JP2002222056A - 透明タッチパネル - Google Patents
透明タッチパネルInfo
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 透明導電膜同士が接触したときの電気的接続
を良好に行うと共に、光透過率を向上させ裏面に配置し
た表示素子の視認性を改善する。 【解決手段】 抵抗膜式透明タッチパネル１０は、対向
平面を平行にして互いに所定間隔をあけて配置された一
対の基材１１，１２を備えている。前記基材１１，１２
の対向面側には、透明導電膜１３，１４が接合されて対
向保持されており、各透明導電膜１３，１４の対向面側
の表面に反射防止膜１５，１６が設けられている。反射
防止膜１５、１６は複数の開口部１７，１８を有してお
り、該開口部１７，１８を通して対向された透明導電膜
１３，１４同士が接触したときに電気的に接続できるよ
うに構成されている。
を良好に行うと共に、光透過率を向上させ裏面に配置し
た表示素子の視認性を改善する。 【解決手段】 抵抗膜式透明タッチパネル１０は、対向
平面を平行にして互いに所定間隔をあけて配置された一
対の基材１１，１２を備えている。前記基材１１，１２
の対向面側には、透明導電膜１３，１４が接合されて対
向保持されており、各透明導電膜１３，１４の対向面側
の表面に反射防止膜１５，１６が設けられている。反射
防止膜１５、１６は複数の開口部１７，１８を有してお
り、該開口部１７，１８を通して対向された透明導電膜
１３，１４同士が接触したときに電気的に接続できるよ
うに構成されている。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は透明タッチパネルに
関し、特に透過率を向上させてタッチパネルの下面に配
した表示装置の視認性を改善した透明タッチパネルに関
するものである。
関し、特に透過率を向上させてタッチパネルの下面に配
した表示装置の視認性を改善した透明タッチパネルに関
するものである。
【０００２】
【従来の技術】錫添加酸化インジウム（ＩＴＯ）に代表
される透明導電膜を使用したスイッチ（透明タッチパネ
ル）は、液晶や蛍光表示素子と組み合わせて家電製品、
情報機器等の操作盤として用いられている。透明タッチ
パネルでは、裏面に配した表示素子の表示を切り換えて
一つのスイッチに複数の機能を付与できるため、限定さ
れた面積に多機能な操作盤を配置することができる。同
時に表示の切り換えによって操作の順も分かり易くな
り、初心者にとって取扱が容易になる。
される透明導電膜を使用したスイッチ（透明タッチパネ
ル）は、液晶や蛍光表示素子と組み合わせて家電製品、
情報機器等の操作盤として用いられている。透明タッチ
パネルでは、裏面に配した表示素子の表示を切り換えて
一つのスイッチに複数の機能を付与できるため、限定さ
れた面積に多機能な操作盤を配置することができる。同
時に表示の切り換えによって操作の順も分かり易くな
り、初心者にとって取扱が容易になる。
【０００３】前記透明タッチパネルは、図１４に示すよ
うに、ガラス等の基材１と可撓性を持った基材２の片面
に透明導電膜３を形成し、スペーサ５を介在させて僅か
な隙間４を保持し各基材１，２の透明導電膜３，３を対
向させて接合した構造を有し、前記可撓性を持った基材
２を指などで押すことにより基材２を撓ませ、透明導電
膜同士を接触させてスイッチ動作を行わせるようになっ
ている。しかし、前記透明タッチパネルは、前述のよう
に多層構造になっているので、積層材料の表面や異種材
料の界面でタッチパネル表面（基材２の表面）への入射
光に反射が生じ、この反射光に起因して光透過率の低下
が生じて表示素子の視認性に悪影響を与えている。
うに、ガラス等の基材１と可撓性を持った基材２の片面
に透明導電膜３を形成し、スペーサ５を介在させて僅か
な隙間４を保持し各基材１，２の透明導電膜３，３を対
向させて接合した構造を有し、前記可撓性を持った基材
２を指などで押すことにより基材２を撓ませ、透明導電
膜同士を接触させてスイッチ動作を行わせるようになっ
ている。しかし、前記透明タッチパネルは、前述のよう
に多層構造になっているので、積層材料の表面や異種材
料の界面でタッチパネル表面（基材２の表面）への入射
光に反射が生じ、この反射光に起因して光透過率の低下
が生じて表示素子の視認性に悪影響を与えている。
【０００４】近年、表示素子の高精細化、高画質化に伴
って視認性の向上が要望されており、図１５に示すよう
に、透明タッチパネルの基材１，２の表面に反射防止膜
６，７を形成したり、図１６に示すように、対向する透
明導電膜３，３の間に高屈折率の液体８を充填し（特開
平１−１４６３０号公報）、または弾性体を保持して
（特開平５−１４３２１９号公報）、タッチパネル表面
からの反射光を低減させることが試みられている。な
お、図１４（Ｂ）（Ｃ）において破線は低減された反射
光を示す。
って視認性の向上が要望されており、図１５に示すよう
に、透明タッチパネルの基材１，２の表面に反射防止膜
６，７を形成したり、図１６に示すように、対向する透
