JP2005172928A - Method for manufacturing electrooptical device, and method and apparatus for manufacturing substrate for electrooptical device - Google Patents

Method for manufacturing electrooptical device, and method and apparatus for manufacturing substrate for electrooptical device Download PDF

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Toshiyuki Nakatani
敏之 中谷
Noriyasu Aoki
義安 青木
Takayuki Onouchi
隆行 小野内
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for manufacturing an electrooptical device that can accurately apply liquid particles at a desired position and can accurately form a substrate for the electrooptical device in the manufacture of the substrate for the electrooptical device, and to provide a method for manufacturing the substrate for the electrooptical device and an apparatus for manufacturing the substrate for the electrooptical device. <P>SOLUTION: A piston rod 48 receives force of a pressure actuator to apply prescribed pressure on a filter material in a cylinder 43 by the piston. The liquid particles 8 are formed on edge parts 42 of a plurality of liquid particle forming members 31 by the pressure of the pressure actuator. When an applying head 15 is moved to a main scanning direction (X), it is lowered at each time when it reaches a prescribed position, and the liquid particles 8 formed on the plurality of the liquid particle forming members 41 is applied on a sub-pixel region in a mother substrate. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は、電気光学装置に用いられる電気光学装置用基板を製造する製造方法及び製造装置に関するものである。また、対象物に材料を塗布する材料の塗布方法、及び材料の塗布装置に関する。   The present invention relates to a manufacturing method and a manufacturing apparatus for manufacturing a substrate for an electro-optical device used in an electro-optical device. The present invention also relates to a material application method for applying a material to an object and a material application apparatus.

近年、携帯電話機、携帯型コンピュータ等といった電子機器の表示部に、電気光学装置として液晶表示装置が広く用いられている。また、表示部には通常カラー表示できるようになっている。液晶表示装置によるカラー表示は、例えば、液晶層によって変調される光を電気光学装置用基板であるカラーフィルタに通すことによって行われる。そして、カラーフィルタは、ガラス、プラスチック等によって形成された基板の表面に、例えば、R(赤),G(緑),B(青)のドット状の各色サブ画素を並べることによって形成される。   In recent years, liquid crystal display devices have been widely used as electro-optical devices in display units of electronic devices such as mobile phones and portable computers. In addition, the display unit can usually perform color display. Color display by the liquid crystal display device is performed, for example, by passing light modulated by the liquid crystal layer through a color filter that is a substrate for an electro-optical device. The color filter is formed by arranging, for example, R (red), G (green), and B (blue) dot-shaped sub-pixels on the surface of a substrate formed of glass, plastic, or the like.

また、近年の高画質および高解像度化に伴って、画素が微細化したものについては、微少量の液滴を確実に所定領域に吐出する必要がある。   In addition, with the recent trend toward high image quality and high resolution, it is necessary to reliably discharge a small amount of liquid droplets to a predetermined region for pixels with finer pixels.

従来、カラーフィルタのR,G,B等の各色サブ画素を形成する方法として、例えば、ダイヤフラムの変形を利用して色素機能液であるフィルタ剤を微少量にした液滴を吐出する方法が提案されている(例えば、特許文献1)。   Conventionally, as a method of forming each color sub-pixel of R, G, B, etc. of a color filter, for example, a method of ejecting droplets in which a filter agent, which is a dye functional liquid, is made very small by utilizing deformation of a diaphragm has been proposed. (For example, Patent Document 1).

また、インクジェット法を用いて液滴を吐出する方法も提案されている(例えば、特許文献2)。   In addition, a method of ejecting droplets using an inkjet method has been proposed (for example, Patent Document 2).

特開2001−63035号公報JP 2001-63035 A 特開2002−221616号公報JP 2002-221616 A

しかしながら、例えば、液滴を吐出する場合、吐出口とカラーフィルタを形成する基板との間は1〜3mm程の間隔があるため、空気中に発生する気流等の環境変化によってフィルタ剤の着弾位置が変化してしまっていた。又、前記1〜3mm程の間隔のばらつきが生じることによっても着弾位置が変化してしまっていた。そして、液滴が小さくなれば空気抵抗によって浮遊時間が長くなり着弾位置も大きく変化し、所望の位置に着弾しないという問題もあった。   However, for example, when droplets are ejected, there is an interval of about 1 to 3 mm between the ejection port and the substrate on which the color filter is formed. Therefore, the landing position of the filter agent due to environmental changes such as airflow generated in the air Has changed. Further, the landing position is also changed by the variation in the interval of about 1 to 3 mm. If the droplets become smaller, the floating time becomes longer due to air resistance, and the landing position changes greatly, and there is also a problem that the landing does not occur at a desired position.

更に、フィルタ剤を吐出する吐出ヘッドは高速で移動するため、タイミングベルトなどの駆動ベルトの動作変動による速度の微妙なばらつきによっても、フィルタ剤の着弾位置が変化してしまうという問題があった。例えば、所定領域内から外れて着弾したり、浮遊したまま着弾されない場合には膜厚がばらつく原因となる。   Furthermore, since the ejection head for ejecting the filter agent moves at a high speed, there has been a problem that the landing position of the filter agent changes even if the speed varies slightly due to fluctuations in the operation of a driving belt such as a timing belt. For example, if the material lands outside the predetermined area or lands on a floating surface, the film thickness may vary.

そして、フィルタ剤の膜厚にバラツキが生じることによって、カラーフィルタの平面的な光透過特性が不均一になるという深刻な問題となっていた。従来の製造方法では、微細になった画素において、カラーフィルタの平面的な光透過特性が不均一になるという上記問題を解決するものではなかった。   Further, the variation in the film thickness of the filter agent has caused a serious problem that the planar light transmission characteristics of the color filter become non-uniform. The conventional manufacturing method does not solve the above-described problem that the planar light transmission characteristics of the color filter are non-uniform in a fine pixel.

本発明は、電気光学装置用基板の製造において、液粒を所望の位置に正確に塗布することができるとともに、精度よく電気光学装置用基板を形成できる電気光学装置の製造方法、電気光学装置用基板の製造方法、及び、電気光学装置用基板の製造装置を提供することを目的とする。   The present invention provides an electro-optical device manufacturing method and an electro-optical device capable of accurately applying a liquid particle to a desired position and forming an electro-optical device substrate with high accuracy in the manufacture of an electro-optical device substrate. It is an object of the present invention to provide a substrate manufacturing method and an electro-optical device substrate manufacturing apparatus.

本発明の電気光学装置用基板の製造方法は、基板に色素機能液を塗布して複数の着色層を配列して成る電気光学装置用基板の製造方法であって、液粒形成部材に前記色素機能液の液粒を形成する工程と、前記液粒形成部材に形成された前記液粒を前記基板の所定領域に塗布する工程とを備えたことを要旨としている。   The method for manufacturing an electro-optical device substrate according to the present invention is a method for manufacturing a substrate for an electro-optical device, in which a dye functional liquid is applied to a substrate and a plurality of colored layers are arranged. The gist of the invention is that it includes a step of forming a liquid droplet of a functional liquid, and a step of applying the liquid particle formed on the liquid particle forming member to a predetermined region of the substrate.

これによれば、液粒形成部材の所定部位に形成された液粒は基板の所定領域に塗布されるので、正確に液粒が塗布(付着)される。よって、所定領域内の必要な膜厚を高い精度で形成することが可能になる。   According to this, since the liquid particle formed in the predetermined site | part of the liquid particle formation member is apply | coated to the predetermined area | region of a board | substrate, a liquid particle is apply | coated (attached) correctly. Therefore, it is possible to form a necessary film thickness within a predetermined region with high accuracy.

この電気光学装置用基板の製造方法は、前記所定領域に塗布する工程では、前記所定領域に必要な全液量を複数回に分けて塗布しうるように前記液粒の液量を決定し、前記液粒の塗布回数によって前記所定領域に塗布する量を制御することを要旨としている。   In the method of manufacturing the substrate for an electro-optical device, in the step of applying to the predetermined region, the liquid amount of the liquid particle is determined so that the total liquid amount necessary for the predetermined region can be applied in a plurality of times. The gist is to control the amount applied to the predetermined region by the number of times of applying the liquid droplets.

これによれば、必要量の液量は複数回の液粒を塗布する塗布回数によって膜厚を制御している。よって、必要量の膜厚を高い精度で形成することが可能になる。   According to this, the required amount of liquid is controlled in film thickness by the number of times of applying liquid droplets a plurality of times. Therefore, it becomes possible to form a required amount of film thickness with high accuracy.

この電気光学装置用基板の製造方法は、前記液粒の重量を測定して前記液粒の前記塗布回数を決定する工程を備えたことを要旨としている。   The gist of this method for manufacturing a substrate for an electro-optical device includes a step of measuring the weight of the liquid droplets and determining the number of times of application of the liquid droplets.

これによれば、必要な液粒の量は、液粒の重量を測定してから必要な液粒の塗布回数を決定するので、必要な液量が精度よく塗布される。よって、必要量の膜厚を高い精度で形成することが可能になる。   According to this, since the required amount of liquid particles determines the number of times of application of the required liquid particles after measuring the weight of the liquid particles, the required liquid amount is applied with high accuracy. Therefore, it becomes possible to form a required amount of film thickness with high accuracy.

この電気光学装置用基板の製造方法は、複数回の塗布のうち、1回目の塗布で前記液粒形成部材に形成された前記液粒が前記基板に接触し、かつ、最終回の塗布で前記液粒形成部材が前記基板上の既に塗布済みの液面に触れない高さまで前記液粒形成部材を下降させることにより前記複数回の塗布を行うことを要旨としている。   In the method for manufacturing the substrate for an electro-optical device, the liquid particles formed on the liquid particle forming member in a first application out of a plurality of applications are in contact with the substrate, and the application is performed in a final application. The gist is to perform the application a plurality of times by lowering the liquid particle forming member to a height at which the liquid particle forming member does not touch the already applied liquid surface on the substrate.

これによれば、1回目の塗布から最終回の塗布まで、塗布済みの液面に触れない一定の高さで液粒の塗布を行うので、塗布の際に液粒形成部材の先端等の所定部位は液面に触れない。よって、液粒形成部材が液面に触れたことによって、逆に液粒形成部材に液が付着して必要量に塗布ができなくなる不具合は防止できる。   According to this, since the liquid particle is applied at a constant height that does not touch the applied liquid surface from the first application to the final application, a predetermined point such as the tip of the liquid particle forming member is applied at the time of application. The part does not touch the liquid level. Therefore, the liquid particle forming member touching the liquid surface can prevent the problem that the liquid adheres to the liquid particle forming member and cannot be applied to the required amount.

この電気光学装置用基板の製造方法は、前記液粒は、液体収容部内の前記色素機能液が加圧手段により加圧されることで前記液粒形成部材に形成され、前記液粒の液量は、前記加圧手段が前記色素機能液を加圧する加圧時間によって制御することを要旨としている。   In the method for manufacturing the substrate for an electro-optical device, the liquid particles are formed on the liquid particle forming member by pressurizing the dye functional liquid in the liquid storage portion by a pressurizing unit. Is summarized in that the pressurizing means controls the pressurizing time for pressurizing the dye functional liquid.

これによれば、液粒の液量は、色素機能液を加圧する時間によって制御しているので、所定の量の液粒を形成することができる。よって、塗布の時間間隔が異なっても、つまり、どんな塗布タイミングでも所定の液粒の量を塗布することが可能になる。   According to this, since the liquid amount of the liquid particles is controlled by the time for pressurizing the dye functional liquid, a predetermined amount of liquid particles can be formed. Therefore, it is possible to apply a predetermined amount of liquid droplets at different application time intervals, that is, at any application timing.

この電気光学装置用基板の製造方法は、前記液粒の液量は、前記加圧手段により前記色素機能液を加圧する加圧値と塗布する時間間隔とによって前記液粒の液量を制御することを要旨としている。   In this method of manufacturing a substrate for an electro-optical device, the liquid amount of the liquid particles is controlled by a pressure value for pressurizing the dye functional liquid by the pressurizing unit and a time interval for coating. This is the gist.

これによれば、加圧値と塗布の時間間隔で液粒の量を制御する。よって、加圧時間のみで液量を正確に制御することは難しいが、決めた一定の加圧に保持した状態で、同様に決めた時間間隔で塗布していけば、正確な液粒量で塗布することができる。   According to this, the amount of liquid particles is controlled by the pressurization value and the application time interval. Therefore, it is difficult to accurately control the liquid volume only by the pressurization time, but if the liquid is applied at the determined time interval while maintaining the fixed pressure, the liquid volume will be accurate. Can be applied.

この電気光学装置用基板の製造方法は、前記液粒形成部材の少なくとも前記所定部位は、前記基板より撥液性の高い材質で形成されていることを要旨としている。   This electro-optical device substrate manufacturing method is characterized in that at least the predetermined portion of the liquid particle forming member is formed of a material having higher liquid repellency than the substrate.

これによれば、液粒を保持する液粒形成部材の所定部位は、基板より撥液性を有する材質で形成されることにより、液粒を基板側に確実に塗布させることができる。よって、必要な膜厚を高い精度で形成することが可能になる。   According to this, the predetermined part of the liquid particle forming member that holds the liquid particles is formed of a material having liquid repellency from the substrate, so that the liquid particles can be reliably applied to the substrate side. Therefore, it becomes possible to form a required film thickness with high accuracy.

この電気光学装置用基板の製造方法は、前記液粒形成部材は複数備えられ、前記所定領域に塗布する工程では、複数の前記液粒形成部材によって前記液粒を複数滴同時に塗布することを要旨としている。   The electro-optical device substrate manufacturing method includes a plurality of the liquid droplet forming members, and in the step of applying to the predetermined region, the liquid droplets are simultaneously applied by the liquid droplet forming members. It is said.

これによれば、複数の液粒形成部材によって複数の液粒が形成され、この複数の液粒を同時に塗布することができる。よって、所定領域に必要な液量を短時間で塗布することが可能になる。   According to this, a plurality of liquid particles are formed by the plurality of liquid particle forming members, and the plurality of liquid particles can be applied simultaneously. Therefore, it is possible to apply a necessary amount of liquid in a predetermined area in a short time.

この電気光学装置用基板の製造方法は、複数の前記液粒形成部材は、共通の前記液体収容部と連通されていることを要旨としている。   The gist of the electro-optical device substrate manufacturing method is that a plurality of the liquid droplet forming members communicate with the common liquid storage portion.

これによれば、複数の液粒形成部材と液体収容部とは連通されているので、同一の加圧手段によって複数の液粒形成部材の液粒を形成することができる。よって、同時に塗布されるそれぞれの液粒の液量は、ばらつきにくくなる。   According to this, since the plurality of liquid particle forming members and the liquid storage portion are communicated with each other, the liquid particles of the plurality of liquid particle forming members can be formed by the same pressurizing means. Therefore, the liquid amount of each liquid particle applied simultaneously becomes difficult to vary.

本発明の電気光学装置の製造方法は、請求項1〜9のいずれか1項に記載の電気光学装置用基板の製造方法を含むことを要旨としている。   The gist of a method for manufacturing an electro-optical device according to the present invention includes the method for manufacturing a substrate for an electro-optical device according to any one of claims 1 to 9.

これによれば、電気光学装置の製造方法は電気光学装置用基板の製造方法を含んでいる。よって、液粒形成部材の所定部位に形成された液粒は基板の所定領域に塗布されるので、正確に液粒が塗布(付着)される。従って、所定領域内の必要な膜厚を高い精度に形成することが可能になる。   According to this, the method for manufacturing an electro-optical device includes a method for manufacturing a substrate for an electro-optical device. Accordingly, since the liquid particles formed at the predetermined portion of the liquid particle forming member are applied to the predetermined region of the substrate, the liquid particles are accurately applied (attached). Therefore, it becomes possible to form the required film thickness in the predetermined region with high accuracy.

本発明の電気光学装置用基板の製造装置は、電気光学装置用基板を形成するために基板に塗布する色素機能液を収容する液体収容部と、前記液体収容部の前記色素機能液を液粒とする液粒形成部材と、前記液粒形成部材に前記液粒を形成するために前記液体収容部内の前記色素機能液を加圧する加圧手段と、前記液粒形成部材と前記基板との少なくとも一方を接近させることにより前記基板上の所定領域に前記液粒を塗布させる移動手段とを備えたことを要旨としている。   An apparatus for manufacturing an electro-optical device substrate according to the present invention includes: a liquid storage unit that stores a dye functional liquid to be applied to a substrate to form the electro-optical device substrate; and a liquid particle containing the dye functional liquid in the liquid storage unit A liquid particle forming member, a pressurizing unit that pressurizes the dye functional liquid in the liquid storage portion to form the liquid particle on the liquid particle forming member, and at least the liquid particle forming member and the substrate The gist is provided with moving means for applying the liquid particles to a predetermined region on the substrate by bringing one of them close.

これによれば、液粒形成部材の所定部位に形成された液粒は基板の所定領域に塗布されるので、正確に液粒が塗布(付着)される。よって、所定領域内の必要な膜厚を高い精度で形成することが可能になる。   According to this, since the liquid particle formed in the predetermined site | part of the liquid particle formation member is apply | coated to the predetermined area | region of a board | substrate, a liquid particle is apply | coated (attached) correctly. Therefore, it is possible to form a necessary film thickness within a predetermined region with high accuracy.

(第1実施形態)
以下、本発明を具体化した第1実施形態を図面を参照しつつ、電気光学装置用基板であるカラーフィルタの製造方法及びその製造装置について説明する。まず、それらの製造方法及び製造装置を説明するのに先立って、それらの製造方法等を用いて製造されるカラーフィルタについて説明する。
(First embodiment)
Hereinafter, a method for manufacturing a color filter, which is a substrate for an electro-optical device, and a manufacturing apparatus thereof will be described with reference to the drawings according to a first embodiment of the present invention. First, prior to explaining these production methods and production apparatuses, color filters produced using those production methods and the like will be explained.

図1(a)は、カラーフィルタ1の平面構造を示す模式平面図である。図1(b)は、基板としてのマザー基板12の平面構造を示す模式平面図である。   FIG. 1A is a schematic plan view showing a planar structure of the color filter 1. FIG. 1B is a schematic plan view showing a planar structure of a mother substrate 12 as a substrate.

本実施形態のカラーフィルタ1は、ガラス、プラスチック等によって形成された方形状の基板2の表面に複数の着色層としてのサブ画素3をドットパターン状、本実施形態ではドットマトリクス状に形成し、なお、図1(a)は保護膜4(図2(d)参照)を取り除いた状態のカラーフィルタ1を平面的に示している。   The color filter 1 of the present embodiment forms a plurality of sub-pixels 3 as colored layers on a surface of a rectangular substrate 2 formed of glass, plastic, or the like in a dot pattern, in this embodiment a dot matrix, 1A is a plan view of the color filter 1 with the protective film 4 (see FIG. 2D) removed.

サブ画素3は、透光性のない樹脂材料によって格子状のパターンに形成された隔壁6によって区画されてドットマトリクス状に並んだ複数の方形状の領域を色材で埋めることによって形成される。また、これらのサブ画素3は、それぞれが、R(赤)、G(緑)、B(青)のうちのいずれか1色の色材によって形成され、それらの各色サブ画素3が所定の配列に並べられている。   The sub-pixel 3 is formed by filling a plurality of rectangular regions, which are partitioned by partition walls 6 formed in a lattice pattern with a resin material having no translucency and are arranged in a dot matrix, with a color material. Each of the sub-pixels 3 is formed of a color material of any one color of R (red), G (green), and B (blue), and each of the color sub-pixels 3 is arranged in a predetermined arrangement. Are listed.

カラーフィルタ1の大きさは、例えば、1.8インチである。また、1個のサブ画素3の大きさは、例えば、30μm×100μmである。また、各サブ画素3の間の間隔、いわゆるサブ画素間ピッチは、例えば、75μmである。   The size of the color filter 1 is, for example, 1.8 inches. Further, the size of one sub-pixel 3 is, for example, 30 μm × 100 μm. Further, the interval between the sub-pixels 3, that is, the so-called sub-pixel pitch is, for example, 75 μm.

上記のカラーフィルタ1は、例えば、図1(b)に示すような大面積のマザー基板12から切り出される。具体的には、まず、マザー基板12内に設定された複数のカラーフィルタ形成領域11のそれぞれの表面にカラーフィルタ1の1個分のパターンを形成し、さらにそれらのカラーフィルタ形成領域11の周りに切断用の溝を形成し、さらにそれらの溝に沿ってマザー基板12を切断することにより、個々のカラーフィルタ1が形成される。   The color filter 1 is cut out from a mother substrate 12 having a large area as shown in FIG. Specifically, first, a pattern for one color filter 1 is formed on the surface of each of the plurality of color filter forming regions 11 set in the mother substrate 12, and the surroundings of these color filter forming regions 11 are further formed. By forming grooves for cutting, and further cutting the mother substrate 12 along these grooves, individual color filters 1 are formed.

