JP2002237510A - 真空搬送装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 成膜処理前の円形ドーム状のワークＷを上昇
させて入口室５に底壁の円形状開口９及び搬送ローラ１
４ａ，１４ｂ間を通って搬入した後にキャリア１２に移
載し、そのキャリア１２を搬送ローラ１４ａ，１４ｂに
より蒸着室１に移送してワークＷに成膜し、その後にキ
ャリア１２を搬送ローラ１４ａ，１４ｂにより蒸着室１
から出口室６に移送し、成膜後のワークＷをキャリア１
２から降ろした後に下降させて搬送ローラ１４ａ，１４
ｂ間及び出口室６底壁の円形状開口１０を通って出口室
６から搬出する場合に、昇降移動するワークＷの搬送ロ
ーラ１４ａ，１４ｂとの干渉を防止しつつ、搬送ローラ
１４ａ，１４ｂの幅方向の間隔ｄを短くして入口室５及
び出口室６の容積を小さくする。 【解決手段】 搬送ローラ１４ａ，１４ｂの位置を開口
９，１０の幅方向最大位置Ｐよりもワーク搬送方向前後
両側にオフセットし、ローラ幅方向の間隔ｄを短くす
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、真空空間でワーク
をキャリアに支持して搬送するようにした真空搬送装置
に関する技術分野に属する。

【０００２】

【従来の技術】従来より、真空室内で基板に蒸着等の成
膜処理を行うための真空成膜用の搬送装置として、基板
を有するワークをキャリアに載置して入口ロードロック
室に搬入し、その入口ロードロック室を真空引きして真
空状態にした後、入口ロードロック室に隣接する真空室
からなる成膜室との間のゲート弁を開いて、ワークを載
せたキャリアを入口ロードロック室から成膜室に搬送
し、上記ゲート弁を閉じた状態で真空室でワークの基板
に対する各種の成膜処理を行う一方、その成膜が終了す
ると、成膜室に隣接する出口ロードロック室との間のゲ
ート弁を開いて、成膜後のワークを載せたキャリアを成
膜室から出口ロードロック室に搬送し、ゲート弁を閉じ
た状態で出口ロードロック室を大気に開放してワークを
キャリアと共に取り出し、ワークをキャリアから降ろし
て、その空になったキャリアを入口側に還流させるよう
にしたものが一般的に知られている（例えば特開平２―
２００７７９号や特開平３―２８７７６６号等の各公
報）。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】ところで、このような
真空搬送装置において、成膜室（真空室）とロードロッ
ク室との間でキャリアを移送させるキャリア移送機構と
して、各室内の下部に複数の搬送ローラをワーク搬送方
向と略直交する幅方向に対向して対となるように設置
し、その搬送ローラにキャリアを上載して移送させるこ
とで、ワークをキャリアに載置支持して搬送するように
したものがある。

【０００４】その場合、入口ロードロック室内に外部か
らワークを搬入するための開口（搬入口）、及び出口ロ
ードロック室内のワークを外部に搬出するための開口
（搬出口）を各ロードロック室の底壁（下壁）に形成す
ると、上記ワークは、上記キャリアの移送面（水平面）
と略直交する上下方向に搬送ローラ間を通って昇降移動
して開口を通過することとなるが、そのワークが搬送ロ
ーラ間を通る際にその搬送ローラと干渉する虞れがあ
る。従って、このようなワークと搬送ローラとの干渉を
避けるには、その搬送ローラの位置を開口のワーク搬送
方向と略直交する幅方向の位置よりも外側に配置する必
要があり、このため、搬送ローラ間の間隔が大きくな
り、ロードロック室の幅方向の大きさが増大してその容
積が大きくなり、その真空引きに時間がかかる等の問題
が生じる。

【０００５】本発明は斯かる点に鑑みてなされたもの
で、その目的は、上記のように、ロードロック室等の移
載室と真空室との間でキャリアを移載室壁部の開口と略
平行なキャリア移送面に沿って搬送ローラにより移送
し、移載室においてワークをキャリア移送面と略直交す
る方向に搬送ローラ間を通って移動させて開口を通過さ
せるようにした真空搬送装置に対し、その搬送ローラの
レイアウトを改良することで、移動するワークとの搬送
ローラの干渉を防止しつつ、その搬送ローラの幅方向の
間隔を短くして移載室の容積を小さくしようとすること
にある。

【０００６】

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、請求項１の発明では、ワークが通過可能な開口を
壁部に有する移載室、及びこの移載室に接続される真空
室の間で移動可能に設けられ、ワークを支持するキャリ
アと、このキャリアを移載室及び真空室間で上記開口と
略平行なキャリア移送面に沿って移送する搬送ローラを
有するキャリア移送機構とを備え、キャリアがない状態
の移載室でワークを上記キャリア移送面と略直交する方
向に搬送ローラ間を通って移動させて上記開口を通過さ
せるようにした真空搬送装置が対象であり、上記移載室
における搬送ローラの位置を、上記開口のワーク搬送方
向と略直交する幅方向の最大位置よりもワーク搬送方向
前後両側にオフセットする。