明導電膜３，３の間に高屈折率の液体８を充填し（特開
平１−１４６３０号公報）、または弾性体を保持して
（特開平５−１４３２１９号公報）、タッチパネル表面
からの反射光を低減させることが試みられている。な
お、図１４（Ｂ）（Ｃ）において破線は低減された反射
光を示す。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】また、基材や基材と透
明導電膜との間に適当な屈折率を有する誘電体を反射防
止膜として形成することは公知技術である。一般的に、
透明タッチパネルにおいては、その構造の中で反射が最
大となる面は、構成材料中最も屈折率が高い透明導電膜
（ＩＴＯの場合、屈折率１．９）３，３の表面であり、
上記公知技術を適用して透明導電膜３，３に誘電体の反
射防止膜を形成して反射光を低減させることも考えられ
るが、透明導電膜３，３は、それら同士が接触して電気
的に接続する必要があるため、表面を誘電体膜で覆うこ
とができない。
明導電膜との間に適当な屈折率を有する誘電体を反射防
止膜として形成することは公知技術である。一般的に、
透明タッチパネルにおいては、その構造の中で反射が最
大となる面は、構成材料中最も屈折率が高い透明導電膜
（ＩＴＯの場合、屈折率１．９）３，３の表面であり、
上記公知技術を適用して透明導電膜３，３に誘電体の反
射防止膜を形成して反射光を低減させることも考えられ
るが、透明導電膜３，３は、それら同士が接触して電気
的に接続する必要があるため、表面を誘電体膜で覆うこ
とができない。
【０００６】さらに、透明膜に導電性を付与する試みも
報告されている（例えば特開平７−２５７９４５号公
報、特開平１１−２５０７５６号公報）が、材料が限定
され任意の屈折率を持つ膜を選択したり、多層膜化する
ことは困難なため、十分な反射防止効果を得られない問
題があった。
報告されている（例えば特開平７−２５７９４５号公
報、特開平１１−２５０７５６号公報）が、材料が限定
され任意の屈折率を持つ膜を選択したり、多層膜化する
ことは困難なため、十分な反射防止効果を得られない問
題があった。
【０００７】本発明は、前記問題点に鑑みてなされたも
ので、透明導電膜同士が接触したときの電気的接続が良
好に行えると共に、光透過率を向上させ裏面に配置した
表示素子の視認性を改善できる透明タッチパネルを提供
することを目的とする。
ので、透明導電膜同士が接触したときの電気的接続が良
好に行えると共に、光透過率を向上させ裏面に配置した
表示素子の視認性を改善できる透明タッチパネルを提供
することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
に、本発明に係る透明タッチパネルは、対向保持された
透明導電膜同士を接触させることによってスイッチ動作
を行わせる透明タッチパネルにおいて、前記対向保持さ
れた少なくとも一方の透明導電膜の表面に複数の開口部
を有する反射防止膜が設けられており、該反射防止膜の
開口部を通して対向された透明導電膜同士が接触したと
きに電気的に接続できるように構成したものである。
に、本発明に係る透明タッチパネルは、対向保持された
透明導電膜同士を接触させることによってスイッチ動作
を行わせる透明タッチパネルにおいて、前記対向保持さ
れた少なくとも一方の透明導電膜の表面に複数の開口部
を有する反射防止膜が設けられており、該反射防止膜の
開口部を通して対向された透明導電膜同士が接触したと
きに電気的に接続できるように構成したものである。
【０００９】この透明タッチパネルにおいては、透明導
電膜の表面の大部分の領域が反射防止膜で覆われている
ので、タッチパネルの表面に入射された入射光の大部分
は、前記反射防止膜によって透明導電膜からの反射が良
好に防止されてタッチパネルの裏面に透過され、この透
過率の向上により、タッチパネルの裏面に配置される表
示素子の視認性が改善される。また、対向保持された透
明導電膜は、それらが互いに接触されたときには、前記
反射防止膜の開口部を通して電気的接続を確実に得るこ
とができるので、タッチパネルのスイッチ動作を支障な
く行わせることができる。
電膜の表面の大部分の領域が反射防止膜で覆われている
ので、タッチパネルの表面に入射された入射光の大部分
は、前記反射防止膜によって透明導電膜からの反射が良
好に防止されてタッチパネルの裏面に透過され、この透
過率の向上により、タッチパネルの裏面に配置される表
示素子の視認性が改善される。また、対向保持された透
明導電膜は、それらが互いに接触されたときには、前記
反射防止膜の開口部を通して電気的接続を確実に得るこ
とができるので、タッチパネルのスイッチ動作を支障な
く行わせることができる。
【００１０】この透明タッチパネルにおいて、前記開口
部を、対向保持された透明導電膜の両者に設けられた反
射防止膜に幅１μｍ以上、３００μｍ以下の線状開口部
として形成され、かつ、反射防止膜同士の線状開口部が
交差するように配置した構成にすると、透明導電膜の表
面全体を反射防止膜で覆った場合に比べてタッチパネル
