JP2002202409A - Retardation film and method for manufacturing the same - Google Patents

Retardation film and method for manufacturing the same

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JP2002202409A
JP2002202409A JP2000400356A JP2000400356A JP2002202409A JP 2002202409 A JP2002202409 A JP 2002202409A JP 2000400356 A JP2000400356 A JP 2000400356A JP 2000400356 A JP2000400356 A JP 2000400356A JP 2002202409 A JP2002202409 A JP 2002202409A
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To realize a retardation film oriented in a molecular level and having the optical retardation and an optical axis direction arbitrarily produced in a polymer material and a method for manufacturing the same by making ultra violet rays irradiate a film of a mixture of a photosensitive polymer and a low molecular weight compound. SOLUTION: The mixture of the photosensitive polymer and the low molecular weight compound is applied on a substrate and film-formed. Side chains in the photosensitive polymer is made anisotropically to photo-react so as to induce birefringence in the film by making the ultraviolet rays irradiate the film using a device consisting of an ultraviolet lamp and a power source or an optical element transforming natural light to polarized light (e.g. a Glan- Taylor prism). The optical axis is oriented with arbitrary inclination by carrying out the irradiation from a direction inclined with respect to the film surface. As a result, the retardation film having the optical axis set to a desired direction is provided.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、感光性の重合体と
低分子化合物の混合体の膜に、直線偏光性の紫外線ない
しは、完全偏光成分と非偏光成分が混在する紫外線また
は、非偏光性の紫外線を照射する(以下、露光という)
ことによって、分子配向させ該高分子材料内に位相差と
光軸方向を任意に発現させた位相差フィルムおよび、そ
の製造法に関するものである。(特に、光軸がフィルム
面に対し傾いた位相差フィルムは液晶表示装置において
視野角拡大に有効である。)
[0001] The present invention relates to a film of a mixture of a photosensitive polymer and a low-molecular compound, which is composed of a linearly polarized ultraviolet ray or an ultraviolet ray in which a completely polarized component and a non-polarized component are mixed or a non-polarized ultraviolet ray. Irradiation of ultraviolet rays (hereinafter referred to as exposure)
Accordingly, the present invention relates to a retardation film in which a molecular orientation is performed and a phase difference and an optical axis direction are arbitrarily developed in the polymer material, and a method for producing the same. (Particularly, a retardation film in which the optical axis is inclined with respect to the film surface is effective for expanding the viewing angle in a liquid crystal display device.)

【0002】[0002]

【従来の技術】位相差フィルムは、互いに垂直な主軸方
向に振動する直線偏光成分を通過させ、この二成分間に
必要な位相差を与える複屈折を有するフィルムである。
このような位相差フィルムは液晶表示分野にも活用され
てきており、特に光軸の傾いた位相差フィルムは光学補
償フィルムとして液晶表示装置の視野角拡大に役立つ。
このような位相差フィルムを製造する従来技術が幾つか
ある。その一つとして、ポリカーボネートなどの高分子
材料を延伸し、高分子鎖を配向させ、延伸方向の屈折率
と、延伸方向に対し直交方向の屈折率に差異を生じさせ
る方法であるが、その課題は、延伸という工程によるた
め、分子は延伸方向に配向するため光軸を傾斜させるこ
とが実質的に不可能である点にある。偏光露光により位
相差を発現させる方法として、特開平7−138308
号にポリビニルシンナメートなどの感光性重合体を偏光
UV光で照射する方法が記載されているが、該方法では照
射した偏光UV光の電界振動と垂直方向に異方性が発現
し、光軸を傾けることができないため、視野角を拡大し
難い。上記課題を解決する方法として、液晶性高分子や
液晶性化合物を配向処理した基材上で配向固定したもの
も考えられ、特開平8−15681号ではUV光を偏光照
射、ラビング処理もしくは、SiOの斜方蒸着して得ら
れる配向膜上に液晶性モノマーを配向させ固定する方法
が記載されている。また、特開平7−287119号、
特開平7−287120号公報でも、ラビング配向膜、
SiO斜方蒸着配向膜上にディスコティック液晶を配列
させる方法が記載されており、更に、特開平10−27
8123号公報では光配向膜上に光重合開始剤を含有し
たディスコティック液晶を配向させ光照射によりこの配
向を固定する方法が記載されている。しかしながら、上
記のような配向膜を用いる方法では、配向処理層を設け
ているため、配向膜の配向処理、液晶材料の配向など工
程が煩雑となり、大面積の光軸を傾斜させた位相差フィ
ルムの製造費が高くなる。更に、光軸の傾いた位相差フ
ィルムを製造する他の方法として、無機誘電体を斜方蒸
着する方法が提案されているが、長尺状シート上に連続
して蒸着膜を形成するには、装置が大掛かりになった
り、工程が煩雑になるなどの課題がある。また、本発明
者も特開平10−278123号公報では感光性を有す
る側鎖型液晶性高分子の偏光露光により、光軸の傾いた
位相差フィルムを製造する方法を提案したが、大きな位
相差を発現させるためフィルムを厚くすると曇り度が大
きくなるという課題があった。
2. Description of the Related Art A retardation film is a film having a birefringence which allows a linearly polarized light component oscillating in a principal axis direction perpendicular to each other to pass therethrough and gives a necessary phase difference between the two components.
Such a retardation film has been used in the field of liquid crystal display. In particular, a retardation film having an inclined optical axis is useful as an optical compensation film for expanding the viewing angle of a liquid crystal display device.
There are several conventional techniques for producing such a retardation film. One method is to stretch a polymer material such as polycarbonate, orient the polymer chains, and cause a difference between the refractive index in the stretching direction and the refractive index in the direction perpendicular to the stretching direction. Is that, because of the stretching step, molecules are oriented in the stretching direction, so that it is practically impossible to tilt the optical axis. JP-A-7-138308 discloses a method for developing a phase difference by polarized light exposure.
Polarized photopolymer such as polyvinyl cinnamate
Although a method of irradiating with UV light is described, in this method, anisotropy is expressed in a direction perpendicular to the electric field vibration of the irradiated polarized UV light, and the optical axis cannot be tilted, so that it is difficult to enlarge the viewing angle. . As a method for solving the above-mentioned problems, a method in which a liquid crystalline polymer or a liquid crystalline compound is fixed on a substrate on which an alignment treatment is performed is considered. Describes a method for aligning and fixing a liquid crystalline monomer on an alignment film obtained by oblique evaporation. Also, JP-A-7-287119,
JP-A-7-287120 also discloses a rubbing alignment film,
A method for arranging discotic liquid crystals on a SiO obliquely deposited alignment film is described.
No. 8123 describes a method of aligning a discotic liquid crystal containing a photopolymerization initiator on a photo-alignment film and fixing the alignment by light irradiation. However, in the method using an alignment film as described above, since the alignment treatment layer is provided, the alignment treatment of the alignment film, the alignment of the liquid crystal material, and the like become complicated, and a large-area retardation film having an inclined optical axis. Manufacturing costs increase. Further, as another method of manufacturing a retardation film having an inclined optical axis, a method of obliquely vapor-depositing an inorganic dielectric has been proposed, but in order to form a vapor-deposited film continuously on a long sheet. However, there are problems such as an increase in the size of the apparatus and a complicated process. The present inventor also proposed a method of manufacturing a retardation film having a tilted optical axis by polarizing exposure of a side chain type liquid crystalline polymer having photosensitivity in JP-A-10-278123. However, there is a problem that when the thickness of the film is increased in order to develop the haze, the degree of haze increases.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】高分子フィルムの延伸
配向によって作製された位相差フィルムは、分子の配向
が延伸方向に限られ光軸を傾斜させることが著しく困難
である。一方、配向処理した基材上で液晶性化合物を配
列させる方法や無機誘電体を斜方蒸着する方法は、光軸
を傾斜させた位相差フィルムを作製することは可能であ
るが、工程が煩雑となるため低コストで大面積の光軸を
傾斜させた位相差フィルムを得ることはできない。本発
明では、簡便な工程で、曇り度が小さく大量生産に適す
る位相差フィルムおよびその製造法を提供する。
In a retardation film produced by stretching a polymer film, the orientation of molecules is limited to the stretching direction, and it is extremely difficult to tilt the optical axis. On the other hand, a method of arranging a liquid crystalline compound on an alignment-treated substrate or a method of obliquely depositing an inorganic dielectric can produce a retardation film with an inclined optical axis, but the process is complicated. Therefore, a low-cost retardation film having a large-area optical axis inclined cannot be obtained. The present invention provides a retardation film having a low haze and suitable for mass production by a simple process, and a method for producing the same.

