JP2002229216A - 露光装置 - Google Patents

露光装置

Info

Publication number
JP2002229216A
JP2002229216A JP2001028355A JP2001028355A JP2002229216A JP 2002229216 A JP2002229216 A JP 2002229216A JP 2001028355 A JP2001028355 A JP 2001028355A JP 2001028355 A JP2001028355 A JP 2001028355A JP 2002229216 A JP2002229216 A JP 2002229216A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
light
optical path
adjusting
optical axis
function
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2001028355A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4489982B2 (ja
Inventor
Shigehiko Komatsu
重彦 小松
Toshihide Ito
利秀 伊藤
Tetsuya Matsuyama
哲也 松山
Takeshi Kashiwagi
剛 柏木
Kenji Ueda
健治 植田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dai Nippon Printing Co Ltd
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dai Nippon Printing Co Ltd filed Critical Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority to JP2001028355A priority Critical patent/JP4489982B2/ja
Publication of JP2002229216A publication Critical patent/JP2002229216A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4489982B2 publication Critical patent/JP4489982B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Holo Graphy (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 光軸変動に対して自動調節を行い、光ビーム
を安定維持させる。 【解決手段】 ビーム源からの光ビームが入射点Qinか
ら射出点Qout へ向かうように光軸調節されている状態
において、基準光路S上にビーム分配器83を置き、ハ
ーフミラーからなる光分配面ξからの反射光の位置情報
(受光素子85上の照射点Q10の位置)と向き情報
(受光素子87上の集光点Q20の位置)とを基準情報
として記憶装置91に記憶しておく。基準光路S上に光
反射素子81を挿入し、光ビームを光路D1へ迂回さ
せ、コーナリフレクタ82を用いて光路D3から光分配
面ξへ導き、射出点Qout から露光面へ向かう反射光と
受光素子85へ向かう透過光とに分配する。この透過光
の位置情報および向き情報を検出し、制御装置92によ
り、これらが記憶装置91内の基準情報に近付くよう
に、光反射素子81の角度およびコーナリフレクタ82
の位置を制御する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は露光装置に関し、特
に、感光性材料層上にホログラム像を露光するような場
合に用いられる高精度な光軸調節が必要な露光装置に関
する。
【0002】
【従来の技術】微細なパターンを形成する手法として、
所定の露光面に光を照射し、この露光面上に置かれた感
光性材料層を部分的に感光させる方法は、半導体装置の
製造プロセスや、ホログラム像の形成プロセスなどで広
く利用されている。このような露光作業に利用される露
光装置は、通常、ビーム源で発生した光ビームを露光面
へと誘導し、ビーム径を必要な大きさに拡張した上で、
露光面へと照射する構造を有している。光ビームを正し
い位置へ導くためには、光ビームを誘導する光学系にお
いて、光軸の正しい位置調節が重要である。一般に、光
ビームの光軸調節は、反射鏡やプリズムなどの光学素子
を組み合わせた装置によって行われ、作業者が目視手作
業によって調節を行う場合もあれば、光ビームの位置セ
ンサからの出力信号に基く自動制御によって調節が行わ
れる場合もある。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】通常、ビーム源で発生
させた光ビームの断面強度は、ガウシアン分布をとるこ
とが多く、ビーム断面の中央部分ほど強度が高くなる。
このため、露光面への照射光にも強度分布が生じ、この
ような強度分布の存在を考慮した上で露光作業が行われ
ている。したがって、露光面へと誘導される光ビームの
光軸位置にずれが生じると、露光面上での照射光強度分
布に予期せぬずれが発生することになり好ましくない。
特に、ホログラム像を露光するような場合、照射光強度
分布にわずかな変動が生じても、再生像が不鮮明になる
おそれがあり、かなり高精度な光軸調節が必要になる。
【0004】このような光軸調節を行うために、これま
でに様々な光軸調節装置が用いられている。しかしなが
ら、従来利用されている光軸調節装置は、ビーム源から
発せられた光ビームを、露光面上の所定位置に導くため
の調節を正確に行うことはできるが、ビーム源自体の動
作の不安定要素や経年変化などに起因して光軸にずれが
生じる現象を防止することはできない。たとえば、ビー
ム源としてレーザ光源を用いた場合、電源投入後、しば
らくの間はレーザ光の出力が安定せず、光軸が不安定な
状態が続くことが少なくない。このため、厳密な光軸調
節を施しておいたとしても、レーザ光源の出力が安定す
るまでは、正しい露光を行うことができない。また、レ
ーザ光源の特性は経年変化するため、過去に厳密な光軸
調節が施されていたとしても、長期間使用しているうち
に、光軸が徐々にずれてくることになる。このような場
合、その都度、光軸調節作業を行う必要が生じ、作業者
に多大な作業負担を強いることになる。
【0005】そこで本発明は、光ビームの光軸調節作業
を軽減することができる露光装置を提供することを目的
とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明の要旨は、所定の
露光面に対して光を照射することにより、この露光面上
に配置された感光材料を露光させるための露光装置を、
光ビームを発生させるビーム源と、このビーム源で発生
した光ビームを所定の基準光路に沿って露光面へと誘導
するビーム誘導手段と、このビーム誘導手段によって誘
導される光ビームの径を、露光面の大きさに応じて拡張
するビーム径拡張装置と、基準光路上に配置され、光ビ
ームの光軸が前記基準光路上に維持されるように調節す
る光軸調節装置と、によって構成するようにした点にあ
る。
【0007】ここで、光軸調節装置は、本発明に係る露
光装置を実現するために開発された新規な光軸調節装置
であり、予め、所定の基準光路に沿って光ビームが進行
するように光軸調節が行われているときに、入射光がこ
の基準光路を外れた場合にも、射出光が基準光路に沿っ
た状態を維持できるような自動光軸調節機能を有する装
置である。このような光軸調節装置には、後述するよう
に、いくつかの態様が考えられ、どの態様の光軸調節装
置を用いるかによって、本発明をいくつかの態様として
把握することができる。以下、これら光軸調節装置の各
態様を述べる。
【0008】(1) 本発明に係る露光装置に用いる光軸
調節装置の第1の態様は、図1〜図10を参照して、後
述する§1で説明する検出原理に基く光軸調節装置に示
されているように、自動光軸調節を行う光軸調節装置に
おいて、照射された光の一部を反射、一部を透過させる
光分配面を有し、基準光路上に配置されたビーム分配手
段と、基準光路に沿って入射した光ビームが光分配面で
反射することにより得られる反射光について、光分配面
上での位置および向きを測定し、この測定結果を基準情
報として取得する基準情報取得手段と、必要に応じて、
入射光の光ビームを基準光路とは異なる迂回光路へ誘導
し、この誘導された光ビームの位置および向きを調節し
て光分配面へ照射する光路迂回調節手段と、迂回光路を
経由した光ビームに基いて光分配面から得られる透過光
または反射光について、光分配面上での位置および向き
を測定し、この測定結果が基準情報に近付くように、光
路迂回調節手段を制御する制御手段と、を設けるように
したものである。
【0009】(2) 本発明に係る露光装置に用いる光軸
調節装置の第2の態様は、上述した第1の態様に係る光
軸調節装置において、作業者の操作に応じて、光軸調節
装置に入射した光ビームを迂回させることなしに、基準
光路に沿ってそのまま通過させ、露光面へと誘導させる
ことができるように構成したものである。
【0010】(3) 本発明に係る露光装置に用いる光軸
調節装置の第3の態様は、図11を参照して、後述する
§2で説明する実施形態Aに係る光軸調節装置に関する
ものであり、光ビームを迂回光路へ導いた後、まず、角
度調節を行い、続いて位置調節を行うような構成をもっ
た光軸調節装置に関するものである。すなわち、入射点
と射出点とを通る基準光路に沿って光ビームが存在する
ときに、入射点と射出点との間に配置することにより、
入射光が基準光路を外れた場合にも、射出光が基準光路
に沿った状態を維持するように光軸調節を行う機能をも
った光軸調節装置において、基準光路上に配置され、照
射された光の一部を反射、一部を透過させる光分配面を
もち、入射光を、反射した一部からなる入射光反射光
と、透過した一部からなる入射光透過光と、に分配する
ビーム分配手段と、入射点とビーム分配手段との間に配
置され、入射光を透過させる第1の機能と、入射光の向
きを所定の迂回光路に向けて変化させ、迂回光として射
出する第2の機能と、の2つの機能を選択的に実行可能
な光路切換手段と、迂回光の向きを所定の設定角度だけ
変化させて角度調節光として射出する角度調節手段と、
角度調節光を入射し、この角度調節光に対して平行で、
所定の設定変位量だけずれた位置を通る位置角度調節光
を、ビーム分配手段の光分配面に向けて射出することに
より、この位置角度調節光が、反射した一部からなる調
節光反射光と、透過した一部からなる調節光透過光と、
に分配されるようにする位置調節手段と、光路切換手段
が第1の機能を実行しているときには、光分配面におけ
る入射光反射光の位置および向きを検出し、光路切換手
段が第2の機能を実行しているときには、光分配面にお
ける調節光透過光もしくは調節光反射光の位置および向
きを検出する検出手段と、光路切換手段が第1の機能を
実行しているときに、検出手段によって検出された位置
および向きを基準情報として記憶する記憶手段と、光路
切換手段が第2の機能を実行しているときに、検出手段
によって検出される位置および向きが、記憶手段に記憶
されている基準情報の位置および向きに近付くように、
角度調節手段による設定角度および位置調節手段による
設定変位量を制御する機能をもった制御手段と、を設け
たものである。
【0011】(4) 本発明に係る露光装置に用いる光軸
調節装置の第4の態様は、図12を参照して、後述する
§2で説明する実施形態Bに係る光軸調節装置に関する
ものであり、光ビームを迂回光路へ導いた後、上述の第
3の態様とは逆に、まず、位置調節を行い、続いて角度
調節を行うような構成をもった光軸調節装置に関するも
のである。すなわち、入射点と射出点とを通る基準光路
に沿って光ビームが存在するときに、入射点と射出点と
の間に配置することにより、入射光が基準光路を外れた
場合にも、射出光が基準光路に沿った状態を維持するよ
うに光軸調節を行う機能をもった光軸調節装置におい
て、基準光路上に配置され、照射された光の一部を反
射、一部を透過させる光分配面をもち、入射光を、反射
した一部からなる入射光反射光と、透過した一部からな
る入射光透過光と、に分配するビーム分配手段と、入射
点とビーム分配手段との間に配置され、入射光を透過さ
せる第1の機能と、入射光の向きを所定の迂回光路に向
けて変化させ、迂回光として射出する第2の機能と、の
2つの機能を選択的に実行可能な光路切換手段と、迂回
光を入射し、この迂回光に対して平行で、所定の設定変
位量だけずれた位置を通る位置調節光を射出する位置調
節手段と、位置調節光の向きを所定の設定角度だけ変化
させることにより得られる位置角度調節光を、ビーム分
配手段の光分配面に向けて射出することにより、この位
置角度調節光が、反射した一部からなる調節光反射光
と、透過した一部からなる調節光透過光と、に分配され
るようにする角度調節手段と、光路切換手段が第1の機
能を実行しているときには、光分配面における入射光反
射光の位置および向きを検出し、光路切換手段が第2の
機能を実行しているときには、光分配面における調節光
透過光もしくは調節光反射光の位置および向きを検出す
る検出手段と、光路切換手段が第1の機能を実行してい
るときに、検出手段によって検出された位置および向き
を基準情報として記憶する記憶手段と、光路切換手段が
第2の機能を実行しているときに、検出手段によって検
出される位置および向きが、記憶手段に記憶されている
基準情報の位置および向きに近付くように、角度調節手
段による設定角度および位置調節手段による設定変位量
を制御する機能をもった制御手段と、を設けたものであ
る。
【0012】(5) 本発明に係る露光装置に用いる光軸
調節装置の第5の態様は、図13を参照して、後述する
§2で説明する実施形態Cに係る光軸調節装置に関する
ものであり、上述の第3の態様に係る光軸調節装置にお
いて、光路切換手段と角度調節手段との双方を兼ねる手
段を用いるようにした点に特徴がある。すなわち、入射
点と射出点とを通る基準光路に沿って光ビームが存在す
るときに、入射点と射出点との間に配置することによ
り、入射光が基準光路を外れた場合にも、射出光が基準
光路に沿った状態を維持するように光軸調節を行う機能
をもった光軸調節装置において、基準光路上に配置さ
れ、照射された光の一部を反射、一部を透過させる光分
配面をもち、入射光を、反射した一部からなる入射光反
射光と、透過した一部からなる入射光透過光と、に分配
するビーム分配手段と、入射点とビーム分配手段との間
に配置され、入射光を透過させる第1の機能と、入射光
の向きを所定の設定角度だけ変化させることにより得ら
れる角度調節光を、所定の迂回光路に沿って射出する第
2の機能と、の2つの機能を選択的に実行可能な光路切
