JP2002244069A - レーザ走査光学装置及び該光学装置を用いたレーザ走査方法 - Google Patents

レーザ走査光学装置及び該光学装置を用いたレーザ走査方法

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Abstract

(57)【要約】 【課題】フラットトップで均一な光エネルギー分布を持
ち、直線性の良いレーザ走査光学装置及び該光学装置を
用いたレーザ走査方法の提供。 【解決手段】レーザ光を出射するレーザ光源１と、ｆθ
レンズ１０及びシリンドリカルレンズ１１を含む結像光
学系９と、レーザ光を副走査方向に走査する第１の偏向
装置４と、主走査方向に走査する第２の偏向装置８とを
少なくとも有し、レーザ光を副走査方向に高速で繰り返
し走査しながら主走査方向に走査するに際し、結像光学
系により、走査面において主走査方向に長い楕円形のビ
ームを結像し、副走査方向の走査速度が主走査方向の走
査速度より高速となるように第１の偏向装置を駆動する
ことにより、副走査方向の光強度分布をフラットトップ
とし、主走査方向の直線性の走査歪み及び光エネルギー
分布を副走査で補正可能なように、予め入力された値又
は測定データを参照して第１の偏向装置を制御する。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、レーザ光を走査す
るレーザ走査光学装置及び該光学装置を用いたレーザ走
査方法に関し、特に、カラーフィルタのパターンや発光
素子材料を基板上に転写する熱転写装置に用いて好適な
レーザ走査光学装置及び該光学装置を用いたレーザ走査
方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】レーザ走査光学装置は、レーザプリンタ
の光学系に多く用いられていることが知られている。こ
れらの装置は、感光体に潜像を形成する電子写真装置や
材料を熱で転写する熱転写装置であるが、いずれも目視
で認識する文字や画像を形成する装置であるため、液晶
パネルのカラーフィルタ転写装置やＥＬ素子などのディ
スプレイ装置のように高精度な解像度や直線性を要求さ
れる高精度転写装置に対しては十分なものではない。ま
た、これらの装置の光学系は、偏向装置の面倒れの影響
が少なくなるような面倒れ補正光学系になっているが、
ステージ等の影響を緩和するものではない。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上記従来のレーザ走査
光学装置では、レーザ光は一方向のみに走査されるた
め、走査して描画した線の直線性は偏向装置の精度と光
学系の精度に依存し、走査線の曲がりやうねりを補正す
ることができないという問題がある。
【０００４】さらに、走査が一方向に限られるため、走
査と直行する方向（副走査方向）の光強度分布は平坦に
ならず、ビームの強度分布に依存し、ガウス分布かそれ
に近い分布になっている。このため、レーザ走査型の熱
転写装置の場合、副走査方向に光強度分布が均一でない
ため、熱エネルギー分布も均一にならず転写にむらが生
じるという問題もある。
【０００５】本発明は、上記問題点に鑑みてなされたも
のであって、その主たる目的は、熱転写等に用いられる
レーザ走査光学系において、走査線の曲がりやうねりを
補正して主走査方向の直線性の精度を上げ、さらに、走
査されたレーザビームの光強度分布の形状をフラットト
ップにして転写むらを防止することができるレーザ走査
光学装置及び該光学装置を用いたレーザ走査方法を提供
することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明のレーザ走査光学装置は、レーザ光を出射す
るレーザ光源と、前記レーザ光を結像する光学系と、前
記レーザ光を副走査方向に走査する第１の偏向装置と、
前記レーザ光を主走査方向に走査する第２の偏向装置と
を少なくとも有し、前記レーザ光を副走査方向に繰り返
し走査しながら主走査方向に走査するレーザ走査光学装
置であって、前記結像光学系が、走査面において主走査
方向に長い楕円形のビームを結像するように構成され、
副走査方向の走査速度が主走査方向の走査速度より高速
