドロッド1
2に摺動自在に載置している。そして、このキャリッジ
13を主走査方向に移動走査するため、主走査モータ1
7で回転駆動される駆動プーリ18と従動プーリ19と
の間にタイミングベルト20を張装し、このタイミング
ベルト20をキャリッジ13に固定しており、主走査モ
ータ17の正逆回転によりキャリッジ13が往復駆動さ
れる。
【0026】一方、給紙カセット4にセットした用紙3
をヘッド14の下方側に搬送するために、給紙カセット
4から用紙3を分離給装する給紙ローラ21及びフリク
ションパッド22と、用紙3を案内するガイド部材23
と、給紙された用紙3を反転させて搬送する搬送ローラ
24と、この搬送ローラ24の周面に押し付けられる搬
送コロ25及び搬送ローラ24からの用紙3の送り出し
角度を規定する先端コロ26とを設けている。搬送ロー
ラ24は副走査モータ27によってギヤ列を介して回転
駆動される。
【0027】そして、キャリッジ13の主走査方向の移
動範囲に対応して搬送ローラ24から送り出された用紙
3を記録ヘッド14の下方側で案内する用紙ガイド部材
である印写受け部材29を設けている。この印写受け部
材29の用紙搬送方向下流側には、用紙3を排紙方向へ
送り出すために回転駆動される搬送コロ31、拍車32
を設け、さらに用紙3を排紙トレイ6に送り出す排紙ロ
ーラ33及び拍車34と、排紙経路を形成するガイド部
材35,36とを配設している。
【0028】記録時には、キャリッジ13を移動させな
がら画像信号に応じて記録ヘッド14を駆動することに
より、停止している用紙3にインクを吐出して1行分を
記録し、用紙3を所定量搬送後次の行の記録を行う。記
録終了信号または、用紙3の後端が記録領域に到達した
信号を受けることにより、記録動作を終了させ用紙3を
排紙する。
【0029】また、キャリッジ13の移動方向右端側の
記録領域を外れた位置には、ヘッド14の吐出不良を回
復するための回復装置37を配置している。回復装置は
キャップ手段と吸引手段とクリーニング手段を有してい
る。キャリッジ13は印字待機中にはこの回復装置37
側に移動されてキャッピング手段でヘッド14をキャッ
ピングされ、吐出口部を湿潤状態に保つことによりイン
ク乾燥による吐出不良を防止する。また、記録途中など
に記録と関係しないインクを吐出することにより、全て
の吐出口のインク粘度を一定にし、安定した吐出性能を
維持する。
【0030】吐出不良が発生した場合等には、キャッピ
ング手段でヘッド14の吐出口を密封し、チューブを通
して吸引手段で吐出口からインクとともに気泡等を吸い
出し、吐出口面に付着したインクやゴミ等はクリーニン
グ手段により除去され吐出不良が回復される。また、吸
引されたインクは、本体下部に設置された廃インク溜
(不図示)に排出され、廃インク溜内部のインク吸収体
に吸収保持される。
【0031】本発明の狙いとするところはマトリックス
状ノズルを有するヘッドで全ノズル同時噴射できる機能
を備え、印刷の高速化を図ることであり、そのための高
集積ノズルの構造を提供するために関係する部分(液室
形、振動板形、電極、配線、インク流路等)を最適に構
成、配置するものである。以下、構成・動作について実
施例に基づいて説明する。
【0032】(実施例1)図2(A),(B),(C)
は本発明の第1の実施例によって製造された静電型イン
クジェットヘッドのアクチュエータ部分分解斜視図、図
2(D)は図2(C)の上面レイアウトを示す図であ
り、請求項1,請求項2,請求項3,請求項8に対応す
る。図3(A)〜(F),図4(G)〜(J),図5
(K),(L)は、本発明の静電型インクジェットヘッ
ドを製造するプロセスフローを示す断面図である。これ
は図2のA−A断面と対応する。本構成のアクチュエー
タ主要部を図5(L)を用いて説明する。本構成は、従
来のものと同様に、支持基板となる電極基板70、シリ
コン酸化膜71、個別電極74、振動板64、ノズル基
板50等から構成される。振動板64と個別電極74間
(正確には保護膜75との間)には振動室73が形成さ
れ微少なギャップを介して振動板64と個別電極74間
に電圧を加えると、静電力により振動板64が対向電極
側に変位し、その後電圧を0に戻したときに変位してい
る振動板64がその弾性力によって元の位置に戻ろうと
する力によりインクを噴射させるものである。
【0033】実施例1のアクチュエータでは、駆動電圧
の低電圧化と噴射インク滴量の複数段階制御を目的とし
て、片側においてはギャップ端から中心部に行くに従い
振動板と対向電極間隔が徐々に広がるように、残り部分
においては振動板と対向電極が平行となるようなギャッ
プ形状となっている。
【0034】個別電極74上の保護膜75は振動板64