換角度調節手段と、角度調節光を入射し、この角度調節
光に対して平行で、所定の設定変位量だけずれた位置を
通る位置角度調節光を、ビーム分配手段の光分配面に向
けて射出することにより、位置角度調節光が、反射した
一部からなる調節光反射光と、透過した一部からなる調
節光透過光と、に分配されるようにする位置調節手段
と、光路切換角度調節手段が第1の機能を実行している
ときには、光分配面における入射光反射光の位置および
向きを検出し、光路切換角度調節手段が第2の機能を実
行しているときには、光分配面における調節光透過光も
しくは調節光反射光の位置および向きを検出する検出手
段と、光路切換角度調節手段が第1の機能を実行してい
るときに、検出手段によって検出された位置および向き
を基準情報として記憶する記憶手段と、光路切換角度調
節手段が第2の機能を実行しているときに、検出手段に
よって検出される位置および向きが、記憶手段に記憶さ
れている基準情報の位置および向きに近付くように、光
路切換角度調節手段による設定角度および位置調節手段
による設定変位量を制御する機能をもった制御手段と、
を設けたものである。
【0013】(6) 本発明に係る露光装置に用いる光軸
調節装置の第6の態様は、図14を参照して、後述する
§2で説明する実施形態Dに係る光軸調節装置に関する
ものであり、上述の第4の態様に係る光軸調節装置にお
いて、光路切換手段と位置調節手段との双方を兼ねる手
段を用いるようにした点に特徴がある。すなわち、入射
点と射出点とを通る基準光路に沿って光ビームが存在す
るときに、入射点と射出点との間に配置することによ
り、入射光が基準光路を外れた場合にも、射出光が基準
光路に沿った状態を維持するように光軸調節を行う機能
をもった光軸調節装置において、基準光路上に配置さ
れ、照射された光の一部を反射、一部を透過させる光分
配面をもち、入射光を、反射した一部からなる入射光反
射光と、透過した一部からなる入射光透過光と、に分配
するビーム分配手段と、入射点とビーム分配手段との間
に配置され、入射光を透過させる第1の機能と、入射光
を入射し、この入射光もしくはこの入射光の向きを変え
ることにより得られる迂回光に対して平行で、所定の設
定変位量だけずれた位置を通る位置調節光を、所定の迂
回光路に沿って射出する第2の機能と、の2つの機能を
選択的に実行可能な光路切換位置調節手段と、位置調節
光の向きを所定の設定角度だけ変化させることにより得
られる位置角度調節光を、ビーム分配手段の光分配面に
向けて射出することにより、この位置角度調節光が、反
射した一部からなる調節光反射光と、透過した一部から
なる調節光透過光と、に分配されるようにする角度調節
手段と、光路切換位置調節手段が第1の機能を実行して
いるときには、光分配面における入射光反射光の位置お
よび向きを検出し、光路切換位置調節手段が第2の機能
を実行しているときには、光分配面における調節光透過
光もしくは調節光反射光の位置および向きを検出する検
出手段と、光路切換位置調節手段が第1の機能を実行し
ているときに、検出手段によって検出された位置および
向きを基準情報として記憶する記憶手段と、光路切換位
置調節手段が第2の機能を実行しているときに、検出手
段によって検出される位置および向きが、記憶手段に記
憶されている基準情報の位置および向きに近付くよう
に、角度調節手段による設定角度および光路切換位置調
節手段による設定変位量を制御する機能をもった制御手
段と、を設けたものである。
【0014】(7) 本発明に係る露光装置に用いる光軸
調節装置の第7の態様は、上述の第3〜第6の態様に係
る光軸調節装置において、ビーム分配手段を、光分配面
として機能するハーフミラーが形成された光学素子によ
って構成するようにしたものである。
【0015】(8) 本発明に係る露光装置に用いる光軸
調節装置の第8の態様は、上述の第3〜第7の態様に係
る光軸調節装置において、光路切換手段、光路切換角度
調節手段、または、光路切換位置調節手段を、入射光を
迂回させる機能を有する光学素子と、この光学素子を基
準光路上に着脱自在に支持する支持機構と、によって構
成し、光学素子を基準光路上から脱離させることにより
第1の機能が実行され、光学素子を基準光路上に装着す
ることにより第2の機能が実行されるようにしたもので
ある。
【0016】(9) 本発明に係る露光装置に用いる光軸
調節装置の第9の態様は、上述の第3〜第8の態様に係
る光軸調節装置において、角度調節手段または光路切換
角度調節手段を、反射面を有する光学素子と、この反射
面上で直交する2つの回転軸に関してこの光学素子を回
転させることにより角度調節を行う角度調節機構と、に
よって構成するようにしたものである。
【0017】(10) 本発明に係る露光装置に用いる光軸
調節装置の第10の態様は、上述の第3〜第9の態様に
係る光軸調節装置において、位置調節手段または光路切
換位置調節手段を、コーナリフレクタもしくはコーナキ
ューブプリズムを有する光学素子と、この光学素子を所
定平面に沿って平行移動させる位置調節機構と、によっ
て構成するようにしたものである。
【0018】(11) 本発明に係る露光装置に用いる光軸
調節装置の第11の態様は、上述の第3〜第10の態様
に係る光軸調節装置において、検出手段を、光分配面か
らの検出用光ビームを2つのビームに分配する検出用ビ
ーム分配器と、分配された第1のビームに基いて位置を
検出する位置検出器と、分配された第2のビームに基い
て向きを検出する向き検出器と、によって構成するよう
にしたものである。
【0019】(12) 本発明に係る露光装置に用いる光軸
調節装置の第12の態様は、上述の第11の態様に係る
光軸調節装置において、位置検出器を、所定の受光面上
へのビームの照射位置を検出する受光素子によって構成
するようにしたものである。
【0020】(13) 本発明に係る露光装置に用いる光軸
調節装置の第13の態様は、上述の第11の態様に係る
光軸調節装置において、向き検出器を、平行光線を所定
の焦点に集光する集光レンズと、この集光レンズに対し
て焦点距離だけ離れた位置に配置された受光面を有しこ
の受光面上の集光位置を検出する受光素子と、によって
構成するようにしたものである。
【0021】(14) 本発明に係る露光装置に用いる光軸
調節装置の第14の態様は、図15〜図21を参照し
て、後述する§3で説明する光軸調節装置に関するもの
であり、上述の第5の態様で述べた実施形態Cに係る光
軸調節装置をより具体化した点に特徴がある。すなわ
ち、入射点と射出点とを通る基準光路に沿って光ビーム
が存在するときに、入射点と射出点との間に配置するこ
とにより、入射光が基準光路を外れた場合にも、射出光
が基準光路に沿った状態を維持するように光軸調節を行
う機能をもった光軸調節装置において、基準光路上に配
置され、照射された光の一部を反射、一部を透過させる
光分配面をもったビーム分配器と、入射点とビーム分配
器との間の基準光路上に着脱自在に配置することがで
き、基準光路上に配置した場合に入射光を反射させるこ
とができる反射面を有する光反射素子と、この光反射素
子の反射面の向きを調節する角度調節機構と、光反射素
子からの反射光を入射し、これに平行な逆向光をビーム
分配器に向けて射出することができるコーナリフレクタ
もしくはコーナキューブプリズムと、このコーナリフレ
クタもしくはコーナキューブプリズムの位置を調節する
位置調節機構と、光反射素子を基準光路上に配置しない
第1の状態において、ビーム分配器から反射されてきた
光ビームについて、光分配面上での位置および向きを検
出する機能と、光反射素子を基準光路上に配置した第2
の状態において、ビーム分配器を透過してきた光ビーム
について、光分配面上での位置および向きを検出する機
能と、を有する検出器と、光反射素子が第1の状態にあ
るときに、検出器が検出した位置および向きを基準情報
として記憶する記憶装置と、光反射素子が第2の状態に
あるときに、検出器が検出する位置および向きが、記憶
装置に記憶されている基準情報の位置および向きに近付
くように、角度調節機構および位置調節機構を制御する
制御装置と、を設けたものである。
【0022】(15) 本発明に係る露光装置に用いる光軸
調節装置の第15の態様は、図22を参照して、後述す
る§3で説明する光軸調節装置に関するものであり、上
述の第4の態様で述べた実施形態Bに係る光軸調節装置
をより具体化した点に特徴がある。すなわち、入射点と
射出点とを通る基準光路に沿って光ビームが存在すると
きに、入射点と射出点との間に配置することにより、入
射光が基準光路を外れた場合にも、射出光が基準光路に
沿った状態を維持するように光軸調節を行う機能をもっ
た光軸調節装置において、基準光路上に配置され、照射
された光の一部を反射、一部を透過させる光分配面をも
ったビーム分配器と、入射点とビーム分配器との間の基
準光路上に着脱自在に配置することができ、基準光路上
に配置した場合に入射光を反射させることができる反射
面を有する第1の光反射素子と、この第1の光反射素子
からの反射光を入射し、これに平行な逆向光を射出する
ことができるコーナリフレクタもしくはコーナキューブ
プリズムと、このコーナリフレクタもしくはコーナキュ
ーブプリズムの位置を調節する位置調節機構と、コーナ
リフレクタもしくはコーナキューブプリズムからの逆向
光を、ビーム分配器に向けて射出することができる反射
面を有する第2の光反射素子と、この第2の光反射素子
の反射面の向きを調節する角度調節機構と、第1の光反
射素子を基準光路上に配置しない第1の状態において、
ビーム分配器から反射されてきた光ビームについて、光
分配面上での位置および向きを検出する機能と、第1の
光反射素子を基準光路上に配置した第2の状態におい
て、ビーム分配器から反射されてきた光ビームについ
て、光分配面上での位置および向きを検出する機能と、
を有する検出器と、第1の光反射素子が第1の状態にあ
るときに、検出器が検出した位置および向きを基準情報
として記憶する記憶装置と、第1の光反射素子が第2の
状態にあるときに、検出器が検出する位置および向き
が、記憶装置に記憶されている基準情報の位置および向
きに近付くように、角度調節機構および位置調節機構を
制御する制御装置と、設けたものである。
【0023】(16) また、本発明は、上述の第1〜第1
5の態様に係る光軸調節装置を用いた露光装置におい
て、それぞれ各色成分ごとの光ビームを発生させる複数
のビーム源と、前記各色成分ごとの光ビームを露光面へ
と誘導する過程で、これら各光ビームを合成するビーム
合成手段と、各色成分ごとの基準光路上に配置された各
色成分ごとの光軸調節装置と、を設けるようにしたもの
である。
【0024】
【発明の実施の形態】本発明に係る露光装置の特徴は、
ビーム源から露光面へと向かう光ビームの基準光路上
に、新規な光軸調節装置を組み込むことにより、光ビー
ムの光軸が自動調節されるようにした点にある。そこ
で、まず、§1〜§3において、この新規な光軸調節装
置の構成および動作について詳述することにし、最後の
§4において、この新規な光軸調節装置を用いた露光装
置の全体構成を説明することにする。
【0025】§1.新規な光軸調節装置の基本原理 はじめに、この光軸調節装置の基本原理を簡単に説明す
る。この光軸調節装置の主眼は、光軸調節が既に完了し
ている光学系について、動作の不安定要素や経年変化な
どに起因して光軸にずれが生じる現象を防止することに
あり、既存の光路を通る光ビームを安定維持させること
にある。
【0026】いま、図1に示すように、ビーム源100
からターゲット200の目標点Qに対して、光ビームを
照射する場合を考える。ここで、ビーム源100は、光
ビームを発生させる光源と、この光ビームに対する光軸
調節を行う光学系(光軸調節装置)とを内蔵しているも
のとし、光ビームに対する光軸調節は、この内蔵の光学
系を調節することにより行われるものとする。このよう
に、従来の一般的な光軸調節装置は、光ビームの照準を
所定の目標点に合致させるための積極的な位置調節を行
うことを目的としており、このビーム源100に内蔵さ
れた光軸調節装置を利用した光軸調節作業により、光ビ
ームをターゲット200上の目標点Qに到達させること
が可能になる。このような光軸調節作業が完了すると、
ビーム源100から発せられた光ビームは、入射点Qin
から射出点Qout へ向かう基準光路S(図では、一点鎖
線で示す)に沿って進行し、目標点Qに到達する。
【0027】この図1に示すように、一旦、光軸調節作
業が完了してしまえば、理論的には、ビーム源100か
ら照射された光ビームは、常に、基準光路S上を通って
目標点Qへと導かれることになるが、実際には、ビーム
源100自身の動作の不安定要素や経年変化などに起因
して、調節済みの光軸にずれが生じる現象が発生する。
たとえば、長期間にわたって使用していると、ビーム源
100に対する振動などの影響により、ビーム源100
自身の取付位置に変位が生じることがある。すると図2
に示すように、ビーム源100から発せられた光ビーム
Bは、入射点Qinの位置に正しく入射しなくなり、基準
光路Sから外れたものとなる。このため、光ビームB
は、ターゲット200上の目標点Qから外れてしまう。
もちろん、ビーム源100自身の取付位置に変位が生じ
ていなくても、ビーム源100の内部の光学系を構成す
る個々の光学素子に位置変位が生じても同様の結果とな
る。また、光学系自身に変位が生じていなくても、光源
に固有の不安定要素に基いて、光ビームBに変動が生じ
る可能性もある。たとえば、レーザ光源などを用いた場
合、起動直後のしばらくの間、動作が不安定になる場合
も少なくない。また、電源電圧の変動などの外乱によ
り、光ビームBに変動が生じることもある。
【0028】本発明の狙いは、図1に示す例のように、
入射点Qinから射出点Qout へ向かう所定の基準光路S
が既に設定されており、この基準光路Sに沿って進む光
ビームが存在するときに、何らかの事情で将来、入射光
がこの基準光路Sを外れた場合にも、射出光が基準光路
Sに沿った状態を維持することができるような自動光軸
調節を行うことにある。別言すれば、本発明の狙いは、
図3に示すように、既に所定の基準光路Sが設定されて
いる状態において、本発明のために用意された新規な光
軸調節装置300を、入射点Qinと射出点Qout との間
に挿入して設置しておくことにより、将来、何らかの事
情で光軸調節装置300への入射光に変動が生じた場合
にも、光軸調節装置300からの射出光をもとの状態に
維持することができるようにする点にある。すなわち、
ビーム源100からの光ビームに対して、基準光路Sに
沿った正しい光軸調節がなされている状態において、図
3に示すように、光軸調節装置300を基準光路S上に
挿入しておけば、図4に示すように、ビーム源100側
の光軸に変動が生じ、光ビームBの光軸調節装置300
に対する入射条件が変化したとしても、光軸調節装置3
00からの射出光は以前と同じ条件を維持するような自
動的な光軸調節が行われることになる。以下、このよう
な自動光軸調節を行うための基本原理を説明する。