【0004】[0004]

【課題を解決する手段】本発明の位相差フィルムおよび
その製造方法(による位相差フィルム)では、相溶性の
ある感光性の重合体と低分子化合物の混合体を製膜し露
光することによって、感光性の重合体と低分子化合物を
配向させることができる。この露光をフィルム面に対し
て斜め方向から行なうと、光軸を任意に傾斜させて配向
させることができるので、光軸を所望の方向に設定した
位相差フィルムが実現する。
According to the retardation film and the method for producing the same (retardation film) of the present invention, a mixture of a compatible photosensitive polymer and a low-molecular compound is formed and exposed. The photosensitive polymer and the low molecular compound can be oriented. When this exposure is performed in an oblique direction with respect to the film surface, the optical axis can be arbitrarily inclined for orientation, so that a retardation film in which the optical axis is set in a desired direction is realized.

【0005】[0005]

【発明の実施の形態】以下に、本発明の詳細を説明す
る。前述の感光性の重合体は、液晶性高分子のメソゲン
成分として多用されているビフェニル、ターフェニル、
フェニルベンゾエート、アゾベンゼンなどの置換基と、
桂皮酸基(または、その誘導体基)などの感光性基を結
合した構造を含む側鎖を有し、炭化水素、アクリレー
ト、メタクリレート、マレイミド、N−フェニルマレイ
ミド、シロキサンなどの構造を主鎖に有する高分子であ
る。該重合体は同一の繰り返し単位からなる単一重合体
または構造の異なる側鎖を有する単位の共重合体でもよ
く、あるいは感光性基を含まない側鎖を有する単位を共
重合させることも可能である。また、混合する低分子化
合物も、メソゲン成分として多用されているビフェニ
ル、ターフェニル、フェニルベンゾエート、アゾベンゼ
ンなどの置換基を有し、該メソゲン成分とアリル、アク
リレート、メタクリレート、桂皮酸基(または、その誘
導体基)などの官能基を、屈曲性成分を介してまたは、
介さず結合した結晶性または、液晶性を有する化合物で
ある。これら低分子化合物を混合する場合、単一の化合
物のみとは限らず複数種の化合物を混合することも可能
である。該感光性の重合体と低分子化合物の混合溶液を
基材上に塗布(スピンコートないしはキャスト)した塗
布膜(フィルム)を形成する。該膜は、製膜時には等方
性であり、感光性の重合体の側鎖部および低分子化合物
は特定方向を向いていない。偏光露光した場合につい
て、この状態を図2に基づいて説明する。塗布膜20中
では、長楕円で示される感光基を有し照射偏光紫外線L
の振動方向mかつ照射光進行方向に対し垂直方向に対応
した向きにある感光性の高い配置の側鎖2aと感光性の
乏しい配置の側鎖2bおよび円柱で示される液晶性化合
物2cが無秩序に共存している。該膜を偏光露光する
と、照射光の電界振動方向かつ進行方向に対し垂直方向
に対応した向きにある配置の側鎖2aの光反応が優先的
に進行する。この光反応を進めるには、化学式1から化
学式9の感光性基の部分が反応し得る波長の光の照射を
要する。この波長は、化学式1から化学式9で示された
−R1〜−R12の種類によっても異なるが、一般に200-5
00nmであり、中でも250-400nmの有効性が高い場合
が多い。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The details of the present invention will be described below. The aforementioned photosensitive polymer is biphenyl, terphenyl, which is frequently used as a mesogen component of a liquid crystalline polymer,
Substituents such as phenylbenzoate and azobenzene,
It has a side chain containing a structure to which a photosensitive group such as a cinnamic acid group (or a derivative thereof) is bonded, and has a structure such as a hydrocarbon, acrylate, methacrylate, maleimide, N-phenylmaleimide, or siloxane in a main chain. It is a polymer. The polymer may be a homopolymer composed of the same repeating unit or a copolymer of units having different side chains having different structures, or it is also possible to copolymerize a unit having a side chain containing no photosensitive group. . The low-molecular compound to be mixed also has a substituent such as biphenyl, terphenyl, phenylbenzoate, or azobenzene, which is frequently used as a mesogen component. Functional group such as a derivative group) via a flexible component or
It is a compound having crystallinity or liquid crystallinity bonded without intervening. When mixing these low molecular weight compounds, not only a single compound but also a plurality of types of compounds can be mixed. A mixed solution of the photosensitive polymer and the low molecular compound is applied (spin-coated or cast) on a substrate to form a coating film. The film is isotropic at the time of film formation, and the side chain portion of the photosensitive polymer and the low molecular compound are not oriented in a specific direction. This state will be described with reference to FIG. The coating film 20 has a photosensitive group represented by a long ellipse and has an irradiated polarized ultraviolet ray L.
The side chain 2a having a high photosensitivity, the side chain 2b having a low photosensitivity, and the liquid crystal compound 2c represented by a cylinder are randomly distributed in the direction corresponding to the vibration direction m and the direction perpendicular to the irradiation light traveling direction. Coexist. When the film is subjected to polarized light exposure, the photoreaction of the side chains 2a arranged in a direction corresponding to the direction of the electric field oscillation of the irradiation light and the direction perpendicular to the direction of travel proceeds preferentially. In order to promote this photoreaction, irradiation of light having a wavelength at which the photosensitive groups of formulas 1 to 9 can react is required. This wavelength varies depending on the type of -R 1 ~-R 12 shown from Formula 1 in Formula 9, generally 200-5
00 nm, and in particular, the effectiveness of 250-400 nm is often high.

