JP2002225259A - Ejecting method and device for material, manufacturing method and device for color filter, manufacturing method and device for liquid crystal device, manufacturing method and device for el device, and electronic equipment - Google Patents

Ejecting method and device for material, manufacturing method and device for color filter, manufacturing method and device for liquid crystal device, manufacturing method and device for el device, and electronic equipment

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JP2002225259A JP2001294726A JP2001294726A JP2002225259A JP 2002225259 A JP2002225259 A JP 2002225259A JP 2001294726 A JP2001294726 A JP 2001294726A JP 2001294726 A JP2001294726 A JP 2001294726A JP 2002225259 A JP2002225259 A JP 2002225259A
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政春 清水
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    • B41J2202/01Embodiments of or processes related to ink-jet heads
    • B41J2202/09Ink jet technology used for manufacturing optical filters

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To make optical characteristics of optical members uniform in a plane such as light transmission properties of a color filter, a color display property of a liquid crystal device, light emission properties of an El light emission surface, etc. SOLUTION: This color filter manufacturing method comprises a plurality of filter elements 3 arranged on a substrate 12. A filter material is ejected from at least one of nozzles among a plurality of nozzles 27 while moving either the head 22 having a nozzle array 28 having a plurality of nozzles 27 arranged therein and the substrate 12 in the main scanning direction with respect to the other. At this time, the nozzles located at the end parts of the nozzle array 28 are so controlled as not to eject the filter material.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、対象物に材料を吐
出する材料の吐出方法、及び材料の吐出装置に関する。
また、液晶装置等といった光学装置に用いられるカラー
フィルタを製造する製造方法及び製造装置に関する。ま
た、本発明は、カラーフィルタを有する液晶装置の製造
方法及び製造装置に関する。また、本発明は、EL発光
層を用いて表示を行うEL装置の製造方法及び製造装置
に関する。更には、これら製造方法を用いて製造された
液晶装置、又はEL装置を搭載した電子機器に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a material discharging method and a material discharging apparatus for discharging a material to an object.
Further, the present invention relates to a manufacturing method and a manufacturing apparatus for manufacturing a color filter used for an optical device such as a liquid crystal device. Further, the present invention relates to a method and an apparatus for manufacturing a liquid crystal device having a color filter. Further, the present invention relates to a method and an apparatus for manufacturing an EL device which performs display using an EL light emitting layer. Further, the present invention relates to a liquid crystal device manufactured by using these manufacturing methods or an electronic device equipped with an EL device.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、携帯電話機、携帯型コンピュータ
等といった電子機器の表示部に液晶装置、EL装置等と
いった表示装置が広く用いられている。また最近では、
表示装置によってフルカラー表示を行うことが多くなっ
ている。液晶装置によるフルカラー表示は、例えば、液
晶層によって変調される光をカラーフィルタに通すこと
によって行われる。そして、カラーフィルタは、ガラ
ス、プラスチック等によって形成された基板の表面に、
例えば、R(赤),G(緑),B(青)のドット状の各
色フィルタエレメントをストライプ配列、デルタ配列又
はモザイク配列等といった所定の配列で並べることによ
って形成される。
2. Description of the Related Art In recent years, display devices such as liquid crystal devices and EL devices have been widely used for display units of electronic devices such as mobile phones and portable computers. Also recently,
Display devices often perform full-color display. Full-color display by a liquid crystal device is performed, for example, by passing light modulated by a liquid crystal layer through a color filter. Then, the color filter is formed on the surface of the substrate formed of glass, plastic, or the like.
For example, it is formed by arranging R (red), G (green), and B (blue) dot-shaped color filter elements in a predetermined arrangement such as a stripe arrangement, a delta arrangement, or a mosaic arrangement.

【0003】また、EL装置によってフルカラー表示を
行う場合には、例えば、ガラス、プラスチック等によっ
て形成された基板の表面に、例えば、R(赤),G
(緑),B(青)のドット状の各色EL発光層をストラ
イプ配列、デルタ配列又はモザイク配列等といった所定
の配列で並べ、これらのEL発光層を一対の電極で挟持
して絵素ピクセルを形成し、これらの電極に印加する電
圧を絵素ピクセルごとに制御することによって当該絵素
ピクセルを希望の色で発光させ、これにより、フルカラ
ーの表示を行う。
When full-color display is performed by an EL device, for example, R (red), G (red),
(Green) and B (blue) dot-shaped EL light emitting layers are arranged in a predetermined arrangement such as a stripe arrangement, a delta arrangement, or a mosaic arrangement, and these EL emission layers are sandwiched between a pair of electrodes to form picture element pixels. Then, by controlling the voltage applied to these electrodes for each pixel pixel, the pixel pixel emits light of a desired color, thereby performing full-color display.

【0004】従来、カラーフィルタのR,G,B等の各
色フィルタエレメントをパターニングする場合や、EL
装置のR,G,B等の各色絵素ピクセルをパターニング
する場合に、フォトリソグラフィー法を用いることは知
られている。しかしながらこのフォトリソグラフィー法
を用いる場合には、工程が複雑であることや、各色材料
やフォトレジスト等を多量に消費するのでコストが高く
なる等といった問題があった。
[0004] Conventionally, when patterning each color filter element such as R, G, B of a color filter, or by EL
It is known to use a photolithography method when patterning each color picture element pixel such as R, G, B of the apparatus. However, when this photolithography method is used, there are problems that the process is complicated and the cost is increased because a large amount of each color material and photoresist are consumed.

【0005】この問題を解消するため、インクジェット
法によってフィルタ材料やEL発光材料等をドット状に
吐出することによりドット状配列のフィラメントやEL
発光層等を形成する方法が提案された。
In order to solve this problem, a filter material or an EL light emitting material or the like is ejected in the form of dots by an ink-jet method, so that a filament or EL having a dot arrangement is formed.
A method for forming a light emitting layer and the like has been proposed.

【0006】今、図22(a)において、ガラス、プラ
スチック等によって形成された大面積の基板、いわゆる
マザーボード301の表面に設定される複数のパネル領
域302の内部領域に、図22(b)に示すように、ド
ット状に配列された複数のフィルタエレメント303を
インクジェット法に基づいて形成する場合を考える。こ
の場合には、例えば図22(c)に示すように、複数の
ノズル304を列状に配列して成るノズル列305を有
するインクジェットヘッド306を、図22(b)に矢
印A1及び矢印A2で示すように、1個のパネル領域3
02に関して複数回(図22では2回)主走査させなが
ら、それらの主走査の間に複数のノズルから選択的にイ
ンクすなわちフィルタ材料を吐出することによって希望
位置にフィルタエレメント303を形成する。
Now, in FIG. 22A, a large-area substrate formed of glass, plastic, or the like, that is, a plurality of panel regions 302 set on the surface of a so-called motherboard 301, is provided in FIG. As shown, consider a case where a plurality of filter elements 303 arranged in a dot shape are formed based on an inkjet method. In this case, for example, as shown in FIG. 22C, an inkjet head 306 having a nozzle row 305 formed by arranging a plurality of nozzles 304 in a row is indicated by arrows A1 and A2 in FIG. As shown, one panel area 3
While performing main scanning a plurality of times (twice in FIG. 22) with respect to 02, a filter element 303 is formed at a desired position by selectively discharging ink, that is, a filter material from a plurality of nozzles during the main scanning.

【0007】フィルタエレメント303はR,G,B等
の各色をストライプ配列、デルタ配列、モザイク配列等
といった適宜の配列形態で配列することによって形成さ
れるものであるので、図22(b)に示すインクジェッ
トヘッド306によるインク吐出処理は、R,G,Bの
単色を吐出するインクジェットヘッド306をR,G,
B等の3色分だけ予め設けておいて、それらのインクジ
ェットヘッド306を順々に用いて1つのマザーボード
301上にR,G,B等の3色配列を形成する。
The filter element 303 is formed by arranging each color of R, G, B and the like in an appropriate arrangement such as a stripe arrangement, a delta arrangement, a mosaic arrangement, etc., and is shown in FIG. The ink ejection process by the inkjet head 306 is performed by setting the inkjet head 306 that ejects a single color of R, G, and B to R, G, and B.
The three color arrangements of R, G, B, etc. are formed in advance on one motherboard 301 by using the ink jet heads 306 in order for three colors such as B.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】ところで、インクジェ
ットヘッド306に関しては、一般に、ノズル列305
を構成する複数のノズル304のインク吐出量にバラツ
キがあり、例えば図23(a)に示すように、ノズル列
305の両端部に対応する位置の吐出量が多く、その中
央部がその次に多く、それらの中間部の吐出量が少ない
というようなインク吐出特性Qを有する。
The ink jet head 306 generally has a nozzle row 305.
23, there is a variation in the amount of ink discharged from the plurality of nozzles 304. For example, as shown in FIG. 23A, the amount of discharge at positions corresponding to both ends of the nozzle row 305 is large, and In many cases, the ink has an ink ejection characteristic Q such that the ejection amount of the intermediate portion is small.

【0009】従って、図22(b)に示すようにしてイ
ンクジェットヘッド306によってフィルタエレメント
303を形成したとき、図23(b)に示すように、イ
ンクジェットヘッド306の端部に対応する位置P1又
は中央部P2、或いはP1及びP2の両方に濃度の濃いス
ジが形成されてしまい、カラーフィルタの平面的な光透
過特性が不均一になるという問題があった。
Accordingly, when the filter element 303 is formed by the ink jet head 306 as shown in FIG. 22B, as shown in FIG. 23B, the position P1 corresponding to the end of the ink jet head 306 or the center P1 is formed. A streak having a high density is formed in the portion P2 or in both the portions P1 and P2, and there is a problem that the planar light transmission characteristics of the color filter become non-uniform.

【0010】本発明は、上記の問題点に鑑みて成された
ものであって、カラーフィルタの光透過特性、液晶装置
のカラー表示特性、EL発光面の発光特性等といった光
学部材の光学特性を平面的に均一にできる各光学部材の
製造方法及び製造装置を提供することを目的とする。ま
た、本発明は、基板等の対象物に何らかの材料をノズル
から吐出させ、正確にその材料を対象物に付着させるこ
とができる一般的な工業技術を提供することを目的とす
る。
The present invention has been made in view of the above problems, and has been made in consideration of the optical characteristics of an optical member, such as the light transmission characteristics of a color filter, the color display characteristics of a liquid crystal device, and the light emission characteristics of an EL light emitting surface. It is an object of the present invention to provide a method and apparatus for manufacturing each optical member that can be made uniform in a plane. Another object of the present invention is to provide a general industrial technique capable of discharging some material from a nozzle to an object such as a substrate and accurately attaching the material to the object.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め、本発明に係る材料の吐出方法は、対象物に材料を吐
出する材料の吐出方法であって、複数のノズルが配列さ
れたノズル列を有するヘッド、及び前記対象物のうちの
一方を他方に対して主走査方向に移動させながら前記複
数のノズルのうち少なくとも1のノズルから材料を吐出
する工程、を含み、前記工程においては、前記ノズル列
の端部に位置するノズルが、前記材料を吐出しないよう
制御されることを特徴とする。
In order to achieve the above object, a method for discharging a material according to the present invention is a method for discharging a material onto an object, comprising a nozzle having a plurality of nozzles arranged therein. A head having a row, and discharging a material from at least one of the plurality of nozzles while moving one of the objects in the main scanning direction with respect to the other, including the step of: A nozzle located at an end of the nozzle row is controlled so as not to discharge the material.

【0012】この場合、前記ノズル列の端部に位置する
複数のノズルが、前記材料を吐出しないよう制御される
と好ましい。
In this case, it is preferable that a plurality of nozzles positioned at the end of the nozzle row are controlled so as not to discharge the material.

【0013】一般のヘッドにおいて材料吐出分布がノズ
ル列の端部分において他の部分に比べて変化することは
図23(a)に関連して説明した通りである。このよう
なインク吐出分布特性を有するインクジェットヘッドに
関しては、変化の大きいノズル列端部分の複数のノズル
を除いた、インク吐出分布が一様な複数のノズルを使う
ことにすれば、材料の膜厚を平面的に均一にすることが
できる。
As described with reference to FIG. 23 (a), in a general head, the material discharge distribution changes at the end of the nozzle row as compared with other portions. With respect to the ink jet head having such an ink ejection distribution characteristic, if a plurality of nozzles having a uniform ink ejection distribution are used except for a plurality of nozzles at the end portion of a nozzle row having a large change, the film thickness of the material may be reduced. Can be made planarly uniform.

【0014】更には、前記ノズル列は、仮想的に複数の
グループに分割されており、各前記グループが前記対象
物の同じ部分を前記主走査方向に走査できるように、前
記ヘッド及び前記対象物のうちの一方を他方に対して副
走査させる工程、を更に含むと好ましい。
Further, the nozzle row is virtually divided into a plurality of groups, and the head and the object are arranged so that each group can scan the same portion of the object in the main scanning direction. It is preferable that the method further includes a step of sub-scanning one of them with respect to the other.

【0015】このように構成すれば、材料はヘッドの1
回の走査によって形成されるのではなくて、異なるノズ
ルグループに属する複数のノズルによって重ねて材料吐
出を受けることにより所定の膜厚に形成されるので、仮
に複数のノズル間において材料吐出量にバラツキが存在
する場合でも、複数の形成要素間で膜厚にバラツキが生
じることを防止できる。
According to this structure, the material is used for the head 1.
Rather than being formed by multiple scans, a plurality of nozzles belonging to different nozzle groups receive a material discharge in a superimposed manner to form a predetermined film thickness, so that the material discharge amount varies among a plurality of nozzles. Can be prevented from occurring in the film thickness among a plurality of forming elements even when the film forming element exists.

【0016】上記構成の材料の塗布方法において、前記
ヘッド及び基板のうちの一方を前記ノズルグループの副
走査方向の長さの整数倍の長さで他方に対して副走査移
動させることができる。こうすれば、複数のノズルグル
ープが前記対象物の同じ部分を重ねて走査することにな
り、各ノズルグループ内のノズルによって個々の形成要
素領域に材料が重ねて供給される。
In the method of applying a material having the above-described structure, one of the head and the substrate can be sub-scanned with respect to the other by a length that is an integral multiple of the length of the nozzle group in the sub-scanning direction. In this way, a plurality of nozzle groups scan the same portion of the object in an overlapping manner, and the nozzles in each nozzle group supply the material to the individual forming element regions in an overlapping manner.

【0017】また、上記構成の材料の吐出法において、
前記ノズル列は前記副走査方向に対して傾斜して配置す
ることができる。ノズル列は複数のノズルを列状に配列
することによって形成される。この場合、ノズル列の配
置状態がヘッドの副走査方向に対して平行であるとする
と、ノズルから吐出されたフィルタエレメント材料によ
って形成されるフィルタエレメントの隣り合うものの間
の間隔、すなわちエレメント間ピッチは、ノズル列を形
成する複数のノズルのノズル間ピッチに等しくなる。
Further, in the method of discharging a material having the above structure,
The nozzle row may be arranged to be inclined with respect to the sub-scanning direction. The nozzle row is formed by arranging a plurality of nozzles in a row. In this case, assuming that the arrangement state of the nozzle rows is parallel to the sub-scanning direction of the head, the interval between adjacent filter elements formed by the filter element material ejected from the nozzles, that is, the element-to-element pitch is And the pitch between the nozzles of the plurality of nozzles forming the nozzle row.

【0018】エレメント間ピッチがノズル間ピッチに等
しくて良い場合には上記のままで良いのであるが、この
ような場合はどちらかといえば稀なケースであり、通常
は、エレメント間ピッチとノズル間ピッチとが異なって
いる場合の方が多いのが現状である。このようにエレメ
ント間ピッチとノズル間ピッチとが異なる場合には、上
記構成のように、ノズル列をヘッドの副走査方向に対し
て傾斜させることにより、ノズル間ピッチの副走査方向
に沿った長さをエレメント間ピッチに合わせることがで
きる。なお、この場合には、ノズル列を構成する各ノズ
ルの位置が主走査方向に関して前後にずれることになる
が、これに対しては各ノズルからの材料の吐出タイミン
グをずらせることにより、各ノズルからの材料滴を希望
の位置に供給できる。
When the pitch between the elements can be equal to the pitch between the nozzles, the above condition may be used. However, such a case is a rather rare case. At present, the pitch is often different. When the pitch between the elements and the pitch between the nozzles are different from each other, the nozzle row is inclined with respect to the sub-scanning direction of the head as described above, so that the pitch between the nozzles along the sub-scanning direction is increased. The length can be adjusted to the pitch between the elements. In this case, the positions of the nozzles forming the nozzle row are shifted back and forth with respect to the main scanning direction. However, by shifting the ejection timing of the material from each nozzle, Can be supplied to a desired position.

【0019】また、前記ノズル列はn個のノズルグルー
プに仮想的に分割されており、前記ノズル列のうち前記
材料が吐出しないように制御されるノズルを除いた部分
の長さをL、前記ノズルグループの数をn、前記ノズル
列が前記副走査方向と成す角度をθとするとき、前記副
走査移動量δは、 δ≒(L/n)cosθ であることを特徴とする。
The nozzle row is virtually divided into n nozzle groups, and the length of a portion of the nozzle row excluding the nozzles controlled so that the material is not discharged is L, When the number of nozzle groups is n and the angle between the nozzle row and the sub-scanning direction is θ, the sub-scanning movement amount δ is δ ≒ (L / n) cos θ.

【0020】この構成によれば、ヘッドは複数のノズル
を副走査方向へノズルグループごとに移動させることが
できる。この結果、例えば、ノズル列が4個のノズルグ
ループに分割される場合を考えれば、基板上の各部は4
個のノズルグループによって重ねて主走査される。
According to this configuration, the head can move a plurality of nozzles in the sub-scanning direction for each nozzle group. As a result, for example, considering that the nozzle row is divided into four nozzle groups,
The main scanning is performed in an overlapping manner by the nozzle groups.

【0021】また、前記ヘッドは複数個設けられるとと
もに、各々のヘッドのノズル列からは互いに異なる材料
が吐出されることを特徴とする。また、前記ヘッドは複
数の前記ノズル列が設けられるとともに、各前記ノズル
列からは互いに異なる材料が吐出されることを特徴とす
る。
Further, a plurality of heads are provided, and different materials are ejected from nozzle rows of each head. Further, the head is provided with a plurality of the nozzle rows, and different materials are discharged from each of the nozzle rows.

【0022】次に、本発明に係る材料の吐出装置は、複
数のノズルが配列されたノズル列を有してなり、それら
複数のノズルのうち少なくとも1のノズルから材料を吐
出する材料の吐出装置であって、前記ノズルからの材料
の吐出を制御する吐出制御手段を具備し、前記吐出制御
手段は、前記ノズル列の端部に位置するノズルが、前記
材料を吐出しないよう制御することを特徴とする。
Next, a material discharging apparatus according to the present invention has a nozzle row in which a plurality of nozzles are arranged, and a material discharging apparatus which discharges a material from at least one of the plurality of nozzles. And a discharge control unit that controls discharge of a material from the nozzle, wherein the discharge control unit controls a nozzle located at an end of the nozzle row so as not to discharge the material. And

【0023】次に、本発明のカラーフィルタの製造方法
は、複数のフィルタエレメントを配列して成るカラーフ
ィルタを製造するカラーフィルタの製造方法であって、
複数のノズルが配列されたノズル列を有するヘッド、及
び前記基板のうちの一方を他方に対して主走査方向に移
動させながら前記複数のノズルのうち少なくとも1のノ
ズルからフィルタ材料を吐出する工程、を含み、前記工
程においては、前記ノズル列の端部に位置するノズル
が、前記フィルタ材料を吐出しないよう制御されること
を特徴とする。
Next, a method of manufacturing a color filter according to the present invention is a method of manufacturing a color filter for manufacturing a color filter in which a plurality of filter elements are arranged,
A head having a nozzle row in which a plurality of nozzles are arranged, and a step of discharging a filter material from at least one of the plurality of nozzles while moving one of the substrates in the main scanning direction with respect to the other; Wherein in the step, the nozzle located at the end of the nozzle row is controlled so as not to discharge the filter material.