【０００７】上記の構成によると、ワークを支持したキ
ャリアがキャリア移送機構の搬送ローラにより移載室及
び真空室間で移載室壁部の開口と略平行なキャリア移送
面に沿って移送され、このことでワークがキャリアに支
持されて移載室及び真空室間で搬送される。そして、移
載室においては、キャリアがない状態で、ワークがキャ
リア移送面と略直交する方向に搬送ローラ間を通って移
動して開口を通過する。

【０００８】そのとき、上記移載室における搬送ローラ
の位置が開口の幅方向最大位置よりもワーク搬送方向前
後両側にオフセットしているので、上記キャリア移送面
と略直交する方向の開口を経由して移動するワークがキ
ャリア移送機構の搬送ローラ間を通る際に、そのワーク
が搬送ローラと干渉するのを防止することができるとと
もに、上記搬送ローラ間の幅方向の間隔を可及的に短く
してキャリア移送機構の幅を狭くし、延いては移載室の
容積を小さくすることができる。これらにより、ワーク
の開口の通過時の搬送ローラへの干渉の防止と、移載室
の容積の縮小化とを両立させることができる。

【０００９】請求項２の発明では、上記移載室をロード
ロック室とした。すなわち、この発明では、入出口ゲー
ト弁により開閉される開口を経てワークの搬入又は搬出
の少なくとも一方が行われるロードロック室、及びこの
ロードロック室に中間ゲート弁を介して接続された真空
室の内部で移動可能に設けられ、ワークを支持するキャ
リアと、このキャリアをロードロック室及び真空室間で
上記開口と略平行なキャリア移送面に沿って移送する搬
送ローラを有するキャリア移送機構とを備え、キャリア
がない状態のロードロック室でワークを上記キャリア移
送面と略直交する方向に搬送ローラ間を通って移動させ
て上記開口を通過させるようにした真空搬送装置とし
て、上記ロードロック室における搬送ローラの位置が、
上記開口のワーク搬送方向と略直交する幅方向の最大位
置よりもワーク搬送方向前後両側にオフセットされてい
ることを特徴とする。

【００１０】この構成によれば、入出口ゲート弁の開弁
により開かれた開口を経てワークをロードロック室に搬
入し又はロードロック室から搬出するとき、そのロード
ロック室にキャリアがない状態で、ワークがキャリア移
送面と略直交する方向に搬送ローラ間を通って移動して
開口を通過し、このことでワークのロードロック室に対
する搬入出が行われる。そして、上記ロードロック室に
おける搬送ローラの位置が開口の幅方向最大位置よりも
ワーク搬送方向前後両側にオフセットしているので、上
記ロードロック室に搬入又は搬出されるワークがキャリ
ア移送面と略直交する方向の開口を経由してキャリア移
送機構の搬送ローラ間を通る際の搬送ローラとの干渉を
防止できるとともに、上記搬送ローラ間の幅方向の間隔
を可及的に短くしてキャリア移送機構の幅を狭くし、ロ
ードロック室の容積を小さくすることができる。よって
ワークの開口の通過時の搬送ローラへの干渉の防止と、
ロードロック室の容積の縮小化との両立を図ることがで
きる。

【００１１】請求項３の発明では、ワークは平面視で円
形状のものとし、搬送ローラはキャリアを上載して移送
するものとし、開口は搬送ローラの下側の壁部に設けら
れているものとする。

【００１２】このことで、ワークを搬送ローラの上側に
ある位置と下側にある位置との間で昇降移動させて開口
を通過させるときに、そのワークの搬送ローラへの干渉
の防止と、室の容積の縮小化との両立を図ることができ
る。

【００１３】

【発明の実施の形態】図１は本発明の実施形態に係る真
空搬送装置Ａの全体構成を示し、この真空搬送装置Ａ
は、真空空間でワークＷを搬送して該ワークＷ上の各基
板（図示せず）に蒸着膜を成膜するためのものである。

【００１４】図１に示すように、上記ワークＷは平面視
で円形状となる円形ドーム形状のもので、表面に複数の
基板が支持された基板ドームＷ１と、この基板ドームＷ
１の中心部に着脱可能に設けられ、基板に対する例えば
複数種類の多層の成膜状態をモニタする複数枚のモニタ
ガラス（図示せず）を収容するモニタガラスカートリッ
ジＷ２とを備えてなる。

【００１５】図１において、１は常時真空状態に保たれ
る常時真空室としての蒸着室で、この蒸着室１内の底壁
には蒸着源２が配置されており、この蒸着源２を加熱し
て蒸発させてワークＷにおける基板ドームＷ１上の各基
板に対し蒸着膜を成膜するようにしている。

【００１６】上記蒸着室１の上部において対向する側壁
の一方の外側には入口ロードロック室又は移載室として
の入口室５が、また他方の外側には出口ロードロック室
又は移載室としての出口室６がそれぞれ配設されてい
る。上記入口室５と蒸着室１とは、開閉により両室１，
５を連通又は連通遮断する入口中間ゲート弁７を介して
接続されている。一方、蒸着室１及び出口室６について
も、開閉して両室１，６を連通又は連通遮断する出口中
間ゲート弁８を介して接続されている。

