JP2002248351A - レニウム含有触媒を用いるオレフィンオキシドの製造方法 - Google Patents
レニウム含有触媒を用いるオレフィンオキシドの製造方法Info
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- JP2002248351A JP2002248351A JP2001051555A JP2001051555A JP2002248351A JP 2002248351 A JP2002248351 A JP 2002248351A JP 2001051555 A JP2001051555 A JP 2001051555A JP 2001051555 A JP2001051555 A JP 2001051555A JP 2002248351 A JP2002248351 A JP 2002248351A
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
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- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
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- Catalysts (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
- Epoxy Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 活性成分としてＡｇ、Ｒｅ及びアルカリ金属
を含有している担体付触媒を用いて、オレフィンを気相
接触酸化してオレフィンオキシドを製造するに際し、長
時間に亘り高選択率で反応を行わせる。 【解決手段】 オレフィンオキシドの選択率を経時的に
追跡し、選択率が１週間当り０．７％以上低下したら、
原料ガス中のハロゲン化合物の濃度をハロゲン分子とし
て０．１５体積ｐｐｍ以上増加させる。
を含有している担体付触媒を用いて、オレフィンを気相
接触酸化してオレフィンオキシドを製造するに際し、長
時間に亘り高選択率で反応を行わせる。 【解決手段】 オレフィンオキシドの選択率を経時的に
追跡し、選択率が１週間当り０．７％以上低下したら、
原料ガス中のハロゲン化合物の濃度をハロゲン分子とし
て０．１５体積ｐｐｍ以上増加させる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はオレフィン、特にエ
チレンを気相接触酸化してオレフィンオキシドを製造す
る方法に関するものである。本発明によればオレフィン
オキシドを長期間に亘り高選択率で製造することができ
る。
チレンを気相接触酸化してオレフィンオキシドを製造す
る方法に関するものである。本発明によればオレフィン
オキシドを長期間に亘り高選択率で製造することができ
る。
【０００２】
【従来の技術】エチレンを気相接触酸化してエチレンオ
キシドを製造することは大規模に行われている。触媒と
しては銀を主体とし、これに種々の助触媒成分を添加し
た担体付触媒が主に用いられている。例えば特開昭４９
−３０２８６号公報には、多孔性担体にカリウム、ルビ
ジウム、セシウムなどのアルカリ金属を銀と同時に担持
させた触媒が、高い選択率でエチレンオキシドを与える
ことが記載されている。特開昭５３−１１９１号公報に
は、銀にナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシウム
などを含有させると、触媒の活性及び選択性が向上する
と記載されている。アルカリ金属以外の助触媒成分とし
ては、レニウム（特開昭６３−１２６５５２号公報）、
モリブデン（特開平２−１３１１４０、２４１５４４号
公報）、タングステン（特開平６−２９６８６７、３４
３８６４号公報）などが知られている。
キシドを製造することは大規模に行われている。触媒と
しては銀を主体とし、これに種々の助触媒成分を添加し
た担体付触媒が主に用いられている。例えば特開昭４９
−３０２８６号公報には、多孔性担体にカリウム、ルビ
ジウム、セシウムなどのアルカリ金属を銀と同時に担持
させた触媒が、高い選択率でエチレンオキシドを与える
ことが記載されている。特開昭５３−１１９１号公報に