【0006】図3は、図2の膜20に光照射し反応が進
行した後の膜30を示す。偏光露光後の分子運動によ
り、図3に示すように、光反応を起こさなかった重合体
の側鎖3b(2b)と低分子化合物3c(2c)は再配
向する。即ち、偏光の電界振動方向と照射光進行方向の
双方に対し垂直方向に向いていなかったため、光反応を
起こさなかった重合体の側鎖3b(2b)と低分子化合
物3c(2c)は、光反応した側鎖3a(2a)と同じ
方向に再配向する。その結果、塗布膜全体において、照
射した直線偏光の電界振動方向かつ照射光進行方向に対
し垂直方向に重合体の側鎖と低分子化合物の分子が配向
し、複屈折が誘起され位相差フィルムとなる。偏光露光
時と非偏光露光時ではその方向が異なる。非偏光露光時
には、照射光の進行方向に対し垂直方向に対応した向き
にある配置の側鎖の光反応が優先的に進行する。露光後
の分子運動により、照射光進行方向に対して平行方向に
配置していたため、光反応を起こさなかった重合体の側
鎖と同じ方向に膜中の重合体の側鎖と低分子化合物の分
子が配向し、複屈折が誘起され位相差フィルムとなる。
この露光を膜面に対して斜め方向から行なうことによっ
て、光軸を任意に傾斜させて配向させることができる。
その結果、光軸を所望の方向に設定した位相差フィルム
を提供できる。光軸の傾斜の測定には、Japanes
e Applied physics,Vol.19,
2013(1980)に記載された、測定試料を回転さ
せながら偏光の透過強度を測定するクリスタルローテー
ション法を用いた。該測定法では、偏光の透過率の角度
依存性から測定試料の立体的な複屈折の測定ができる。
露光後の分子運動による配向は、基板を加熱することに
より促進される。基板の加熱温度は、光反応した部分の
軟化点より低く、光反応しなかった側鎖と低分子化合物
の軟化点より高いことが望ましい。このように露光した
のち加熱し未反応側鎖を配向させた膜または加熱下で露
光し配向させた膜を該高分子の軟化点以下まで冷却する
と分子が凍結され、本発明の配向膜が得られる。低分子
化合物が低分子化合物同士、もしくは該重合体に対して
熱および/または光反応性を有している場合には、配向
が強固に固定されるため耐熱性の向上が期待される。こ
のような場合、再配向時の分子運動を妨げないよう、露
光量を抑えるか反応性を調整するなどして、光反応点の
密度を制御する必要がある。
FIG. 3 shows the film 30 after the film 20 of FIG. 2 has been irradiated with light and the reaction has proceeded. As shown in FIG. 3, the side chain 3b (2b) of the polymer that did not cause a photoreaction and the low molecular compound 3c (2c) are reoriented by the molecular motion after the polarized light exposure. That is, the polymer side chain 3b (2b) and the low molecular compound 3c (2c), which did not cause a photoreaction, were not oriented perpendicularly to both the electric field oscillation direction of the polarized light and the irradiation light traveling direction. It is reoriented in the same direction as the reacted side chain 3a (2a). As a result, in the entire coating film, the side chains of the polymer and the molecules of the low-molecular compound are oriented in the direction of electric field oscillation of the irradiated linearly polarized light and in the direction perpendicular to the direction of irradiation light, birefringence is induced, and the retardation film and Become. The directions are different between polarized light exposure and non-polarized light exposure. At the time of non-polarized light exposure, the photoreaction of the side chains arranged in a direction corresponding to the direction perpendicular to the traveling direction of the irradiation light proceeds with priority. Because of the molecular motion after exposure, the polymer was placed in a direction parallel to the direction of irradiation light irradiation, so that the side chains of the polymer and the low-molecular compound in the film in the same direction as the side chains of the polymer that did not cause photoreaction. The molecules are oriented, and birefringence is induced to form a retardation film.
By performing this exposure in an oblique direction with respect to the film surface, the optical axis can be arbitrarily inclined for orientation.
As a result, a retardation film in which the optical axis is set in a desired direction can be provided. For measuring the tilt of the optical axis, Japanes
e Applied physics, Vol. 19,
The crystal rotation method described in 2013 (1980) for measuring the transmission intensity of polarized light while rotating a measurement sample was used. In this measuring method, the stereoscopic birefringence of a measurement sample can be measured from the angle dependence of the transmittance of polarized light.
The orientation by molecular motion after exposure is promoted by heating the substrate. The heating temperature of the substrate is desirably lower than the softening point of the photoreacted portion and higher than the softening points of the unreacted side chains and the low molecular weight compounds. When the film that has been exposed and thus heated and the unreacted side chain is oriented or the film that has been exposed and oriented under heating is cooled below the softening point of the polymer, the molecules are frozen, and the oriented film of the present invention is obtained. Can be When the low-molecular compound has heat and / or photoreactivity with low-molecular compounds or with the polymer, the orientation is firmly fixed, so that improvement in heat resistance is expected. In such a case, it is necessary to control the density of photoreaction points by suppressing the amount of exposure or adjusting the reactivity so as not to hinder the molecular movement during reorientation.

【0007】低分子化合物は、適量ならば曇り度を抑制
する効果がある反面、過剰に添加すると曇り度の増加、
配向性の低下を引き起こす。このような観点から、感光
性の重合体または低分子化合物の種類にもよるが、低分
子化合物を0.1wt%〜80wt%添加しても位相差
フィルムは製造可能であるが、好ましくは5wt%〜5
0wt%であることが望ましい。ここで、感光性の重合
体と低分子化合物の相溶性が十分でない場合には、製膜
時ないしは露光後の基板の加熱によって相分離や可視光
の散乱を誘起しうる大きさの結晶を生成し曇り度の増加
の原因となる。この相分離や微結晶の生成を抑制するた
めには、重合体と低分子化合物の相溶性を調節する必要
がある。この相溶性の尺度としてPolymer En
gineering and Science,Vo
l.7,No.2,147(1974)に記載されてい
るような蒸発エネルギー(ΔEv)と分子容(V)から計
算式(1)をもって算出される溶解性パラメーター
(σ)を便宜的に利用でき、重合体と低分子化合物の溶
解性パラメーター(σ)の比:zが、0.93<z<
1.06の範囲である場合に相分離や微結晶の生成を効
果的に抑制できることが実験により判明している。 σ=(ΔEv/V)1/2 計算式(1)
[0007] The low molecular weight compound has an effect of suppressing the haze if it is in an appropriate amount.
This causes a decrease in orientation. From such a viewpoint, although it depends on the type of the photosensitive polymer or the low-molecular compound, a retardation film can be produced even when the low-molecular compound is added in an amount of 0.1 wt% to 80 wt%, but preferably 5 wt%. % To 5
Desirably, it is 0 wt%. Here, when the compatibility between the photosensitive polymer and the low molecular weight compound is not sufficient, a crystal having a size capable of inducing phase separation or scattering of visible light is generated by heating the substrate during film formation or after exposure. This causes an increase in cloudiness. In order to suppress the phase separation and the generation of microcrystals, it is necessary to adjust the compatibility between the polymer and the low molecular compound. As a measure of this compatibility, Polymer En
Gineering and Science, Vo
l. 7, No. 2,147 (1974), a solubility parameter (σ) calculated from the evaporation energy (ΔEv) and the molecular volume (V) by the calculation formula (1) can be used for convenience, The ratio of the solubility parameter (σ) of the low molecular compound: z is 0.93 <z <
Experiments have shown that when the ratio is in the range of 1.06, phase separation and generation of microcrystals can be effectively suppressed. σ = (ΔEv / V) 1/2 calculation formula (1)

【0008】膜厚を厚くしより大きな位相差を得る手法
として、膜を積層する方法が挙げられる。この場合、先
に製膜し露光した膜上に材料溶液を塗布し積層するが、
この先に形成された膜の破壊を防ぐために、溶解性を下
げた溶媒に重合体および低分子化合物を溶解し用いるこ
とが有効である。また、感光性の重合体と低分子化合物
の混合体の膜に表裏面から露光することによって、複屈
折がより効率よく発現するようになる。この場合、感光
性の重合体と低分子化合物の混合体は支持体上に塗布す
るなどして製膜され、露光は膜面に直接または支持体を
介してもよい。支持体を介する場合には、支持体は感光
性の重合体の反応しうる波長の光の透過性を有している
限りどのような材料でも良いが、光透過率が高い程、露
光量が少なくて済み、製造工程上有利となる。また、剥
離性の支持体上で感光性の重合体と低分子化合物の混合
体を製膜し、剥離後、膜の表裏面より露光することもで
きる。
As a technique for increasing the film thickness and obtaining a larger phase difference, there is a method of laminating films. In this case, the material solution is applied and laminated on the film formed and exposed first,
In order to prevent the destruction of the previously formed film, it is effective to dissolve the polymer and the low-molecular compound in a solvent having reduced solubility. Further, by exposing the film of the mixture of the photosensitive polymer and the low-molecular compound from the front and back surfaces, the birefringence can be exhibited more efficiently. In this case, a mixture of the photosensitive polymer and the low-molecular compound is formed on the support by coating or the like, and the exposure may be performed directly on the film surface or via the support. When the support is interposed, the support may be made of any material as long as it has light transmittance of a wavelength that can react with the photosensitive polymer. Less is required, which is advantageous in the manufacturing process. Alternatively, a mixture of a photosensitive polymer and a low molecular compound may be formed on a peelable support, and after peeling, the film may be exposed from the front and back surfaces of the film.