【0029】いま、図5に示すように、入射点Qinから
射出点Qout へ向けて基準光路Sが設定されている場合
に、この基準光路S上に光分配面ξを配置したとする。
この光分配面ξは、照射された光の一部を反射、一部を
透過させる性質をもった面である。実際には、ハーフミ
ラーなどからなる光分配面ξを有するビーム分配手段
を、基準光路S上に配置すればよい。このようなビーム
分配手段を基準光路S上に配置すると、入射点Qinに、
基準光路Sに沿って入射してきた光ビームBは、このビ
ーム分配手段によって2つの光ビームに分配されること
になる。すなわち、一部は光分配面ξをそのまま透過し
て透過光Btとなり、一部は光分配面ξで反射して反射
光Brとなる。このとき、透過光Btは、基準光路Sに
沿って光分配面ξ上の位置P0を透過して射出点Qout
から射出する光になるが、反射光Brは、光分配面ξ上
の位置P0において向きを変えて図の上方へと向かう光
となる。ここで、光分配面ξ上の位置P0に立てた法線
をNとすれば、光ビームBの入射角と反射角とは等し
く、いずれも角度α0になる。
【0030】そこで、このときに得られる反射光Brに
ついて、光分配面ξ上での位置P0および向き(たとえ
ば、反射角α0)を測定し、この測定結果を基準情報と
して取得しておく。図示の基準情報取得手段1は、この
ような基準情報I(P0,α0)を取得する機能をもっ
た構成要素(具体的な構成例については後述する)であ
る。このような基準情報の取得作業は、光ビームBが、
基準光路Sに沿って正しく光軸調整されている状態(別
言すれば、透過光Btが基準光路Sに沿って、所定の目
標点にまで到達する状態)で行っておく必要がある。
【0031】この新規な光軸調節装置300を機能させ
る上では、図6に示すように、この系に、光路迂回調節
手段2を追加する必要がある。図では便宜上、この光路
迂回調節手段2を単なるブロックとして示すが、実際に
は、この光路迂回調節手段2は複数の光学素子によって
構成される。この光路迂回調節手段2は、必要に応じ
て、作業者の操作により入射光の光ビームBを基準光路
Sとは異なる迂回光路Dへ誘導し、この誘導された光ビ
ームの位置および向きを調節して光分配面ξへ照射する
機能を有する。図示の例では、この迂回光路Dは、光路
D1,D2,D3によって構成されており、いずれも二
点鎖線で示してある。迂回光路Dへ誘導された光ビーム
に対しては、光路迂回調節手段2によって、位置および
向きの調節が行われる。ここで、「位置の調節」とは、
光ビームの光路を所定の設定変位量だけ平行移動させる
処理であり、「向きの調節」とは、光ビームの光路を所
定の設定角度だけ変化させる処理である。もちろん、迂
回光路D上で、このような位置および向きの調節が行わ
れると、迂回光路D自身が変化することになる。したが
って、本願における「迂回光路D」とは、ある定まった
特定の経路を意味するわけではなく、位置および向きの
調節処理によって様々に変化する不定形態の経路を意味
している。なお、この「位置の調節」および「向きの調
節」については、後に具体例を挙げて詳述する。
【0032】こうして、迂回光路Dを経由した光ビーム
は、光分配面ξに照射されることになるが、光分配面ξ
のどの位置にどのような向きで照射されるかは、迂回光
路D上において施された位置および向きの調節次第であ
る。ここでは、迂回光路Dにおいて行われた位置および
向きの調節の結果、図6の光路D3に沿った光ビーム
が、光分配面ξ上の位置Pに照射されたものとしよう。
前述したように、光分配面ξは、照射された光の一部を
反射、一部を透過させる性質をもった面であり、迂回光
路Dを経由した光ビームは、この光分配面ξによって2
つの光ビームに分配されることになる。すなわち、一部
は光分配面ξをそのまま透過して透過光Btとなり、一
部は光分配面ξで反射して反射光Brとなる。このと
き、位置Pに立てた法線をNとすれば、透過光Btと法
線Nとのなす角と、反射光Brと法線Nとのなす角と
は、互いに等しい角度αになる(もちろん、光路D3と
法線Nとのなす角も角度αになる)。
【0033】続いて、このときに得られる透過光Btに
ついて、光分配面ξ上での位置Pおよび向き(たとえ
ば、反射角α)を測定する。もちろん、この測定結果
は、通常、図5に示す基準情報取得手段1によって予め
取得された基準情報I(P0,α0)とは異なっている
(図5と図6とを比較すればわかるように、位置Pと位
置P0とは一致せず、角度αと角度α0とは一致しな
い)。そこで、この測定結果が基準情報I(P0,α
0)に近付くように、光路迂回調節手段2を制御するこ
とにする。図6に示す制御手段3は、透過光Btについ
て、光分配面ξ上での位置および向きを測定し、この測
定結果が基準情報I(P0,α0)に近付くように、光
路迂回調節手段2を制御する機能をもった構成要素であ
る。前述したように、光路迂回調節手段2は、迂回光路
D上において、光ビームの位置および向きを調節する機
能を有しているので、制御手段3による測定結果が基準
情報I(P0,α0)に一致するようなフィードバック
制御を行うことが可能である。
【0034】制御手段3によるフィードバック制御によ
り、測定結果が基準情報I(P0,α0)に完全に一致
するところまで到達した状態を図7に示す。光路迂回調
節手段2によって導かれる迂回経路Daは、光路D1
a,D2a,D3aから構成されており、図6に示す迂
回光路Dとは異なっている。その結果、迂回光路Daを
経由した光ビームの光分配面ξへの照射位置Pは、図5
に示す位置P0に一致した状態となり、透過光Btにつ
いての光分配面ξ上での位置Pおよび向き(たとえば、
反射角α)は、基準情報I(P0,α0)に完全に一致
する(P=P0,α=α0)。図5と図7とを比較して
みれば、図5における反射光Brが図7における透過光
Btと完全に一致し、図5における透過光Btが図7に
おける反射光Brに完全に一致していることがわかる。
ここで重要な点は、図5に示す反射光Brおよび透過光
Btは、基準光路S上を経た光ビームを分配することに
よって得られた光ビームであるのに対し、図7に示す透
過光Btおよび反射光Brは、迂回光路Da上を経た光
ビームを分配することによって得られた光ビームであ
る、という点である。ここで、図5に示す透過光Bt
が、射出点Qout から基準光路Sに沿った光ビームとし
て射出されるのと全く同様に、図7に示す反射光Br
が、射出点Qout から基準光路Sに沿った光ビームとし
て射出されることを考えれば、光路迂回調節手段2によ
る迂回が行われているにもかかわらず、「射出点Qout
から基準光路Sに沿った射出光が得られる」という点に
関しては、図7の状態は図5の状態に比べて何ら変化が
ないことになる。
【0035】これは、図1に示すように、所定の基準光
路Sが設定されている状態において、図3に示すよう
に、この基準光路S上に新規な光軸調節装置300を挿
入し、この光軸調節装置300の内部において、入射し
てきた光ビームを光路迂回調節手段2によって迂回光路
へと迂回させるようにしても、光軸調節装置300から
基準光路Sに沿って目標点Qへ向かう光ビームを射出す
ることが可能であることを意味している。より具体的に
手順を説明すれば、図3に示すように、光軸調節装置3
00を基準光路S上に挿入したら、まず、光路迂回調節
手段2による迂回を行わせずに、図5に示すように、入
射してきた光ビームBをそのまま光分配面ξへと導き、
基準情報取得手段1によって基準情報I(P0,α0)
を取得する作業を行う。続いて、光路迂回調節手段2に
よる迂回を行わせ、入射してきた光ビームBを迂回光路
Dへと導く。このように、入射してきた光ビームBの経
路を迂回光路Dに切り換えた当初には、図6に示すよう
に、光分配面ξからの反射光Brは基準光路Sに沿った
光ビームにはならないため、光軸調節装置300から射
出される光ビームは、基準光路Sから外れた状態にな
る。しかしながら、上述したフィードバック制御が行わ
れるため、やがて迂回光路Dは図7に示すような迂回光
路Daへと変遷し、光分配面ξからの反射光Brは基準
光路Sに沿った光ビームになり、光軸調節装置300か
ら射出される光ビームは、基準光路Sに沿ったものにな
る。
【0036】結局、図3に示すように、本発明に係る光
軸調節装置300を、既存の基準光路S上に挿入する
と、光ビームの経路を迂回光路Dへ切り換えた当初は、
ビーム源100からの光ビームがターゲット200上の
目標点Qから外れた状態になるが、フィードバック制御
系が安定した状態になれば、光ビームはもとどおり目標
点Qに照射された状態に戻る。したがって、本発明に係
る光軸調節装置300を、既に光軸調節が完了している
既存の基準光路Sに挿入したとしても、一時的な光軸の
変動は生じるものの、すぐにもとの状態に復帰するの
で、ビーム源100からターゲット200に至る全体の
系は、そのまま使用することができる。しかも、光軸調
節装置300を挿入することにより、将来、何らかの事
情で光軸調節装置300への入射光に変動が生じた場合
にも、光軸調節装置300からの射出光をもとの状態に
維持する自動光軸調節が行われることになる。すなわ
ち、図4に示すように、ビーム源100側の光軸に変動
が生じ、光ビームBの光軸調節装置300に対する入射
条件が変化したとしても、光軸調節装置300からの射
出光は以前と同じ条件を維持するような自動的な光軸調
節が行われることになる。
【0037】これは、次のようなフィードバック制御が
行われるためである。たとえば、本来は、図7に示すよ
うに、入射点Qinに対して基準光路Sに沿った光ビーム
Bが与えられるべきであったのに、何らかの事情で、図
8に示すように、光ビームBの入射条件が変動してしま
ったとしよう。このような変動が生じると、制御手段3
によって測定される透過光Btの位置Pおよび向きαの
測定結果が、予め取得しておいた基準情報I(P0,α
0)に一致しなくなるので、両者を一致させる方向にフ
ィードバックが働くことになる。その結果、図7に示す
迂回光路Daは、図8に示す迂回光路Db(光路D1
b,D2b,D3bから構成されている)のように変更
され、再び、透過光Btについての光分配面ξ上での位
置Pおよび向き(たとえば、反射角α)が、基準情報I
(P0,α0)に完全に一致するようになる(P=P
0,α=α0)。かくして、光ビームBの入射条件が変
動してしまったとしても、フィードバック制御系が安定
した状態になれば、光分配面ξからの反射光Brは、再
び、基準光路Sに沿って射出される状態に戻ることにな
る。
【0038】以上が、本発明で用いられる新規な光軸調
節装置の基本原理であり、このような基本原理により、
既存の光路を通る光ビームを安定維持させる機能をもっ
た光軸調節装置を提供することができる。
【0039】なお、これまで述べた例では、迂回光路か
ら光分配面ξに照射された光ビームの透過光Btについ
ての位置および向きを制御手段3で測定するようにして
いるが、透過光Btではなく反射光Brについての位置
および向きを制御手段3で測定するような構成を採るこ
とも可能である。たとえば、図6に示した例では、迂回
光路Dからの光ビームの透過光Btについての測定を制
御手段3で行っているが、図9に示すような光路D4〜
D7からなる迂回光路を設定した場合には、迂回光路か
らの光ビームの反射光Brについての測定を制御手段3
で行うことになり、透過光Btはターゲット200へ向
けて射出される光ビームということになる。もちろん、
この図9は、フィードバック制御の過渡状態を示してお
り、制御系が安定した状態では、図10に示すような光
路D4a〜D7aからなる迂回光路が設定され、ターゲ
ット200へ向けて射出される透過光Btは、基準光路
Sに沿ったものになる。
【0040】図6および図7に示す第1の構成例と図9
および図10に示す第2の構成例との相違は、基準情報
取得時に基準光路Sに沿って入射してきた光ビームBが
光分配面ξに照射される側と、迂回光路からの光ビーム
が光分配面ξに照射される側とが、第1の構成例では反
対であるのに対し、第2の構成例では同じになる点だけ
である。このため、制御手段3による測定対象は、第1
の構成例では、迂回光路からの光ビームの透過光Btと
なるのに対し、第2の構成例では、迂回光路からの光ビ
ームの反射光Brとなる。
【0041】なお、これまでの原理説明は、二次元平面
上の図面を用いた説明であったため、位置や向きの自由
度を制限した説明を行ったが、実際には、光ビームの光
路は三次元空間内に形成され、当然、位置や向きの自由
度は、この三次元空間に応じたものになる。たとえば、
図6に示す例では、光分配面ξは一次元の線分として示
され、この光分配面ξ上の位置Pは、この線分上を移動
する一次元の自由度しかもたないように描かれている
が、実際には、位置Pは、図の紙面に垂直な方向にも移
動する二次元の自由度を有していることになる。同様
に、図6に示す例では、各光ビームの向きを、二次元平
面上における角度αで表現しているが、実際には、各光
ビームの向きはこの二次元平面上に限定されるわけでは
なく、三次元空間内の任意の方向を向くことができるの
で、角度で表現した場合には、たとえば、XZ平面に対
する角度αxyとYZ平面に対する角度αyzのような2通
りの角度パラメータで表現されることになる。したがっ
て、光路迂回調節手段2は、光ビームの位置および向き
を、三次元空間内の自由度をもって調節する機能を有
し、制御手段3は、このような自由度を考慮したフィー
ドバック制御を行う機能を有する。
【0042】§2.基本的な実施形態 続いて、本発明に係る露光装置で用いられる光軸調節装
置の基本的な実施形態を4通りについて述べることにす
る。
【0043】(A) 図11は、基本的な実施形態Aに
係る光軸調節装置の構成を示すブロック図である。この
光軸調節装置の特徴は、光ビームを迂回光路へ導いた
後、まず、角度調節(向きの調節)を行い、続いて位置
調節を行う点にある。
【0044】既に§1で述べたように、この光軸調節装
置は、入射点Qinと射出点Qout とを通る基準光路Sに
沿って光ビームが存在するときに、入射点Qinと射出点
Qout との間に配置することにより、入射光が基準光路
を外れた場合にも、射出光が基準光路Sに沿った状態を
維持するように光軸調節を行う機能を有する。この光軸
調節装置の基本構成要素は、図示のとおり、ビーム分配
手段10、光路切換手段20、角度調節手段30、位置
調節手段40、検出手段50、記憶手段60、制御手段
70である。§1の基本原理で説明した各構成要素との
関係では、ビーム分配手段10は、たとえばハーフミラ
ーを有するプリズムなどの光学素子(いわゆるビームス
プリッター)によって構成され、基準光路S上に光分配
面ξを配置する機能を果たし、光路切換手段20、角度
調節手段30、位置調節手段40は、光路迂回調節手段
2としての機能を果たす。また、検出手段50、記憶手
段60、制御手段70は、基準情報取得手段1および制
御手段3としての機能を果たす。以下、これら各手段の
機能を個々に説明する。なお、図において一点鎖線は基