以下、図1(a)に示すカラーフィルタ1を製造する製造方法及びその製造装置について説明する。   Hereinafter, a manufacturing method and a manufacturing apparatus for manufacturing the color filter 1 shown in FIG.

図2は、カラーフィルタ1の製造方法を工程順に示す模式図である。なお、図2(d)は図1(a)のVI−VI線に従った断面構造を示している。さらに図2(d)に示すように、その上に保護膜4を積層することによって形成されている。   FIG. 2 is a schematic view showing a method of manufacturing the color filter 1 in the order of steps. 2D shows a cross-sectional structure according to the VI-VI line of FIG. Further, as shown in FIG. 2 (d), a protective film 4 is laminated thereon.

本実施形態のカラーフィルタ1をカラー表示のための光学要素として用いる場合には、R,G,B3個のサブ画素3を1つのユニットとして1つの画素を形成し、1画素内のR,G,Bのいずれか1つ又はそれらの組み合わせに光を選択的に通過させることにより、カラー表示を行う。このとき、透光性のない樹脂材料によって形成された隔壁6はブラックマトリクスとして作用する。   When the color filter 1 of the present embodiment is used as an optical element for color display, one pixel is formed with R, G, B3 sub-pixels 3 as one unit, and R, G in one pixel is formed. , B, or a combination thereof, color is displayed by selectively allowing light to pass through. At this time, the partition 6 formed of a resin material having no translucency functions as a black matrix.

まず、マザー基板12の表面に透光性のない樹脂材料によって隔壁6を矢印B方向から見て格子状パターンに形成する。格子状パターンの格子穴の部分はサブ画素3が形成される領域、すなわちサブ画素領域7である。この隔壁6によって形成される個々のサブ画素領域7の矢印B方向から見た場合の平面寸法は、例えば30μm×100μm程度に形成される。   First, the partition walls 6 are formed on the surface of the mother substrate 12 in a lattice pattern as viewed from the direction of the arrow B with a resin material having no translucency. The lattice hole portion of the lattice pattern is a region where the sub-pixel 3 is formed, that is, the sub-pixel region 7. The planar dimensions of the individual sub-pixel regions 7 formed by the partition walls 6 when viewed from the direction of the arrow B are, for example, about 30 μm × 100 μm.

隔壁6は、サブ画素領域7に供給される色素機能液としてのフィルタ剤13の流動を阻止する機能及びブラックマトリクスの機能を併せて有する。また、隔壁6は任意のパターニング手法、例えばフォトリソグラフィー法によって形成され、さらに必要に応じてヒータによって加熱されて焼成される。   The partition wall 6 has a function of blocking the flow of the filter agent 13 as a dye functional liquid supplied to the sub-pixel region 7 and a function of a black matrix. Moreover, the partition 6 is formed by arbitrary patterning methods, for example, a photolithography method, and is further heated and baked with a heater as needed.

隔壁6の形成後、図2(b)に示すように、フィルタ剤13の液粒8を各サブ画素領域7に供給することにより、各サブ画素領域7をフィルタ剤13で埋める。符号13RはR(赤)の色を有するフィルタ剤を示し、符号13GはG(緑)の色を有するフィルタ剤を示し、そして符号13BはB(青)の色を有するフィルタ剤を示している。   After the partition wall 6 is formed, each sub-pixel region 7 is filled with the filter agent 13 by supplying the liquid particles 8 of the filter agent 13 to each sub-pixel region 7 as shown in FIG. Reference numeral 13R denotes a filter agent having an R (red) color, reference numeral 13G denotes a filter agent having a G (green) color, and reference numeral 13B denotes a filter agent having a B (blue) color. .

各サブ画素領域7に所定量のフィルタ剤13が充填されると、ヒータによってマザー基板12を例えば70℃程度に加熱して、フィルタ剤13の溶媒を蒸発させる。この蒸発により、図2(c)に示すように、フィルタ剤13の体積が減少し平坦化する。体積の減少が激しい場合には、カラーフィルタ1として十分な膜厚が得られるまで、フィルタ剤13の液粒8の供給とその液粒8の加熱とを繰り返して実行する。以上の処理により、最終的にフィルタ剤13の固形分のみが残留して膜化し、これにより、希望する各色サブ画素3が形成される。   When a predetermined amount of the filter agent 13 is filled in each sub-pixel region 7, the mother substrate 12 is heated to, for example, about 70 ° C. by a heater to evaporate the solvent of the filter agent 13. By this evaporation, as shown in FIG. 2C, the volume of the filter agent 13 is reduced and flattened. When the volume is drastically reduced, the supply of the liquid particles 8 of the filter agent 13 and the heating of the liquid particles 8 are repeatedly performed until a sufficient film thickness is obtained for the color filter 1. By the above processing, only the solid content of the filter agent 13 is finally left to form a film, thereby forming each desired color sub-pixel 3.

以上によりサブ画素3が形成された後、それらのフィラメントを完全に乾燥させるために、所定の温度で所定時間の加熱処理を実行する。その後、例えば、スピンコート法、ロールコート法、リッピング法、又はインクジェット法等といった適宜の手法を用いて保護膜4を形成する。この保護膜4は、サブ画素3等の保護及びカラーフィルタ1の表面の平坦化のために形成される。   After the sub-pixels 3 are formed as described above, a heat treatment is performed at a predetermined temperature for a predetermined time in order to completely dry the filaments. Thereafter, the protective film 4 is formed using an appropriate method such as a spin coating method, a roll coating method, a ripping method, or an ink jet method. This protective film 4 is formed for protecting the sub-pixel 3 and the like and for flattening the surface of the color filter 1.

図3は、サブ画素の配列例を示す図である。   FIG. 3 is a diagram illustrating an exemplary arrangement of sub-pixels.

この配列としては、例えば、図3(a)に示すストライプ配列、図3(b)に示すモザイク配列、図3(c)に示すデルタ配列等が知られている。   As this arrangement, for example, a stripe arrangement shown in FIG. 3A, a mosaic arrangement shown in FIG. 3B, a delta arrangement shown in FIG.

ストライプ配列は、マトリクスの縦列が全て同色(3R、3G、3B)になる配色である。モザイク配列は、縦横の直線上に並んだ任意の3つのサブ画素3がR(3R),G(3G),B(3B)の3色となる配色である。そして、デルタ配列は、サブ画素3の配置を段違いにし、任意の隣接する3つのサブ画素3がR(3R),G(3G),B(3G)の3色となる配色である。   The stripe arrangement is a color scheme in which all columns of the matrix are the same color (3R, 3G, 3B). The mosaic arrangement is a color scheme in which any three sub-pixels 3 arranged on a vertical and horizontal straight line have three colors of R (3R), G (3G), and B (3B). The delta arrangement is a color arrangement in which the arrangement of the sub-pixels 3 is made different, and any three adjacent sub-pixels 3 are R (3R), G (3G), and B (3G).

図4は、図2(b)に示したカラーフィルタ1にフィルタ剤13の供給処理を行うための装置を示している。   FIG. 4 shows an apparatus for supplying the filter agent 13 to the color filter 1 shown in FIG.

このカラーフィルタ1の製造装置である液粒塗布装置14はR,G,Bのうちの1色、例えばR色のフィルタ剤13を液粒8として、マザー基板12(図1(b)参照)内の各カラーフィルタ形成領域11内の所定位置に塗布して付着させるための装置である。G色のフィルタ剤13及びB色のフィルタ剤13のための液粒塗布装置もそれぞれに用意されるが、それらの構造は図4のものと同じにすることができるので、それらについての説明は省略する。   A liquid particle application device 14 which is a manufacturing apparatus of the color filter 1 uses one of R, G and B, for example, an R color filter agent 13 as a liquid particle 8, and is a mother substrate 12 (see FIG. 1B). It is an apparatus for applying and adhering to a predetermined position in each color filter forming region 11. Liquid droplet coating devices for the G color filter agent 13 and the B color filter agent 13 are also prepared for each, but their structures can be the same as those in FIG. Omitted.

図4において、液粒塗布装置14は、塗布ヘッド15を備えたヘッドユニット16と、塗布ヘッド15の位置を制御する移動手段としてのヘッド位置制御装置17と、マザー基板12の位置を制御する基板位置制御装置18と、塗布ヘッド15をマザー基板12に対して主走査移動(X)させる主走査駆動装置19と、塗布ヘッド15をマザー基板12に対して副走査移動(Y)させる副走査駆動装置21と、マザー基板12を液粒塗布装置14内の所定の作業位置へ供給する基板供給装置23と、そして液粒塗布装置14の全般の制御を司るコントロール装置24とを有する。更に、液粒塗布装置14は、塗布開始位置の監視を行うヘッド用カメラ25と、マザー基板12の位置決めを行う基板用カメラ26とを有する。基板位置制御装置18は、マザー基板12を載せるテーブル27を有する。   In FIG. 4, the liquid droplet coating device 14 includes a head unit 16 having a coating head 15, a head position control device 17 as a moving unit that controls the position of the coating head 15, and a substrate that controls the position of the mother substrate 12. A position control device 18, a main scanning drive device 19 for moving the coating head 15 with respect to the mother substrate 12 (X), and a sub-scanning drive for moving the coating head 15 with respect to the mother substrate 12 (Y). A device 21, a substrate supply device 23 that supplies the mother substrate 12 to a predetermined work position in the liquid droplet applying device 14, and a control device 24 that controls the liquid droplet applying device 14 in general. Further, the liquid droplet application device 14 includes a head camera 25 that monitors the application start position and a substrate camera 26 that positions the mother substrate 12. The substrate position control device 18 includes a table 27 on which the mother substrate 12 is placed.

ヘッド位置制御装置17、基板位置制御装置18、塗布ヘッド15をマザー基板12に対して主走査移動(X)させる主走査駆動装置19、そして副走査駆動装置21の各装置はベース28の上に設置される。また、それらの各装置は必要に応じてカバー29によって覆われる。   The head position control device 17, the substrate position control device 18, the main scanning drive device 19 for moving the coating head 15 in the main scanning movement (X) with respect to the mother substrate 12, and the sub-scanning drive device 21 are arranged on the base 28. Installed. Each of these devices is covered with a cover 29 as necessary.

図4に示した基板供給装置23は、マザー基板12を収容する基板収容部23aと、マザー基板12を搬送するロボット23bとを有する。ロボット23bは、床、地面等といった設置面に置かれる基台23cと、基台23cに対して昇降移動する昇降軸23dと、昇降軸23dを中心として回転する第1アーム23eと、第1アーム23eに対して回転する第2アーム23fと、第2アーム23fの先端下面に設けられた吸着パッド23gとを有する。吸着パッド23gは空気吸引等によってマザー基板12を吸着できる。   The substrate supply device 23 illustrated in FIG. 4 includes a substrate accommodating portion 23 a that accommodates the mother substrate 12 and a robot 23 b that conveys the mother substrate 12. The robot 23b includes a base 23c placed on an installation surface such as a floor and the ground, a lift shaft 23d that moves up and down relative to the base 23c, a first arm 23e that rotates about the lift shaft 23d, and a first arm A second arm 23f that rotates relative to 23e, and a suction pad 23g provided on the lower surface of the tip of the second arm 23f. The suction pad 23g can suck the mother substrate 12 by air suction or the like.

図4において、主走査駆動装置19によって駆動されて主走査移動(X)する塗布ヘッド15の軌跡下であって副走査駆動装置21の一方の脇位置に、電子天秤30が配設される。   In FIG. 4, an electronic balance 30 is disposed under the trajectory of the coating head 15 driven by the main scanning driving device 19 and moving in the main scanning (X) and at one side position of the sub-scanning driving device 21.

電子天秤30は塗布ヘッド15内の個々の液粒形成部材41(図6参照)から塗布されるフィルタ剤13の液粒8の重量をそれぞれの液粒形成部材41ごとに測定する機器である。   The electronic balance 30 is a device that measures the weight of the liquid particles 8 of the filter agent 13 applied from the individual liquid particle forming members 41 (see FIG. 6) in the coating head 15 for each liquid particle forming member 41.

コントロール装置24は、プロセッサを収容したコンピュータ本体部24aと、入力装置としてのキーボード24bと、表示装置としてのCRT(Cathode Ray Tube)ディスプレイ24cとを有する。上記プロセッサは、後述する図7に示すように、演算処理を行うCPU(Central Processing Unit)51と、各種情報を記憶するメモリすなわち情報記憶媒体52とを有する。   The control device 24 includes a computer main body 24a that accommodates a processor, a keyboard 24b as an input device, and a CRT (Cathode Ray Tube) display 24c as a display device. As shown in FIG. 7 described later, the processor includes a CPU (Central Processing Unit) 51 that performs arithmetic processing, and a memory that stores various types of information, that is, an information storage medium 52.

図5は、図4に示した液粒塗布装置14の塗布ヘッド15とマザー基板12との周辺を拡大して示した拡大図である。   FIG. 5 is an enlarged view showing the periphery of the coating head 15 and the mother substrate 12 of the liquid droplet coating apparatus 14 shown in FIG.

図5において、ヘッド位置制御装置17は、塗布ヘッド15を面内回転させるαモータ33と、塗布ヘッド15を副走査方向(Y)と平行な軸線回りに揺動回転させるβモータ34と、塗布ヘッド15を主走査方向(X)と平行な軸線回りに揺動回転させるγモータ35と、そして塗布ヘッド15を上下方向へ移動させるzモータ36を有する。   In FIG. 5, the head position control device 17 includes an α motor 33 that rotates the coating head 15 in-plane, a β motor 34 that swings and rotates the coating head 15 about an axis parallel to the sub-scanning direction (Y), and coating. A γ motor 35 that swings and rotates the head 15 about an axis parallel to the main scanning direction (X) and a z motor 36 that moves the coating head 15 in the vertical direction are provided.

図4に示した移動手段としての基板位置制御装置18は、図5において、マザー基板12を載せるテーブル27と、そのテーブル27を矢印θのように面内回転させるθモータ37とを有する。また、図4に示した主走査駆動装置19は、図5に示すように、主走査方向(X)へ延びるガイドレール19aと、パルス駆動されるリニアモータを内蔵したスライダ19bとを有する。スライダ19bは内蔵するリニアモータが作動するときにガイドレール19aに沿って主走査方向(X)へ移動する。   4 includes a table 27 on which the mother substrate 12 is placed and a θ motor 37 that rotates the table 27 in-plane as indicated by an arrow θ in FIG. 5. 4 has a guide rail 19a extending in the main scanning direction (X) and a slider 19b incorporating a pulse-driven linear motor, as shown in FIG. The slider 19b moves in the main scanning direction (X) along the guide rail 19a when the built-in linear motor operates.

また、図4に示した副走査駆動装置21は、図5に示すように、副走査方向(Y)へ延びるガイドレール21aと、パルス駆動されるリニアモータを内蔵したスライダ21bとを有する。スライダ21bは内蔵するリニアモータが作動するときにガイドレール21aに沿って副走査方向(Y)へ移動する。   Further, as shown in FIG. 5, the sub-scanning drive device 21 shown in FIG. 4 has a guide rail 21a extending in the sub-scanning direction (Y) and a slider 21b incorporating a pulse-driven linear motor. The slider 21b moves in the sub-scanning direction (Y) along the guide rail 21a when the built-in linear motor operates.

又、テーブル27には、マザー基板12の位置決めを行うための位置決めピン38が設けられている。   The table 27 is provided with positioning pins 38 for positioning the mother board 12.

スライダ19bやスライダ21b内においてパルス駆動されるリニアモータは、該モータに供給するパルス信号によって出力軸の回転角度制御を精細に行うことができ、従って、スライダ19bに支持された塗布ヘッド15の主走査方向(X)上の位置やテーブル27の副走査方向(Y)上の位置等を高精細に制御できる。なお、塗布ヘッド15やテーブル27の位置制御はパルスモータを用いた位置制御に限られず、サーボモータを用いたフィードバック制御や、その他任意の制御方法によって実現することもできる。   The linear motor that is pulse-driven in the slider 19b and the slider 21b can finely control the rotation angle of the output shaft by the pulse signal supplied to the motor, and therefore, the main of the coating head 15 supported by the slider 19b. The position in the scanning direction (X), the position of the table 27 in the sub-scanning direction (Y), and the like can be controlled with high definition. The position control of the coating head 15 and the table 27 is not limited to the position control using the pulse motor, but can be realized by feedback control using a servo motor or any other control method.

図6は、フィルタ剤13の液粒8を形成する塗布ヘッド15を示す図である。(a)は塗布ヘッド15を斜め下方からみた斜視図であり、(b)は(a)に示した塗布ヘッド15を主走査方向(X)側からみた内部断面構造図である。   FIG. 6 is a diagram illustrating the coating head 15 that forms the liquid particles 8 of the filter agent 13. (A) is the perspective view which looked at the coating head 15 from diagonally downward, (b) is the internal cross-section figure which looked at the coating head 15 shown to (a) from the main scanning direction (X) side.

この塗布ヘッド15は、R,G,Bのうちの1色、例えばR色のフィルタ剤13Rから液粒8を形成するためのヘッドである。G色のフィルタ剤13G及びB色のフィルタ剤13Bのための塗布ヘッドもそれぞれに用意されるが、それらの構造は図6のものと同じにすることができるので、それらについての説明は省略する。   The coating head 15 is a head for forming the liquid particles 8 from one of R, G, and B, for example, an R color filter agent 13R. Coating heads for the G color filter agent 13G and the B color filter agent 13B are also prepared for each, but their structures can be the same as those in FIG. .

塗布ヘッド15は、例えば4つの微少量の液粒8を形成する4つの液粒形成部材41が副走査方向(Y)に一列に配列されている。4つの液粒形成部材41は、例えば、無痛針のような微小円筒形状を有している。本実施形態では、図示の便宜上、逆円錐形状に描いている。液粒形成部材41の所定部位としての先端部42には、フィルタ剤13の液粒8を排出する微小な孔42aを有している。液粒形成部材41の少なくとも先端部42は、マザー基板12よりも撥液性の高い材質で形成され、基板へ塗布する際に液粒8を分離しやすく(はがしやすく)している。   In the coating head 15, for example, four liquid particle forming members 41 that form four minute liquid particles 8 are arranged in a line in the sub-scanning direction (Y). The four liquid particle forming members 41 have, for example, a micro cylindrical shape such as a painless needle. In this embodiment, for the sake of illustration, it is drawn in an inverted conical shape. A tip portion 42 as a predetermined portion of the liquid particle forming member 41 has a minute hole 42 a for discharging the liquid particle 8 of the filter agent 13. At least the front end portion 42 of the liquid particle forming member 41 is formed of a material having higher liquid repellency than the mother substrate 12, and makes it easy to separate (easy to peel off) the liquid particles 8 when applied to the substrate.

4つの液粒形成部材41は、内部にフィルタ剤13を収容した液体収容部であるシリンダ43に、例えばネジによって固定されている。液粒形成部材41の内部は、シリンダ43の内部と連通しており、フィルタ材13は液粒形成部材41の内部からシリンダ43の内部まで充填されている。シリンダ43は、その側壁に設けられた孔44からチューブ45を介して圧力センサ46と接続されている。そして、シリンダ43内に収容されたフィルタ剤13への圧力は圧力センサ46によって検出され、その検出値に基づいてフィルタ剤13に印加する圧力を制御している。   The four liquid particle forming members 41 are fixed to, for example, screws, in a cylinder 43 that is a liquid storage portion in which the filter agent 13 is stored. The inside of the liquid particle forming member 41 communicates with the inside of the cylinder 43, and the filter material 13 is filled from the inside of the liquid particle forming member 41 to the inside of the cylinder 43. The cylinder 43 is connected to a pressure sensor 46 through a tube 45 from a hole 44 provided in the side wall thereof. And the pressure to the filter agent 13 accommodated in the cylinder 43 is detected by the pressure sensor 46, and the pressure applied to the filter agent 13 is controlled based on the detected value.

シリンダ43内部に収容されたフィルタ剤13は、シリンダ43内のピストン47によって加圧される。そしてピストンロッド48は、加圧手段としての加圧アクチュエータ58(図7参照)の力を受けて、ピストン47によってシリンダ43内のフィルタ剤13に所定の圧力を印加する。そして、ピストン47によるフィルタ剤13の加圧によって、複数の液粒形成部材41の先端部42に液粒8を形成する。なお、シリンダ43内部のフィルタ剤13は、シリンダ43の外部に漏れないようにピストンロッド48とシリンダ43との摺動部分に図示しないシール剤等によって封止されている。   The filter agent 13 accommodated in the cylinder 43 is pressurized by the piston 47 in the cylinder 43. The piston rod 48 receives a force of a pressurizing actuator 58 (see FIG. 7) as pressurizing means, and applies a predetermined pressure to the filter agent 13 in the cylinder 43 by the piston 47. Then, the liquid particles 8 are formed at the tip portions 42 of the plurality of liquid particle forming members 41 by pressurizing the filter agent 13 by the piston 47. The filter agent 13 inside the cylinder 43 is sealed with a sealant (not shown) or the like at the sliding portion between the piston rod 48 and the cylinder 43 so as not to leak outside the cylinder 43.