は、銀にナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシウム
などを含有させると、触媒の活性及び選択性が向上する
と記載されている。アルカリ金属以外の助触媒成分とし
ては、レニウム（特開昭６３−１２６５５２号公報）、
モリブデン（特開平２−１３１１４０、２４１５４４号
公報）、タングステン（特開平６−２９６８６７、３４
３８６４号公報）などが知られている。
【０００３】また、この反応を行うに際しては、原料ガ
ス中に有機ハロゲン化合物を微量含有させるのが好まし
いことが知られており、その含有量の制御方法について
も種々検討されている（特開平２−１０４５７９、１０
４５８０号公報）。
ス中に有機ハロゲン化合物を微量含有させるのが好まし
いことが知られており、その含有量の制御方法について
も種々検討されている（特開平２−１０４５７９、１０
４５８０号公報）。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】銀を主成分とし、これ
に上述した種々の助触媒成分を含有させた触媒は、いず
れも使用中にその性能が漸次劣化する。公知のエチレン
オキシド製造用触媒のなかでも好ましいものの一つとし
て知られている、銀を主成分とし、レニウム及びアルカ
リ金属を助触媒成分とする触媒では、この劣化傾向が特
に顕著であり、使用中にそのエチレンオキシドの選択率
が漸次低下する。この選択率の低下は、エチレンオキシ
ド製造のエチレン原単位を悪化させるので、看過し得な
い大きな問題である。従って本発明は、この選択率の低
下を抑制して、工業的に有利にオレフィンオキシド、特
にエチレンオキシドを製造する方法を提供しようとする
ものである。
に上述した種々の助触媒成分を含有させた触媒は、いず
れも使用中にその性能が漸次劣化する。公知のエチレン
オキシド製造用触媒のなかでも好ましいものの一つとし
て知られている、銀を主成分とし、レニウム及びアルカ
リ金属を助触媒成分とする触媒では、この劣化傾向が特
に顕著であり、使用中にそのエチレンオキシドの選択率
が漸次低下する。この選択率の低下は、エチレンオキシ
ド製造のエチレン原単位を悪化させるので、看過し得な
い大きな問題である。従って本発明は、この選択率の低
下を抑制して、工業的に有利にオレフィンオキシド、特
にエチレンオキシドを製造する方法を提供しようとする
ものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、銀、レ
ニウム及びアルカリ金属を担体に担持させてなる触媒
に、オレフィン、酸素及びハロゲン化合物を含む原料ガ
スを接触させてオレフィンオキシドを製造する方法にお
いて、オレフィンオキシドの選択率が１週間当り０．７
％以上低下したならば原料ガス中のハロゲン化合物の濃
度をハロゲン分子換算で０．１５体積ｐｐｍ以上増加さ
せることにより、長期間にわたり高選択率でオレフィン
オキシドを製造することができる。
ニウム及びアルカリ金属を担体に担持させてなる触媒
に、オレフィン、酸素及びハロゲン化合物を含む原料ガ
スを接触させてオレフィンオキシドを製造する方法にお
いて、オレフィンオキシドの選択率が１週間当り０．７
％以上低下したならば原料ガス中のハロゲン化合物の濃
度をハロゲン分子換算で０．１５体積ｐｐｍ以上増加さ
せることにより、長期間にわたり高選択率でオレフィン
オキシドを製造することができる。
【０００６】
【発明の実施の形態】本発明では、銀、レニウム及びア
ルカリ金属の少なくとも三者を担体に担持させた担体付
触媒を用いる。担体としては、アルミナ、チタニア、ジ
ルコニア、マグネシア、炭化ケイ素など常用の耐火性担
体を用いる。なかでもアルミナ、特にα−アルミナを用
いるのが好ましい。担体の比表面積は、０．１〜３．０
ｍ2 ／ｇ、特に０．８〜１．７ｍ2 ／ｇであるのが好ま
しい。
ルカリ金属の少なくとも三者を担体に担持させた担体付
触媒を用いる。担体としては、アルミナ、チタニア、ジ
ルコニア、マグネシア、炭化ケイ素など常用の耐火性担
体を用いる。なかでもアルミナ、特にα−アルミナを用
いるのが好ましい。担体の比表面積は、０．１〜３．０
ｍ2 ／ｇ、特に０．８〜１．７ｍ2 ／ｇであるのが好ま
しい。
【０００７】銀、レニウム及びアルカリ金属の担体への
担持は、常法に従って行うことができる。通常はそれぞ