準光路S、二点鎖線は迂回光路、破線は検出用光路、実
線は電気信号の経路を示す。
【0045】まず、ビーム分配手段10は、光分配面ξ
を基準光路S(図の一点鎖線)上に配置する役割を果た
す。光分配面ξは、既に述べたように、照射された光の
一部を反射、一部を透過させる機能をもった面であり、
たとえば、図の右側から入射してきた入射光L1がこの
ビーム分配手段10に照射されると、光分配面ξにおい
て、透過光と反射光とに分けられる。ここでは、入射光
L1に基いて生じた透過光(図においてビーム分配手段
10から左方向に射出される光)を入射光透過光L2と
呼び、入射光L1に基いて生じた反射光(図においてビ
ーム分配手段10から上方向に射出される光)を入射光
反射光L3と呼ぶことにする。
【0046】光路切換手段20は、入射点Qinとビーム
分配手段10との間に配置され、入射光L1の光路を切
り換えるための構成要素である。すなわち、光路切換手
段20は、入射光L1をそのまま透過させてビーム分配
手段10へと導く第1の機能と、入射光L1の向きを所
定の迂回光路(図の二点鎖線)に向けて変化させ、迂回
光L4として射出する第2の機能と、の2つの機能を選
択的に実行することができる。角度調節手段30は、こ
の迂回光L4の向きを所定の設定角度θだけ変化させて
角度調節光L5として射出する機能を果たし、位置調節
手段40は、この角度調節光L5を入射し、この角度調
節光L5に対して平行で(図示の例の場合、平行で進行
方向が逆向き)、所定の設定変位量dだけずれた位置を
通る位置角度調節光L6(任意の設定変位量dに基く位
置調節と、任意の設定角度θに基く角度調節との双方が
施された光)を、ビーム分配手段10の光分配面ξに向
けて射出する機能を果たす。
【0047】ビーム分配手段10に照射された位置角度
調節光L6は、光分配面ξによって透過光と反射光とに
分配される。ここでは、位置角度調節光L6に基いて生
じた透過光(図においてビーム分配手段10から上方向
に射出される光)を調節光透過光L7と呼び、位置角度
調節光L6に基いて生じた反射光(図においてビーム分
配手段10から左方向に射出される光)を調節光反射光
L8と呼ぶことにする。結局、光路切換手段20が第1
の機能を実行しているときには、ビーム分配手段10か
ら入射光透過光L2および入射光反射光L3が得られ、
光路切換手段20が第2の機能を実行しているときに
は、ビーム分配手段10から調節光透過光L7および調
節光反射光L8が得られることになる。
【0048】検出手段50は、このビーム分配手段10
から図の上方へと進行する入射光反射光L3または調節
光透過光L7の位置および向きを検出する機能を有す
る。別言すれば、検出手段50は、光路切換手段20が
第1の機能を実行しているときには、光分配面ξにおけ
る入射光反射光L3の位置および向きを検出し、光路切
換手段20が第2の機能を実行しているときには、光分
配面ξにおける調節光透過光L7の位置および向きを検
出する。なお、図9および図10に示す構成を採る場
合、すなわち、角度調節手段30および位置調節手段4
0の配置を図示の配置とは変えることにより、位置角度
調節光L6が光分配面ξの逆側に照射されるような構成
を採る場合には、調節光透過光が図の左方向のターゲッ
トに向けて射出する光となり、調節光反射光が図の上方
の検出手段50に向けて射出する光となるので、この場
合には、検出手段50によって調節光反射光の位置およ
び向きを検出する必要がある。
【0049】記憶手段60は、§1で述べた基準情報を
記憶する構成要素である。すなわち、光路切換手段20
が第1の機能を実行しているときに、検出手段50によ
って検出された位置および向き(入射光反射光L3の位
置および向き)を基準情報として記憶する機能を果た
す。もちろん、このような基準情報を記憶する処理は、
入射光L1が基準光路Sに沿って正しく入射してきてお
り、ビーム分配手段10から射出される入射光透過光L
2が、ターゲット上の目標点Qに正しく照射されている
状態で行うことになる。
【0050】制御手段70は、光路切換手段20が第2
の機能を実行しているときに、検出手段50によって検
出される位置および向き(図示の例の場合、調節光透過
光L7の位置および向き)が、記憶手段60に記憶され
ている基準情報の位置および向きに近付くように、角度
調節手段30による設定角度θおよび位置調節手段40
による設定変位量dを制御する機能を果たす。§1で述
べたように、このような制御はフィードバック制御とな
り、制御系が安定した状態になった時点で、検出手段5
0によって検出される位置および向きが、基準情報の位
置および向きに一致することになり、ビーム分配手段1
0からターゲットに向けて射出される調節光反射光L8
は、基準光路Sに沿った光ビームとなる。もちろん、こ
のようなフィードバック制御は、入射光L1の入射条件
に変動が生じた場合にも有効であり、入射光L1が基準
光路Sから外れた状態で入射してくるようになったとし
ても、制御手段70によるフィードバック制御により、
ビーム分配手段10から射出される調節光反射光L8
は、基準光路Sに沿った光ビームとなるように調節され
る。
【0051】なお、このようなフィードバック制御で
は、制御対象となる量が、設定角度θ(向きの制御)と
設定変位量d(位置の制御)との2つになるので、これ
ら2つの量を同時に制御しようとすると、制御動作が複
雑になる。そこで、実用上は、設定角度θの制御と設定
変位量dの制御とを、交互に繰り返して行うようにし、
検出手段50による測定結果が記憶手段60に記憶され
ている基準情報に徐々に近付いてゆくようにするのが好
ましい。
【0052】(B) 図12は、基本的な実施形態Bに
係る光軸調節装置の構成を示すブロック図である。この
実施形態Bの特徴は、光ビームを迂回光路へ導いた後、
まず、位置調節を行い、続いて角度調節(向きの調節)
を行う点にある。図11に示す実施形態Aとの相違点
は、角度調節と位置調節との実施順が逆転しているだけ
であり、具体的な構成の相違は、角度調節手段30と位
置調節手段40との位置関係が逆転している点だけであ
る。
【0053】すなわち、光路切換手段20の第2の機能
により、入射光L1が迂回光路へと導かれ、迂回光L4
として射出されたら、まず、位置調節手段40による位
置調節が行われる。この位置調節の結果、迂回光L4
は、所定の設定変位量dだけずれた位置を通る位置調節
光L9(図示の例の場合、迂回光L4と位置調節光L9
とは平行で進行方向も同じ)として射出される。続い
て、この位置調節光L9に対して、角度調節手段30に
よる設定角度θの調節が行われ、位置角度調節光L6が
得られる。この位置角度調節光L6が、ビーム分配手段
10へと照射された後に関与する各構成要素について
は、図11に示す実施形態Aと全く同様であり、また、
この光軸調節装置の動作も、図11に示す実施形態Aの
動作と全く同様である。
【0054】(C) 図13は、基本的な実施形態Cに
係る光軸調節装置の構成を示すブロック図である。この
実施形態Cの特徴は、図11に示す実施形態Aに係る光
軸調節装置において、光路切換手段20と角度調節手段
30とを、その双方を兼ねる機能をもった光路切換角度
調節手段35に置き換えた点にある。光路切換角度調節
手段35は、入射点Qinとビーム分配手段10との間に
配置され、入射光L1を透過させる第1の機能と、入射
光L1の向きを所定の設定角度θだけ変化させることに
より得られる角度調節光L5を、所定の迂回光路に沿っ
て射出する第2の機能と、の2つの機能を選択的に実行
することができる。この第2の機能を実行する際の設定
角度θは、制御手段70による制御対象となり、この設
定角度θを制御することにより、角度調節光L5を、た
とえば図に破線で示したL5のような向きに調節する
ことが可能である。その他の構成要素や動作について
は、図11に示す実施形態Aと同様である。
【0055】(D) 図14は、基本的な実施形態Dに
係る光軸調節装置の構成を示すブロック図である。この
実施形態Dの特徴は、図12に示す実施形態Bに係る光
軸調節装置において、光路切換手段20と位置調節手段
40とを、その双方を兼ねる機能をもった光路切換位置
調節手段45に置き換えた点にある。光路切換位置調節
手段45は、入射点Qinとビーム分配手段10との間に
配置され、入射光L1を透過させる第1の機能と、入射
光L1の向きを変えることによって得られる迂回光L4
の位置を所定の設定変位量dだけ変化させることにより
得られる位置調節光L9を、所定の迂回光路に沿って射
出する第2の機能と、の2つの機能を選択的に実行する
ことができる。この第2の機能を実行する際の設定変位
量dは、制御手段70による制御対象となり、この設定
変位量dを制御することにより、位置調節光L9を、た
とえば図に破線で示したL9のような位置に調節する
ことが可能である。図14において、光路切換位置調節
手段45を示すブロックから下方に向かう3本の二点鎖
線のうち、迂回光L4が通る二点鎖線は、入射光L1の
進行方向を単に曲げた光路に相当し(d=0の場合)、
その左右に位置する二点鎖線は、所定の設定変位量だけ
平行移動させた光路に相当する。この光軸調節装置のそ
の他の構成要素や動作については、図12に示す実施形
態Bと同様である。なお、迂回光L4を所定の設定変位
量dだけ平行移動する代わりに、入射光L1を直接、図
示の設定変位量ddだけ平行移動することにより、左水
平方向を向いた位置調節光L9を得るようにしてもかま
わない。
【0056】§3.具体的な実施形態 上述の§2では、光軸調節装置の基本的な実施形態を4
通り説明したが、ここでは、これら4通りのうちの実施
形態Bおよび実施形態Cについて、より具体的な実施形
態を述べる。
【0057】図15は、上述の実施形態Cについてのよ
り具体的な実施形態を示す図(光学的要素については平
面図、電気的要素および機械的要素についてはブロック
図として示す)であり、部品点数が少ないため、コスト
の低減を図る上では、最も理想的な構成と思われる実施
形態である。
【0058】光反射素子81は、入射光を反射させるこ
とができる反射面ηを有する光学素子であり、この反射
面ηで反射した光ビームは、図に二点鎖線で示す光路D
1を経て、コーナリフレクタ82へと入射し、更に、光
路D2,D3を経て、ビーム分配器83へと入射する。
ビーム分配器83は、§2で述べたビーム分配手段10
として機能する光学素子であり、ハーフミラーなどから
なる光分配面ξを有している。また、検出用ビーム分配
器84も、ハーフミラーなどからなる光分配面μを有し
ており、ビーム分配器83の光分配面ξから図の上方に
向かって進行してきた検出用光ビームを2つのビームに
分配する機能を有する。光分配面μによって分配された
第1のビーム(この例の場合、透過光)は、受光素子8
5によって受光され、分配された第2のビーム(この例
の場合、反射光)は、集光レンズ86を経て受光素子8
7によって受光される。受光素子85および受光素子8
7は、二次元平面状の受光面を有し、この受光面上への
光ビームの照射位置を示す検出信号を発生させる機能を
有している。具体的には、PSD(Position Sensing D
etector )素子やCCD(Charge Coupled Device )素
子を用いて構成すればよい。集光レンズ86は、平行光
線を所定の焦点に集光するレンズであり、受光素子87
の受光面は、この集光レンズ86からその焦点距離だけ
離れた位置に配置されている。したがって、受光素子8
7は、受光面上に集光された位置を検出する機能を有す
る。
【0059】後述するように、受光素子85は、光分配
面ξからの検出対象ビームについての位置を検出する位
置検出器として機能し、集光レンズ86および受光素子
87は、光分配面ξからの検出用光ビームについての向
きを検出する向き検出器として機能する。結局、検出用
ビーム分配器84、受光素子85、集光レンズ86、受
光素子87は、図13に示す実施形態Cにおける検出手
段50に対応する構成要素ということになる。受光素子
85および受光素子87からの検出信号は、記憶装置9
1および制御装置92に与えられる。ここで、記憶装置
91および制御装置92は、図13に示す実施形態Cに
おける記憶手段60および制御手段70に対応する構成
要素であり、実際には、メモリやマイクロプロセッサな
どを備えたコンピュータにより構成することができる。
【0060】角度調節機構93は、光反射素子81の向
き(反射面ηの向き)を調節する機構であり、より具体
的には、この反射面η上で直交する2つの回転軸ω1
(基準光路Sと反射面ηとの交点Aを通り図の紙面に垂
直な軸)およびω2に関して、光反射素子81を回転さ
せる機能をもった機構である。実際には、高精度のステ
ッピングモータなどを用いた機構により実現されること
になるが、ここではその構造についての詳細な説明は省
略する。一方、位置調節機構94は、コーナリフレクタ
82の位置を調節する機構であり、ここに示す例の場
合、コーナリフレクタ82をX軸方向(図において、+
Xおよび−Xと示した左右方向)およびY軸方向(図の
紙面に垂直な方向)の二軸方向にそれぞれ独立して平行
移動させる機能を有している。別言すれば、位置調節機
構94は、コーナリフレクタ82を所定平面(XY平
面)に沿って平行移動させる機能を有していることにな
る。このような位置調節機構94も、実際には、高精度
のステッピングモータなどを用いた機構により実現され
ることになるが、ここではその構造についての詳細な説
明は省略する。
【0061】ここで、光反射素子81についての説明を
更に補足すると、この光反射素子81は、入射点Qinと
ビーム分配器83との間の基準光路S上に着脱自在に配
置することができるようになっている。すなわち、光反
射素子81は、図にハッチングを施して示した支持機構
88によって取り付けられているが、支持機構88は、
光反射素子81を着脱自在に支持する機能を有してい
る。この支持機構88は、たとえば、光反射素子81を
支持するレールなどの単純な機械的構造物によって構成
すればよい。この場合、作業者が光反射素子81を抜き
差しすることにより、光反射素子81を配置したり、除
去したりすることができる。もちろん、支持機構88を
電動駆動機能を備えた機構によって構成し、作業者の操
作指示に基いて、自動的に基準光路S上に配置された
り、基準光路S上から除去されたりするようにしてもか
まわない。要するに、光反射素子81を、基準光路S上
に配置しない第1の状態と、基準光路S上に配置した第
2の状態と、を選択的に採ることができ、かつ、この光
反射素子81を基準光路S上に配置した場合に、入射光
を所望の方向に反射させることができるように反射面η
の角度調節が可能な構成になっていれば、支持機構88
としてどのような機械的構造物を用いてもかまわない。
【0062】このように、光反射素子81を支持機構8
8で支持することにより、この光反射素子81は、図1
3に示す実施形態Cにおける光路切換角度調節手段35
として機能することになる。すなわち、光反射素子81