【0009】感光性の側鎖型液晶性高分子の原料化合物
および低分子化合物に関する合成方法を以下に示す。 (単量体1)4,4’−ビフェニルジオールと2−クロ
ロエタノールを、アルカリ条件下で加熱することによ
り、4−ヒドロキシ−4’−ヒドロキシエトキシビフェ
ニルを合成した。この生成物に、アルカリ条件下で1,
6−ジブロモヘキサンを反応させ、4−(6−ブロモヘ
キシルオキシ)−4’−ヒドロキシエトキシビフェニル
を合成した。次いで、リチウムメタクリレートを反応さ
せ、4−ヒドロキシエトキシ−4’−(6’−ビフェニ
ルオキシヘキシル)メタクリレートを合成した。最後
に、塩基性の条件下において、塩化シンナモイルを加
え、化学式13に示されるメタクリル酸エステルを合成
した。
A method for synthesizing a raw material compound and a low molecular compound of a photosensitive side chain type liquid crystalline polymer will be described below. (Monomer 1) 4,4′-biphenyldiol and 2-chloroethanol were heated under alkaline conditions to synthesize 4-hydroxy-4′-hydroxyethoxybiphenyl. Under alkaline conditions, the product
By reacting 6-dibromohexane, 4- (6-bromohexyloxy) -4′-hydroxyethoxybiphenyl was synthesized. Next, lithium methacrylate was reacted to synthesize 4-hydroxyethoxy-4 ′-(6′-biphenyloxyhexyl) methacrylate. Finally, cinnamoyl chloride was added under basic conditions to synthesize a methacrylic ester represented by Chemical Formula 13.

【化13】 Embedded image

【0010】(単量体2)4,4’−ビフェニルジオー
ルと2−クロロヘキサノールを、アルカリ条件下で加熱
することにより、4−ヒドロキシ−4’−ヒドロキシエ
トキシビフェニルを合成した。この生成物に、アルカリ
条件下で1,6−ジブロモヘキサンを反応させ、4−
(6−ブロモヘキシルオキシ)−4’−ヒドロキシエト
キシビフェニルを合成した。次いで、リチウムメタクリ
レートを反応させ、4−ヒドロキシエトキシ−4’−
(6’−ビフェニルオキシヘキシル)メタクリレートを
合成した。最後に、塩基性の条件下において、4−メト
キシ塩化シンナモイルを加え、化学式14に示されるメ
タクリル酸エステルを合成した。
(Monomer 2) 4-Hydroxy-4'-hydroxyethoxybiphenyl was synthesized by heating 4,4'-biphenyldiol and 2-chlorohexanol under alkaline conditions. This product was reacted with 1,6-dibromohexane under alkaline conditions to give 4-
(6-Bromohexyloxy) -4′-hydroxyethoxybiphenyl was synthesized. Next, lithium methacrylate was reacted to give 4-hydroxyethoxy-4′-
(6′-biphenyloxyhexyl) methacrylate was synthesized. Finally, under basic conditions, 4-methoxycinnamoyl chloride was added to synthesize a methacrylic acid ester represented by Chemical Formula 14.

【化14】 Embedded image

【0011】(重合体1)単量体1をテトラヒドロフラ
ン中に溶解し、反応開始剤としてAIBN(アゾビスイソブ
チロニトリル)を添加して重合することにより重合体1
を得た。この重合体1は、47−75℃の温度領域にお
いて、液晶性を呈した。
(Polymer 1) Polymer 1 is obtained by dissolving Monomer 1 in tetrahydrofuran and adding AIBN (azobisisobutyronitrile) as a reaction initiator to carry out polymerization.
Got. This polymer 1 exhibited liquid crystallinity in a temperature range of 47 to 75 ° C.

【0012】(重合体2)単量体2をテトラヒドロフラ
ン中に溶解し、反応開始剤としてAIBNを添加して重合す
ることにより重合体2を得た。この重合体2も液晶性を
呈した。
(Polymer 2) Polymer 2 was obtained by dissolving monomer 2 in tetrahydrofuran, adding AIBN as a reaction initiator, and polymerizing. This polymer 2 also exhibited liquid crystallinity.

【0013】(低分子化合物1)4,4’−ビフェニル
ジオールと1,6−ジブロモヘキサンを、アルカリ条件
下で反応させ、4,4’− ビス(6−ブロモヘキシル
オキシ)ビフェニルを合成した。次いで、リチウムメタ
クリレートを反応させ、生成物をカラム精製することに
より化学式15に示される低分子化合物1を合成した。
(Low molecular weight compound 1) 4,4'-Biphenyldiol and 1,6-dibromohexane were reacted under alkaline conditions to synthesize 4,4'-bis (6-bromohexyloxy) biphenyl. Next, lithium methacrylate was reacted, and the product was purified by column to synthesize a low molecular compound 1 represented by Chemical Formula 15.

【化15】 Embedded image

【0014】(低分子化合物2)4,4’−ビフェニル
ジオールと2−クロロエタノールを、アルカリ条件下で
反応させ、4,4’−ビス(2−ヒドロキシエトキシ)
ビフェニルを合成した。次いで、塩基性の条件下におい
て、塩化シンナモイルを加え反応させ、生成物をカラム
精製することにより化学式16に示される低分子化合物
2を合成した。
(Low molecular weight compound 2) 4,4'-biphenyldiol and 2-chloroethanol are reacted under alkaline conditions to give 4,4'-bis (2-hydroxyethoxy)
Biphenyl was synthesized. Then, under basic conditions, cinnamoyl chloride was added and reacted, and the product was purified by column to synthesize a low-molecular compound 2 represented by Chemical Formula 16.

【化16】 Embedded image

【0015】(低分子化合物3)4,4’−ビフェニル
ジオールと6−ブロモヘキサノールを、アルカリ条件下
で反応させ、4,4’−ビス(6−ブロモヘキシルオキ
シ)ビフェニルを合成した。次いで、塩基性の条件下に
おいて、塩化シンナモイルを加え反応させ、生成物をカ
ラム精製することにより化学式17に示される低分子化
合物3を合成した。
(Low molecular weight compound 3) 4,4'-biphenyldiol and 6-bromohexanol were reacted under alkaline conditions to synthesize 4,4'-bis (6-bromohexyloxy) biphenyl. Then, under basic conditions, cinnamoyl chloride was added and reacted, and the product was purified by column to synthesize a low molecular compound 3 represented by Chemical Formula 17.

【化17】 Embedded image

【0016】(低分子化合物4)4,4’−ビフェニル
ジオールと6−ブロモヘキサノールを、アルカリ条件下
で加熱することにより、4−ヒドロキシエトキシ−4’
−ヒドロキシヘキシルオキシビフェニルを合成した。こ
の生成物に、アルカリ条件下で1,6−ジブロモヘキサ
ンを反応させ、4−(6−ブロモヘキシルオキシ)−
4’−ヒドロキシヘキシルオキシビフェニルを合成し
た。次いで、リチウムメタクリレートを反応させ、生成
物をカラム精製することにより4−(6−メタクリロイル
ヘキシルオキシ)−4’−ヒドロキシヘキシルオキシビ
フェニルを合成した。最後に、塩基性の条件下におい
て、塩化シンナモイルを加え反応させ、化学式18に示
される低分子化合物4を合成した。
(Low molecular weight compound 4) 4-Hydroxyethoxy-4 'is obtained by heating 4,4'-biphenyldiol and 6-bromohexanol under alkaline conditions.
-Hydroxyhexyloxybiphenyl was synthesized. This product is reacted with 1,6-dibromohexane under alkaline conditions to give 4- (6-bromohexyloxy)-
4′-Hydroxyhexyloxybiphenyl was synthesized. Then, lithium methacrylate was reacted and the product was purified by column to synthesize 4- (6-methacryloylhexyloxy) -4′-hydroxyhexyloxybiphenyl. Finally, under basic conditions, cinnamoyl chloride was added and reacted to synthesize a low-molecular compound 4 represented by Chemical Formula 18.

【化18】 Embedded image

【0017】〔低分子化合物5(比較例)〕4,4’−
ビフェニルジオールと1,6−ジブロモデカンを、アル
カリ条件下で反応させ、4,4’− ビス(6−ブロモ
デカニル)ビフェニルを合成した。次いで、リチウムメ
タクリレートを反応させ、生成物をカラム精製すること
により化学式19に示される低分子化合物5を合成し
た。
[Low molecular weight compound 5 (comparative example)] 4,4'-
Biphenyldiol and 1,6-dibromodecane were reacted under alkaline conditions to synthesize 4,4′-bis (6-bromodecanyl) biphenyl. Next, a low molecular compound 5 represented by the chemical formula 19 was synthesized by reacting lithium methacrylate and purifying the product by a column.