【0024】次に、本発明のカラーフィルタの製造装置
は、複数のノズルが配列されたノズル列を有してなり、
それら複数のノズルのうち少なくとも1のノズルからフ
ィルタ材料を吐出するカラーフィルタの製造装置であっ
て、前記ノズルからのフィルタ材料の吐出を制御する吐
出制御手段を具備し、前記吐出制御手段は、前記ノズル
列の端部に位置するノズルが、前記フィルタ材料を吐出
しないよう制御することを特徴とする。次に本発明の液
晶装置の製造方法は、液晶を挟持する一対の基板と、少
なくとも一方の基板上に複数のフィルタエレメントを配
列して成るカラーフィルタとを有する液晶装置の製造方
法であって、複数のノズルが配列されたノズル列を有す
るヘッド、及び前記基板のうちの一方を他方に対して主
走査方向に移動させながら前記複数のノズルのうち少な
くとも1のノズルからフィルタ材料を吐出する工程、を
含み、前記工程においては、前記ノズル列の端部に位置
するノズルが、前記フィルタ材料を吐出しないよう制御
されることを特徴とする。次に本発明の液晶装置の製造
装置は、複数のノズルが配列されたノズル列を有してな
り、それら複数のノズルのうち少なくとも1のノズルか
らフィルタ材料を吐出する液晶装置の製造装置であっ
て、前記ノズルからの前記フィルタ材料の吐出を制御す
る吐出制御手段を具備し、前記吐出制御手段は、前記ノ
ズル列の端部に位置するノズルが、前記フィルタ材料を
吐出しないよう制御することを特徴とする。
Next, the color filter manufacturing apparatus of the present invention has a nozzle row in which a plurality of nozzles are arranged,
An apparatus for manufacturing a color filter that discharges a filter material from at least one of the plurality of nozzles, comprising: a discharge control unit configured to control discharge of the filter material from the nozzle, wherein the discharge control unit includes: A nozzle located at an end of the nozzle row is controlled so as not to discharge the filter material. Next, a method for manufacturing a liquid crystal device according to the present invention is a method for manufacturing a liquid crystal device having a pair of substrates that sandwich liquid crystal and a color filter in which a plurality of filter elements are arranged on at least one substrate. A head having a nozzle row in which a plurality of nozzles are arranged, and a step of discharging a filter material from at least one of the plurality of nozzles while moving one of the substrates in the main scanning direction with respect to the other; Wherein in the step, the nozzle located at the end of the nozzle row is controlled so as not to discharge the filter material. Next, the apparatus for manufacturing a liquid crystal device according to the present invention is an apparatus for manufacturing a liquid crystal device having a nozzle row in which a plurality of nozzles are arranged, and discharging a filter material from at least one of the plurality of nozzles. Discharge control means for controlling discharge of the filter material from the nozzles, wherein the discharge control means controls a nozzle located at an end of the nozzle row so as not to discharge the filter material. Features.

【0025】次に本発明のEL装置の製造方法は、EL
発光層を含む複数の絵素ピクセルを基板上に配列して成
るEL装置の製造方法であって、複数のノズルが配列さ
れたノズル列を有するヘッド、及び前記基板のうちの一
方を他方に対して主走査方向に移動させながら前記複数
のノズルのうち少なくとも1のノズルからEL発光材料
を吐出する工程、を含み、前記工程においては、前記ノ
ズル列の端部に位置するノズルが、前記EL発光材料を
吐出しないよう制御されることを特徴とする。
Next, the method for manufacturing an EL device according to the present invention is as follows.
What is claimed is: 1. A method for manufacturing an EL device comprising a plurality of pixel pixels including a light-emitting layer arranged on a substrate, comprising: a head having a nozzle row in which a plurality of nozzles are arranged; Ejecting an EL light emitting material from at least one of the plurality of nozzles while moving the EL light emitting material in the main scanning direction. In the step, the nozzle positioned at an end of the nozzle row includes the EL light emitting material. It is characterized in that it is controlled not to discharge the material.

【0026】次に本発明のEL装置の製造装置は、複数
のノズルが配列されたノズル列を有してなり、それら複
数のノズルのうち少なくとも1のノズルからEL発光材
料を吐出するEL装置の製造装置であって、前記ノズル
からのEL発光材料の吐出を制御する吐出制御手段を具
備し、前記吐出制御手段は、前記ノズル列の端部に位置
するノズルが、前記EL発光材料を吐出しないよう制御
することを特徴とする。
Next, the apparatus for manufacturing an EL device according to the present invention has a nozzle row in which a plurality of nozzles are arranged, and an EL device which discharges an EL luminescent material from at least one of the plurality of nozzles. A manufacturing apparatus comprising: a discharge control unit configured to control discharge of an EL light-emitting material from the nozzle, wherein the discharge control unit does not discharge the EL light-emitting material at a nozzle positioned at an end of the nozzle row. It is characterized by the following control.

【0027】[0027]

【発明の実施の形態】(第1実施形態)以下、カラーフ
ィルタの製造方法及びその製造装置の一実施形態につい
て説明する。まず、それらの製造方法及び製造装置を説
明するのに先立って、それらの製造方法等を用いて製造
されるカラーフィルタについて説明する。図5(a)は
カラーフィルタの一実施形態の平面構造を模式的に示し
ている。また、図6(d)は図5(a)のVI−VI線
に従った断面構造を示している。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS (First Embodiment) An embodiment of a method for manufacturing a color filter and an apparatus for manufacturing the same will be described below. First, before describing the manufacturing method and the manufacturing apparatus, a color filter manufactured by using the manufacturing method and the like will be described. FIG. 5A schematically shows a planar structure of one embodiment of a color filter. FIG. 6D shows a cross-sectional structure along the line VI-VI in FIG. 5A.

【0028】本実施形態のカラーフィルタ1は、ガラ
ス、プラスチック等によって形成された方形状の基板2
の表面に複数のフィルタエレメント3をドットパターン
状、本実施形態ではドットマトリクス状に形成し、さら
に図6(d)に示すように、その上に保護膜4を積層す
ることによって形成されている。なお、図5(a)は保
護膜4を取り除いた状態のカラーフィルタ1を平面的に
示している。
The color filter 1 of the present embodiment is a rectangular substrate 2 made of glass, plastic, or the like.
A plurality of filter elements 3 are formed in a dot pattern shape, in this embodiment, in a dot matrix shape, on the surface of the above, and further, as shown in FIG. 6D, formed by laminating a protective film 4 thereon. . FIG. 5A is a plan view showing the color filter 1 with the protective film 4 removed.

【0029】フィルタエレメント3は、透光性のない樹
脂材料によって格子状のパターンに形成された隔壁6に
よって区画されてドットマトリクス状に並んだ複数の方
形状の領域を色材で埋めることによって形成される。ま
た、これらのフィルタエレメント3は、それぞれが、R
(赤)、G(緑)、B(青)のうちのいずれか1色の色
材によって形成され、それらの各色フィルタエレメント
3が所定の配列に並べられている。この配列としては、
例えば、図7(a)に示すストライプ配列、図7(b)
に示すモザイク配列、図7(c)に示すデルタ配列等が
知られている。
The filter element 3 is formed by filling a plurality of rectangular regions which are partitioned by partition walls 6 formed in a grid pattern with a non-translucent resin material and arranged in a dot matrix with a coloring material. Is done. Each of these filter elements 3 has R
(Red), G (green), and B (blue) are formed of one of the color materials, and the respective color filter elements 3 are arranged in a predetermined arrangement. For this array,
For example, the stripe arrangement shown in FIG.
And a delta arrangement shown in FIG. 7 (c).

【0030】ストライプ配列は、マトリクスの縦列が全
て同色になる配色である。モザイク配列は、縦横の直線
上に並んだ任意の3つのフィルタエレメントがR,G,
Bの3色となる配色である。そして、デルタ配列は、フ
ィルタエレメントの配置を段違いにし、任意の隣接する
3つのフィルタエレメントがR,G,Bの3色となる配
色である。
The stripe arrangement is a color arrangement in which all columns of the matrix have the same color. In the mosaic arrangement, any three filter elements arranged on a vertical and horizontal line are R, G,
B is a three-color arrangement. The delta arrangement is a color arrangement in which the arrangement of the filter elements is different, and any three adjacent filter elements have three colors of R, G, and B.

【0031】カラーフィルタ1の大きさは、例えば、
1.8インチである。また、1個のフィルタエレメント
3の大きさは、例えば、30μm×100μmである。
また、各フィルタエレメント3の間の間隔、いわゆるエ
レメント間ピッチは、例えば、75μmである。
The size of the color filter 1 is, for example,
1.8 inches. The size of one filter element 3 is, for example, 30 μm × 100 μm.
The interval between the filter elements 3, that is, the so-called element pitch is, for example, 75 μm.

【0032】本実施形態のカラーフィルタ1をフルカラ
ー表示のための光学要素として用いる場合には、R,
G,B3個のフィルタエレメント3を1つのユニットと
して1つの画素を形成し、1画素内のR,G,Bのいず
れか1つ又はそれらの組み合わせに光を選択的に通過さ
せることにより、フルカラー表示を行う。このとき、透
光性のない樹脂材料によって形成された隔壁6はブラッ
クマトリクスとして作用する。
When the color filter 1 of the present embodiment is used as an optical element for full-color display, R, R
One pixel is formed by using the three G and B filter elements 3 as one unit, and light is selectively passed through any one of R, G, and B or a combination thereof in one pixel, thereby providing full color. Display. At this time, the partition 6 formed of a non-light-transmitting resin material functions as a black matrix.

【0033】上記のカラーフィルタ1は、例えば、図5
(b)に示すような大面積のマザー基板12から切り出
される。具体的には、まず、マザー基板12内に設定さ
れた複数のカラーフィルタ形成領域11のそれぞれの表
面にカラーフィルタ1の1個分のパターンを形成し、さ
らにそれらのカラーフィルタ形成領域11の周りに切断
用の溝を形成し、さらにそれらの溝に沿ってマザー基板
12を切断することにより、個々のカラーフィルタ1が
形成される。
The above color filter 1 is, for example, as shown in FIG.
It is cut out from a large-area mother substrate 12 as shown in FIG. Specifically, first, a pattern for one color filter 1 is formed on each surface of the plurality of color filter forming regions 11 set in the mother substrate 12, and further, around the color filter forming regions 11. The color filters 1 are formed by forming cutting grooves on the substrate and cutting the mother substrate 12 along the grooves.

【0034】以下、図5(a)に示すカラーフィルタ1
を製造する製造方法及びその製造装置について説明す
る。
The color filter 1 shown in FIG.
A manufacturing method and a manufacturing apparatus for manufacturing the same will be described.

【0035】図6はカラーフィルタ1の製造方法を工程
順に模式的に示している。まず、マザー基板12の表面
に透光性のない樹脂材料によって隔壁6を矢印B方向か
ら見て格子状パターンに形成する。格子状パターンの格
子穴の部分7はフィルタエレメント3が形成される領
域、すなわちフィルタエレメント領域である。この隔壁
6によって形成される個々のフィルタエレメント領域7
の矢印B方向から見た場合の平面寸法は、例えば30μ
m×100μm程度に形成される。
FIG. 6 schematically shows a method of manufacturing the color filter 1 in the order of steps. First, the partition walls 6 are formed in a lattice pattern on the surface of the mother substrate 12 using a non-translucent resin material as viewed in the direction of arrow B. The portion 7 of the lattice hole of the lattice pattern is a region where the filter element 3 is formed, that is, a filter element region. Individual filter element regions 7 formed by the partition walls 6
The plane dimension when viewed from the arrow B direction is, for example, 30 μm.
It is formed to about mx100 μm.

【0036】隔壁6は、フィルタエレメント領域7に供
給されるフィルタエレメント材料の流動を阻止する機能
及びブラックマトリクスの機能を併せて有する。また、
隔壁6は任意のパターニング手法、例えばフォトリソグ
ラフィー法によって形成され、さらに必要に応じてヒー
タによって加熱されて焼成される。
The partition 6 has a function of preventing the flow of the filter element material supplied to the filter element region 7 and a function of a black matrix. Also,
The partition 6 is formed by an arbitrary patterning method, for example, a photolithography method, and is further heated and baked by a heater as necessary.

【0037】隔壁6の形成後、図6(b)に示すよう
に、フィルタエレメント材料の液滴8を各フィルタエレ
メント領域7に供給することにより、各フィルタエレメ
ント領域7をフィルタエレメント材料13で埋める。図
6(b)において、符号13RはR(赤)の色を有する
フィルタエレメント材料を示し、符号13GはG(緑)
の色を有するフィルタエレメント材料を示し、そして符
号13BはB(青)の色を有するフィルタエレメント材
料を示している。
After the partition walls 6 are formed, the filter element regions 7 are filled with the filter element material 13 by supplying droplets 8 of the filter element material to the respective filter element regions 7 as shown in FIG. . In FIG. 6B, reference numeral 13R denotes a filter element material having a color of R (red), and reference numeral 13G denotes G (green).
And 13B indicates a filter element material having a B (blue) color.

【0038】各フィルタエレメント領域7に所定量のフ
ィルタエレメント材料が充填されると、ヒータによって
マザー基板12を例えば70℃程度に加熱して、フィル
タエレメント材料の溶媒を蒸発させる。この蒸発によ
り、図6(c)に示すようにフィルタエレメント材料1
3の体積が減少し、平坦化する。体積の減少が激しい場
合には、カラーフィルタとして十分な膜厚が得られるま
で、フィルタエレメント材料の液滴の供給とその液滴の
加熱とを繰り返して実行する。以上の処理により、最終
的にフィルタエレメント材料の固形分のみが残留して膜
化し、これにより、希望する各色フィルタエレメント3
が形成される。
When a predetermined amount of filter element material is filled in each filter element region 7, the mother substrate 12 is heated to, for example, about 70 ° C. by a heater to evaporate the solvent of the filter element material. As a result of this evaporation, as shown in FIG.
3 is reduced in volume and flattened. When the volume is drastically reduced, the supply of the droplets of the filter element material and the heating of the droplets are repeatedly performed until a sufficient film thickness as a color filter is obtained. By the above processing, only the solid content of the filter element material is finally left to form a film.
Is formed.

【0039】以上によりフィルタエレメント3が形成さ
れた後、それらのフィラメント3を完全に乾燥させるた
めに、所定の温度で所定時間の加熱処理を実行する。そ
の後、例えば、スピンコート法、ロールコート法、リッ
ピング法、又はインクジェット法等といった適宜の手法
を用いて保護膜4を形成する。この保護膜4は、フィル
タエレメント3等の保護及びカラーフィルタ1の表面の
平坦化のために形成される。
After the filter elements 3 are formed as described above, a heating process is performed at a predetermined temperature for a predetermined time in order to completely dry the filaments 3. Thereafter, the protective film 4 is formed by using an appropriate method such as a spin coating method, a roll coating method, a ripping method, or an inkjet method. The protective film 4 is formed for protecting the filter element 3 and the like and flattening the surface of the color filter 1.

【0040】図8は、図6(b)に示したフィルタエレ
メント材料の供給処理を行うためのインクジェット装置
の一実施形態を示している。このインクジェット装置1
6はR,G,Bのうちの1色、例えばR色のフィルタエ
レメント材料をインクの液滴として、マザー基板12
(図5(b)参照)内の各カラーフィルタ形成領域11
内の所定位置に吐出して付着させるための装置である。
G色のフィルタエレメント材料及びB色のフィルタエレ
メント材料のためのインクジェット装置もそれぞれに用
意されるが、それらの構造は図8のものと同じにするこ
とができるので、それらについての説明は省略する。
FIG. 8 shows an embodiment of an ink jet apparatus for performing the supply processing of the filter element material shown in FIG. 6B. This inkjet device 1
Reference numeral 6 denotes a mother substrate 12 in which a filter element material of one of R, G, and B, for example, R, is used as an ink droplet.
Each color filter forming area 11 in (see FIG. 5B)
This is a device for discharging and attaching to a predetermined position in the inside.
Ink jet devices for the G filter element material and the B filter element material are also prepared, but their structures can be the same as those in FIG. .

【0041】図8において、インクジェット装置16
は、インクジェットヘッド22を備えたヘッドユニット
26と、インクジェットヘッド22の位置を制御するヘ
ッド位置制御装置17と、マザー基板12の位置を制御
する基板位置制御装置18と、インクジェットヘッド2
2をマザー基板12に対して主走査移動させる主走査駆
動装置19と、インクジェットヘッド22をマザー基板
12に対して副走査移動させる副走査駆動装置21と、
マザー基板12をインクジェット装置16内の所定の作
業位置へ供給する基板供給装置23と、そしてインクジ
ェット装置16の全般の制御を司るコントロール装置2
4とを有する。
In FIG. 8, the ink jet device 16
A head unit 26 having an inkjet head 22; a head position controller 17 for controlling the position of the inkjet head 22; a substrate position controller 18 for controlling the position of the mother substrate 12;
A main scanning drive device 19 that moves the inkjet head 22 in the main scanning direction with respect to the mother substrate 12, a sub scanning driving device 21 that moves the inkjet head 22 in the sub scanning direction with respect to the mother substrate 12,
A substrate supply device 23 for supplying the mother substrate 12 to a predetermined working position in the inkjet device 16; and a control device 2 for controlling the overall control of the inkjet device 16
And 4.

【0042】ヘッド位置制御装置17、基板位置制御装
置18、インクジェットヘッド22をマザー基板12に
対して主走査移動させる主走査駆動装置19、そして副
走査駆動装置21の各装置はベース9の上に設置され
る。また、それらの各装置は必要に応じてカバー14に
よって覆われる。
The head position control device 17, the substrate position control device 18, the main scanning drive device 19 for moving the ink jet head 22 in the main scanning direction with respect to the mother substrate 12, and the sub-scanning drive device 21 are mounted on the base 9. Will be installed. Each of those devices is covered with a cover 14 as needed.

【0043】インクジェットヘッド22は、例えば図1
0に示すように、複数のノズル27を列状に並べること
によって形成されたノズル列28を有する。ノズル27
の数は例えば180個であり、ノズル27の孔径は例え
ば28μmであり、ノズル27間のノズルピッチは例え
ば141μmである。図5(a)及び図5(b)におい
てカラーフィルタ1及びマザー基板12に対する主走査
方向×及びそれに直交する副走査方向Yは図10におい
て図示の通りに設定される。
The ink jet head 22 is, for example, as shown in FIG.
As shown in FIG. 0, a nozzle row 28 is formed by arranging a plurality of nozzles 27 in a row. Nozzle 27
Is 180, for example, the hole diameter of the nozzle 27 is, for example, 28 μm, and the nozzle pitch between the nozzles 27 is, for example, 141 μm. 5A and 5B, the main scanning direction x and the sub-scanning direction Y orthogonal to the color filter 1 and the mother substrate 12 are set as shown in FIG.

【0044】インクジェットヘッド22は、そのノズル
列28が主走査方向×と交差する方向へ延びるように位
置設定され、この主走査方向×へ平行移動する間に、イ
ンクとしてのフィルタエレメント材料を複数のノズル2
7から選択的に吐出することにより、マザー基板12
(図5(b)参照)内の所定位置にフィルタエレメント
材料を付着させる。また、インクジェットヘッド22は
副走査方向Yへ所定距離だけ平行移動することにより、
インクジェットヘッド22による主走査位置を所定の間
隔でずらせることができる。
The ink jet head 22 is positioned so that its nozzle row 28 extends in a direction intersecting with the main scanning direction x, and during the parallel movement in the main scanning direction x, a plurality of filter element materials as ink are used. Nozzle 2
7 to discharge the mother substrate 12
A filter element material is adhered to a predetermined position in (see FIG. 5B). In addition, the inkjet head 22 moves in parallel in the sub-scanning direction Y by a predetermined distance,
The main scanning position by the inkjet head 22 can be shifted at predetermined intervals.

【0045】インクジェットヘッド22は、例えば、図
12(a)及び図12(b)に示す内部構造を有する。
具体的には、インクジェットヘッド22は、例えばステ
ンレス製のノズルプレート29と、それに対向する振動
板31と、それらを互いに接合する複数の仕切部材32
とを有する。ノズルプレート29と振動板31との間に
は、仕切部材32によって複数のインク室33と液溜り
34とが形成される。複数のインク室33と液溜り34
とは通路38を介して互いに連通している。
The ink jet head 22 has, for example, an internal structure shown in FIGS. 12 (a) and 12 (b).
Specifically, the inkjet head 22 includes a nozzle plate 29 made of, for example, stainless steel, a diaphragm 31 facing the nozzle plate 29, and a plurality of partition members 32 that join them together.
And A plurality of ink chambers 33 and liquid reservoirs 34 are formed between the nozzle plate 29 and the vibration plate 31 by the partition member 32. A plurality of ink chambers 33 and a liquid reservoir 34
Communicate with each other via a passage 38.

【0046】振動板31の適所にはインク供給孔36が
形成され、このインク供給孔36にインク供給装置37
が接続される。このインク供給装置37はR,G,Bの
うちの1色、例えばR色のフィルタエレメント材料Mを
インク供給孔36へ供給する。供給されたフィルタエレ
メント材料Mは液溜り34に充満し、さらに通路38を
通ってインク室33に充満する。
An ink supply hole 36 is formed at an appropriate position of the vibration plate 31, and an ink supply device 37 is formed in the ink supply hole 36.
Is connected. The ink supply device 37 supplies the filter element material M of one of R, G, and B, for example, R, to the ink supply hole 36. The supplied filter element material M fills the liquid reservoir 34 and further fills the ink chamber 33 through the passage 38.

【0047】ノズルプレート29には、インク室33か
らフィルタエレメント材料Mをジェット状に噴射するた
めのノズル27が設けられている。また、振動板31の
インク室33を形成する面の裏面には、該インク室33
に対応させてインク加圧体39が取り付けられている。
このインク加圧体39は、図12(b)に示すように、
圧電素子41並びにこれを挟持する一対の電極42a及
び42bを有する。圧電素子41は電極42a及び42
bへの通電によって矢印Cで示す外側へ突出するように
撓み変形し、これによりインク室33の容積が増大す
る。すると、増大した容積分に相当するフィルタエレメ
ント材料Mが液溜り34から通路38を通ってインク室
33へ流入する。
The nozzle plate 29 is provided with nozzles 27 for jetting the filter element material M from the ink chamber 33 in a jet shape. The ink chamber 33 is provided on the back surface of the diaphragm 31 on which the ink chamber 33 is formed.
The ink pressurizing member 39 is attached so as to correspond to.
As shown in FIG. 12B, the ink pressurizing body 39
It has a piezoelectric element 41 and a pair of electrodes 42a and 42b sandwiching the same. The piezoelectric element 41 has electrodes 42a and 42
When the electric current is supplied to b, the ink chamber 33 bends and deforms so as to protrude outward as indicated by the arrow C, thereby increasing the volume of the ink chamber 33. Then, the filter element material M corresponding to the increased volume flows from the liquid reservoir 34 through the passage 38 into the ink chamber 33.