を基準光路S上から脱離させた第1の状態にすれば、入
射光をそのままビーム分配器83へと導く第1の機能が
実行されることになり、光反射素子81を基準光路S上
に配置した第2の状態にすれば、入射光を所定の迂回光
路へと導くとともに、所定の設定角度θに応じた角度調
節を行う第2の機能が実行されることになる。
【0063】図16は、このような角度調節を行う原理
を示すものである。いま、図16の実線で示されている
向きに光反射素子81が設置されており、この光反射素
子81の反射面ηに対して実線で示す入射光Linが図の
ような向きに照射され、その結果、図のような向きに実
線で示す射出光Lout が反射している状態を考える。こ
の状態で、光反射素子81を紙面上で反時計回りにθ/
2だけ回転させて図の破線で示されている状態にし、反
射面ηの向きを変えたとすると、射出光は図に破線で示
すLout のように変化する。ここで、射出光Lout と
Lout とのなす角はθである。結局、光ビームの向き
を角度θだけ変化させるような調節を行いたい場合に
は、光反射素子81を角度θ/2だけ回転させるような
制御を行えばよいことになる。
【0064】一方、コーナリフレクタ82は、図13に
示す実施形態Cにおける位置調節手段40として機能す
る光学素子であり、光反射素子81からの反射光(図1
5の光路D1を通って入ってくる光ビーム)を入射し、
これに平行な逆向光(図15の光路D3を通って出て行
く光ビーム)を射出する機能を有している。一般に、コ
ーナリフレクタは、立方体を構成する6面のうち、同一
頂点Cを含む3面の内側を反射面とした光学素子であ
り、これら反射面内の任意の位置に、任意の向きで入射
光を照射すると、必ずこの入射光に平行で逆向きの射出
光が得られるという光学的な性質を有する。図15に示
す例では、光路D1に沿った入射光が反射面ρ1上の入
射点Cinに入射すると、光路D2に沿った反射光とな
り、更に、この光路D2に沿った反射光が反射面ρ2上
の射出点Cout で反射して、光路D3に沿って射出する
ことになる。この場合、入射点Cinの位置や入射角度に
かかわらず、光路D1に沿った入射光と光路D3に沿っ
た射出光とは、必ず平行で逆向きの光となる。なお、こ
のような性質をもった光学素子としては、コーナリフレ
クタの他にも、コーナキューブプリズムが知られてお
り、位置調節手段としては、コーナリフレクタの代わり
にコーナキューブプリズムを用いてもかまわない。
【0065】図17は、コーナリフレクタ82を用いた
位置調節を行う原理を示すものである。いま、図17の
実線で示されている位置にコーナリフレクタ82が設置
されており、このコーナリフレクタ82に対して実線で
示す入射光Linが図のような向きに照射され、その結
果、図のような向きに実線で示す射出光Lout が射出さ
れている状態を考える。この状態で、コーナリフレクタ
82を紙面上で右方向(+X方向)に距離d/2だけ移
動させて図の破線で示されている状態にしたとすると、
射出光は図に破線で示すLout のように変化する。こ
こで、射出光Lout とLout との間の変位量はdであ
る。結局、光ビームの位置を変位量dだけ変化させるよ
うな調節を行いたい場合には、コーナリフレクタ82を
変位量d/2だけ移動させるような制御を行えばよいこ
とになる。
【0066】続いて、図15に示す光軸調節装置におけ
る検出器、すなわち、検出用ビーム分配器84、受光素
子85、集光レンズ86、受光素子87の機能について
説明する。この検出器は、光反射素子81を基準光路S
上に配置しない第1の状態において、ビーム分配器83
の光分配面ξから反射されてきた検出用光ビームについ
て、光分配面ξ上での位置および向きを検出する第1の
機能と、光反射素子81を基準光路S上に配置した第2
の状態において、ビーム分配器83の光分配面ξを透過
してきた検出用光ビームについて、光分配面上での位置
および向きを検出する第2の機能と、を備えている。い
ずれの機能を実施する場合にも、検出の基本原理は同じ
であり、光分配面ξからの検出用光ビームについての位
置Pと向きとを測定することができればよい。そして、
第1の機能によって検出された位置および向きは、基準
情報として記憶装置91に記憶されることになり、第2
の機能によって検出された位置および向きは、制御装置
92へと与えられ、この検出結果が記憶装置91に記憶
されている基準情報に近付くように、角度調節機構93
および位置調節機構94に対するフィードバック制御が
行われる。
【0067】既に述べたように、検出用光ビームは、検
出用ビーム分配器84によって、2つのビームに分配さ
れ、受光素子85によって位置の検出が、受光素子87
によって向きの検出が行われることになる。図15に示
す例では、受光素子85の受光面上では、点Q10の位
置にビームが照射されており、受光素子87の受光面上
では、点Q20の位置にビームが照射されており、これ
ら点Q10および点Q20の受光面上での位置が、それ
ぞれ検出用光ビームの光分配面ξ上での位置Pおよび向
きに対応する情報になる。
【0068】図18は、受光素子85によって、位置検
出が行われる原理を説明する図である。いま、図に実線
で示すような検出用光ビームL10が、光分配面ξの位
置Pから検出用ビーム分配器84の光分配面μを透過し
て受光素子85まで到達したとすると、受光面上での照
射点は点Q10になる。このとき、光分配面μから反射
して集光レンズ86で集光され、受光素子87まで到達
した検出用光ビームの集光点は点Q20になる。ここ
で、もし、検出用光ビームの光分配面ξ上での位置だけ
が、PからP1にずれたとすると(向きは同じであった
とする)、検出用光ビームL11は破線に示すような光
路を通って、受光素子85および受光素子87に照射さ
れることになる。すなわち、受光素子85の受光面上で
の照射点は点Q11となり、もとの点Q10からずれる
ことになる。一方、受光素子87の受光面上での集光点
は点Q21となり、もとの点Q20と同一の点になる。
これは、受光素子87の受光面が集光レンズ86の焦点
位置に置かれているためである。すなわち、集光レンズ
86に入射する複数の光ビームがあったとしても、これ
らが互いに平行である限りは、受光素子87の受光面上
の同一点に集光することになる。かくして、光分配面ξ
からの検出用光ビームL10に生じた位置の変化は、位
置検出器として機能する受光素子85においてのみ検出
されることになり、向き検出器として機能する受光素子
87では検出されない。
【0069】これに対して、図19は、受光素子87に
よって、向き検出が行われる原理を説明する図である。
いま、図に実線で示すような検出用光ビームL10が、
光分配面ξの位置Pから検出用ビーム分配器84の光分
配面μを透過して受光素子85まで到達したとすると、
受光面上での照射点は点Q10になる。このとき、光分
配面μから反射して集光レンズ86で集光され、受光素
子87まで到達した検出用光ビームの集光点は点Q20
になる。ここで、もし、検出用光ビームL10の光分配
面ξに対する向きだけがずれたとすると(検出用光ビー
ムの光分配面ξ上の位置Pは同じであったとする)、検
出用光ビームL12は破線に示すような光路を通って、
受光素子85および受光素子87に照射されることにな
る。すなわち、受光素子85の受光面上での照射点は点
Q12となり、もとの点Q10からずれることになる。
一方、受光素子87の受光面上での集光点は点Q22と
なり、やはりもとの点Q20からずれることになる。こ
れは、実線で示す光ビームと破線で示す光ビームとが平
行ではないため、集光レンズ86による集光点がずれる
からである。かくして、光分配面ξからの検出用光ビー
ムL10に生じた向きの変化は、向き検出器として機能
する受光素子87によって検出できる。ただ、このよう
な向きの変化は、受光素子85においても検出されるこ
とになる。
【0070】結局、受光素子87の検出結果には、向き
の変化のみが含まれているのに対し、受光素子85の検
出結果には、位置の変化と向きの変化との双方の成分が
含まれていることになる。このような事情から、理論的
には、図15に示す光軸調節装置では、制御装置92に
よるフィードバック制御は、まず、向きを一致させるた
めの角度制御(角度調節機構93に対する制御)を先に
行い、続いて、位置を一致させるための位置制御(位置
調節機構94に対する制御)を行うようにするのが好ま
しい。向きについての検出結果が基準情報に一致すれ
ば、受光素子85の検出結果から向きについての変化成
分を除去することができ、位置についての変化成分のみ
を認識することができる。もっとも、実用上は、角度制
御と位置制御とを交互に繰り返して実行することによ
り、検出結果を基準情報に徐々に近付けてゆくフィード
バック制御が行われることになるので、角度制御と位置
制御との順を厳密に考慮する必要はない。
【0071】続いて、この光軸調節装置による自動光軸
調節動作の一例を示す。たとえば、図20に示すよう
に、入射点Qinから射出点Qout へ向かう基準光路S
(一点鎖線)が形成されている状態において、この基準
光路S上に、この光軸調節装置を挿入したとしよう。こ
の場合、まず、光反射素子81を基準光路S上から取り
外し、基準光路Sに沿って入射してくる入射光をビーム
分配器83の光分配面ξへと導き、この光分配面ξから
反射してきた検出用光ビーム(図の破線に示す光路を進
む)についての位置Pおよび向きを検出する。具体的に
は、受光素子85上の点Q10の位置が、「位置Pを示
す情報」として検出され、受光素子87上の点Q20の
位置が、「向きを示す情報」として検出され、これらの
情報が基準情報として記憶装置91(図20では図示省
略)に記憶される。次に、基準光路S上に光反射素子8
1を配置した状態にし、入射光を反射面η上の点Aで反
射させて迂回光路(二点鎖線)へと導き、光分配面ξか
ら透過してきた検出用光ビームについての位置および向
きを検出し、これらの検出結果が、記憶装置91に記憶
されている基準情報に一致するようなフィードバック制
御を行う。このようなフィードバック制御により、検出
用光ビームは、受光素子85の点Q10および受光素子
87の点20に照射された状態となり、ビーム分配器8
3からは基準光路Sに沿った射出光が射出点Qout へ向
けて射出されることになる。いわば、図3に示すような
状態が得られたことになる。なお、このような状態にお
いて、「迂回光路を経てターゲット方向へ射出される光
ビーム強度」が、「検出用ビーム分配器84へと導かれ
る検出用光ビームの強度」に比べて十分に大きくなるよ
うにするためには、ビーム分配器83内の光分配面ξ
を、反射率99%、透過率1%程度のハーフミラーによ
って構成しておくようにすればよい。
【0072】さて、ここで、何らかの原因により、この
光軸調節装置への入射光の入射条件が変動し、図20に
実線で示すような入射光L15が与えられるようになっ
たとしよう。すなわち、これまでは、基準光路Sに沿っ
た入射光が与えられていたのに、この入射光の位置が若
干変動したことになる(ここでは、入射光の向きについ
ての変動はなかったものとしよう)。すると、迂回光路
は、図の二点鎖線で示す光路から、図の実線で示す光路
へと変化し、光ビームは光分配面ξにおける位置P15
に照射されることになる。その結果、ビーム分配器83
から図の左方へ射出される光ビームは、基準光路Sから
外れることになり、その最終照射位置は、ターゲット上
の目標点Qから外れてしまう。
【0073】このような光軸変動は、受光素子85およ
び受光素子87によって検出される。すなわち、受光素
子85上の照射点は点Q10から点Q15へと変動し、
受光素子87上の集光点は点Q20から点Q25へと変
動する。もっとも、この例では、入射光の向きについて
の変動はなかったので、点Q20と点Q25とは同一点
となり、向きについての調節を行う必要はないことが認
識される。そこで、制御手段70(図20では図示省
略)は、位置についての変動量d(点Q10と点Q15
との距離)を相殺すべく、位置調節機構94(図20で
は図示省略)に対して制御信号を送り、図21に破線で
示すように、コーナリフレクタ82を距離d/2だけ図
の左方向へシフトさせる。すると、入射光L15は、図
に実線で示す迂回光路を通って、光分配面ξの「変動が
生じる前の位置P」へと導かれるような位置調節が行わ
れることになり、受光素子85上の照射点は点Q10へ
戻り、受光素子87上の集光点は点Q20となる。かく
して、ビーム分配器83から図の左方へ射出される光ビ
ームは、基準光路S上の位置に戻され、その最終照射位
置は、ターゲット上の目標点Qに戻される。
【0074】以上、入射光について位置変動が生じた場
合を述べたが、向きの変動が生じた場合には、光反射素
子81の角度が調節され、同様の自動光軸調節が行われ
ることになる。
【0075】最後に、もうひとつの具体的な実施形態を
述べておく。図22は、上述の実施形態Bについてのよ
り具体的な実施形態を示す図(光学的要素については平
面図、電気的要素および機械的要素についてはブロック
図として示す)である。この図22に示す光軸調節装置
の構成および動作は、図15に示す光軸調節装置の構成
および動作とほぼ同じであるため、ここでは両者の相違
点のみを述べておく。両者の根本的な相違点は、図13
に示す実施形態Cと図12に示す実施形態Bとの相違に
基く。すなわち、図22に示す光軸調節装置では、図1
5に示す光反射素子81が光反射素子95に置き換えら
れており、更に、新たに光反射素子96が追加されてい
る。これは、図15の光反射素子81が、図13の光路
切換角度調節手段35に相当する構成要素であるのに対
し、図22の光反射素子95および96が、それぞれ図
12の光路切換手段20および角度調節手段30に相当
する構成要素であるためである。
【0076】要するに、光反射素子95は、入射光を反
射面η1上の点Aで反射させることにより、迂回光路D
1へと導く機能を有しているものの、角度の調節機能は
有しておらず、角度の調節は光反射素子96によって行
うようにしているのである。コーナリフレクタ82が位
置調節機能を果たす点は、図15の光軸調節装置と同様
である。結局、この図22に示す光軸調節装置では、光
反射素子95によって光路D1へと迂回させられた光ビ
ームに対して、まず、コーナリフレクタ82による位置
調節が施され、続いて、光反射素子96による角度調節
が施されることになる。光反射素子96は、反射面η2
上で直交する二軸ω3およびω4を回転軸として回転す
る構造となっており、角度調節機構93によって向きの
制御が行われる。
【0077】なお、この光軸調節装置においても、基準
情報を得て記憶装置91に記憶させる作業を行うため
に、基準光路Sに沿って入射してきた入射光を、そのま
まビーム分配器83まで導くことができるような構造に
しておく必要があるので、光反射素子95を支持機構9
7によって着脱自在に支持し、光反射素子96を支持機
構98によって着脱自在に支持するようにしてある。基
準情報を得る作業を行う際には、光反射素子95,96