加圧アクチュエータ58によって、所定圧力(加圧値)を所定時間加えることによって構成される、4つの液粒形成部材41の先端部42に形成される液粒8は、微少量形成される。この4つの液粒8は、共通のピストン47によってフィルタ剤13を加圧するため、それぞればらつきの少ない液量の液粒に形成される。なお、図示の便宜上、液粒8の形状は球形状で描いている。   A small amount of the liquid particles 8 formed at the tip portions 42 of the four liquid particle forming members 41 are configured by applying a predetermined pressure (pressurized value) for a predetermined time by the pressurizing actuator 58. Since the four liquid particles 8 pressurize the filter agent 13 by the common piston 47, they are each formed into liquid particles having a small amount of variation. For convenience of illustration, the shape of the liquid droplet 8 is drawn in a spherical shape.

液粒形成部材41によって形成された液粒8は、主走査方向(X)へ移動する際に、塗布を行う所定位置に到達すると塗布ヘッド15を下降し、マザー基板12(図1(a)参照)内の所定位置に順次付着される。また、テーブル27を副走査方向(Y)へ所定距離だけ移動することにより、塗布ヘッド15による主走査位置を所定の間隔でずらせることができる。   When the liquid particles 8 formed by the liquid particle forming member 41 reach the predetermined position for application when moving in the main scanning direction (X), the application head 15 is lowered and the mother substrate 12 (FIG. 1A). Are sequentially attached to predetermined positions in the reference). Further, by moving the table 27 by a predetermined distance in the sub-scanning direction (Y), the main scanning position by the coating head 15 can be shifted at a predetermined interval.

図7は、カラーフィルタ1を形成するための電気系統を示すブロック図である。   FIG. 7 is a block diagram showing an electrical system for forming the color filter 1.

図4に示したヘッド位置制御装置17、基板位置制御装置18の各機器は、入出力インターフェース53及びバス54を介してCPU51に接続される。又、主走査駆動用パルスモータ55は、第1ドライバ56aを介して制御され、副走査駆動用モータ57は、第2ドライバ56bを介して制御される。加圧アクチュエータ58は、第3ドライバ56cを介して制御される。そして、主走査駆動用パルスモータ55、副走査駆動用パルスモータ57、加圧アクチュエータ58の各機器は、図7において、入出力インターフェース53及びバス54を介してCPU51に接続される。   The head position control device 17 and the substrate position control device 18 shown in FIG. 4 are connected to the CPU 51 via the input / output interface 53 and the bus 54. The main scanning drive pulse motor 55 is controlled via the first driver 56a, and the sub-scanning drive motor 57 is controlled via the second driver 56b. The pressure actuator 58 is controlled via the third driver 56c. The main scanning driving pulse motor 55, sub-scanning driving pulse motor 57, and pressurizing actuator 58 are connected to the CPU 51 via the input / output interface 53 and the bus 54 in FIG. 7.

また、基板供給装置23、入力装置24b、ディスプレイ24c、電子天秤30、ヘッド用カメラ25、基板用カメラ26、圧力センサ46の各機器も入出力インターフェース53及びバス54を介してCPU51に接続される。   The board supply device 23, the input device 24b, the display 24c, the electronic balance 30, the head camera 25, the board camera 26, and the pressure sensor 46 are also connected to the CPU 51 via the input / output interface 53 and the bus 54. .

メモリ52は、RAM(Random Access Memory)、ROM(Read Only Memory)等といった半導体メモリや、ハードディスク、CD−ROM読取り装置、ディスク型記憶媒体等といった外部記憶装置等を含む概念であり、機能的には、液粒塗布装置14の動作の制御手順が記述されたプログラムソフトを記憶する記憶領域や、図3に示す各種のR,G,B配列を実現するためのR,G,Bのうちの1色のマザー基板(図1参照)12内における塗布位置を座標データとして記憶するための記憶領域や、図5における副走査方向(Y)へのマザー基板12の副走査移動(Y)量を記憶するための記憶領域や、CPU51のためのワークエリアやテンポラリファイル等として機能する領域や、その他各種の記憶領域が設定される。   The memory 52 is a concept including a semiconductor memory such as a RAM (Random Access Memory) and a ROM (Read Only Memory), an external storage device such as a hard disk, a CD-ROM reader, and a disk-type storage medium. Is a storage area for storing program software in which the control procedure of the operation of the liquid droplet applying device 14 is described, and among the R, G, B for realizing the various R, G, B arrangements shown in FIG. A storage area for storing the application position in one color mother substrate (see FIG. 1) 12 as coordinate data, and the amount of sub-scanning movement (Y) of the mother substrate 12 in the sub-scanning direction (Y) in FIG. A storage area for storage, a work area for the CPU 51, an area that functions as a temporary file, and other various storage areas are set.

CPU51は、メモリ52内に記憶されたプログラムソフトに従って、マザー基板12表面の所定位置にフィルタ剤13を塗布するための制御を行うものである。CPU51は、具体的な機能実現部として、電子天秤(図4参照)30を用いた重量測定を実現するための演算を行う重量測定演算部と、液粒形成部材41によって液粒8を塗布するための演算を行う液粒塗布演算部と、シリンダ43内のフィルタ剤13を所定量に加圧するための演算を行う加圧演算部と、フィルタ剤13を加圧する時間や液粒8の塗布タイミングを管理するタイマを有する。   The CPU 51 performs control for applying the filter agent 13 to a predetermined position on the surface of the mother substrate 12 in accordance with program software stored in the memory 52. The CPU 51 applies the liquid particle 8 by a weight measurement calculation unit that performs calculation for realizing weight measurement using the electronic balance (see FIG. 4) 30 and a liquid particle forming member 41 as a specific function realization unit. A liquid particle application calculating unit that performs an operation for the purpose, a pressure calculating unit that performs an operation for pressurizing the filter agent 13 in the cylinder 43 to a predetermined amount, a time during which the filter agent 13 is pressurized, and an application timing of the liquid particle 8 It has a timer to manage.

塗布演算部を詳述すると、塗布ヘッド15を塗布のための初期位置へセットするための塗布開始位置演算部と、塗布ヘッド15を主走査方向(X)へ走査移動させるための制御を演算する主走査制御演算部と、マザー基板12を副走査方向(Y)へ所定の副走査量だけずらせるための制御を演算する副走査制御演算部と、塗布ヘッド15を高さ方向(Z)へ移動させるための制御を演算する液粒塗布制御演算部等といった各種の機能演算部を有する。   More specifically, the coating calculation unit calculates a coating start position calculation unit for setting the coating head 15 to an initial position for coating, and a control for moving the coating head 15 in the main scanning direction (X). A main scanning control calculation unit, a sub scanning control calculation unit for calculating control for shifting the mother substrate 12 in the sub scanning direction (Y) by a predetermined sub scanning amount, and the coating head 15 in the height direction (Z). Various function calculation units such as a liquid particle application control calculation unit that calculates control for movement are provided.

なお、本実施形態では、上記の各機能をCPU51を用いてソフト的に実現することにしたが、上記の各機能がCPUを用いない単独の電子回路によって実現できる場合には、そのような電子回路を用いることも可能である。   In the present embodiment, each of the above functions is realized by software using the CPU 51. However, if each of the above functions can be realized by a single electronic circuit that does not use the CPU, such electronic It is also possible to use a circuit.

図8は、液粒8をサブ画素領域7に塗布する塗布パターンと塗布順序を示した図である。   FIG. 8 is a diagram showing a coating pattern and a coating order for coating the liquid particles 8 on the sub-pixel region 7.

図8に示す液粒8の塗布は、R,G,Bのサブ画素領域7のうちの1色、例えばRの液粒8を塗布する場合の例を示している。G色の液粒及びB色の液粒の塗布についてもそれぞれ行われるが、それらの塗布は図8のものと同じにすることができるので、それらについての説明は省略する。   The application of the liquid droplet 8 shown in FIG. 8 shows an example in which one color of the R, G, and B sub-pixel regions 7, for example, the R liquid particle 8 is applied. Although the application of the G liquid droplets and the B color liquid particles is also performed, the application thereof can be the same as that shown in FIG.

図8に示すサブ画素領域7の配列は、例えば図3(a)で説明したストライプ配列のサブ画素領域7が形成されている。この配列は、主走査方向(X)の方向にR、G、Bのサブ画素領域7が繰り返し形成され、副走査方向(Y)には1行目に形成された配列と同じ配列のサブ画素領域7が複数形成されている。   In the arrangement of the sub-pixel areas 7 shown in FIG. 8, for example, the sub-pixel areas 7 having the stripe arrangement described with reference to FIG. In this arrangement, R, G, and B sub-pixel regions 7 are repeatedly formed in the main scanning direction (X), and sub-pixels having the same arrangement as the arrangement formed in the first row in the sub-scanning direction (Y). A plurality of regions 7 are formed.

塗布開始のサブ画素領域(R)7には、4つの液粒形成部材41によって形成された4つの液粒8が塗布される。4つの液粒8は、図6(a)に示すような、液粒形成部材41によって形成され、サブ画素領域7には塗布ヘッド15を塗布位置まで下降(Z方向)することによって、同時に4つの液粒8が基板に塗布される。   Four liquid particles 8 formed by the four liquid particle forming members 41 are applied to the sub-pixel region (R) 7 at the start of application. The four liquid particles 8 are formed by a liquid particle forming member 41 as shown in FIG. 6A, and the four liquid particles 8 are simultaneously formed in the sub-pixel region 7 by lowering the application head 15 to the application position (Z direction). Two liquid droplets 8 are applied to the substrate.

塗布開始のサブ画素領域7において液粒8の塗布が終了すると、塗布ヘッド15は、次の塗布位置であるサブ画素領域(R)7に移動する。そして、このサブ画素領域7に、同時に4つの液粒8が塗布がされる。   When the application of the liquid particles 8 is completed in the subpixel region 7 where the application is started, the application head 15 moves to the subpixel region (R) 7 which is the next application position. Then, four liquid particles 8 are simultaneously applied to the sub-pixel region 7.

以降、主走査方向(X)に向かって移動と塗布動作を繰り返し、カラーフィルタ1の1行目の塗布を終了する。そして1行目の塗布が終了すると、塗布ヘッド15とマザー基板12とのスライド動作により、2行目の1列目から塗布を行う。そしてカラーフィルタ1の全ての行に対しても液粒の塗布を繰り返し行い、1つのカラーフィルタ1への塗布が終了する。   Thereafter, the movement and application operation in the main scanning direction (X) are repeated, and the application of the first row of the color filter 1 is completed. When application of the first row is completed, application is performed from the first column of the second row by the sliding operation of the application head 15 and the mother substrate 12. Then, the application of liquid droplets is repeated for all rows of the color filter 1 to complete the application to one color filter 1.

図9は、塗布動作を示したタイムチャート図である。同図(a)は、フィルタ剤13を加圧する加圧力と加圧時間との関係を示した図であり、同図(b)は塗布ヘッド15の高さ(Z方向)と塗布位置(X方向)との関係を示した図であり、同図(a)、(b)それぞれを対応させたタイムチャート図である。   FIG. 9 is a time chart showing the application operation. FIG. 4A is a diagram showing the relationship between the pressure applied to pressurize the filter agent 13 and the pressurizing time, and FIG. 4B shows the height (Z direction) of the coating head 15 and the coating position (X). It is a diagram showing a relationship with (direction), and is a time chart diagram corresponding to each of FIGS.

最初に、塗布ヘッド15は塗布開始位置まで移動する。その間に、シリンダ44内に収納されたフィルタ剤13は、ピストン47によって所定時間(加圧時間)(t0)加圧され、液粒形成部材41の先端部42には、形成された所定量の液粒8が保持されている。そして所定時間後(t0)、塗布ヘッド15は塗布高さ(基板からの所定高さ)であるZ0の位置まで下降し、液粒形成部材41の先端部42に保持された液粒8は、基板上のサブ画素領域7に塗布される。サブ画素領域7への塗布が済んだ後、塗布ヘッド15は元の高さ(Z1)まで上昇し、フィルタ剤13はピストン47によって再び所定時間(t0)加圧される。そして、塗布ヘッド15は、次の塗布位置(主走査方向(X))まで移動を行い待機して、所定時間(t0)経過後、形成された所定量の液粒8を液粒形成部材41の先端部42に保持したまま、塗布位置(Z0)まで下降する。そして、塗布ヘッド15は、液粒8を基板に塗布した後位置(Z1)まで上昇し、次の塗布位置に移動する。以降、同様の塗布動作を繰り返して、サブ画素領域7に塗布を行う。   First, the coating head 15 moves to the coating start position. In the meantime, the filter agent 13 accommodated in the cylinder 44 is pressurized for a predetermined time (pressurization time) (t0) by the piston 47, and a predetermined amount of the formed amount is formed at the tip 42 of the liquid particle forming member 41. Liquid droplets 8 are retained. Then, after a predetermined time (t0), the coating head 15 descends to the position of Z0 which is the coating height (predetermined height from the substrate), and the liquid particles 8 held at the tip 42 of the liquid particle forming member 41 are: It is applied to the sub-pixel region 7 on the substrate. After the application to the sub-pixel region 7 is completed, the application head 15 is raised to the original height (Z1), and the filter agent 13 is pressurized again by the piston 47 for a predetermined time (t0). Then, the application head 15 moves to the next application position (main scanning direction (X)) and stands by, and after a predetermined time (t0) has elapsed, the predetermined amount of the liquid droplet 8 is formed as the liquid particle forming member 41. While being held at the tip end portion 42, it is lowered to the application position (Z0). Then, the coating head 15 rises to the position (Z1) after the liquid particles 8 are coated on the substrate, and moves to the next coating position. Thereafter, the same coating operation is repeated to perform coating on the sub-pixel region 7.

図10は、本実施形態のカラーフィルタ1を形成する動作を示したフローチャート図である。   FIG. 10 is a flowchart showing the operation of forming the color filter 1 of the present embodiment.

このカラーフィルタ1が形成される動作は、R,G,Bのうちの1色、例えばR色の液粒8を形成して、マザー基板12中の所定領域に液粒8を塗布する動作を説明している。G色の液粒の塗布動作及びB色の液粒の塗布動作を行うためのフローもそれぞれあるが、それらの動作は図10のものと同じにすることができるので、それらについての説明は省略する。   The operation of forming the color filter 1 is an operation of forming a liquid particle 8 of one color of R, G, B, for example, R, and applying the liquid particle 8 to a predetermined region in the mother substrate 12. Explains. There are also flows for performing the application operation of the G liquid droplets and the application operation of the B color liquid droplets, but these operations can be the same as those in FIG. To do.

まず、オペレータによる電源投入によって液粒塗布装置14が作動する。   First, the liquid droplet applying device 14 is activated by power-on by an operator.

ステップS1では、液粒塗布装置14の初期設定が実行される。具体的には、ヘッドユニット16や基板供給装置23やコントロール装置24等が予め決められた初期状態にセットされる。   In step S1, initial setting of the liquid droplet applying device 14 is executed. Specifically, the head unit 16, the substrate supply device 23, the control device 24, and the like are set in a predetermined initial state.

ステップS2では、液粒8の重量測定を実行するか否かを判断する。重量測定のタイミングであれば、ステップS3に移行する。重量測定のタイミングでなければ、ステップS6に移行する。   In step S2, it is determined whether or not the weight measurement of the liquid droplet 8 is executed. If it is the timing of the weight measurement, the process proceeds to step S3. If it is not the timing of the weight measurement, the process proceeds to step S6.

ステップS3では、塗布ヘッド15を電子天秤30へ移動する。これは、図5のヘッドユニット16を主走査駆動装置によって図4の電子天秤30の位置まで移動させる。   In step S <b> 3, the coating head 15 is moved to the electronic balance 30. This moves the head unit 16 of FIG. 5 to the position of the electronic balance 30 of FIG. 4 by the main scanning drive device.

ステップS4では、液粒形成部材41から塗布される液粒8の重量を、電子天秤30を用いて測定を行う。   In step S <b> 4, the weight of the liquid particle 8 applied from the liquid particle forming member 41 is measured using the electronic balance 30.

ステップS5では、ステップS4で行った測定結果と、塗布を行う所定領域内に必要な液量とを基に、シリンダ43内に収納されたフィルタ剤13を加圧する加圧量を決定する。すなわち、予め決められた滴数塗布した際に、必要な液量が満たなければ初期の加圧量を増やし、必要滴数を超えるようであれば初期の加圧量を減らして、採用する加圧量を決定する。加圧量は加圧値と加圧時間によって決まり、本実施形態では、加圧値を一定とし、加圧時間を変えることで加圧量を決めている。このため、ステップS5では、詳しくは加圧時間を決定する。もちろん、加圧時間を一定とし、加圧値を可変にすることもできる。   In step S5, the amount of pressurization for pressurizing the filter agent 13 stored in the cylinder 43 is determined based on the measurement result obtained in step S4 and the amount of liquid required in the predetermined region to be coated. That is, when a predetermined number of drops are applied, the initial pressurization amount is increased if the required liquid amount is not satisfied, and the initial pressurization amount is decreased if the required number of drops is exceeded. Determine the amount of pressure. The amount of pressurization is determined by the pressurization value and the pressurization time. In this embodiment, the pressurization amount is determined by changing the pressurization time while keeping the pressurization value constant. For this reason, in step S5, the pressurization time is determined in detail. Of course, the pressurization time can be made constant and the pressurization value can be made variable.

ステップS6では、図4の基板供給装置を作動させて、マザー基板12をテーブル27へ供給する。このときマザー基板12は、テーブルに設けられた位置決めピン38(図5参照)を基準にしてセットされる。具体的には、基板収容部23a内のマザー基板12を吸着パッド23gによって吸引保持し、次に、昇降軸23d、第1アーム23e及び第2アーム23fを移動させてマザー基板12をテーブル27まで搬送し、さらにテーブル27の適所に予め設けてある位置決めピン38(図5参照)に押し付ける。なお、テーブル27上におけるマザー基板12の位置ズレを防止するため、空気吸引等の手段によってマザー基板12をテーブル27に固定することが望ましい。   In step S <b> 6, the substrate supply device of FIG. 4 is operated to supply the mother substrate 12 to the table 27. At this time, the mother board 12 is set with reference to positioning pins 38 (see FIG. 5) provided on the table. Specifically, the mother substrate 12 in the substrate housing portion 23a is sucked and held by the suction pad 23g, and then the elevating shaft 23d, the first arm 23e, and the second arm 23f are moved to move the mother substrate 12 to the table 27. Then, it is pressed against a positioning pin 38 (see FIG. 5) provided in advance at an appropriate position on the table 27. In order to prevent displacement of the mother substrate 12 on the table 27, it is desirable to fix the mother substrate 12 to the table 27 by means such as air suction.

ステップS7では、マザー基板12のθ方向の位置決めを行う。図4の基板用カメラ26によってマザー基板12を観察しながら、図5のθモータ37の出力軸を微小角度単位で回転させることによりテーブル27を微小角度単位で面内回転させてマザー基板12を位置決めする。   In step S7, the mother substrate 12 is positioned in the θ direction. While observing the mother substrate 12 with the substrate camera 26 of FIG. 4, the table 27 is rotated in the plane by the minute angle unit by rotating the output shaft of the θ motor 37 of FIG. Position.

ステップS8では、塗布開始位置を決定する。図4のヘッド用カメラ25によってマザー基板12を観察しながら塗布ヘッド15によって塗布を開始する位置を演算によって決定する。   In step S8, the application start position is determined. While observing the mother substrate 12 with the head camera 25 in FIG. 4, the position at which coating is started by the coating head 15 is determined by calculation.

ステップS9では、塗布ヘッド15を塗布開始位置へ移動する。主走査駆動装置19及び副走査駆動装置21を適宜に作動させて塗布ヘッド15を塗布開始位置へ移動する。このとき、塗布ヘッド15は、図6(a)に示すように、液粒形成部材41の列方向が副走査方向(Y)に一致するように配設される。   In step S9, the coating head 15 is moved to the coating start position. The main scanning drive device 19 and the sub-scanning drive device 21 are appropriately operated to move the coating head 15 to the coating start position. At this time, as shown in FIG. 6A, the coating head 15 is disposed so that the column direction of the liquid particle forming members 41 coincides with the sub-scanning direction (Y).

