JP2002220259A

JP2002220259A - ガラス基板、ガラス基板の製造方法および記録媒体の製造方法

Info

Publication number: JP2002220259A
Application number: JP2001012991A
Authority: JP
Inventors: Minoru Onoda; 稔小野田; Kunio Hibino; 邦男日比野; Koichi Tsuda; 孝一津田; Norihiko Nakajima; 典彦中島; Takahiro Tokuyou; 貴宏徳用
Original assignee: Fuji Electric Co Ltd; Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Current assignee: Fuji Electric Co Ltd; Panasonic Holdings Corp
Priority date: 2001-01-22
Filing date: 2001-01-22
Publication date: 2002-08-09

Abstract

(57)【要約】【課題】強度を低下させることなく、ガラス基板の表
面からのアルカリ溶出を抑制して、特に高温高湿下での
信頼性を向上させる。【解決手段】ガラス基板を、リチウム塩を含有する水
溶液に浸漬させることによって、水溶液中のＬｉ⁺が、
ガラス表面のＮａ⁺やＫ⁺とイオン交換を行い、Ｎａ⁺，
Ｋ⁺に比べてイオン半径の小さいＬｉ⁺がガラス中の非架
橋酸素と強く結びつくことによって、アルカリ溶出を効
果的に抑制したガラス基板を得、さらに、このガラス基
板を用いて信頼性の高い記録媒体を得るようにしてい
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、ガラス基板、ガラ
ス基板の製造方法およびそれを用いた記録媒体の製造方
法に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、磁気記録媒体である磁気ディスク
は、急激な高記憶密度化が進んでいる。磁気ディスク装
置は、高速回転する磁気ディスク上を、磁気ヘッドを僅
かに浮上させて走査させることによってランダムアクセ
スを実現しているが、高記憶密度と高速アクセスとを両
立させる為には、磁気ディスクの回転数を上げること
と、磁気ディスクと磁気ヘッドとの間隔（ヘッド浮上
量）を小さくすることが求められる。

【０００３】磁気ディスクの基板材料は、従来、Ｎｉ−
Ｐめっきを施したアルミニウム基板が主流であったが、
磁気ディスクの小型化、薄型化や磁気ディスクの低浮上
化等の要請から高剛性で高速回転させても変形しづら
く、表面の平滑性の高いガラス基板が使われる割合が増
加している。

【０００４】かかるガラス基板に用いられるガラス材料
には、溶融点を下げてガラス化や成形性を良くする為
に、アルカリ金属が数％〜十数％添加されている。とこ
ろが、これらアルカリ金属は、原子半径が小さくてマイ
グレーションし易いので、徐々に表面に析出して大気中
の二酸化炭素やハロゲンと結合して炭酸塩や塩化物とし
て析出する。このアルカリ成分の溶出現象は、高温高湿
下で顕著であり、記録再生ができなくなって直接エラー
となったり、磁気ヘッドに移着してその浮上を妨げたり
腐食させたりして信頼性を悪くする原因となる。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】このため、従来からア
ルカリ成分の溶出を抑制するための種々の提案がなされ
ており、例えば、特開平１０−２２６５３９号では、硝
酸ナトリウムと硝酸カリウムの溶融塩に浸漬する化学強
化処理の後に、温水に浸漬して洗浄し、さらに熱濃硫酸
に浸漬するアルカリイオン封止処理が提案されており、
また、特開２０００−８２２１１号では、磁気記録用ガ
ラス基板を硫酸水素塩またはピロ硫酸塩の溶融塩に接触
させてガラス成分の溶出を抑制することが提案されてい
る。

【０００６】しかしながら、最近における高記憶密度化
の動きは、アルカリ溶出の抑制をより高いレベルで要求
し、上述のような従来の技術では、十分にその要求を満
たすことができない。

【０００７】アルカリ溶出の抑制効果を高めようとする
と、酸処理を行う特開平１０−２２６５３９号では、ガ
ラスの骨格自身も破壊されて却ってアルカリイオン溶出
量が増大し、また、溶融塩による処理を行う特開２００
０−８２２１１号では、処理が高温であるために、化学
強化処理を施したガラス基板では、表面の圧縮応力を形
成しているイオンの拡散および熱による歪の緩和がおこ
り、強度の低下が生じやすいという課題がある。