と個別電極74の短絡を防ぐものであり、同機能の絶縁
膜を振動板側に形成してもよい。また、振動板と個別電
極が接触しないような駆動方式で動作させる場合には省
略することも可能である。また、本実施例のギャップ形
状はあくまで一例であり、目的に応じて他のギャップ形
状にすることも可能である。
【0035】本発明では、振動板と液室をX方向とY方
向の寸法比をほぼ同等に設計する。振動板の弾性復元力
はギャップ周辺寸法すなわち振動板の短辺振動長の4乗
に反比例する。インク吐出力を所望のものにするために
は、関係するパラメータ(ギャップ長、振動板厚、振動
板材質、振動板短辺長、流体抵抗、保護膜の膜厚/材料
等)の最適設計を行い、達成する。
【0036】本発明は、3列以上のマトリックス状ノズ
ルを一平板上にレイアウトしてノズル基板50を形成し
ておく。また、並行してノズルレイアウトに対応させて
個別電極/ギャップ/個別液室を短辺長:長辺長の比を
ほぼ同じにした形状で構成し電極基板70、振動板60
を形成しておく。それぞれの基板を貼り合わせた後ヘッ
ドサイズに切り出して、裏面側にFPC80を圧着して
外部接続を可能にしインクジェットヘッドが完成する。
【0037】図3(A)〜(F),図4(G)〜
(J),図5(K),(L)に基づいて本実施例の製造
方法のプロセスについて説明する。支持基板70となる
ボロンを0.01〜0.1Ωcm含ませた<100>シリ
コンウエハ(図3(A))全体を熱酸化ウェット法でシ
リコン酸化膜71を2μm成長させる。その後、所望の
電極パターン形成エリアに対応したレジストパターンを
形成する。次に、シリコン酸化膜71のエッチャント
(フッ酸)を用いてウェットエッチを行う。それからエ
ッチングを終えレジストを除去する。第2の不純物(例
えば、リン等)を含んだシリケートガラスを溶剤と混合
し、支持基板へ塗布し、プリベークし、拡散炉で不純物
の拡散を行う。ここでは固体拡散、または高エネルギ−
イオン注入等で同様の選択エリアへ第2の不純物の導入
を実施しても良い。拡散条件は1200℃で100時間
と長い。この点については後の実施例で述べる方法もあ
る。(図3(B))。不純物を含むシリケートガラスと
シリコン酸化膜71を薬液(混酸、硝酸、フッ酸)にて
全面除去する。(図3(C))。
【0038】支持基板を約650nm酸化してギャップ
スペーサエリアをパーニングする。(図3(D))。個
別電極材料(TiN等)デポをスパッター装置で行う。
個別電極74のパターンニングを施す(図3(E))。
ここで、個別電極74不純物を含むシリコン支持基板そ
のものとする場合はTiN等の電極材料をデポしなくて
もよい。次に、個別電極74を保護するように絶縁膜7
5をデポしパターニングする(図3(F))。ここで、
TiNをデポしない場合はシリコンを熱酸化して保護膜
として使用できる。
【0039】振動板側のウエハを直接接合等により貼り
付ける(図4(G))。シリコン窒化膜81をデポし、
インク液室となる部分62、共通液室、運河流路及び裏
面流路76になる部分を写真製版しエッチングする。レ
ジスト剥離後、KOHによりシリコンのエッチング(振
動板の厚さは1〜3μm残す)を行い、インク液室62
となる部分及び裏面流路76になる部分を形成する(図
4(H))。運河流路から各液室への流路は流体抵抗を
含ませた形でノズル板側に形成しても良い。シリコン窒
化膜81除去後、裏面電極パッド82をTiN等をデポ
し、パッドのパターニングを施す。(図4(I))。別
の工程で加工してあるノズル基板50を接着剤で貼り付
けキュアーする。(図4(J))。裏面電極パッド18
に例えば金バンプ84を付けるか、またはFPC80側
へ金バンプ84を付ける。または、FPC80接着時に
ACFを間に挟んで圧着し、導電性を持たせてもよい。
(図5(K))。FPC80を支持基板へ接着する。同
時にバンプ84を圧着する。(図5(L))。
【0040】(実施例2)図6は、実施例2の静電型イ
ンクジェットヘッドを示す概略断面図であり、請求項4
に対応する。実施例1のようなプロセスフローでインク
ジェットヘッドを製造するに当り、裏面電極へのシリコ
ン貫通第2不純物導電領域の形成はシリコン酸化膜やシ
リコン窒化膜をマスクとしてシリコンへの不純物(例え
ば、ボロン、リン)を熱拡散させることで得られる。そ
こで支持基板となる電極基板70の厚さは薄いもの(3
00μm)を用意し、不純物拡散させる前にシリコン酸
化膜等でマスキングしてから裏面電極となる領域のシリ
コンエッチング(100〜200μm)を施しておく。
次に塗布拡散あるいは固体拡散、あるいは高エネルギ−
イオン注入等で選択エリアへの不純物を導入する。第2
不純物濃度は薄いところで1×1019/cm以上が