となるように、前記第１の偏向装置が駆動され、主走査
方向の直線性の走査歪みが前記第１の偏向装置による副
走査において補正されるように、予め入力された値又は
測定されたデータを参照して、前記第１の偏向装置が制
御されるものである。
【０００７】また、本発明のレーザ走査光学装置は、レ
ーザ光を出射するレーザ光源と、前記レーザ光を結像す
る光学系と、前記レーザ光を副走査方向に走査する第１
の偏向装置と、前記レーザ光を主走査方向に走査する第
２の偏向装置とを少なくとも有し、前記レーザ光を副走
査方向に繰り返し走査しながら主走査方向に走査するレ
ーザ走査光学装置であって、前記結像光学系が、走査面
において主走査方向に長い楕円形のビームを結像するよ
うに構成され、副走査方向の走査速度が主走査方向の走
査速度より高速となるように、前記第１の偏向装置が駆
動され、主走査方向の光エネルギー分布が前記第１の走
査装置による副走査において補正されるように、予め入
力された値又は測定されたデータを参照して、前記第１
の偏向装置が制御されるものである。
【０００８】また、本発明のレーザ走査光学装置は、レ
ーザ光を出射するレーザ光源と、前記レーザ光を結像す
る光学系と、前記レーザ光を副走査方向に走査する第１
の偏向装置と、前記レーザ光を主走査方向に走査する第
２の偏向装置と、副走査方向に偏向する第３の偏向装置
とを少なくとも有し、前記レーザ光を副走査方向に繰り
返し走査しながら主走査方向に走査するレーザ走査光学
装置であって、前記結像光学系が、走査面において主走
査方向に長い楕円形のビームを結像するように構成さ
れ、副走査方向の走査速度が主走査方向の走査速度より
高速となるように、前記第１の偏向装置が駆動され、主
走査方向の直線性の走査歪みが前記第３の偏向装置で補
正され、前記主走査方向の光エネルギー分布が前記第１
の走査装置による副走査において補正されるように、予
め入力された値又は測定されたデータを参照して、前記
第１及び第３の偏向装置が制御されるものである。
【０００９】本発明においては、前記第１の偏向装置
に、副走査方向の走査角度を調整する手段を備え、該走
査角度調整手段により描画ビーム幅が調整されることが
好ましい。
【００１０】また、本発明においては、前記第１の偏向
装置が、音響光学素子、電気光学素子又はガルバノミラ
ーのいずれかにより構成されることが好ましく、前記レ
ーザ光の走査面における光エネルギーが一定となるよう
に、前記第２の偏向装置の走査角度に対応して、前記音
響光学素子の振幅変調及び周波数変調が制御される構成
とすることができる。
【００１１】本発明のレーザ走査方法は、レーザ光を出
射するレーザ光源と、前記レーザ光を結像する光学系
と、前記レーザ光を副走査方向に走査する第１の偏向装
置と、前記レーザ光を主走査方向に走査する第２の偏向
装置とを少なくともするレーザ走査光学装置を用い、前
記レーザ光を副走査方向に繰り返し走査しながら主走査
方向に走査するレーザ走査方法であって、前記結像光学
系により、前記レーザ光を走査面において主走査方向に
長い楕円形のビームとして結像し、副走査方向の走査速
度が主走査方向の走査速度より高速となるように、前記
第１の偏向装置を駆動し、予め入力された値又は測定さ
れたデータを参照して、主走査方向の直線性の走査歪み
を前記第１の偏向装置による副走査において補正するも
のである。
【００１２】また、本発明のレーザ走査方法は、レーザ
光を出射するレーザ光源と、前記レーザ光を結像する光
学系と、前記レーザ光を副走査方向に走査する第１の偏
向装置と、前記レーザ光を主走査方向に走査する第２の
偏向装置とを少なくともするレーザ走査光学装置を用
い、前記レーザ光を副走査方向に繰り返し走査しながら
主走査方向に走査するレーザ走査方法であって、前記結
像光学系により、前記レーザ光を走査面において主走査
方向に長い楕円形のビームとして結像し、副走査方向の
走査速度が主走査方向の走査速度より高速となるよう
に、前記第１の偏向装置を駆動し、予め入力された値又
は測定されたデータを参照して、主走査方向の光エネル
ギー分布を前記第１の走査装置による副走査において補
正するものである。
【００１３】また、本発明のレーザ走査方法は、レーザ