の表示品質に遜色がなく、反射防止膜がない場合と同等
の電気的特性を有する透明タッチパネルを提供すること
ができる。
部を、対向保持された透明導電膜の両者に設けられた反
射防止膜に幅１μｍ以上、３００μｍ以下の線状開口部
として形成され、かつ、反射防止膜同士の線状開口部が
交差するように配置した構成にすると、透明導電膜の表
面全体を反射防止膜で覆った場合に比べてタッチパネル
の表示品質に遜色がなく、反射防止膜がない場合と同等
の電気的特性を有する透明タッチパネルを提供すること
ができる。
【００１１】
【発明の実施の形態】以下、本発明に係る透明タッチパ
ネルの実施の形態を添付図面を参照して説明する。図１
〜図３において、１０は本発明の一実施の形態に係る透
明タッチパネルである。この透明タッチパネル１０は、
従来の透明タッチパネルと同様に、対向平面を平行にし
て互いに所定間隔をあけて配置された一対の基材１１，
１２を備えている。そして、各基材１１，１２の対向面
側にそれぞれ透明導電膜１３，１４が接合されて対向保
持され、さらに、各透明導電膜１３，１４の対向面側の
表面にはそれぞれ反射防止膜１５，１６が設けられてい
る。該反射防止膜１５、１６は、それぞれ複数の開口部
１７，１８を有しており、該開口部１７，１８を通して
対向された透明導電膜１３，１４同士が接触したときに
電気的に接続できるように構成されている。なお、符号
１９はスペーサであり、従来の透明タッチパネルと同様
に、各透明導電膜１３，１４の間の隙間２０に介在され
て前記基材１２に固定されている。
ネルの実施の形態を添付図面を参照して説明する。図１
〜図３において、１０は本発明の一実施の形態に係る透
明タッチパネルである。この透明タッチパネル１０は、
従来の透明タッチパネルと同様に、対向平面を平行にし
て互いに所定間隔をあけて配置された一対の基材１１，
１２を備えている。そして、各基材１１，１２の対向面
側にそれぞれ透明導電膜１３，１４が接合されて対向保
持され、さらに、各透明導電膜１３，１４の対向面側の
表面にはそれぞれ反射防止膜１５，１６が設けられてい
る。該反射防止膜１５、１６は、それぞれ複数の開口部
１７，１８を有しており、該開口部１７，１８を通して
対向された透明導電膜１３，１４同士が接触したときに
電気的に接続できるように構成されている。なお、符号
１９はスペーサであり、従来の透明タッチパネルと同様
に、各透明導電膜１３，１４の間の隙間２０に介在され
て前記基材１２に固定されている。
【００１２】前記構成の透明タッチパネル１０において
は、各透明導電膜１３，１４の表面の大部分の領域が反
射防止膜１５，１６で覆われているので、タッチパネル
の表面に入射された入射光の大部分は、各反射防止膜１
５，１６によって透明導電膜１３，１４からの反射が良
好に防止されてタッチパネルの裏面に透過される。した
がって、その透過率の向上により、タッチパネルの裏面
に配置される表示素子の視認性が改善される。また、対
向保持された透明導電膜１３，１４は、図２、図３に示
すように、それらが互いに接触されたときには、前記反
射防止膜１５，１６の開口部１７，１８を通して電気的
接続を確実に得ることができるので、タッチパネルのス
イッチ動作を支障なく行わせることができる。
は、各透明導電膜１３，１４の表面の大部分の領域が反
射防止膜１５，１６で覆われているので、タッチパネル
の表面に入射された入射光の大部分は、各反射防止膜１
５，１６によって透明導電膜１３，１４からの反射が良
好に防止されてタッチパネルの裏面に透過される。した
がって、その透過率の向上により、タッチパネルの裏面
に配置される表示素子の視認性が改善される。また、対
向保持された透明導電膜１３，１４は、図２、図３に示
すように、それらが互いに接触されたときには、前記反
射防止膜１５，１６の開口部１７，１８を通して電気的
接続を確実に得ることができるので、タッチパネルのス
イッチ動作を支障なく行わせることができる。
【００１３】次に、前記透明タッチパネル１０の各構成
要素の実施例について図４〜図１３を参照して説明す
る。先ず、図４（Ａ）に示すように、基材１１としての
ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）のフィルム（Ｐ
ＥＴフィルム）２１の表面に、前記透明導電膜１３とし
てのＩＴＯ膜２２を形成した。前記ＰＥＴフィルム２１
は適度の可撓性を有している。前記ＰＥＴフィルム２１
のＩＴＯ膜２２は、１０ｗｔ％ＳｎＯ2 添加Ｉｎ2Ｏ3の
ターゲットを用い、体積比１０％Ｏ2 入りＡｒをスパッ
タガスとしてＲＦスパッタリングによって４０ｎｍの厚
さだけ堆積させて形成した。ＩＴＯ膜２２の厚さは、タ
ッチパネルの電気的仕様にもとづいて決定され、厚さが
変化しても本発明の効果には影響を及ぼさない。
要素の実施例について図４〜図１３を参照して説明す
る。先ず、図４（Ａ）に示すように、基材１１としての
ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）のフィルム（Ｐ
ＥＴフィルム）２１の表面に、前記透明導電膜１３とし