をともに基準光路S上から除去し、基準光路Sに沿った
入射光をそのままビーム分配器83へと導けばよい。も
っとも、光反射素子96を透明材料で構成しておき、反
射面η2を完全な反射面ではなく、光の一部を透過する
面にしておけば、光反射素子96の内部を通じて、基準
光路Sに沿った入射光をビーム分配器83まで導くこと
ができるので、光反射素子96は必ずしも着脱自在な形
で配置する必要はない。また、光反射素子96の配置を
工夫して、基準光路Sを妨げないような位置に配置する
ことが可能であれば、光反射素子96を着脱自在にする
必要はない。
【0078】§4.本発明に係る露光装置 これまで、§1〜§3において、光軸の自動調節機能を
もった新規な光軸調節装置の構成および動作を説明して
きたが、本発明の特徴は、既存の露光装置に、この新規
な光軸調節装置を取り入れた点にある。以下、本発明の
露光装置の全体構成を説明する。
【0079】はじめに、従来から利用されている一般的
な露光装置の構成例を、簡単に説明しておく。図23
は、カラーホログラム像についての露光を行う一般的な
露光装置の構成図である。この露光装置は、所定の露光
面に対して光を照射することにより、この露光面上に配
置された感光材料を露光させる作業に利用される。ビー
ム源100R,100G,100Bは、それぞれ赤色、
緑色、青色のレーザビームを発生させるレーザ光源であ
り、それぞれ図に一点鎖線で示す光路に沿って、赤色ビ
ームLr、緑色ビームLg、青色ビームLbを発生させ
る。こうして発生されたレーザビームを露光面へと誘導
するために、ビーム誘導手段401〜404が設けられ
ている。ここで、ビーム誘導手段401,402は反射
鏡、ビーム誘導手段403,404はビーム合成器とな
っている。緑色ビームLgは、反射鏡402で図の下方
へと曲げられてビーム合成器403へ入射し、ここで青
色ビームLbと合成させられる。この合成ビームLgbは
更にビーム合成器404へ入射する。一方、赤色ビーム
Lrは、反射鏡401で図の下方へと曲げられてビーム
合成器404へ入射し、ここで合成ビームLgbと更に合
成させられ、三原色の合成ビームLrgb となり、ビーム
径拡張装置405へと入射する。ビーム径拡張装置40
5は、誘導されてきた合成ビームLrgb の径を、露光面
Eの大きさに応じて拡張する光学素子であり、ビーム径
が拡張された合成ビームLLrgb は、そのまま露光面E
へと照射される。
【0080】露光面Eは、概念的に定義された平面であ
り、実際には、この露光面E上に配置された感光材料に
対して露光が行われる。図示の例では、所定の搬送路に
沿って、感光材料501〜504が図の左方向へ向かっ
て搬送されており(搬送機構についての図示は省略)、
露光面E上に搬送されてきた感光材料501に対して露
光が行われている状態が示されている。ここでは、1枚
ずつ独立した感光材料501〜504を搬送する例を示
したが、もちろん、巻取状の感光フィルムを感光材料と
して用い、この巻取状の感光フィルムを図の水平方向に
搬送するような形態の露光装置も利用されている。図示
の例は、感光材料501〜504上に、いわゆるリップ
マン型ホログラムの像を形成させるための露光装置であ
り、露光面Eの下方に、ホログラム原版600(たとえ
ば、所定のモチーフを表現したレリーフ像)が配置され
ている。また、感光材料501〜504として、透明な
感光性フィルムを使用している。このような構成によっ
て、感光材料501上には、図の上方から照射された合
成ビームLLrgb と、ホログラム原版600からの反射
光と、の干渉縞が記録されることになり、カラーホログ
ラム像の記録が行われる。
【0081】このような露光装置では、合成ビームLL
rgb の光軸調節が非常に重要である。各ビーム源100
R,100G,100Bから発せられたレーザビームの
断面強度は、一般に、ガウシアン分布をとるため、露光
面E上に照射される合成ビームLLrgb の断面強度もガ
ウシアン分布をとる。したがって、各色ごとのレーザビ
ームの光軸が正確に調節されていないと、露光面上での
各色ごとの強度分布にずれが生じることになり、ホログ
ラム像の再生時に色むらが生じる原因になる。このた
め、ビーム源100R,100G,100Bおよびビー
ム誘導手段401〜404を設置し、テスト動作を行う
際には、精密な光軸調節作業が行われる。たとえば、露
光面Eに、複数の光センサが配置された測定板を配置
し、各光センサの検出出力をモニタしながら、ビーム源
100R,100G,100Bに内蔵された光軸調節機
構を調節したり、ビーム誘導手段401〜404の位置
や向きを調節したりする作業が行われることになる。
【0082】こうして、この露光装置を設置する際のテ
スト段階で、精密な光軸調節を行っておけば、一応、各
レーザビームの光軸は所定の基準光路に合わせられるこ
とになり、正しい露光作業を行うことが可能になる。し
かしながら、このような光軸調節によって、各ビームの
光軸が必ずしも正確な位置に固定されるわけではない。
光軸に変動が生じる要因のひとつは、ビーム源100
R,100G,100Bの不安定要因である。一般に、
レーザ光源は、起動してから動作が安定な状態に達する
までに、ある程度の時間を要する。したがって、レーザ
光源が完全に安定した状態になるまでは、各レーザビー
ムの光軸に変動が生じるおそれがある。また、レーザ光
源の起動後、十分な時間が経過しているにもかかわら
ず、電源電圧の変動などの外乱によって、光軸に変動を
来す場合もある。更に、長期間の使用による経年変化と
いう要因により、徐々に光軸にずれが生じることもあ
る。従来は、このような光軸ずれが生じた場合、その都
度、既存の光軸調節機構を利用して、再度の光軸調節作
業を行っていた。
【0083】本発明に係る露光装置では、§1〜§3で
述べた新規な光軸調節装置を利用することにより、上述
のような光軸変動が生じた場合にも、自動的な光軸調節
を行うことができる。図24は、本発明の一実施形態に
係る露光装置の構成図である。この露光装置は、図23
に示す従来の露光装置に、3つの光軸調節装置300
R,300G,300Bを追加したものである。光軸調
節装置300R,300G,300Bとしては、§1〜
§3で述べた種々の光軸調節装置のいずれの実施形態の
ものを用いてもかまわない。
【0084】各光軸調節装置300R,300G,30
0Bの具体的な設置方法の一例を以下に述べる。まず、
図23に示す露光装置を設置し、テスト段階で正確な光
軸調節が完了し、各色別レーザビームについての基準光
路が確定した段階で、光軸調節装置300R,300
G,300Bを、各色別レーザビームの基準光路上に挿
入する。そして、各色別レーザビームを迂回させずにビ
ーム分配手段へと導き、基準情報を取得して記憶させる
処理を行っておく。続いて、入射してきたレーザビーム
を迂回光路へと導き、迂回光路を経由して射出するよう
に光路の切り換えを行い、制御手段によるフィードバッ
ク制御を行えば、光軸の自動調節機能が働き、各光軸調
節装置300R,300G,300Bから射出される各
色別レーザビームは、テスト段階で設定された基準光路
に沿ったものになる。
【0085】このようにして、基準光路上で光軸調節装
置300R,300G,300Bを機能させておけば、
ビーム源100R,100G,100Bに、何らかの要
因で光軸ずれが生じたとしても、生じた光軸ずれは、光
軸調節装置300R,300G,300Bによって自動
的に補正される。なお、図24に示す例のように、各色
別レーザビームの基準光路上にだけ光軸調節装置を設け
たのでは、ビーム誘導手段401〜404の位置や向き
がずれた場合に生じる光軸ずれに対しては対処すること
ができない。このような場合にも対処できるようにする
ためには、更に、合成ビームLrgb の基準光路上にも、
光軸調節装置を挿入するようにすればよい。
【0086】また、上述した設置方法の例は、テスト段
階で正確な光軸調節が完了し、各色別レーザビームにつ
いての基準光路が確定した後に、各光軸調節装置300
R,300G,300Bを各基準光路上に挿入していた
が、逆に、各光軸調節装置300R,300G,300
Bを設置した後に、正確な光軸調節を行うことも可能で
ある。この場合は、まず、図23に示すような露光装置
の構成要素を設置し、大まかな粗い光軸調節だけを行
う。この粗い光軸調節が完了すれば、一応、各レーザビ
ームについての大まかな経路を示す「仮の基準光路」が
決定されることになる。そこで、この「仮の基準光路」
上に、各光軸調節装置300R,300G,300Bを
挿入する。そして、各光軸調節装置内で入射したビーム
を迂回させない状態とする。たとえば、図15に示す光
軸調節装置の場合、光反射素子81を「仮の基準光路」
上から除去した状態にする。すると、入射ビームはビー
ム分配器83の光分配面ξを透過してそのまま射出する
ことになるので、図24に示す露光装置は、実質的に図
23に示す従来の露光装置と同じ構成となり、各色別レ
ーザビームは露光面Eまで誘導されることになる。した
がって、これまでどおりの手法で、正確な光軸調節を行
うことが可能である。こうして正確な光軸調節を行うこ
とにより、「真の基準光路」が確定するので、その時点
でビーム分配器83に照射されている光ビーム、すなわ
ち「真の基準光路」を通っている光ビームについて基準
情報の取得を行う。基準情報が取得できたら、光反射素
子81を「真の基準光路」上に配置して光ビームを迂回
させ、フィードバック制御を機能させればよい。
【0087】
【発明の効果】以上のとおり、本発明によれば、光ビー
ムの光軸を自動的に安定維持させる機能をもった露光装
置を実現することが可能になる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明で用いられる光軸調節装置により光軸を
安定させる対象となる光学系の構成を示す図である。
【図2】図1に示す光学系におけるビーム源の変動要因
に基いて、光軸ずれが生じた状態を示す図である。
【図3】図1に示す光学系における基準光路S上に本発
明に係る光軸調節装置を挿入した状態を示す図である。
【図4】本発明で用いられる光軸調節装置の機能によ
り、光軸が安定維持される状態を示す図である。
【図5】本発明で用いられる光軸調節装置における基準
情報取得の原理を説明する図である。
【図6】本発明で用いられる光軸調節装置において形成
される迂回光路を示す図である。
【図7】図6に示す光軸調節装置によるフィードバック
制御の結果を示す図である。
【図8】図6に示す光軸調節装置によるフィードバック
制御により、光源側に変動が生じた場合にも、光軸が安
定維持される状態を示す図である。
【図9】本発明で用いられる光軸調節装置において形成
される迂回光路の別な態様を示す図である。
【図10】図9に示す光軸調節装置によるフィードバッ
ク制御の結果を示す図である。
【図11】本発明で用いられる基本的な実施形態Aに係
る光軸調節装置の構成を示すブロック図である。
【図12】本発明で用いられる基本的な実施形態Bに係
る光軸調節装置の構成を示すブロック図である。
【図13】本発明で用いられる基本的な実施形態Cに係
る光軸調節装置の構成を示すブロック図である。
【図14】本発明で用いられる基本的な実施形態Dに係
る光軸調節装置の構成を示すブロック図である。
【図15】本発明で用いられる基本的な実施形態Cに対
応した具体的な光軸調節装置の構成を示す図である。
【図16】図15に示す光軸調節装置における光反射素
子による角度調節の原理を示す図である。
【図17】図15に示す光軸調節装置におけるコーナリ
フレクタによる位置調節の原理を示す図である。
【図18】図15に示す光軸調節装置における位置変動
の検出原理を示す図である。
【図19】図15に示す光軸調節装置における角度変動
の検出原理を示す図である。
【図20】図15に示す光軸調節装置において、入射光
に位置変動が生じた状態を示す図である。
【図21】図15に示す光軸調節装置において、入射光
に位置変動が生じた場合に行われる自動光軸調節を示す
図である。
【図22】本発明で用いられる基本的な実施形態Bに対
応した具体的な光軸調節装置の構成を示す図である。
【図23】カラーホログラム像についての露光を行う一
般的な露光装置の構成図である。
【図24】本発明の一実施形態に係る露光装置の構成図
である。
【符号の説明】
1…基準情報取得手段 2…光路迂回調節手段 3…制御手段 10…ビーム分配手段 20…光路切換手段 30…角度調節手段 35…光路切換角度調節手段 40…位置調節手段 45…光路切換位置調節手段 50…検出手段 60…記憶手段 70…制御手段 81…光反射素子 82…コーナリフレクタ(コーナキューブプリズム) 83…ビーム分配器 84…検出用ビーム分配器 85…受光素子 86…集光レンズ 87…受光素子 88…支持機構 91…記憶装置 92…制御装置 93…角度調節機構 94…位置調節機構 95,96…光反射素子 97,98…支持機構 100,100R,100G,100B…ビーム源 200…ターゲット 300,300R,300G,300B…本発明に用い
られる光軸調節装置 401〜404…ビーム誘導手段(反射鏡およびビーム
合成器) 405…ビーム径拡張装置 501…感光材料 600…ホログラム原版 A…光ビームの入射位置 B…光ビーム Br…光分配面ξからの反射光 Bt…光分配面ξからの透過光 C…コーナリフレクタの頂点 Cin…入射点 Cout …射出点 D,Da,D1〜D7,D1a〜D7a,D1b〜D3
b…迂回光路 d,dd…位置の変位量 E…露光面 I(P0,α0)…基準情報 L1…入射光 L2…入射光透過光 L3…入射光反射光 L4…迂回光 L5,L5…角度調節光 L6…位置角度調節光 L7…調節光透過光 L8…調節光反射光 L9,L9…位置調節光 L10,L11,L12…検出用光ビーム L15…変動した光ビーム Lin…入射光 Lout ,Lout …射出光 Lr,Lg,Lb…各原色ビーム Lgb,Lrgb …合成ビーム LLrgb …径が拡大された合成ビーム N…光分配面ξ上の法線 P,P1…検出対象となる光ビームの位置 P0…基準情報となる位置 Q…目標点 Qin…入射点 Qout …射出点 Q10,Q11,Q12,Q15…照射点 Q20,Q21,Q22,Q25…集光点 S…基準光路 α…検出対象となる光ビームの射出角度 α0…基準情報となる角度 η,η1,η2…反射面 θ…調節角度 μ…反射面 ξ…光分配面 ρ1,ρ2…反射面 ω1〜ω4…回転軸
フロントページの続き (72)発明者 松山 哲也 東京都新宿区市谷加賀町一丁目1番1号 大日本印刷株式会社内 (72)発明者 柏木 剛 東京都新宿区市谷加賀町一丁目1番1号 大日本印刷株式会社内 (72)発明者 植田 健治 東京都新宿区市谷加賀町一丁目1番1号 大日本印刷株式会社内 Fターム(参考) 2H097 BB03 CA06 CA08 CA17 FA01 LA10 LA17 2K008 AA17 BB04 EE01 FF01 HH03 HH06 HH18 HH20 5F046 CB27 DA30 DB05