【００１７】上記入口室５の底壁（下壁）にはワークＷ
を搬送姿勢（水平姿勢）のまま昇降させて通過可能な大
きさの円形状の開口９が形成され、この開口９は、後述
するワーク搬入機構３０の円板状の搬入テーブル３１に
より外部から気密状に開閉される。つまり、この搬入テ
ーブル３１は入口ゲート弁を構成している。

【００１８】一方、出口室６の底壁（下壁）にもワーク
Ｗを搬送姿勢のまま昇降させて通過可能な大きさの円形
状の開口１０が形成され、この開口１０は後述のワーク
搬出機構３４の円板状の搬出テーブル３５により外部か
ら気密状に開閉されるようになっており、この搬出テー
ブル３５は出口ゲート弁を構成している。

【００１９】上記ワークＷは入口室５、蒸着室１及び出
口室６の各々の内部で移動可能な１台のキャリア１２に
より載置支持された状態で入口室５から蒸着室１を経由
して出口室６に順に搬送される。上記キャリア１２は、
図５に拡大詳示するように、矩形枠状のもので、その各
辺の中央部には細板状のガイド部１２ａ，１２ａ，…が
立設されており、ワークＷは、これら４本のガイド部１
２ａ，１２ａ，…間に位置するように上方から降下して
キャリア１２上に載置支持される。

【００２０】上記蒸着室１、入口室５及び出口室６の各
々に亘り上記キャリア１２を上記入口室５及び出口室６
の各開口９，１０と略平行なキャリア移送面（水平面）
に沿ってワーク搬送方向（入口室５から蒸着室１を経由
して出口室６に向かう方向）と同じ方向に順移送させ又
はワーク搬送方向と逆の方向に逆移送させるキャリア移
送機構１３が設けられている。このキャリア移送機構１
３は、例えば図２及び図３に拡大して示するように（こ
の図２及び図３では蒸着室１及び出口室６にある部分を
示しており、入口室５のものも同様の構造である）、各
室１，５，６においてワーク搬送方向と直交する幅方向
に対向する側壁に該幅方向に対向配置された状態で回転
可能に支持されかつ各室１，５，６毎に４対ずつ設けら
れた２種類の搬送ローラ１４ａ，１４ｂを備えてなる。
これらの搬送ローラ１４ａ，１４ｂはキャリア１２の幅
方向側部を上載支持するもので、いずれも入口室５、蒸
着室１及び出口室６で同じ高さ位置となるように配置さ
れている。各室１，５，６の４対の搬送ローラ１４ａ，
１４ｂのうち、ワーク搬送方向前後両端において幅方向
に対向する２対の端部側搬送ローラ１４ａ，１４ａ同士
は各室１，５，６を幅方向に貫通する１本の支持軸１５
上に回転一体に固定されている。図４に示すように、こ
の支持軸１５の一端部は各室１，５，６の側壁を貫通す
る軸受部１６に気密状に支持されて室外に突出し、その
突出部分には歯付プーリ１７が取り付けられ、この各歯
付プーリ１７はいずれも図外の駆動制御部に駆動連結さ
れている。各室１，５，６において幅方向の側壁には、
ワーク搬送方向に沿った方向の中央側に向かうようにワ
ーク搬送方向と平行に延びかつ基端部を上記各軸受部１
６に一体的に固定した支持ブラケット１９が固定支持さ
れ、この各支持ブラケット１９の先端部に、各室１，
５，６の４対の搬送ローラ１４ａ，１４ｂのうちワーク
搬送方向前後中間側において幅方向に対向する２対の中
間側搬送ローラ１４ｂ，１４ｂが回転自在に支持されて
いる。そして、この各中間側搬送ローラ１４ｂは、支持
ブラケット１９の基端部に位置する端部側搬送ローラ１
４ａに対し、スプロケット１８ａ及びそれに噛合するチ
ェーン１８ｂからなるチェーン伝動機構１８を介して駆
動連結されており、駆動制御部の駆動により各室１，
５，６毎の２対の端部側搬送ローラ１４ａを、またこれ
ら端部側搬送ローラ１４ａにチェーン伝動機構１８を介
して中間側搬送ローラ１４ｂをそれぞれ同じ方向に連動
して回転させ、これら４対の搬送ローラ１４ａ，１４ｂ
の同方向の回転により、その例えば正転時にあってはキ
ャリア１２をワーク搬送方向と同じ方向に順移送させる
一方、逆転時にあってはワーク搬送方向と逆の方向に逆
移送させるようにしている。

【００２１】さらに、上記入口室５及び出口室６におい
て各々の内部の上壁部にはそれぞれワークＷを保持する
ワーク保持機構２０が設けられている。これら両ワーク
保持機構２０はいずれも同じ構造のもので、各室５，６
の上壁に気密状に貫通した状態で回転可能にかつ昇降可
能に支持されかつ室５，６の外部から駆動されて回転動
作及び昇降動作が行われる回転昇降部２１と、この回転
昇降部２１の下端に中央部にて一体的に固定され、外周
縁部でワークＷにおける基板ドームＷ１の外周縁部を回
転しながら係止する係止アーム部２２とを備えてなる。