光を出射するレーザ光源と、前記レーザ光を結像する光
学系と、前記レーザ光を副走査方向に走査する第１の偏
向装置と、前記レーザ光を主走査方向に走査する第２の
偏向装置と、副走査方向に偏向する第３の偏向装置とを
少なくともするレーザ走査光学装置を用い、前記レーザ
光を副走査方向に繰り返し走査しながら主走査方向に走
査するレーザ走査方法であって、前記結像光学系によ
り、前記レーザ光を走査面において主走査方向に長い楕
円形のビームとして結像し、副走査方向の走査速度が主
走査方向の走査速度より高速となるように、前記第１の
偏向装置を駆動し、予め入力された値又は測定されたデ
ータを参照して、主走査方向の直線性の走査歪みを前記
第３の偏向装置で補正し、主走査方向の光エネルギー分
布を前記第１の走査装置による副走査において補正する
ものである。
【００１４】このように、本発明は上記構成により、主
走査方向の直線性を副走査方向の偏向装置で精度良く補
正し、かつ、２次元に走査することによってフラットト
ップなビームが得られるため、高精度な熱転写装置が実
現できるという効果が得られる。
【００１５】
【発明の実施の形態】本発明に係るレーザ走査光学装置
は、その好ましい一実施の形態において、レーザ光を出
射するレーザ光源と、ｆθレンズ及びシリンドリカルレ
ンズを含む結像光学系と、レーザ光を副走査方向に走査
する音響光学素子等からなる第１の偏向装置と、主走査
方向に走査するガルバノミラー等からなる第２の偏向装
置とを少なくとも有し、レーザ光を副走査方向に繰り返
し走査しながら主走査方向に走査するものであり、結像
光学系により、走査面において主走査方向に長い楕円形
のビームを結像し、副走査方向の走査速度が主走査方向
の走査速度より高速となるように第１の偏向装置を駆動
することにより、副走査方向の光強度分布がフラットト
ップとなり、また、主走査方向の直線性の走査歪み及び
光エネルギー分布が第１の偏向装置による副走査におい
て補正されるように、予め入力された値又は測定された
データを参照して、第１の偏向装置を制御する。
【００１６】
【実施例】上記した本発明の実施の形態についてさらに
詳細に説明すべく、本発明の実施例について図面を参照
して説明する。
【００１７】［実施例１］まず、本発明の第１の実施例
に係るレーザ走査光学装置及び該光学装置を用いたレー
ザ走査方法について、図１乃至図３を参照して説明す
る。図１は、第１の実施例に係るレーザ走査光学装置の
主要な構成を模式的に示す図である。また、図２は、走
査面におけるビームスポットの形状及び光強度分布を示
す図であり、図３は、ビームスポットの走査方向及び副
走査方向の光強度分布を示す図である。
【００１８】図１に基づき、本実施例のレーザ走査光学
装置の構成について説明する。レーザ光源１から発せら
れたレーザ光は、アッテネータ２で加工に必要な光エネ
ルギーに減光された後、ビームエキスパンダ３に入射
し、必要なビーム径に変換される。そして、ビーム径が
変換されたレーザ光は、第１の偏向装置４に入射し、紙
面と垂直な副走査方向（ｙ方向）に走査されながらシリ
ンドリカルレンズ５、コリメートレンズ６、ミラー７を
介して、第２の偏向装置８に入射する。
【００１９】第２の偏向装置８では、レーザ光は主走査
方向（紙面の上下方向：ｘ方向）に走査される。ｘ方向
に走査されたレーザ光は、結像光学系９により走査面１
２で所定のビーム形状に変換された状態で走査面１２を
走査する。なお、第２の偏向装置８と走査面１２との間
には、図１では図示していないが４５度ミラーが設置さ
れ、走査面１２は水平に設置された基板を走査するよう
になっている。また、図１に示す結像光学系９は一つの
例を示すものであり、たとえばｆθレンズ１０とシリン
ドリカルレンズ１１とで構成することができる。
【００２０】図２は、図１における走査面１２でのビー
ムスポット１３の形状と光強度分布を示した図である。
ビームスポット１３の楕円形状の長軸方向（ｘ方向：主
走査方向）の寸法ａは、主にｆθレンズ１０の結像作用
で決定され、楕円形状の短軸方向（ｙ方向：副走査方
向）の寸法ｂは、主にｆθレンズ１０とシリンドリカル
レンズ１１の結像作用で決定され、その比率は、例えば