てのＩＴＯ膜２２を形成した。前記ＰＥＴフィルム２１
は適度の可撓性を有している。前記ＰＥＴフィルム２１
のＩＴＯ膜２２は、１０ｗｔ％ＳｎＯ2 添加Ｉｎ2Ｏ3の
ターゲットを用い、体積比１０％Ｏ2 入りＡｒをスパッ
タガスとしてＲＦスパッタリングによって４０ｎｍの厚
さだけ堆積させて形成した。ＩＴＯ膜２２の厚さは、タ
ッチパネルの電気的仕様にもとづいて決定され、厚さが
変化しても本発明の効果には影響を及ぼさない。
【００１４】なお、ＰＥＴフィルム２１に対するＩＴＯ
膜２２の成膜方法としては、スパッタリング以外に真空
蒸着法、化学気相成長法、有機原料を塗布する方法等を
用いることができる。また、必要に応じて、前記ＰＥＴ
フィルム２１の裏面には傷つき防止のためハードコート
を施したり、ＰＥＴフィルム２１とＩＴＯ膜２２との間
に密着性およびＩＴＯ膜２２の強度を改善するための中
間層を介在させてもよい。類似のＰＥＴフィルムの材料
として、例えば、東洋紡績株式会社から市販されている
♯５００ＲＮＡ（商品名）を好適に用いることもでき
る。
膜２２の成膜方法としては、スパッタリング以外に真空
蒸着法、化学気相成長法、有機原料を塗布する方法等を
用いることができる。また、必要に応じて、前記ＰＥＴ
フィルム２１の裏面には傷つき防止のためハードコート
を施したり、ＰＥＴフィルム２１とＩＴＯ膜２２との間
に密着性およびＩＴＯ膜２２の強度を改善するための中
間層を介在させてもよい。類似のＰＥＴフィルムの材料
として、例えば、東洋紡績株式会社から市販されている
♯５００ＲＮＡ（商品名）を好適に用いることもでき
る。
【００１５】次に、前記透明導電膜１３の表面に反射防
止膜１５を設けるために、先ず、前記ＰＥＴフィルム２
１に形成されたＩＴＯ膜２２の表面に、２００μｍ幅×
３ｍｍ長さのレジストパターン２３を、ＰＥＴフィルム
２１の幅方向Ｂと長さ方向Ｈに２ｍｍピッチで、かつ、
長さ方向に１．３３ｍｍずつピッチをずらしながら図５
に示すような開口部パターン２４を印刷する（図４
（Ｂ）参照）と共に、ＰＥＴフィルム２１の長さ方向Ｈ
の両端側でレジストパターン２３に接続する銀電極接続
用のレジストパターン２５を印刷して、図６に示すよう
な印刷パターン２６を得た。
止膜１５を設けるために、先ず、前記ＰＥＴフィルム２
１に形成されたＩＴＯ膜２２の表面に、２００μｍ幅×
３ｍｍ長さのレジストパターン２３を、ＰＥＴフィルム
２１の幅方向Ｂと長さ方向Ｈに２ｍｍピッチで、かつ、
長さ方向に１．３３ｍｍずつピッチをずらしながら図５
に示すような開口部パターン２４を印刷する（図４
（Ｂ）参照）と共に、ＰＥＴフィルム２１の長さ方向Ｈ
の両端側でレジストパターン２３に接続する銀電極接続
用のレジストパターン２５を印刷して、図６に示すよう
な印刷パターン２６を得た。
【００１６】そして、印刷パターン２６をオーブンで加
熱してレジストを硬化した後、レシストを形成したＩＴ
Ｏ膜２２の表面に反射防止膜としてのＳｉＯ2 膜２７を
１１０ｎｍの厚さに堆積させた（図４（Ｃ）参照）。レ
ジストパターン２３，２５の印刷部分にはＳｉＯ2 膜２
７が形成されず、ＩＴＯ膜２２が露出することになる。
ＩＴＯ膜２２の露出部分の形状、寸法は、本発明による
タッチパネルの位置分解機能となるため、製品に要求さ
れる位置分解機能を考慮して前記開口部パターン２４に
おけるレジストパターン２３の配列ピッチ、パターン寸
法を決定する。
熱してレジストを硬化した後、レシストを形成したＩＴ
Ｏ膜２２の表面に反射防止膜としてのＳｉＯ2 膜２７を
１１０ｎｍの厚さに堆積させた（図４（Ｃ）参照）。レ
ジストパターン２３，２５の印刷部分にはＳｉＯ2 膜２
７が形成されず、ＩＴＯ膜２２が露出することになる。
ＩＴＯ膜２２の露出部分の形状、寸法は、本発明による
タッチパネルの位置分解機能となるため、製品に要求さ
れる位置分解機能を考慮して前記開口部パターン２４に
おけるレジストパターン２３の配列ピッチ、パターン寸
法を決定する。
【００１７】前記ＳｉＯ2膜２７の成膜には、前記ＩＴ
Ｏ膜２２の成膜と同様に、体積比１０％Ｏ2 入りＡｒを
スパッタガスとしてＲＦスパッタリング法を用いた。前
記ＳｉＯ2 膜２７の屈折率は、約１．４５であるが、反
射防止膜としては、Ａｌ2Ｏ3、ＴｉＯ2、ＭｇＯ、Ｍｇ
Ｆ2、ＬｉＦ等の酸化物、または弗化物やＳｉＯｘ（ｘ
＝１〜２）の組成を持つ珪素酸化物のような種々の屈折
率を持った誘電体膜を用いることができる。ＩＴＯ膜２
２の形成と同様に、前記の無機材料やアクリル樹脂等の
高分子材料を溶剤と混合して塗布する方法も用いること
ができる。ＳｉＯ2 膜２７の屈折率に対応して反射率を
最小にする膜厚を選択したり、屈折率の異なる誘電体膜
や高分子膜を積層して反射率をさらに低下させること
は、本発明の効果を一層高めるために採用される当然の
手段である。
Ｏ膜２２の成膜と同様に、体積比１０％Ｏ2 入りＡｒを
スパッタガスとしてＲＦスパッタリング法を用いた。前
記ＳｉＯ2 膜２７の屈折率は、約１．４５であるが、反
射防止膜としては、Ａｌ2Ｏ3、ＴｉＯ2、ＭｇＯ、Ｍｇ