【００２２】そして、入口室５では、その内部（詳しく
はその搬送ローラ１４ａ，１４ｂ上）にキャリア１２が
ない状態で、ワーク保持機構２０の係止アーム部２２を
回転昇降部２１により下降させておいて、後述のワーク
搬入機構３０の搬入テーブル３１により開口９を経て入
口室５内に搬入された処理前（未処理）のワークＷを係
止アーム部２２の正回転により係止し、その係止アーム
部２２の上昇動作によりワークＷをワーク搬入機構３０
から取り上げて入口室５内の上部に保持する一方、入口
室５に空のキャリア１２が位置している状態で、上記ワ
ーク保持機構２０に保持されている処理前のワークＷを
係止アーム部２２の下降移動により下降させ、その係止
アーム部２２の逆回転によりワークＷとの係止を解除し
て該ワークＷをキャリア１２上に移載するようにしてい
る。

【００２３】これに対して、出口室６では、処理後（処
理済み）のワークＷを載置支持したキャリア１２が出口
室６内（詳しくはその搬送ローラ１４ａ，１４ｂ上）に
位置している状態で、係止アーム部２２を下降位置に位
置づけた状態で正回転させてワークＷに係止し、その係
止アーム部２２の上昇動作によりワークＷをキャリア１
２から取り上げて出口室６内の上部に保持する一方、出
口室６にキャリア１２がないときに、後述のワーク搬出
機構３４の搬出テーブル３５を上昇させておき、上記ワ
ーク保持機構２０に保持されているワークＷを係止アー
ム部２２の下降移動により下降させて、その係止アーム
部２２の逆回転によりワークＷとの係止を解除して該ワ
ークＷを搬出テーブル３５に移載するようにしている。

【００２４】蒸着室１内の上壁部にはワークＷを保持し
て回転させるワーク回転機構２３が設けられている。こ
のワーク回転機構２３は、上記入口室５及び出口室６の
ワーク保持機構２０と略同様のもので、蒸着室１の上壁
に気密状に貫通した状態で回転可能に支持されかつ蒸着
室１の外部から駆動されて回転動作が行われる回転軸部
２４と、この回転軸部２４の下端に中央部にて一体的に
固定され、外周縁部でワークＷにおける基板ドームＷ１
の外周縁部を回転しながら係止する係止アーム部２５
と、この係止アーム部２５に支持されたワークＷのモニ
タガラスカートリッジＷ２を取り出して、その内部の複
数枚のモニタガラスを多層膜の蒸着処理の変更の都度交
換するモニタガラス交換機構（図示せず）とを備えてな
る。

【００２５】また、蒸着室１内の下部にはそのキャリア
移送機構１３の搬送ローラ１４ａ，１４ｂ上にあるキャ
リア１２を上昇動作により上昇させるキャリア昇降機構
２７が設置されており、ワークＷの各基板に成膜すると
きには、処理前のワークＷを載置支持したキャリア１２
が蒸着室１（詳しくはその搬送ローラ１４ａ，１４ｂ
上）に位置している状態で、キャリア昇降機構２７の上
昇動作によりキャリア１２を搬送ローラ１４ａ，１４ｂ
から持ち上げ、その状態でワーク回転機構２３の係止ア
ーム部２５によりワークＷを係止してキャリア１２から
取り上げた後、このワーク回転機構２３によりワークＷ
を保持したままで回転させることにより、そのワークＷ
の基板に蒸着源２からの蒸着膜を成膜する一方、ワーク
Ｗの基板に対する成膜処理が終了すると、上記成膜時と
は逆に、ワーク回転機構２３の係止アーム部２５のワー
クＷとの係止を解除してワークＷを係止アーム部２５か
らキャリア１２上に預けるとともに、キャリア昇降機構
２７を下降移動させてキャリア１２をキャリア移送機構
１３の搬送ローラ１４ａ，１４ｂ上に載置支持するよう
にしている。

【００２６】また、入口室５底壁の下方（室外側）の床
面上には、処理前のワークＷを上記入口室５に搬入する
ワーク搬入機構３０が設置されている。このワーク搬入
機構３０は、上記入口室５底壁の開口９を開閉する入口
ゲート弁としての搬入テーブル３１を構成部材の一部と
して有し、この搬入テーブル３１は図外の昇降手段によ
り昇降移動される。そして、搬入テーブル３１の上面に
はワークＷを上載支持する支持部３１ａが突設されてお
り、搬入テーブル３１が下降端位置にあるときに、搬入
台車３２により供給された処理前のワークＷを搬入テー
ブル３１の支持部３１ａ上に移載し、入口室５にキャリ
ア１２がない状態で搬入テーブル３１の上昇により支持
部３１ａ上のワークＷを開口９及び搬送ローラ１４ａ，
１４ｂ間を通って入口室５内に搬入した後に、ワーク保
持機構２０に移載するようにしている。