【0048】次に、圧電素子41への通電を解除する
と、該圧電素子41と振動板31は共に元の形状へ戻
る。これにより、インク室33も元の容積に戻るためイ
ンク室33の内部にあるフィルタエレメント材料Mの圧
力が上昇し、ノズル27からマザー基板12(図5
(b)参照)へ向けてフィルタエレメント材料Mが液滴
8となって噴出する。なお、ノズル27の周辺部には、
液滴8の飛行曲がりやノズル27の孔詰まり等を防止す
るために、例えばNi−テトラフルオロエチレン共析メ
ッキ層から成る撥インク層43が設けられる。
Next, when the power supply to the piezoelectric element 41 is released, both the piezoelectric element 41 and the diaphragm 31 return to their original shapes. As a result, the ink chamber 33 also returns to its original volume, so that the pressure of the filter element material M inside the ink chamber 33 increases, and the mother substrate 12 (FIG.
The filter element material M is ejected as droplets 8 toward (b). In the vicinity of the nozzle 27,
An ink-repellent layer 43 made of, for example, a Ni-tetrafluoroethylene eutectoid plating layer is provided in order to prevent the flight of the droplet 8 and the clogging of the hole of the nozzle 27.

【0049】図9において、ヘッド位置制御装置17
は、インクジェットヘッド22を面内回転させるαモー
タ44と、インクジェットヘッド22を副走査方向Yと
平行な軸線回りに揺動回転させるβモータ46と、イン
クジェットヘッド22を主走査方向と平行な軸線回りに
揺動回転させるγモータ47と、そしてインクジェット
ヘッド22を上下方向へ平行移動させるZモータ48を
有する。
In FIG. 9, the head position controller 17
Is an α motor 44 for rotating the inkjet head 22 in a plane, a β motor 46 for swinging and rotating the inkjet head 22 around an axis parallel to the sub-scanning direction Y, and an α motor 44 for rotating the inkjet head 22 around an axis parallel to the main scanning direction. And a Z motor 48 for vertically moving the inkjet head 22 in parallel.

【0050】図8に示した基板位置制御装置18は、図
9において、マザー基板12を載せるテーブル49と、
そのテーブル49を矢印θのように面内回転させるθモ
ータ51とを有する。また、図8に示した主走査駆動装
置19は、図9に示すように、主走査方向×へ延びるガ
イドレール52と、パルス駆動されるリニアモータを内
蔵したスライダ53とを有する。スライダ53は内蔵す
るリニアモータが作動するときにガイドレール52に沿
って主走査方向へ平行移動する。
The board position control device 18 shown in FIG. 8 includes a table 49 on which the mother board 12 is placed as shown in FIG.
And a θ motor 51 for rotating the table 49 in-plane as indicated by an arrow θ. As shown in FIG. 9, the main scanning drive device 19 shown in FIG. 8 includes a guide rail 52 extending in the main scanning direction x and a slider 53 containing a pulse-driven linear motor. The slider 53 translates in the main scanning direction along the guide rail 52 when the built-in linear motor operates.

【0051】また、図8に示した副走査駆動装置21
は、図9に示すように、副走査方向Yへ延びるガイドレ
ール54と、パルス駆動されるリニアモータを内蔵した
スライダ56とを有する。スライダ56は内蔵するリニ
アモータが作動するときにガイドレール54に沿って副
走査方向Yへ平行移動する。
The sub-scanning driving device 21 shown in FIG.
Has a guide rail 54 extending in the sub-scanning direction Y and a slider 56 containing a pulse-driven linear motor, as shown in FIG. The slider 56 moves in the sub-scanning direction Y along the guide rail 54 when the built-in linear motor operates.

【0052】スライダ53やスライダ56内においてパ
ルス駆動されるリニアモータは、該モータに供給するパ
ルス信号によって出力軸の回転角度制御を精細に行うこ
とができ、従って、スライダ53に支持されたインクジ
ェットヘッド22の主走査方向×上の位置やテーブル4
9の副走査方向Y上の位置等を高精細に制御できる。な
お、インクジェットヘッド22やテーブル49の位置制
御はパルスモータを用いた位置制御に限られず、サーボ
モータを用いたフィードバック制御や、その他任意の制
御方法によって実現することもできる。
The linear motor pulse-driven in the slider 53 or the slider 56 can precisely control the rotation angle of the output shaft by a pulse signal supplied to the motor. Therefore, the inkjet head supported by the slider 53 22 in the main scanning direction x position on table 4
9 can be controlled with high definition in the sub-scanning direction Y. The position control of the ink jet head 22 and the table 49 is not limited to the position control using a pulse motor, but can also be realized by feedback control using a servo motor or any other control method.

【0053】図8に示した基板供給装置23は、マザー
基板12を収容する基板収容部57と、マザー基板12
を搬送するロボット58とを有する。ロボット58は、
床、地面等といった設置面に置かれる基台59と、基台
59に対して昇降移動する昇降軸61と、昇降軸61を
中心として回転する第1アーム62と、第1アーム62
に対して回転する第2アーム63と、第2アーム63の
先端下面に設けられた吸着パッド64とを有する。吸着
パッド64は空気吸引等によってマザー基板12を吸着
できる。
The substrate supply device 23 shown in FIG. 8 includes a substrate accommodating portion 57 for accommodating the mother substrate 12 and a mother substrate 12.
And a robot 58 for transporting. The robot 58
A base 59 placed on an installation surface such as a floor, the ground, etc .; an elevating shaft 61 moving up and down with respect to the base 59; a first arm 62 rotating about the elevating shaft 61;
And a suction pad 64 provided on the lower surface of the distal end of the second arm 63. The suction pad 64 can suction the mother substrate 12 by air suction or the like.

【0054】図8において、主走査駆動装置19によっ
て駆動されて主走査移動するインクジェットヘッド22
の軌跡下であって副走査駆動装置21の一方の脇位置
に、キャッピング装置76及びクリーニング装置77が
配設される。また、他方の脇位置に電子天秤78が配設
される。クリーニング装置77はインクジェットヘッド
22を洗浄するための装置である。電子天秤78はイン
クジェットヘッド22内の個々のノズル27(図10参
照)から吐出されるインクの液滴の重量をノズルごとに
測定する機器である。そして、キャッピング装置76は
インクジェットヘッド22が待機状態にあるときにノズ
ル27(図10参照)の乾燥を防止するための装置であ
る。
In FIG. 8, the ink jet head 22 which is driven by the main scanning driving device 19 and moves in the main scanning.
A capping device 76 and a cleaning device 77 are disposed below the locus and at one side position of the sub-scanning driving device 21. An electronic balance 78 is provided at the other side position. The cleaning device 77 is a device for cleaning the inkjet head 22. The electronic balance 78 is a device that measures the weight of ink droplets ejected from each nozzle 27 (see FIG. 10) in the inkjet head 22 for each nozzle. The capping device 76 is a device for preventing the nozzle 27 (see FIG. 10) from drying when the inkjet head 22 is in a standby state.

【0055】インクジェットヘッド22の近傍には、そ
のインクジェットヘッド22と一体に移動する関係でヘ
ッド用カメラ81が配設される。また、ベース9上に設
けた支持装置(図示せず)に支持された基板用カメラ8
2がマザー基板12を撮影できる位置に配置される。
A head camera 81 is disposed near the ink jet head 22 so as to move integrally with the ink jet head 22. Further, the substrate camera 8 supported by a supporting device (not shown) provided on the base 9.
2 is arranged at a position where the mother substrate 12 can be photographed.

【0056】図8に示したコントロール装置24は、プ
ロセッサを収容したコンピュータ本体部66と、入力装
置としてのキーボード67と、表示装置としてのCRT
(Cathode Ray Tube)ディスプレイ68とを有する。上
記プロセッサは、図14に示すように、演算処理を行う
CPU(Central Processing Unit)69と、各種情報
を記憶するメモリすなわち情報記憶媒体71とを有す
る。
The control device 24 shown in FIG. 8 includes a computer main body 66 containing a processor, a keyboard 67 as an input device, and a CRT as a display device.
(Cathode Ray Tube) display 68. As shown in FIG. 14, the processor has a CPU (Central Processing Unit) 69 for performing arithmetic processing, and a memory for storing various information, that is, an information storage medium 71.

【0057】図8に示したヘッド位置制御装置17、基
板位置制御装置18、主走査駆動装置19、副走査駆動
装置21、そして、インクジェットヘッド22内の圧電
素子41(図12(b)参照)を駆動するヘッド駆動回
路72の各機器は、図14において、入出力インターフ
ェース73及びバス74を介してCPU69に接続され
る。また、基板供給装置23、入力装置67、ディスプ
レイ68、電子天秤78、クリーニング装置77及びキ
ャッピング装置76の各機器も入出力インターフェース
73及びバス74を介してCPU69に接続される。
The head position control device 17, substrate position control device 18, main scan drive device 19, sub-scan drive device 21, and piezoelectric element 41 in the ink jet head 22 shown in FIG. 8 (see FIG. 12B). 14 are connected to the CPU 69 via the input / output interface 73 and the bus 74 in FIG. Further, each device of the substrate supply device 23, the input device 67, the display 68, the electronic balance 78, the cleaning device 77, and the capping device 76 is also connected to the CPU 69 via the input / output interface 73 and the bus 74.

【0058】メモリ71は、RAM(Random Access Me
mory)、ROM(Read Only Memory)等といった半導体
メモリや、ハードディスク、CD−ROM読取り装置、
ディスク型記憶媒体等といった外部記憶装置等を含む概
念であり、機能的には、インクジェット装置16の動作
の制御手順が記述されたプログラムソフトを記憶する記
憶領域や、図7に示す各種のR,G,B配列を実現する
ためのR,G,Bのうちの1色のマザー基板12(図5
参照)内における吐出位置を座標データとして記憶する
ための記憶領域や、図9における副走査方向Yへのマザ
ー基板12の副走査移動量を記憶するための記憶領域
や、CPU69のためのワークエリアやテンポラリファ
イル等として機能する領域や、その他各種の記憶領域が
設定される。
The memory 71 has a random access memory (RAM).
mory), semiconductor memory such as ROM (Read Only Memory), hard disk, CD-ROM reader,
This is a concept including an external storage device such as a disk-type storage medium, and functionally includes a storage area for storing program software in which a control procedure of the operation of the inkjet device 16 is described, and various R, A mother board 12 of one of R, G, and B for realizing the G and B arrangements (FIG. 5)
9), a storage area for storing the amount of sub-scanning movement of the mother substrate 12 in the sub-scanning direction Y in FIG. 9, and a work area for the CPU 69. And an area functioning as a temporary file or the like, and other various storage areas are set.

【0059】CPU69は、メモリ71内に記憶された
プログラムソフトに従って、マザー基板12に表面の所
定位置にインク、すなわちフィルタエレメント材料を吐
出するための制御を行うものであり、具体的な機能実現
部として、クリーニング処理を実現するための演算を行
うクリーニング演算部と、キャッピング処理を実現する
ためのキャッピング演算部と、電子天秤78(図8参
照)を用いた重量測定を実現するための演算を行う重量
測定演算部と、インクジェットによってフィルタエレメ
ント材料を描画するための演算を行う描画演算部とを有
する。
The CPU 69 controls the ejection of ink, that is, the filter element material, to a predetermined position on the surface of the mother substrate 12 in accordance with the program software stored in the memory 71. A cleaning operation unit for performing an operation for implementing the cleaning process, a capping operation unit for implementing the capping process, and an operation for implementing weight measurement using the electronic balance 78 (see FIG. 8) It has a weight measurement calculation unit and a drawing calculation unit that performs calculation for drawing the filter element material by the inkjet.

【0060】描画演算部を詳しく分割すれば、インクジ
ェットヘッド22を描画のための初期位置へセットする
ための描画開始位置演算部と、インクジェットヘッド2
2を主走査方向×へ所定の速度で走査移動させるための
制御を演算する主走査制御演算部と、マザー基板12を
副走査方向Yへ所定の副走査量だけずらせるための制御
を演算する副走査制御演算部と、そして、インクジェッ
トヘッド22内の複数のノズル27のうちのいずれを作
動させてインクすなわちフィルタエレメント材料を吐出
するかを制御するための演算を行うノズル吐出制御演算
部等といった各種の機能演算部を有する。
If the drawing calculation unit is divided in detail, a drawing start position calculation unit for setting the ink jet head 22 to the initial position for drawing, and the ink jet head 2
A main scanning control calculation unit for calculating a control for moving the scanning substrate 2 at a predetermined speed in the main scanning direction x and a control for shifting the mother substrate 12 by a predetermined sub-scanning amount in the sub-scanning direction Y A sub-scanning control operation unit, and a nozzle ejection control operation unit that performs an operation for controlling which of the plurality of nozzles 27 in the inkjet head 22 is operated to eject ink, that is, the filter element material. It has various function calculation units.

【0061】なお、本実施形態では、上記の各機能をC
PU69を用いてソフト的に実現することにしたが、上
記の各機能がCPUを用いない単独の電子回路によって
実現できる場合には、そのような電子回路を用いること
も可能である。
In this embodiment, each of the above functions is implemented by C
Although the software is realized by using the PU 69, when each of the above functions can be realized by a single electronic circuit without using the CPU, such an electronic circuit can be used.

【0062】以下、上記構成から成るインクジェット装
置16の動作を図15に示すフローチャートに基づいて
説明する。
Hereinafter, the operation of the ink jet apparatus 16 having the above configuration will be described with reference to the flowchart shown in FIG.

【0063】オペレータによる電源投入によってインク
ジェット装置16が作動すると、まず、ステップS1に
おいて初期設定が実行される。具体的には、ヘッドユニ
ット26や基板供給装置23やコントロール装置24等
が予め決められた初期状態にセットされる。
When the ink-jet apparatus 16 is operated by turning on the power by the operator, first, in step S1, initialization is executed. Specifically, the head unit 26, the substrate supply device 23, the control device 24, and the like are set to a predetermined initial state.

【0064】次に、重量測定タイミングが到来すれば
(ステップS2でYES)、図9のヘッドユニット26
を主走査駆動装置19によって図8の電子天秤78の所
まで移動させて(ステップS3)、ノズル27から吐出
されるインクの量を電子天秤78を用いて測定する(ス
テップS4)。そして、ノズル27のインク吐出特性に
合わせて、各ノズル27に対応する圧電素子41に印加
する電圧を調節する(ステップS5)。
Next, when the weight measurement timing comes (YES in step S2), the head unit 26 shown in FIG.
Is moved by the main scanning drive unit 19 to the position of the electronic balance 78 in FIG. 8 (step S3), and the amount of ink ejected from the nozzles 27 is measured using the electronic balance 78 (step S4). Then, the voltage applied to the piezoelectric element 41 corresponding to each nozzle 27 is adjusted according to the ink ejection characteristics of the nozzle 27 (step S5).

【0065】次に、クリーニングタイミングが到来すれ
ば(ステップS6でYES)、ヘッドユニット26を主
走査駆動装置19によってクリーニング装置77の所ま
で移動させて(ステップS7)、そのクリーニング装置
77によってインクジェットヘッド22をクリーニング
する(ステップS8)。
Next, when the cleaning timing comes (YES in step S6), the head unit 26 is moved to the cleaning device 77 by the main scanning drive device 19 (step S7), and the ink jet head is moved by the cleaning device 77. 22 is cleaned (step S8).

【0066】重量測定タイミングやクリーニングタイミ
ングが到来しない場合(ステップS2及びS6でN
O)、あるいはそれらの処理が終了した場合には、ステ
ップS9において、図8の基板供給装置23を作動させ
てマザー基板12をテーブル49へ供給する。具体的に
は、基板収容部57内のマザー基板12を吸着パッド6
4によって吸引保持し、次に、昇降軸61、第1アーム
62及び第2アーム63を移動させてマザー基板12を
テーブル49まで搬送し、さらにテーブル49の適所に
予め設けてある位置決めピン50(図9)に押し付け
る。なお、テーブル49上におけるマザー基板12の位
置ズレを防止するため、空気吸引等の手段によってマザ
ー基板12をテーブル49に固定することが望ましい。
When the weight measurement timing or the cleaning timing has not arrived (N in steps S2 and S6)
O) Or, when those processes are completed, the motherboard 12 is supplied to the table 49 by operating the substrate supply device 23 of FIG. Specifically, the mother substrate 12 in the substrate housing portion 57 is
Then, the mother substrate 12 is transported to the table 49 by moving the elevating shaft 61, the first arm 62, and the second arm 63, and the positioning pins 50 ( (Fig. 9). In order to prevent the mother substrate 12 from being displaced on the table 49, it is desirable to fix the mother substrate 12 to the table 49 by means such as air suction.

【0067】次に、図8の基板用カメラ82によってマ
ザー基板12を観察しながら、図9のθモータ51の出
力軸を微小角度単位で回転させることによりテーブル4
9を微小角度単位で面内回転させてマザー基板12を位
置決めする(ステップS10)。次に、図8のヘッド用
カメラ81によってマザー基板12を観察しながらイン
クジェットヘッド22によって描画を開始する位置を演
算によって決定し(ステップS11)、そして、主走査
駆動装置19及び副走査駆動装置21を適宜に作動させ
てインクジェットヘッド22を描画開始位置へ移動する
(ステップS12)。
Next, while observing the mother board 12 with the board camera 82 shown in FIG. 8, the output shaft of the θ motor 51 shown in FIG.
The mother substrate 12 is positioned by rotating the substrate 9 in a plane by a minute angle (step S10). Next, while observing the mother substrate 12 with the head camera 81 of FIG. 8, the position at which drawing is started by the inkjet head 22 is determined by calculation (step S11), and the main scanning drive device 19 and the sub-scanning drive device 21 are determined. Is operated to move the inkjet head 22 to the drawing start position (step S12).

【0068】このとき、インクジェットヘッド22は、
図1の(a)位置に示すように、ノズル列28がインク
ジェットヘッド22の副走査方向Yに対して角度θで傾
斜するように配設される。これは、通常のインクジェッ
ト装置の場合には、隣り合うノズル27の間の間隔であ
るノズル間ピッチと、隣り合うフィルタエレメント3す
なわちフィルタエレメント形成領域7の間の間隔である
エレメントピッチとが異なることが多く、インクジェッ
トヘッド22を主走査方向×へ移動させるときに、ノズ
ル間ピッチの副走査方向Yの寸法成分がエレメントピッ
チと幾何学的に等しくなるようにするための措置であ
る。
At this time, the ink jet head 22
As shown in the position (a) of FIG. 1, the nozzle row 28 is disposed so as to be inclined at an angle θ with respect to the sub-scanning direction Y of the inkjet head 22. This is because, in the case of a normal ink jet apparatus, the pitch between nozzles, which is the interval between adjacent nozzles 27, and the element pitch, which is the interval between adjacent filter elements 3, that is, the filter element formation region 7, are different. This is a measure to make the dimension component of the pitch between nozzles in the sub-scanning direction Y geometrically equal to the element pitch when the inkjet head 22 is moved in the main scanning direction x.

【0069】図15のステップS12でインクジェット
ヘッド22が描画開始位置に置かれると、図1において
インクジェットヘッド22は(a)位置に置かれる。そ
の後、図15のステップS13で主走査方向×への主走
査が開始され、同時にインクの吐出が開始される。具体
的には、図9の主走査駆動装置19が作動してインクジ
ェットヘッド22が図1の主走査方向×へ一定の速度で
直線的に走査移動し、その移動中、インクを供給すべき
フィルタエレメント領域7に対応するノズル27が到達
したときにそのノズル27からインクすなわちフィルタ
エレメント材料が吐出される。
When the inkjet head 22 is placed at the drawing start position in step S12 of FIG. 15, the inkjet head 22 is placed at the position (a) in FIG. Thereafter, in step S13 in FIG. 15, main scanning in the main scanning direction x is started, and at the same time, ink ejection is started. Specifically, the main scanning drive device 19 shown in FIG. 9 is operated to linearly scan and move the ink jet head 22 in the main scanning direction x shown in FIG. 1 at a constant speed. When the nozzle 27 corresponding to the element region 7 reaches, the ink, that is, the filter element material is ejected from the nozzle 27.

【0070】なお、このときのインク吐出量は、フィル
タエレメント領域7の容積全部を埋める量ではなく、そ
の全量の数分の1、本実施形態では全量の1/4の量で
ある。これは、後述するように、各フィルタエレメント
領域7はノズル27からの1回のインク吐出によって埋
められるのではなくて、数回のインク吐出の重ね吐出に
よって、本実施形態では4回の重ね吐出によって容積全
部を埋めることになっているからである。
The ink ejection amount at this time is not an amount that fills the entire volume of the filter element region 7, but is a fraction of the total amount, and in the present embodiment, an amount of 1/4 of the total amount. This is because, as will be described later, each filter element region 7 is not filled by one ink ejection from the nozzle 27, but by several ink ejections in this embodiment, and in this embodiment, four overlapping ejections. This is to fill the entire volume.