れの成分を単独で、又は他の成分との混合溶液として担
体に含浸させる。含浸の順序は任意であり、例えば先ず
銀を担持させたのち、アルカリ金属及びレニウムを担持
させることもできるし、銀と一緒にアルカリ金属やレニ
ウムを担持させることもできる。好ましくは担体にアル
カリ金属の溶液を含浸して乾燥させたのち、これに銀及
びレニウムを担持させる。銀及びレニウムを担持させる
際にアルカリ金属をもう一度担持させるのも好ましい。
なお、担体にアルカリ金属の溶液を含浸させたのちの乾
燥は、窒素、ヘリウム、アルゴンなどの不活性気体中で
行ってもよく、また空気や過熱水蒸気中で行ってもよ
い。なかでも過熱水蒸気中で行うのが好ましい。乾燥は
１２０〜５００℃、特に１２０〜２５０℃で行うのが好
ましい。
担持は、常法に従って行うことができる。通常はそれぞ
れの成分を単独で、又は他の成分との混合溶液として担
体に含浸させる。含浸の順序は任意であり、例えば先ず
銀を担持させたのち、アルカリ金属及びレニウムを担持
させることもできるし、銀と一緒にアルカリ金属やレニ
ウムを担持させることもできる。好ましくは担体にアル
カリ金属の溶液を含浸して乾燥させたのち、これに銀及
びレニウムを担持させる。銀及びレニウムを担持させる
際にアルカリ金属をもう一度担持させるのも好ましい。
なお、担体にアルカリ金属の溶液を含浸させたのちの乾
燥は、窒素、ヘリウム、アルゴンなどの不活性気体中で
行ってもよく、また空気や過熱水蒸気中で行ってもよ
い。なかでも過熱水蒸気中で行うのが好ましい。乾燥は
１２０〜５００℃、特に１２０〜２５０℃で行うのが好
ましい。
【０００８】アルカリ金属としてはセシウム、リチウ
ム、ナトリウムなどのいずれを用いることもできるが、
セシウム又はセシウムと他のものとを併用するのが好ま
しい。通常は水酸化物、ハロゲン化物、硝酸塩、酢酸
塩、炭酸塩、重炭酸塩、硫酸塩などを用い、水溶液とし
て担体に含浸させる。レニウムとしては酸化レニウムや
過レニウム酸のアンモニウム塩やアルカリ金属塩などを
用いればよい。銀としては、通常はアンモニアやアミノ
基、カルボニル基、カルボキシル基などを有する化合物
と錯体を形成して水や有機溶媒に溶解し、かつ５００℃
以下の温度で分解して銀を析出する銀化合物を用いる。
なかでも３００℃以下、特に２６０℃以下の温度で分解
して銀を析出する銀化合物を用いるのが好ましい。例え
ば酸化銀、硝酸銀、炭酸銀、硫酸銀、酢酸銀、シュウ酸
銀などを用いる。なかでもシュウ酸銀を用いるのが好ま
しい。錯体形成に用いるアミノ基を有する化合物として
は、通常はピリジンや炭素数１〜６のアルキルアミンな
どのモノアミン；エチレンジアミン、１，３−ジアミノ
プロパンなどのポリアミン；エタノールアミン、プロパ
ノールアミンなどのアルカノールアミンなどが用いられ
る。なかでもエチレンジアミンや１，３−ジアミノプロ
パンを用いるのが好ましく、両者の混合物を用いるのが
より好ましい。またカルボニル基を有する化合物として
はアセチルアセトンなどのβ−ジケトンが、カルボキシ
ル基を有する化合物としてはネオデカン酸などがそれぞ
れ用いられる。
ム、ナトリウムなどのいずれを用いることもできるが、
セシウム又はセシウムと他のものとを併用するのが好ま
しい。通常は水酸化物、ハロゲン化物、硝酸塩、酢酸
塩、炭酸塩、重炭酸塩、硫酸塩などを用い、水溶液とし
て担体に含浸させる。レニウムとしては酸化レニウムや
過レニウム酸のアンモニウム塩やアルカリ金属塩などを
用いればよい。銀としては、通常はアンモニアやアミノ
基、カルボニル基、カルボキシル基などを有する化合物
と錯体を形成して水や有機溶媒に溶解し、かつ５００℃
以下の温度で分解して銀を析出する銀化合物を用いる。
なかでも３００℃以下、特に２６０℃以下の温度で分解
して銀を析出する銀化合物を用いるのが好ましい。例え
ば酸化銀、硝酸銀、炭酸銀、硫酸銀、酢酸銀、シュウ酸
銀などを用いる。なかでもシュウ酸銀を用いるのが好ま
しい。錯体形成に用いるアミノ基を有する化合物として
は、通常はピリジンや炭素数１〜６のアルキルアミンな
どのモノアミン；エチレンジアミン、１，３−ジアミノ
プロパンなどのポリアミン；エタノールアミン、プロパ
ノールアミンなどのアルカノールアミンなどが用いられ
る。なかでもエチレンジアミンや１，３−ジアミノプロ
パンを用いるのが好ましく、両者の混合物を用いるのが
より好ましい。またカルボニル基を有する化合物として