【化19】 Embedded image

【0018】〔低分子化合物6(比較例)〕p−ヒドロ
キシ安息香酸メチルと臭化アリルを、アルカリ条件下で
加熱することにより、4−アリルオキシ安息香酸メチル
を合成した。この生成物に、アルカリ条件下で加熱し4
−アリルオキシ安息香酸を合成した。次いで、塩化チオ
ニルと反応させ4−アリルオキシ安息香酸クロリドを合
成し、ヒドロキノンと反応させることにより、化学式2
0に示される低分子化合物6を合成した。
[Low Molecular Weight Compound 6 (Comparative Example)] Methyl 4-allyloxybenzoate was synthesized by heating methyl p-hydroxybenzoate and allyl bromide under alkaline conditions. The product is heated under alkaline conditions
-Allyloxybenzoic acid was synthesized. Then, the compound is reacted with thionyl chloride to synthesize 4-allyloxybenzoic acid chloride, and then reacted with hydroquinone to obtain a compound of the formula (2).
The low molecular compound 6 shown in No. 0 was synthesized.

【化20】 Embedded image

【0019】[0019]

【実施例】図1には、本発明の位相差フィルムを直線偏
光性の紫外光を露光することにより作製する場合の製造
方法(装置)の例を示す。但し、本発明の位相差フィル
ムの製造方法はこれに限定されるものではない。電源1
2によって励起された紫外線ランプ11で発生した無秩
序光16は、光学素子13(例えば、グランテーラープ
リズム)をもって直線偏光性の紫外線17に変換され、
基材15上に塗布(コート)された感光性の側鎖型液晶
性高分子と液晶性化合物の膜14を照射する。実施例1
から12は、本発明の製造法により、光軸の傾いた位相
差フィルムを作製した実施例である。
FIG. 1 shows an example of a production method (apparatus) for producing a retardation film of the present invention by exposing it to linearly polarized ultraviolet light. However, the method for producing the retardation film of the present invention is not limited to this. Power supply 1
The disordered light 16 generated by the ultraviolet lamp 11 excited by the light 2 is converted into linearly polarized ultraviolet light 17 by an optical element 13 (for example, a Glan-Taylor prism).
The film 14 of the photosensitive side chain type liquid crystalline polymer and the liquid crystalline compound applied (coated) on the base material 15 is irradiated. Example 1
Examples 12 to 12 are examples in which a retardation film having an inclined optical axis was produced by the production method of the present invention.

【0020】(実施例1)3.75重量%の重合体1お
よび1.25重量%の低分子化合物1をジクロロエタン
に溶解し、光学的に等方性の基板上に約1μmの厚さで
スピンコートした。該基板を水平面に対して45度傾く
ように配置し、グランテーラープリズムを用いて直線偏
光に変換した紫外線を、水平面に対し垂直方向から室温
で100mJ/cm2照射した。続いて、100℃に加
熱した後、室温まで冷却した。このようにして得られた
基板は、光軸が基板の法線方向から67°傾いており、
基板面内の位相差は31nmであり、曇り度は殆どなく
実用に十分耐えうるものであった。
Example 1 3.75% by weight of polymer 1 and 1.25% by weight of low molecular weight compound 1 are dissolved in dichloroethane and placed on an optically isotropic substrate in a thickness of about 1 μm. Spin coated. The substrate was placed to be inclined 45 degrees relative to the horizontal plane, the ultraviolet light is converted into linearly polarized light using a ground Taylor prism, and 100 mJ / cm 2 irradiation at room temperature from a vertical direction with respect to the horizontal plane. Subsequently, after heating to 100 ° C., it was cooled to room temperature. In the substrate thus obtained, the optical axis is inclined by 67 ° from the normal direction of the substrate.
The in-plane retardation of the substrate was 31 nm, and there was almost no haze, which was sufficient for practical use.

【0021】(実施例2)3.75重量%の重合体1お
よび1.25重量%の低分子化合物2をジクロロエタン
に溶解し、光学的に等方性の基板上に約1μmの厚さで
スピンコートした。該基板を水平面に対して45度傾く
ように配置し、グランテーラープリズムを用いて直線偏
光に変換した紫外線を、水平面に対し垂直方向から室温
で400mJ/cm2照射した。続いて、100℃に加
熱した後、室温まで冷却した。このようにして得られた
基板は、光軸が基板の法線方向から68°傾いており、
基板面内の位相差は4nmであった。
Example 2 3.75% by weight of polymer 1 and 1.25% by weight of low molecular weight compound 2 are dissolved in dichloroethane, and about 1 μm thick on an optically isotropic substrate. Spin coated. The substrate was arranged so as to be inclined by 45 degrees with respect to the horizontal plane, and irradiated with ultraviolet light converted to linearly polarized light using a Glan-Taylor prism at a room temperature in a direction perpendicular to the horizontal plane at 400 mJ / cm 2 . Subsequently, after heating to 100 ° C., it was cooled to room temperature. In the substrate thus obtained, the optical axis is inclined by 68 ° from the normal direction of the substrate.
The in-plane retardation of the substrate was 4 nm.

【0022】(実施例3)3.75重量%の重合体1お
よび1.25重量%の低分子化合物3をジクロロエタン
に溶解し、光学的に等方性の基板上に約1μmの厚さで
スピンコートした。該基板を水平面に対して45度傾く
ように配置し、グランテーラープリズムを用いて直線偏
光に変換した紫外線を、水平面に対し垂直方向から室温
で400mJ/cm2照射した。続いて、100℃に加
熱した後、室温まで冷却した。このようにして得られた
基板は、光軸が基板の法線方向から67°傾いており、
基板面内の位相差は25nmであった。
Example 3 3.75% by weight of polymer 1 and 1.25% by weight of low molecular weight compound 3 are dissolved in dichloroethane, and about 1 μm thick on an optically isotropic substrate. Spin coated. The substrate was arranged so as to be inclined by 45 degrees with respect to the horizontal plane, and irradiated with ultraviolet light converted to linearly polarized light using a Glan-Taylor prism at a room temperature in a direction perpendicular to the horizontal plane at 400 mJ / cm 2 . Subsequently, after heating to 100 ° C., it was cooled to room temperature. In the substrate thus obtained, the optical axis is inclined by 67 ° from the normal direction of the substrate.
The in-plane retardation of the substrate was 25 nm.

【0023】(実施例4)3.75重量%の重合体1お
よび1.25重量%の低分子化合物4をジクロロエタン
に溶解し、光学的に等方性の基板上に約1μmの厚さで
スピンコートした。該基板を水平面に対して45度傾く
ように配置し、グランテーラープリズムを用いて直線偏
光に変換した紫外線を、水平面に対し垂直方向から室温
で200mJ/cm2照射した。続いて、100℃に加
熱した後、室温まで冷却した。このようにして得られた
基板は、光軸が基板の法線方向から67°傾いており、
基板面内の位相差は43nmであった。
Example 4 3.75% by weight of polymer 1 and 1.25% by weight of low molecular weight compound 4 are dissolved in dichloroethane and applied on an optically isotropic substrate to a thickness of about 1 μm. Spin coated. The substrate was placed to be inclined 45 degrees relative to the horizontal plane, the ultraviolet light is converted into linearly polarized light using a ground Taylor prism, and 200 mJ / cm 2 irradiation at room temperature from a vertical direction with respect to the horizontal plane. Subsequently, after heating to 100 ° C., it was cooled to room temperature. In the substrate thus obtained, the optical axis is inclined by 67 ° from the normal direction of the substrate.
The in-plane retardation of the substrate was 43 nm.