Ｆ2、ＬｉＦ等の酸化物、または弗化物やＳｉＯｘ（ｘ
＝１〜２）の組成を持つ珪素酸化物のような種々の屈折
率を持った誘電体膜を用いることができる。ＩＴＯ膜２
２の形成と同様に、前記の無機材料やアクリル樹脂等の
高分子材料を溶剤と混合して塗布する方法も用いること
ができる。ＳｉＯ2 膜２７の屈折率に対応して反射率を
最小にする膜厚を選択したり、屈折率の異なる誘電体膜
や高分子膜を積層して反射率をさらに低下させること
は、本発明の効果を一層高めるために採用される当然の
手段である。
【００１８】前記ＳｉＯ2膜２７の成膜後は、ＰＥＴフ
ィルム２１をアセトンに浸漬して前記印刷パターン２６
のレジストを溶解し、レジスト上に堆積したＳｉＯ2 膜
２７を除去した（図４（Ｄ）参照）。このＳｉＯ2 膜２
７の除去された部分が前記反射防止膜１５の開口部１７
である線状開口部１７ａと銀電極接続部２８として形成
され、前記線状開口部１７ａの配列形状のパターンは図
５に示す前記開口部パターン２４と同一になっている
（図７、図８参照）。
ィルム２１をアセトンに浸漬して前記印刷パターン２６
のレジストを溶解し、レジスト上に堆積したＳｉＯ2 膜
２７を除去した（図４（Ｄ）参照）。このＳｉＯ2 膜２
７の除去された部分が前記反射防止膜１５の開口部１７
である線状開口部１７ａと銀電極接続部２８として形成
され、前記線状開口部１７ａの配列形状のパターンは図
５に示す前記開口部パターン２４と同一になっている
（図７、図８参照）。
【００１９】本実施例では、線状開口部１７ａのパター
ンを形成するため、上記のような所謂リフトオフ法を採
用したが、ＩＴＯ膜２２と同時にＳｉＯ2 膜２７をＰＥ
Ｔフィルム２１の全面に成膜しておき、前記レジストパ
ターン２３，２５と同一のパターンを持ったレジストを
ＳｉＯ2 膜２７上に印刷した後、エッチングによってレ
ジストが印刷された部分のＳｉＯ2 膜２７を除去するこ
とにより、ＳｉＯ2 膜２７に前記線状開口部１７ａと銀
電極接続部２８のパターンを形成することもできる。
ンを形成するため、上記のような所謂リフトオフ法を採
用したが、ＩＴＯ膜２２と同時にＳｉＯ2 膜２７をＰＥ
Ｔフィルム２１の全面に成膜しておき、前記レジストパ
ターン２３，２５と同一のパターンを持ったレジストを
ＳｉＯ2 膜２７上に印刷した後、エッチングによってレ
ジストが印刷された部分のＳｉＯ2 膜２７を除去するこ
とにより、ＳｉＯ2 膜２７に前記線状開口部１７ａと銀
電極接続部２８のパターンを形成することもできる。
【００２０】また、本実施例のレジストパターン２３，
２５の形成には、半導体回路の形成に用いられるフォト
リソグラフィ技術も応用できることは言うまでもない。
前記レジストパターン２３の形成のプロセスにより、２
００μｍ幅×３ｍｍ長さの線状開口部１７ａを通してＩ
ＴＯ膜２２が露出した反射防止膜１５を設けた透明導電
膜１３が一方の電極として形成される。前記ＩＴＯ膜２
２の前記レジストパターン２３に対応する露出部分２２
ａ（線状開口部１７ａ）は、周囲に比べ反射率が高く僅
かに暗く見えるが、パターンの線幅を３００μｍ以上と
すると目視でもパターンの存在を認識できるため、表示
品質を損なう可能性がある。パターンの線幅の下限は接
触抵抗によって制限され、線幅を１０μｍ以下にすると
接触抵抗の増加が無視できず、抵抗の直線性（位置検出
精度）に悪影響が現れる。さらに、線幅が１μｍ未満に
なると、反射防止膜１５の厚さ分の段差を可撓性の透明
導電膜１３の変形で充たすことができなくなり、一般的
なスイッチのＯＮ荷重である２００ｇの押圧では安定な
電気的接続が得られない場合がある。
２５の形成には、半導体回路の形成に用いられるフォト
リソグラフィ技術も応用できることは言うまでもない。
前記レジストパターン２３の形成のプロセスにより、２
００μｍ幅×３ｍｍ長さの線状開口部１７ａを通してＩ
ＴＯ膜２２が露出した反射防止膜１５を設けた透明導電
膜１３が一方の電極として形成される。前記ＩＴＯ膜２
２の前記レジストパターン２３に対応する露出部分２２
ａ（線状開口部１７ａ）は、周囲に比べ反射率が高く僅
かに暗く見えるが、パターンの線幅を３００μｍ以上と
すると目視でもパターンの存在を認識できるため、表示
品質を損なう可能性がある。パターンの線幅の下限は接
触抵抗によって制限され、線幅を１０μｍ以下にすると
接触抵抗の増加が無視できず、抵抗の直線性（位置検出
精度）に悪影響が現れる。さらに、線幅が１μｍ未満に
なると、反射防止膜１５の厚さ分の段差を可撓性の透明
導電膜１３の変形で充たすことができなくなり、一般的
なスイッチのＯＮ荷重である２００ｇの押圧では安定な
電気的接続が得られない場合がある。
【００２１】次に、前記透明導電膜１３に対して対向電
極となる透明導電膜１４は、前記レジストパターン２
３，２５の形成のプロセスを適用して、図９に示すよう
に、基材１２としてのソーダライムガラス（ガラス基
材）２９上に、前記ＳｉＯ2 膜２７の線状開口部１７ａ
のパターンと同様にして、前記反射防止膜１６として開
口部１８である線状開口部１８ａと銀電極接続部３０と