はアセチルアセトンなどのβ−ジケトンが、カルボキシ
ル基を有する化合物としてはネオデカン酸などがそれぞ
れ用いられる。
【０００９】銀は最終的に生成する触媒の銀の含有量が
５〜３０重量％となるように担体に担持させるのが好ま
しい。またアルカリ金属及びレニウムは、通常は最終的
に生成する触媒中の含有量が、それぞれ２０〜１０，０
００重量ｐｐｍ、及び１０〜５，０００重量ｐｐｍとな
るように担持させる。アルカリ金属及びレニウムの好ま
しい担持量はそれぞれ１００〜２，０００重量ｐｐｍ及
び５０〜１，０００重量ｐｐｍである。銀、レニウム及
びアルカリ金属はいずれも溶液として担体に含浸させ、
次いで加熱して担体に担持させるのが好ましい。この処
理により銀は化合物から金属として析出して担体に担持
されるが、加熱による銀の析出は、空気又は窒素、アル
ゴン、ヘリウムなどの不活性ガス中で１２０〜５００℃
で３０分〜２４時間行えばよい。好ましくは０．３〜５
ｍ／秒の過熱水蒸気の流通下に、１２０〜３００℃、特
に１３０〜２６０℃で、１分〜３時間、特に３分〜３０
分間加熱して析出させる。過熱水蒸気を用いると一般に
性能の良好な触媒が得られるが、これは触媒中における
銀、レニウム、及びアルカリ金属の分布が均一になるた
めと考えられる。通常は触媒成分を含浸させた担体を、
固定床方式又は移動床方式の熱処理装置に収容し、床内
に加熱されたガスを流通させることにより触媒の調製を
行う。
５〜３０重量％となるように担体に担持させるのが好ま
しい。またアルカリ金属及びレニウムは、通常は最終的
に生成する触媒中の含有量が、それぞれ２０〜１０，０
００重量ｐｐｍ、及び１０〜５，０００重量ｐｐｍとな
るように担持させる。アルカリ金属及びレニウムの好ま
しい担持量はそれぞれ１００〜２，０００重量ｐｐｍ及
び５０〜１，０００重量ｐｐｍである。銀、レニウム及
びアルカリ金属はいずれも溶液として担体に含浸させ、
次いで加熱して担体に担持させるのが好ましい。この処
理により銀は化合物から金属として析出して担体に担持
されるが、加熱による銀の析出は、空気又は窒素、アル
ゴン、ヘリウムなどの不活性ガス中で１２０〜５００℃
で３０分〜２４時間行えばよい。好ましくは０．３〜５
ｍ／秒の過熱水蒸気の流通下に、１２０〜３００℃、特
に１３０〜２６０℃で、１分〜３時間、特に３分〜３０
分間加熱して析出させる。過熱水蒸気を用いると一般に
性能の良好な触媒が得られるが、これは触媒中における
銀、レニウム、及びアルカリ金属の分布が均一になるた
めと考えられる。通常は触媒成分を含浸させた担体を、
固定床方式又は移動床方式の熱処理装置に収容し、床内
に加熱されたガスを流通させることにより触媒の調製を
行う。
【００１０】本発明では、この担体に銀、レニウム及び
アルカリ金属を担持させた触媒に、オレフィン、酸素及
び微量のハロゲン化合物を含む原料ガスを接触させてオ
レフィンオキシドを生成させる。オレフィンとしてはブ
タジエンなども用い得るが通常はエチレンを用いる。エ
チレンを原料とする場合には、原料ガスの組成はエチレ
ンが１〜４０体積％、酸素が１〜２０体積％であり、残
部は窒素、メタンその他の希釈剤である。また、原料ガ
ス中にはハロゲン化合物を１〜５０体積ｐｐｍ程度含有
させる。ハロゲン化合物としては通常は塩素化合物、例
えば塩素、塩化水素、炭素数１〜５の有機塩素化合物な
どが用いられる。取扱いの容易な点からして、モノクロ
ロメタン、モノクロロエタン、１，２−ジクロロエタ
ン、モノクロロプロパン、１，２−ジクロロプロパン、
１，３−ジクロロプロパン、塩化ビニルなど、炭素数１
〜３の塩素化炭化水素を用いるのが好ましい。所望なら
ば、これらの２種以上を併用してもよい。これらの有機
塩素化合物を用いる場合には、原料ガス中のその濃度
は、反応初期において０．５〜１０体積ｐｐｍ程度が好
ましい。
アルカリ金属を担持させた触媒に、オレフィン、酸素及
び微量のハロゲン化合物を含む原料ガスを接触させてオ
レフィンオキシドを生成させる。オレフィンとしてはブ
タジエンなども用い得るが通常はエチレンを用いる。エ
チレンを原料とする場合には、原料ガスの組成はエチレ
ンが１〜４０体積％、酸素が１〜２０体積％であり、残
部は窒素、メタンその他の希釈剤である。また、原料ガ
ス中にはハロゲン化合物を１〜５０体積ｐｐｍ程度含有
させる。ハロゲン化合物としては通常は塩素化合物、例
えば塩素、塩化水素、炭素数１〜５の有機塩素化合物な