【0071】インクジェットヘッド22は、マザー基板
12に対する1ライン分の主走査が終了すると(ステッ
プS14でYES)、反転移動して初期位置(a)へ復
帰する(ステップS15)。そしてさらに、インクジェ
ットヘッド22は、副走査駆動装置21によって駆動さ
れて副走査方向Yへ予め決められた副走査量δだけ移動
する(ステップS16)。
When the main scanning for one line on the mother substrate 12 is completed (YES in step S14), the ink jet head 22 reversely moves to return to the initial position (a) (step S15). Further, the inkjet head 22 is driven by the sub-scanning driving device 21 and moves in the sub-scanning direction Y by a predetermined sub-scanning amount δ (step S16).

【0072】本実施形態では、CPU69は、図1にお
いてインクジェットヘッド22のノズル列28を形成す
る複数のノズル27を複数のグループnに概念的に分割
する。本実施形態ではn=4、すなわち180個のノズ
ル27から成る長さLのノズル列28を4つのグループ
に分割して考える。これにより、1つのノズルグループ
はノズル27を180/4=45個含む長さL/nすな
わちL/4に決められる。上記の副走査量δは上記のノ
ズルグループ長さL/4の副走査方向の長さ、すなわち
(L/4)cosθに設定される。
In the present embodiment, the CPU 69 conceptually divides the plurality of nozzles 27 forming the nozzle row 28 of the ink jet head 22 into a plurality of groups n in FIG. In this embodiment, it is considered that n = 4, that is, the nozzle row 28 having a length L including 180 nozzles 27 is divided into four groups. Thus, one nozzle group is determined to have a length L / n, ie, L / 4, including 180/4 = 45 nozzles 27. The sub-scanning amount δ is set to the length in the sub-scanning direction of the nozzle group length L / 4, that is, (L / 4) cos θ.

【0073】従って、1ライン分の主走査が終了して初
期位置(a)へ復帰したインクジェットヘッド22は図
1において副走査方向Yへ距離δだけ平行移動して位置
(b)へ移動する。なお、図1では位置(a)と位置
(b)とが主走査方向×に関して少しずれて描かれてい
るが、これは説明を分かり易くするための措置であり、
実際には、位置(a)と位置(b)は主走査方向×に関
しては同じ位置である。
Accordingly, the ink jet head 22 having returned to the initial position (a) after the main scanning for one line is completed moves in parallel in the sub-scanning direction Y by the distance δ to the position (b) in FIG. In FIG. 1, the position (a) and the position (b) are drawn slightly shifted with respect to the main scanning direction x, but this is a measure for making the description easier to understand.
Actually, the position (a) and the position (b) are the same position in the main scanning direction x.

【0074】位置(b)へ副走査移動したインクジェッ
トヘッド22は、ステップS13で主走査移動及びイン
ク吐出を繰り返して実行する。この主走査移動時には、
マザー基板12上におけるカラーフィルタ形成領域11
内の2列目のラインが先頭のノズルグループによって初
めてインク吐出を受けると共に、1列目のラインは先頭
から2番目のノズルグループによって2回目のインク吐
出を受ける。
The ink-jet head 22 that has moved to the position (b) in the sub-scanning direction repeatedly executes the main-scanning movement and the ink ejection in step S13. During this main scanning movement,
Color filter formation region 11 on mother substrate 12
The first line receives the ink discharge for the first time from the first nozzle group, and the second line receives the second ink discharge from the first nozzle group.

【0075】これ以降、インクジェットヘッド22は、
位置(c)〜位置(k)のように副走査移動を繰り返し
ながら主走査移動及びインク吐出を繰り返し(ステップ
S13〜ステップS16)、これにより、マザー基板1
2のカラーフィルタ形成領域11の1列分のインク付着
処理が完了する。本実施形態では、ノズル列28を4つ
のグループに分割して副走査量δを決定したので、上記
のカラーフィルタ形成領域11の1列分の主走査及び副
走査が終了すると、各フィルタエレメント領域7は4個
のノズルグループによってそれぞれ1回ずつ、合計で4
回のインク吐出処理を受けて、その全容積内に所定量の
インクすなわちフィルタエレメント材料が全量供給され
る。
Hereinafter, the ink jet head 22
The main scanning movement and the ink ejection are repeated while repeating the sub-scanning movement as in the position (c) to the position (k) (steps S13 to S16).
The ink adhering process for one row of the second color filter forming area 11 is completed. In the present embodiment, since the sub-scanning amount δ is determined by dividing the nozzle row 28 into four groups, when the main scanning and sub-scanning for one row of the color filter forming area 11 are completed, each filter element area 7 is once for each of the four nozzle groups, for a total of 4
After receiving the ink discharge process a plurality of times, a predetermined amount of ink, that is, the filter element material is supplied in its entire volume in its entire volume.

【0076】こうしてカラーフィルタ形成領域11の1
列分のインク吐出が完了すると、インクジェットヘッド
22は副走査駆動手段21によって駆動されて次列のカ
ラーフィルタ形成領域11の初期位置へ搬送され(ステ
ップS19)、そして当該列のカラーフィルタ形成領域
11に対して主走査、副走査及びインク吐出を繰り返し
てフィルタエレメント形成領域7内にフィルタエレメン
トを形成する(ステップS13〜S16)。
Thus, one of the color filter forming regions 11
When the ink discharge for the row is completed, the inkjet head 22 is driven by the sub-scanning drive unit 21 to be conveyed to the initial position of the color filter formation area 11 of the next row (step S19), and the color filter formation area 11 of the row The main scanning, sub-scanning and ink ejection are repeated to form a filter element in the filter element forming area 7 (steps S13 to S16).

【0077】その後、マザー基板12内の全てのカラー
フィルタ形成領域11に関してR,G,Bの1色、例え
ばR1色のフィルタエレメント3が形成されると(ステ
ップS18でYES)、ステップS20でマザー基板1
2を基板供給装置23によって、又は別の搬送機器によ
って、処理後のマザー基板12が外部へ排出される。そ
の後、オペレータによって処理終了の指示がなされない
限り(ステップS21でNO)、ステップS2へ戻って
別のマザー基板12に対するR1色に関するインク吐着
作業を繰り返して行う。
Thereafter, when the filter element 3 of one color of R, G, B, for example, R1 color is formed for all the color filter forming regions 11 in the mother substrate 12 (YES in step S18), the mother is formed in step S20. Substrate 1
The processed mother substrate 12 is discharged to the outside by the substrate supply device 23 or another transport device. Thereafter, as long as the operator does not give an instruction to end the process (NO in step S21), the process returns to step S2 to repeatedly perform the ink discharging operation for the R1 color on another mother substrate 12.

【0078】オペレータから作業終了の指示があると
(ステップS21でYES)、CPU69は図8におい
てインクジェットヘッド22をキャッピング装置76の
所まで搬送して、そのキャッピング装置76によってイ
ンクジェットヘッド22に対してキャッピング処理を施
す(ステップS22)。
When the operator gives an instruction to end the work (YES in step S21), the CPU 69 conveys the ink jet head 22 to the capping device 76 in FIG. 8, and the capping device 76 caps the ink jet head 22. Processing is performed (step S22).

【0079】以上により、カラーフィルタを構成する
R,G,B3色のうちの第1色、例えばR色についての
パターニングが終了し、その後、マザー基板12をR,
G,Bの第2色、例えばG色をフィルタエレメント材料
とするインクジェット装置16へ搬送してG色のパター
ニングを行い、さらに最終的にR,G,Bの第3色、例
えばB色をフィルタエレメント材料とするインクジェッ
ト装置16へ搬送してB色のパターニングを行う。これ
により、ストライプ配列等といった希望のR,G,Bの
ドット配列を有するカラーフィルタ1(図5(a))が
複数個形成されたマザー基板12が製造される。このマ
ザー基板12をカラーフィルタ領域11ごとに切断する
ことにより、1個のカラーフィルタ1が複数個切り出さ
れる。
As described above, the patterning of the first color, for example, the R color of the three colors R, G, and B constituting the color filter is completed.
The second color of G and B, for example, G is conveyed to the ink jet device 16 which uses G as a filter element material to perform patterning of G color, and finally, the third color of R, G and B, for example, B color is filtered. The material is conveyed to the ink jet device 16 as an element material, and is subjected to B color patterning. As a result, a mother substrate 12 on which a plurality of color filters 1 (FIG. 5A) having a desired R, G, B dot arrangement such as a stripe arrangement is formed. By cutting the mother substrate 12 for each color filter region 11, a plurality of one color filters 1 are cut out.

【0080】なお、本カラーフィルタ1を液晶装置のカ
ラー表示のために用いるものとすれば、本カラーフィル
タ1の表面にはさらに電極や配向膜等が積層されること
になる。そのような場合、電極や配向膜等を積層する前
にマザー基板12を切断して個々のカラーフィルタ1を
切り出してしまうと、その後の電極等の形成工程が非常
に面倒になる。よって、そのような場合には、マザー基
板12上でカラーフィルタ1が完成した後に、直ぐにマ
ザー基板12を切断してしまうのではなく、電極形成や
配向膜形成等といった必要な付加工程が終了した後にマ
ザー基板12を切断することが望ましい。
If the present color filter 1 is used for color display of a liquid crystal device, an electrode, an alignment film and the like are further laminated on the surface of the present color filter 1. In such a case, if the mother substrate 12 is cut and the individual color filters 1 are cut out before laminating the electrodes and the alignment films, the subsequent steps of forming the electrodes and the like become very troublesome. Therefore, in such a case, after the color filter 1 is completed on the mother substrate 12, the necessary additional processes such as electrode formation and alignment film formation are completed, instead of cutting the mother substrate 12 immediately. It is desirable to cut the mother substrate 12 later.

【0081】以上のように、本実施形態に係るカラーフ
ィルタの製造方法及び製造装置によれば、図5(a)に
示すカラーフィルタ1内の個々のフィルタエレメント3
はインクジェットヘッド22(図1参照)の1回の主走
査×によって形成されるのではなくて、各1個のフィル
タエレメント3は異なるノズルグループに属する複数の
ノズル27によってn回、本実施形態では4回、重ねて
インク吐出を受けることにより所定の膜厚に形成され
る。このため、仮に複数のノズル27間においてインク
吐出量にバラツキが存在する場合でも、複数のフィルタ
エレメント3間で膜厚にバラツキが生じることを防止で
き、それ故、カラーフィルタの光透過特性を平面的に均
一にすることができる。
As described above, according to the method and the apparatus for manufacturing a color filter according to the present embodiment, each filter element 3 in the color filter 1 shown in FIG.
Is not formed by one main scan x of the inkjet head 22 (see FIG. 1), but each one filter element 3 is n times by a plurality of nozzles 27 belonging to different nozzle groups, in this embodiment. A predetermined film thickness is formed by receiving ink ejection four times in a superimposed manner. For this reason, even if the ink ejection amount varies among the plurality of nozzles 27, it is possible to prevent the film thickness from varying among the plurality of filter elements 3, and therefore, the light transmission characteristics of the color filter can be reduced. Can be uniformly uniform.

【0082】もちろん、本実施形態の製造方法では、イ
ンクジェットヘッド22を用いたインク吐出によってフ
ィルタエレメント3を形成するので、フォトリソグラフ
ィー法を用いる方法のような複雑な工程を経る必要も無
く、また、材料を浪費することも無い。
Of course, in the manufacturing method of the present embodiment, since the filter element 3 is formed by ink ejection using the ink jet head 22, there is no need to go through a complicated process such as a method using a photolithography method. No waste of material.

【0083】ところで、インクジェットヘッド22のノ
ズル列28を形成する複数のノズル27のインク吐出量
の分布が不均一になることは図23(a)に関連して説
明した通りである。また、特にノズル列28の両端部に
存在する数個、例えば片端側10個ずつ、のノズル27
が特にインク吐出量が大きくなることも記述の通りであ
る。このようにインク吐出量が他のノズルに比べて特に
多いノズルを使用することは、インク吐膜すなわちフィ
ルタエレメントの膜厚を均一にすることに関して好まし
くない。
As described with reference to FIG. 23A, the distribution of the ink ejection amount of the plurality of nozzles 27 forming the nozzle row 28 of the ink jet head 22 becomes non-uniform. In addition, in particular, several nozzles 27 at both ends of the nozzle row 28, for example,
However, as described above, the ink ejection amount is particularly large. It is not preferable to use a nozzle having a particularly large ink ejection amount as compared with other nozzles in terms of making the ink ejection film, that is, the filter element, uniform in film thickness.

【0084】従って、望ましくは、図13に示すよう
に、ノズル列28を形成する複数のノズル27のうちノ
ズル列28の両端部Eに存在する数個、例えば10個程
度は予めインクを吐出しないものと設定しておき、残り
の部分Fに存在するノズル27を複数、例えば4個のグ
ループに分割して、そのノズルグループ単位で副走査移
動を行うことが良い。
Therefore, preferably, as shown in FIG. 13, several of the plurality of nozzles 27 forming the nozzle array 28, for example, about 10 nozzles existing at both ends E of the nozzle array 28 do not eject ink in advance. Preferably, the nozzles 27 in the remaining portion F are divided into a plurality of groups, for example, four groups, and the sub-scanning movement is performed for each nozzle group.

【0085】本第1実施形態においては、隔壁6として
透光性のない樹脂材料を用いたが、透隔壁6として透光
性の樹脂材料を用いることももちろん可能である。その
場合にあっては、フィルタエレメント間に対応する位
置、例えば隔壁6の上、隔壁6の下等に別途遮光性の金
属膜或いは樹脂材料を設けてブラックマスクとしてもよ
い。また、透光性の樹脂材料で隔壁6を形成し、ブラッ
クマスクを設けない構成としてもよい。
In the first embodiment, a non-light-transmitting resin material is used for the partition 6, but a light-transmitting resin material may be used for the partition 6. In that case, a black mask may be formed by separately providing a light-shielding metal film or a resin material at a position corresponding to between the filter elements, for example, above the partition 6, below the partition 6, or the like. Alternatively, the partition wall 6 may be formed of a translucent resin material without a black mask.

【0086】また本第1実施形態においては、フィルタ
エレメントとしてR,G、Bを用いたがもちろん、R,
G.Bに限定されることはなく、例えばC(シアン),
M(マゼンダ),Y(イエロー)を採用してもかまわな
い。その場合にあっては、R,G,Bのフィルタエレメ
ント材料、に変えて、C,M、Yの色を有するフィルタ
エレメント材料を用いればよい。
In the first embodiment, R, G, and B are used as the filter elements.
G. FIG. It is not limited to B, for example, C (cyan),
M (magenta) and Y (yellow) may be adopted. In that case, filter element materials having C, M, and Y colors may be used instead of the R, G, and B filter element materials.

【0087】また、本第1実施形態においては、隔壁6
をフォトリソグラフィーによって形成したが、カラーフ
ィルタ同様にインクジェット法により隔壁6を形成する
ことも可能である。
In the first embodiment, the partition 6
Was formed by photolithography, but it is also possible to form the partition 6 by an ink-jet method as in the case of a color filter.

【0088】(第2実施形態)図2は、本発明に係るカ
ラーフィルタの製造方法及び製造装置の他の実施形態に
よってインクジェットヘッド22を用いてマザー基板1
2内のカラーフィルタ形成領域11内の各フィルタエレ
メント形成領域7へインクすなわちフィルタエレメント
材料を吐出によって供給する場合を模式的に示してい
る。
(Second Embodiment) FIG. 2 shows another embodiment of a method and an apparatus for manufacturing a color filter according to the present invention.
2 schematically shows a case in which ink, that is, a filter element material is supplied to each filter element forming region 7 in a color filter forming region 11 in a discharge 2 by discharging.

【0089】本実施形態によって実施される概略の工程
は図6に示した工程と同じであり、インク吐着のために
用いるインクジェット装置も図8に示した装置と機構的
には同じである。また、図14のCPU69がノズル列
28を形成する複数のノズル27を概念的にn個、例え
ば4つにグループ分けして、各ノズルグループの長さL
/n又はL/4に対応させて副走査量δを決定すること
も図1の場合と同じである。
The general steps performed by this embodiment are the same as those shown in FIG. 6, and the ink jet apparatus used for discharging ink is mechanically the same as the apparatus shown in FIG. Further, the CPU 69 in FIG. 14 conceptually divides the plurality of nozzles 27 forming the nozzle row 28 into n, for example, four groups, and sets the length L of each nozzle group.
The determination of the sub-scanning amount δ corresponding to / n or L / 4 is the same as in the case of FIG.

【0090】本実施形態が図1に示した先の実施形態と
異なる点は、図14においてメモリ71内に格納したプ
ログラムソフトに改変を加えたことであり、具体的には
CPU69によって行う主走査制御演算と副走査制御演
算に改変を加えたことである。
The present embodiment differs from the previous embodiment shown in FIG. 1 in that the program software stored in the memory 71 in FIG. 14 is modified. That is, the control operation and the sub-scanning control operation have been modified.

【0091】より具体的に説明すれば、図2において、
インクジェットヘッド22は主走査方向×への走査移動
の終了後に初期位置へ復帰移動することなく、1方向へ
の主走査移動の終了後に直ぐに副走査方向へノズルグル
ープ1個分に相当する移動量δだけ移動して位置(b)
へ移動した後、主走査方向×の上記1方向の反対方向へ
走査移動を行って初期位置(a)から副走査方向へ距離
δだけずれた位置(b')へ戻るように制御される。な
お、位置(a)から位置(b)までの主走査の間及び位
置(b)から位置(b')への主走査移動の間の両方の
期間において複数のノズル27から選択的にインクが吐
出されることはもちろんである。
More specifically, in FIG.
The inkjet head 22 does not return to the initial position after the end of the scanning movement in the main scanning direction x, and immediately after the end of the main scanning movement in one direction, the movement amount δ corresponding to one nozzle group in the sub-scanning direction. Just move to position (b)
Then, scanning is performed in the direction opposite to the one direction of the main scanning direction x, and control is performed so as to return to the position (b ') shifted from the initial position (a) by the distance δ in the sub-scanning direction. In addition, during the main scanning from the position (a) to the position (b) and during the main scanning movement from the position (b) to the position (b ′), ink is selectively supplied from the plurality of nozzles 27 during both periods. Of course, it is discharged.

【0092】つまり、本実施形態ではインクジェットヘ
ッド22の主走査及び副走査が復帰動作を挟むことなく
連続して交互に行われるものであり、これにより、復帰
動作のために費やされた時間を省略して作業時間を短縮
化できる。
That is, in the present embodiment, the main scanning and the sub-scanning of the ink jet head 22 are performed alternately and continuously without interposing the return operation, thereby reducing the time spent for the return operation. Omitting it can shorten the work time.

【0093】(第3実施形態)図3は、本発明に係るカ
ラーフィルタの製造方法及び製造装置の他の実施形態に
よってインクジェットヘッド22を用いてマザー基板1
2内のカラーフィルタ形成領域11内の各フィルタエレ
メント形成領域7へインクすなわちフィルタエレメント
材料を吐出によって供給する場合を模式的に示してい
る。
(Third Embodiment) FIG. 3 shows another embodiment of a method and apparatus for manufacturing a color filter according to the present invention.
2 schematically shows a case in which ink, that is, a filter element material is supplied to each filter element forming region 7 in a color filter forming region 11 in a discharge 2 by discharging.

【0094】本実施形態によって実施される概略の工程
は図6に示した工程と同じであり、インク吐着のために
用いるインクジェット装置も図8に示した装置と機構的
には同じである。また、図14のCPU69がノズル列
28を形成する複数のノズル27を概念的にn個、例え
ば4つにグループ分けすることも図1の場合と同じであ
る。
The general steps performed by this embodiment are the same as the steps shown in FIG. 6, and the ink jet apparatus used for discharging ink is mechanically the same as the apparatus shown in FIG. Also, the CPU 69 in FIG. 14 conceptually divides the plurality of nozzles 27 forming the nozzle row 28 into n groups, for example, four, as in the case of FIG.

【0095】本実施形態が図1に示した先の実施形態と
異なる点は、図15のステップS12でインクジェット
ヘッド22をマザー基板12の描画開始位置にセットし
たとき、そのインクジェットヘッド22は図3の(a)
位置に示すように、ノズル列28の延びる方向が副走査
方向Yと平行である点である。このようなノズルの配列
構造は、インクジェットヘッド22に関するノズル間ピ
ッチとマザー基板12に関するエレメント間ピッチとが
等しい場合に有利な構造である。
This embodiment is different from the previous embodiment shown in FIG. 1 in that when the inkjet head 22 is set at the drawing start position on the mother substrate 12 in step S12 in FIG. (A)
As shown in the position, the extending direction of the nozzle row 28 is parallel to the sub-scanning direction Y. Such a nozzle arrangement structure is advantageous when the pitch between the nozzles of the inkjet head 22 and the pitch between the elements of the motherboard 12 are equal.

【0096】この実施形態においても、インクジェット
ヘッド22は初期位置(a)から終端位置(k)に至る
まで、主走査方向×への走査移動、初期位置への復帰移
動及び副走査方向Yへの移動量δでの副走査移動を繰り
返しながら、主走査移動の期間中に複数のノズル27か
ら選択的にインクすなわちフィルタエレメント材料を吐
出し、これにより、マザー基板12内のカラーフィルタ
形成領域11内のフィルタエレメント形成領域7内へフ
ィルタエレメント材料を付着させる。
Also in this embodiment, the inkjet head 22 moves from the initial position (a) to the end position (k) in the main scanning direction x, moves back to the initial position, and moves in the sub-scanning direction Y. While repeating the sub-scanning movement with the moving amount δ, ink, that is, the filter element material is selectively ejected from the plurality of nozzles 27 during the main scanning movement, whereby the color filter forming region 11 in the mother substrate 12 The filter element material is adhered into the filter element forming region 7 of FIG.