【００２７】一方、出口室６底壁の下方（室外側）の床
面上には、処理後のワークＷを出口室６から搬出するワ
ーク搬出機構３４が設置されている。このワーク搬出機
構３４は、上記ワーク搬入機構３０と同様に、上記出口
室６底壁の開口１０を開閉する出口ゲート弁としての搬
出テーブル３５を構成部材の一部として有し、この搬出
テーブル３５は図外の昇降手段により昇降移動される。
搬出テーブル３５の上面にはワークＷを上載支持する支
持部３５ａが突設されており、搬出テーブル３５が上昇
端位置にあるときに、出口室６にキャリア１２がない状
態でワーク保持機構２０から処理後のワークＷを搬出テ
ーブル３５の支持部３５ａ上に移載した後、搬出テーブ
ル３５の下降により支持部３５ａ上のワークＷを出口室
６外にその搬送ローラ１４ａ，１４ｂ間及び底壁の開口
１０を通って搬出し、搬出テーブル３５の下降端位置で
支持部３５ａ上のワークＷを図外の搬出台車に移載する
ようにしている。

【００２８】尚、上記ワーク搬入機構３０及びワーク搬
出機構３４の各テーブル３１，３５は常時は上昇端位置
にあり、この上昇端位置にあるテーブル３１，３５によ
り入口室５及び出口室６の各底壁の開口９，１０を閉塞
するようにしている。

【００２９】そして、上記キャリア移送機構１３の作動
制御により、蒸着室１でワークＷの各基板に対する成膜
処理が終了した後、その成膜処理後のワークＷが積み込
まれたキャリア１２を蒸着室１から下流側に隣接する出
口室６に順移送して該出口室６でワーク保持機構２０に
よりワークＷを保持してキャリア１２から降ろした後、
空のキャリア１２を元の蒸着室１を経て該蒸着室１の上
流側に隣接する入口室５まで逆移送して該入口室５で、
ワーク保持機構２０に保持されている次の処理前のワー
クＷをキャリア１２に積み込み、次いで、その処理前の
ワークＷを蒸着室１で成膜処理するために、キャリア１
２を元の蒸着室１に順移送させる搬送動作を繰り返すよ
うに構成されている。

【００３０】また、この実施形態では、上記の如く、上
記キャリア移送機構１３は、入口室５、蒸着室１及び出
口室６の各々においてワーク搬送方向と直交する幅方向
の両側に対向して配置された４対の搬送ローラ１４ａ，
１４ｂを有する。そして、入口室５及び出口室６におい
ては、その底壁の開口９，１０が上記搬送ローラ１４
ａ，１４ｂの下方で搬送ローラ１４ａ，１４ｂによるワ
ーク搬送方向と直交する上下方向に延びるように配置さ
れ、入口室５及び出口室６にキャリア１２がない状態
で、円形ドーム形状のワークＷを搬送姿勢（水平姿勢）
のままで上記キャリア移送面（水平面）と直交する上下
方向に上記キャリア移送機構１３における対向する４対
の搬送ローラ１４ａ，１４ｂ間を通って昇降移動させ、
開口９，１０を通過させるように設定されている。

【００３１】さらに、入口室５及び出口室６の４対の搬
送ローラ１４ａ，１４ｂの位置は、いずれも上記円形状
の開口９，１０のワーク搬送方向と直交する幅方向の最
大位置Ｐ（幅方向に沿った内径位置）よりもワーク搬送
方向前後両側（図２で左右両側）にオフセットされ、開
口９，１０の幅方向に沿った周縁位置がワーク搬送方向
から見て搬送ローラ１４ａ，１４ｂと重なるかそれより
も幅方向外側に位置している。

【００３２】尚、入口室５内の下部にはハロゲンヒータ
３８が、また上部にはシースヒータ３９がそれぞれ配置
されており、入口室５においてワーク保持機構２０によ
り処理前のワークＷを保持して回転させながら各ヒータ
３８，３９を作動させることにより、ワークＷを加熱す
るようにしている。

【００３３】また、蒸着室１の上部にもシースヒータ３
９が配置されており、蒸着室１でワーク回転機構２３に
よりワークＷを回転させながら成膜するときにヒータ３
９の作動により加熱するようにしている。

【００３４】次に、上記実施形態の真空搬送装置Ａの作
動について説明する。今、最初の状態として、ワークＷ
の各基板が成膜処理される状態を仮定する。すなわち、
入口及び出口の中間ゲート弁７，８は閉弁しており、蒸
着室１のみが真空状態にある（尚、入口室５及び出口室
６は、後述するようにワークＷの搬入出のためにいずれ
も一時的に大気に開放される）。そして、この蒸着室１
においては、蒸着源２の加熱状態でワークＷがワーク回
転機構２３により支持されて回転し、このワークＷの各
基板に蒸着源２による蒸着膜が成膜される。また、上記
基板に対する成膜が変更される都度、モニタガラス交換
機構によりモニタガラスカートリッジＷ２からモニタガ
ラスが取り出されて交換される。このとき、蒸着室１の
キャリア昇降機構２７は上昇していて、キャリア１２は
蒸着室１に位置している。