ステップS10では、微少量の液粒8を形成するために、ステップS5で決定した加圧時間(t0)、フィルタ剤13を加圧する。そして液粒形成部材41の先端に微少量の液粒8を形成し保持する(図6参照)。   In step S10, the filter agent 13 is pressurized for the pressurization time (t0) determined in step S5 in order to form a very small amount of liquid particles 8. Then, a small amount of liquid droplet 8 is formed and held at the tip of the liquid particle forming member 41 (see FIG. 6).

ステップS11では、塗布ヘッド15を主走査方向(X)に移動させるとともに、次の所定領域に達すると停止し、塗布ヘッド15を下降させて、先端に形成された液粒8を塗布し、その後上昇して元の位置まで復帰する。そして、マザー基板12の1ライン(主走査方向(X))に塗布を繰り返し行っていく。   In step S11, the coating head 15 is moved in the main scanning direction (X) and stopped when the next predetermined area is reached. The coating head 15 is lowered to apply the liquid particles 8 formed at the tip, and thereafter Ascend and return to the original position. Then, coating is repeated on one line (main scanning direction (X)) of the mother substrate 12.

ステップS12では、塗布ヘッド15は、マザー基板12中の1ラインの塗布が終了したか否かを判定する。塗布が終了していれば、ステップS13へ移行する。塗布が終了していなければ、ステップS10に移行し、同一ラインにおける次のサブ画素領域7の塗布を行う(ステップS10、S11、S12)。つまり、マザー基板12の1ライン(主走査方向(X))に塗布を繰り返し行っていく。そして、全て塗布が終了すると、ステップS13へ移行する。   In step S12, the coating head 15 determines whether or not the coating of one line in the mother substrate 12 has been completed. If the application has been completed, the process proceeds to step S13. If the application has not been completed, the process proceeds to step S10 to apply the next sub-pixel region 7 in the same line (steps S10, S11, S12). That is, coating is repeatedly performed on one line (main scanning direction (X)) of the mother substrate 12. And when application | coating is complete | finished, it transfers to step S13.

ステップS13では、塗布ヘッド15の復帰移動を行う。すなわち、塗布ヘッド15は、カラーフィルタ1に対する1ライン分の主走査が終了すると、反転移動して初期位置へ復帰する。   In step S13, the return movement of the coating head 15 is performed. That is, when the main scanning for one line with respect to the color filter 1 is completed, the coating head 15 is reversed and returned to the initial position.

ステップS14では、塗布ヘッド15は、副走査駆動装置21によって駆動されて副走査方向(Y)へ予め決められた副走査量δだけ移動する。   In step S14, the coating head 15 is driven by the sub-scanning driving device 21 and moves in the sub-scanning direction (Y) by a predetermined sub-scanning amount δ.

ステップS15では、マザー基板12中のカラーフィルタ形成領域11の1列分の主走査(液粒8の塗布)が終了したか否かを判定する。終了していればステップS16に移行する。終了していなければステップS10に移行する。塗布ヘッド15は、副走査移動(Y)をする度に、主走査移動(X)及び液粒8の塗布を繰り返し(ステップS10〜ステップS15)、マザー基板12のカラーフィルタ形成領域11の1列分の液粒8の塗布処理が完了する。   In step S15, it is determined whether or not the main scanning (application of the liquid droplet 8) for one column of the color filter forming region 11 in the mother substrate 12 has been completed. If completed, the process proceeds to step S16. If not completed, the process proceeds to step S10. Each time the coating head 15 performs the sub-scanning movement (Y), the main scanning movement (X) and the application of the liquid particles 8 are repeated (Steps S10 to S15), and one row of the color filter forming region 11 of the mother substrate 12 is applied. The application process of the liquid droplet 8 is completed.

ステップS16では、マザー基板12内のカラーフィルタ形成領域11の全ての列が終了したか否かを判定する。終了していればステップS18に移行する。終了していなければステップS17へ移行する。   In step S16, it is determined whether or not all the columns of the color filter forming region 11 in the mother substrate 12 have been completed. If completed, the process proceeds to step S18. If not completed, the process proceeds to step S17.

ステップS17では、塗布ヘッド15を、次の列のカラーフィルタ形成領域11に移動させる。そして、ステップS10〜ステップS17のサイクルを繰り返し、マザー基板12中の全列のカラーフィルタ形成領域11の塗布が終了する。   In step S <b> 17, the coating head 15 is moved to the color filter formation region 11 in the next row. And the cycle of step S10-step S17 is repeated, and application | coating of the color filter formation area 11 of all the rows in the mother board | substrate 12 is complete | finished.

ステップS18では、マザー基板12を基板供給装置23によって、又は別の搬送機器によって、処理後のマザー基板12が外部へ排出される。   In step S <b> 18, the mother substrate 12 after processing is discharged to the outside by the substrate supply device 23 or another transfer device.

ステップS19では、オペレータによって処理終了の指示がされたか否かを判定する。終了の指示がされれば、このカラーフィルタ1が形成される工程が終了する。終了の指示がされなければステップS2へ移行し、次のカラーフィルタ1の形成を開始する。   In step S19, it is determined whether or not the operator has instructed to end the process. If the end instruction is given, the process of forming the color filter 1 ends. If no end instruction is given, the process proceeds to step S2, and formation of the next color filter 1 is started.

以上詳述したように本実施形態によれば、以下の効果が得られる。   As described above in detail, according to the present embodiment, the following effects can be obtained.

(1)液粒形成部材41の先端部42に形成された液粒8は、マザー基板12の所定領域(サブ画素領域7)に塗布される。よって、確実に液粒8を塗布することが可能になり、サブ画素領域7への塗布する量のばらつきが少なくなる。従って、サブ画素領域7内の必要な膜厚を高い精度で形成することができる。   (1) The liquid particles 8 formed on the tip end portion 42 of the liquid particle forming member 41 are applied to a predetermined region (sub-pixel region 7) of the mother substrate 12. Therefore, the liquid particles 8 can be reliably applied, and variations in the amount applied to the sub-pixel region 7 are reduced. Therefore, the required film thickness in the sub-pixel region 7 can be formed with high accuracy.

(2)液粒8の液量は、フィルタ剤13を加圧する加圧時間によって制御している。よって、所定の液粒8の液量を形成することが可能になる。従って、ある位置の塗布が終わって次の位置で塗布を行うまでの塗布の時間間隔が異なっても(どんな塗布タイミングでも)所定の液量の液粒8を基板のサブ画素領域7に塗布することができる。   (2) The amount of the liquid particles 8 is controlled by the pressurization time for pressurizing the filter agent 13. Therefore, it is possible to form a predetermined amount of liquid droplet 8. Therefore, even if the application time interval from application at a certain position to application at the next position is different (at any application timing), a predetermined amount of liquid droplet 8 is applied to the sub-pixel region 7 of the substrate. be able to.

(3)複数の液粒形成部材41とシリンダ43とは連通され、液粒形成部材41の内部とシリンダ43の内部とは同一のフィルタ剤13が充填されている。よって、1つのピストン47の動作によってフィルタ剤13を加圧することにより、複数の液粒形成部材41に液粒8を同時に形成することが可能になる。従って、それぞれの液粒形成部材41には、同じ圧力によって液粒8を形成するので、ばらつきの少ない複数の液粒8を同時に形成することができる。   (3) The plurality of liquid particle forming members 41 and the cylinder 43 communicate with each other, and the inside of the liquid particle forming member 41 and the inside of the cylinder 43 are filled with the same filter agent 13. Therefore, it is possible to simultaneously form liquid particles 8 on the plurality of liquid particle forming members 41 by pressurizing the filter agent 13 by the operation of one piston 47. Accordingly, since the liquid particles 8 are formed on the respective liquid particle forming members 41 with the same pressure, a plurality of liquid particles 8 with little variation can be formed simultaneously.

(4)液粒形成部材41の先端部42は、フィルタ剤13に対して基板より撥液性の高い材質で形成されている。よって、液粒8を確実に基板側に塗布(はがす)することができる。   (4) The tip 42 of the liquid particle forming member 41 is formed of a material having higher liquid repellency than the substrate with respect to the filter agent 13. Therefore, the liquid particles 8 can be reliably applied (stripped) to the substrate side.

(5)1つの塗布ヘッド15は、複数の液粒形成部材41によって複数の液粒8を形成する。よって、この複数の液粒8を同時に基板側に塗布することが可能になる。従って、所定領域に必要な液量を短時間で塗布することができる。   (5) One coating head 15 forms a plurality of liquid particles 8 by a plurality of liquid particle forming members 41. Therefore, it becomes possible to apply the plurality of liquid droplets 8 to the substrate side at the same time. Therefore, it is possible to apply a necessary amount of liquid in a predetermined area in a short time.

(第2実施形態)
次に、本発明を具体化した第2実施形態を図を参照して説明する。
(Second Embodiment)
Next, a second embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.

図11は、第2実施形態における塗布ヘッド15の構成を示す図である。同図(a)は塗布ヘッド15を斜め下方からみた斜視図であり、同図(b)は同図(a)に示した塗布ヘッド15を主走査方向(X)側からみた内部断面構造図である。   FIG. 11 is a diagram illustrating a configuration of the coating head 15 in the second embodiment. 2A is a perspective view of the coating head 15 as viewed obliquely from below, and FIG. 2B is an internal sectional view of the coating head 15 shown in FIG. 2A as viewed from the main scanning direction (X) side. It is.

本実施形態の塗布ヘッド15は、例えば副走査方向(Y)に3列(B、C、D列)の液粒形成部材41が配列されている点が第1実施形態と異なっている。この3列の液粒形成部材41には、それぞれに、例えば4つの液粒形成部材41が配列されている。   The coating head 15 of the present embodiment is different from the first embodiment in that, for example, three rows (B, C, D rows) of liquid particle forming members 41 are arranged in the sub-scanning direction (Y). For example, four liquid particle forming members 41 are arranged in each of the three rows of liquid particle forming members 41.

また、本実施形態では、第1実施形態で述べた、フィルタ剤13を加圧する加圧時間によって液粒8の液量を制御しているのではなく、フィルタ剤13を加圧する加圧値と塗布する塗布時間とによって液粒8の液量を制御している点が第1実施形態と異なっている。   In the present embodiment, the liquid amount of the liquid particles 8 is not controlled by the pressurization time for pressurizing the filter agent 13 described in the first embodiment, but the pressurization value for pressurizing the filter agent 13 The point which controls the liquid quantity of the liquid particle 8 with the application | coating time to apply | coat differs from 1st Embodiment.

液粒形成部材41の各列の間隔は、液粒8を塗布するサブ画素領域の面積によって、適合した距離に設定される。   The interval between the columns of the liquid droplet forming member 41 is set to a suitable distance depending on the area of the sub-pixel region to which the liquid droplet 8 is applied.

また、第1実施形態同様、複数の液粒8は、共通のピストン47によってフィルタ剤13を加圧し、複数の液粒形成部材41の先端部42に微少量形成される。又、微少量の液粒8は、加圧アクチュエータ58の加圧力と液粒8の表面張力のバランスによって形成されている。   Further, as in the first embodiment, the plurality of liquid particles 8 pressurize the filter agent 13 by the common piston 47 and are formed in a small amount at the tip portions 42 of the plurality of liquid particle forming members 41. A very small amount of the liquid droplet 8 is formed by the balance between the pressure applied by the pressure actuator 58 and the surface tension of the liquid particle 8.

本実施形態では、3列の液粒形成部材(B、C、D列)41によって形成された複数の液粒8は、1つのサブ画素領域7内に同時に塗布している。   In the present embodiment, a plurality of liquid particles 8 formed by three liquid particle forming members (B, C, D rows) 41 are applied simultaneously in one sub-pixel region 7.

図12は、塗布動作を示したタイムチャート図である。同図(a)は加圧力と加圧する時間との関係を示した図である。同図(b)は塗布ヘッド15の高さ方向(Z方向)の位置と塗布位置(X方向)との関係を示した図である。   FIG. 12 is a time chart showing the application operation. FIG. 5A is a diagram showing the relationship between the applied pressure and the pressurizing time. FIG. 2B is a diagram showing the relationship between the position in the height direction (Z direction) of the coating head 15 and the coating position (X direction).

最初に、シリンダ43内に収納されたフィルタ剤15は、ピストン47の押圧力によって所定量の圧力に保持される。それと同時に、塗布ヘッド15は塗布開始位置まで移動する。加圧してから所定時間(t0)後に形成された液粒8は、液粒形成部材41の先端部に保持される。塗布ヘッド15は、塗布位置まで移動すると塗布位置(基板からの所定高さ)まで下降し、液粒形成部材41の先端部に保持された液粒8は、基板上のサブ画素領域7に塗布される。サブ画素領域7への塗布が済んだ後、塗布ヘッド15は元の高さ(Z1)まで上昇する。液滴形成部材41の先端部42には、ピストン47によってフィルタ剤13を加圧し続けるので、基板への塗布と同時に液粒8の形成が開始される。そして、塗布ヘッド15は、所定時間(t0)内に次の塗布領域への移動と塗布位置までの下降を行って、液滴8を所定領域に塗布する。液粒8の液量は、塗布時点において丁度所定量に達する。そして、サブ画素領域7には、必要量のフィルタ剤13が正確に塗布される。以降、ピストン47によってフィルタ剤13を一定の圧力で加圧し続け、液粒8の形成を続ける。塗布ヘッド15は、所定時間(t0)内において移動と上下動作を繰り返し、所定量の液粒8はサブ画素領域7に順次塗布される。   Initially, the filter agent 15 accommodated in the cylinder 43 is held at a predetermined amount of pressure by the pressing force of the piston 47. At the same time, the coating head 15 moves to the coating start position. The liquid particles 8 formed after a predetermined time (t0) from the pressurization are held at the tip of the liquid particle forming member 41. When the application head 15 moves to the application position, the application head 15 descends to the application position (predetermined height from the substrate), and the liquid particles 8 held at the tip of the liquid particle forming member 41 are applied to the sub-pixel region 7 on the substrate. Is done. After the application to the sub-pixel region 7, the application head 15 is raised to the original height (Z1). Since the filter agent 13 is continuously pressurized by the piston 47 at the tip end portion 42 of the droplet forming member 41, the formation of the liquid particles 8 is started simultaneously with the application to the substrate. The coating head 15 then moves to the next coating region and descends to the coating position within a predetermined time (t0) to apply the droplet 8 to the predetermined region. The amount of the liquid droplet 8 reaches a predetermined amount at the time of application. Then, the necessary amount of filter agent 13 is accurately applied to the sub-pixel region 7. Thereafter, the filter agent 13 is continuously pressurized by the piston 47 at a constant pressure, and the formation of the liquid particles 8 is continued. The coating head 15 repeatedly moves and moves up and down within a predetermined time (t0), and a predetermined amount of liquid droplets 8 are sequentially applied to the sub-pixel region 7.

そして、フィルタ剤13への加圧は、液粒8の塗布が全て終了した時点で停止する。   And the pressurization to the filter agent 13 is stopped when the application of the liquid particles 8 is completed.

以下、上記構成から成る液粒塗布装置14の動作を説明する。   Hereinafter, the operation of the liquid droplet applying apparatus 14 having the above configuration will be described.

図13は、液粒塗布装置14の動作をフローチャートにして示した図である。   FIG. 13 is a flowchart showing the operation of the liquid droplet applying device 14.

なお、前記第1実施形態と同様の動作については、詳細な説明を省略し、特に異なる動作についてのみ説明する。   Note that detailed description of operations similar to those in the first embodiment will be omitted, and only different operations will be described.

ステップS5では、ステップS4で行った測定結果と、塗布を行う所定領域内に必要な液量(塗布量)とを基に、シリンダ43内に収納されたフィルタ剤13を加圧する加圧量を決定する。すなわち、1滴の重量が予め決められた滴数塗布した際に、必要な液量(塗布量)に満たない値であれば加圧量を増やし、必要な液量(塗布量)を超えるようであれば加圧量を減らして、採用する加圧量を決定する。加圧量は加圧値と加圧時間によって決まり、本実施形態では、加圧時間を一定とし、加圧値を変える方法を採用している。このため、ステップS5では、詳しくは加圧値を決定する。   In step S5, the pressurizing amount for pressurizing the filter agent 13 stored in the cylinder 43 is determined based on the measurement result performed in step S4 and the liquid amount (applying amount) required in the predetermined area to be applied. decide. That is, when the weight of one drop is applied to a predetermined number of drops, if the value is less than the required liquid amount (application amount), the amount of pressurization is increased to exceed the required liquid amount (application amount). If so, the pressurization amount is reduced and the pressurization amount to be employed is determined. The amount of pressurization is determined by the pressurization value and the pressurization time. In this embodiment, a method of changing the pressurization value while keeping the pressurization time constant is adopted. For this reason, in step S5, a pressurization value is determined in detail.

ステップS10では、ステップS2〜ステップS5によって決定された加圧値の加圧を開始し、液粒8を形成し始める。   In step S10, pressurization of the pressurization value determined in steps S2 to S5 is started, and liquid droplets 8 are formed.

ステップS11では、塗布ヘッド15を主走査方向(X)に移動させるとともに、次の所定領域に達すると停止し、塗布ヘッド15を下降させて、先端に形成された液粒8を塗布する。この塗布するまでの動作は、前回の塗布から所定時間(t0)(図12参照)後に次の液粒8の塗布を行う。所定量の液粒8は、この塗布時間間隔によって決まる。予め決められた所定時間(t0)によって、液粒8は常に同じ大きさ(同じ量)に形成される。塗布が終了すると、塗布ヘッド15は、上昇して元の位置まで復帰する。そして、マザー基板12の1ライン(主走査方向(X))に塗布を繰り返し行っていく。   In step S11, the application head 15 is moved in the main scanning direction (X) and stopped when the next predetermined area is reached, and the application head 15 is lowered to apply the liquid particles 8 formed at the tip. In the operation until this application, the next liquid droplet 8 is applied after a predetermined time (t0) (see FIG. 12) from the previous application. The predetermined amount of liquid droplets 8 is determined by this application time interval. The liquid droplets 8 are always formed in the same size (the same amount) by a predetermined time (t0) determined in advance. When the application is completed, the application head 15 rises and returns to the original position. Then, coating is repeated on one line (main scanning direction (X)) of the mother substrate 12.

以降、ステップS11〜ステップS17の工程を繰り返し、マザー基板12中の全列のカラーフィルタ形成領域11への塗布が終了する。すると、ステップS18でフィルタ剤の加圧を停止し、液粒8の形成は終了する。そして、ステップS19で基板が排出されると、ステップS20の終了の指示がなければ、次のカラーフィルタ1の形成を開始する。   Thereafter, the processes of Step S11 to Step S17 are repeated, and the application to the color filter forming regions 11 in all rows in the mother substrate 12 is completed. Then, pressurization of the filter agent is stopped in step S18, and the formation of the liquid droplet 8 is completed. Then, when the substrate is discharged in step S19, if there is no instruction to end step S20, formation of the next color filter 1 is started.

以上詳述したように本実施形態によれば、前記第1実施形態における効果(1)、(3)、(4)が同様に得られる他、以下の効果を得ることができる。   As described above in detail, according to the present embodiment, the effects (1), (3), and (4) in the first embodiment can be obtained similarly, and the following effects can be obtained.

(6)液粒8の液量は、加圧アクチュエータ58によって加圧する加圧値と塗布の時間間隔で制御する。よって、加圧時間のみで液粒8の液量を正確に制御することは難しいが、決めた一定の加圧に保持した状態で、同様に決めた時間間隔で塗布していけば、正確な液粒8の液量を塗布することができる。   (6) The liquid amount of the liquid droplet 8 is controlled by the pressurization value applied by the pressurization actuator 58 and the application time interval. Therefore, it is difficult to accurately control the liquid amount of the liquid droplets 8 only by the pressurization time, but if the liquid is applied at a predetermined time interval in a state where the liquid is held at a predetermined constant pressure, an accurate amount can be obtained. The liquid amount of the liquid droplet 8 can be applied.

(7)複数列の液粒形成部材41によって、第1実施形態の塗布ヘッド15よりも更に多い液粒8が形成される。よって、この複数の液粒8を同時に塗布することにより、例えば大画面でサブ画素領域7の面積が広い(大きなサブ画素7)カラーフィルタ1でも、短時間に製造することができる。   (7) More liquid droplets 8 than the coating head 15 of the first embodiment are formed by the plurality of rows of liquid particle forming members 41. Therefore, by simultaneously applying the plurality of liquid droplets 8, for example, the color filter 1 having a large screen and a large area of the sub-pixel region 7 (large sub-pixel 7) can be manufactured in a short time.