【０００８】本発明は、上述の点に鑑みて為されたもの
であって、高温高湿下での長期間の使用、保存において
も、強度劣化がなく、アルカリ成分等の溶出を高いレベ
ルで抑制できるガラス基板、その製造方法およびそれを
用いた記録媒体の製造方法を提供することを目的とす
る。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明では、上述の目的
を達成するために、次のように構成している。

【００１０】すなわち、本発明のガラス基板は、ガラス
成分の溶出を抑制する処理が施されてなるガラス基板で
あって、前記処理が、リチウム塩を含有する水溶液に接
触させる処理である。

【００１１】本発明によれば、リチウム塩を含有する水
溶液に接触させることによって、水溶液中のＬｉ⁺が、
ガラス表面のアルカリイオンであるＮａ⁺やＫ⁺とイオン
交換を行い、Ｎａ⁺，Ｋ⁺に比べてイオン半径の小さいＬ
ｉ⁺がガラス中の非架橋酸素と強く結びついて他のアル
カリイオンに比べて溶出が少なくなって溶出が効果的に
抑制されることになる。しかも、水溶液による処理であ
るので、溶融塩用いて高温処理をする従来例のような強
度の劣化もない。

【００１２】

【発明の実施の形態】本発明の請求項１に記載のガラス
基板は、ガラス成分の溶出を抑制する処理が施されてな
るガラス基板であって、前記処理が、リチウム塩を含有
する水溶液に接触させる処理であり、Ｎａ⁺，Ｋ⁺に比べ
てイオン半径の小さい水溶液中のＬｉ ⁺が、ガラス表面
のＮａ⁺やＫ⁺とイオン交換を行ってガラス中の非架橋酸
素と強く結びついてガラス成分の溶出を効果的に抑制す
ることができ、また、溶融塩用いて高温処理をする従来
例のような強度の劣化もない。

【００１３】本発明の請求項２に記載のガラス基板の製
造方法は、ガラス材料からなる基板を、リチウム塩を含
有する水溶液に接触させてガラス成分の溶出抑制処理を
施すものであり、Ｎａ⁺，Ｋ⁺に比べてイオン半径の小さ
い水溶液中のＬｉ⁺が、ガラス表面のＮａ⁺やＫ⁺とイオ
ン交換を行ってガラス中の非架橋酸素と強く結びついて
ガラス成分の溶出を効果的に抑制することができ、ま
た、溶融塩用いて高温処理をする従来例のような強度の
劣化もない。

【００１４】請求項３に記載の発明は、請求項２に記載
のガラス基板の製造方法であって、前記処理が、ガラス
材料からなる前記基板を１００℃以上２００℃以下の硝
酸リチウム水溶液に浸漬させる処理であり、硝酸リチウ
ムは溶解度が高く、また、水溶液の沸点も上昇するの
で、高濃度で高温の効率的な溶出抑制のための処理が可
能となる。また、２００℃以下の温度で処理するので、
化学強化処理を施したガラス基板に対しても、表面の圧
縮応力層に対する影響がほとんどなく、強度の低下がほ
とんど起こらない。

【００１５】請求項４に記載の発明は、請求項２または
３に記載のガラス基板の製造方法であって、前記処理
が、ガラス材料からなる前記基板をリチウム塩を含有す
るｐＨ５〜ｐＨ９の水溶液に接触させる処理であり、ほ
ぼ中性の水溶液を用いることによって、ガラス骨格を破
壊するといったこともない。

【００１６】請求項５に記載の発明は、請求項２〜４の
いずれかに記載のガラス基板の製造方法であって、加熱
軟化したガラス材料を金型で加圧してガラス材料からな
る前記基板を成形するものであり、加圧成形時にガラス
中のアルカリイオンがガラス表面に拡散してアルカリ成
分濃度が高くなるので、溶出抑制のための処理におい
て、水溶液中のＬｉ⁺とＮａ⁺やＫ⁺とのイオン交換が効
率的に行われる。

【００１７】請求項６に記載の発明は、請求項２〜５の
いずれかに記載のガラス基板の製造方法であって、ガラ
ス材料からなる前記基板に化学強化処理を施し、化学強
化処理後の前記基板にガラス成分の溶出を抑制する前記
処理を施すものであり、ガラス成分の溶出を抑制するこ
とができるとともに、ガラス表面を強化することができ
る。