１０倍程度になっている。
【００２１】図３は、図１における走査面１２上を、図
２に示したビームスポット１３が走査する様子を模式的
に示した図である。ビームスポット１３は、ｙで示した
副走査方向を高速に走査を繰り返しながら、ｘで示した
主走査方向に走査される。
【００２２】以下、本実施例の動作について、図１乃至
図３を参照してさらに詳細に説明する。レーザ光源１か
らのレーザビームは、例えば１ｍｍ程度の円形のビーム
で出力される。本レーザ走査光学装置を液晶カラーフィ
ルタ転写装置に用いる場合、走査面１２において、フィ
ルム状の色素材料をガラス基板上に熱転写することにな
るが、転写する材料およびレーザ光源１の出力劣化等に
合わせて光エネルギーを調節する必要がある。転写に必
要な光エネルギーの確保の点から、光源としては波長１
０６４ｎｍのＮｄ：ＹＡＧレーザが用いられるが、レー
ザ光源１としてはこれに限ったものではない。
【００２３】アッテネータ２は、レーザ光の透過率を変
えて光エネルギーを変化させる装置であり、常に一定範
囲の光エネルギーが到達するよう調整される。レーザ光
の走査面１２でのビームスポットサイズは、結像光学系
９の焦点距離と入射ビーム径で決定される。ビームエキ
スパンダ３は、アッテネータ２からのビームを拡大また
は縮小して後述するシリンドリカルレンズ５とコリメー
トレンズ６の作用と合わせて、走査面１２でのビーム形
状を所定の大きさにするものである。
【００２４】第１の偏向装置４は、図３においてｙ方向
（副走査方向）にビームを走査させる。結像光学系９を
構成するｆθレンズ１０は、ｘ、ｙ両方向に結像作用を
持つが、シリンドリカルレンズ１１は、ｙ方向にのみ結
像作用を持つ。これらの作用を利用して走査面１２で
は、図２に示すような楕円形状で、それぞれの方向にほ
ぼガウス分布の強度分布を持つビームが得られる。
【００２５】このビームを図３に示すようにｙ方向（副
走査方向）に高速で走査しながらｘ方向（主走査方向）
に走査すると、図３右側に示すように、ｙ方向にフラッ
トトップな光エネルギー分布を得ることができる。な
お、第１の偏向装置４は、副走査の走査角度を変えるこ
とによりｙ方向の描画ビーム幅を変えられるようになっ
ており、必要なパターンサイズに合わせて、第１の偏向
装置４の振り角を変えることができる。また、図３で
は、ｙ方向の走査はシグザグに往復走査をしているが、
一方向に走査を繰り返す片方向走査であっても良い。
【００２６】また、ｘ方向の走査は第２の偏向装置８で
行うが、このとき第２の偏向装置８のｙ方向の角度誤差
のためにｘ方向は直線にならず、わずかにｙ方向にうね
りを持ってしまい、カラーフィルタ転写装置のように転
写する基板を走査しながらビームをｘ方向に走査する
と、基板上で斜めに走査することになる。これらを補正
するために、あらかじめ決められた値でｙ方向を補正す
る必要があり、第２の偏向装置８はこのようなビーム補
正を行う機能も兼ね備えている。
【００２７】この第１の偏向装置４としては、高速駆動
が可能な音響光学素子（ＡＯＤ：Acousto-Optic Deflec
tor）が用いられ、第２の偏向装置８としては走査角度
の大きいガルバノミラーが用いられるが、これらの偏向
装置はこれらに限ったものではないことは言うまでもな
い。例えば、第１の偏向装置４として電気光学効果を利
用した偏向装置、あるいは第２の偏向装置８と同様のガ
ルバノミラーを用いても良く、第２の偏向装置８として
ポリゴンミラーを用いても良い。
【００２８】なお、第２の偏向装置８でレーザビームを
広い角度で走査するとき、光軸付近と周辺付近ではレン
ズ、あるいは図１では図示していない４５度ミラーへの
入射角が異なるため、透過率あるいは反射率が異なって
くるが、第１の偏向装置４である音響光学素子は、一定
の周波数での振幅変調によりレーザ光の強度を変調する
ことができ、また、ＲＦ周波数を変調することにより角
度変調が可能な素子であるため、この変調作用を利用す
ることにより、走査面で常に光エネルギーが一定になる
ように周波数の振幅変調を走査角度に合わせて制御する
ことができる。この制御は、あらかじめ計算あるいは測
定したデータに基づいて行うこともできるし、図示して
いない主走査方向に設置されたセンサーで光強度をモニ