(第3実施形態)
次に、本発明を具体化した第3実施形態を図を参照して説明する。
本実施形態の液粒8の塗布は、複数回の塗布によって1つのサブ画素に所定の膜厚を形成しているとともに、1回目の塗布〜最終回の塗布において、同じ高さ(Z方向の位置)Hで塗布を行っている点が、前記第1実施形態、前記第2実施形態と異なっている。
(Third embodiment)
Next, a third embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.
In the application of the liquid droplet 8 of the present embodiment, a predetermined film thickness is formed on one subpixel by a plurality of times of application, and the same height (in the Z direction) is applied in the first application to the last application. The point of application at position H is different from the first embodiment and the second embodiment.

図14は、液粒形成部材41と液粒8の塗布位置を示す図である。同図(a)は、1回目の塗布の液粒形成部材41と基板との位置関係を示している。同図(b)は、最終回の塗布の液粒形成部材41と液面、基板の位置関係を示している。   FIG. 14 is a diagram showing application positions of the liquid particle forming member 41 and the liquid particles 8. FIG. 4A shows the positional relationship between the liquid particle forming member 41 and the substrate for the first application. FIG. 5B shows the positional relationship between the liquid particle forming member 41, the liquid surface, and the substrate in the final application.

図14(a)において、塗布ヘッド15は、1回目の塗布位置にある。塗布位置(Z方向)は、液粒形成部材41に形成された液粒8が基板に接触する高さであり、かつ、図14(b)に示すように、n回目(最終回)の塗布で液粒形成部材41の先端部42が、塗布済みの液面に触れない高さ(H)に求められる。そして、塗布時には常にこの学習高さ(H)において、液粒8の塗布を行う。液粒形成部材41の先端部42に形成された液粒8は、基板に塗布される。   In FIG. 14A, the coating head 15 is at the first coating position. The application position (Z direction) is the height at which the liquid particles 8 formed on the liquid particle forming member 41 come into contact with the substrate, and as shown in FIG. 14B, the nth (final) application is performed. Thus, the tip end portion 42 of the liquid particle forming member 41 is required to have a height (H) that does not touch the applied liquid surface. And at the time of application | coating, always apply | coat the liquid particle 8 in this learning height (H). The liquid particles 8 formed at the tip end portion 42 of the liquid particle forming member 41 are applied to the substrate.

以下、上記構成から成る液粒塗布装置14の動作を説明する。   Hereinafter, the operation of the liquid droplet applying apparatus 14 having the above configuration will be described.

図15は、液粒塗布装置14の動作をフローチャートにして示した図である。   FIG. 15 is a flowchart showing the operation of the liquid droplet applying device 14.

なお、前記第1実施形態と同様の動作については、詳細な説明を省略し、特に異なる動作についてのみ説明する。   Note that detailed description of operations similar to those in the first embodiment will be omitted, and only different operations will be described.

ステップS5では、ステップS4で行った測定結果と、塗布を行う所定領域内に必要な液量(塗布量)とを基に、シリンダ43内に収納されたフィルタ剤13を加圧する加圧量を決定する。すなわち、予め決められた滴数塗布した際に、必要な液量(塗布量)に満たなければ加圧量を増やし、必要液量(塗布量)の上限を超えるようであれば初期の加圧量を減らして、採用する加圧量を決定する。加圧量は加圧値と加圧時間によって決まり、本実施形態では、加圧時間を一定とし、加圧値を変えることで加圧量を決めている。このため、ステップS5では、詳しくは加圧値を決定する。更にステップS5では、液粒8をサブ画素領域7に塗布する塗布回数を決定する。サブ画素領域7に必要な液量とステップS4で測定した液粒8の液量とから、塗布回数を決定する。又、ステップS4において求めた液粒8の重量から、液粒8を球形状と仮定したときの球径も求められる。   In step S5, the pressurizing amount for pressurizing the filter agent 13 stored in the cylinder 43 is determined based on the measurement result performed in step S4 and the liquid amount (applying amount) required in the predetermined area to be applied. decide. That is, when a predetermined number of drops are applied, if the required amount of liquid (application amount) is not reached, the amount of pressurization is increased. If the upper limit of the required amount of liquid (application amount) is exceeded, the initial pressure is applied. Decrease the amount and determine the amount of pressurization to be adopted. The pressurization amount is determined by the pressurization value and the pressurization time. In this embodiment, the pressurization amount is determined by changing the pressurization value while keeping the pressurization time constant. For this reason, in step S5, a pressurization value is determined in detail. In step S5, the number of times of applying the liquid droplet 8 to the sub-pixel region 7 is determined. The number of times of application is determined from the amount of liquid necessary for the sub-pixel region 7 and the amount of liquid particles 8 measured in step S4. Further, from the weight of the liquid particle 8 obtained in step S4, the spherical diameter when the liquid particle 8 is assumed to be spherical is also obtained.

ステップS9では、塗布ヘッド15の液粒形成部材41の先端位置(先端高さ)を学習するタイミングであるか否かを判定する。学習するタイミングであればステップS10に移行する。学習するタイミングでなければステップS11に移行し、塗布ヘッド15を塗布開始位置に移動する。   In step S9, it is determined whether or not it is time to learn the tip position (tip height) of the liquid particle forming member 41 of the coating head 15. If it is the learning timing, the process proceeds to step S10. If it is not the learning timing, the process proceeds to step S11, and the coating head 15 is moved to the coating start position.

ステップS10では、塗布ヘッド15の液粒形成部材41の塗布高さ(塗布位置)を演算する。ステップS5で求めた液粒8の球径と(n−1)回塗布したときの液量から決まる液厚とから、基板からの液粒形成部材41の先端の高さとして塗布位置(学習高さ)を演算する。そして、この塗布位置(学習高さ)Hは、1回目の塗布から液粒8を付着できる高さであり、かつ、最終回(n回)の塗布でも液粒形成部材41の先端が液面に接触しない共通な高さとして演算される。この高さ(学習高さ)はメモリ52に記憶される。   In step S10, the application height (application position) of the liquid particle forming member 41 of the application head 15 is calculated. From the spherical diameter of the liquid droplet 8 obtained in step S5 and the liquid thickness determined from the amount of liquid when (n-1) times of application, the application position (learning height) is determined as the height of the tip of the liquid particle forming member 41 from the substrate. ) Is calculated. And this application | coating position (learning height) H is the height which can adhere the liquid droplet 8 from the 1st application | coating, and the front-end | tip of the liquid particle formation member 41 is a liquid level also in the last application | coating (n times). It is calculated as a common height that does not touch. This height (learning height) is stored in the memory 52.

ステップS12では、塗布開始位置において、ステップS10で学習処理しメモリ52に記憶した高さ(学習高さ)を読み出し、塗布ヘッド15は求めた高さに位置合わせを行う。すなわち、液粒形成部材41の先端部42が軽くサブ画素領域7の表面に触れるまで下降させ、その位置から距離Hだけ塗布ヘッド15を上昇させる。このときのZ方向の位置データをメモリ52に記憶する。その後、塗布ヘッド15は、元の位置に戻る。その後、メモリ52に記憶したこの位置データに基づき塗布位置の制御が行われる。   In step S12, at the application start position, the height (learned height) learned in step S10 and stored in the memory 52 is read, and the application head 15 aligns the obtained height. That is, the liquid droplet forming member 41 is lowered until the tip end portion 42 is lightly touching the surface of the sub-pixel region 7, and the coating head 15 is raised from the position by the distance H. The position data in the Z direction at this time is stored in the memory 52. Thereafter, the coating head 15 returns to the original position. Thereafter, the application position is controlled based on the position data stored in the memory 52.

ステップS13では、ステップS5で求められた加圧値に加圧を開始し、液粒8を形成し始める。   In step S13, pressurization is started at the pressurization value obtained in step S5, and liquid droplets 8 are formed.

ステップS14では、所定領域において、前回の塗布(但し1回目は加圧開始)から所定時間後に塗布ヘッド15を塗布高さまで下降させて、先端に形成された液粒8の塗布を行う。また、第2実施形態で説明した塗布ヘッド15を使用して1度に12滴の液粒8を塗布してもよい。   In step S14, in a predetermined region, the coating head 15 is lowered to the coating height after a predetermined time from the previous coating (however, pressurization is started for the first time), and the liquid particles 8 formed at the tip are coated. Alternatively, 12 droplets 8 may be applied at a time using the application head 15 described in the second embodiment.

ステップS15では、予め計算された所定回数(n回)の塗布をしたか否かを判定する。所定回数の塗布が終了していればステップS16に移行する。所定回数の塗布が終了していなければステップS14に移行し、所定回数になるまで液粒8の塗布を繰り返す。このとき、塗布ヘッド15は、1回目の塗布高さと同じ高さで複数回の塗布を行う。詳しくは、塗布ヘッド15の塗布位置(Z方向)は、図14(a)に示すように、液粒形成部材41に形成された液粒8が基板に接触する高さであり、かつ、図14(b)に示すように、n回目(最終回)の塗布で液粒形成部材41の先端部42が、塗布済みの液面に触れない高さ(H)に求められる。そして、塗布時には常にこの高さ(H)において、液粒8の塗布を行う。そのあと、塗布ヘッド15は、次のサブ画素領域7の位置へ移動する。   In step S15, it is determined whether or not the coating has been performed a predetermined number of times (n times) calculated in advance. If the predetermined number of times of application has been completed, the process proceeds to step S16. If the predetermined number of times of application is not completed, the process proceeds to step S14, and the application of the liquid particles 8 is repeated until the predetermined number of times is reached. At this time, the coating head 15 performs coating a plurality of times at the same height as the first coating height. Specifically, the application position (Z direction) of the application head 15 is a height at which the liquid particles 8 formed on the liquid particle forming member 41 come into contact with the substrate, as shown in FIG. As shown in FIG. 14B, the tip end portion 42 of the liquid particle forming member 41 is required to have a height (H) that does not touch the applied liquid surface in the n-th (final) application. And at the time of application | coating, always apply | coat the liquid particle 8 in this height (H). Thereafter, the coating head 15 moves to the position of the next sub-pixel region 7.

ステップS16では、マザー基板12中の1ラインの走査(塗布)が終了したか否かを判定する。1ラインの走査が終了していれば、ステップS18に移行する。1ラインの走査が終了していなければ、ステップS17に移行する。   In step S16, it is determined whether scanning (coating) of one line in the mother substrate 12 has been completed. If the scanning of one line is completed, the process proceeds to step S18. If the scanning of one line is not completed, the process proceeds to step S17.

ステップS17では、塗布ヘッド15は次列に移動する。そして、ステップS18以降のステップを実施し、マザー基板12中の例えばRの全サブ画素領域7に液粒8の塗布を行う。   In step S17, the coating head 15 moves to the next row. Then, steps after step S18 are performed, and the liquid particles 8 are applied to, for example, all R sub-pixel regions 7 in the mother substrate 12.

以降、ステップS14〜ステップS22のサイクルを繰り返し、マザー基板12中の全列のカラーフィルタ形成領域11の塗布が終了する。すると、ステップS23でフィルタ剤の加圧を停止し、液粒8の形成は終了する。そして、ステップS24で基板が排出されると、ステップS25の終了の指示がなければ、次のカラーフィルタ1の形成を開始する。   Thereafter, the cycle of step S14 to step S22 is repeated, and the application of the color filter forming regions 11 in all rows in the mother substrate 12 is completed. Then, pressurization of the filter agent is stopped in step S23, and the formation of the liquid droplet 8 is completed. Then, when the substrate is discharged in step S24, formation of the next color filter 1 is started unless there is an instruction to end step S25.

以上詳述したように本実施形態によれば、前記第1実施形態における効果(1)、(4)と、第2実施形態における効果(6)が同様に得られる他、以下の効果を得ることができる。   As described above in detail, according to this embodiment, the effects (1) and (4) in the first embodiment and the effect (6) in the second embodiment can be obtained in the same manner, and the following effects can be obtained. be able to.

(8)1回目の塗布から最終回の塗布まで、塗布済みの液面に触れない一定の高さで液粒8の塗布を行う。よって、塗布の際に液粒形成部材41の液粒8を保持する先端部42が、塗布済みの液面に触れずに塗布することが可能になる。従って、液粒形成部材41が液面に触れたことによって、逆に液粒形成部材41に液が付着して必要量に塗布ができなくなる不具合は防止できる。   (8) From the first application to the final application, the liquid particles 8 are applied at a constant height that does not touch the applied liquid surface. Therefore, the tip end portion 42 that holds the liquid particles 8 of the liquid particle forming member 41 at the time of application can be applied without touching the applied liquid surface. Accordingly, it is possible to prevent a problem that the liquid particle forming member 41 touches the liquid surface and the liquid adheres to the liquid particle forming member 41 and cannot be applied to a required amount.

(9)液粒形成部材41の先端部42に形成された液粒8の重量を測定し、その測定結果を基にして、所定領域の必要な液量から塗布回数を決定している。よって、必要量の液量が精度よく塗布することができる。従って、必要量の膜厚を高い精度で形成することができる。   (9) The weight of the liquid droplet 8 formed on the tip portion 42 of the liquid particle forming member 41 is measured, and based on the measurement result, the number of times of application is determined from the required liquid amount in a predetermined region. Therefore, the required amount of liquid can be applied with high accuracy. Therefore, a required amount of film thickness can be formed with high accuracy.

(第4実施形態)
次に、本発明を具体化した第4実施形態を図を参照して説明する。
(Fourth embodiment)
Next, a fourth embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.

図16は、液晶表示装置101の分解斜視図を示す図である。なお、本実施形態は、パッシブマトリクス型液晶表示装置の例で説明する。   FIG. 16 is an exploded perspective view of the liquid crystal display device 101. Note that this embodiment will be described using an example of a passive matrix liquid crystal display device.

電気光学装置としての液晶表示装置101は、液晶表示パネル102に半導体チップとしての液晶駆動用IC103a及び103bを実装し、配線接続要素としてのFPC(Flexible Printed Circuit)104を液晶パネル102に接続し、さらに液晶パネル102の裏面側に照明装置106をバックライトとして設けることによって形成される。   A liquid crystal display device 101 as an electro-optical device is mounted with liquid crystal driving ICs 103a and 103b as semiconductor chips on a liquid crystal display panel 102, and an FPC (Flexible Printed Circuit) 104 as a wiring connecting element is connected to the liquid crystal panel 102. Further, it is formed by providing a lighting device 106 as a backlight on the back side of the liquid crystal panel 102.

液晶パネル102は、第1基板107aと第2基板107bとをシール材108によって貼り合わせることによって形成される。シール材108は、例えば、スクリーン印刷等によってエポキシ系樹脂を第1基板107a又は第2基板107bの内側表面に環状に付着させることによって形成される。また、シール材108の内部には、導電性材料によって球状又は円筒状に形成された導通材109が分散状態で含まれる(図17参照)。   The liquid crystal panel 102 is formed by bonding the first substrate 107 a and the second substrate 107 b with the sealant 108. The sealing material 108 is formed, for example, by attaching an epoxy resin to the inner surface of the first substrate 107a or the second substrate 107b in an annular manner by screen printing or the like. In addition, the inside of the sealing material 108 includes a conductive material 109 formed in a spherical shape or a cylindrical shape with a conductive material in a dispersed state (see FIG. 17).

図16では第1電極114aの配列を分かり易く示すために、それらのストライプ間隔を実際よりも大幅に広く描いており、よって、第1電極114aの本数が少なく描かれているが、実際には、第1電極114aはより多数本が基材111a上に形成される。   In FIG. 16, in order to show the arrangement of the first electrodes 114a in an easy-to-understand manner, the stripe interval is drawn much wider than the actual, and thus the number of the first electrodes 114a is shown to be small. A larger number of first electrodes 114a are formed on the substrate 111a.

図16では、第2電極114bの配列を分かりやすく示すために、第1電極114aの場合と同様に、それらのストライプ間隔を実際よりも大幅に広く描いており、よって、第2電極114bの本数が少なく描かれているが、実際には、第2電極114bはより多数本が基材111b上に形成される。   In FIG. 16, in order to clearly show the arrangement of the second electrodes 114b, as in the case of the first electrodes 114a, their stripe intervals are drawn much wider than actual, and therefore, the number of the second electrodes 114b. However, in reality, a larger number of second electrodes 114b are formed on the substrate 111b.

第1基板107aは第2基板107bよりも広い面積に形成されており、これらの基板をシール材108によって貼り合わせたとき、第1基板107aは第2基板107bの外側へ張り出す基板張出し部107cを有する(図17参照)。そして、この基板張出し部107cには、第1電極114aから延び出る引出し配線114c、シール材108の内部に存在する導通材109(図17参照)を介して第2基板107b上の第2電極114bと導通する引出し配線114d、液晶駆動用IC103aの入力用バンプ、すなわち入力用端子に接続される金属配線114e、そして液晶駆動用IC103bの入力用バンプに接続される金属配線114f等といった各種の配線が適切なパターンで形成される。   The first substrate 107a is formed in an area larger than that of the second substrate 107b, and when these substrates are bonded together by the sealant 108, the first substrate 107a extends to the outside of the second substrate 107b. (See FIG. 17). The substrate overhanging portion 107c is connected to the second electrode 114b on the second substrate 107b via a lead wire 114c extending from the first electrode 114a and a conductive material 109 (see FIG. 17) existing inside the sealing material 108. There are various wirings such as a lead wiring 114d that conducts to the liquid crystal, an input bump of the liquid crystal driving IC 103a, that is, a metal wiring 114e connected to the input terminal, and a metal wiring 114f connected to the input bump of the liquid crystal driving IC 103b. It is formed with an appropriate pattern.

本実施形態では、第1電極114aから延びる引出し配線114c及び第2電極114bに導通する引出し配線114dはそれらの電極と同じ材料であるITO、すなわち導電性酸化物によって形成される。また、液晶駆動用IC103a及び103bの入力側の配線である金属配線114e及び114fは電気抵抗値の低い金属材料、例えばAPC合金によって形成される。APC合金は、主としてAgを含み、付随してPd及びCuを含む合金、例えば、Ag98%、Pd1%、Cu1%から成る合金である。   In the present embodiment, the lead-out wiring 114c extending from the first electrode 114a and the lead-out wiring 114d conducting to the second electrode 114b are formed of ITO which is the same material as those electrodes, that is, a conductive oxide. Further, the metal wirings 114e and 114f, which are wirings on the input side of the liquid crystal driving ICs 103a and 103b, are formed of a metal material having a low electric resistance value, for example, an APC alloy. The APC alloy is an alloy mainly containing Ag and accompanyingly containing Pd and Cu, for example, an alloy composed of Ag 98%, Pd 1%, Cu 1%.

液晶駆動用IC103a及び液晶駆動用IC103bは、ACF(Anisotropic Conductive Film:異方性導電膜)122によって基板張出し部107cの表面に接着されて実装される。すなわち、本実施形態では基板上に半導体チップが直接に実装される構造の、いわゆるCOG(Chip On Glass)方式の液晶パネルとして形成されている。このCOG方式の実装構造においては、ACF122の内部に含まれる導電粒子によって、液晶駆動用IC103a及び103bの入力側バンプと金属配線114e及び114fとが導電接続され、液晶駆動用IC103a及び103bの出力側バンプと引出し配線114c及び114dとが導電接続される。   The liquid crystal driving IC 103a and the liquid crystal driving IC 103b are mounted by being adhered to the surface of the substrate extension portion 107c by an ACF (Anisotropic Conductive Film) 122. That is, in the present embodiment, a so-called COG (Chip On Glass) liquid crystal panel having a structure in which a semiconductor chip is directly mounted on a substrate is formed. In this COG mounting structure, the input side bumps of the liquid crystal driving ICs 103a and 103b and the metal wirings 114e and 114f are conductively connected by the conductive particles contained in the ACF 122, and the output side of the liquid crystal driving ICs 103a and 103b. The bumps and the lead wires 114c and 114d are conductively connected.

図16において、FPC104は、可撓性の樹脂フィルム123と、チップ部品124を含んで構成された回路126と、金属配線端子127とを有する。回路126は樹脂フィルム123の表面に半田付けその他の導電接続手法によって直接に搭載される。また、金属配線端子127はAPC合金、Cr、Cuその他の導電材料によって形成される。FPC104のうち金属配線端子127が形成された部分は、第1基板107aのうち金属配線114e及び金属配線114fが形成された部分にACF122によって接続される。そして、ACF122の内部に含まれる導電粒子の働きにより、基板側の金属配線114e及び114fとFPC側の金属配線端子127とが導通する。   In FIG. 16, the FPC 104 includes a flexible resin film 123, a circuit 126 including a chip component 124, and a metal wiring terminal 127. The circuit 126 is directly mounted on the surface of the resin film 123 by soldering or other conductive connection method. The metal wiring terminal 127 is formed of an APC alloy, Cr, Cu or other conductive material. The portion of the FPC 104 where the metal wiring terminal 127 is formed is connected to the portion of the first substrate 107a where the metal wiring 114e and the metal wiring 114f are formed by the ACF 122. Then, the metal wires 114e and 114f on the substrate side and the metal wire terminal 127 on the FPC side are electrically connected to each other by the action of the conductive particles contained in the ACF 122.