どが用いられる。取扱いの容易な点からして、モノクロ
ロメタン、モノクロロエタン、１，２−ジクロロエタ
ン、モノクロロプロパン、１，２−ジクロロプロパン、
１，３−ジクロロプロパン、塩化ビニルなど、炭素数１
〜３の塩素化炭化水素を用いるのが好ましい。所望なら
ば、これらの２種以上を併用してもよい。これらの有機
塩素化合物を用いる場合には、原料ガス中のその濃度
は、反応初期において０．５〜１０体積ｐｐｍ程度が好
ましい。
【００１１】反応は通常は１８０〜３５０℃、好ましく
は２００〜３００℃の温度、０．１〜４ＭＰａの圧力下
で行われる。原料ガスの空塔速度（ＧＨＳＶ）は、通常
は０℃、１気圧で１，０００〜１０，０００ｈｒ-1であ
る。銀、レニウム及びアルカリ金属を含む触媒を用いて
上記の条件で反応を行わせると、エチレンオキシドの選
択率は、反応開始時から次第に上昇して最高値に達す
る。この間は原料ガス中のハロゲン化合物の濃度は一
定、好ましくは濃度変化が±０．５ｐｐｍの範囲におさ
まるようにするのが好ましい。エチレンオキシドの選択
率が最高値に達した後は、選択率は次第に低下する。本
発明では反応生成ガスを分析して選択率の低下を経時的
に追跡し、選択率が１週間当り０．７％以上低下したな
らば、原料ガス中のハロゲン化合物の濃度をハロゲン分
子換算で０．１５体積ｐｐｍ以上、好ましくは０．２５
体積ｐｐｍ以上増加させる。選択率の低下が小さいうち
にハロゲン化合物の濃度を増加させると、選択率が逆に
低下するおそれがあるので、選択率の低下が十分に大き
くなってからハロゲン化合物の濃度を増加させるのが好
ましい。なお、ハロゲン分子換算で０．１５ｐｐｍ以上
とは、モノクロロエタンや塩化ビニルのようなモノクロ
ロ有機化合物であれば０．３体積ｐｐｍ以上であり、ジ
クロロエタンやジクロロプロパンのようなジクロロ有機
化合物であれば０．１５体積ｐｐｍ以上であることを意
味する。
は２００〜３００℃の温度、０．１〜４ＭＰａの圧力下
で行われる。原料ガスの空塔速度（ＧＨＳＶ）は、通常
は０℃、１気圧で１，０００〜１０，０００ｈｒ-1であ
る。銀、レニウム及びアルカリ金属を含む触媒を用いて
上記の条件で反応を行わせると、エチレンオキシドの選
択率は、反応開始時から次第に上昇して最高値に達す
る。この間は原料ガス中のハロゲン化合物の濃度は一
定、好ましくは濃度変化が±０．５ｐｐｍの範囲におさ
まるようにするのが好ましい。エチレンオキシドの選択
率が最高値に達した後は、選択率は次第に低下する。本
発明では反応生成ガスを分析して選択率の低下を経時的
に追跡し、選択率が１週間当り０．７％以上低下したな
らば、原料ガス中のハロゲン化合物の濃度をハロゲン分
子換算で０．１５体積ｐｐｍ以上、好ましくは０．２５
体積ｐｐｍ以上増加させる。選択率の低下が小さいうち
にハロゲン化合物の濃度を増加させると、選択率が逆に
低下するおそれがあるので、選択率の低下が十分に大き
くなってからハロゲン化合物の濃度を増加させるのが好
ましい。なお、ハロゲン分子換算で０．１５ｐｐｍ以上
とは、モノクロロエタンや塩化ビニルのようなモノクロ
ロ有機化合物であれば０．３体積ｐｐｍ以上であり、ジ
クロロエタンやジクロロプロパンのようなジクロロ有機
化合物であれば０．１５体積ｐｐｍ以上であることを意
味する。
【００１２】エチレンオキシドの選択率に１週間当り
１．０％以上、特に１．５％以上の低下が認められてか
らハロゲン化合物の濃度を増加させるのが好ましい。こ
れにより低下した選択率を回復させることができる。な
お、１週間当りの選択率の低下とは、エチレンオキシド
の空時収率（ＳＴＹ）が一定となるように反応温度など
を制御して反応を行った場合に生ずると考えられる選択
率の低下であり、反応生成ガスを分析してその選択率を
経時的に追跡し、その変化傾向を外挿することにより、
一週間当りの選択率の低下を算出することができる。反
応生成ガスの分析はガスクロマトグラフィーや質量分析
計などで行えばよい。なお、分析精度の問題があるの
で、少なくとも２日間の分析値に基づいて１週間当りの
選択率の低下を算出するのが好ましい。また、選択率の
変化を追跡する途中で反応条件を変化させた場合には、
経験的に求められるプラント固有の推算式に基づいて、
選択率に及ぼす反応条件の変化の影響を補正すればよ
い。
１．０％以上、特に１．５％以上の低下が認められてか
らハロゲン化合物の濃度を増加させるのが好ましい。こ