ターした値を用いることもできる。
【００２９】また、ｘ方向の直線性の歪みおよびｘ方向
の光強度分布の不均一さは、ｙ方向に対して、ｘ方向走
査毎に周期的に現れる場合が多い。従って、あらかじめ
これらの誤差を測定し、補正値を決めておくことにより
第１の偏向装置４による補正が可能になる。
【００３０】このように、レーザ光源から出射したレー
ザ光を第１の偏向装置４で副走査方向に走査し、第２の
偏向装置８で主走査方向に走査するレーザ走査光学装置
において、レーザビームを長軸が主走査方向と一致する
楕円形とし、ｙ方向の走査を高速で行うことにより、副
走査方向にフラットトップな光エネルギー分布を実現す
ることができる。また、主走査方向の曲がりやうねりを
第１の偏向装置４で調整することにより、主走査方向の
直線性を向上させることができる。
【００３１】［実施例２］次に、本発明の第２の実施例
に係るレーザ走査光学装置及び該光学装置を用いたレー
ザ走査方法について、図４を参照して説明する。図４
は、第２の実施例に係るレーザ走査光学装置の主要な構
成を模式的に示す図である。なお、本実施例は、ｙ方向
の直線性の補正を行うための第３の偏向装置１４を、第
１の偏向装置４と第２の偏向装置８との間に設置したこ
とを特徴とするものであり、他の部分の構成に関しては
前記した第１の実施例と同様である。
【００３２】図４に基づき、本実施例のレーザ走査光学
装置の構成について説明する。前記した第１の実施例と
同様に、レーザ光源１から発せられたレーザ光は、アッ
テネータ２で加工に必要な光エネルギーに減光された
後、ビームエキスパンダ３に入射し、必要なビーム径に
変換される。ビーム径が変換されたレーザ光は、第１の
偏向装置４に入射し、紙面と垂直な副走査方向（ｙ方
向）に走査されながらシリンドリカルレンズ５、コリメ
ートレンズ６、ミラー７を介して、本実施例の特徴部分
である第３の偏向装置１４に入射する。
【００３３】ここで、基板をステージでｙ方向に走査し
ながらレーザビームをｘ方向に走査する場合、ｘ方向に
走査されたビームは基板に対して斜めに走査することに
なる。また、図３に示すように、第１の偏向装置４でｙ
方向に走査させながらｘ方向に走査する場合、エッジの
直線性を第１の偏向装置４だけでは補正しきれない場合
がある。そこで、本実施例では、高精度にｘ方向エッジ
の直線性を得るために第３の偏向装置１４を図４に示す
ように設置し補正を行っている。
【００３４】そして、第３の偏向装置１４を通過したレ
ーザビームは、第２の偏向装置８に入射し、第２の偏向
装置８により、レーザ光は主走査方向（紙面の上下方
向：ｘ方向）に走査される。ｘ方向に走査されたレーザ
光は、結像光学系９により走査面１２で所定のビーム形
状に変換された状態で走査面１２を走査する。なお、結
像光学系９に４５度ミラー１５を設け、第２の偏向装置
８から出射されたレーザ光を４５度ミラー１５で反射し
て、水平に設置された基板を走査する場合は、図４
（ｂ）に示すような構成となる。
【００３５】このように、第１の偏向装置４と第２の偏
向装置８の間に第３の偏向装置１４を設けることによ
り、第１の偏向装置４で調整しきれない主走査方向の曲
がりやうねりを精密に調整することができ、前記した第
１の実施例よりも主走査方向の直線性を向上させること
ができる。
【００３６】
【発明の効果】以上説明したように、本発明のレーザ走
査光学装置によれば、例えば、カラーフィルタを熱転写
で作成する装置や、有機ＥＬ素子材料を基板に熱転写す
る装置のような高精度の走査を必要とする装置におい
て、ｙ方向（副走査方向）に走査しながらｘ方向（主走
査方向）に走査し、第１の偏光装置で位置ずれと光エネ
ルギー分布を補正し、さらに第３の偏向装置で位置ずれ
を精度良く補正することにより、直線性が良く、かつ光
エネルギー分布が均一でフラットトップな描画を得るこ
とができ、精度の良い熱転写装置を提供することができ
る。
【００３７】なお、本発明は上記各実施例に限定され
ず、本発明の技術思想の範囲内において、各実施例は適
宜変更され得ることは明らかである。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１の実施例に係るレーザ走査光学装