【0024】(実施例5)3.75重量%の重合体1お
よび1.25重量%の単量体1をジクロロエタンに溶解
し、光学的に等方性の基板上に約1μmの厚さでスピン
コートした。該基板を水平面に対して45度傾くように
配置し、グランテーラープリズムを用いて直線偏光に変
換した紫外線を、水平面に対し垂直方向から室温で20
0mJ/cm2照射した。続いて、100℃に加熱した
後、室温まで冷却した。このようにして得られた基板
は、光軸が基板の法線方向から69°傾いており、基板
面内の位相差は35nmであった。
EXAMPLE 5 3.75% by weight of Polymer 1 and 1.25% by weight of Monomer 1 are dissolved in dichloroethane and applied to an optically isotropic substrate to a thickness of about 1 μm. Spin coated. The substrate was placed at an angle of 45 degrees with respect to the horizontal plane, and the ultraviolet light converted to linearly polarized light using a Glan-Taylor prism was irradiated at room temperature from a direction perpendicular to the horizontal plane at room temperature.
Irradiation was performed at 0 mJ / cm 2 . Subsequently, after heating to 100 ° C., it was cooled to room temperature. The substrate thus obtained had an optical axis inclined by 69 ° from the normal direction of the substrate, and the phase difference in the substrate plane was 35 nm.

【0025】(実施例6)3.75重量%の重合体2お
よび1.25重量%の低分子化合物1をジクロロエタン
に溶解し、光学的に等方性の基板上に約1μmの厚さで
スピンコートした。該基板を水平面に対して45度傾く
ように配置し、グランテーラープリズムを用いて直線偏
光に変換した紫外線を、水平面に対し垂直方向から室温
で100mJ/cm2照射した。続いて、100℃に加
熱した後、室温まで冷却した。このようにして得られた
基板は、光軸が基板の法線方向から67°傾いており、
基板面内の位相差は25nmであった。
EXAMPLE 6 3.75% by weight of polymer 2 and 1.25% by weight of low molecular weight compound 1 are dissolved in dichloroethane and applied to an optically isotropic substrate at a thickness of about 1 μm. Spin coated. The substrate was placed to be inclined 45 degrees relative to the horizontal plane, the ultraviolet light is converted into linearly polarized light using a ground Taylor prism, and 100 mJ / cm 2 irradiation at room temperature from a vertical direction with respect to the horizontal plane. Subsequently, after heating to 100 ° C., it was cooled to room temperature. In the substrate thus obtained, the optical axis is inclined by 67 ° from the normal direction of the substrate.
The in-plane retardation of the substrate was 25 nm.

【0026】(実施例7)3.75重量%の重合体2お
よび1.25重量%の低分子化合物2をジクロロエタン
に溶解し、光学的に等方性の基板上に約1μmの厚さで
スピンコートした。該基板を水平面に対して45度傾く
ように配置し、グランテーラープリズムを用いて直線偏
光に変換した紫外線を、水平面に対し垂直方向から室温
で400mJ/cm2照射した。続いて、100℃に加
熱した後、室温まで冷却した。このようにして得られた
基板は、光軸が基板の法線方向から67°傾いており、
基板面内の位相差は3nmであった。
Example 7 3.75% by weight of polymer 2 and 1.25% by weight of low molecular weight compound 2 are dissolved in dichloroethane, and about 1 μm thick on an optically isotropic substrate. Spin coated. The substrate was arranged so as to be inclined by 45 degrees with respect to the horizontal plane, and irradiated with ultraviolet light converted to linearly polarized light using a Glan-Taylor prism at a room temperature in a direction perpendicular to the horizontal plane at 400 mJ / cm 2 . Subsequently, after heating to 100 ° C., it was cooled to room temperature. In the substrate thus obtained, the optical axis is inclined by 67 ° from the normal direction of the substrate.
The retardation in the plane of the substrate was 3 nm.

【0027】(実施例8)3.75重量%の重合体2お
よび1.25重量%の低分子化合物3をジクロロエタン
に溶解し、光学的に等方性の基板上に約1μmの厚さで
スピンコートした。該基板を水平面に対して45度傾く
ように配置し、グランテーラープリズムを用いて直線偏
光に変換した紫外線を、水平面に対し垂直方向から室温
で400mJ/cm2照射した。続いて、100℃に加
熱した後、室温まで冷却した。このようにして得られた
基板は、光軸が基板の法線方向から65°傾いており、
基板面内の位相差は23nmであった。
Example 8 3.75% by weight of polymer 2 and 1.25% by weight of low molecular weight compound 3 are dissolved in dichloroethane and applied to an optically isotropic substrate at a thickness of about 1 μm. Spin coated. The substrate was arranged so as to be inclined by 45 degrees with respect to the horizontal plane, and irradiated with ultraviolet light converted to linearly polarized light using a Glan-Taylor prism at a room temperature in a direction perpendicular to the horizontal plane at 400 mJ / cm 2 . Subsequently, after heating to 100 ° C., it was cooled to room temperature. In the substrate thus obtained, the optical axis is tilted by 65 ° from the normal direction of the substrate,
The in-plane retardation of the substrate was 23 nm.

【0028】(実施例9)3.75重量%の重合体2お
よび1.25重量%の低分子化合物4をジクロロエタン
に溶解し、光学的に等方性の基板上に約1μmの厚さで
スピンコートした。該基板を水平面に対して45度傾く
ように配置し、グランテーラープリズムを用いて直線偏
光に変換した紫外線を、水平面に対し垂直方向から室温
で200mJ/cm2照射した。続いて、100℃に加
熱した後、室温まで冷却した。このようにして得られた
基板は、光軸が基板の法線方向から68°傾いており、
基板面内の位相差は39nmであった。
Example 9 3.75% by weight of polymer 2 and 1.25% by weight of low molecular weight compound 4 are dissolved in dichloroethane, and about 1 μm thick on an optically isotropic substrate. Spin coated. The substrate was placed to be inclined 45 degrees relative to the horizontal plane, the ultraviolet light is converted into linearly polarized light using a ground Taylor prism, and 200 mJ / cm 2 irradiation at room temperature from a vertical direction with respect to the horizontal plane. Subsequently, after heating to 100 ° C., it was cooled to room temperature. In the substrate thus obtained, the optical axis is inclined by 68 ° from the normal direction of the substrate.
The in-plane retardation of the substrate was 39 nm.

【0029】(実施例10)3.75重量%の重合体2
および1.25重量%の単量体1をジクロロエタンに溶
解し、光学的に等方性の基板上に約1μmの厚さでスピ
ンコートした。該基板を水平面に対して45度傾くよう
に配置し、グランテーラープリズムを用いて直線偏光に
変換した紫外線を、水平面に対し垂直方向から室温で2
00mJ/cm2照射した。続いて、100℃に加熱し
た後、室温まで冷却した。このようにして得られた基板
は、光軸が基板の法線方向から67°傾いており、基板
面内の位相差は30nmであった。
Example 10 3.75% by weight of polymer 2
And 1.25% by weight of Monomer 1 were dissolved in dichloroethane and spin-coated to a thickness of about 1 μm on an optically isotropic substrate. The substrate was placed at an angle of 45 degrees with respect to the horizontal plane, and the ultraviolet light converted to linearly polarized light using a Glan-Taylor prism was applied at room temperature from a direction perpendicular to the horizontal plane at room temperature.
Irradiation was performed at 00 mJ / cm 2 . Subsequently, after heating to 100 ° C., it was cooled to room temperature. The substrate thus obtained had an optical axis inclined by 67 ° from the normal direction of the substrate, and the phase difference in the substrate plane was 30 nm.

【0030】(実施例11)3.75重量%の重合体1
および1.25重量%の低分子化合物1をジクロロエタ
ンに溶解し、光学的に等方性の基板上に約1μmの厚さ
でスピンコートした。該基板を水平面に対して20度傾
くように配置し、グランテーラープリズムを用いて直線
偏光に変換した紫外線を、水平面に対し垂直方向から室
温で200mJ/cm2照射した。続いて、100℃に
加熱した後、室温まで冷却した。このようにして得られ
た基板は、光軸が基板の法線方向から81°傾いてお
り、基板面内の位相差は29nmであった。
Example 11 3.75% by weight of polymer 1
And 1.25% by weight of the low-molecular compound 1 were dissolved in dichloroethane, and spin-coated at a thickness of about 1 μm on an optically isotropic substrate. The substrate was placed so as to be inclined 20 degrees relative to the horizontal plane, the ultraviolet light is converted into linearly polarized light using a ground Taylor prism, and 200 mJ / cm 2 irradiation at room temperature from a vertical direction with respect to the horizontal plane. Subsequently, after heating to 100 ° C., it was cooled to room temperature. The optical axis of the substrate thus obtained was inclined by 81 ° from the normal direction of the substrate, and the phase difference in the substrate plane was 29 nm.