れにより低下した選択率を回復させることができる。な
お、１週間当りの選択率の低下とは、エチレンオキシド
の空時収率（ＳＴＹ）が一定となるように反応温度など
を制御して反応を行った場合に生ずると考えられる選択
率の低下であり、反応生成ガスを分析してその選択率を
経時的に追跡し、その変化傾向を外挿することにより、
一週間当りの選択率の低下を算出することができる。反
応生成ガスの分析はガスクロマトグラフィーや質量分析
計などで行えばよい。なお、分析精度の問題があるの
で、少なくとも２日間の分析値に基づいて１週間当りの
選択率の低下を算出するのが好ましい。また、選択率の
変化を追跡する途中で反応条件を変化させた場合には、
経験的に求められるプラント固有の推算式に基づいて、
選択率に及ぼす反応条件の変化の影響を補正すればよ
い。
【００１３】本発明はエチレンからのエチレンオキシド
の製造に特に好適であるが、他のオレフィン、例えばブ
タジエンのエポキシ化にも適用できる。
の製造に特に好適であるが、他のオレフィン、例えばブ
タジエンのエポキシ化にも適用できる。
【００１４】
【実施例】以下に実施例により本発明を更に具体的に説
明する。なお、実施例で用いた触媒は下記により調製し
た。 触媒の調製；α−アルミナ担体（表面積１．０４ｍ2 ／
ｇ、吸収率３２．３％、平均細孔径１．４μｍ、シリカ
含有量３．０重量％、外径８ｍｍ、内径３ｍｍ、高さ８
ｍｍの筒状）９０ｇを、炭酸リチウム（Ｌｉ2 ＣＯ3 ）
１．４０ｇと炭酸セシウム（Ｃｓ2 ＣＯ3 ）０．１２９
ｇが溶解している水溶液１５０ｍＬに投入し、担体に水
溶液を含浸させた。担体を取り出し、これに１５０℃の
過熱水蒸気を２ｍ／秒で１５分間接触させて乾燥させ
た。得られた担体のリチウム含有量は５６８重量ｐｐｍ
であり、セシウム含有量は２２７重量ｐｐｍであった。
明する。なお、実施例で用いた触媒は下記により調製し
た。 触媒の調製；α−アルミナ担体（表面積１．０４ｍ2 ／
ｇ、吸収率３２．３％、平均細孔径１．４μｍ、シリカ
含有量３．０重量％、外径８ｍｍ、内径３ｍｍ、高さ８
ｍｍの筒状）９０ｇを、炭酸リチウム（Ｌｉ2 ＣＯ3 ）
１．４０ｇと炭酸セシウム（Ｃｓ2 ＣＯ3 ）０．１２９
ｇが溶解している水溶液１５０ｍＬに投入し、担体に水
溶液を含浸させた。担体を取り出し、これに１５０℃の
過熱水蒸気を２ｍ／秒で１５分間接触させて乾燥させ
た。得られた担体のリチウム含有量は５６８重量ｐｐｍ
であり、セシウム含有量は２２７重量ｐｐｍであった。
【００１５】硝酸銀（ＡｇＮＯ3 ）２２８ｇを１Ｌの水
に溶解した水溶液と、シュウ酸カリウム（Ｋ2 Ｃ2 Ｏ4
・Ｈ2 Ｏ）１３５ｇを１Ｌの水に溶解した水溶液を調製
し、両溶液を６０℃で徐々に混合してシュウ酸銀の白色
沈澱を生成させた。濾過して沈澱を回収し、蒸留水で洗
浄してシュウ酸銀の沈澱（Ａｇ2 Ｃ2 Ｏ4 、含水率２
１．２％）を得た。
に溶解した水溶液と、シュウ酸カリウム（Ｋ2 Ｃ2 Ｏ4
・Ｈ2 Ｏ）１３５ｇを１Ｌの水に溶解した水溶液を調製
し、両溶液を６０℃で徐々に混合してシュウ酸銀の白色
沈澱を生成させた。濾過して沈澱を回収し、蒸留水で洗
浄してシュウ酸銀の沈澱（Ａｇ2 Ｃ2 Ｏ4 、含水率２
１．２％）を得た。
【００１６】エチレンジアミン２．０５ｇ、１，３−ジ
アミノプロパン０．５６２ｇ及び水２．６５ｇから成る
混合アミン水溶液に、上記で得たシュウ酸銀の含水沈澱
７．３１ｇを徐々に添加して溶解させ、銀アミン錯体溶
液を調製した。これに硝酸セシウム（ＣｓＮＯ3 ）の
５．５４重量％水溶液０．６ｍＬ及び過レニウム酸アン
モニウム（ＮＨ4 ＲｅＯ4 ）の３．０５重量％水溶液
０．６ｍＬを添加して、銀、レニウム及びセシウムを含
む溶液を得た。この溶液をエバポレーターに入れ、これ
に上記で調製したリチウム及びセシウムを担持させた担
体３０ｇを加え、減圧下に４０℃で保持して溶液を担体
に含浸させた。次いでこの担体を取出し、これに２００
℃の過熱水蒸気を２ｍ／秒で１５分間接触させて触媒を
調製した。得られた触媒の銀、レニウム、セシウム及び
リチウムの担持量は、それぞれ１２重量％、３７０重量
ｐｐｍ、６７０重量ｐｐｍ及び４７０重量ｐｐｍであっ
た。この触媒を破砕し、６〜１０メッシュの部分を以下
の実験に用いた。
アミノプロパン０．５６２ｇ及び水２．６５ｇから成る
混合アミン水溶液に、上記で得たシュウ酸銀の含水沈澱