【００３５】このようなワークＷの基板に対する多層の
成膜が全て終了すると、上記蒸着源２の加熱が停止する
とともに、ワーク回転機構２３の作動停止によりワーク
Ｗの回転が停止する。また、上記基板の成膜状態をモニ
タしたモニタガラスがモニタガラス交換機構からワーク
ＷのモニタガラスカートリッジＷ２内に収容され、この
モニタガラスカートリッジＷ２が基板ドームＷ１に戻さ
れる。このとき、ワーク搬入機構３０の搬入テーブル３
１及びワーク搬出機構３４の搬出テーブル３５はいずれ
も上昇していて、これらのテーブル３１，３５により入
口室５及び出口室６の各底壁の開口９，１０がいずれも
気密状に閉塞され、入口室５及び出口室６は真空状態と
される。

【００３６】そして、まず、ワークＷがワーク回転機構
２３からキャリア１２に支持され、このキャリア１２
は、上昇しているキャリア昇降機構２７に支持される。
この後、キャリア昇降機構２７の下降移動によりワーク
Ｗを載せたキャリア１２が下降してキャリア移送機構１
３の搬送ローラ１４ａ，１４ｂ上に載置支持される。こ
のような動作と並行して、上記入口及び出口の中間ゲー
ト弁７，８が開き、蒸着室１が入口室５及び出口室６と
いずれも真空のままで連通した状態となる。

【００３７】そして、キャリア移送機構１３が作動して
各室１，５，６の搬送ローラ１４ａ，１４ｂがキャリア
１２の順移送方向に回転し、上記成膜処理後のワークＷ
を載せたキャリア１２が蒸着室１から出口室６に順移送
され、そのワークＷが蒸着室１から出口室６に搬送され
る。この出口室６ではワーク保持機構２０の係止アーム
部２２が上昇位置にあり、順移送されたキャリア１２が
出口室６の所定位置で停止すると、上記係止アーム部２
２が上昇位置から下降し、キャリア１２上のワークＷに
係止した後に上昇する。このことでワークＷがキャリア
１２から降ろされてワーク保持機構２０に保持され、キ
ャリア１２が空になる。尚、上記ワーク保持機構２０の
係止アーム部２２は、処理後のワークＷを係止した状態
で回転し、このことで処理後のワークＷが回転しながら
出口室６で冷却される。

【００３８】次いで、キャリア移送機構１３が作動して
各１，５，６の搬送ローラ１４ａ，１４ｂが今度はキャ
リア１２の逆移送方向に回転する。これにより、上記空
になったキャリア１２が元の蒸着室１を経てその上流側
に隣接する入口室５まで逆移送される。この入口室５で
はワーク保持機構２０の係止アーム部２２が上昇位置に
あり、その係止アーム部２２には、次の成膜処理前のワ
ークＷが保持されて回転しながらヒータ３８，３９によ
り加熱されており、上記逆移送されたキャリア１２が入
口室５の所定位置で停止すると、上記係止アーム部２２
によるワークＷの回転が停止し、その係止アーム部２２
がワークＷを係止保持したまま上昇位置から下降して、
このワークＷをキャリア１２上に載置支持した後に上昇
する。このことでワークＷがワーク保持機構２０から降
ろされてキャリア１２に載置支持される。

【００３９】この後、キャリア移送機構１３が作動して
各室１，５，６の搬送ローラ１４ａ，１４ｂが再びキャ
リア１２の順移送方向に回転し、このことで上記成膜処
理前のワークＷを載せたキャリア１２が入口室５から蒸
着室１に順移送され、そのワークＷが入口室５から蒸着
室１に搬送される。そして、この蒸着室１では、キャリ
ア昇降機構２７の上昇動作によりキャリア１２がワーク
Ｗと共に持ち上げられ、そのワークＷのモニタガラスカ
ートリッジＷ２がモニタガラス交換機構に取り出される
とともに、ワークＷがワーク回転機構２３に係止支持さ
れる。しかる後に、上記と同様にして、蒸着源２が加熱
された状態でワークＷがワーク回転機構２３により支持
されて回転し、このワークＷの各基板に蒸着膜が成膜さ
れる。

【００４０】そして、こうして蒸着室１でワークＷの成
膜処理が行われている間に、ワーク搬入機構３０が下降
動作し、その搬入テーブル３１（入口ゲート弁）が下降
して入口室５底壁の開口９が開かれ、入口室５が大気に
開放される。上記搬入テーブル３１が下降位置に移動す
ると、搬入台車３２により供給された次の処理前のワー
クＷが搬入テーブル３１の支持部３１ａ上に移載され
る。その後に、搬入テーブル３１が上昇して入口室５底
壁の開口９が気密状に閉じられるとともに、この搬入テ
ーブル３１の支持部３１ａ上のワークＷが開口９及び搬
送ローラ１４ａ，１４ｂ間を経て入口室５に搬入され
る。このワークＷの搬入後、入口室５が真空引きされる
とともに、ワーク保持機構２０の係止アーム部２２が下
降して上記搬入テーブル３１の支持部３１ａ上のワーク
Ｗを係止してから上昇し、このことでワークＷが搬入テ
ーブル３１からワーク保持機構２０に吊り上げられる。
そして、入口室５が真空状態になると、ワーク保持機構
２０によりワークＷが回転しながらヒータ３８，３９の
作動により加熱される。