FPC104の反対側の辺端部には外部接続端子131が形成され、この外部接続端子131が図示しない外部回路に接続される。そして、この外部回路から伝送される信号に基づいて液晶駆動用IC103a及び103bが駆動され、第1電極114a及び第2電極114bの一方に走査信号が供給され、他方にデータ信号が供給される。これにより、有効表示領域V内に配列されたドット・マトリクス状の絵素ピクセルが個々のピクセルごとに電圧制御され、その結果、液晶L(図17参照)の配向が個々の絵素ピクセルごとに制御される。   An external connection terminal 131 is formed at the opposite end of the FPC 104, and the external connection terminal 131 is connected to an external circuit (not shown). Then, the liquid crystal driving ICs 103a and 103b are driven based on a signal transmitted from the external circuit, a scanning signal is supplied to one of the first electrode 114a and the second electrode 114b, and a data signal is supplied to the other. As a result, the voltage of the pixel pixels in the dot matrix form arranged in the effective display area V is controlled for each pixel. As a result, the orientation of the liquid crystal L (see FIG. 17) is controlled for each pixel pixel. Be controlled.

図16において、いわゆるバックライトとして機能する照明装置106は、アクリル樹脂等によって構成された導光体132と、その導光体132の光出射面132b(図17参照)に設けられた拡散シート133(図17参照)と、導光体132の光出射面132b(図17参照)の反対面に設けられた反射シート134(図17参照)と、発光源としてのLED(Light Emitting Diode)136とを有する。   In FIG. 16, the lighting device 106 that functions as a so-called backlight includes a light guide 132 made of acrylic resin or the like, and a diffusion sheet 133 provided on a light emission surface 132 b (see FIG. 17) of the light guide 132. (See FIG. 17), a reflection sheet 134 (see FIG. 17) provided on the surface opposite to the light emitting surface 132b (see FIG. 17) of the light guide 132, and an LED (Light Emitting Diode) 136 as a light source. Have

LED136はLED基板137に支持され、そのLED基板137は、例えば導光体132と一体に形成された支持部(図示せず)に装着される。LED基板137が支持部の所定位置に装着されることにより、LED136が導光体132の側辺端面である光取込み面132a(図17参照)に対向する位置に置かれる。   The LED 136 is supported by an LED substrate 137, and the LED substrate 137 is attached to a support portion (not shown) formed integrally with the light guide 132, for example. When the LED substrate 137 is mounted at a predetermined position of the support portion, the LED 136 is placed at a position facing the light capturing surface 132a (see FIG. 17) which is the side end surface of the light guide 132.

図17は図16におけるIX−IX線に従った液晶表示装置の断面構造を示している。   FIG. 17 shows a cross-sectional structure of the liquid crystal display device according to the line IX-IX in FIG.

図17において、第1基板107aは透明なガラスや、透明なプラスチック等によって形成された板状の基材111aを有する。この基材111aの内側表面(図17の上側表面)には反射膜112が形成され、その上に絶縁膜113が積層され、その上に第1電極114aが矢印D方向から見てストライプ状(図16参照)に形成され、さらにその上に配向膜116aが形成される。また、基材111aの外側表面(図17の下側表面)には偏光板117aが貼着等によって装着される。   In FIG. 17, the first substrate 107a has a plate-like base material 111a formed of transparent glass, transparent plastic, or the like. A reflective film 112 is formed on the inner surface of the substrate 111a (upper surface in FIG. 17), an insulating film 113 is laminated thereon, and a first electrode 114a is formed in a stripe shape when viewed from the direction of arrow D (see FIG. 17). 16), and an alignment film 116a is further formed thereon. Further, a polarizing plate 117a is attached to the outer surface (the lower surface in FIG. 17) of the substrate 111a by sticking or the like.

図17において、第2基板107bは透明なガラスや、透明なプラスチック等によって形成された板状の基材111bを有する。この基材111bの内側表面(図19の下側表面)にはカラーフィルタ118が形成され、その上に第2電極114bが上記第1電極114aと直交する方向へ矢印D方向から見てストライプ状(図16参照)に形成され、さらにその上に配向膜116bが形成される。また、基材111bの外側表面(図17の上側表面)には偏光板117bが貼着等によって装着される。   In FIG. 17, the second substrate 107b has a plate-like substrate 111b formed of transparent glass, transparent plastic, or the like. A color filter 118 is formed on the inner surface (the lower surface in FIG. 19) of the base material 111b, and the second electrode 114b is formed in a stripe shape in the direction perpendicular to the first electrode 114a when viewed from the direction of the arrow D. (See FIG. 16), and an alignment film 116b is further formed thereon. A polarizing plate 117b is attached to the outer surface (upper surface in FIG. 17) of the substrate 111b by sticking or the like.

図17において、第1基板107a、第2基板107b及びシール材108によって囲まれる間隙、いわゆるセルギャップ内には液晶、例えばSTN(SuperTwisted Nematic)液晶Lが封入されている。第1基板107a又は第2基板107bの内側表面には微小で球形のスペーサ119が多数分散され、これらのスペーサ119がセルギャップ内に存在することによりそのセルギャップの厚さが均一に維持される。   In FIG. 17, liquid crystal, for example, STN (Super Twisted Nematic) liquid crystal L is sealed in a gap surrounded by the first substrate 107a, the second substrate 107b, and the sealing material 108, so-called cell gap. A large number of minute and spherical spacers 119 are dispersed on the inner surface of the first substrate 107a or the second substrate 107b, and the presence of these spacers 119 in the cell gap keeps the thickness of the cell gap uniform. .

第1電極114aと第2電極114bは互いに直交関係に配置され、それらの交差点は図17の矢印D方向から見てドット・マトリクス状に配列する。そして、そのドット・マトリクス状の各交差点が1つの絵素ピクセルを構成する。カラーフィルタ118は、R(赤)、G(緑)、B(青)の各色要素を矢印D方向から見て所定のパターン、例えば、ストライプ配列、デルタ配列、モザイク配列等のパターンで配列させることによって形成されている。上記の1つの絵素ピクセルはそれらR,G,Bの各1つずつに対応しており、そしてR,G,Bの3色絵素ピクセルが1つのユニットになって1画素が構成される。   The first electrode 114a and the second electrode 114b are arranged orthogonal to each other, and their intersections are arranged in a dot matrix as seen from the direction of arrow D in FIG. Each intersection in the dot matrix form one pixel pixel. The color filter 118 arranges each color element of R (red), G (green), and B (blue) in a predetermined pattern when viewed from the direction of the arrow D, for example, a pattern such as a stripe arrangement, a delta arrangement, or a mosaic arrangement. Is formed by. The one picture element pixel corresponds to each one of R, G, and B, and the three color picture element pixels of R, G, and B constitute one unit to constitute one pixel.

ドット・マトリクス状に配列される複数の絵素ピクセル、従って画素、を選択的に発光させることにより、液晶パネル102の第2基板107bの外側に文字、数字等といった像が表示される。このようにして像が表示される領域が有効画素領域であり、図16及び図17において矢印Vによって示される平面的な矩形領域が有効表示領域となっている。   By selectively emitting light from a plurality of picture element pixels arranged in a dot matrix, and thus pixels, an image such as letters and numbers is displayed outside the second substrate 107b of the liquid crystal panel 102. The area where the image is displayed in this way is the effective pixel area, and the planar rectangular area indicated by the arrow V in FIGS. 16 and 17 is the effective display area.

図17において、反射膜112はAPC合金、Al(アルミニウム)等といった光反射性材料によって形成され、第1電極114aと第2電極114bとの交差点である各絵素ピクセルに対応する位置に開口121が形成されている。結果的に、開口121は図17の矢印D方向から見て、絵素ピクセルと同じドット・マトリクス状に配列されている。   In FIG. 17, the reflective film 112 is formed of a light reflective material such as an APC alloy or Al (aluminum), and has an opening 121 at a position corresponding to each pixel pixel that is an intersection of the first electrode 114a and the second electrode 114b. Is formed. As a result, the openings 121 are arranged in the same dot matrix as the pixel pixels when viewed from the direction of arrow D in FIG.

第1電極114a及び第2電極114bは、例えば、透明導電材であるITOによって形成される。また、配向膜116a及び116bは、ポリイミド系樹脂を一様な厚さの膜状に付着させることによって形成される。これらの配向膜116a及び116bがラビング処理を受けることにより、第1基板107a及び第2基板107bの表面上における液晶分子の初期配向が決定される。   The first electrode 114a and the second electrode 114b are made of, for example, ITO which is a transparent conductive material. The alignment films 116a and 116b are formed by depositing a polyimide resin in a uniform thickness. When these alignment films 116a and 116b are subjected to a rubbing process, the initial alignment of liquid crystal molecules on the surfaces of the first substrate 107a and the second substrate 107b is determined.

又、LED136が発光すると、その光は光取込み面132aから取り込まれて導光体132の内部へ導かれ、反射シート134や導光体132の壁面で反射しながら伝播する間に光出射面132bから拡散シート133を通して外部へ平面光として出射する。   Further, when the LED 136 emits light, the light is taken in from the light taking-in surface 132a, guided to the inside of the light guide 132, and reflected while being reflected by the reflection sheet 134 or the wall surface of the light guide 132, and the light emitting surface 132b. Then, the light is emitted as planar light to the outside through the diffusion sheet 133.

なお、基材111aと拡散シート133との間には、液晶パネル102に加わる衝撃を緩衝するための緩衝材138が設けられている。   A buffer material 138 for buffering an impact applied to the liquid crystal panel 102 is provided between the base material 111a and the diffusion sheet 133.

本実施形態の液晶表示装置101は以上のように構成されているので、太陽光、室内光等といった外部光が十分に明るい場合には、図17において、第2基板107b側から外部光が液晶パネル102の内部へ取り込まれ、その光が液晶Lを通過した後に反射膜112で反射して再び液晶Lへ供給される。液晶Lはこれを挟持する電極114a及び114bによってR,G,Bの絵素ピクセルごとに配向制御されており、よって、液晶Lへ供給された光は絵素ピクセルごとに変調され、その変調によって偏光板117bを通過する光と、通過できない光とによって液晶パネル102の外部に文字、数字等といった像が表示される。これにより、反射型の表示が行われる。   Since the liquid crystal display device 101 of the present embodiment is configured as described above, when external light such as sunlight or room light is sufficiently bright, in FIG. 17, external light is liquid crystal from the second substrate 107b side. The light is taken into the panel 102, the light passes through the liquid crystal L, is reflected by the reflective film 112, and is supplied to the liquid crystal L again. The orientation of the liquid crystal L is controlled for each of the R, G, and B pixel pixels by the electrodes 114a and 114b sandwiching the liquid crystal L. Therefore, the light supplied to the liquid crystal L is modulated for each pixel pixel. Images such as letters and numbers are displayed outside the liquid crystal panel 102 by the light that passes through the polarizing plate 117b and the light that cannot pass. Thereby, a reflective display is performed.

他方、外部光の光量が十分に得られない場合には、LED136が発光して導光体132の光出射面132bから平面光が出射され、その光が反射膜112に形成された開口121を通して液晶Lへ供給される。このとき、反射型の表示と同様にして、供給された光が配向制御される液晶Lによって絵素ピクセルごとに変調され、これにより、外部へ像が表示される。これにより、透過型の表示が行われる。   On the other hand, when a sufficient amount of external light cannot be obtained, the LED 136 emits light, and planar light is emitted from the light emitting surface 132 b of the light guide 132, and the light passes through the opening 121 formed in the reflective film 112. Supplied to the liquid crystal L. At this time, similarly to the reflective display, the supplied light is modulated for each pixel by the liquid crystal L whose orientation is controlled, and an image is displayed to the outside. Thereby, a transmissive display is performed.

図18は、液晶表示装置の製造方法の工程図を示す図である。   FIG. 18 is a view showing process drawings of a method for manufacturing a liquid crystal display device.

液晶表示装置101の製造方法及び製造装置の説明に先立って、まず、その製造方法によって製造される液晶表示装置101をその一例を挙げて説明する。なお、本実施形態の液晶表示装置101は、単純マトリクス方式でカラー表示を行う半透過反射方式の液晶表示装置101である。   Prior to the description of the manufacturing method and the manufacturing apparatus of the liquid crystal display device 101, first, the liquid crystal display device 101 manufactured by the manufacturing method will be described with an example. The liquid crystal display device 101 of the present embodiment is a transflective liquid crystal display device 101 that performs color display using a simple matrix method.

上記構成の液晶表示装置101は、例えば、図18に示す製造方法によって製造される。この製造方法において、工程P1〜工程P6の一連の工程が第1基板107aを形成する工程であり、工程P11〜工程P14の一連の工程が第2基板107bを形成する工程である。第1基板形成工程と第2基板形成工程は、通常、それぞれが独自に行われる。   The liquid crystal display device 101 having the above-described configuration is manufactured by, for example, a manufacturing method shown in FIG. In this manufacturing method, a series of steps P1 to P6 is a step for forming the first substrate 107a, and a series of steps P11 to P14 is a step for forming the second substrate 107b. The first substrate forming step and the second substrate forming step are usually performed independently.

まず、第1基板形成工程について説明すれば、透光性ガラス、透光性プラスチック等によって形成された大面積のマザー原料基材の表面に液晶パネル102の複数個分の反射膜112をフォトリソグラフィー法等を用いて形成し、さらにその上に絶縁膜113を周知の成膜法を用いて形成し(工程P1)、次に、フォトリソグラフィー法等を用いて第1電極114a及び配線114c,114d,114e,114fを形成する(工程P2)。   First, the first substrate forming process will be described. A plurality of reflective films 112 of the liquid crystal panel 102 are formed on the surface of a large-area mother material substrate formed of translucent glass, translucent plastic, or the like by photolithography. Then, an insulating film 113 is formed thereon using a known film formation method (step P1), and then the first electrode 114a and the wirings 114c and 114d are formed using a photolithography method or the like. , 114e, 114f are formed (process P2).

次に、第1電極114aの上に塗布、印刷等によって配向膜116aを形成し(工程P3)、さらにその配向膜116aに対してラビング処理を施すことにより液晶の初期配向を決定する(工程P4)。次に、例えばスクリーン印刷等によってシール材108を環状に形成し(工程P5)、さらにその上に球状のスペーサ119を分散する(工程P6)。以上により、液晶パネル102の第1基板107a上のパネルパターンを複数個分有する大面積のマザー第1基板が形成される。   Next, an alignment film 116a is formed on the first electrode 114a by coating, printing, or the like (process P3), and the alignment film 116a is rubbed to determine the initial alignment of the liquid crystal (process P4). ). Next, the sealing material 108 is formed in an annular shape by, for example, screen printing (process P5), and spherical spacers 119 are further dispersed thereon (process P6). As a result, a large-area mother first substrate having a plurality of panel patterns on the first substrate 107a of the liquid crystal panel 102 is formed.

以上の第1基板形成工程とは別に、第2基板形成工程(図17の工程P11〜工程P14)を実施する。まず、透光性ガラス、透光性プラスチック等によって形成された大面積のマザー原料基材を用意し、その表面に液晶パネル102の複数個分のカラーフィルタ118を形成する(工程P11)。このカラーフィルタの形成工程は図2に示した製造方法を用いて行われ、その製造方法中のR,G,Bの各色サブ画素の形成は図4の液粒塗布装置14を用いて実行される。これらカラーフィルタの製造方法は既に説明した内容と同じであるので、それらの説明は省略する。   Separately from the first substrate forming process described above, the second substrate forming process (process P11 to process P14 in FIG. 17) is performed. First, a large-area mother material substrate formed of translucent glass, translucent plastic, or the like is prepared, and a plurality of color filters 118 for the liquid crystal panel 102 are formed on the surface (process P11). The color filter forming process is performed using the manufacturing method shown in FIG. 2, and the formation of the R, G, and B color sub-pixels in the manufacturing method is performed using the liquid droplet applying device 14 shown in FIG. The Since the manufacturing methods of these color filters are the same as those already described, their description is omitted.

図2(d)に示すようにマザー基板12すなわちマザー原料基材の上にカラーフィルタ1すなわちカラーフィルタ118が形成されると、次に、フォトリソグラフィー法によって第2電極114bが形成され(工程P12)、さらに塗布、印刷等によって配向膜116bが形成され(工程P13)、さらにその配向膜116bに対してラビング処理が施されて液晶の初期配向が決められる(工程P14)。以上により、液晶パネル102の第2基板107b上のパネルパターンを複数個分有する大面積のマザー第2基板が形成される。   When the color filter 1, that is, the color filter 118 is formed on the mother substrate 12, that is, the mother raw material base, as shown in FIG. 2D, the second electrode 114b is then formed by photolithography (process P12). Further, an alignment film 116b is formed by coating, printing, or the like (process P13), and the alignment film 116b is further rubbed to determine the initial alignment of the liquid crystal (process P14). As described above, a large mother second substrate having a plurality of panel patterns on the second substrate 107b of the liquid crystal panel 102 is formed.

以上により大面積のマザー第1基板及びマザー第2基板が形成された後、それらのマザー基板12をシール材108を間に挟んでアライメント、すなわち位置合わせした上で互いに貼り合わせる(工程P21)。これにより、液晶パネル複数個分のパネル部分を含んでいて未だ液晶が封入されていない状態の空のパネル構造体が形成される。   After the mother first substrate and the mother second substrate having a large area are formed as described above, the mother substrates 12 are aligned with each other with the sealant 108 interposed therebetween, that is, aligned, and then bonded to each other (process P21). As a result, an empty panel structure including a plurality of liquid crystal panel portions and not yet filled with liquid crystal is formed.

次に、完成した空のパネル構造体の所定位置にスクライブ溝、すなわち切断用溝を形成し、さらにそのスクライブ溝を基準にしてパネル構造体をブレイク、すなわち切断する(工程P22)。これにより、各液晶パネル部分のシール材108の液晶注入用開口110(図16参照)が外部へ露出する状態の、いわゆる短冊状の空のパネル構造体が形成される。   Next, a scribe groove, that is, a cutting groove is formed at a predetermined position of the completed empty panel structure, and the panel structure is broken, that is, cut, with reference to the scribe groove (step P22). As a result, a so-called strip-shaped empty panel structure in which the liquid crystal injection opening 110 (see FIG. 16) of the sealing material 108 of each liquid crystal panel portion is exposed to the outside is formed.

その後、露出した液晶注入用開口110を通して各液晶パネル部分の内部に液晶Lを注入し、さらに各液晶注入口110を樹脂等によって封止する(工程P23)。通常の液晶注入処理は、例えば、貯留容器の中に液晶を貯留し、その液晶が貯留された貯留容器と短冊状の空パネルをチャンバー等に入れ、そのチャンバー等を真空状態にしてからそのチャンバーの内部において液晶の中に短冊状の空パネルを浸漬し、その後、チャンバーを大気圧に開放することによって行われる。このとき、空パネルの内部は真空状態なので、大気圧によって加圧される液晶が液晶注入用開口を通してパネルの内部へ導入される。液晶注入後の液晶パネル構造体のまわりには液晶が付着するので、液晶注入処理後の短冊状パネルは工程24において洗浄処理を受ける。   Thereafter, liquid crystal L is injected into each liquid crystal panel portion through the exposed liquid crystal injection opening 110, and each liquid crystal injection port 110 is sealed with a resin or the like (process P23). In the normal liquid crystal injection process, for example, liquid crystal is stored in a storage container, the storage container storing the liquid crystal and a strip-shaped empty panel are put into a chamber or the like, and the chamber or the like is evacuated and then the chamber This is performed by immersing a strip-shaped empty panel in the liquid crystal inside the chamber, and then opening the chamber to atmospheric pressure. At this time, since the interior of the empty panel is in a vacuum state, the liquid crystal pressurized by the atmospheric pressure is introduced into the panel through the liquid crystal injection opening. Since the liquid crystal adheres around the liquid crystal panel structure after the liquid crystal is injected, the strip-shaped panel after the liquid crystal injection process is subjected to a cleaning process in step 24.

その後、液晶注入及び洗浄が終わった後の短冊状のマザーパネルに対して再び所定位置にスクライブ溝を形成し、さらにそのスクライブ溝を基準にして短冊状パネルを切断することにより、複数個の液晶パネルが個々に切り出される(工程P25)。こうして作製された個々の液晶パネル102に対して図18に示すように、液晶駆動用IC103a,103bを実装し、照明装置106をバックライトとして装着し、さらにFPC104を接続することにより、目標とする液晶装置101が完成する(工程P26)。   Thereafter, a scribe groove is formed again at a predetermined position on the strip-shaped mother panel after the liquid crystal injection and cleaning is completed, and the strip-shaped panel is cut with reference to the scribe groove, thereby a plurality of liquid crystals. Panels are cut out individually (step P25). As shown in FIG. 18, the liquid crystal driving ICs 103 a and 103 b are mounted on the individual liquid crystal panels 102 manufactured in this way, the lighting device 106 is mounted as a backlight, and the FPC 104 is connected to achieve the target. The liquid crystal device 101 is completed (process P26).