【００１８】請求項７に記載の発明は、請求項２〜６の
いずれかに記載のガラス基板の製造方法であって、溶出
を抑制する前記ガラス成分が、アルカリイオンであり、
Ｎａ ⁺やＫ⁺の溶出を抑制することができる。

【００１９】請求項８に記載の記録媒体の製造方法は、
請求項２〜７のいずれかに記載のガラス基板の製造方法
によって製造されたガラス基板に少なくとも記録層を形
成するものであり、ガラス成分の溶出を効果的に抑制し
た強度劣化のないガラス基板を用いて記録媒体を製造す
るので、高い信頼性の記録媒体を得ることができる。

【００２０】以下、本発明の実施の形態について詳細に
説明する。

【００２１】本発明は、ガラス基板をリチウム塩を含有
する水溶液に接触させて、ガラス成分の溶出を抑制する
処理（以下「溶出抑制処理」ともいう）を施すことを特
徴としている。

【００２２】ここで、接触させるとは、水溶液に浸漬す
る場合の他、ガラス基板の一方の面だけを接触させる場
合も含むものである。

【００２３】ガラス基板を、リチウム塩を含有する水溶
液に接触させることにより、水溶液中のＬｉ⁺がガラス
表面のＮａ⁺,Ｋ⁺とイオン交換を行う。Ｌｉ⁺は、イオン
半径がＮａ⁺やＫ⁺と比較して小さく、ガラス中の非架橋
酸素と強く結びつき、他のアルカリイオンと比較して溶
出が少なく、これによって、アルカリイオンの溶出を効
果的に抑制できる。しかも、水溶液による溶出抑制処理
であるので、溶融塩用いて高温処理をする従来例のよう
な強度の劣化もない。

【００２４】このＬｉ塩を含有した水溶液による溶出抑
制処理を施した一実施例のガラス基板表面のガラス組成
を、Ｘ線光電子分光分析により分析した結果、ガラス基
板表面のＫ及びＮａの組成は、０．５％（原子比）以下
であることが確認された。

【００２５】図１は、この一実施例のガラス基板におけ
る表面部分の深さと金属イオン濃度との関係を示す図で
あり、溶出抑制処理によって、リチウムイオンが、ガラ
ス表面のナトリウムイオン、カリウムイオンとイオン交
換を行い、ガラスの最表面にリチウムイオンの多い層が
形成されていることがわかる。

【００２６】本発明に使用するリチウム塩を含有した水
溶液としては、リチウムの硝酸塩、硫酸塩、炭酸塩、リ
ン酸塩、塩化物、フッ化物等の水溶液、またはこれらの
混合物の水溶液を挙げることができる。

【００２７】これらの水溶液に、ガラス基板を浸漬して
行うことが好ましい。これらリチウム塩の中では、硝酸
塩が水に対する溶解度が高く好ましい。リチウム塩が高
濃度に存在することにより、水溶液の沸点は上昇し、水
溶液でありながら１００℃以上での処理が可能である。
硝酸リチウムの場合、１０００ｇの水に対し２６００ｇ
の硝酸リチウムを加えることにより、１８０℃の処理が
可能である。

【００２８】アルカリイオン溶出の抑制効果は、処理温
度が高い方が有効であるが、処理温度が高すぎると、化
学強化処理を施したガラス基板では、表面の圧縮応力を
形成しているイオンの拡散および熱による歪の緩和が生
じ、強度の低下が生じる。このため、処理温度は、１０
０℃〜２００℃、さらには１３０℃〜１８０℃が好まし
い。

【００２９】また、処理時間は長い方が有効であるが、
処理時間が１分以下であると、アルカリイオン溶出抑制
効果は得られず。２時間を超えても、アルカリイオン溶
出抑制効果は変わらない。１０００ｇの水に対して２６
００ｇの硝酸リチウムを加えた場合、処理温度は、１０
０℃〜１８０℃、好ましくは、１３０℃〜１８０℃であ
る。処理時間が1分以下では、アルカリイオンの溶出抑
制効果は得られず、２時間を超えても溶出抑制効果は変
わらない。