７．３１ｇを徐々に添加して溶解させ、銀アミン錯体溶
液を調製した。これに硝酸セシウム（ＣｓＮＯ3 ）の
５．５４重量％水溶液０．６ｍＬ及び過レニウム酸アン
モニウム（ＮＨ4 ＲｅＯ4 ）の３．０５重量％水溶液
０．６ｍＬを添加して、銀、レニウム及びセシウムを含
む溶液を得た。この溶液をエバポレーターに入れ、これ
に上記で調製したリチウム及びセシウムを担持させた担
体３０ｇを加え、減圧下に４０℃で保持して溶液を担体
に含浸させた。次いでこの担体を取出し、これに２００
℃の過熱水蒸気を２ｍ／秒で１５分間接触させて触媒を
調製した。得られた触媒の銀、レニウム、セシウム及び
リチウムの担持量は、それぞれ１２重量％、３７０重量
ｐｐｍ、６７０重量ｐｐｍ及び４７０重量ｐｐｍであっ
た。この触媒を破砕し、６〜１０メッシュの部分を以下
の実験に用いた。
【００１７】実施例１ 内径７．５ｍｍのステンレススチール製反応管に、触媒
３ｍＬを充填し、これに原料ガス（エチレン３０体積
％、酸素８．５体積％、塩化ビニル１．５体積ｐｐｍ、
二酸化炭素６．０体積％、残部窒素）を０℃、１気圧で
のＧＨＳＶとして４３００ｈｒ-1、圧力０．８ＭＰａで
供給し、エチレンオキシドの触媒１Ｌ当りの空時収率
（ＳＴＹ）が０．１９ｋｇ−エチレンオキシド／ｈｒと
なるように反応温度を制御した。反応の経過に伴う反応
温度、エチレンオキシドの選択率を表−１に示す。
３ｍＬを充填し、これに原料ガス（エチレン３０体積
％、酸素８．５体積％、塩化ビニル１．５体積ｐｐｍ、
二酸化炭素６．０体積％、残部窒素）を０℃、１気圧で
のＧＨＳＶとして４３００ｈｒ-1、圧力０．８ＭＰａで
供給し、エチレンオキシドの触媒１Ｌ当りの空時収率
（ＳＴＹ）が０．１９ｋｇ−エチレンオキシド／ｈｒと
なるように反応温度を制御した。反応の経過に伴う反応
温度、エチレンオキシドの選択率を表−１に示す。
【００１８】なお、エチレンオキシドの選択率は４時間
間隔で反応生成ガスを分析してエチレンオキシドの選択
率を算出し、その１日の平均値をもってその日のエチレ
ンオキシドの選択率とした。塩化ビニル濃度を変化させ
る操作はその日の分析結果がでてから行った。
間隔で反応生成ガスを分析してエチレンオキシドの選択
率を算出し、その１日の平均値をもってその日のエチレ
ンオキシドの選択率とした。塩化ビニル濃度を変化させ
る操作はその日の分析結果がでてから行った。
【００１９】
【表１】 反応開始から約１８日でエチレンオキシドの選択率が最
高値に達し、その後、選択率は低下した。２４日目から
２９日目の５日間で選択率が１週間当り２．７％低下し
たので原料ガス中の塩化ビニル濃度を１．０体積ｐｐｍ
増加させ２．５ｐｐｍとしたところ、エチレンオキシド
の選択率は３４日目で８８．０％に向上した。その後、
選択率がまた低下し、４４日目に１週間当りの選択率の
低下が１．０％に達したことが確認されたので、原料ガ
ス中の塩化ビニル濃度を更に０．５体積ｐｐｍ増加させ
て３．０体積ｐｐｍとしたところ、選択率は４８日目で
８７．１％と再び向上した。その後、選択率は６２日目
までゆるやかにほぼ直線的に低下したが、１週間当りの
選択率の低下は約０．４％であった。この状態で原料ガ
ス中の塩化ビニル濃度を更に０．５体積ｐｐｍ増加させ
て３．５体積ｐｐｍとしたところ、選択率は逆に低下し
はじめた。６６日目に選択率が８３．８％まで低下した
ので、原料ガス中の塩化ビニル濃度を０．５体積ｐｐｍ
減少させて３．０体積ｐｐｍとした。その結果、選択率
は向上し、７７日目で８５．９％にまで回復した。
高値に達し、その後、選択率は低下した。２４日目から
２９日目の５日間で選択率が１週間当り２．７％低下し
たので原料ガス中の塩化ビニル濃度を１．０体積ｐｐｍ
増加させ２．５ｐｐｍとしたところ、エチレンオキシド
の選択率は３４日目で８８．０％に向上した。その後、
選択率がまた低下し、４４日目に１週間当りの選択率の
低下が１．０％に達したことが確認されたので、原料ガ
ス中の塩化ビニル濃度を更に０．５体積ｐｐｍ増加させ
て３．０体積ｐｐｍとしたところ、選択率は４８日目で
８７．１％と再び向上した。その後、選択率は６２日目
までゆるやかにほぼ直線的に低下したが、１週間当りの
選択率の低下は約０．４％であった。この状態で原料ガ
ス中の塩化ビニル濃度を更に０．５体積ｐｐｍ増加させ
て３．５体積ｐｐｍとしたところ、選択率は逆に低下し
はじめた。６６日目に選択率が８３．８％まで低下した