【００４１】また、このワークＷの搬入動作と並行して
処理後のワークＷの搬出動作が行われる。すなわち、出
口室６ではワーク保持機構２０の係止アーム部２２によ
るワークＷの回転が停止した後、その係止アーム部２２
が下降してワーク搬出機構３４における搬出テーブル３
５（出口ゲート弁）の支持部３５ａ上に上記成膜処理後
のワークＷを移載してから上昇する。しかる後、ワーク
搬出機構３４が下降動作し、その搬出テーブル３５が下
降して出口室６底壁の開口１０が開かれ、出口室６が大
気に開放されるとともに、搬出テーブル３５の支持部３
５ａ上に支持された処理後のワークＷが搬送ローラ１４
ａ，１４ｂ間及び開口１０を通って出口室６外に搬出さ
れる。そして、上記搬出テーブル３５が下降位置に移動
すると、その支持部３５ａ上のワークＷが搬出台車に移
載される。このワークＷの移載後に、搬出テーブル３５
が上昇して出口室６底壁の開口１０が気密状に閉じら
れ、その後に入口室５が真空引きされる。

【００４２】以上の動作を１サイクルとして、以後は同
様のサイクルが繰り返される。このようにキャリア１２
が入口室５及び出口室６と蒸着室１との間で真空状態の
まま大気に触れることなく循環移動（往復移動）し、ワ
ークＷのみが大気中と入口室５及び出口室６との間で搬
入出され、その両室５，６が真空状態になったときにキ
ャリア１２に移載されて蒸着室１に対し搬送される。こ
のため、キャリア１２が大気中で還流される場合の大気
との接触に伴う諸問題を解消することができる。

【００４３】また、この実施形態では、上記入口室５及
び出口室６におけるキャリア移送機構１３の４対の搬送
ローラ１４ａ，１４ｂの位置が各室５，６の底壁におけ
る円形状の開口９，１０の幅方向最大位置Ｐよりもワー
ク搬送方向前後両側にオフセットされているので、ワー
ク搬入機構３０により処理前のワークＷを上昇させ、入
口室５底壁の開口９から該開口９の上側にあるキャリア
移送機構１３の搬送ローラ１４ａ，１４ｂ間を通して入
口室５内に搬入する際、或いは出口室６のワーク保持機
構２０に保持されている処理後のワークＷをワーク搬出
機構３４により下降させ、キャリア移送機構１３の搬送
ローラ１４ａ，１４ｂ間を経てその下側にある底壁の開
口１０を通して搬出する際、その円形ドーム形状のワー
クＷが搬送ローラ１４ａ，１４ｂと干渉することを防止
することができる。

【００４４】しかも、上記４対の搬送ローラ１４ａ，１
４ｂの位置が各室５，６の開口の幅方向最大位置Ｐより
もワーク搬送方向前後両側にオフセットされていること
で、その搬送ローラ１４ａ，１４ｂ間の間隔ｄを可及的
に短くしてキャリア移送機構１３の幅を狭くし、延いて
は入口室５及び出口室６の容積を小さくすることがで
き、その各室５，６を真空引きする際に素早く真空状態
にすることができる。よって、ワークＷの搬入出時の搬
送ローラ１４ａ，１４ｂへの干渉の防止と、キャリア移
送機構１３の幅の縮小化による入口室５及び出口室６の
容積の縮小化とを両立させることができる。

【００４５】（他の実施形態）尚、上記実施形態では、
常時真空状態に保たれる常時真空室としての蒸着室１を
１つとし、それに対してキャリア１２を蒸着室１と同数
の１つとしているが、２つ以上の蒸着室１を入口室５及
び出口室６間に直列に接続し、キャリア１２も蒸着室１
毎につまり蒸着室１と同数設けて複数として、これら複
数のキャリア１２を各々が常在する室を含めた上下流側
の３室間で並行して移送させるようにしてもよい。

【００４６】また、同様に、常時真空室としての蒸着室
１を複数設ける一方、キャリア１２は蒸着室１の数より
も１つ以上少ない台数だけ設けて、その各キャリア１２
を下流側の３室間で移送させてワークＷを搬送した後に
上流側の３室間で移送させてワークＷを搬送するように
することもできる。その場合、上記のように蒸着室１と
同数のキャリア１２を設けた場合のように、複数のキャ
リア１２が並行して移送されないので、搬送タクト時間
が長くなるが、キャリア１２の必要数を少なくすること
ができる。

【００４７】尚、これらの場合、各蒸着室１にも、移送
されるキャリア１２との干渉をさけるために、ワークＷ
のみをキャリア１２から吊り上げて保持するワーク保持
機構２０（ワーク回転機構２３で兼用してもよい）が必
要となる。

【００４８】また、上記実施形態では、ワークＷを入口
室５に搬入した後、キャリア１２に載置支持して入口室
５から蒸着室１に送って成膜処理し、その成膜後のワー
クＷをキャリア１２に載置支持して出口室６に搬送して
該出口室６から搬出するようにしているが、上記入口室
５及び出口室６をいずれも入出口室とし、その各入出口
室にワークＷを搬入した後、その入出口室から１つの蒸
着室１に送って成膜処理し、その成膜後のワークＷを元
の同じ入出口室から搬出するインターバック動作を各入
出口室について交互に行うようにしてもよい。