【００３０】本発明に使用するＬｉ塩を含有する水溶液
のｐＨは、好ましくは、ｐＨ５〜９であり、より好まし
くは、中性であり、酸やアルカリのようにガラスを侵す
作用も小さく、溶出抑制処理によるガラス骨格の破壊や
表面性の悪化を生じることもない。

【００３１】本発明では、ガラス基板を、加熱したＬｉ
塩水溶液で処理する前に、ガラス基板の割れを防止する
ため、ガラス基板を１００℃〜１５０℃に予熱しておく
ことが好ましい。

【００３２】溶出抑制処理の水溶液、すなわち、処理液
に浸漬中、ガラス基板の表面全体が均一にイオン交換で
きるようにするために、ガラス基板を端面で保持、即
ち、基板の厚さ方向の面を複数箇所で支持して実質的に
鉛直方向に沿って立てた状態で、主表面において処理液
と接触しない部分ができるだけ存在しないようにするこ
とが望ましい。

【００３３】また、本発明では、製造工程中の任意の工
程中において、必要に応じて、スクラブ洗浄、市販の洗
浄剤（中性洗剤、界面活性剤、アルカリ性洗剤など）に
よる洗浄、純水洗浄、溶剤洗浄、溶剤蒸気乾燥等公知の
洗浄処理を行うことができる。また、各洗浄工程では、
加熱や超音波印加を行ってもよい。

【００３４】本発明に使用するガラス基板のガラス材料
としては、例えば、ソーダライムガラス、アルミノシリ
ケートガラス、アルミノボロシリケートガラス、ボロシ
リケートガラスなどが挙げられる。アルミノシリケート
ガラスは、化学強化処理による効果が大きく、高強度基
板が得られる点から好ましい。

【００３５】本発明のガラス成分の溶出抑制処理は、研
磨工法により作製したガラス基板に対しても有効である
が、加圧成形したガラス基板においてより有効である。
すなわち、加圧成形により作製したガラス基板は、表面
のアルカリ成分が通常の研磨によるガラス基板と比較し
て、アルカリ成分濃度が高い、これは加圧成形時にガラ
ス中のナトリウムイオンやカリウムイオンなどのアルカ
リイオンがガラス表面に拡散するからである。したがっ
て、溶出抑制処理のＬｉ⁺とイオン交換可能なナトリウ
ムイオンおよびカリウムイオンが、表面に多く存在し、
イオン交換能が高く有効である。

【００３６】加圧成形するガラス材料は、成形前には、
例えば、厚さ５〜１０ｍｍ、直径５〜４０ｍｍの円筒形
であり、成形後において、例えば、厚さ０．３〜１．０
ｍｍ、直径２０〜１００ｍｍとなるように成形されるこ
とが好ましい。金型による加圧成形は、金型にガラス材
料を挟み込み、ガラス材料が軟化するまで加熱した後、
圧力を加えて実施する。ガラス材料に加える圧力は、２
０〜５００ｋｇ／ｃｍ ²であることが好ましい。圧力が
小さいと、ガラス材料が所定の厚さとならず、圧力が大
きいと成形面の平坦度が低下し、割れの原因になり、さ
らには金型に加わる負荷が大きくなるという問題が生じ
る。

【００３７】必要に応じて化学強化処理を施したガラス
基板に対しても本発明は有効である。化学強化処理は、
加熱により溶融した化学強化処理液にガラス基板を浸漬
し、ガラス基板表面層のイオンを化学強化処理液中のイ
オンでイオン交換させる方法、即ち、イオン交換法によ
って行う。イオン交換法としては、低温型イオン交換法
および高温型イオン交換法がある。エネルギー効率の観
点およびガラス表面へのダメージを考慮すれば、低温型
イオン交換法を採用することが好ましい。低温型イオン
交換法では、ガラス転移温度（Ｔｇ）以下の温度領域に
ある化学強化処理液に浸漬し、ガラス基板表面付近のア
ルカリイオン、例えばＬｉ⁺またはＮａ⁺をそれよりもイ
オン半径の大きいアルカリイオン、例えばＮａ⁺または
Ｋ⁺と置換し、イオン交換した部分の容積増加によって
ガラス表面に強い圧縮応力を発生させてガラス表面を強
化する。