【0097】なお、本実施形態では、ノズル列28が副
走査方向Yに対して平行に位置設定されるので、副走査
移動量δは分割されたノズルグループの長さL/nすな
わちL/4と等しく設定される。
In this embodiment, since the nozzle row 28 is positioned parallel to the sub-scanning direction Y, the sub-scanning movement amount δ is equal to the length L / n of the divided nozzle group, ie, L / 4. Is set equal to

【0098】(第4実施形態)図4は、本発明に係るカ
ラーフィルタの製造方法及び製造装置の他の実施形態に
よってインクジェットヘッド22を用いてマザー基板1
2内のカラーフィルタ形成領域11内の各フィルタエレ
メント形成領域7へインクすなわちフィルタエレメント
材料を吐出によって供給する場合を模式的に示してい
る。
(Fourth Embodiment) FIG. 4 shows another embodiment of a method and an apparatus for manufacturing a color filter according to the present invention.
2 schematically shows a case in which ink, that is, a filter element material is supplied to each filter element forming region 7 in a color filter forming region 11 in a discharge 2 by discharging.

【0099】本実施形態によって実施される概略の工程
は図6に示した工程と同じであり、インク吐着のために
用いるインクジェット装置も図8に示した装置と機構的
には同じである。また、図14のCPU69がノズル列
28を形成する複数のノズル27を概念的にn個,例え
ば4つにグループ分けすることも図1の場合と同じであ
る。
The general steps performed by this embodiment are the same as those shown in FIG. 6, and the ink jet apparatus used for discharging ink is mechanically the same as the apparatus shown in FIG. Also, the CPU 69 of FIG. 14 conceptually divides the plurality of nozzles 27 forming the nozzle row 28 into n groups, for example, four groups, as in the case of FIG.

【0100】本実施形態が図1に示した先の実施形態と
異なる点は、図15のステップS12でインクジェット
ヘッド22をマザー基板12の描画開始位置にセットし
たとき、そのインクジェットヘッド22は図4(a)に
示すように、ノズル列28の延びる方向が副走査方向Y
と平行である点と、図2の実施形態の場合と同様にイン
クジェットヘッド22の主走査及び副走査が復帰動作を
挟むことなく連続して交互に行われる点である。
This embodiment is different from the previous embodiment shown in FIG. 1 in that when the ink jet head 22 is set at the drawing start position on the mother substrate 12 in step S12 in FIG. As shown in (a), the direction in which the nozzle row 28 extends is the sub-scanning direction Y.
2 in that the main scanning and the sub-scanning of the inkjet head 22 are performed continuously and alternately without interposing a return operation, as in the embodiment of FIG.

【0101】なお、図4に示す本実施形態及び図3に示
す先の実施形態では、主走査方向×がノズル列28に対
して直角の方向となるので、ノズル列28を図11に示
すように主走査方向×に沿って2列設けることにより、
同じ主走査ラインに載った2つのノズル27によって1
つのフィルタエレメント領域7にフィルタエレメント材
料を供給することができる。
In the present embodiment shown in FIG. 4 and the previous embodiment shown in FIG. 3, since the main scanning direction x is a direction perpendicular to the nozzle row 28, the nozzle row 28 is formed as shown in FIG. By providing two rows along the main scanning direction x
The two nozzles 27 on the same main scanning line cause 1
One filter element region 7 can be supplied with filter element material.

【0102】(第5実施形態)図16は、本発明に係る
カラーフィルタの製造方法及び製造装置のさらに他の実
施形態に用いられるインクジェットヘッド22Aを示し
ている。このインクジェットヘッド22Aが図10に示
すインクジェットヘッド22と異なる点は、R色インク
を吐出するノズル列28Rと、G色インクを吐出するノ
ズル列28Gと、B色インクを吐出するノズル列28B
といった3種類のノズル列を1個のインクジェットヘッ
ド22Aに形成し、それら3種類のそれぞれに図12
(a)及び図12(b)に示したインク吐出系を設け、
R色ノズル列28Rに対応するインク吐出系にはRイン
ク供給装置37Rを接続し、G色ノズル列28Gに対応
するインク吐出系にはGインク供給装置37Gを接続
し、そしてB色ノズル列28Bに対応するインク吐出系
にはBインク供給装置37Bを接続したことである。
(Fifth Embodiment) FIG. 16 shows an ink jet head 22A used in still another embodiment of a method and an apparatus for manufacturing a color filter according to the present invention. This ink jet head 22A is different from the ink jet head 22 shown in FIG. 10 in that a nozzle row 28R for discharging R color ink, a nozzle row 28G for discharging G color ink, and a nozzle row 28B for discharging B color ink.
12 are formed in one inkjet head 22A, and each of the three types is shown in FIG.
(A) and the ink ejection system shown in FIG.
An R ink supply device 37R is connected to the ink ejection system corresponding to the R nozzle row 28R, a G ink supply device 37G is connected to the ink ejection system corresponding to the G nozzle row 28G, and the B nozzle row 28B Is connected to a B ink supply device 37B.

【0103】本実施形態によって実施される概略の工程
は図6に示した工程と同じであり、インク吐着のために
用いるインクジェット装置も基本的には図8に示した装
置と同じである。また、図14のCPU69がノズル列
28R,28G,28Bを形成する複数のノズル27を
概念的にn個、例えば4つにグループ分けして、それら
のノズルグループごとにインクジェットヘッド22Aを
副走査移動量δで副走査移動させることも図1の場合と
同じである。
The outline steps performed by the present embodiment are the same as those shown in FIG. 6, and the ink jet apparatus used for discharging ink is basically the same as the apparatus shown in FIG. Further, the CPU 69 in FIG. 14 conceptually divides the plurality of nozzles 27 forming the nozzle rows 28R, 28G, 28B into n groups, for example, four groups, and moves the inkjet head 22A in the sub-scanning direction for each of those nozzle groups. The sub-scanning movement by the amount δ is the same as in FIG.

【0104】図1に示した実施形態では、インクジェッ
トヘッド22に1種類のノズル列28が設けられるだけ
であったので、R,G,B3色によってカラーフィルタ
を形成する際には図8に示したインクジェットヘッド2
2がR,G,Bの3色それぞれについて準備されていな
ければならなかった。これに対し、図16に示す構造の
インクジェットヘッド22Aを使用する場合には、イン
クジェットヘッド22Aの主走査方向×への1回の主走
査によってR,G,Bの3色を同時にマザー基板12へ
付着させることができるので、インクジェットヘッド2
2は1つだけ準備しておけば足りる。また、各色のノズ
ル列間隔をマザー基板のフィルタエレメント領域のピッ
チに合わせることにより、RGB3色の同時打ちが可能
となる。
In the embodiment shown in FIG. 1, only one type of nozzle row 28 is provided in the ink jet head 22, so that when a color filter is formed by three colors of R, G and B, it is shown in FIG. Inkjet head 2
2 had to be prepared for each of the three colors R, G and B. On the other hand, when the inkjet head 22A having the structure shown in FIG. 16 is used, three colors of R, G, and B are simultaneously applied to the mother substrate 12 by one main scan in the main scan direction x of the inkjet head 22A. The ink-jet head 2 can be attached.
You only need to prepare one for 2. Further, by adjusting the nozzle row interval of each color to the pitch of the filter element area of the mother substrate, it is possible to simultaneously strike three colors of RGB.

【0105】(第6実施形態)図17は、本発明に係る
液晶装置の製造方法の一実施形態を示している。また、
図18はその製造方法によって製造される液晶装置の一
実施形態を示している。また、図19は図18における
I×−I×線に従った液晶装置の断面構造を示してい
る。液晶装置の製造方法及び製造装置の説明に先立っ
て、まず、その製造方法によって製造される液晶装置を
その一例を挙げて説明する。なお、本実施形態の液晶装
置は、単純マトリクス方式でフルカラー表示を行う半透
過反射方式の液晶装置である。
(Sixth Embodiment) FIG. 17 shows an embodiment of a method for manufacturing a liquid crystal device according to the present invention. Also,
FIG. 18 shows an embodiment of a liquid crystal device manufactured by the manufacturing method. FIG. 19 shows a cross-sectional structure of the liquid crystal device according to the line Ix-Ix in FIG. Prior to description of a method and an apparatus for manufacturing a liquid crystal device, first, a liquid crystal device manufactured by the manufacturing method will be described with reference to an example. The liquid crystal device of the present embodiment is a transflective liquid crystal device that performs full-color display by a simple matrix method.

【0106】図18において、液晶装置101は、液晶
パネル102に半導体チップとしての液晶駆動用IC1
03a及び103bを実装し、配線接続要素としてのF
PC(Flexible Printed Circuit)104を液晶パネ
ル102に接続し、さらに液晶パネル102の裏面側に
照明装置106をバックライトとして設けることによっ
て形成される。
In FIG. 18, a liquid crystal device 101 includes a liquid crystal driving IC 1 as a semiconductor chip on a liquid crystal panel 102.
03a and 103b are mounted, and F
It is formed by connecting a PC (Flexible Printed Circuit) 104 to the liquid crystal panel 102 and further providing an illumination device 106 as a backlight on the back side of the liquid crystal panel 102.

【0107】液晶パネル102は、第1基板107aと
第2基板107bとをシール材108によって貼り合わ
せることによって形成される。シール材108は、例え
ば、スクリーン印刷等によってエポキシ系樹脂を第1基
板107a又は第2基板107bの内側表面に環状に付
着させることによって形成される。また、シール材10
8の内部には図19に示すように、導電性材料によって
球状又は円筒状に形成された導通材109が分散状態で
含まれる。
The liquid crystal panel 102 is formed by bonding a first substrate 107a and a second substrate 107b with a sealing material. The sealing material 108 is formed by, for example, attaching an epoxy resin in an annular shape to the inner surface of the first substrate 107a or the second substrate 107b by screen printing or the like. In addition, the sealing material 10
As shown in FIG. 19, a conductive material 109 formed in a spherical or cylindrical shape by a conductive material is included in the inside of the conductor 8 in a dispersed state.

【0108】図19において、第1基板107aは透明
なガラスや、透明なプラスチック等によって形成された
板状の基材111aを有する。この基材111aの内側
表面(図19の上側表面)には反射膜112が形成さ
れ、その上に絶縁膜113が積層され、その上に第1電
極114aが矢印D方向から見てストライプ状(図18
参照)に形成され、さらにその上に配向膜116aが形
成される。また、基材111aの外側表面(図19の下
側表面)には偏光板117aが貼着等によって装着され
る。
In FIG. 19, the first substrate 107a has a plate-like base member 111a made of transparent glass, transparent plastic, or the like. A reflective film 112 is formed on the inner surface (upper surface in FIG. 19) of the base material 111a, an insulating film 113 is laminated thereon, and a first electrode 114a is formed on the reflective film 112 in a stripe shape (see FIG. 19). FIG.
), And an alignment film 116a is further formed thereon. Further, a polarizing plate 117a is attached to the outer surface (the lower surface in FIG. 19) of the base material 111a by sticking or the like.

【0109】図18では第1電極114aの配列を分か
り易く示すために、それらのストライプ間隔を実際より
も大幅に広く描いており、よって、第1電極114aの
本数が少なく描かれているが、実際には、第1電極11
4aはより多数本が基材111a上に形成される。
In FIG. 18, in order to clearly show the arrangement of the first electrodes 114a, the spacing between the stripes of the first electrodes 114a is drawn much wider than the actual one. Therefore, the number of the first electrodes 114a is reduced. In practice, the first electrode 11
As for 4a, a larger number are formed on the base material 111a.

【0110】図19において、第2基板107bは透明
なガラスや、透明なプラスチック等によって形成された
板状の基材111bを有する。この基材111bの内側
表面(図19の下側表面)にはカラーフィルタ118が
形成され、その上に第2電極114bが上記第1電極1
14aと直交する方向へ矢印D方向から見てストライプ
状(図18参照)に形成され、さらにその上に配向膜1
16bが形成される。また、基材111bの外側表面
(図19の上側表面)には偏光板117bが貼着等によ
って装着される。
In FIG. 19, the second substrate 107b has a plate-like substrate 111b made of transparent glass, transparent plastic, or the like. A color filter 118 is formed on the inner surface (the lower surface in FIG. 19) of the base material 111b, and the second electrode 114b is provided thereon with the first electrode 1b.
14a, is formed in a stripe shape (see FIG. 18) in the direction perpendicular to the direction of arrow D when viewed from the direction of arrow D, and furthermore the alignment film 1
16b are formed. Further, a polarizing plate 117b is attached to the outer surface (upper surface in FIG. 19) of the base material 111b by bonding or the like.

【0111】図18では、第2電極114bの配列を分
かりやすく示すために、第1電極114aの場合と同様
に、それらのストライプ間隔を実際よりも大幅に広く描
いており、よって、第2電極114bの本数が少なく描
かれているが、実際には、第2電極114bはより多数
本が基材111b上に形成される。
In FIG. 18, in order to clearly show the arrangement of the second electrodes 114b, as in the case of the first electrodes 114a, the spacing between the stripes is drawn much wider than the actual one. Although the number of the second electrodes 114b is small, in practice, a larger number of the second electrodes 114b are formed on the base material 111b.

【0112】図19において、第1基板107a、第2
基板107b及びシール材108によって囲まれる間
隙、いわゆるセルギャップ内には液晶、例えばSTN
(SuperTwisted Nematic)液晶Lが封入されている。第
1基板107a又は第2基板107bの内側表面には微
小で球形のスペーサ119が多数分散され、これらのス
ペーサ119がセルギャップ内に存在することによりそ
のセルギャップの厚さが均一に維持される。
In FIG. 19, the first substrate 107a and the second
In a gap surrounded by the substrate 107b and the sealing material 108, a so-called cell gap, a liquid crystal such as STN
(SuperTwisted Nematic) Liquid crystal L is sealed. A large number of minute and spherical spacers 119 are dispersed on the inner surface of the first substrate 107a or the second substrate 107b, and the thickness of the cell gap is kept uniform by the presence of these spacers 119 in the cell gap. .

【0113】第1電極114aと第2電極114bは互
いに直交関係に配置され、それらの交差点は図19の矢
印D方向から見てドット・マトリクス状に配列する。そ
して、そのドット・マトリクス状の各交差点が1つの絵
素ピクセルを構成する。カラーフィルタ118は、R
(赤)、G(緑)、B(青)の各色要素を矢印D方向か
ら見て所定のパターン、例えば、ストライプ配列、デル
タ配列、モザイク配列等のパターンで配列させることに
よって形成されている。上記の1つの絵素ピクセルはそ
れらR,G,Bの各1つずつに対応しており、そして
R,G,Bの3色絵素ピクセルが1つのユニットになっ
て1画素が構成される。
The first electrode 114a and the second electrode 114b are arranged orthogonally to each other, and their intersections are arranged in a dot matrix when viewed from the direction of arrow D in FIG. Then, each intersection in the dot matrix forms one picture element pixel. The color filter 118
It is formed by arranging each color element of (red), G (green), and B (blue) in a predetermined pattern as viewed in the direction of arrow D, for example, a pattern such as a stripe arrangement, a delta arrangement, and a mosaic arrangement. The one picture element pixel corresponds to each of R, G, and B, and the three-color picture element pixels of R, G, and B form one unit to constitute one pixel.

【0114】ドット・マトリクス状に配列される複数の
絵素ピクセル、従って画素、を選択的に発光させること
により、液晶パネル102の第2基板107bの外側に
文字、数字等といった像が表示される。このようにして
像が表示される領域が有効画素領域であり、図18及び
図19において矢印Vによって示される平面的な矩形領
域が有効表示領域となっている。
By selectively emitting light from a plurality of picture element pixels arranged in a dot matrix, that is, pixels, an image such as a character or a number is displayed on the outside of the second substrate 107b of the liquid crystal panel 102. . The area in which an image is displayed in this way is an effective pixel area, and the planar rectangular area indicated by an arrow V in FIGS. 18 and 19 is an effective display area.

【0115】図19において、反射膜112はAPC合
金、Al(アルミニウム)等といった光反射性材料によ
って形成され、第1電極114aと第2電極114bと
の交差点である各絵素ピクセルに対応する位置に開口1
21が形成されている。結果的に、開口121は図19
の矢印D方向から見て、絵素ピクセルと同じドット・マ
トリクス状に配列されている。
In FIG. 19, a reflection film 112 is formed of a light-reflective material such as an APC alloy or Al (aluminum), and is located at a position corresponding to each pixel, which is an intersection between the first electrode 114a and the second electrode 114b. Opening 1
21 are formed. As a result, the opening 121 is
, Are arranged in the same dot matrix as the picture element pixels.

【0116】第1電極114a及び第2電極114b
は、例えば、透明導電材であるITOによって形成され
る。また、配向膜116a及び116bは、ポリイミド
系樹脂を一様な厚さの膜状に付着させることによって形
成される。これらの配向膜116a及び116bがラビ
ング処理を受けることにより、第1基板107a及び第
2基板107bの表面上における液晶分子の初期配向が
決定される。
The first electrode 114a and the second electrode 114b
Is formed of, for example, ITO which is a transparent conductive material. The alignment films 116a and 116b are formed by attaching a polyimide resin to a film having a uniform thickness. By subjecting these alignment films 116a and 116b to the rubbing treatment, the initial alignment of the liquid crystal molecules on the surfaces of the first substrate 107a and the second substrate 107b is determined.

【0117】図18において、第1基板107aは第2
基板107bよりも広い面積に形成されており、これら
の基板をシール材108によって貼り合わせたとき、第
1基板107aは第2基板107bの外側へ張り出す基
板張出し部107cを有する。そして、この基板張出し
部107cには、第1電極114aから延び出る引出し
配線114c、シール材108の内部に存在する導通材
109(図19参照)を介して第2基板107b上の第
2電極114bと導通する引出し配線114d、液晶駆
動用IC103aの入力用バンプ、すなわち入力用端子
に接続される金属配線114e、そして液晶駆動用IC
103bの入力用バンプに接続される金属配線114f
等といった各種の配線が適切なパターンで形成される。
In FIG. 18, the first substrate 107a is
The first substrate 107a has a larger area than the substrate 107b, and the first substrate 107a has a substrate overhang portion 107c that extends outside the second substrate 107b when these substrates are bonded to each other with the sealant 108. The substrate extension 107c is connected to the second electrode 114b on the second substrate 107b via a lead wire 114c extending from the first electrode 114a and a conductive material 109 (see FIG. 19) existing inside the seal member. A wiring 114d that is electrically connected to the IC, a bump for input of the liquid crystal driving IC 103a, that is, a metal wiring 114e connected to an input terminal, and a liquid crystal driving IC.
Metal wiring 114f connected to input bump 103b
And the like are formed in an appropriate pattern.

【0118】本実施形態では、第1電極114aから延
びる引出し配線114c及び第2電極114bに導通す
る引出し配線114dはそれらの電極と同じ材料である
ITO、すなわち導電性酸化物によって形成される。ま
た、液晶駆動用IC103a及び103bの入力側の配
線である金属配線114e及び114fは電気抵抗値の
低い金属材料、例えばAPC合金によって形成される。
APC合金は、主としてAgを含み、付随してPd及び
Cuを含む合金、例えば、Ag98%、Pd1%、Cu
1%から成る合金である。
In this embodiment, the lead wiring 114c extending from the first electrode 114a and the lead wiring 114d conducting to the second electrode 114b are formed of ITO, that is, a conductive oxide, which is the same material as those electrodes. The metal wires 114e and 114f, which are wires on the input side of the liquid crystal driving ICs 103a and 103b, are formed of a metal material having a low electric resistance value, for example, an APC alloy.
APC alloys are alloys that mainly contain Ag and concomitantly contain Pd and Cu, for example, 98% Ag, 1% Pd, Cu
1% alloy.

【0119】液晶駆動用IC103a及び液晶駆動用I
C103bは、ACF(Anisotropic Conductive Fil
m:異方性導電膜)122によって基板張出し部107
cの表面に接着されて実装される。すなわち、本実施形
態では基板上に半導体チップが直接に実装される構造
の、いわゆるCOG(Chip On Glass)方式の液晶パネ
ルとして形成されている。このCOG方式の実装構造に
おいては、ACF122の内部に含まれる導電粒子によ
って、液晶駆動用IC103a及び103bの入力側バ
ンプと金属配線114e及び114fとが導電接続さ
れ、液晶駆動用IC103a及び103bの出力側バン
プと引出し配線114c及び114dとが導電接続され
る。
Liquid crystal driving IC 103a and liquid crystal driving IC
C103b is an ACF (Anisotropic Conductive Fil)
m: anisotropic conductive film) 122
It is mounted by being adhered to the surface of c. That is, in the present embodiment, a so-called COG (Chip On Glass) liquid crystal panel having a structure in which a semiconductor chip is directly mounted on a substrate is formed. In this COG type mounting structure, the input side bumps of the liquid crystal driving ICs 103a and 103b and the metal wirings 114e and 114f are conductively connected by the conductive particles contained in the ACF 122, and the output side of the liquid crystal driving ICs 103a and 103b. The bumps and the lead wirings 114c and 114d are conductively connected.