望ましいが1×1017/cmでも抵抗は500Ω程
度と十分適用範囲である。
【0041】ここではシリコンエッチングで支持基板を
掘り下げたが、高精度なダイシングにより100〜20
0μmノズル列に沿って掘り下げてもよい。これらのシ
リコンの掘り下げにより第2の不純物の拡散時間を大幅
に短縮できることになる。
【0042】(実施例3)図7は、実施例3のインクジ
ェットヘッドの例を示す概略断面図であり、請求項5,
6に対応する。実施例3のインクジェットヘッドを製造
するプロセスフローにおいては実施例1に概ね同じであ
るため、ここでは実施例1の説明で用いた図3(D),
図5(L)に置き換えて図7(A),(B)で説明す
る。図7(A)ではギャップスペーサ71をシリコン酸
化膜で形成するところを振動板の不純物と同型の不純物
を含むポリシリコンをデポしパターニングし形成する。
ここで、振動板64とギャップスペーサ71と支持基板
70はすべて同型の不純物を含むシリコンとなり導電性
をもつ。したがって、支持基板裏面の基板電位を取るこ
とで、即ちFPCの電極パッドへ電位を取ることで振動
板を電気的に安定電位(例えばGND)にすることがで
きる。
【0043】(実施例4)図8に実施例4のインクジェ
ットヘッドの好適な例を示し、これに基づいて説明す
る。実施例4は請求項7に対応する。実施例4のインク
ジェットヘッドを製造するプロセスフローは実施例1に
概ね同じであるため、ここでは実施例1で用いた図5
(L)に置き換えて説明する。インク流路貫通孔85を
有しその周りにはインクの漏れないようにスペーサ86
を設け支持基板側と接着剤で接着しキュアーする。支持
基板の裏面電極に対応してFPC側にパッド87を設け
る。スペーサ86を接着すると同時にバンプ圧着する。
スペーサ厚はバンプあるいはACF材圧着厚さとバラン
スを取るものとする。実施例ではインク供給口へのFP
Cを通しての外部インク供給への接続が裏面側から容易
にできるメリットが生まれる。なお、裏面電極とは個別
電極と振動板共通電極の両方をさす。
【0044】(実施例5)実施例5のインクジェットヘ
ッドは請求項9に対応するものである。実施例5のイン
クジェットヘッドは図示しないが、請求項1〜7の発明
に基づき、ノズルをマトリックス状に構成し、その構成
にインク流路、液室、電極がセットで対応できるように
なるので、そのメリットを活かし多数ノズル化が進む。
すると、多数のノズルのヘッドの製造歩留の低下が問題
となってくる。数ビットの不良ヘッドを救済するために
冗長ビット列を設けておきソフト的に調整して良品とす
るものである。実施例としては、ノズル板製作/接着前
に電極基板と振動板を貼り合わせた後、液室をKOHで
エッチングして振動板を形成する。その時点でレーザド
ップラー等により全ビット振動評価検査し不良ビット検
出しておく。救済可能なレベルのヘッドについて冗長ノ
ズルと不良ノズルを入れ替え、印字ソフト変更により良
品とする。
【0045】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば次
のような作用効果が得られる。請求項1のインクジェッ
トヘッドによれば、従来の1列あるいは2列のノズルを
4〜5本を寸法精度良くアセンブリしマトリックス状に
仕上げる場合と比較してノズル列間の寸法精度が向上す
る。また、ノズル列アライメント組み立て工数が本発明
では簡略化でき、その分コストダウンが可能となる。多
数ノズルの高集積化が可能となり、単位面積当りの印刷
スピードが速くなる。また、見方をかえれば同速度の印
刷スピードとした場合に対応したヘッドのノズル数が少
なくて済み、その分コストダウンが可能となる。更には
静電型駆動なので、多数ノズル同時噴射しても消費電力
はバブル方式の約1/100であって発熱も少なく高速
安定印字が可能となる。
【0046】請求項2のインクジェットヘッドによれ
ば、振動板の弾性復元力はギャップ周辺寸法すなわち振
動板の短辺振動長の4乗に反比例するのでX方向、Y方
向の寸法が等しいと低消費電力、低電圧、小滴化が可能
となる。したがって、マトリックス状ノズル配置に適合
した構成を取ることが可能となる。
【0047】請求項3のインクジェットヘッドによれ
ば、ヘッドの裏面側から個別電極の電極取りだし口とイ
ンク供給口取出し口を設けることでマトリックスノズル
の個別電極への配線の這い回しが容易となり、また、各
ビットの個別電極への配線抵抗が低抵抗になり、均一性
が向上しヘッドの配線設計が容易になると共に製造、組
み立て上はヘッド表面側に集中する電極取り出しパッ
ド、インク供給口の方式に比してそれが裏面側へ回り製
造組み立てしやすくなる。ヘッドの機能上はインクの吐