【００３８】化学強化処理液としては、硝酸カリウム
（ＫＮＯ₃）、硝酸ナトリウム（ＮａＮＯ₃）、炭酸カリ
ウム（Ｋ₂ＣＯ₃）などの溶融塩や、これらの塩を混合し
たもの（例えばＫＮＯ₃＋ＮａＮＯ₃、ＫＮＯ₃＋Ｋ₂ＣＯ
₃など）の溶融塩を用いることができる。

【００３９】化学強化処理液の温度は、イオン交換を促
進するためには高温であることが好ましいが、ガラス基
板の変形を防止するため、ガラス転移温度以下が好まし
い。例えば、ガラス転移点が４５０℃〜８００℃である
ガラス材料からなるガラス基板を処理する場合、化学強
化処理液の温度は、３５０℃〜７００℃、特に３５０℃
〜４５０℃であることが好ましい。

【００４０】浸漬時間は、０．５〜２０時間であること
が望ましい。０．５時間以下では化学強化の効果が不十
分であり、２０時間以上では、表面が荒れて平滑度が低
下する。

【００４１】化学強化する際には、ガラス基板の割れや
ヒビを防止するため、また化学強化処理液中の溶融塩が
ガラス基板表面において結晶化することを防止するた
め、ガラス基板を化学強化処理液に浸漬する前に、ガラ
ス基板を２００℃〜３５０℃に予熱することが望まし
い。

【００４２】化学強化処理液に浸漬中、ガラス基板の表
面全体が均一に化学強化するため、ガラス基板を端面で
保持、即ち、基板の厚さ方向の面を複数箇所で支持して
実質的に鉛直方向に沿って立てた状態で、主表面におい
て処理液と接触しない部分ができるだけ存在しないよう
にすることが望ましい。

【００４３】本発明の記録媒体としての磁気記録媒体
は、上述のようにして溶出抑制処理を施したガラス基板
上に、少なくとも記録層としての磁気記録層を形成した
ことを特徴とする。ここで、磁気記録層やその他の層と
しては公知のものを使用できる。

【００４４】通常、磁気記録媒体は、例えば、スパッタ
法を用いて、Ｃｒ下地層，Ｃｏ-Ｃｒ-Ｐｔ系磁性層，Ｃ
保護層を順次形成し、ディップコート法を用いてフッ素
系液体潤滑剤を塗布して、磁気記録媒体とする。

【００４５】本発明の磁気記録媒体は、アルカリイオン
の溶出を著しく抑制したガラス基板を使用しているの
で、耐候性及び寿命に優れ、高い信頼性を示す。

【００４６】また、本発明によって得られるガラス基板
は、光学材料、建築材料および機械部品等にも適用する
ことができる。

【００４７】

【実施例】以下、本発明の具体例を説明する。 (実施例1)本実施例におけるガラス基板を、以下の成形
工程およぴ溶出抑制処理工程によって製造し、さらに、
成膜工程を経て磁気記録媒体を製造した。（１）成形工程基板材料として、軟化点６９０℃のアルミナシリケイト
系ガラスからなる円柱形状のガラス材料を用意した。ま
た、加圧成形用の金型として、タングステンカーバイト
系の超硬合金からなる金型を一対用意した。この金型の
プレス面は平坦であり、研磨により鏡面加工された面
に、保護膜として白金合金が1μｍとなるようにスパッ
タリングし、中心線平均粗さが１ｎｍの表面を得た。加
圧成形は、金型のプレス面にガラス材料を挟み、６９０
℃まで加熱した後、３５０ｋｇ／ｃｍ²の圧力を加え、
ガラス材料が所定の厚さとなるまで行った。加圧時間は
約1分であった。加圧成形後、冷却し、厚さ０．６４ｍ
ｍ、直径８４ｍｍのディスク用のガラス基板を得た。（２）溶出抑制処理工程上記加圧成形工程を終えたガラス基板を、Ｌｉ塩を含有
する水溶液で処理を行なった。処理液として、１０００
ｇの純水にＬｉＮＯ₃を２６００ｇ加えた水溶液を１３
０℃に加熱したものを用意した。上記ガラス基板を１０
０℃に予熱した後、1時間浸漬して行った。浸漬の際に
は、ガラス基板表面が均一に処理されるようガラス基板
の端面で保持した。上記溶出抑制処理を終えたガラス基
板を、中性洗剤とＰＶＡスポンジを用いたスクラブ洗
浄、アルカリ洗剤洗浄（２％セミクリーン（商品名）、
ｐＨ＝１２、横浜油脂製）、１８ＭΩ以上の超純水を用
いて十分に濯ぎ、イソプロピルアルコール蒸気乾燥を行
なった。（３）成膜工程上記処理を行ったガラス基板に、スパッタ法を用いてＣ
ｒ下地層、Ｃｏ-Ｃｒ-Ｐｔ系磁性層、Ｃ保護層を順次形
成し、ディップコート法を用いてフッ素系液体潤滑剤を
塗布して、磁気記録媒体とした。