【0120】図18において、FPC104は、可撓性
の樹脂フィルム123と、チップ部品124を含んで構
成された回路126と、金属配線端子127とを有す
る。回路126は樹脂フィルム123の表面に半田付け
その他の導電接続手法によって直接に搭載される。ま
た、金属配線端子127はAPC合金、Cr、Cuその
他の導電材料によって形成される。FPC104のうち
金属配線端子127が形成された部分は、第1基板10
7aのうち金属配線114e及び金属配線114fが形
成された部分にACF122によって接続される。そし
て、ACF122の内部に含まれる導電粒子の働きによ
り、基板側の金属配線114e及び114fとFPC側
の金属配線端子127とが導通する。
In FIG. 18, the FPC 104 has a flexible resin film 123, a circuit 126 including a chip part 124, and a metal wiring terminal 127. The circuit 126 is directly mounted on the surface of the resin film 123 by soldering or another conductive connection method. The metal wiring terminals 127 are formed of an APC alloy, Cr, Cu, or another conductive material. The portion of the FPC 104 where the metal wiring terminals 127 are formed is the first substrate 10
The ACF 122 is connected to a portion of the wiring 7a where the metal wiring 114e and the metal wiring 114f are formed. Then, due to the function of the conductive particles contained in the ACF 122, the metal wirings 114e and 114f on the substrate side and the metal wiring terminal 127 on the FPC side are conducted.

【0121】FPC104の反対側の辺端部には外部接
続端子131が形成され、この外部接続端子131が図
示しない外部回路に接続される。そして、この外部回路
から伝送される信号に基づいて液晶駆動用IC103a
及び103bが駆動され、第1電極114a及び第2電
極114bの一方に走査信号が供給され、他方にデータ
信号が供給される。これにより、有効表示領域V内に配
列されたドット・マトリクス状の絵素ピクセルが個々の
ピクセルごとに電圧制御され、その結果、液晶Lの配向
が個々の絵素ピクセルごとに制御される。
An external connection terminal 131 is formed on the opposite side end of the FPC 104, and the external connection terminal 131 is connected to an external circuit (not shown). Then, based on the signal transmitted from the external circuit, the liquid crystal driving IC 103a
And 103b are driven, and a scanning signal is supplied to one of the first electrode 114a and the second electrode 114b, and a data signal is supplied to the other. Thereby, the voltage of the pixel elements in the dot matrix arranged in the effective display area V is controlled for each pixel, and as a result, the orientation of the liquid crystal L is controlled for each pixel element.

【0122】図18において、いわゆるバックライトと
して機能する照明装置106は、図19に示すように、
アクリル樹脂等によって構成された導光体132と、そ
の導光体132の光出射面132bに設けられた拡散シ
ート133と、導光体132の光出射面132bの反対
面に設けられた反射シート134と、発光源としてのL
ED(Light Emitting Diode)136とを有する。
In FIG. 18, a lighting device 106 functioning as a so-called backlight is provided as shown in FIG.
A light guide 132 made of acrylic resin or the like, a diffusion sheet 133 provided on a light exit surface 132b of the light guide 132, and a reflection sheet provided on a surface opposite to the light exit surface 132b of the light guide 132 134 and L as a light source
ED (Light Emitting Diode) 136.

【0123】LED136はLED基板137に支持さ
れ、そのLED基板137は、例えば導光体132と一
体に形成された支持部(図示せず)に装着される。LE
D基板137が支持部の所定位置に装着されることによ
り、LED136が導光体132の側辺端面である光取
込み面132aに対向する位置に置かれる。なお、符号
138は液晶パネル102に加わる衝撃を緩衝するため
の緩衝材を示している。
The LED 136 is supported by an LED board 137, and the LED board 137 is mounted on a support (not shown) formed integrally with the light guide 132, for example. LE
When the D substrate 137 is mounted at a predetermined position on the support, the LED 136 is placed at a position facing the light intake surface 132 a, which is a side end surface of the light guide 132. Reference numeral 138 denotes a cushioning material for buffering an impact applied to the liquid crystal panel 102.

【0124】LED136が発光すると、その光は光取
込み面132aから取り込まれて導光体132の内部へ
導かれ、反射シート134や導光体132の壁面で反射
しながら伝播する間に光出射面132bから拡散シート
133を通して外部へ平面光として出射する。
When the LED 136 emits light, the light is taken in from the light taking-in surface 132a and guided to the inside of the light guide 132, and is propagated while being reflected by the reflection sheet 134 and the wall surface of the light guide 132 while being propagated. The light is emitted as planar light from 132b through diffusion sheet 133 to the outside.

【0125】本実施形態の液晶装置101は以上のよう
に構成されているので、太陽光、室内光等といった外部
光が十分に明るい場合には、図19において、第2基板
107b側から外部光が液晶パネル102の内部へ取り
込まれ、その光が液晶Lを通過した後に反射膜112で
反射して再び液晶Lへ供給される。液晶Lはこれを挟持
する電極114a及び114bによってR,G,Bの絵
素ピクセルごとに配向制御されており、よって、液晶L
へ供給された光は絵素ピクセルごとに変調され、その変
調によって偏光板117bを通過する光と、通過できな
い光とによって液晶パネル102の外部に文字、数字等
といった像が表示される。これにより、反射型の表示が
行われる。
Since the liquid crystal device 101 of the present embodiment is configured as described above, if the external light such as sunlight or indoor light is sufficiently bright, the external light from the second substrate 107b side in FIG. Is taken into the liquid crystal panel 102, the light passes through the liquid crystal L, is reflected by the reflection film 112, and is supplied to the liquid crystal L again. The orientation of the liquid crystal L is controlled for each of the R, G, and B picture elements by the electrodes 114a and 114b sandwiching the liquid crystal L.
The light supplied to the liquid crystal panel 102 is modulated for each pixel pixel, and an image such as a character or a number is displayed outside the liquid crystal panel 102 by the light that passes through the polarizing plate 117b and the light that cannot pass through the modulation. Thus, a reflective display is performed.

【0126】他方、外部光の光量が十分に得られない場
合には、LED136が発光して導光体132の光出射
面132bから平面光が出射され、その光が反射膜11
2に形成された開口121を通して液晶Lへ供給され
る。このとき、反射型の表示と同様にして、供給された
光が配向制御される液晶Lによって絵素ピクセルごとに
変調され、これにより、外部へ像が表示される。これに
より、透過型の表示が行われる。
On the other hand, when the amount of external light is not sufficient, the LED 136 emits light to emit plane light from the light emitting surface 132b of the light guide 132, and the light is
The liquid crystal L is supplied to the liquid crystal L through an opening 121 formed in the liquid crystal L. At this time, similarly to the reflection type display, the supplied light is modulated for each pixel by the liquid crystal L whose orientation is controlled, whereby an image is displayed outside. As a result, a transmissive display is performed.

【0127】上記構成の液晶装置101は、例えば、図
17に示す製造方法によって製造される。この製造方法
において、工程P1〜工程P6の一連の工程が第1基板
107aを形成する工程であり、工程P11〜工程P1
4の一連の工程が第2基板107bを形成する工程であ
る。第1基板形成工程と第2基板形成工程は、通常、そ
れぞれが独自に行われる。
The liquid crystal device 101 having the above configuration is manufactured by, for example, a manufacturing method shown in FIG. In this manufacturing method, a series of steps P1 to P6 is a step of forming the first substrate 107a, and steps P11 to P1 are performed.
A series of steps 4 is a step of forming the second substrate 107b. Usually, each of the first substrate forming step and the second substrate forming step is independently performed.

【0128】まず、第1基板形成工程について説明すれ
ば、透光性ガラス、透光性プラスチック等によって形成
された大面積のマザー原料基材の表面に液晶パネル10
2の複数個分の反射膜112をフォトリソグラフィー法
等を用いて形成し、さらにその上に絶縁膜113を周知
の成膜法を用いて形成し(工程P1)、次に、フォトリ
ソグラフィー法等を用いて第1電極114a及び配線1
14c,114d,114e,114fを形成する(工
程P2)。
First, the step of forming the first substrate will be described. The liquid crystal panel 10 is formed on the surface of a large-area mother raw material base formed of a light-transmitting glass, a light-transmitting plastic or the like.
A plurality of reflective films 112 are formed by photolithography or the like, and an insulating film 113 is further formed thereon by a known film forming method (step P1). Using the first electrode 114a and the wiring 1
14c, 114d, 114e and 114f are formed (Step P2).

【0129】次に、第1電極114aの上に塗布、印刷
等によって配向膜116aを形成し(工程P3)、さら
にその配向膜116aに対してラビング処理を施すこと
により液晶の初期配向を決定する(工程P4)。次に、
例えばスクリーン印刷等によってシール材108を環状
に形成し(工程P5)、さらにその上に球状のスペーサ
119を分散する(工程P6)。以上により、液晶パネ
ル102の第1基板107a上のパネルパターンを複数
個分有する大面積のマザー第1基板が形成される。
Next, an alignment film 116a is formed on the first electrode 114a by coating, printing, or the like (step P3), and rubbing is performed on the alignment film 116a to determine the initial alignment of the liquid crystal. (Step P4). next,
For example, the sealing material 108 is formed in a ring shape by screen printing or the like (Step P5), and the spherical spacers 119 are dispersed thereon (Step P6). As described above, a large-area mother first substrate having a plurality of panel patterns on the first substrate 107a of the liquid crystal panel 102 is formed.

【0130】以上の第1基板形成工程とは別に、第2基
板形成工程(図17の工程P11〜工程P14)を実施
する。まず、透光性ガラス、透光性プラスチック等によ
って形成された大面積のマザー原料基材を用意し、その
表面に液晶パネル102の複数個分のカラーフィルタ1
18を形成する(工程P11)。このカラーフィルタの
形成工程は図6に示した製造方法を用いて行われ、その
製造方法中のR,G,Bの各色フィルタエレメントの形
成は図8のインクジェット装置16を用いて図1、図
2、図3、図4等に示したインクジェットヘッドの制御
方法に従って実行される。これらカラーフィルタの製造
方法及びインクジェットヘッドの制御方法は既に説明し
た内容と同じであるので、それらの説明は省略する。
A second substrate forming step (steps P11 to P14 in FIG. 17) is performed separately from the above-described first substrate forming step. First, a large-area mother raw material base formed of a light-transmitting glass, a light-transmitting plastic, or the like is prepared, and a plurality of color filters 1 of the liquid crystal panel 102 are provided on the surface thereof.
18 are formed (Step P11). The process of forming the color filter is performed by using the manufacturing method shown in FIG. 6, and the formation of each of the R, G, and B color filter elements in the manufacturing method is performed by using the inkjet apparatus 16 of FIG. 2, executed in accordance with the control method of the ink jet head shown in FIGS. The method of manufacturing these color filters and the method of controlling the ink jet head are the same as those already described, and thus description thereof will be omitted.

【0131】図6(d)に示すようにマザー基板12す
なわちマザー原料基材の上にカラーフィルタ1すなわち
カラーフィルタ118が形成されると、次に、フォトリ
ソグラフィー法によって第2電極114bが形成され
(工程P12)、さらに塗布、印刷等によって配向膜1
16bが形成され(工程P13)、さらにその配向膜1
16bに対してラビング処理が施されて液晶の初期配向
が決められる(工程P14)。以上により、液晶パネル
102の第2基板107b上のパネルパターンを複数個
分有する大面積のマザー第2基板が形成される。
As shown in FIG. 6D, when the color filter 1, ie, the color filter 118, is formed on the mother substrate 12, ie, the mother raw material base material, the second electrode 114b is then formed by photolithography. (Step P12) Further, the alignment film 1 is formed by coating, printing, or the like.
16b is formed (step P13), and the alignment film 1
Rubbing treatment is performed on 16b to determine the initial alignment of the liquid crystal (step P14). Thus, a large-area mother second substrate having a plurality of panel patterns on the second substrate 107b of the liquid crystal panel 102 is formed.

【0132】以上により大面積のマザー第1基板及びマ
ザー第2基板が形成された後、それらのマザー基板をシ
ール材108を間に挟んでアライメント、すなわち位置
合わせした上で互いに貼り合わせる(工程P21)。こ
れにより、液晶パネル複数個分のパネル部分を含んでい
て未だ液晶が封入されていない状態の空のパネル構造体
が形成される。
After the mother first substrate and the mother second substrate having a large area are formed as described above, the mother substrates are aligned with each other with the sealing material 108 interposed therebetween, that is, the mother substrates are bonded together (step P21). ). As a result, an empty panel structure including the panel portions for a plurality of liquid crystal panels and in which the liquid crystal is not yet sealed is formed.

【0133】次に、完成した空のパネル構造体の所定位
置にスクライブ溝、すなわち切断用溝を形成し、さらに
そのスクライブ溝を基準にしてパネル構造体をブレイ
ク、すなわち切断する(工程P22)。これにより、各
液晶パネル部分のシール材108の液晶注入用開口11
0(図18参照)が外部へ露出する状態の、いわゆる短
冊状の空のパネル構造体が形成される。
Next, a scribe groove, that is, a cutting groove is formed at a predetermined position of the completed empty panel structure, and the panel structure is broken, that is, cut based on the scribe groove (step P22). As a result, the liquid crystal injection opening 11 of the sealing material 108 of each liquid crystal panel portion is formed.
A so-called strip-shaped empty panel structure in which 0 (see FIG. 18) is exposed to the outside is formed.

【0134】その後、露出した液晶注入用開口110を
通して各液晶パネル部分の内部に液晶Lを注入し、さら
に各液晶注入口110を樹脂等によって封止する(工程
P23)。通常の液晶注入処理は、例えば、貯留容器の
中に液晶を貯留し、その液晶が貯留された貯留容器と短
冊状の空パネルをチャンバー等に入れ、そのチャンバー
等を真空状態にしてからそのチャンバーの内部において
液晶の中に短冊状の空パネルを浸漬し、その後、チャン
バーを大気圧に開放することによって行われる。このと
き、空パネルの内部は真空状態なので、大気圧によって
加圧される液晶が液晶注入用開口を通してパネルの内部
へ導入される。液晶注入後の液晶パネル構造体のまわり
には液晶が付着するので、液晶注入処理後の短冊状パネ
ルは工程24において洗浄処理を受ける。
Thereafter, the liquid crystal L is injected into each liquid crystal panel through the exposed liquid crystal injection opening 110, and each liquid crystal injection port 110 is sealed with a resin or the like (step P23). In a normal liquid crystal injection process, for example, a liquid crystal is stored in a storage container, and the storage container storing the liquid crystal and a strip-shaped empty panel are placed in a chamber or the like, and the chamber or the like is evacuated, and then the chamber is evacuated. This is performed by immersing a strip-shaped empty panel in the liquid crystal inside the device, and then opening the chamber to atmospheric pressure. At this time, since the inside of the empty panel is in a vacuum state, the liquid crystal pressurized by the atmospheric pressure is introduced into the inside of the panel through the liquid crystal injection opening. Since the liquid crystal adheres around the liquid crystal panel structure after the liquid crystal injection, the strip-shaped panel after the liquid crystal injection processing is subjected to a cleaning process in step 24.

【0135】その後、液晶注入及び洗浄が終わった後の
短冊状のマザーパネルに対して再び所定位置にスクライ
ブ溝を形成し、さらにそのスクライブ溝を基準にして短
冊状パネルを切断することにより、複数個の液晶パネル
が個々に切り出される(工程P25)。こうして作製さ
れた個々の液晶パネル102に対して図18に示すよう
に、液晶駆動用IC103a,103bを実装し、照明
装置106をバックライトとして装着し、さらにFPC
104を接続することにより、目標とする液晶装置10
1が完成する(工程P26)。
Thereafter, a scribe groove is formed again at a predetermined position on the strip-shaped mother panel after the liquid crystal injection and washing are completed, and the strip-shaped panel is cut with reference to the scribe groove to obtain a plurality of pieces. The individual liquid crystal panels are cut out individually (step P25). As shown in FIG. 18, liquid crystal driving ICs 103a and 103b are mounted on each of the liquid crystal panels 102 thus manufactured, and a lighting device 106 is mounted as a backlight.
By connecting the liquid crystal device 104 to the target liquid crystal device 10
1 is completed (Step P26).

【0136】以上に説明した液晶装置の製造方法及び製
造装置は、特にカラーフィルタを製造する段階において
次のような特徴を有する。すなわち、図5(a)に示す
カラーフィルタ1すなわち図19のカラーフィルタ11
8内の個々のフィルタエレメント3はインクジェットヘ
ッド22(図1参照)の1回の主走査×によって形成さ
れるのではなくて、各1個のフィルタエレメント3は異
なるノズルグループに属する複数のノズル27によって
n回、例えば4回、重ねてインク吐出を受けることによ
り所定の膜厚に形成される。このため、仮に複数のノズ
ル27間においてインク吐出量にバラツキが存在する場
合でも、複数のフィルタエレメント3間で膜厚にバラツ
キが生じることを防止でき、それ故、カラーフィルタの
光透過特性を平面的に均一にすることができる。このこ
とは、図19の液晶装置101において、色むらのない
鮮明なカラー表示が得られるということである。
The above-described method and apparatus for manufacturing a liquid crystal device have the following features, particularly at the stage of manufacturing a color filter. That is, the color filter 1 shown in FIG.
The individual filter elements 3 in 8 are not formed by one main scan x of the ink jet head 22 (see FIG. 1), but each filter element 3 has a plurality of nozzles 27 belonging to different nozzle groups. The ink is ejected n times, for example, four times, thereby forming a predetermined film thickness. For this reason, even if the ink ejection amount varies among the plurality of nozzles 27, it is possible to prevent the film thickness from varying among the plurality of filter elements 3, and therefore, the light transmission characteristics of the color filter can be reduced. Can be uniformly uniform. This means that in the liquid crystal device 101 of FIG. 19, clear color display without color unevenness can be obtained.

【0137】また、本実施形態の液晶装置の製造方法及
び製造装置では、図8に示すインクジェット装置16を
用いることによりインクジェットヘッド22を用いたイ
ンク吐出によってフィルタエレメント3を形成するの
で、フォトリソグラフィー法を用いる方法のような複雑
な工程を経る必要も無く、また、材料を浪費することも
無い。
In the method and apparatus for manufacturing a liquid crystal device according to the present embodiment, the filter element 3 is formed by ink ejection using the inkjet head 22 by using the inkjet device 16 shown in FIG. It is not necessary to go through a complicated process such as a method using, and there is no waste of material.

【0138】(第7実施形態)図20は、本発明に係る
EL装置の製造方法の一実施形態を示している。また、
図21はその製造方法の主要工程及び最終的に得られる
EL装置の主要断面構造を示している。図21(d)に
示すように、EL装置201は、透明基板204上に画
素電極202を形成し、各画素電極202間にバンク2
05を矢印G方向から見て格子状に形成し、それらの格
子状凹部の中に正孔注入層220を形成し、矢印G方向
から見てストライプ配列等といった所定配列となるよう
にR色発光層203R、G色発光層203G及びB色発
光層203Bを各格子状凹部の中に形成し、さらにそれ
らの上に対向電極213を形成することによって形成さ
れる。
(Seventh Embodiment) FIG. 20 shows an embodiment of a method of manufacturing an EL device according to the present invention. Also,
FIG. 21 shows the main steps of the manufacturing method and the main cross-sectional structure of the finally obtained EL device. As shown in FIG. 21D, in the EL device 201, a pixel electrode 202 is formed on a transparent substrate 204, and a bank 2 is provided between the pixel electrodes 202.
05 are formed in a lattice shape when viewed in the direction of arrow G, the hole injection layer 220 is formed in the lattice-shaped recesses, and R color light emission is performed in a predetermined arrangement such as a stripe arrangement when viewed in the direction of arrow G. The layer 203R, the G-color light-emitting layer 203G, and the B-color light-emitting layer 203B are formed in each lattice-shaped recess, and the counter electrode 213 is formed thereon.

【0139】上記画素電極202をTFD(Thin Film
Diode:薄膜ダイオード)素子等といった2端子型のア
クティブ素子によって駆動する場合には、上記対向電極
213は矢印G方向から見てストライプ状に形成され
る。また、画素電極202をTFT(Thin Film Transi
stor:薄膜トランジスタ)等といった3端子型のアクテ
ィブ素子によって駆動する場合には、上記対向電極21
3は単一な面電極として形成される。
The above-mentioned pixel electrode 202 is connected to a TFD (Thin Film).
When driven by a two-terminal type active element such as a diode (thin film diode) element, the counter electrode 213 is formed in a stripe shape when viewed from the direction of arrow G. In addition, the pixel electrode 202 is connected to a TFT (Thin Film Transi
In the case of driving by a three-terminal type active element such as a stor (thin film transistor), the above-described counter electrode 21 is used.
3 is formed as a single plane electrode.

【0140】各画素電極202と各対向電極213とに
よって挟まれる領域が1つの絵素ピクセルとなり、R,
G,B3色の絵素ピクセルが1つのユニットとなって1
つの画素を形成する。各絵素ピクセルを流れる電流を制
御することにより、複数の絵素ピクセルのうちの希望す
るものを選択的に発光させ、これにより、矢印H方向に
希望するフルカラー像を表示することができる。
The area sandwiched between each pixel electrode 202 and each counter electrode 213 is one picture element pixel.
G, B three color picture element pixels become one unit and 1
To form one pixel. By controlling the current flowing through each picture element pixel, a desired one of the plurality of picture element pixels is selectively caused to emit light, whereby a desired full-color image can be displayed in the direction of arrow H.