置の構成を模式的に示す図である。
【図２】本発明の第１の実施例に係るレーザ走査光学装
置の走査面上でのビームスポット形状及び光強度分布を
示す図である。
【図３】本発明の第１の実施例に係るレーザ走査光学装
置の加工面におけるビームの走査及び光強度分布を示す
図である。
【図４】本発明の第２の実施例に係るレーザ走査光学装
置の構成を模式的に示す図である。
【符号の説明】
１ レーザ光源 ２ アッテネータ ３ ビームエキスパンダ ４ 第１の偏向装置 ５ シリンドリカルレンズ ６ リレーレンズ ７ ミラー ８ 第２の偏向装置 ９ 結像光学系 １０ ｆθレンズ １１ シリンドリカルレンズ １２ 走査面 １３ ビームスポット １４ 第３の偏向装置 １５ ４５度ミラー

Claims (12)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】レーザ光を出射するレーザ光源と、前記レ
    ーザ光を結像する光学系と、前記レーザ光を副走査方向
    に走査する第１の偏向装置と、前記レーザ光を主走査方
    向に走査する第２の偏向装置とを少なくとも有し、前記
    レーザ光を副走査方向に繰り返し走査しながら主走査方
    向に走査するレーザ走査光学装置であって、 前記結像光学系が、走査面において主走査方向に長い楕
    円形のビームを結像するように構成され、 副走査方向の走査速度が主走査方向の走査速度より高速
    となるように、前記第１の偏向装置が駆動され、 主走査方向の直線性の走査歪みが前記第１の偏向装置に
    よる副走査において補正されるように、予め入力された
    値又は測定されたデータを参照して、前記第１の偏向装
    置が制御されることを特徴とするレーザ走査光学装置。
  2. 【請求項２】レーザ光を出射するレーザ光源と、前記レ
    ーザ光を結像する光学系と、前記レーザ光を副走査方向
    に走査する第１の偏向装置と、前記レーザ光を主走査方
    向に走査する第２の偏向装置とを少なくとも有し、前記
    レーザ光を副走査方向に繰り返し走査しながら主走査方
    向に走査するレーザ走査光学装置であって、 前記結像光学系が、走査面において主走査方向に長い楕
    円形のビームを結像するように構成され、 副走査方向の走査速度が主走査方向の走査速度より高速
    となるように、前記第１の偏向装置が駆動され、 主走査方向の光エネルギー分布が前記第１の走査装置に
    よる副走査において補正されるように、予め入力された
    値又は測定されたデータを参照して、前記第１の偏向装
    置が制御されることを特徴とするレーザ走査光学装置。
  3. 【請求項３】レーザ光を出射するレーザ光源と、前記レ
    ーザ光を結像する光学系と、前記レーザ光を副走査方向
    に走査する第１の偏向装置と、前記レーザ光を主走査方
    向に走査する第２の偏向装置と、副走査方向に偏向する
    第３の偏向装置とを少なくとも有し、前記レーザ光を副
    走査方向に繰り返し走査しながら主走査方向に走査する
    レーザ走査光学装置であって、 前記結像光学系が、走査面において主走査方向に長い楕
    円形のビームを結像するように構成され、 副走査方向の走査速度が主走査方向の走査速度より高速
    となるように、前記第１の偏向装置が駆動され、 主走査方向の直線性の走査歪みが前記第３の偏向装置で
    補正され、前記主走査方向の光エネルギー分布が前記第
    １の走査装置による副走査において補正されるように、
    予め入力された値又は測定されたデータを参照して、前
    記第１及び第３の偏向装置が制御されることを特徴とす
    るレーザ走査光学装置。
  4. 【請求項４】前記第１の偏向装置に、副走査方向の走査
    角度を調整する手段を備え、該走査角度調整手段により
    描画ビーム幅が調整されることを特徴とする請求項１乃
    至３のいずれか一に記載のレーザ走査光学装置。
  5. 【請求項５】前記第１の偏向装置が、音響光学素子、電
    気光学素子又はガルバノミラーのいずれかにより構成さ