【００４９】その場合、キャリア１２は１台とし、各室
のキャリア移送機構１３により、成膜処理後のワークＷ
が積み込まれたキャリア１２を蒸着室１から一方の入出
口室に移送して該入出口室でワーク保持機構２０により
ワークＷをキャリア１２から降ろした後、空のキャリア
１２を元の蒸着室１を経て他方の入出口室まで移送して
該入出口室でワーク保持機構２０によりキャリア１２に
成膜処理前の次のワークＷを積み込み、そのキャリア１
２を蒸着室１に移送させる搬送動作を両入出口室間で交
互に繰り返すようにすればよい。

【００５０】さらに、上記実施形態では、基板を支持し
た円形ドーム形状のワークＷをキャリア１２で搬送して
蒸着室１において基板に蒸着膜を成膜処理するようにし
ているが、本発明はこのように基板に対する蒸着処理や
成膜処理に限らず、ワークを真空室に搬入した後に所定
の処理を行い、その後にワークを真空室から搬出する真
空搬送装置であれば適用することができる。

【００５１】また、本発明は、上記実施形態のようにキ
ャリア１２を常時真空状態に保つ場合に限らず、キャリ
アが真空空間と大気中とに亘って移送される真空搬送装
置に対しても適用することができ、同様の作用効果が得
られる。

【００５２】

【発明の効果】以上説明したように、請求項１〜３の発
明によると、ワークが通過可能な開口を壁部に有する移
載室及びそれに連通する真空室間でワークをキャリアに
支持して搬送し、開口を有する移載室においては、キャ
リアがない状態でワークを上記開口と略平行なキャリア
移送面と略直交する方向に搬送ローラ間を通って移動さ
せて開口を通過させるようにする場合に、移載室におけ
る搬送ローラの位置を開口の幅方向最大位置よりもワー
ク搬送方向前後両側にオフセットしたことにより、搬送
ローラ間の幅方向の間隔を可及的に短くしてキャリア移
送機構の幅を狭くすることができ、よってワークの開口
の通過時の搬送ローラへの干渉の防止と、開口を有する
室の容積の縮小化との両立を図ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施形態に係る真空搬送装置の全体構
成を概略的に示す断面図である。

【図２】キャリア移送機構の搬送ローラの配置を拡大し
て示す平面図である。

【図３】搬送ローラの配置を拡大して示す断面図であ
る。

【図４】搬送ローラの連動機構を示す拡大平面図であ
る。

【図５】キャリアの拡大平面図である。

【符号の説明】

Ａ 真空搬送装置 １ 蒸着室（真空室） ５ 入口室（入口ロードロック室、移載室） ６ 出口室（出口ロードロック室、移載室） ７ 入口中間ゲート弁 ８ 出口中間ゲート弁 ９，１０ 開口 １２ キャリア １３ キャリア移送機構 １４ａ，１４ｂ 搬送ローラ ２０ ワーク保持機構 ２３ ワーク回転機構 ２７ キャリア昇降機構 ３０ ワーク搬入機構 ３１ 搬入テーブル（入口ゲート弁） ３４ ワーク搬出機構 ３５ 搬出テーブル（出口ゲート弁） Ｗ ワーク Ｐ 開口の幅方向最大位置 ｄ 搬送ローラの幅方向間隔

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ワークが通過可能な開口を壁部に有する
   移載室と、該移載室に接続される真空室との間で移動可
   能に設けられ、ワークを支持するキャリアと、 上記キャリアを移載室及び真空室間で上記開口と略平行
   なキャリア移送面に沿って移送する搬送ローラを有する
   キャリア移送機構とを備え、 キャリアがない状態の移載室でワークを上記キャリア移
   送面と略直交する方向に搬送ローラ間を通って移動させ
   て上記開口を通過させるようにした真空搬送装置であっ
   て、 上記移載室における搬送ローラの位置は、上記開口のワ
   ーク搬送方向と略直交する幅方向の最大位置よりもワー
   ク搬送方向前後両側にオフセットされていることを特徴
   とする真空搬送装置。
2. 【請求項２】 入出口ゲート弁により開閉される開口を
   経てワークの搬入又は搬出の少なくとも一方が行われる
   ロードロック室と、該ロードロック室に中間ゲート弁を
   介して接続された真空室との内部で移動可能に設けら
   れ、ワークを支持するキャリアと、 上記キャリアをロードロック室及び真空室間で上記開口
   と略平行なキャリア移送面に沿って移送する搬送ローラ
   を有するキャリア移送機構とを備え、 キャリアがない状態のロードロック室でワークを上記キ
   ャリア移送面と略直交する方向に搬送ローラ間を通って
   移動させて上記開口を通過させるようにした真空搬送装
   置であって、 上記ロードロック室における搬送ローラの位置は、上記
   開口のワーク搬送方向と略直交する幅方向の最大位置よ
   りもワーク搬送方向前後両側にオフセットされているこ
   とを特徴とする真空搬送装置。
3. 【請求項３】 請求項１又は２の真空搬送装置におい
   て、 ワークは平面視で円形状のもので、 搬送ローラはキャリアを上載して移送するものとされ、 開口は搬送ローラの下側の壁部に設けられていることを
   特徴とする真空搬送装置。