出側、即ちヘッド表面側のフリースペースが広くなり印
刷する紙との間隔を一定に保ちやすく。製造歩留まり向
上、コストダウン、信頼性向上が可能になる。
【0048】請求項4のインクジェットヘッドによれ
ば、P型またはN型不純物を用いてのPN接合を利用し
た裏面電極の形成なので、電極部分のシリコン基板を先
にエッチングあるいはダイシングすることで横拡散と深
さ方向拡散のアスペクトを高く形成できる。したがっ
て、各電極セルピッチ、各ノズルピッチ間隔を小さくで
き、ノズル高集積化に対応した電極基板集積化が可能と
なり、アクチュエータの軽薄短小と低コスト化が可能と
なる。
【0049】請求項5及び6のインクジェットヘッドに
よれば、振動板の電位を取るための電極取りだし口がギ
ャップ隔壁即ちギャップスペーサに不純物を含むポリシ
リコンを使用し、振動板−ギャップ隔壁−電極基板と電
気的に導通することでヘッド裏面側から振動板の電位を
取ることが可能となる。しいては請求項3の作用効果が
ある。
【0050】請求項7のインクジェットヘッドによれ
ば、FPCの構造を本発明のごとく工夫することでイン
クをFPCをスルーして供給でき、アセンブリ形態がシ
ンプルになりアクチュエータの軽薄短小と低コスト化が
可能となる。
【0051】請求項8のインクジェットヘッドによれ
ば、共通液室間へ運河流路を渡すことで高集積液室への
インク供給ルートが2方向となるためインクが安定供給
できる。また、貫通流路から直接各液室へインク供給し
た場合と比べて運河供給で1クッションおくので貫通流
路のインク圧力の変動が緩和されインクを安定供給でき
る。
【0052】請求項9のインクジェットヘッドによれ
ば、高集積したノズルの製造歩留は低くなりがちである
が、冗長ビットを有する構成にしソフト的に数ビット不
良品を救済することで製造歩留が向上する。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の静電型インクジェットヘッドを使用
したインクジェット記録装置の斜視図及び側断面図であ
る。
【図2】 本発明の静電型インクジェットヘッドのアク
チュエータ部分分解斜視図である。
【図3】 本発明の静電型インクジェットヘッドを製造
する実施例1のプロセスフローを示す断面図である。
【図4】 図3に続く実施例1のプロセスフローを示す
断面図である。
【図5】 図4に続く実施例1のプロセスフローを示す
断面図である。
【図6】 実施例2の静電型インクジェットヘッドを示
す概略断面図である。
【図7】 実施例3の静電型インクジェットヘッドを示
す概略断面図である。
【図8】 実施例4の静電型インクジェットヘッドを示
す概略斜視図である。
【図9】 従来の静電型インクジェットヘッドを示す概
略斜視図、及び個々のアクチュエータを示す概略断面図
である。
【符号の説明】
13…キャリッジ、14…インクジェットヘッド、15
…インクカートリッジ、50…ノズル基板、51…ノズ
ル、60…振動板基板、61…シリコン酸化膜、62…
液室、63…隔壁、64…振動板、65…流体抵抗、7
0…電極基板、71…シリコン酸化膜、72…電極、7
3…振動室、74…個別電極、75…保護膜、76…裏
面流路、80…FPC、81…シリコン窒化膜、82…
電極パッド、83…スペーサ、84…バンプ、85…イ
ンク流路貫通孔、86…スペーサ、87…パッド。

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 記録液を吐出するノズルに連通する液室
    の一部を構成する振動板と、該振動板に対してギャップ
    を介して個別電極が対向配置された電極基板を有し、前
    記振動板を静電力により変形させ記録液を前記ノズルか
    ら吐出するアクチュエータを備えた静電型インクジェッ
    トヘッドにおいて、 前記ノズルが複数一体構造で平面上に配置され、その配
    置はある規則をもって配列されたノズル列が3列以上並
    列したマトリックス状であることを特徴とする静電型イ
    ンクジェットヘッド。
  2. 【請求項2】 請求項1記載の静電型インクジェットヘ
    ッドにおいて、 前記各アクチュエータの個別電極上に形成された振動板
    と液室の形状がX方向の有効寸法とY方向の有効寸法比
    が1〜3倍であり、前記ノズルに対応してそれぞれが一
    平面上に配置されていることを特徴とする静電型インク
    ジェットヘッド。
  3. 【請求項3】 請求項1記載の静電型インクジェットヘ
    ッドにおいて、 前記個別電極の外部電極への接続構造がシリコン電極基
    板のPN分離によってなされるとともに、ヘッド裏面か