    れることを特徴とする請求項４記載のレーザ走査光学装
    置。
  6. 【請求項６】前記レーザ光の走査面における光エネルギ
    ーが一定となるように、前記第２の偏向装置の走査角度
    に対応して、前記音響光学素子の振幅変調及び周波数変
    調が制御されることを特徴とする請求項５記載のレーザ
    走査光学装置。
  7. 【請求項７】前記第２の偏向装置が、ガルバノミラー又
    はポリゴンミラーにより構成されることを特徴とする請
    求項１乃至６のいずれか一に記載のレーザ走査光学装
    置。
  8. 【請求項８】前記結像光学系に、ｆθレンズとシリンド
    リカルレンズとビームエキスパンダとを含み、該結像光
    学系により、前記レーザ光が所定の大きさ及び扁平率の
    楕円形に調整されることを特徴とする請求項１乃至７の
    いずれか一に記載のレーザ走査光学装置。
  9. 【請求項９】レーザ光を出射するレーザ光源と、前記レ
    ーザ光を結像する光学系と、前記レーザ光を副走査方向
    に走査する第１の偏向装置と、前記レーザ光を主走査方
    向に走査する第２の偏向装置とを少なくともするレーザ
    走査光学装置を用い、前記レーザ光を副走査方向に繰り
    返し走査しながら主走査方向に走査するレーザ走査方法
    であって、 前記結像光学系により、前記レーザ光を走査面において
    主走査方向に長い楕円形のビームとして結像し、 副走査方向の走査速度が主走査方向の走査速度より高速
    となるように、前記第１の偏向装置を駆動し、 予め入力された値又は測定されたデータを参照して、主
    走査方向の直線性の走査歪みを前記第１の偏向装置によ
    る副走査において補正することを特徴とするレーザ走査
    方法。
  10. 【請求項１０】レーザ光を出射するレーザ光源と、前記
    レーザ光を結像する光学系と、前記レーザ光を副走査方
    向に走査する第１の偏向装置と、前記レーザ光を主走査
    方向に走査する第２の偏向装置とを少なくともするレー
    ザ走査光学装置を用い、前記レーザ光を副走査方向に繰
    り返し走査しながら主走査方向に走査するレーザ走査方
    法であって、 前記結像光学系により、前記レーザ光を走査面において
    主走査方向に長い楕円形のビームとして結像し、 副走査方向の走査速度が主走査方向の走査速度より高速
    となるように、前記第１の偏向装置を駆動し、 予め入力された値又は測定されたデータを参照して、主
    走査方向の光エネルギー分布を前記第１の走査装置によ
    る副走査において補正することを特徴とするレーザ走査
    方法。
  11. 【請求項１１】レーザ光を出射するレーザ光源と、前記
    レーザ光を結像する光学系と、前記レーザ光を副走査方
    向に走査する第１の偏向装置と、前記レーザ光を主走査
    方向に走査する第２の偏向装置と、副走査方向に偏向す
    る第３の偏向装置とを少なくともするレーザ走査光学装
    置を用い、前記レーザ光を副走査方向に繰り返し走査し
    ながら主走査方向に走査するレーザ走査方法であって、 前記結像光学系により、前記レーザ光を走査面において
    主走査方向に長い楕円形のビームとして結像し、 副走査方向の走査速度が主走査方向の走査速度より高速
    となるように、前記第１の偏向装置を駆動し、 予め入力された値又は測定されたデータを参照して、主
    走査方向の直線性の走査歪みを前記第３の偏向装置で補
    正し、主走査方向の光エネルギー分布を前記第１の走査
    装置による副走査において補正することを特徴とするレ
    ーザ走査方法。
  12. 【請求項１２】前記第１の偏向装置が、音響光学素子か
    らなり、 前記レーザ光の走査面における光エネルギーが一定とな
    るように、前記第２の偏向装置の走査角度に対応して、
    前記音響光学素子の振幅変調及び周波数変調を制御する
    ことを特徴とする請求項９乃至１１のいずれか一に記載
    のレーザ走査方法。
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