【0031】(実施例12)3.75重量%の重合体1
および1.25重量%の低分子化合物4をジクロロエタ
ンに溶解し、光学的に等方性の基板上に約1μmの厚さ
でスピンコートした。該基板を水平面に対して20度傾
くように配置し、グランテーラープリズムを用いて直線
偏光に変換した紫外線を、水平面に対し垂直方向から室
温で200mJ/cm2照射した。続いて、100℃に
加熱した後、室温まで冷却した。このようにして得られ
た基板は、光軸が基板の法線方向から80°傾き、基板
面内の位相差は39nmであった。
Example 12 3.75% by weight of polymer 1
And 1.25% by weight of the low-molecular compound 4 were dissolved in dichloroethane and spin-coated on an optically isotropic substrate to a thickness of about 1 μm. The substrate was placed so as to be inclined 20 degrees relative to the horizontal plane, the ultraviolet light is converted into linearly polarized light using a ground Taylor prism, and 200 mJ / cm 2 irradiation at room temperature from a vertical direction with respect to the horizontal plane. Subsequently, after heating to 100 ° C., it was cooled to room temperature. In the substrate thus obtained, the optical axis was inclined by 80 ° from the normal direction of the substrate, and the phase difference in the substrate plane was 39 nm.

【0032】(比較例1)3.75重量%の重合体1お
よび1.25重量%の低分子化合物5をジクロロエタン
に溶解し、光学的に等方性の基板上に約1μmの厚さで
スピンコートした。該基板を水平面に対して45度傾く
ように配置し、グランテーラープリズムを用いて直線偏
光に変換した紫外線を、水平面に対し垂直方向から室温
で100mJ/cm2照射した。続いて、100℃に加
熱した後、室温まで冷却した。このようにして得られた
基板は、曇りが発生し実用に適さなかった。
COMPARATIVE EXAMPLE 1 3.75% by weight of polymer 1 and 1.25% by weight of low molecular weight compound 5 were dissolved in dichloroethane, and were applied to an optically isotropic substrate at a thickness of about 1 μm. Spin coated. The substrate was placed to be inclined 45 degrees relative to the horizontal plane, the ultraviolet light is converted into linearly polarized light using a ground Taylor prism, and 100 mJ / cm 2 irradiation at room temperature from a vertical direction with respect to the horizontal plane. Subsequently, after heating to 100 ° C., it was cooled to room temperature. The substrate thus obtained was cloudy and was not suitable for practical use.

【0033】(比較例2)3.75重量%の重合体1お
よび1.25重量%の低分子化合物6をジクロロエタン
に溶解し、光学的に等方性の基板上に約1μmの厚さで
スピンコートした。該基板を水平面に対して45度傾く
ように配置し、グランテーラープリズムを用いて直線偏
光に変換した紫外線を、水平面に対し垂直方向から室温
で100mJ/cm2照射した。続いて、100℃に加
熱した後、室温まで冷却した。このようにして得られた
基板は、曇りが発生し実用に適さなかった。
COMPARATIVE EXAMPLE 2 3.75% by weight of polymer 1 and 1.25% by weight of low molecular weight compound 6 were dissolved in dichloroethane, and about 1 μm thick on an optically isotropic substrate. Spin coated. The substrate was placed to be inclined 45 degrees relative to the horizontal plane, the ultraviolet light is converted into linearly polarized light using a ground Taylor prism, and 100 mJ / cm 2 irradiation at room temperature from a vertical direction with respect to the horizontal plane. Subsequently, after heating to 100 ° C., it was cooled to room temperature. The substrate thus obtained was cloudy and was not suitable for practical use.

【0034】(比較例3)3.75重量%の重合体2お
よび1.25重量%の低分子化合物5をジクロロエタン
に溶解し、光学的に等方性の基板上に約1μmの厚さで
スピンコートした。該基板を水平面に対して45度傾く
ように配置し、グランテーラープリズムを用いて直線偏
光に変換した紫外線を、水平面に対し垂直方向から室温
で100mJ/cm2照射した。続いて、100℃に加
熱した後、室温まで冷却した。このようにして得られた
基板は、曇りが発生し実用に適さなかった。
COMPARATIVE EXAMPLE 3 3.75% by weight of polymer 2 and 1.25% by weight of low molecular weight compound 5 were dissolved in dichloroethane and placed on an optically isotropic substrate in a thickness of about 1 μm. Spin coated. The substrate was placed to be inclined 45 degrees relative to the horizontal plane, the ultraviolet light is converted into linearly polarized light using a ground Taylor prism, and 100 mJ / cm 2 irradiation at room temperature from a vertical direction with respect to the horizontal plane. Subsequently, after heating to 100 ° C., it was cooled to room temperature. The substrate thus obtained was cloudy and was not suitable for practical use.

【0035】(比較例4)3.75重量%の重合体2お
よび1.25重量%の低分子化合物6をジクロロエタン
に溶解し、光学的に等方性の基板上に約1μmの厚さで
スピンコートした。該基板を水平面に対して45度傾く
ように配置し、グランテーラープリズムを用いて直線偏
光に変換した紫外線を、水平面に対し垂直方向から室温
で100mJ/cm2照射した。続いて、100℃に加
熱した後、室温まで冷却した。このようにして得られた
基板は、曇りが発生し実用に適さなかった。
COMPARATIVE EXAMPLE 4 3.75% by weight of polymer 2 and 1.25% by weight of low molecular weight compound 6 were dissolved in dichloroethane, and were applied to an optically isotropic substrate at a thickness of about 1 μm. Spin coated. The substrate was placed to be inclined 45 degrees relative to the horizontal plane, the ultraviolet light is converted into linearly polarized light using a ground Taylor prism, and 100 mJ / cm 2 irradiation at room temperature from a vertical direction with respect to the horizontal plane. Subsequently, after heating to 100 ° C., it was cooled to room temperature. The substrate thus obtained was cloudy and was not suitable for practical use.

【0036】実施例1から12および、比較例1から4
の結果を表1にまとめる。これらの実施例から、露光に
より曇り度を抑制し且つ効果的に位相差を得られる上、
光軸方向を制御したフィルムを作製できることが立証で
きた。本発明の位相差フィルムおよびその製造法では、
露光により複屈折を生じたフィルムに、更に紫外線を照
射することにより未反応の感光性基の光反応を促進さ
せ、フィルム中の配向を強固に固定することができる。
このような位相差フィルムは、耐熱性、光安定性に優れ
実用に充分であった。
Examples 1 to 12 and Comparative Examples 1 to 4
Table 1 summarizes the results. From these examples, it is possible to suppress the haze by exposure and effectively obtain a phase difference,
It was proved that a film in which the optical axis direction was controlled could be produced. In the retardation film of the present invention and its production method,
By irradiating the film, which has caused birefringence by exposure, with ultraviolet rays, the photoreaction of unreacted photosensitive groups can be promoted, and the orientation in the film can be firmly fixed.
Such a retardation film was excellent in heat resistance and light stability and was sufficient for practical use.