を形成したＳｉＯ2 膜３１で被覆したＩＴＯ膜３２を形
成して作成した。ただし、前記透明導電膜１４を透明導
電膜１３に対して対向配置したとき、ＰＥＴフィルム２
１におけるＩＴＯ膜露出部分２２ａのパターンとソーダ
ライムガラス２９におけるＩＴＯ膜露出部分３２ａのパ
ターンの方向を互いに直交するように形成する。すなわ
ち、ＰＥＴフィルム２１に成膜したＳｉＯ2 膜２７の線
状開口部１７ａとソーダライムガラス２９に成膜したＳ
ｉＯ2 膜３１の線状開口部１８ａを互いに直交させるこ
とにより、前記パターンの整列精度に依存せずに確実な
電気的接続を得ることができる。
極となる透明導電膜１４は、前記レジストパターン２
３，２５の形成のプロセスを適用して、図９に示すよう
に、基材１２としてのソーダライムガラス（ガラス基
材）２９上に、前記ＳｉＯ2 膜２７の線状開口部１７ａ
のパターンと同様にして、前記反射防止膜１６として開
口部１８である線状開口部１８ａと銀電極接続部３０と
を形成したＳｉＯ2 膜３１で被覆したＩＴＯ膜３２を形
成して作成した。ただし、前記透明導電膜１４を透明導
電膜１３に対して対向配置したとき、ＰＥＴフィルム２
１におけるＩＴＯ膜露出部分２２ａのパターンとソーダ
ライムガラス２９におけるＩＴＯ膜露出部分３２ａのパ
ターンの方向を互いに直交するように形成する。すなわ
ち、ＰＥＴフィルム２１に成膜したＳｉＯ2 膜２７の線
状開口部１７ａとソーダライムガラス２９に成膜したＳ
ｉＯ2 膜３１の線状開口部１８ａを互いに直交させるこ
とにより、前記パターンの整列精度に依存せずに確実な
電気的接続を得ることができる。
【００２２】また、前記透明導電膜１３，１４における
開口部１７，１８のパターンは、前記線状開口部１７
ａ，１８ａによって直線状に形成したが、他の形状、例
えば、図１０に示すように格子状の開口部１７ｂ，１８
ｂに形成したり、図１１に示すように蜂の巣状の開口部
１７ｃ，１８ｃに形成することができる。この場合に
は、対向する透明導電膜１３，１４に形成したＩＴＯ膜
露出部分のパターンが同種のパターンであっても、パタ
ーン同士のピッチを前後方向Ｈと左右方向Ｂにずらして
ＩＴＯ膜露出部を交差させるように形成すれば、上記と
同様な効果を期待できる。ペンなどタッチパネル面に対
する加重印加領域の狭い場合は、本実施例よりパターン
のピッチをより細かく（例えば〜０．１ｍｍ）しておく
ことにより対応することができる。
開口部１７，１８のパターンは、前記線状開口部１７
ａ，１８ａによって直線状に形成したが、他の形状、例
えば、図１０に示すように格子状の開口部１７ｂ，１８
ｂに形成したり、図１１に示すように蜂の巣状の開口部
１７ｃ，１８ｃに形成することができる。この場合に
は、対向する透明導電膜１３，１４に形成したＩＴＯ膜
露出部分のパターンが同種のパターンであっても、パタ
ーン同士のピッチを前後方向Ｈと左右方向Ｂにずらして
ＩＴＯ膜露出部を交差させるように形成すれば、上記と
同様な効果を期待できる。ペンなどタッチパネル面に対
する加重印加領域の狭い場合は、本実施例よりパターン
のピッチをより細かく（例えば〜０．１ｍｍ）しておく
ことにより対応することができる。
【００２３】次に、前記ＩＴＯ膜２２およびＳｉＯ2 膜
２７を形成したＰＥＴフィルム２１の表面に外周絶縁層
３３、銀回路３４を順次印刷した（図７、図８、図１
２、図１３参照）。同様にソーダガラス２９の表面に外
周絶縁層３５、銀回路３６、およびドットスペーサを印
刷した後（図９参照）、前記ＰＥＴフィルム２１とソー
ダガラス２９とを貼り合わせて透明タッチパネル１０を
構成した。本発明によるタッチパネルの透過スペクトル
を分光光度計を用いて測定したと膜較試作片に比べ７％
向上した。
２７を形成したＰＥＴフィルム２１の表面に外周絶縁層
３３、銀回路３４を順次印刷した（図７、図８、図１
２、図１３参照）。同様にソーダガラス２９の表面に外
周絶縁層３５、銀回路３６、およびドットスペーサを印
刷した後（図９参照）、前記ＰＥＴフィルム２１とソー
ダガラス２９とを貼り合わせて透明タッチパネル１０を
構成した。本発明によるタッチパネルの透過スペクトル
を分光光度計を用いて測定したと膜較試作片に比べ７％
向上した。
【００２４】本実施例では、ＩＴＯ膜２２，３２の両端
に形成された２つの銀電極３４，３６と上下ＩＴＯ膜２
２，３２の接触点間の電気抵抗比から接触点の座標を認
識する。ＩＴＯ膜２２，３２の電気抵抗に比べＩＴＯ膜
２２，３２同士の接触抵抗と銀電極３４，３６の回路の
抵抗を十分低く抑えることのより、抵抗値と距離は直線
関係を持ち精度の高い接触位置の検出を行うことができ
る。
に形成された２つの銀電極３４，３６と上下ＩＴＯ膜２
２，３２の接触点間の電気抵抗比から接触点の座標を認
識する。ＩＴＯ膜２２，３２の電気抵抗に比べＩＴＯ膜
２２，３２同士の接触抵抗と銀電極３４，３６の回路の
抵抗を十分低く抑えることのより、抵抗値と距離は直線
関係を持ち精度の高い接触位置の検出を行うことができ
る。
【００２５】なお、前記実施の形態においては、基材１
１であるＰＥＴフィルム２１側の透明導電膜１３と基材