以上詳述したように本実施形態によれば、以下の効果を得ることができる。   As described above in detail, according to the present embodiment, the following effects can be obtained.

(10)液粒形成部材41に形成された液粒8は、塗布を行うことによって浮遊せずに確実に基板に塗布することができる。そして、所定領域に塗布すべき必要量が付着される。よって、カラーフィルタを製造する段階において、複数のサブ画素間で膜厚にバラツキが生じることを防止でき、それ故、カラーフィルタの光透過特性を平面的に均一にすることができる。この結果、色むらの無い鮮明なカラー像を表示することができる。   (10) The liquid particles 8 formed on the liquid particle forming member 41 can be reliably applied to the substrate without floating by application. Then, a necessary amount to be applied is adhered to the predetermined area. Therefore, in the stage of manufacturing the color filter, it is possible to prevent the film thickness from being varied among the plurality of sub-pixels, and therefore, the light transmission characteristics of the color filter can be made uniform in a plane. As a result, a clear color image without color unevenness can be displayed.

(第5実施形態)
図19は、電気光学装置としてのEL装置の製造方法を主要工程別に示した図及び最終的に得られるEL装置の主要断面構造図を示している。このEL装置は、図4において説明した液粒塗布装置14を使用して製造される。液晶表示パネル102とは、塗布する材料が異なっており、本実施形態では、EL装置用の材料を使って塗布している。
(Fifth embodiment)
FIG. 19 is a diagram illustrating a method of manufacturing an EL device as an electro-optical device according to main processes and a main cross-sectional structure diagram of the EL device finally obtained. This EL device is manufactured using the liquid particle coating device 14 described in FIG. The liquid crystal display panel 102 is applied with a different material. In this embodiment, the liquid crystal display panel 102 is applied using a material for an EL device.

図19(d)に示すように、EL装置201は、透明基板204上に画素電極202を形成し、各画素電極202間にバンク205を矢印G方向から見て格子状に形成し、それらの格子状凹部の中に正孔注入層220を形成し、矢印G方向から見てストライプ配列等といった所定配列となるようにR色発光層203R、G色発光層203G及びB色発光層203Bを各格子状凹部の中に形成し、さらにそれらの上に対向電極213を形成することによって形成される。   As shown in FIG. 19D, the EL device 201 forms pixel electrodes 202 on a transparent substrate 204, and banks 205 are formed between the pixel electrodes 202 in a lattice shape when viewed from the direction of the arrow G. A hole injection layer 220 is formed in the lattice-shaped recess, and the R-color light-emitting layer 203R, the G-color light-emitting layer 203G, and the B-color light-emitting layer 203B are arranged in a predetermined arrangement such as a stripe arrangement as viewed from the arrow G direction. It is formed by forming in the grid-like recesses and further forming the counter electrode 213 thereon.

上記画素電極202をTFD(Thin Film Diode:薄膜ダイオード)素子等といった2端子型のアクティブ素子によって駆動する場合には、上記対向電極213は矢印G方向から見てストライプ状に形成される。また、画素電極202をTFT(Thin Film Transistor:薄膜トランジスタ)等といった3端子型のアクティブ素子によって駆動する場合には、上記対向電極213は単一な面電極として形成される。   When the pixel electrode 202 is driven by a two-terminal active element such as a TFD (Thin Film Diode) element, the counter electrode 213 is formed in a stripe shape when viewed from the arrow G direction. When the pixel electrode 202 is driven by a three-terminal active element such as a TFT (Thin Film Transistor), the counter electrode 213 is formed as a single surface electrode.

各画素電極202と各対向電極213とによって挟まれる領域が1つの絵素ピクセルとなり、R,G,B3色の絵素ピクセルが1つのユニットとなって1つの画素を形成する。各絵素ピクセルを流れる電流を制御することにより、複数の絵素ピクセルのうちの希望するものを選択的に発光させ、これにより、矢印H方向に希望するカラー像を表示することができる。   A region sandwiched between each pixel electrode 202 and each counter electrode 213 becomes one picture element pixel, and R, G, and B three-color picture element pixels form one unit to form one pixel. By controlling the current flowing through each pixel pixel, a desired one of the plurality of pixel pixels can be selectively emitted, and thereby a desired color image can be displayed in the arrow H direction.

図20は、EL装置の製造方法を示している。   FIG. 20 shows a method for manufacturing an EL device.

EL装置201は、例えば、図20に示す製造方法によって製造される。すなわち、工程P51及び図19(a)のように、透明基板204の表面にTFD素子やTFT素子等といった能動素子を形成し、さらに画素電極202を形成する。形成方法としては、例えば、フォトリソグラフィー法、真空状着法、スパッタリング法、パイロゾル法等を用いることができる。画素電極の材料としてはITO(Indium Tin Oxide)、酸化スズ、酸化インジウムと酸化亜鉛との複合酸化物等を用いることができる。   The EL device 201 is manufactured by, for example, a manufacturing method shown in FIG. That is, as shown in step P51 and FIG. 19A, an active element such as a TFD element or a TFT element is formed on the surface of the transparent substrate 204, and a pixel electrode 202 is further formed. As a formation method, for example, a photolithography method, a vacuum deposition method, a sputtering method, a pyrosol method, or the like can be used. As a material of the pixel electrode, ITO (Indium Tin Oxide), tin oxide, a composite oxide of indium oxide and zinc oxide, or the like can be used.

次に、工程P52及び図19(a)に示すように、隔壁すなわちバンク205を周知のパターニング手法、例えばフォトリソグラフィー法を用いて形成し、このバンク205によって各透明電極202の間を埋めた。これにより、コントラストの向上、発光材料の混色の防止、画素と画素との間からの光漏れ等を防止することができる。バンク205の材料としては、EL材料の溶媒に対して耐久性を有するものであれば特に限定されないが、フロロカーボンガスプラズマ処理によりフッ素処理できること、例えば、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、感光性ポリイミド等といった有機材料が好ましい。   Next, as shown in Step P52 and FIG. 19A, a partition wall, that is, a bank 205 was formed by using a well-known patterning method, for example, a photolithography method, and the space between the transparent electrodes 202 was filled with the bank 205. Thereby, it is possible to improve contrast, prevent color mixing of the light emitting material, and prevent light leakage from between the pixels. The material of the bank 205 is not particularly limited as long as it has durability against the solvent of the EL material, but can be treated with fluorine by fluorocarbon gas plasma treatment, for example, organic materials such as acrylic resin, epoxy resin, and photosensitive polyimide. Material is preferred.

次に、正孔注入層用の液粒を塗布する直前に、基板204に酸素ガスとフロロカーボンガスプラズマの連続プラズマ処理を行った(工程P53)。これにより、ポリイミド表面は撥水化され、ITO表面は親水化され、液粒を微細にパターニングするための基板側の濡れ性の制御ができる。プラズマを発生する装置としては、真空中でプラズマを発生する装置でも、大気中でプラズマを発生する装置でも同様に用いることができる。   Next, immediately before applying the liquid particles for the hole injection layer, the substrate 204 was subjected to continuous plasma treatment with oxygen gas and fluorocarbon gas plasma (process P53). Thereby, the polyimide surface is water-repellent, the ITO surface is hydrophilized, and the wettability on the substrate side for finely patterning the liquid droplets can be controlled. As an apparatus for generating plasma, an apparatus for generating plasma in a vacuum or an apparatus for generating plasma in the atmosphere can be used similarly.

次に、工程P54及び図19(a)に示すように、正孔注入層用の液粒8を図4の液粒塗布装置14の液粒形成部材41から塗布し、各画素電極202の上にパターニング塗布を行った。その塗布後、真空(1torr)中、室温、20分という条件で溶媒を除去し(工程P55)、その後、大気中、20℃(ホットプレート上)、10分の熱処理により、発光層用の液粒と相溶しない正孔注入層220を形成した(工程P56)。膜厚は40nmであった。   Next, as shown in Step P54 and FIG. 19A, the liquid droplet 8 for the hole injection layer is applied from the liquid particle forming member 41 of the liquid particle applying apparatus 14 in FIG. The patterning application was performed. After the coating, the solvent is removed under conditions of room temperature and 20 minutes in a vacuum (1 torr) (step P55), and then heat treatment in the atmosphere at 20 ° C. (on a hot plate) for 10 minutes. A hole injection layer 220 incompatible with the grains was formed (process P56). The film thickness was 40 nm.

次に、工程P57及び図19(b)に示すように、各サブ画素領域内の正孔注入層220の上に液粒塗布手法を用いてR発光層用の液粒8及びG発光層用の液粒8を塗布した。ここでも、各発光層用の液粒は、図4の液粒塗布装置14の液粒形成部材41から塗布した。液粒塗布方式によれば、微細なパターニングを簡便に且つ短時間に行うことができる。また、液粒組成物の固形分濃度及び塗布量を変えることにより膜厚を変えることが可能である。   Next, as shown in Step P57 and FIG. 19B, the liquid droplet 8 for the R light emitting layer and the G light emitting layer are formed on the hole injection layer 220 in each sub-pixel region by using a liquid particle coating method. The liquid droplet 8 was applied. Also here, the liquid particles for each light emitting layer were applied from the liquid particle forming member 41 of the liquid particle applying apparatus 14 of FIG. According to the liquid droplet coating method, fine patterning can be performed easily and in a short time. The film thickness can be changed by changing the solid content concentration and the coating amount of the liquid composition.

発光層用の液粒の塗布後、真空(1torr)中、室温、20分等という条件で溶媒を除去し(工程P58)、続けて窒素雰囲気中、150℃、4時間の熱処理により共役化させてR色発光層203R及びG色発光層203Gを形成した(工程P59)。膜厚は50nmであった。熱処理により共役化した発光層は溶媒に不溶である。   After application of the liquid droplets for the light emitting layer, the solvent is removed under conditions of vacuum (1 torr), room temperature, 20 minutes, etc. (step P58), followed by conjugation by heat treatment at 150 ° C. for 4 hours in a nitrogen atmosphere. Thus, an R color light emitting layer 203R and a G color light emitting layer 203G were formed (Step P59). The film thickness was 50 nm. The light-emitting layer conjugated by heat treatment is insoluble in the solvent.

なお、発光層を形成する前に正孔注入層220に酸素ガスとフロロカーボンガスプラズマの連続プラズマ処理を行っても良い。これにより、正孔注入層220上にフッ素化物層が形成され、イオン化ポテンシャルが高くなることにより正孔注入効率が増し、発光効率の高い有機EL装置を提供できる。   Note that, before forming the light emitting layer, the hole injection layer 220 may be subjected to continuous plasma treatment with oxygen gas and fluorocarbon gas plasma. As a result, a fluoride layer is formed on the hole injection layer 220 and the ionization potential is increased, whereby the hole injection efficiency is increased, and an organic EL device with high light emission efficiency can be provided.

次に、工程P60及び図19(c)に示すように、B色発光層203Bを各絵素ピクセル内のR色発光層203R、G色発光層203G及び正孔注入層220の上に重ねて形成した。これにより、R,G,Bの3原色を形成するのみならず、R色発光層203R及びG色発光層203Gとバンク205との段差を埋めて平坦化することができる。これにより、上下電極間のショートを確実に防ぐことができる。B色発光層203Bの膜厚を調整することで、B色発光層203BはR色発光層203R及びG色発光層203Gとの積層構造において、電子注入輸送層として作用してB色には発光しない。   Next, as shown in Step P60 and FIG. 19C, the B-color light emitting layer 203B is overlaid on the R-color light-emitting layer 203R, the G-color light-emitting layer 203G, and the hole injection layer 220 in each pixel pixel. Formed. Accordingly, not only the three primary colors of R, G, and B can be formed, but also the steps of the R light emitting layer 203R and the G light emitting layer 203G and the bank 205 can be filled and flattened. Thereby, a short circuit between the upper and lower electrodes can be reliably prevented. By adjusting the film thickness of the B-color light emitting layer 203B, the B-color light-emitting layer 203B functions as an electron injecting and transporting layer in the stacked structure of the R-color light-emitting layer 203R and the G-color light-emitting layer 203G and emits light to the B color. do not do.

以上のようなB色発光層203Bの形成方法としては、例えば湿式法として一般的なスピンコート法を採用することもできるし、あるいは、R色発光層203R及びG色発光層203Gの形成法と同様の液粒塗布法を採用することもできる。   As a method for forming the B-color light-emitting layer 203B as described above, for example, a general spin coating method can be adopted as a wet method, or a method for forming the R-color light-emitting layer 203R and the G-color light-emitting layer 203G. A similar liquid particle coating method can also be employed.

以上のようなB色発光層203Bの形成方法としては、例えば湿式法として一般的なスピンコート法を採用することもできるし、あるいは、R色発光層203R及びG色発光層203Gの形成法と同様の液粒塗布法を採用することもできる。   As a method for forming the B-color light-emitting layer 203B as described above, for example, a general spin coating method can be adopted as a wet method, or a method for forming the R-color light-emitting layer 203R and the G-color light-emitting layer 203G. A similar liquid particle coating method can also be employed.

また、本実施形態のEL装置の製造方法及び製造装置では、図4に示す液粒塗布装置14を用いることにより液粒形成部材41に形成された液粒8の塗布によってR,G,Bの各色絵素ピクセルを形成するので、フォトリソグラフィー法を用いる方法のような複雑な工程を経る必要も無く、また、材料を浪費することも無い。   Moreover, in the manufacturing method and manufacturing apparatus of the EL device of the present embodiment, R, G, and B are applied by applying the liquid particles 8 formed on the liquid particle forming member 41 by using the liquid particle applying device 14 shown in FIG. Since each color picture element pixel is formed, it is not necessary to go through complicated steps such as a method using a photolithography method, and material is not wasted.

以上詳述したように本実施形態によれば、以下の効果を得ることができる。   As described above in detail, according to the present embodiment, the following effects can be obtained.

(11)液粒形成部材41に形成された液粒8は、塗布を行うことによって浮遊せずに確実に基板に塗布することができる。そして、所定領域に塗布すべき必要量が付着される。よって、発光層を製造する段階において、複数のR、G、B発光層や正孔注入層の膜厚にバラツキが生じることを防止できる。それ故、EL装置の発光面の発光分布特性を平面的に均一にすることができ、この結果、色むらのない鮮明なカラー表示を得ることができる。   (11) The liquid particles 8 formed on the liquid particle forming member 41 can be reliably applied to the substrate without being floated by application. Then, a necessary amount to be applied is adhered to the predetermined area. Therefore, it is possible to prevent variations in the film thickness of the plurality of R, G, B light emitting layers and the hole injection layer in the stage of manufacturing the light emitting layer. Therefore, the light emission distribution characteristic of the light emitting surface of the EL device can be made uniform in a plane, and as a result, a clear color display without color unevenness can be obtained.

なお、本実施形態は上記に限定されず、以下のような形態で実施することもできる。   In addition, this embodiment is not limited above, It can also implement with the following forms.

(変形例1)前記実施形態では、液粒形成部材41はシリンダ43の底面から突出するように形成している例を説明した。これを、図21の(a)、(b)に示すように、液粒形成部材41は、シリンダ43から突出するのではなく、底部を構成するプレートに形成してもよい。同図(a)の液粒形成部材41は、シリンダ43の底面部を構成する逆円錐形状の孔41aが形成されている。同図(b)の液粒形成部材41は、シリンダ41の底面部にプレートとして形成され、その略中央部には円筒細孔形状の孔41bが形成されている。同図(a)、(b)における液粒8は、シリンダ43の底面中央部に形成される。又、この場合の液粒形成部材41は、ネジによってシリンダ43に固定しなくてもよい。   (Modification 1) In the above embodiment, the liquid particle forming member 41 has been described so as to protrude from the bottom surface of the cylinder 43. As shown in FIGS. 21A and 21B, the liquid particle forming member 41 may be formed not on the cylinder 43 but on the plate constituting the bottom. The liquid particle forming member 41 in FIG. 5A is formed with an inverted conical hole 41 a that constitutes the bottom surface of the cylinder 43. The liquid particle forming member 41 in FIG. 4B is formed as a plate on the bottom surface of the cylinder 41, and a cylindrical pore-shaped hole 41b is formed in the substantially central portion thereof. The liquid particles 8 in FIGS. 2A and 2B are formed at the center of the bottom surface of the cylinder 43. In this case, the liquid particle forming member 41 may not be fixed to the cylinder 43 with a screw.

(変形例2)前記実施形態では、加圧アクチュエータ58によって、シリンダ43内のフィルタ剤13を加圧する例を説明した。これを、図22に示すように、水頭差Eを利用して液体収容器61内のフィルタ剤13を液体収容器61に送り込むようにしてもよい。液体収容器61は、液体導入部62に接続されたチューブ63を介してタンク65に接続されている。チューブ63上には、バルブ64が介装されており、このバルブ64は、チューブ62内のフィルタ剤13の流れを断続する役割をしている。タンク65は、タンク昇降機構66とモータ67とによって、基板上面からの高さを上下に移動可能になっている。タンク65には、フィルタ剤13の液位の高さを検出する液位センサ68が設けられている。タンク65内のフィルタ剤の液位と、液粒形成部材41の先端部までの高さの差が水頭差Eとなり、この水頭差Eに応じた圧力により、液粒形成部材41の先端部42にフィルタ材13の液粒8が形成される。   (Modification 2) In the above-described embodiment, the example in which the filter agent 13 in the cylinder 43 is pressurized by the pressure actuator 58 has been described. As shown in FIG. 22, the filter agent 13 in the liquid container 61 may be fed into the liquid container 61 using the water head difference E. The liquid container 61 is connected to the tank 65 via a tube 63 connected to the liquid introduction part 62. A valve 64 is interposed on the tube 63, and this valve 64 serves to interrupt the flow of the filter agent 13 in the tube 62. The height of the tank 65 from the upper surface of the substrate can be moved up and down by a tank lifting mechanism 66 and a motor 67. The tank 65 is provided with a liquid level sensor 68 that detects the height of the liquid level of the filter agent 13. The difference between the liquid level of the filter agent in the tank 65 and the height to the tip of the liquid particle forming member 41 becomes a water head difference E, and the tip 42 of the liquid particle forming member 41 is caused by the pressure corresponding to the water head difference E. Thus, the liquid particles 8 of the filter material 13 are formed.

液粒8を基板に塗布する際には、タンク65に収納されたフィルタ剤13の液面高さと液粒形成部材41の先端部42の高さの差である水頭差Eを、常に一定の高さになるように管理し、液粒収容器61内のフィルタ剤13への加圧力が常に一定になるように設定される。   When the liquid particle 8 is applied to the substrate, the water head difference E, which is the difference between the liquid surface height of the filter agent 13 accommodated in the tank 65 and the height of the tip end portion 42 of the liquid particle forming member 41, is always constant. The height is controlled so that the pressure applied to the filter agent 13 in the liquid container 61 is always constant.

基板への液粒8は、バルブ63を常に開いた状態で、連続的に塗布を行ってもよい。又、バルブ63を開いた状態で液粒8を形成し、液粒8が所定の液量に形成されるタイミングでバルブ63を閉じて、その後に塗布をするようにしてもよい。   The liquid droplets 8 on the substrate may be applied continuously with the valve 63 kept open. Alternatively, the liquid particles 8 may be formed with the valve 63 opened, and the valve 63 may be closed at a timing when the liquid particles 8 are formed to a predetermined liquid amount, and then the coating may be performed.

(変形例3)前記実施形態では、液粒8は、液粒形成部材41側を下降させて基板に塗布を行っている例を説明した。これを、基板側を液粒形成部材41に上昇させて液粒8の塗布を行ってもよい。   (Modification 3) In the above embodiment, the liquid particle 8 has been described as being applied to the substrate by lowering the liquid particle forming member 41 side. Alternatively, the liquid particle 8 may be applied by raising the substrate side to the liquid particle forming member 41.

(変形例4)前記第1、2実施形態では、同じサブ画素領域7に1回の塗布(第1実施形態では4滴、第2実施形態では12滴)を行っている例を説明した。これを、同じサブ画素領域7に複数回の塗布を行うようにしてもよい。   (Modification 4) In the first and second embodiments, the example in which the same sub-pixel region 7 is applied once (four drops in the first embodiment and 12 drops in the second embodiment) has been described. This may be applied to the same subpixel region 7 a plurality of times.