【表1】 [Table 1]

【0037】[0037]

【発明の効果】露光という簡便な操作により、従来技術
のような延伸工程を用いなくても位相差フィルムを得る
ことができる。更に、紫外線の照射方向を変えることに
より同一基板内において、光軸の異なる領域の作製も可
能であり、様々な光学素子への活用が期待される。ま
た、光軸の傾斜した位相差フィルムは、旋光モード、複
屈折モードを利用したねじれネマチック液晶を使った液
晶表示装置において視野角拡大用の光学補償フィルムと
して活用できる。従来このような、光軸の傾斜した大面
積の位相差フィルムを低コストで作製することができな
かったが、本発明によって、斜め方向から露光するとい
う簡便な操作で大面積化が可能となった。
By the simple operation of exposure, a retardation film can be obtained without using a stretching step as in the prior art. Further, by changing the irradiation direction of the ultraviolet light, it is possible to produce regions having different optical axes in the same substrate, and it is expected to be used for various optical elements. Further, the retardation film having an inclined optical axis can be used as an optical compensation film for expanding a viewing angle in a liquid crystal display device using a twisted nematic liquid crystal utilizing an optical rotation mode and a birefringence mode. Conventionally, such a large-area retardation film with an inclined optical axis could not be produced at low cost. However, the present invention makes it possible to increase the area by a simple operation of exposing from an oblique direction. Was.

【0038】[0038]

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の位相差フィルムの製造方法を示す概念
FIG. 1 is a conceptual diagram showing a method for producing a retardation film of the present invention.

【図2】偏光露光により感光した側鎖の模式図FIG. 2 is a schematic view of a side chain exposed by polarized light exposure.

【図3】偏光露光後の分子運動により配列した側鎖の模
式図
FIG. 3 is a schematic diagram of side chains arranged by molecular motion after polarized light exposure.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11・・・紫外線ランプ 12・・・電源 13・・・光学素子(グランテーラープリズム) 14・・・膜(フィルム) 15・・・基材 16・・・無秩序光 17・・・直線偏光性の紫外線 DESCRIPTION OF SYMBOLS 11 ... Ultraviolet lamp 12 ... Power supply 13 ... Optical element (Glan Taylor prism) 14 ... Film (film) 15 ... Substrate 16 ... Disordered light 17 ... Linear polarization UV light

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G02F 1/13363 G02F 1/13363 Fターム(参考) 2H049 BA06 BA42 BB42 BC01 BC05 BC22 2H091 FA11X FA11Z FB02 FC22 FC23 LA12 LA19 4J011 AC04 PA69 PA74 PA99 PC02 QA03 QA08 UA01 VA01 WA01 WA10 4J026 AA45 AA50 AB44 AC09 BA27 BA34 BB01 DB06 DB36 GA08──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) G02F 1/13363 G02F 1/13363 F-term (Reference) 2H049 BA06 BA42 BB42 BC01 BC05 BC22 2H091 FA11X FA11Z FB02 FC22 FC23 LA12 LA19 4J011 AC04 PA69 PA74 PA99 PC02 QA03 QA08 UA01 VA01 WA01 WA10 4J026 AA45 AA50 AB44 AC09 BA27 BA34 BB01 DB06 DB36 GA08

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 感光性の重合体と低分子化合物の混合体
に光照射する操作を含む工程で作製され、これら感光性
の重合体と低分子化合物について蒸発エネルギーと分子
容から算出した溶解性パラメーターの比zが0.93<
z<1.06であることを特徴とする、位相差フィルム
およびその製造方法。
1. A method comprising irradiating a mixture of a photosensitive polymer and a low-molecular compound with light to produce a mixture of the photosensitive polymer and the low-molecular compound. When the parameter ratio z is 0.93 <
A retardation film and a method for producing the same, wherein z <1.06.
【請求項2】 請求項1において感光性の重合体が液晶
性を有する位相差フィルムおよびその製造方法。
2. The retardation film according to claim 1, wherein the photosensitive polymer has liquid crystallinity, and a method for producing the same.
【請求項3】 請求項1および請求項2において感光性
の重合体が少なくとも1つ化学式1から化学式9で表さ
れる構造を少なくとも1つ有する共に、化学式10で表
される主鎖が炭化水素、アクリレート、メタクリレー
ト、マレイミド、N−フェニルマレイミド、シロキサン
などである感光性の単独重合体または共重合体であり、
低分子化合物が、化学式11または化学式12で表され
る分子構造を有することを特徴とする位相差フィルムお
よびその製造方法。 【化1】 【化2】 【化3】 【化4】 【化5】 【化6】 【化7】 【化8】 【化9】 【化10】 【化11】 【化12】 但し、−R1〜−R11=−H、ハロゲン基、−CN、ア
ルキル基またはメトキシ基などのアルキルオキシ基、ま
たはそれらを弗化した基、−R12=メチル基、エチル基
などのアルキル基、またはそれらを弗化した基であり、
x:y=100〜0:0〜100、n=1〜12、m=
1〜12、j=1〜12、o=1〜12、p=1〜1
2、q=1〜12、X,Y=none、−COO、−O
CO−、−N=N−、−C=C−or−C64−、W1
2,W3,W4,W5,W6=化学式1または化学式2ま
たは化学式3または化学式4または化学式5または化学
式6または化学式7または化学式8または化学式9で表
される構造である。
3. The photosensitive polymer according to claim 1, wherein at least one of the photosensitive polymers has at least one structure represented by the chemical formulas 1 to 9, and the main chain represented by the chemical formula 10 is a hydrocarbon. , Acrylate, methacrylate, maleimide, N-phenylmaleimide, a photosensitive homopolymer or copolymer such as siloxane,
A retardation film, wherein the low molecular compound has a molecular structure represented by Chemical Formula 11 or Chemical Formula 12, and a method for producing the same. Embedded image Embedded image Embedded image Embedded image Embedded image Embedded image Embedded image Embedded image Embedded image Embedded image Embedded image Embedded image However, -R 1 ~-R 11 = -H, halogen, -CN, alkyl such as an alkyl group or their fluoride and groups, -R 12 = methyl group, an ethyl group, such as an alkyl group or a methoxy group A group or a group obtained by fluorinating them;
x: y = 100-0: 0-100, n = 1-12, m =
1-12, j = 1-12, o = 1-12, p = 1-1
2, q = 1 to 12, X, Y = none, -COO, -O
CO -, - N = N - , - C = C-or-C 6 H 4 -, W 1,
W 2 , W 3 , W 4 , W 5 , W 6 = a structure represented by Chemical Formula 1, Chemical Formula 2, Chemical Formula 3, Chemical Formula 4, Chemical Formula 5, Chemical Formula 6, Chemical Formula 7, Chemical Formula 8, or Chemical Formula 9.
【請求項4】 請求項1、請求項2および請求項3にお
いて照射する光が、直線偏光または完全偏光成分と非偏
光成分が混在している位相差フィルムおよびその製造方
法。
4. A retardation film in which light irradiated in claim 1, 2 or 3 is a mixture of linearly polarized light or perfectly polarized light and non-polarized light, and a method for producing the same.
【請求項5】 請求項1、請求項2、請求項3および請
求項4において感光性の重合体と低分子化合物の混合体
のフィルムに表裏面両方向から光照射する操作を含む工
程で作製されることを特徴とする、位相差フィルムおよ
びその製造方法。
5. The method according to claim 1, wherein the film of the mixture of the photosensitive polymer and the low molecular weight compound is irradiated with light from both directions of the front and back surfaces. A retardation film and a method for producing the same.
【請求項6】 請求項1、請求項2、請求項3、請求項
4および請求項5に記載の位相差フィルムおよびその製
造方法において、加熱、および/または冷却する工程を
含むことを特徴とする位相差フィルムおよびその製造方
法。
6. The retardation film and the method for producing the retardation film according to claim 1, 2, 3, 4, and 5, further comprising a step of heating and / or cooling. Retardation film and method for producing the same.
【請求項7】 請求項1、請求項2、請求項3、請求項
4、請求項5および請求項6に記載の位相差フィルムお
よびその製造方法において、該フィルムを構成する感光
性の重合体ないしは低分子化合物が架橋する工程を含む
ことを特徴とする位相差フィルムおよびその製造方法。
7. The retardation film and the method for producing the retardation film according to claim 1, 2, 3, 4, 5, and 6, the photosensitive polymer constituting the film. Or a method for producing a retardation film, comprising a step of crosslinking a low molecular compound.
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