【００４８】以上のようにして製造されたガラス基板お
よび磁気記録媒体の評価を以下のようにして行った。す
なわち、ガラス基板における抗折強度、アルカリ溶出
量、表面粗さ及び磁気記録媒体におけるエラー数測定で
行った。各評価法を表１に示す

【００４９】

【表1】 (実施例2)実施例２は、溶出抑制処理において、処理液
の温度を１７０℃とし、処理時間を１０分とした以外は
実施例１と同じ条件で製造し、評価した。 (実施例3,4)実施例３，４は、成形工程を研磨工程で行
った以外はそれぞれ実施例１、２と同じ条件で製造し、
評価した。研磨によるガラス基板は、実施例１で使用し
たものと同じガラス材料からなる厚さ１ｍｍのガラス板
をφ６５ｍｍに切り出した後、酸化セリウムを用いて厚
みが０.６４ｍｍとなるまで研磨した後、コロイダルシ
リカを用い中心線平均粗さが1ｎｍ以下となるように研
磨することにより得た。 (実施例5)実施例５は、成形工程と溶出抑制処理工程と
の間に、化学強化処理を施した以外は実施例１と同じで
ある。すなわち、成形工程を終えたガラス基板を洗浄
後、化学強化処理を施したものである。化学強化処理
は、硝酸カリウム（６０％）硝酸ナトリウム（４０％）
を混合した化学強化処理液を用意し、この化学強化処理
液を４００℃に加熱し、３５０℃で予熱した上記ガラス
基板を２時間浸漬して行った。浸漬の際には、ガラス表
面が均一に処理されるようにガラス基板の端面で保持し
た。上記化学強化処理を終えたガラス基板を２００℃ま
で徐冷し、２０℃の水槽に浸漬して急冷し約２０分間放
置した。その後、中性洗剤とＰＶＡスポンジを用いたス
クラブ洗浄，１８ＭΩ以上の超純水を用いて十分に濯
ぎ、イソプロピルアルコール蒸気乾燥を行なさった。 (実施例6)実施例６は、成形工程を研磨工程で行ったこ
と以外は実施例５と同じ条件で製造し、評価を行った。
研磨によるガラス基板は、実施例２と同じものを用意し
た。 (比較例)溶出抑制処理工程における処理以外は実施例１
と同じである。比較例として行った溶出抑制処理条件を
表２に示す。比較例１は、溶出抑制処理を行なっていな
い以外は、実施例１と同じである。比較例２は、溶出抑
制処理の処理温度を１００℃以下の８０℃としたこと以
外は実施例１と同じである。比較例３は、実施例１の処
理液に硝酸を添加しｐＨを５以下の２に調整したもの以
外は実施例１と同じである。比較例４は、実施例１の処
理液に水酸化リチウムを添加しｐＨを９以上の１２に調
整したもの以外は実施例１と同じである。

【００５０】

【表2】 (評価結果)実施例１〜６、比較例１〜４の評価結果を表
３に示す。

【００５１】

【表３】実施例1〜６は溶出抑制処理によってアルカリ溶出量は
激減しており、エラー数の増加は殆どみられない。成形
ガラス基板を用いたもの（実施例１，２）は、研磨基板
（実施例３，４）よりもアルカリ溶出量が少なく、成形
ガラス基板が有効であることがわかる。また、化学強化
処理を施すことによって（実施例５，６）さらにアルカ
リ溶出量が減少し本処理の併用が極めて有効であること
がわかる。