Claims (16)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 所定の露光面に対して光を照射すること
    により、この露光面上に配置された感光材料を露光させ
    るための装置であって、 光ビームを発生させるビーム源と、 このビーム源で発生した光ビームを所定の基準光路に沿
    って露光面へと誘導するビーム誘導手段と、 前記ビーム誘導手段によって誘導される光ビームの径
    を、前記露光面の大きさに応じて拡張するビーム径拡張
    装置と、 前記基準光路上に配置され、光ビームの光軸が前記基準
    光路上に維持されるように調節する光軸調節装置と、 を備え、前記光軸調節装置が、 照射された光の一部を反射、一部を透過させる光分配面
    を有し、前記基準光路上に配置されたビーム分配手段
    と、 前記基準光路に沿って入射した光ビームが前記光分配面
    で反射することにより得られる反射光について、前記光
    分配面上での位置および向きを測定し、この測定結果を
    基準情報として取得する基準情報取得手段と、 作業者の操作に応じて、前記入射光の光ビームを前記基
    準光路とは異なる迂回光路へ誘導し、この誘導された光
    ビームの位置および向きを調節して前記光分配面へ照射
    する光路迂回調節手段と、 前記迂回光路を経由した光ビームに基いて前記光分配面
    から得られる透過光または反射光について、前記光分配
    面上での位置および向きを測定し、この測定結果が前記
    基準情報に近付くように、前記光路迂回調節手段を制御
    する制御手段と、 を有することを特徴とする露光装置。
  2. 【請求項2】 請求項1に記載の露光装置において、 作業者の操作に応じて、光軸調節装置に入射した光ビー
    ムを迂回させることなしに、基準光路に沿ってそのまま
    通過させ、露光面へと誘導させることができるように構
    成したことを特徴とする露光装置。
  3. 【請求項3】 所定の露光面に対して光を照射すること
    により、この露光面上に配置された感光材料を露光させ
    るための装置であって、 光ビームを発生させるビーム源と、 このビーム源で発生した光ビームを所定の基準光路に沿
    って露光面へと誘導するビーム誘導手段と、 前記ビーム誘導手段によって誘導される光ビームの径
    を、前記露光面の大きさに応じて拡張するビーム径拡張
    装置と、 前記基準光路上に配置され、光ビームの光軸が前記基準
    光路上に維持されるように調節する光軸調節装置と、 を備え、前記光軸調節装置が、 前記基準光路上に配置され、照射された光の一部を反
    射、一部を透過させる光分配面をもち、入射光を、反射
    した一部からなる入射光反射光と、透過した一部からな
    る入射光透過光と、に分配するビーム分配手段と、 前記ビーム分配手段よりも前記ビーム源側に配置され、
    前記入射光を透過させる第1の機能と、前記入射光の向
    きを所定の迂回光路に向けて変化させ、迂回光として射
    出する第2の機能と、の2つの機能を選択的に実行可能
    な光路切換手段と、 前記迂回光の向きを所定の設定角度だけ変化させて角度
    調節光として射出する角度調節手段と、 前記角度調節光を入射し、この角度調節光に対して平行
    で、所定の設定変位量だけずれた位置を通る位置角度調
    節光を、前記ビーム分配手段の前記光分配面に向けて射
    出することにより、前記位置角度調節光が、反射した一
    部からなる調節光反射光と、透過した一部からなる調節
    光透過光と、に分配されるようにする位置調節手段と、 前記光路切換手段が前記第1の機能を実行しているとき
    には、前記光分配面における前記入射光反射光の位置お
    よび向きを検出し、前記光路切換手段が前記第2の機能
    を実行しているときには、前記光分配面における前記調
    節光透過光もしくは前記調節光反射光の位置および向き
    を検出する検出手段と、 前記光路切換手段が前記第1の機能を実行しているとき
    に、前記検出手段によって検出された位置および向きを
    基準情報として記憶する記憶手段と、 前記光路切換手段が前記第2の機能を実行しているとき
    に、前記検出手段によって検出される位置および向き
    が、前記記憶手段に記憶されている基準情報の位置およ
    び向きに近付くように、前記角度調節手段による設定角
    度および前記位置調節手段による設定変位量を制御する
    機能をもった制御手段と、 を有することを特徴とする露光装置。
  4. 【請求項4】 所定の露光面に対して光を照射すること
    により、この露光面上に配置された感光材料を露光させ
    るための装置であって、 光ビームを発生させるビーム源と、 このビーム源で発生した光ビームを所定の基準光路に沿
    って露光面へと誘導するビーム誘導手段と、 前記ビーム誘導手段によって誘導される光ビームの径
    を、前記露光面の大きさに応じて拡張するビーム径拡張
    装置と、 前記基準光路上に配置され、光ビームの光軸が前記基準
    光路上に維持されるように調節する光軸調節装置と、 を備え、前記光軸調節装置が、 前記基準光路上に配置され、照射された光の一部を反
    射、一部を透過させる光分配面をもち、入射光を、反射
    した一部からなる入射光反射光と、透過した一部からな
    る入射光透過光と、に分配するビーム分配手段と、 前記ビーム分配手段よりも前記ビーム源側に配置され、
    前記入射光を透過させる第1の機能と、前記入射光の向
    きを所定の迂回光路に向けて変化させ、迂回光として射
    出する第2の機能と、の2つの機能を選択的に実行可能
    な光路切換手段と、 前記迂回光を入射し、この迂回光に対して平行で、所定
    の設定変位量だけずれた位置を通る位置調節光を射出す
    る位置調節手段と、 前記位置調節光の向きを所定の設定角度だけ変化させる
    ことにより得られる位置角度調節光を、前記ビーム分配
    手段の前記光分配面に向けて射出することにより、前記
    位置角度調節光が、反射した一部からなる調節光反射光
    と、透過した一部からなる調節光透過光と、に分配され
    るようにする角度調節手段と、 前記光路切換手段が前記第1の機能を実行しているとき
    には、前記光分配面における前記入射光反射光の位置お
    よび向きを検出し、前記光路切換手段が前記第2の機能
    を実行しているときには、前記光分配面における前記調
    節光透過光もしくは前記調節光反射光の位置および向き
    を検出する検出手段と、 前記光路切換手段が前記第1の機能を実行しているとき
    に、前記検出手段によって検出された位置および向きを
    基準情報として記憶する記憶手段と、 前記光路切換手段が前記第2の機能を実行しているとき
    に、前記検出手段によって検出される位置および向き
    が、前記記憶手段に記憶されている基準情報の位置およ
    び向きに近付くように、前記角度調節手段による設定角
    度および前記位置調節手段による設定変位量を制御する
    機能をもった制御手段と、 を有することを特徴とする露光装置。
  5. 【請求項5】 所定の露光面に対して光を照射すること
    により、この露光面上に配置された感光材料を露光させ
    るための装置であって、 光ビームを発生させるビーム源と、 このビーム源で発生した光ビームを所定の基準光路に沿
    って露光面へと誘導するビーム誘導手段と、 前記ビーム誘導手段によって誘導される光ビームの径
    を、前記露光面の大きさに応じて拡張するビーム径拡張
    装置と、 前記基準光路上に配置され、光ビームの光軸が前記基準
    光路上に維持されるように調節する光軸調節装置と、 を備え、前記光軸調節装置が、 前記基準光路上に配置され、照射された光の一部を反
    射、一部を透過させる光分配面をもち、入射光を、反射
    した一部からなる入射光反射光と、透過した一部からな
    る入射光透過光と、に分配するビーム分配手段と、 前記ビーム分配手段よりも前記ビーム源側に配置され、
    前記入射光を透過させる第1の機能と、前記入射光の向
    きを所定の設定角度だけ変化させることにより得られる
    角度調節光を、所定の迂回光路に沿って射出する第2の
    機能と、の2つの機能を選択的に実行可能な光路切換角
    度調節手段と、 前記角度調節光を入射し、この角度調節光に対して平行
    で、所定の設定変位量だけずれた位置を通る位置角度調
    節光を、前記ビーム分配手段の前記光分配面に向けて射
    出することにより、前記位置角度調節光が、反射した一
    部からなる調節光反射光と、透過した一部からなる調節
    光透過光と、に分配されるようにする位置調節手段と、 前記光路切換角度調節手段が前記第1の機能を実行して
    いるときには、前記光分配面における前記入射光反射光
    の位置および向きを検出し、前記光路切換角度調節手段
    が前記第2の機能を実行しているときには、前記光分配
    面における前記調節光透過光もしくは前記調節光反射光
    の位置および向きを検出する検出手段と、 前記光路切換角度調節手段が前記第1の機能を実行して
    いるときに、前記検出手段によって検出された位置およ
    び向きを基準情報として記憶する記憶手段と、 前記光路切換角度調節手段が前記第2の機能を実行して
    いるときに、前記検出手段によって検出される位置およ
    び向きが、前記記憶手段に記憶されている基準情報の位
    置および向きに近付くように、前記光路切換角度調節手
    段による設定角度および前記位置調節手段による設定変
    位量を制御する機能をもった制御手段と、 を有することを特徴とする露光装置。
  6. 【請求項6】 所定の露光面に対して光を照射すること
    により、この露光面上に配置された感光材料を露光させ
    るための装置であって、 光ビームを発生させるビーム源と、 このビーム源で発生した光ビームを所定の基準光路に沿
    って露光面へと誘導するビーム誘導手段と、 前記ビーム誘導手段によって誘導される光ビームの径
    を、前記露光面の大きさに応じて拡張するビーム径拡張
    装置と、 前記基準光路上に配置され、光ビームの光軸が前記基準
    光路上に維持されるように調節する光軸調節装置と、 を備え、前記光軸調節装置が、 前記基準光路上に配置され、照射された光の一部を反
    射、一部を透過させる光分配面をもち、入射光を、反射
    した一部からなる入射光反射光と、透過した一部からな
    る入射光透過光と、に分配するビーム分配手段と、 前記ビーム分配手段よりも前記ビーム源側に配置され、
    前記入射光を透過させる第1の機能と、前記入射光を入
    射し、この入射光もしくはこの入射光の向きを変えるこ
    とにより得られる迂回光に対して平行で、所定の設定変
    位量だけずれた位置を通る位置調節光を、所定の迂回光
    路に沿って射出する第2の機能と、の2つの機能を選択
    的に実行可能な光路切換位置調節手段と、 前記位置調節光の向きを所定の設定角度だけ変化させる
    ことにより得られる位置角度調節光を、前記ビーム分配
    手段の前記光分配面に向けて射出することにより、前記
    位置角度調節光が、反射した一部からなる調節光反射光
    と、透過した一部からなる調節光透過光と、に分配され
    るようにする角度調節手段と、 前記光路切換位置調節手段が前記第1の機能を実行して
    いるときには、前記光分配面における前記入射光反射光
    の位置および向きを検出し、前記光路切換位置調節手段
    が前記第2の機能を実行しているときには、前記光分配
    面における前記調節光透過光もしくは前記調節光反射光
    の位置および向きを検出する検出手段と、 前記光路切換位置調節手段が前記第1の機能を実行して
    いるときに、前記検出手段によって検出された位置およ
    び向きを基準情報として記憶する記憶手段と、前記光路
    切換位置調節手段が前記第2の機能を実行しているとき
    に、前記検出手段によって検出される位置および向き
    が、前記記憶手段に記憶されている基準情報の位置およ
    び向きに近付くように、前記角度調節手段による設定角
    度および前記光路切換位置調節手段による設定変位量を
    制御する機能をもった制御手段と、 を有することを特徴とする露光装置。
  7. 【請求項7】 請求項3〜6のいずれかに記載の露光装
    置において、 ビーム分配手段を、光分配面として機能するハーフミラ
    ーが形成された光学素子によって構成したことを特徴と
    する露光装置。
  8. 【請求項8】 請求項3〜7のいずれかに記載の露光装
    置において、 光路切換手段、光路切換角度調節手段、または、光路切
    換位置調節手段を、入射光を迂回させる機能を有する光
    学素子と、この光学素子を基準光路上に着脱自在に支持
    する支持機構と、によって構成し、前記光学素子を前記
    基準光路上から脱離させることにより第1の機能が実行
    され、前記光学素子を前記基準光路上に装着することに
    より第2の機能が実行されるようにしたことを特徴とす
    る露光装置。
  9. 【請求項9】 請求項3〜8のいずれかに記載の露光装
    置において、 角度調節手段または光路切換角度調節手段を、反射面を
    有する光学素子と、前記反射面上で直交する2つの回転
    軸に関して前記光学素子を回転させることにより角度調
    節を行う角度調節機構と、によって構成したことを特徴
    とする露光装置。
  10. 【請求項10】 請求項3〜9のいずれかに記載の露光
    装置において、 位置調節手段または光路切換位置調節手段を、コーナリ
    フレクタもしくはコーナキューブプリズムを有する光学
    素子と、この光学素子を所定平面に沿って平行移動させ
    る位置調節機構と、によって構成したことを特徴とする
    露光装置。
  11. 【請求項11】 請求項3〜10のいずれかに記載の露
    光装置において、 検出手段を、光分配面からの検出用光ビームを2つのビ
    ームに分配する検出用ビーム分配器と、分配された第1
    のビームに基いて位置を検出する位置検出器と、分配さ
    れた第2のビームに基いて向きを検出する向き検出器
    と、によって構成したことを特徴とする露光装置。
  12. 【請求項12】 請求項11に記載の露光装置におい
    て、 位置検出器を、所定の受光面上へのビームの照射位置を
    検出する受光素子によって構成したことを特徴とする露
    光装置。
  13. 【請求項13】 請求項11に記載の露光装置におい
    て、 向き検出器を、平行光線を所定の焦点に集光する集光レ
    ンズと、この集光レンズに対して焦点距離だけ離れた位
    置に配置された受光面を有しこの受光面上の集光位置を
    検出する受光素子と、によって構成したことを特徴とす
    る露光装置。
  14. 【請求項14】 所定の露光面に対して光を照射するこ
    とにより、この露光面上に配置された感光材料を露光さ
    せるための装置であって、 光ビームを発生させるビーム源と、 このビーム源で発生した光ビームを所定の基準光路に沿
    って露光面へと誘導するビーム誘導手段と、 前記ビーム誘導手段によって誘導される光ビームの径
    を、前記露光面の大きさに応じて拡張するビーム径拡張
    装置と、 前記基準光路上に配置され、光ビームの光軸が前記基準
    光路上に維持されるように調節する光軸調節装置と、 を備え、前記光軸調節装置が、 前記基準光路上に配置され、照射された光の一部を反
    射、一部を透過させる光分配面をもったビーム分配器
    と、 前記ビーム分配器よりも前記ビーム源側に着脱自在に配
    置することができ、前記基準光路上に配置した場合に前
    記入射光を反射させることができる反射面を有する光反
    射素子と、 前記光反射素子の反射面の向きを調節する角度調節機構
    と、 前記光反射素子からの反射光を入射し、これに平行な逆
    向光を前記ビーム分配器に向けて射出することができる
    コーナリフレクタもしくはコーナキューブプリズムと、 前記コーナリフレクタもしくはコーナキューブプリズム
    の位置を調節する位置調節機構と、 前記光反射素子を前記基準光路上に配置しない第1の状
    態において、前記ビーム分配器から反射されてきた光ビ
    ームについて、前記光分配面上での位置および向きを検
    出する機能と、前記光反射素子を前記基準光路上に配置
    した第2の状態において、前記ビーム分配器を透過して
    きた光ビームについて、前記光分配面上での位置および
    向きを検出する機能と、を有する検出器と、 前記第1の状態において前記検出器が検出した位置およ
    び向きを基準情報として記憶する記憶装置と、 前記第2の状態において前記検出器が検出する位置およ
    び向きが、前記記憶装置に記憶されている基準情報の位
    置および向きに近付くように、前記角度調節機構および
    前記位置調節機構を制御する制御装置と、 を有することを特徴とする露光装置。
  15. 【請求項15】 所定の露光面に対して光を照射するこ
    とにより、この露光面上に配置された感光材料を露光さ
    せるための装置であって、 光ビームを発生させるビーム源と、 このビーム源で発生した光ビームを所定の基準光路に沿
    って露光面へと誘導するビーム誘導手段と、 前記ビーム誘導手段によって誘導される光ビームの径
    を、前記露光面の大きさに応じて拡張するビーム径拡張
    装置と、 前記基準光路上に配置され、光ビームの光軸が前記基準
    光路上に維持されるように調節する光軸調節装置と、 を備え、前記光軸調節装置が、 前記基準光路上に配置され、照射された光の一部を反
    射、一部を透過させる光分配面をもったビーム分配器
    と、 前記ビーム分配器よりも前記ビーム源側に着脱自在に配
    置することができ、前記基準光路上に配置した場合に前
    記入射光を反射させることができる反射面を有する第1
    の光反射素子と、 前記第1の光反射素子からの反射光を入射し、これに平
    行な逆向光を射出することができるコーナリフレクタも
    しくはコーナキューブプリズムと、 前記コーナリフレクタもしくはコーナキューブプリズム
    の位置を調節する位置調節機構と、 前記逆向光を前記ビーム分配器に向けて射出することが
    できる反射面を有する第2の光反射素子と、 前記第2の光反射素子の反射面の向きを調節する角度調
    節機構と、 前記第1の光反射素子を前記基準光路上に配置しない第
    1の状態において、前記ビーム分配器から反射されてき
    た光ビームについて、前記光分配面上での位置および向
    きを検出する機能と、前記第1の光反射素子を前記基準
    光路上に配置した第2の状態において、前記ビーム分配
    器から反射されてきた光ビームについて、前記光分配面
    上での位置および向きを検出する機能と、を有する検出
    器と、 前記第1の状態において前記検出器が検出した位置およ
    び向きを基準情報として記憶する記憶装置と、 前記第2の状態において前記検出器が検出する位置およ
    び向きが、前記記憶装置に記憶されている基準情報の位
    置および向きに近付くように、前記角度調節機構および
    前記位置調節機構を制御する制御装置と、 を有することを特徴とする露光装置。
  16. 【請求項16】 請求項1〜15のいずれかに記載の露
    光装置において、 それぞれ各色成分ごとの光ビームを発生させる複数のビ
    ーム源と、 前記各色成分ごとの光ビームを露光面へと誘導する過程
    で、これら各光ビームを合成するビーム合成手段と、 各色成分ごとの基準光路上に配置された各色成分ごとの
    光軸調節装置と、 を備えることを特徴とする露光装置。
JP2001028355A 2001-02-05 2001-02-05 露光装置 Expired - Lifetime JP4489982B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001028355A JP4489982B2 (ja) 2001-02-05 2001-02-05 露光装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001028355A JP4489982B2 (ja) 2001-02-05 2001-02-05 露光装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2002229216A true JP2002229216A (ja) 2002-08-14
JP4489982B2 JP4489982B2 (ja) 2010-06-23