    ら連通する前記液室へインク供給が可能な貫通流路を有
    することを特徴とする静電型インクジェットヘッド。
  4. 【請求項4】 請求項3記載の静電型インクジェットヘ
    ッドにおいて、 前記個別電極の外部電極への接続構造がシリコン電極基
    板のPN分離を使った構造が、裏面側の電極部のシリコ
    ンを一部掘り下げてからP型またはN型不純物をドープ
    することによって形成されることを特徴とする静電型イ
    ンクジェットヘッド。
  5. 【請求項5】 請求項3の静電型インクジェットヘッド
    において、 前記振動板共通電極の外部電極への接続構造がシリコン
    電極基板のPN分離によってなされることを特徴とする
    静電型インクジェットヘッド。
  6. 【請求項6】 請求項5の静電型インクジェットヘッド
    において、 ギャップスペーサがシリコン振動板の不純物、シリコン
    支持基板の不純物と同型の不純物を含むポリシリコンで
    構成されていることを特徴とする静電型インクジェット
    ヘッド。
  7. 【請求項7】 請求項3または5記載の静電型インクジ
    ェットヘッドにおいて、 裏面配列の電極パッドに対応してFPCが接続されてい
    るとともに、該FPCが裏面流路の開口部に対応してイ
    ンク供給管への貫通口を有することを特徴とする静電型
    インクジェットヘッド。
  8. 【請求項8】 請求項3の静電型インクジェットヘッド
    において、 複数本の共通液室間に運河流路を設け、該運河流路から
    前記各液室へインクを供給するインク流路と液室配置を
    有することを特徴とする静電型インクジェットヘッド。
  9. 【請求項9】 請求項1乃至8いずれかに記載の静電型
    インクジェットヘッドにおいて、 前記ノズル列には冗長ノズル列が付加されていることを
    特徴とする静電型インクジェットヘッド。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2011005699A3 (en) * 2009-07-10 2011-03-31 Fujifilm Dimatix, Inc. Mems jetting structure for dense packing
US7992970B2 (en) 2003-09-29 2011-08-09 Fujifilm Corporation Droplet ejecting apparatus

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7992970B2 (en) 2003-09-29 2011-08-09 Fujifilm Corporation Droplet ejecting apparatus
WO2011005699A3 (en) * 2009-07-10 2011-03-31 Fujifilm Dimatix, Inc. Mems jetting structure for dense packing
CN102481789A (zh) * 2009-07-10 2012-05-30 富士胶卷迪马蒂克斯股份有限公司 用于密集封装的微机电系统喷射结构
US8820895B2 (en) 2009-07-10 2014-09-02 Fujifilm Dimatix, Inc. MEMS jetting structure for dense packing
CN102481789B (zh) * 2009-07-10 2015-06-17 富士胶卷迪马蒂克斯股份有限公司 用于密集封装的微机电系统喷射结构
US9278368B2 (en) 2009-07-10 2016-03-08 Fujifilm Dimatix, Inc. MEMS jetting structure for dense packing
US9776408B2 (en) 2009-07-10 2017-10-03 Fujifilm Dimatix, Inc. MEMS jetting structure for dense packing
US10696047B2 (en) 2009-07-10 2020-06-30 Fujifilm Dimatix, Inc. MEMS jetting structure for dense packing
US11413869B2 (en) 2009-07-10 2022-08-16 Fujifilm Dimatix, Inc. MEMS jetting structure for dense packing

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