１２であるガラス基材２９側の透明導電膜１４の両方に
反射防止膜１５，１６を形成するようにしたが、本発明
は、両方の基材の透明導電膜に反射防止膜を形成するこ
とを必須としせず、いずれか一方の基材の透明導電膜に
反射防止膜を形成したものであってもよい。この場合で
も、光透過率と表示素子の視認性が改善された実用に十
分に供する透明タッチパネルを提供することができる。
１であるＰＥＴフィルム２１側の透明導電膜１３と基材
１２であるガラス基材２９側の透明導電膜１４の両方に
反射防止膜１５，１６を形成するようにしたが、本発明
は、両方の基材の透明導電膜に反射防止膜を形成するこ
とを必須としせず、いずれか一方の基材の透明導電膜に
反射防止膜を形成したものであってもよい。この場合で
も、光透過率と表示素子の視認性が改善された実用に十
分に供する透明タッチパネルを提供することができる。
【００２６】
【発明の効果】以上説明したように、本発明は、対向保
持された少なくとも一方の透明導電膜の表面に複数の開
口部を有する反射防止膜が設けられ、該反射防止膜の開
口部を通して対向された透明導電膜同士が接触したとき
に電気的に接続できるように構成したので、透明導電膜
同士の接触による電気的続を確保することができると共
に、光透過率を向上させ、透明導電膜の裏面に配置した
表示素子の視認性を改善することができる。そして、前
記開口部を線状開口部として形成することにより、対向
する透明導電膜を電気的に接続させるために、反射防止
膜の材質、積層構造に制限されず、透明タッチパネルに
最適な反射防止機能を付与することができる。
持された少なくとも一方の透明導電膜の表面に複数の開
口部を有する反射防止膜が設けられ、該反射防止膜の開
口部を通して対向された透明導電膜同士が接触したとき
に電気的に接続できるように構成したので、透明導電膜
同士の接触による電気的続を確保することができると共
に、光透過率を向上させ、透明導電膜の裏面に配置した
表示素子の視認性を改善することができる。そして、前
記開口部を線状開口部として形成することにより、対向
する透明導電膜を電気的に接続させるために、反射防止
膜の材質、積層構造に制限されず、透明タッチパネルに
最適な反射防止機能を付与することができる。
【図１】 本発明に係る透明タッチパネルの一実施の形
態を示す断面図である。
態を示す断面図である。
【図２】 同じくタッチパネルの動作原理を示す断面図
である。
である。
【図３】 図２のＸ部の拡大図である。
【図４】 本発明に係る透明タッチパネルにおける透明
導電膜の形成工程を示す断面図である。
導電膜の形成工程を示す断面図である。
【図５】 同じく透明導電膜のＰＥＴフィルム側の反射
防止膜の開口部パターンを示す図である。
防止膜の開口部パターンを示す図である。
【図６】 同じく印刷パターンを示す図である。
【図７】 同じく透明導電膜のＰＥＴフィルム側回路の
前半の形成工程図である。
前半の形成工程図である。
【図８】 図７のＹ−Ｙ断面図である。
【図９】 本発明に係る透明タッチパネルにおける透明
導電膜のガラス基板側引き出し回路の形成工程図であ
る。
導電膜のガラス基板側引き出し回路の形成工程図であ
る。
【図１０】 同じく反射防止膜の開口部パターンの他の
例を示す図である。
例を示す図である。
【図１１】 同じく反射防止膜の開口部パターンの更に
他の例を示す図である。
他の例を示す図である。
【図１２】 同じく透明導電膜のＰＥＴフィルム側回路
の後半の形成工程図である。
の後半の形成工程図である。
【図１３】 図１２のＺ−Ｚ断面図である。
【図１４】 従来の透明タッチパネルの断面と入射光の
反射の状態を示す図面である。
反射の状態を示す図面である。
１３，１４・・・透明導電膜、１５，１６・・・反射防
止膜、１７，１７ｂ，１７ｃ，１８，１８ｂ，１８ｃ・
・・開口部、１７ａ，１８ａ・・・線状開口部、２１・
・・ＰＥＴフィルム、２２，３２・・・ＩＴＯ膜、２２
ａ，３２ａ・・・ＩＴＯ膜露出部分、２４・・・開口部
パターン、２７，３１・・・ＳｉＯ2 膜、２９・・・ソ
ーダライムガラス（ガラス基材）
止膜、１７，１７ｂ，１７ｃ，１８，１８ｂ，１８ｃ・
・・開口部、１７ａ，１８ａ・・・線状開口部、２１・
・・ＰＥＴフィルム、２２，３２・・・ＩＴＯ膜、２２
ａ，３２ａ・・・ＩＴＯ膜露出部分、２４・・・開口部
パターン、２７，３１・・・ＳｉＯ2 膜、２９・・・ソ
ーダライムガラス（ガラス基材）
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 山本 敏 千葉県佐倉市六崎1440番地 株式会社フジ クラ佐倉事業所内 (72)発明者 水谷 宗幹 千葉県佐倉市六崎1440番地 株式会社フジ クラ佐倉事業所内 Ｆターム(参考） 5B068 AA04 AA22 AA32 BB06 BC07 5B087 AA02 AB16 AC09 CC14 CC34
Claims (2)
- 【請求項１】 対向保持された透明導電膜同士を接触さ
せることによってスイッチ動作を行わせる透明タッチパ