Family

ID=18892866

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001028355A Expired - Lifetime JP4489982B2 (ja) 2001-02-05 2001-02-05 露光装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4489982B2 (ja)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6938649B2 (en) 2002-09-11 2005-09-06 Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd Substrate holding device, substrate processing apparatus, and method of releasing substrate
JP2009042591A (ja) * 2007-08-10 2009-02-26 Dainippon Printing Co Ltd 露光装置
JP2009042588A (ja) * 2007-08-10 2009-02-26 Dainippon Printing Co Ltd 光軸自動調節システム
JP2009042589A (ja) * 2007-08-10 2009-02-26 Dainippon Printing Co Ltd 露光装置
KR20190098071A (ko) * 2018-02-13 2019-08-21 캐논 가부시끼가이샤 검출 장치, 리소그래피 장치 및 물품의 제조 방법

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5016554A (ja) * 1973-06-11 1975-02-21
JPS62217283A (ja) * 1986-03-19 1987-09-24 Sony Corp ホログラム記録装置
JPH0634918A (ja) * 1992-07-14 1994-02-10 Ricoh Co Ltd 光軸制御装置
JP2000077315A (ja) * 1998-09-03 2000-03-14 Nikon Corp 露光方法及び露光装置
JP2000150334A (ja) * 1998-11-12 2000-05-30 Canon Inc 露光装置及びそれを用いたデバイスの製造方法
WO2000067303A1 (fr) * 1999-04-28 2000-11-09 Nikon Corporation Procede et appareil d'exposition
JP2002222753A (ja) * 2001-01-26 2002-08-09 Canon Inc 露光装置及び露光装置の光源位置調整方法

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5016554A (ja) * 1973-06-11 1975-02-21
JPS62217283A (ja) * 1986-03-19 1987-09-24 Sony Corp ホログラム記録装置
JPH0634918A (ja) * 1992-07-14 1994-02-10 Ricoh Co Ltd 光軸制御装置
JP2000077315A (ja) * 1998-09-03 2000-03-14 Nikon Corp 露光方法及び露光装置
JP2000150334A (ja) * 1998-11-12 2000-05-30 Canon Inc 露光装置及びそれを用いたデバイスの製造方法
WO2000067303A1 (fr) * 1999-04-28 2000-11-09 Nikon Corporation Procede et appareil d'exposition
JP2002222753A (ja) * 2001-01-26 2002-08-09 Canon Inc 露光装置及び露光装置の光源位置調整方法

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6938649B2 (en) 2002-09-11 2005-09-06 Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd Substrate holding device, substrate processing apparatus, and method of releasing substrate
JP2009042591A (ja) * 2007-08-10 2009-02-26 Dainippon Printing Co Ltd 露光装置
JP2009042588A (ja) * 2007-08-10 2009-02-26 Dainippon Printing Co Ltd 光軸自動調節システム
JP2009042589A (ja) * 2007-08-10 2009-02-26 Dainippon Printing Co Ltd 露光装置
KR20190098071A (ko) * 2018-02-13 2019-08-21 캐논 가부시끼가이샤 검출 장치, 리소그래피 장치 및 물품의 제조 방법
KR102487796B1 (ko) * 2018-02-13 2023-01-13 캐논 가부시끼가이샤 검출 장치, 리소그래피 장치 및 물품의 제조 방법

Also Published As

Publication number Publication date
JP4489982B2 (ja) 2010-06-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US10007190B2 (en) Substrate processing apparatus, processing apparatus, and method for manufacturing device
JPH08150485A (ja) レーザマーキング装置
US10976670B2 (en) Apparatus and method for detecting optimal focal plane of lithographic projection objective lens
CN111638631A (zh) 图案曝光装置、光束扫描装置、及图案描绘装置
JP2002229216A (ja) 露光装置
JPS6119003B2 (ja)
US5841567A (en) Method and apparatus for imaging at a plurality of wavelengths
JPH10261587A (ja) デュアルステージ追従方法及び装置
JP2002228908A (ja) 光軸調節装置および光軸調節方法
JP4177058B2 (ja) 光軸調節装置および光軸調節方法
JP4050116B2 (ja) 露光装置
US7372546B2 (en) Optical axis adjustment device and exposure apparatus using the same
JP4490165B2 (ja) 露光装置
US5745150A (en) Laser drawing apparatus having drawing beams in a common place aligned with a lens meridian
JP4924278B2 (ja) 露光装置
US6570641B2 (en) Projection exposure apparatus
US5805198A (en) Laser drawing apparatus and method for adjusting the same
JP2019164380A (ja) パターン形成装置
KR20150047008A (ko) 레이저 포인팅 안정도 확보 시스템 및 이를 적용한 레이저 가공 장치
JP2005331541A (ja) 光軸調節装置および光軸自動調節システム
JP7384283B2 (ja) パターン形成装置
JP4985205B2 (ja) 露光装置
JP3490128B2 (ja) 光電式エンコーダ
JP2983316B2 (ja) 照明装置
JP2020173444A (ja) パターン形成方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20071112

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20100330

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20100401

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130409

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140409

Year of fee payment: 4