ので、原料ガス中の塩化ビニル濃度を０．５体積ｐｐｍ
減少させて３．０体積ｐｐｍとした。その結果、選択率
は向上し、７７日目で８５．９％にまで回復した。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） // Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ Ｆターム(参考） 4C048 AA01 BB01 CC01 XX02 XX05 4G069 AA03 AA08 AA10 BA01A BA01B BA04A BA05A BA06A BB02A BB02B BB08C BB15A BC01A BC02A BC04A BC04B BC06A BC06B BC32A BC32B BC64A BC64B BD05A BD12C CB08 CB09 DA06 EA02Y EB18Y EC02X EC02Y EC17Y FA02 FB19 GA16 4H039 CA63 CC40 CH10
Claims (7)
- 【請求項１】 銀、レニウム及びアルカリ金属を担体に
担持させてなる触媒に、オレフィン、酸素及びハロゲン
化合物を含む原料ガスを接触させてオレフィンオキシド
を製造する方法において、オレフィンオキシドの選択率
が１週間当り０．７％以上低下したならば原料ガス中の
ハロゲン化合物の濃度をハロゲン分子換算で０．１５体
積ｐｐｍ以上増加させることを特徴とするオレフィンオ
キシドの製造方法。 - 【請求項２】 オレフィンオキシドの選択率が１週間当
り１．０％以上低下したならば原料ガス中のハロゲン化
合物の濃度をハロゲン分子換算で０．１５体積ｐｐｍ以
上増加させることを特徴とする、請求項１記載のオレフ
ィンオキシドの製造方法。 - 【請求項３】 オレフィンオキシドの選択率が１週間当
り１．５％以上低下したならば原料ガス中のハロゲン化
合物の濃度をハロゲン分子換算で０．１５体積ｐｐｍ以
上増加させることを特徴とする、請求項１記載のオレフ
ィンオキシドの製造方法。 - 【請求項４】 オレフィンオキシドの選択率を２日間以
上にわたって追跡し、その選択率の低下を外挿して１週
間当りの選択率の低下を算出することを特徴とする、請
求項１ないし３のいずれかに記載のオレフィンオキシド
の製造方法。 - 【請求項５】 触媒が比表面積０．８〜１．７ｍ2 ／ｇ
の担体に、銀、レニウム及びアルカリ金属を担持させた
ものであることを特徴とする、請求項１ないし４のいず
れかに記載のオレフィンオキシドの製造方法。 - 【請求項６】 触媒が、担体にアルカリ金属を担持した
のち銀、レニウム及びアルカリ金属を担持する工程を経
て製造されたものであることを特徴とする、請求項１な
いし５のいずれかに記載のオレフィンオキシドの製造方
法。 - 【請求項７】 １週間当りのオレフィンオキシドの選択
率が所定の値以上低下したならば、原料ガス中のハロゲ
ン化合物濃度をハロゲン分子換算で０．２５体積ｐｐｍ
以上増加させることを特徴とする請求項１ないし６のい
ずれかに記載のオレフィンオキシドの製造方法。
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| JP2001051555A JP4042332B2 (ja) | 2001-02-27 | 2001-02-27 | レニウム含有触媒を用いるオレフィンオキシドの製造方法 |
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|---|---|
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| JP2009241002A (ja) * | 2008-03-31 | 2009-10-22 | Nippon Shokubai Co Ltd | エチレンオキシド製造用触媒および該触媒を用いたエチレンオキシドの製造方法 |
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-
2001
- 2001-02-27 JP JP2001051555A patent/JP4042332B2/ja not_active Expired - Fee Related
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