(変形例5)前記第1実施形態では、4つの液粒形成部材41によって形成される4つの液粒8は、1つのサブ画素領域7に塗布される例を説明した。これを、4つの液粒形成部材41のうち少なくとも1つに選択的に加圧できるように構成し、1滴〜4滴のうち所定数の液粒を基板に塗布するようにしてもよい。又、前記第2実施形態では、12個の液粒形成部材41によって形成される12個の液粒8は、1つのサブ画素領域7に塗布される例を説明した。これを、12個の液粒形成部材41のうち少なくとも1つに選択的に加圧できるように構成し、1滴〜12滴のうち所定数の液粒を基板に塗布するようにしてもよい。   (Modification 5) In the first embodiment, the example in which the four liquid particles 8 formed by the four liquid particle forming members 41 are applied to one sub-pixel region 7 has been described. This may be configured so that at least one of the four liquid droplet forming members 41 can be selectively pressurized, and a predetermined number of liquid droplets of one to four drops may be applied to the substrate. In the second embodiment, the example in which the twelve liquid particles 8 formed by the twelve liquid particle forming members 41 are applied to one sub-pixel region 7 has been described. This may be configured such that at least one of the 12 liquid particle forming members 41 can be selectively pressurized, and a predetermined number of liquid particles of 1 to 12 drops may be applied to the substrate. .

(変形例6)前記実施形態では、複数の液粒形成部材41が、サブ画素領域7のサイズに適合した範囲に配置された塗布ヘッド15を使用して、液粒を形成し塗布を行っていた。これに対し、複数の液粒形成部材41の間隔を可変可能な機構を設け、液粒形成部材41の配置範囲をサブ画素領域7のサイズに合わせて調整する構成を採用してもよい。   (Modification 6) In the above-described embodiment, the plurality of liquid particle forming members 41 form the liquid particles and perform the application using the application head 15 arranged in a range suitable for the size of the sub-pixel region 7. It was. On the other hand, a mechanism that can change the interval between the plurality of liquid particle forming members 41 and adjust the arrangement range of the liquid particle forming members 41 according to the size of the sub-pixel region 7 may be adopted.

(変形例7)前記第2実施形態では、3列(B、C、D列)の液粒形成部材によって形成された複数の液粒8は、1つのサブ画素領域7に塗布している例を説明した。これを、列毎に塗布する色を決め、1つの画素(R、G、Bのサブ画素)領域には、一回の塗布動作によって3色の液粒8を同時に塗布するようにしてもよい。詳述すると、B列の液粒形成部材41はR(赤色)の液粒8を形成し、C列の液粒形成部材41はG(緑色)の液粒8を形成し、D列の液粒形成部材41はB(青色)の液粒8を形成する。そして一回の塗布動作によって、サブ画素領域(R、G、B)7には、対応する色の液粒8が塗布される。この場合、フィルタ剤13を収容するシリンダは、3色のフィルタ剤13が別々に収容できるように区分けされている。これによれば、1回の塗布動作によって、1つの画素に対応する液粒8の同時に塗布をすることができる。   (Modification 7) In the second embodiment, an example in which a plurality of liquid droplets 8 formed by three rows (B, C, D rows) of liquid droplet forming members is applied to one subpixel region 7. Explained. The color to be applied is determined for each column, and three color liquid droplets 8 may be simultaneously applied to one pixel (R, G, B subpixel) region by one application operation. . More specifically, the B row liquid droplet forming member 41 forms an R (red) liquid droplet 8, the C row liquid droplet forming member 41 forms a G (green) liquid droplet 8, and the D row liquid. The particle forming member 41 forms a B (blue) liquid particle 8. Then, liquid particles 8 of a corresponding color are applied to the sub-pixel regions (R, G, B) 7 by a single application operation. In this case, the cylinders that store the filter agents 13 are divided so that the three color filter agents 13 can be stored separately. According to this, it is possible to simultaneously apply the liquid droplets 8 corresponding to one pixel by one application operation.

(変形例8)前記第2実施形態では、一定の加圧値に保持した状態で液粒8を形成し続け、一定の時間間隔で液粒8を基板に塗布している例を説明した。これを、加圧値と塗布間隔時間の設定値は、効率のよい組み合わせに可変できる構成としてもよい。例えば、塗布スピードを上げたい場合は、加圧値を高く設定して対応する。例えば、塗布スピードを遅くしたい場合は、加圧値を低く設定して対応する。   (Modification 8) In the second embodiment, the example in which the liquid particles 8 are continuously formed while being held at a constant pressure value, and the liquid particles 8 are applied to the substrate at constant time intervals has been described. This may be configured such that the set value of the pressurization value and the application interval time can be varied to an efficient combination. For example, when it is desired to increase the coating speed, a high pressure value is set. For example, when it is desired to reduce the coating speed, the pressurization value is set low.

(変形例9)前記第3実施形態では、塗布する際の塗布ヘッド15は、サブ画素領域7内の固定された位置で複数回の塗布を行っている例を説明した。これを、1つのサブ画素領域7内で複数の液粒8を、主走査方向(X)方向にずらしながら塗布を行うようにしてもよい。   (Modification 9) In the third embodiment, the example in which the coating head 15 for coating is applied a plurality of times at a fixed position in the sub-pixel region 7 has been described. Alternatively, the plurality of liquid droplets 8 may be applied while shifting in the main scanning direction (X) direction within one sub-pixel region 7.

(変形例10)前記第3実施形態では、塗布する際の液粒形成部材41の先端位置は、1回目の塗布から最終回の塗布まで、最初に設定された所定高さ(H)に固定されていた。これを、1回目の塗布から最終回の塗布まで、一定量づつ(液面高さに合わせて)液粒形成部材41の先端位置を上昇させて塗布するようにしてもよい。   (Modification 10) In the third embodiment, the tip position of the liquid particle forming member 41 during application is fixed to a predetermined height (H) set initially from the first application to the final application. It had been. From the first application to the final application, the tip of the liquid particle forming member 41 may be applied at a constant amount (according to the liquid surface height).

(変形例11)前記第3実施形態では、フィルタ剤13の液粒8を形成するのに、一定量加圧した状態た例で説明した。これを第1実施形態での加圧方法と同様に、フィルタ剤13を一定時間加圧して、所定の液粒8が形成された後は、フィルタ剤13への加圧を停止させるようにしてもよい。これによれば、塗布スピードにばらつきが生じた場合でも、1滴あたりの液量にばらつきが生じないため、精度の高い塗布を行うことが出来る。   (Modification 11) In the said 3rd Embodiment, in order to form the liquid particle 8 of the filter agent 13, it demonstrated in the example which pressurized the fixed amount. In the same manner as the pressurizing method in the first embodiment, the filter agent 13 is pressurized for a certain time, and after the predetermined liquid particle 8 is formed, the pressurization to the filter agent 13 is stopped. Also good. According to this, even when the application speed varies, the liquid amount per droplet does not vary, so that highly accurate application can be performed.

(変形例12)前記第3実施形態では、塗布ヘッド15の塗布高さは、製造工程内に演算して求められる例を説明した。これを、塗布ヘッド15の塗布高さは、演算して求めるのではなく、予め設定しておいた値に合わせるようにしてもよい。   (Modification 12) In the third embodiment, the example in which the coating height of the coating head 15 is obtained by calculation in the manufacturing process has been described. In this case, the coating height of the coating head 15 is not calculated and may be adjusted to a preset value.

(変形例13)前記第4実施形態では、パッシブマトリクス型の液晶表示装置の例で説明した。これを、アクティブマトリクス型の表示装置、例えば、TFD(薄膜ダイオード)、TFT(薄膜トランジスタ)をスイッチング素子として備えた液晶表示装置に適用してもよい。   (Modification 13) In the fourth embodiment, the passive matrix type liquid crystal display device has been described as an example. This may be applied to an active matrix display device, for example, a liquid crystal display device including a TFD (thin film diode) and a TFT (thin film transistor) as a switching element.

第1実施形態におけるカラーフィルタとマザー基板の概略平面図。(a)はカラーフィルタの平面構造の模式平面図。(b)はマザー基板の平面構造を示す模式平面図。FIG. 3 is a schematic plan view of a color filter and a mother substrate in the first embodiment. (A) is a schematic top view of the planar structure of a color filter. (B) is a schematic plan view which shows the planar structure of a mother board | substrate. カラーフィルタの製造方法を工程順に模式的に示す模式図。The schematic diagram which shows the manufacturing method of a color filter typically in order of a process. サブ画素の配列例を示す平面図。The top view which shows the example of arrangement | sequence of a subpixel. フィルタ剤の供給を行うための液粒塗布装置の概略斜視図。The schematic perspective view of the liquid-particle coating device for supplying filter agent. 液粒塗布装置の塗布ヘッドとマザー基板の周辺の拡大斜視図。FIG. 3 is an enlarged perspective view of the periphery of a coating head and a mother substrate of a liquid particle coating apparatus. 塗布ヘッドの構成を示す概略図。(a)は塗布ヘッドの概略斜視図。(b)は塗布ヘッドの内部構造図。Schematic which shows the structure of a coating head. (A) is a schematic perspective view of an application head. (B) is an internal structure figure of an application head. カラーフィルタを形成するための電気系統を示すブロック図。The block diagram which shows the electric system for forming a color filter. 液粒を塗布する塗布パターンと塗布順序を示す模式図。The schematic diagram which shows the application pattern and application | coating order which apply | coat a liquid grain. フィルタ剤を加圧する加圧力と加圧時間との関係、及び塗布ヘッドの高さと塗布位置との関係を示すタイムチャート。The time chart which shows the relationship between the applied pressure which pressurizes a filter agent, and pressurization time, and the relationship between the height of an application head, and an application position. カラーフィルタが形成される動作を示すフローチャート。The flowchart which shows the operation | movement in which a color filter is formed. 第2実施形態における塗布ヘッドの構成を示す図。(a)は塗布ヘッドの斜視図。(b)は塗布ヘッドの内部構造図。The figure which shows the structure of the coating head in 2nd Embodiment. (A) is a perspective view of an application head. (B) is an internal structure figure of an application head. ピストンによる加圧力と時間の関係、及び液粒の塗布位置と塗布のタイミングの関係を示すタイムチャート。The time chart which shows the relationship between the applied pressure by a piston, and time, and the relationship between the application position of a liquid particle, and the application timing. カラーフィルタが形成される動作を示すフローチャート。The flowchart which shows the operation | movement in which a color filter is formed. 第3実施形態における液粒形成部材と液粒の塗布位置を示す概略図。(a)は1回目の塗布の液粒形成部材と基板との位置関係を示す模式図。(b)は最終回の塗布の液粒形成部材と液面、基板の位置関係を示す模式図。Schematic which shows the application position of the liquid particle formation member and liquid particle in 3rd Embodiment. (A) is a schematic diagram which shows the positional relationship of the liquid-particle formation member of a 1st application | coating, and a board | substrate. (B) is a schematic diagram showing the positional relationship between the liquid particle forming member, the liquid surface, and the substrate in the final application. カラーフィルタが形成される動作を示すフローチャート。The flowchart which shows the operation | movement in which a color filter is formed. 第4実施形態における液晶表示装置の分解斜視図。The disassembled perspective view of the liquid crystal display device in 4th Embodiment. 液晶表示装置の断面構造を示す模式図。FIG. 3 is a schematic diagram illustrating a cross-sectional structure of a liquid crystal display device. 液晶表示装置の製造方法を示すの工程図。FIG. 5 is a process diagram showing a method for manufacturing a liquid crystal display device. 第5実施形態におけるEL装置の製造方法を示す概略断面図。FIG. 10 is a schematic cross-sectional view showing a method for manufacturing an EL device according to a fifth embodiment. EL装置の製造方法を示す工程図。Process drawing which shows the manufacturing method of EL apparatus. 液粒形成部材の変形例を示す断面図。Sectional drawing which shows the modification of a liquid-particle formation member. 加圧する装置の変形例を示す模式断面図。The schematic cross section which shows the modification of the apparatus to pressurize.

符号の説明Explanation of symbols

1・・・電気光学装置用基板としてのカラーフィルタ、2・・・基板、3・・・サブ画素としてのサブ画素、7・・・所定領域としてのサブ画素領域、8・・・液粒、11・・・カラーフィルタ形成領域、12・・・マザー基板、13・・・色素機能液としてのフィルタ剤、13(R)・・・色素機能液としてのフィルタ剤(赤)、13(G)・・・色素機能液としてのフィルタ剤(緑)、13(B)・・・色素機能液としてのフィルタ剤(青)、14・・・液粒塗布装置、15・・・塗布ヘッド、30・・・電子天秤、41・・・液粒形成部材、41a、41b・・・孔、42・・・所定部位としての先端部、43・・・シリンダ、44・・・液粒形成部材を構成する孔、46・・・圧力センサ、47・・・ピストン、48・・・ピストンロッド、58・・・加圧手段としての加圧アクチュエータ、63・・・加圧手段を構成するチューブ、65・・・加圧手段を構成するタンク、66・・・加圧手段を構成するタンク昇降装置、67・・・加圧手段を構成するモータ、68・・・加圧手段を構成するセンサ、101・・・電気光学装置としての液晶表示装置、201・・・電気光学装置としてのEL装置201。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Color filter as a substrate for electro-optical devices, 2 ... Substrate, 3 ... Sub pixel as a sub pixel, 7 ... Sub pixel region as a predetermined region, 8 ... Liquid particle, DESCRIPTION OF SYMBOLS 11 ... Color filter formation area | region, 12 ... Mother board | substrate, 13 ... Filter agent as a dye functional liquid, 13 (R) ... Filter agent (red) as a dye functional liquid, 13 (G) ... Filter agent (green) as a dye functional liquid, 13 (B) ... Filter agent (blue) as a dye functional liquid, 14 ... Liquid particle coating device, 15 ... Coating head, 30 ..Electronic balance, 41... Liquid droplet forming member, 41a, 41b... Hole, 42... Tip portion as a predetermined portion, 43. Hole, 46 ... Pressure sensor, 47 ... Piston, 48 ... Piston 58, a pressurizing actuator as a pressurizing means, 63, a tube constituting the pressurizing means, 65, a tank constituting the pressurizing means, 66, constituting a pressurizing means. Tank lift device, 67... Motor constituting pressurizing means, 68... Sensor constituting pressurizing means, 101... Liquid crystal display device as electro-optical device, 201. EL device 201.

Claims (11)

基板に色素機能液を塗布して複数の着色層を配列して成る電気光学装置用基板の製造方法であって、
液粒形成部材に前記色素機能液の液粒を形成する工程と、
前記液粒形成部材に形成された前記液粒を前記基板の所定領域に塗布する工程と
を備えたことを特徴とする電気光学装置用基板の製造方法。
A method for manufacturing a substrate for an electro-optical device, wherein a dye functional liquid is applied to a substrate and a plurality of colored layers are arranged,
Forming liquid droplets of the dye functional liquid on a liquid particle forming member;
And a step of applying the liquid particles formed on the liquid particle forming member to a predetermined region of the substrate.
請求項1に記載の電気光学装置用基板の製造方法であって、
前記所定領域に塗布する工程では、前記所定領域に必要な全液量を複数回に分けて塗布しうるように前記液粒の液量を決定し、前記液粒の塗布回数によって前記所定領域に塗布する量を制御することを特徴とする電気光学装置用基板の製造方法。
A method for manufacturing a substrate for an electro-optical device according to claim 1,
In the step of applying to the predetermined area, the liquid amount of the liquid particle is determined so that the total liquid amount necessary for the predetermined area can be applied in a plurality of times, and the liquid area is applied to the predetermined area according to the number of times the liquid particle is applied. A method for manufacturing a substrate for an electro-optical device, wherein the amount to be applied is controlled.
請求項2に記載の電気光学装置用基板の製造方法であって、
前記液粒の重量を測定して前記液粒の前記塗布回数を決定する工程を備えたことを特徴とする電気光学装置用基板の製造方法。
A method for manufacturing a substrate for an electro-optical device according to claim 2,
A method of manufacturing a substrate for an electro-optical device, comprising the step of measuring the weight of the liquid droplets and determining the number of times of application of the liquid droplets.
請求項2又は3に記載の電気光学装置用基板の製造方法であって、
複数回の塗布のうち、1回目の塗布で前記液粒形成部材に形成された前記液粒が前記基板に接触し、かつ、最終回の塗布で前記液粒形成部材が前記基板上の既に塗布済みの液面に触れない高さまで前記液粒形成部材を下降させることにより前記複数回の塗布を行うことを特徴とする電気光学装置用基板の製造方法。
A method for manufacturing a substrate for an electro-optical device according to claim 2 or 3,
Of the plurality of times of application, the liquid particles formed on the liquid particle forming member in the first application are in contact with the substrate, and the liquid particle forming member is already applied on the substrate in the final application. A method of manufacturing a substrate for an electro-optical device, wherein the coating is performed a plurality of times by lowering the liquid particle forming member to a height at which the liquid surface is not touched.
請求項1〜4のいずれか1項に記載の電気光学装置用基板の製造方法であって、
前記液粒は、液体収容部内の前記色素機能液が加圧手段により加圧されることで前記液粒形成部材に形成され、前記液粒の液量は、前記加圧手段が前記色素機能液を加圧する加圧時間によって制御することを特徴とする電気光学装置用基板の製造方法。
A method for manufacturing a substrate for an electro-optical device according to claim 1,
The liquid droplet is formed on the liquid particle forming member by pressurizing the dye functional liquid in the liquid storage portion by a pressurizing unit, and the liquid amount of the liquid particle is determined by the pressurizing unit. A method for manufacturing a substrate for an electro-optical device, wherein the pressure is controlled by a pressurizing time.
請求項1〜4のいずれか1項に記載の電気光学装置用基板の製造方法であって、
前記液粒の液量は、前記加圧手段により前記色素機能液を加圧する加圧値と塗布する時間間隔とによって前記液粒の液量を制御することを特徴とする電気光学装置用基板の製造方法。
A method for manufacturing a substrate for an electro-optical device according to claim 1,
In the electro-optical device substrate, the liquid amount of the liquid particle is controlled by a pressurizing value for pressurizing the dye functional liquid by the pressurizing unit and a time interval for coating. Production method.
請求項1〜6のいずれか1項に載の電気光学装置用基板の製造方法であって、
前記液粒形成部材の少なくとも前記所定部位は、前記基板より撥液性を有する材質で形成されていることを特徴とする電気光学装置用基板の製造方法。
A method for manufacturing a substrate for an electro-optical device according to claim 1,
The method for manufacturing a substrate for an electro-optical device, wherein at least the predetermined portion of the liquid particle forming member is formed of a material having liquid repellency than the substrate.
請求項1〜7のいずれか1項に記載の電気光学装置用基板の製造方法であって、
前記液粒形成部材は複数備えられ、前記所定領域に塗布する工程では、複数の前記液粒形成部材によって前記液粒を複数滴同時に塗布することを特徴とする電気光学装置用基板の製造方法。
A method for manufacturing a substrate for an electro-optical device according to any one of claims 1 to 7,
A method of manufacturing a substrate for an electro-optical device, comprising: a plurality of liquid droplet forming members, wherein in the step of applying to the predetermined region, a plurality of droplets of the liquid droplets are applied simultaneously by the plurality of liquid particle forming members.
請求項8に記載の電気光学装置用基板の製造方法であって、
複数の前記液粒形成部材は、共通の前記液体収容部と連通されていることを特徴とする電気光学装置用基板の製造方法。
A method for manufacturing a substrate for an electro-optical device according to claim 8,
The method of manufacturing a substrate for an electro-optical device, wherein the plurality of liquid particle forming members are in communication with the common liquid container.
電気光学装置の製造方法であって、請求項1〜9のいずれか1項に記載の電気光学装置用基板の製造方法を含むことを特徴とする電気光学装置の製造方法。 10. A method for manufacturing an electro-optical device, comprising the method for manufacturing a substrate for an electro-optical device according to claim 1. 電気光学装置用基板を形成するために基板に塗布する色素機能液を収容する液体収容部と、
前記液体収容部の前記色素機能液を液粒とする液粒形成部材と、
前記液粒形成部材に前記液粒を形成するために前記液体収容部内の前記色素機能液を加圧する加圧手段と、
前記液粒形成部材と前記基板との少なくとも一方を接近させることにより前記基板上の所定領域に前記液粒を塗布させる移動手段と
を備えたことを特徴とする電気光学装置用基板の製造装置。
A liquid storage unit for storing a functional dye solution applied to the substrate to form an electro-optical device substrate;
A liquid particle forming member having the dye functional liquid in the liquid container as a liquid particle;
A pressurizing means for pressurizing the dye functional liquid in the liquid storage unit in order to form the liquid particle on the liquid particle forming member;
An apparatus for manufacturing a substrate for an electro-optical device, comprising: moving means for applying the liquid particles to a predetermined region on the substrate by bringing at least one of the liquid particle forming member and the substrate close to each other.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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