【0141】上記EL装置201は、例えば、図20に
示す製造方法によって製造される。すなわち、工程P5
1及び図21(a)のように、透明基板204の表面に
TFD素子やTFT素子等といった能動素子を形成し、
さらに画素電極202を形成する。形成方法としては、
例えば、フォトリソグラフィー法、真空状着法、スパッ
タリング法、パイロゾル法等を用いることができる。画
素電極の材料としてはITO(Indium Tin Oxide)、
酸化スズ、酸化インジウムと酸化亜鉛との複合酸化物等
を用いることができる。
The EL device 201 is manufactured, for example, by the manufacturing method shown in FIG. That is, the process P5
1 and an active element such as a TFD element or a TFT element is formed on the surface of the transparent substrate 204 as shown in FIG.
Further, a pixel electrode 202 is formed. As a formation method,
For example, a photolithography method, a vacuum deposition method, a sputtering method, a pyrosol method, or the like can be used. The material of the pixel electrode is ITO (Indium Tin Oxide),
Tin oxide, a composite oxide of indium oxide and zinc oxide, or the like can be used.

【0142】次に、工程P52及び図21(a)に示す
ように、隔壁すなわちバンク205を周知のパターニン
グ手法、例えばフォトリソグラフィー法を用いて形成
し、このバンク205によって各透明電極202の間を
埋めた。これにより、コントラストの向上、発光材料の
混色の防止、画素と画素との間からの光漏れ等を防止す
ることができる。バンク205の材料としては、EL材
料の溶媒に対して耐久性を有するものであれば特に限定
されないが、フロロカーボンガスプラズマ処理によりフ
ッ素処理できること、例えば、アクリル樹脂、エポキシ
樹脂、感光性ポリイミド等といった有機材料が好まし
い。
Next, as shown in a step P52 and FIG. 21A, a partition wall, that is, a bank 205 is formed by using a well-known patterning method, for example, a photolithography method. buried. Thus, it is possible to improve contrast, prevent color mixing of light emitting materials, and prevent light leakage between pixels. The material of the bank 205 is not particularly limited as long as it has durability with respect to the solvent of the EL material, but can be fluorinated by fluorocarbon gas plasma treatment, for example, an organic resin such as an acrylic resin, an epoxy resin, or a photosensitive polyimide. Materials are preferred.

【0143】次に、正孔注入層用インクを塗布する直前
に、基板204に酸素ガスとフロロカーボンガスプラズ
マの連続プラズマ処理を行った(工程P53)。これに
より、ポリイミド表面は撥水化され、ITO表面は親水
化され、インクジェット液滴を微細にパターニングする
ための基板側の濡れ性の制御ができる。プラズマを発生
する装置としては、真空中でプラズマを発生する装置で
も、大気中でプラズマを発生する装置でも同様に用いる
ことができる。
Next, immediately before the ink for the hole injection layer was applied, the substrate 204 was subjected to continuous plasma processing of oxygen gas and fluorocarbon gas plasma (step P53). Thereby, the polyimide surface is made water-repellent, the ITO surface is made hydrophilic, and the wettability on the substrate side for finely patterning the inkjet droplets can be controlled. As a device for generating plasma, a device for generating plasma in a vacuum or a device for generating plasma in the atmosphere can be used in the same manner.

【0144】次に、工程P54及び図21(a)に示す
ように、正孔注入層用インクを図8のインクジェット装
置16のインクジェットヘッド22から吐出し、各画素
電極202の上にパターニング塗布を行った。具体的な
インクジェットヘッドの制御方法は図1、図2、図3又
は図4に示した方法を用いた。その塗布後、真空(1t
orr)中、室温、20分という条件で溶媒を除去し
(工程P55)、その後、大気中、20℃(ホットプレ
ート上)、10分の熱処理により、発光層用インクと相
溶しない正孔注入層220を形成した(工程P56)。
膜厚は40nmであった。
Next, as shown in step P54 and FIG. 21A, the hole injection layer ink is discharged from the ink jet head 22 of the ink jet device 16 in FIG. went. A specific method of controlling the ink jet head used the method shown in FIG. 1, FIG. 2, FIG. 3, or FIG. After the application, vacuum (1t
(orr), removing the solvent under the conditions of room temperature and 20 minutes (step P55), and then injecting holes incompatible with the light emitting layer ink by heat treatment in the air at 20 ° C. (on a hot plate) for 10 minutes. The layer 220 was formed (Step P56).
The film thickness was 40 nm.

【0145】次に、工程P57及び図21(b)に示す
ように、各フィルタエレメント領域内の正孔注入層22
0の上にインクジェット手法を用いてR発光層用インク
及びG発光層用インクを塗布した。ここでも、各発光層
用インクは、図8のインクジェット装置16のインクジ
ェットヘッド22から吐出し、さらにインクジェットヘ
ッドの制御方法は図1、図2、図3又は図4に示した方
法に従った。インクジェット方式によれば、微細なパタ
ーニングを簡便に且つ短時間に行うことができる。ま
た、インク組成物の固形分濃度及び吐出量を変えること
により膜厚を変えることが可能である。
Next, as shown in Step P57 and FIG. 21B, the hole injection layer 22 in each filter element region is formed.
The ink for the R light emitting layer and the ink for the G light emitting layer were applied on 0 using an ink jet method. Also in this case, the ink for each light emitting layer is ejected from the ink jet head 22 of the ink jet device 16 in FIG. 8, and the control method of the ink jet head follows the method shown in FIG. 1, FIG. 2, FIG. 3, or FIG. According to the inkjet method, fine patterning can be performed easily and in a short time. Further, the film thickness can be changed by changing the solid content concentration and the ejection amount of the ink composition.

【0146】発光層用インクの塗布後、真空(1tor
r)中、室温、20分等という条件で溶媒を除去し(工
程P58)、続けて窒素雰囲気中、150℃、4時間の
熱処理により共役化させてR色発光層203R及びG色
発光層203Gを形成した(工程P59)。膜厚は50
nmであった。熱処理により共役化した発光層は溶媒に
不溶である。
After applying the light emitting layer ink, vacuum (1 torr)
r), the solvent is removed under the conditions of room temperature, 20 minutes, etc. (step P58), and then conjugated by heat treatment at 150 ° C. for 4 hours in a nitrogen atmosphere to form the R color light emitting layer 203R and the G color light emitting layer 203G. Was formed (Step P59). The film thickness is 50
nm. The light emitting layer conjugated by the heat treatment is insoluble in the solvent.

【0147】なお、発光層を形成する前に正孔注入層2
20に酸素ガスとフロロカーボンガスプラズマの連続プ
ラズマ処理を行っても良い。これにより、正孔注入層2
20上にフッ素化物層が形成され、イオン化ポテンシャ
ルが高くなることにより正孔注入効率が増し、発光効率
の高い有機EL装置を提供できる。
Before forming the light emitting layer, the hole injection layer 2
20 may be subjected to continuous plasma processing of oxygen gas and fluorocarbon gas plasma. Thereby, the hole injection layer 2
By forming a fluorinated layer on the substrate 20 and increasing the ionization potential, the hole injection efficiency is increased and an organic EL device with high luminous efficiency can be provided.

【0148】次に、工程P60及び図21(c)に示す
ように、B色発光層203Bを各絵素ピクセル内のR色
発光層203R、G色発光層203G及び正孔注入層2
20の上に重ねて形成した。これにより、R,G,Bの
3原色を形成するのみならず、R色発光層203R及び
G色発光層203Gとバンク205との段差を埋めて平
坦化することができる。これにより、上下電極間のショ
ートを確実に防ぐことができる。B色発光層203Bの
膜厚を調整することで、B色発光層203BはR色発光
層203R及びG色発光層203Gとの積層構造におい
て、電子注入輸送層として作用してB色には発光しな
い。
Next, as shown in step P60 and FIG. 21C, the B-color light-emitting layer 203B is replaced with the R-color light-emitting layer 203R, the G-color light-emitting layer 203G, and the hole injection layer 2G in each pixel pixel.
20 and formed on top of each other. Accordingly, not only the three primary colors of R, G, and B can be formed, but also the level difference between the banks 205 and the R light emitting layers 203R and 203G and the bank 205 can be flattened. As a result, a short circuit between the upper and lower electrodes can be reliably prevented. By adjusting the thickness of the B-color light-emitting layer 203B, the B-color light-emitting layer 203B acts as an electron injection / transport layer in the laminated structure of the R-color light-emitting layer 203R and the G-color light-emitting layer 203G, and emits light of the B color. do not do.

【0149】以上のようなB色発光層203Bの形成方
法としては、例えば湿式法として一般的なスピンコート
法を採用することもできるし、あるいは、R色発光層2
03R及びG色発光層203Gの形成法と同様のインク
ジェット法を採用することもできる。
As a method for forming the B-color light-emitting layer 203B as described above, for example, a general spin coating method as a wet method can be adopted, or the R-color light-emitting layer 2B can be used.
An inkjet method similar to the method of forming the 03R and G color light emitting layers 203G can be employed.

【0150】その後、工程P61及び図21(d)に示
すように、対向電極213を形成することにより、目標
とするEL装置201を製造した。対向電極213はそ
れが面電極である場合には、例えば、Mg,Ag,A
l,Li等を材料として、蒸着法、スパッタ法等といっ
た成膜法を用いて形成できる。また、対向電極213が
ストライプ状電極である場合には、成膜された電極層を
フォトリソグラフィー法等といったパターニング手法を
用いて形成できる。
Thereafter, as shown in a step P61 and FIG. 21D, the target EL device 201 was manufactured by forming the counter electrode 213. When the counter electrode 213 is a plane electrode, for example, Mg, Ag, A
It can be formed using a film forming method such as a vapor deposition method or a sputtering method using l, Li or the like as a material. When the counter electrode 213 is a stripe-shaped electrode, the formed electrode layer can be formed by using a patterning method such as a photolithography method.

【0151】以上に説明したEL装置の製造方法及び製
造装置によれば、インクジェットヘッドの制御方法とし
て図1、図2、図3又は図4等に示した制御方法を採用
したので、図21における各絵素ピクセル内の正孔注入
層220及びR,G,B各色発光層203R,203
G,203Bは、インクジェットヘッド22(図1参
照)の1回の主走査×によって形成されるのではなく
て、1個の絵素ピクセル内の正孔注入層及び/又は各色
発光層は異なるノズルグループに属する複数のノズル2
7によってn回、例えば4回、重ねてインク吐出を受け
ることにより所定の膜厚に形成される。このため、仮に
複数のノズル27間においてインク吐出量にバラツキが
存在する場合でも、複数の絵素ピクセル間で膜厚にバラ
ツキが生じることを防止でき、それ故、EL装置の発光
面の発光分布特性を平面的に均一にすることができる。
このことは、図21(d)のEL装置201において、
色むらのない鮮明なカラー表示が得られるということで
ある。
According to the EL device manufacturing method and the manufacturing apparatus described above, the control method shown in FIG. 1, FIG. 2, FIG. 3, or FIG. The hole injection layer 220 and the R, G, and B color light emitting layers 203R and 203 in each pixel pixel
G and 203B are not formed by one main scan x of the inkjet head 22 (see FIG. 1), but are formed by a hole injection layer and / or each color light emitting layer in one pixel pixel having a different nozzle. Multiple nozzles 2 belonging to a group
7, the ink is ejected n times, for example four times, to form a predetermined film thickness. For this reason, even if there is a variation in the ink ejection amount between the plurality of nozzles 27, it is possible to prevent a variation in the film thickness among the plurality of picture element pixels, and therefore, the emission distribution of the light emitting surface of the EL device. The characteristics can be made uniform in a plane.
This is because the EL device 201 shown in FIG.
This means that a clear color display without color unevenness can be obtained.

【0152】また、本実施形態のEL装置の製造方法及
び製造装置では、図8に示すインクジェット装置16を
用いることによりインクジェットヘッド22を用いたイ
ンク吐出によってR,G,Bの各色絵素ピクセルを形成
するので、フォトリソグラフィー法を用いる方法のよう
な複雑な工程を経る必要も無く、また、材料を浪費する
ことも無い。
In the method and apparatus for manufacturing an EL device according to the present embodiment, the R, G, and B color picture element pixels are discharged by ink discharge using the ink jet head 22 by using the ink jet device 16 shown in FIG. Since it is formed, there is no need to go through a complicated process such as a method using a photolithography method, and no material is wasted.

【0153】(その他の実施形態)以上、好ましい実施
形態を挙げて本発明を説明したが、本発明はその実施形
態に限定されるものでなく、請求の範囲に記載した発明
の範囲内で種々に改変できる。
(Other Embodiments) The present invention has been described with reference to the preferred embodiments. However, the present invention is not limited to the embodiments, and various modifications may be made within the scope of the invention described in the claims. Can be modified to

【0154】例えば、図8及び図9に示したカラーフィ
ルタの製造装置では、インクジェットヘッド22を主走
査方向×へ移動させて基板12を主走査し、基板12を
副走査駆動装置21によって移動させることによりイン
クジェットヘッド22によって基板12を副走査するこ
とにしたが、これとは逆に、基板12の移動によって主
走査を実行し、インクジェットヘッド22の移動によっ
て副走査を実行することもできる。
For example, in the color filter manufacturing apparatus shown in FIGS. 8 and 9, the substrate 12 is main-scanned by moving the ink jet head 22 in the main scanning direction x, and the substrate 12 is moved by the sub-scanning driving device 21. Thus, the substrate 12 is sub-scanned by the inkjet head 22. Conversely, the main scanning may be performed by moving the substrate 12, and the sub-scanning may be performed by moving the inkjet head 22.

【0155】また、上記実施形態では、圧電素子の撓み
変形を利用してインクを吐出する構造のインクジェット
ヘッドを用いたが、他の任意の構造のインクジェットヘ
ッドを用いることもできる。また、上記実施形態では、
主走査方向と副走査方向とが直交する最も一般的な構成
についてのみ例示したが、主走査方向と副走査方向との
関係は直交関係には限られず、任意の角度で交差してい
ればよい。また、上記実施形態では、カラーフィルタの
製造方法及び製造装置、液晶装置の製造方法及び製造装
置、EL装置の製造方法及び製造装置、を例として説明
してきたが、本発明はこれらに限定されることなく、対
象物上に微細パターニングを施す工業技術全般に用いる
ことが可能である。例えば、各種半導体素子(薄膜トラ
ンジスタ、薄膜ダイオード等)、各種配線パターン、及
び絶縁膜の形成等がその利用範囲の一例として挙げられ
る。ヘッドから吐出させる材料としては、基板等の対象
物上に形成する要素に応じて種々選択可能であり、例え
ば上述してきたインク、EL発光材料の他にも、シリカ
ガラス前駆体、金属化合物等の導電材料、誘電体材料、
又は半導体材料がその一例として挙げられる。また、上
記実施形態では、簡便のため「インクジェットヘッド」
と呼称してきたが、このインクジェットヘッドから吐出
される吐出物はインクには限定されず、例えば、前述の
EL発光材料、シリカガラス前駆体、金属化合物等の導
電性材料、誘電体材料、又は半導体材料等様々であるこ
とはいうまでもない。上記実施形態の製造方法により製
造された液晶装置、EL装置は、例えば携帯電話機、携
帯型コンピュータ等といった電子機器の表示部に搭載す
ることができる。
Further, in the above-described embodiment, the ink jet head having a structure in which ink is ejected by using the bending deformation of the piezoelectric element is used, but an ink jet head having any other structure may be used. In the above embodiment,
Although only the most general configuration in which the main scanning direction and the sub-scanning direction are orthogonal to each other has been illustrated, the relationship between the main scanning direction and the sub-scanning direction is not limited to the orthogonal relationship, but may be any intersection at any angle. . In the above embodiments, the method and apparatus for manufacturing a color filter, the method and apparatus for manufacturing a liquid crystal device, and the method and apparatus for manufacturing an EL device have been described as examples. However, the present invention is not limited to these. Instead, the present invention can be used for general industrial techniques for performing fine patterning on an object. For example, various semiconductor elements (thin film transistor, thin film diode, etc.), various wiring patterns, formation of an insulating film, and the like are given as examples of the application range. The material to be ejected from the head can be variously selected according to the elements to be formed on an object such as a substrate. For example, in addition to the above-described ink and EL light emitting material, a silica glass precursor, a metal compound, Conductive materials, dielectric materials,
Alternatively, a semiconductor material is given as an example. In the above embodiment, the “inkjet head” is used for simplicity.
However, the ejected matter ejected from this inkjet head is not limited to ink, and may be, for example, the aforementioned EL light-emitting material, a silica glass precursor, a conductive material such as a metal compound, a dielectric material, or a semiconductor. It goes without saying that there are various materials and the like. The liquid crystal device and the EL device manufactured by the manufacturing method of the above embodiment can be mounted on a display unit of an electronic device such as a mobile phone and a portable computer.

【0156】[0156]

【発明の効果】本発明に係るカラーフィルタの製造方法
及び製造装置によれば、カラーフィルタ内の個々のフィ
ルタエレメントはインクジェットヘッドの1回の走査に
よって形成されるのではなくて、各1個のフィルタエレ
メントは異なるノズルグループに属する複数のノズルに
よって重ねてインク吐出を受けることにより所定の膜厚
に形成されるので、仮に複数のノズル間においてインク
吐出量にバラツキが存在する場合でも、複数のフィルタ
エレメント間で膜厚にバラツキが生じることを防止で
き、それ故、カラーフィルタの光透過特性を平面的に均
一にすることができる。
According to the method and the apparatus for manufacturing a color filter according to the present invention, each filter element in the color filter is not formed by one scanning of the ink jet head, but is formed by each one. Since the filter element is formed to have a predetermined film thickness by receiving ink discharge by a plurality of nozzles belonging to different nozzle groups, even if there is a variation in the ink discharge amount among the plurality of nozzles, a plurality of filter elements are provided. Variations in the film thickness between the elements can be prevented, so that the light transmission characteristics of the color filter can be made uniform in a plane.

【0157】また、本発明はインクジェットヘッドを用
いる方法であるので、フォトリソグラフィー法を用いる
方法のような複雑な工程を経る必要も無く、また、材料
を浪費することも無い。
Further, since the present invention is a method using an ink-jet head, there is no need to go through a complicated process such as a method using a photolithography method, and there is no waste of materials.

【0158】また、本発明に係る液晶装置の製造方法及
び製造装置によれば、カラーフィルタを製造する段階に
おいて、カラーフィルタ内の個々のフィルタエレメント
はインクジェットヘッドの1回の走査によって形成され
るのではなくて、各1個のフィルタエレメントは異なる
ノズルグループに属する複数のノズルによって重ねてイ
ンク吐出を受けることにより所定の膜厚に形成されるの
で、仮に複数のノズル間においてインク吐出量にバラツ
キが存在する場合でも、複数のフィルタエレメント間で
膜厚にバラツキが生じることを防止でき、それ故、カラ
ーフィルタの光透過特性を平面的に均一にすることがで
きる。この結果、色むらの無い鮮明なカラー像を表示す
ることができる。
According to the method and apparatus for manufacturing a liquid crystal device according to the present invention, in the step of manufacturing a color filter, each filter element in the color filter is formed by one scan of the ink jet head. Instead, each filter element is formed to have a predetermined film thickness by receiving ink discharge by overlapping with a plurality of nozzles belonging to different nozzle groups, so that the ink discharge amount varies among the plurality of nozzles. Even when it is present, it is possible to prevent the film thickness from being varied among the plurality of filter elements, and therefore, it is possible to make the light transmission characteristics of the color filter uniform in a plane. As a result, a clear color image without color unevenness can be displayed.

【0159】また、本発明に係るEL装置の製造方法及
び製造装置によれば、各絵素ピクセル内のR,G,Bの
各色発光層はインクジェットヘッドの1回の主走査によ
って形成されるのではなくて、それらの各色発光層は異
なるノズルグループに属する複数のノズルによって重ね
てインク吐出を受けることにより所定の膜厚に形成され
る。このため、仮に複数のノズル間においてインク吐出
量にバラツキが存在する場合でも、複数の絵素ピクセル
間で膜厚にバラツキが生じることを防止でき、それ故、
EL装置の発光面の発光分布特性を平面的に均一にする
ことができ、この結果、色むらのない鮮明なカラー表示
を得ることができる。
According to the method and apparatus for manufacturing an EL device according to the present invention, the R, G, and B light emitting layers in each pixel are formed by one main scan of the ink jet head. Instead, the respective color light-emitting layers are formed to have a predetermined film thickness by receiving ink ejection by overlapping a plurality of nozzles belonging to different nozzle groups. For this reason, even if there is a variation in the ink ejection amount among a plurality of nozzles, it is possible to prevent a variation in the film thickness between a plurality of picture element pixels, and therefore,
The light emission distribution characteristics of the light emitting surface of the EL device can be made uniform in a plane, and as a result, a clear color display without color unevenness can be obtained.