ネルにおいて、前記対向保持された少なくとも一方の透
明導電膜（１３，１４）の表面に複数の開口部（１７，
１８）を有する反射防止膜（１５，１６）が設けられて
おり、該反射防止膜の開口部を通して対向された透明導
電膜同士が接触したときに電気的に接続できるように構
成されていることを特徴とする透明タッチパネル。 - 【請求項２】 前記開口部は、対向保持された透明導電
膜の両者に設けられた反射防止膜に幅１μｍ以上、３０
０μｍ以下の線状開口部（１７ａ，１８ａ）として形成
され、かつ、反射防止膜同士の線状開口部が交差するよ
うに配置されていることを特徴とする請求項１に記載の
透明タッチパネル。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001018343A JP2002222056A (ja) | 2001-01-26 | 2001-01-26 | 透明タッチパネル |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001018343A JP2002222056A (ja) | 2001-01-26 | 2001-01-26 | 透明タッチパネル |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002222056A true JP2002222056A (ja) | 2002-08-09 |
Family
ID=18884382
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001018343A Withdrawn JP2002222056A (ja) | 2001-01-26 | 2001-01-26 | 透明タッチパネル |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002222056A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2006070801A1 (ja) | 2004-12-27 | 2006-07-06 | Fujikura Ltd. | 電子デバイスおよびその製造方法 |
| CN101866249A (zh) * | 2009-04-20 | 2010-10-20 | 索尼公司 | 信息输入装置和显示装置 |
| US8022939B2 (en) | 2007-10-12 | 2011-09-20 | Epson Imaging Devices Corporation | Touch panel, electro optical device, and electronic apparatus |
| CN101408827B (zh) * | 2007-10-12 | 2011-10-05 | 爱普生映像元器件有限公司 | 触摸面板、电光装置及电子设备 |
-
2001
- 2001-01-26 JP JP2001018343A patent/JP2002222056A/ja not_active Withdrawn
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2006070801A1 (ja) | 2004-12-27 | 2006-07-06 | Fujikura Ltd. | 電子デバイスおよびその製造方法 |
| US8007335B2 (en) | 2004-12-27 | 2011-08-30 | Fujikura Ltd. | Manufacturing method for electronic device |
| US8018146B2 (en) | 2004-12-27 | 2011-09-13 | Fujikura Ltd. | Electronic device and manufacturing method therefor |
| US8022939B2 (en) | 2007-10-12 | 2011-09-20 | Epson Imaging Devices Corporation | Touch panel, electro optical device, and electronic apparatus |
| CN101408827B (zh) * | 2007-10-12 | 2011-10-05 | 爱普生映像元器件有限公司 | 触摸面板、电光装置及电子设备 |
| CN101866249A (zh) * | 2009-04-20 | 2010-10-20 | 索尼公司 | 信息输入装置和显示装置 |
| CN104808882A (zh) * | 2009-04-20 | 2015-07-29 | 株式会社日本显示器西 | 信息输入装置和显示装置 |
| CN104808882B (zh) * | 2009-04-20 | 2018-06-08 | 株式会社日本显示器 | 信息输入装置和显示装置 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20080401 |