【００５２】比較例1は溶出抑制処理をしていないので
アルカリ腐蝕（炭酸塩，塩化物の析出）が発生して、８
０℃８０％１０００時間放置によってエラー数が増加し
た。

【００５３】比較例２は処理温度が１００℃以下であ
り、処理時間を１０時間と長くしても十分なアルカリ腐
蝕防止効果が得られていない。また、処理後の表面粗さ
も増加し、８０℃８０％１０００時間放置によってエラ
ー個数が増加した。

【００５４】比較例３はｐＨが５未満でヒドロニウムイ
オンの濃度が高いため、Ｌｉのガラス表面への拡散が抑
えられ、アルカリ腐食防止効果が得られていない。さら
にガラス表面荒れが発生している。

【００５５】比較例４はｐＨが９を超えており、ガラス
表面からのシリカの溶解により、ガラス表面荒れが発生
し、アルカリ腐食防止効果が得られず、エラー数は放置
前から高い値となった。

【００５６】以上のように、ガラス基板をリチウム塩を
含有する水溶液に接触させることにより、ガラスの表面
性の悪化や強度の劣化がなく、ガラス成分、特にアルカ
リイオン成分の溶出を防ぐことができる。さらに、加熱
軟化したガラス材料を、加圧成形することにより得られ
るガラス基板はこの効果が高いことを確認した。また、
化学強化を施したガラス基板に対しても本処理は有効で
ある。さらに本処理を施したガラス基板、すなわち、ガ
ラス成分の溶出を効果的に抑制した強度劣化のないガラ
ス基板を用いて磁気記録媒体を製造するので、高い信頼
性の磁気記録媒体を得ることができる。

【００５７】

【発明の効果】以上のように本発明によれば、ガラス基
板をリチウム塩を含有する水溶液に接触させることによ
り、ガラス成分の溶出を効果的に抑制することができる
とともに、強度の劣化もほとんどない。さらに、ガラス
成分の溶出抑制処理を施したガラス基板を用いることに
よって、信頼性の高い記録媒体を得ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例のガラス基板における表面部
分の深さと金属イオン濃度との関係を示す図である。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者日比野邦男大阪府門真市大字門真1006番地松下電器産業株式会社内 (72)発明者津田孝一神奈川県川崎市川崎区田辺新田１番１号富士電機株式会社内 (72)発明者中島典彦神奈川県川崎市川崎区田辺新田１番１号富士電機株式会社内 (72)発明者徳用貴宏神奈川県川崎市川崎区田辺新田１番１号富士電機株式会社内Ｆターム(参考） 4G059 AA08 AC16 AC18 HB02 HB13 HB14 HB15 HB23 5D112 AA02 BA03 BA09 BA10 GA26

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】ガラス成分の溶出を抑制する処理が施さ
れてなるガラス基板であって、前記処理が、リチウム塩を含有する水溶液に接触させる
処理であることを特徴とするガラス基板。
【請求項２】ガラス材料からなる基板を、リチウム塩
を含有する水溶液に接触させてガラス成分の溶出を抑制
する処理を施すことを特徴とするガラス基板の製造方
法。
【請求項３】前記処理が、ガラス材料からなる前記基
板を１００℃以上２００℃以下の硝酸リチウム水溶液に
浸漬させる処理である請求項２に記載のガラス基板の製
造方法。
【請求項４】前記処理が、ガラス材料からなる前記基
板をリチウム塩を含有するｐＨ５〜ｐＨ９の水溶液に接
触させる処理である請求項２または３に記載のガラス基
板の製造方法。
【請求項５】加熱軟化したガラス材料を金型で加圧し
てガラス材料からなる前記基板を成形する請求項２〜４
のいずれかに記載のガラス基板の製造方法。
【請求項６】ガラス材料からなる前記基板に化学強化
処理を施し、化学強化処理後の前記基板にガラス成分の
溶出を抑制する前記処理を施す請求項２〜５のいずれか
に記載のガラス基板の製造方法。
【請求項７】溶出を抑制する前記ガラス成分が、アル
カリイオンである請求項２〜６のいずれかに記載のガラ
ス基板の製造方法。
【請求項８】請求項２〜７のいずれかに記載のガラス
基板の製造方法によって製造されたガラス基板に、少な
くとも記録層を形成することを特徴とする記録媒体の製
造方法。