【0160】また、本発明のEL装置の製造方法及び製
造装置では、インクジェットヘッドを用いたインク吐出
によってR,G,Bの各色絵素ピクセルを形成するの
で、フォトリソグラフィー法を用いる方法のような複雑
な工程を経る必要も無く、また、材料を浪費することも
無い。
In the method and apparatus for manufacturing an EL device according to the present invention, R, G, and B color picture element pixels are formed by ink discharge using an ink jet head. There is no need to go through complicated processes and no waste of materials.

【0161】また、本発明に係るインクジェットヘッド
の制御装置によれば、個々の色パターンはインクジェッ
トヘッドの1回の走査によって形成されるのではなく
て、各1個の色パターンは異なるノズルグループに属す
る複数のノズルによって重ねてインク吐出を受けること
により所定の膜厚に形成されるので、仮に複数のノズル
間においてインク吐出量にバラツキが存在する場合で
も、複数の色パターン間で膜厚にバラツキが生じること
を防止でき、それ故、色パターンの光学特性を光学部材
の平面内で均一に揃えることができる。
According to the control apparatus of the ink jet head according to the present invention, each color pattern is not formed by one scan of the ink jet head, but each color pattern is assigned to a different nozzle group. Since a predetermined film thickness is formed by receiving ink ejection by overlapping a plurality of nozzles, even if the ink ejection amount varies among the plurality of nozzles, the film thickness varies among the plurality of color patterns. Can be prevented, and therefore, the optical characteristics of the color pattern can be made uniform within the plane of the optical member.

【0162】これにより、光学部材としてのカラーフィ
ルタにおける色パターンとしてのR,G,B各色フィル
タエレメントを平面的に均一な膜厚で形成することがで
きる。また、光学部材としてのEL素子における色パタ
ーンとしてのR,G,B発光層や正孔注入層を平面的に
均一な膜厚で形成することができる。
Thus, the R, G, and B color filter elements as color patterns in the color filter as the optical member can be formed with a uniform thickness in a plane. Further, the R, G, B light emitting layers and the hole injection layers as color patterns in the EL element as an optical member can be formed with a uniform thickness in a plane.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明に係るカラーフィルタの製造方法の一実
施形態の主要工程を模式的に示す平面図である。
FIG. 1 is a plan view schematically showing main steps of an embodiment of a color filter manufacturing method according to the present invention.

【図2】本発明に係るカラーフィルタの製造方法の他の
実施形態の主要工程を模式的に示す平面図である。
FIG. 2 is a plan view schematically showing main steps of another embodiment of the method for manufacturing a color filter according to the present invention.

【図3】本発明に係るカラーフィルタの製造方法のさら
に他の実施形態の主要工程を模式的に示す平面図であ
る。
FIG. 3 is a plan view schematically showing main steps of still another embodiment of the color filter manufacturing method according to the present invention.

【図4】本発明に係るカラーフィルタの製造方法のさら
に他の実施形態の主要工程を模式的に示す平面図であ
る。
FIG. 4 is a plan view schematically showing main steps of still another embodiment of the method for manufacturing a color filter according to the present invention.

【図5】本発明に係るカラーフィルタの一実施形態及び
その基礎となるマザー基板の一実施形態を示す平面図で
ある。
FIG. 5 is a plan view showing an embodiment of a color filter according to the present invention and an embodiment of a mother substrate on which the color filter is based.

【図6】図5(a)のVI−VI線に従った断面部分を
用いてカラーフィルタの製造工程を模式的に示す図であ
る。
FIG. 6 is a diagram schematically illustrating a color filter manufacturing process using a cross-sectional portion along the line VI-VI in FIG. 5A.

【図7】カラーフィルタにおけるR,G,B3色の絵素
ピクセルの配列例を示す図である。
FIG. 7 is a diagram illustrating an example of an arrangement of picture element pixels of three colors R, G, and B in a color filter.

【図8】本発明に係るカラーフィルタの製造装置、本発
明に係る液晶装置の製造装置及び本発明に係るEL装置
の製造装置といった各製造装置の主要部分であるインク
ジェット装置の一実施形態を示す斜視図である。
FIG. 8 shows an embodiment of an ink jet apparatus which is a main part of each manufacturing apparatus such as a color filter manufacturing apparatus according to the present invention, a liquid crystal device manufacturing apparatus according to the present invention, and an EL device manufacturing apparatus according to the present invention. It is a perspective view.

【図9】図8の装置の主要部を拡大して示す斜視図であ
る。
9 is an enlarged perspective view showing a main part of the device of FIG. 8;

【図10】図9の装置の主要部であるインクジェットヘ
ッドを拡大して示す斜視図である。
FIG. 10 is an enlarged perspective view showing an ink jet head which is a main part of the apparatus shown in FIG. 9;

【図11】インクジェットヘッドの改変例を示す斜視図
である。
FIG. 11 is a perspective view showing a modified example of the ink jet head.

【図12】インクジェットヘッドの内部構造を示す図で
あって、(a)は一部破断斜視図を示し、(b)は
(a)のJ−J線に従った断面構造を示す。
FIGS. 12A and 12B are views showing the internal structure of the inkjet head, wherein FIG. 12A is a partially cutaway perspective view, and FIG. 12B is a cross-sectional structure taken along line JJ of FIG.

【図13】インクジェットヘッドの他の改変例を示す平
面図である。
FIG. 13 is a plan view showing another modification of the ink jet head.

【図14】図8のインクジェットヘッド装置に用いられ
る電気制御系を示すブロック図である。
FIG. 14 is a block diagram showing an electric control system used in the ink jet head device of FIG.

【図15】図14の制御系によって実行される制御の流
れを示すフローチャートである。
FIG. 15 is a flowchart showing a flow of control executed by the control system of FIG. 14;

【図16】インクジェットヘッドのさらに他の改変例を
示す斜視面図である。
FIG. 16 is a perspective view showing still another modified example of the ink jet head.

【図17】本発明に係る液晶装置の製造方法の一実施形
態を示す工程図である。
FIG. 17 is a process chart showing one embodiment of a method for manufacturing a liquid crystal device according to the present invention.

【図18】本発明に係る液晶装置の製造方法によって製
造される液晶装置の一例を分解状態で示す斜視図であ
る。
FIG. 18 is an exploded perspective view showing an example of a liquid crystal device manufactured by the method for manufacturing a liquid crystal device according to the present invention.

【図19】図18におけるI×−I×線に従って液晶装
置の断面構造を示す断面図である。
19 is a cross-sectional view showing a cross-sectional structure of the liquid crystal device according to the line Ix-Ix in FIG.

【図20】本発明に係るEL装置の製造方法の一実施形
態を示す工程図である。
FIG. 20 is a process chart showing one embodiment of a method for manufacturing an EL device according to the present invention.

【図21】図20に示す工程図に対応するEL装置の断
面図である。
21 is a cross-sectional view of the EL device corresponding to the process diagram shown in FIG.

【図22】従来のカラーフィルタの製造方法の一例を示
す図である。
FIG. 22 is a diagram illustrating an example of a conventional color filter manufacturing method.

【図23】従来のカラーフィルタの特性を説明するため
の図である。
FIG. 23 is a diagram illustrating characteristics of a conventional color filter.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 カラーフィルタ 2 基板 3 フィルタエレメント 4 保護膜 6 隔壁 7 フィルタエレメント形成領域 11 カラーフィルタ形成領域 12 マザー基板 13 フィルタエレメント材料 16 インクジェット装置 17 ヘッド位置制御装置 18 基板位置制御装置 19 主走査駆動装置 21 副走査駆動装置 22 インクジェットヘッド 26 ヘッドユニット 27 ノズル 28 ノズル列 39 インク加圧体 41 圧電素子 49 テーブル 76 キャッピング装置 77 クリーニング装置 78 電子天秤 81 ヘッド用カメラ 82 基板用カメラ 101 液晶装置 102 液晶パネル 107a,107b 基板 111a,111b 基材 114a,114b 電極 118 カラーフィルタ 201 EL装置 202 画素電極 203R,203G,203B 発光層 204 基板 205 バンク 213 対向電極 220 正孔注入層 L 液晶 M フィルタエレメント材料 × 主走査方向 Y 副走査方向 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Color filter 2 Substrate 3 Filter element 4 Protective film 6 Partition wall 7 Filter element formation area 11 Color filter formation area 12 Mother substrate 13 Filter element material 16 Ink jet device 17 Head position control device 18 Substrate position control device 19 Main scanning drive device 21 Sub Scanning drive device 22 Inkjet head 26 Head unit 27 Nozzle 28 Nozzle row 39 Ink pressurizing body 41 Piezoelectric element 49 Table 76 Capping device 77 Cleaning device 78 Electronic balance 81 Head camera 82 Camera for substrate 101 Liquid crystal device 102 Liquid crystal panel 107a, 107b Substrate 111a, 111b Base material 114a, 114b Electrode 118 Color filter 201 EL device 202 Pixel electrode 203R, 203G, 203B Light emitting layer 2 04 substrate 205 bank 213 counter electrode 220 hole injection layer L liquid crystal M filter element material × main scanning direction Y sub scanning direction

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G02F 1/1335 505 H05B 33/10 4D075 H05B 33/10 33/12 B 4F041 33/12 33/14 A 33/14 B41J 3/04 101Z (72)発明者 片上 悟 長野県諏訪市大和3丁目3番5号 セイコ ーエプソン株式会社内 (72)発明者 清水 政春 長野県諏訪市大和3丁目3番5号 セイコ ーエプソン株式会社内 (72)発明者 木口 浩史 長野県諏訪市大和3丁目3番5号 セイコ ーエプソン株式会社内 Fターム(参考) 2C056 EC08 EC12 EC34 EC42 FB01 2H048 BA02 BA11 BA55 BA64 BB02 BB41 BB42 2H088 FA18 FA30 HA12 MA04 2H091 FA02Y FA35Y FB02 FC12 FC29 FD04 GA13 LA15 LA18 3K007 AB04 AB18 BA06 CB01 DA00 DB03 EB00 FA00 FA01 FA03 4D075 AC07 AC73 AC93 CB08 DA06 DB13 DB31 DC21 DC24 EA07 EA33 EC60 4F041 AA01 AA02 AA05 AA06 AB02 BA13 BA21 ──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) G02F 1/1335 505 H05B 33/10 4D075 H05B 33/10 33/12 B 4F041 33/12 33/14 A 33 / 14 B41J 3/04 101Z (72) Inventor Satoru Katagami 3-5-5 Yamato, Suwa-shi, Nagano Seiko Epson Corporation (72) Inventor Masaharu Shimizu 3-5-2-5 Yamato, Suwa-shi, Nagano Seiko-Epson (72) Inventor Hiroshi Kiguchi 3-3-5 Yamato, Suwa-shi, Nagano Pref. 2H091 FA02Y FA35Y FB02 FC12 FC29 FD04 GA13 LA15 LA18 3K007 AB04 AB18 BA06 CB01 DA00 DB03 EB00 FA00 FA01 FA03 4D075 AC0 7 AC73 AC93 CB08 DA06 DB13 DB31 DC21 DC24 EA07 EA33 EC60 4F041 AA01 AA02 AA05 AA06 AB02 BA13 BA21

Claims (16)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 対象物に材料を吐出する材料の吐出方法
であって、 複数のノズルが配列されたノズル列を有するヘッド、及
び前記対象物のうちの一方を他方に対して主走査方向に
移動させながら前記複数のノズルのうち少なくとも1の
ノズルから材料を吐出する工程、を含み、 前記工程においては、前記ノズル列の端部に位置するノ
ズルが、前記材料を吐出しないよう制御されることを特
徴とする材料の吐出方法。
1. A material discharging method for discharging a material onto an object, comprising: a head having a nozzle row in which a plurality of nozzles are arranged; and one of the objects being moved in the main scanning direction with respect to the other. Discharging a material from at least one nozzle of the plurality of nozzles while moving, wherein in the step, a nozzle located at an end of the nozzle row is controlled so as not to discharge the material. A method for discharging a material, characterized in that:
【請求項2】 請求項1に記載の材料の吐出方法であっ
て、 前記ノズル列の端部に位置する複数のノズルが、前記材
料を吐出しないよう制御されることを特徴とする材料の
吐出方法。
2. The material discharging method according to claim 1, wherein a plurality of nozzles located at an end of the nozzle row are controlled so as not to discharge the material. Method.
【請求項3】 請求項2に記載の材料の吐出方法であっ
て、 前記ノズル列は、複数のグループに仮想的に分割されて
おり、 各前記グループが前記対象物の同じ部分を前記主走査方
向に走査できるように、前記ヘッド及び前記対象物のう
ちの一方を他方に対して副走査させる工程、を更に含む
ことを特徴とする材料の吐出方法。
3. The material discharging method according to claim 2, wherein the nozzle row is virtually divided into a plurality of groups, and each of the groups scans the same part of the target object in the main scanning. A step of sub-scanning one of the head and the object with respect to the other so as to scan in the direction.
【請求項4】 請求項1に記載の材料の吐出方法であっ
て、 前記ノズル列はn個のノズルグループに仮想的に分割さ
れており、 前記ノズル列のうち前記材料が吐出しないように制御さ
れるノズルを除いた部分の長さをL、前記ノズルグルー
プの数をn、前記ノズル列が前記副走査方向と成す角度
をθとするとき、前記副走査移動量δは、 δ≒(L/n)cosθ であることを特徴とする材料の吐出方法。
4. The material discharging method according to claim 1, wherein the nozzle row is virtually divided into n nozzle groups, and the nozzle row is controlled so as not to discharge the material. Assuming that the length of the portion excluding the nozzle to be performed is L, the number of the nozzle groups is n, and the angle between the nozzle row and the sub-scanning direction is θ, the sub-scanning movement amount δ is δ (L / N) cos θ 2.
【請求項5】 請求項1に記載の材料の吐出方法におい
て、前記ヘッドは複数個設けられるとともに、各々のヘ
ッドのノズル列からは互いに異なる材料が吐出されるこ
とを特徴とする材料の吐出方法。
5. The material discharging method according to claim 1, wherein a plurality of the heads are provided, and different materials are discharged from nozzle rows of each of the heads. .
【請求項6】 請求項1に記載の材料の吐出方法におい
て、前記ヘッドは複数の前記ノズル列が設けられるとと
もに、各前記ノズル列からは互いに異なる材料が吐出さ
れることを特徴とする材料の吐出方法。
6. The material discharging method according to claim 1, wherein the head is provided with a plurality of nozzle rows, and different materials are discharged from each of the nozzle rows. Discharge method.
【請求項7】 複数のノズルが配列されたノズル列を有
してなり、それら複数のノズルのうち少なくとも1のノ
ズルから材料を吐出する材料の吐出装置であって、 前記ノズルからの材料の吐出を制御する吐出制御手段を
具備し、 前記吐出制御手段は、前記ノズル列の端部に位置するノ
ズルが、前記材料を吐出しないよう制御することを特徴
とする材料の吐出装置。
7. A material discharging apparatus comprising a nozzle row in which a plurality of nozzles are arranged, wherein the material is discharged from at least one of the plurality of nozzles, wherein the material is discharged from the nozzles. A discharge control means for controlling the discharge of the material, wherein the discharge control means controls a nozzle located at an end of the nozzle row to not discharge the material.
【請求項8】請求項7に記載の材料の吐出装置であっ
て、 前記吐出制御手段は、前記ノズル列の端部に位置する複
数のノズルが、前記材料を吐出しないよう制御すること
を特徴とする材料の吐出装置。
8. The material discharge apparatus according to claim 7, wherein the discharge control means controls a plurality of nozzles located at an end of the nozzle row to not discharge the material. Material discharge device.
【請求項9】 基板上に複数のフィルタエレメントを配
列して成るカラーフィルタを製造するカラーフィルタの
製造方法であって、 複数のノズルが配列されたノズル列を有するヘッド、及
び前記基板のうちの一方を他方に対して主走査方向に移
動させながら前記複数のノズルのうち少なくとも1のノ
ズルからフィルタ材料を吐出する工程、を含み、 前記工程においては、前記ノズル列の端部に位置するノ
ズルが、前記フィルタ材料を吐出しないよう制御される
ことを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
9. A color filter manufacturing method for manufacturing a color filter in which a plurality of filter elements are arranged on a substrate, comprising: a head having a nozzle row in which a plurality of nozzles are arranged; Discharging a filter material from at least one nozzle of the plurality of nozzles while moving one in the main scanning direction with respect to the other, wherein the nozzle located at an end of the nozzle row includes A method of manufacturing the color filter, wherein the color filter material is controlled not to be discharged.
【請求項10】 複数のノズルが配列されたノズル列を
有してなり、それら複数のノズルのうち少なくとも1の
ノズルからフィルタ材料を吐出するカラーフィルタの製
造装置であって、 前記ノズルからのフィルタ材料の吐出を制御する吐出制
御手段を具備し、 前記吐出制御手段は、前記ノズル列の端部に位置するノ
ズルが、前記フィルタ材料を吐出しないよう制御するこ
とを特徴とするカラーフィルタの製造装置。
10. A color filter manufacturing apparatus comprising a nozzle row in which a plurality of nozzles are arranged, and discharging a filter material from at least one of the plurality of nozzles. A color filter manufacturing apparatus comprising: a discharge control unit configured to control discharge of a material; wherein the discharge control unit controls a nozzle located at an end of the nozzle row to not discharge the filter material. .
【請求項11】 液晶を挟持する一対の基板と、少なく
とも一方の基板上に複数のフィルタエレメントを配列し
て成るカラーフィルタとを有する液晶装置の製造方法で
あって、 複数のノズルが配列されたノズル列を有するヘッド、及
び前記基板のうちの一方を他方に対して主走査方向に移
動させながら前記複数のノズルのうち少なくとも1のノ
ズルからフィルタ材料を吐出する工程、を含み、 前記工程においては、前記ノズル列の端部に位置するノ
ズルが、前記フィルタ材料を吐出しないよう制御される
ことを特徴とする液晶装置の製造方法。
11. A method for manufacturing a liquid crystal device, comprising: a pair of substrates for sandwiching liquid crystal; and a color filter in which a plurality of filter elements are arranged on at least one substrate, wherein a plurality of nozzles are arranged. Discharging a filter material from at least one of the plurality of nozzles while moving one of the substrates in the main scanning direction with respect to the other, the head having a nozzle row; and A method of manufacturing a liquid crystal device, wherein a nozzle positioned at an end of the nozzle row is controlled so as not to discharge the filter material.
【請求項12】複数のノズルが配列されたノズル列を有
してなり、それら複数のノズルのうち少なくとも1のノ
ズルからフィルタ材料を吐出する液晶装置の製造装置で
あって、 前記ノズルからの前記フィルタ材料の吐出を制御する吐
出制御手段を具備し、 前記吐出制御手段は、前記ノズル列の端部に位置するノ
ズルが、前記フィルタ材料を吐出しないよう制御するこ
とを特徴とする液晶装置の製造装置。
12. A manufacturing apparatus for a liquid crystal device, comprising: a nozzle row in which a plurality of nozzles are arranged; and discharging a filter material from at least one of the plurality of nozzles. Manufacturing a liquid crystal device, comprising: discharge control means for controlling discharge of a filter material, wherein the discharge control means controls a nozzle located at an end of the nozzle row to not discharge the filter material. apparatus.
【請求項13】 EL発光層を含む複数の絵素ピクセル
を基板上に配列して成るEL装置の製造方法であって、 複数のノズルが配列されたノズル列を有するヘッド、及
び前記基板のうちの一方を他方に対して主走査方向に移
動させながら前記複数のノズルのうち少なくとも1のノ
ズルからEL発光材料を吐出する工程、を含み、前記工
程においては、前記ノズル列の端部に位置するノズル
が、前記EL発光材料を吐出しないよう制御されること
を特徴とするEL装置の製造方法。
13. A method of manufacturing an EL device comprising a plurality of picture element pixels including an EL light emitting layer arranged on a substrate, comprising: a head having a nozzle row in which a plurality of nozzles are arranged; Discharging an EL light-emitting material from at least one of the plurality of nozzles while moving one of the nozzles in the main scanning direction with respect to the other, wherein the step is performed at an end of the nozzle row. A method of manufacturing an EL device, wherein a nozzle is controlled so as not to discharge the EL light emitting material.
【請求項14】 複数のノズルが配列されたノズル列を
有してなり、それら複数のノズルのうち少なくとも1の
ノズルからEL発光材料を吐出するEL装置の製造装置
であって、 前記ノズルからのEL発光材料の吐出を制御する吐出制
御手段を具備し、 前記吐出制御手段は、前記ノズル列の端部に位置するノ
ズルが、前記EL発光材料を吐出しないよう制御するこ
とを特徴とするEL装置の製造装置。
14. An apparatus for manufacturing an EL device, comprising: a nozzle row in which a plurality of nozzles are arranged; and discharging an EL light emitting material from at least one of the plurality of nozzles. An EL device, comprising: discharge control means for controlling discharge of an EL light-emitting material, wherein the discharge control means controls a nozzle located at an end of the nozzle row so as not to discharge the EL light-emitting material. Manufacturing equipment.
【請求項15】 請求項11に記載の液晶装置の製造方
法を用いて製造した液晶装置を搭載した電子機器。
15. An electronic apparatus equipped with a liquid crystal device manufactured by using the method for manufacturing a liquid crystal device according to claim 11.
【請求項16】 請求項13に記載のEL装置の製造方法
を用いて製造したEL装置を搭載した電子機器。
16. An electronic device equipped with an EL device manufactured by using the method for manufacturing an EL device according to claim 13.
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